JP2004309744A

JP2004309744A - Pattern forming apparatus

Info

Publication number: JP2004309744A
Application number: JP2003102515A
Authority: JP
Inventors: Manabu Yabe; 学矢部; Hiroshi Masuhara; 弘史桝原; Koji Okada; 広司岡田
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2003-04-07
Filing date: 2003-04-07
Publication date: 2004-11-04

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming apparatus in which uniformity of the intensity distribution of a light with which a temporarily formed pattern is irradiated, is improved and a uniform pattern is more surely formed on a substrate. <P>SOLUTION: The pattern forming apparatus 1 is equipped with: a stage 3 to hold a substrate 9; an injection part 52 to inject a pattern forming material containing a photosetting resin onto the substrate 9 to temporarily form the pattern; a light emitting part 53 to irradiate the temporarily formed pattern with UV rays; and a diffusing plate 55 to diffuse the UV rays. The end faces of a plurality of optical fibers 531 are arranged in the bottom face of the light emitting part 53, and the irradiation region of the UV rays from each end face is enlarged by the diffusing plate 55. Thereby, the irradiation regions of UV rays from adjacent end faces overlap with each other in a large area, which improves the uniformity of the intensity distribution of the UV rays. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、プラズマ表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いられるパネルに隔壁のパターンを形成する方法として、サンドブラスト法（フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。）、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。そこで、近年、特許文献１に開示されているように、微細な吐出口を有するノズルから光硬化性樹脂を含むペースト状のパターン形成材料を基板上に吐出してパターンを仮形成した後に、紫外線の照射によりパターン形成材料を硬化させてパターンを形成する手法が提案されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１８４３０３号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記手法により基板上にパターンを形成する場合、パターン形成材料に照射される紫外線の強度分布が不均一であると、パターン形成材料に含まれる光硬化性樹脂の硬化状態にばらつきが生じ、パターンの形状（具体的には、直線状の複数のパターン要素の断面形状）が不揃いになる恐れがある。パターンの不揃いは、基板がプラズマ表示装置等の製品に使用された際に、表示される映像にムラが生じる原因となる。特に互いに隣接する複数のパターン要素の形状が異なるとパターン要素の配列方向に対してムラが生じ易くなる。
【０００５】
例えば、複数の光ファイバを用いて紫外線を仮形成されたパターンに照射する場合、各光ファイバから出射される紫外線の強弱によりパターン形成材料に照射される紫外線の強度分布が不均一になる可能性がある。また、一部の光ファイバの断線や出射端面の汚損等によって紫外線の強度分布が不均一になることも考えられる。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に均一なパターンをより確実に形成することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の少なくとも前記第１の方向に対する強度分布の均一性を向上する光学要素とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成装置であって、前記光出射部が、前記第１の方向に配列された複数の光ファイバを有する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、前記光学要素が拡散板である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、前記光学要素が、前記第１の方向に微小レンズが配列されたレンズアレイである。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の照射位置を少なくとも前記第１の方向に対して移動する照射位置移動機構とを備える。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のパターン形成装置であって、前記照射位置移動機構が、前記光出射部からの光を屈折する光学部材と、前記光学部材を所定の軸を中心に回転する回転機構とを有する。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記形成部が、パターン形成材料を基板に向けて吐出する複数の吐出口を有する。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記パターン形成材料により平面表示装置用の隔壁パターンが形成される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施の形態に係るパターン形成装置１の構成を示す図である。パターン形成装置１は、プラズマ表示装置用のガラス基板（以下、「基板」という。）９上に複数の隔壁に相当するパターンを形成する装置であり、パターンが形成された基板９は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル（通常、リアパネル）となる。
【００１６】
パターン形成装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージ３が基板９の主面に沿って図１中に示すＸ方向に移動可能とされる。基台１１にはステージ３を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはヘッド部５が取り付けられる。
【００１７】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ３に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ３がガイドレール２４に沿ってＸ方向に滑らかに移動する。
【００１８】
ヘッド部５は、基板９に向けてペースト状のパターン形成材料を吐出する吐出部５２、基板９に向けて紫外線を出射する光出射部５３、および、光出射部５３から出射される紫外線を拡散する磨りガラスである拡散板５５を有する。吐出部５２および光出射部５３はフレーム１２に固定されたベース５１の下部に取り付けられており、また、拡散板５５は光出射部５３と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、支持ガイドを介して光出射部５３に取り付けられる。
【００１９】
吐出部５２はＹ方向に配列された複数の吐出口が形成されたノズル５４を有する。吐出部５２には逆止弁５２１を有する供給管５２２が接続され、途中で２つに分岐し、一方がパターン形成材料のノズル５４からの吐出を制御するためのポンプ５２３に接続され、他方が制御弁５２４を介してパターン形成材料を貯溜する材料タンク５２５に接続される。なお、パターン形成材料は低軟化点ガラスフリット、光硬化性樹脂（本実施の形態では紫外線硬化性樹脂）、その他、溶剤や添加剤等を含んでいる。
【００２０】
光出射部５３は吐出部５２の（−Ｘ）側（パターン形成時の吐出部５２の基板９に対する相対移動の後側）において基板９に向けて紫外線を出射し、基板９上のノズル５４の（−Ｘ）側に紫外線を照射する。光出射部５３は複数の光ファイバ５３１の束を介して紫外線を発生する光源ユニット５３２に接続される。
【００２１】
モータ２１、ポンプ５２３、制御弁５２４および光源ユニット５３２は制御部６に接続され、これらの構成が制御部６により制御されることにより、パターン形成装置１による基板９上へのパターンの形成が行われる。
【００２２】
パターン形成装置１にて基板９上にパターンが形成される際には、制御部６の制御によりステージ移動機構２がステージ３を図１中に矢印３１にて示す方向（複数の吐出口の配列に垂直な方向）へと移動しつつノズル５４の複数の吐出口からパターン形成材料の吐出が行われる。
【００２３】
ノズル５４からのパターン形成材料の吐出は、逆止弁５２１、ポンプ５２３および制御弁５２４により行われる。まず、制御部６の制御により制御弁５２４が開放された状態でポンプ５２３が吸引動作を行う。このとき、逆止弁５２１によりパターン形成材料の逆流が阻止されるため、材料タンク５２５からポンプ５２３へとパターン形成材料が引き込まれる。次に、制御部６の制御により制御弁５２４が閉じられ、ポンプ５２３が押出動作を行うことにより、ノズル５４から連続的にパターン形成材料が吐出される。
【００２４】
これにより、基板９の主面に沿ってＹ方向に配列される複数のパターン要素が基板９の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側に向かって順次仮形成される。なお、吐出部５２の相対移動方向は複数の吐出口の配列に垂直な方向に対して多少傾斜していてもよい。
【００２５】
図２は光出射部５３の底面図である。光出射部５３は複数の光ファイバ５３１を有し、光ファイバ５３１の端面５３３は光出射部５３の底面に配列される。光ファイバ５３１の端面５３３は、Ｘ方向（すなわち、基板９の相対移動方向）に対して所定の幅であり、Ｙ方向（すなわち、吐出口５４１の配列方向）に対して吐出口５４１の配列の長さよりも長い領域内に配列される。
【００２６】
吐出部５２および光出射部５３を基板９に対して相対的に（＋Ｘ）方向に移動しつつ既述のように連続的にパターン形成材料を吐出することにより、図２に示す光出射部５３から出射された紫外線が、各吐出口５４１から吐出されて仮形成された直後のパターン形成材料（すなわち、吐出直後の全てのパターン要素）に照射されることとなる。その結果、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料が順次硬化し、複数の線状の隔壁のパターンが順次形成される。
【００２７】
なお、複数の光ファイバ５３１をＹ方向に配列することにより、順次仮形成される全てのパターン要素に紫外線を照射するＹ方向に長い線状光（光束断面が線状の光）を容易に生成することができる。また、後述するようにパターン形成装置１では拡散板５５により紫外線の照射を均一に行うことが実現されるが、端面５３３の配列を工夫することによってパターンに照射される紫外線の強度分布の均一性をさらに向上することも実現される。なお、（光出射部５３からの）紫外線の強度分布とは、パターン近傍において基板９に平行な仮想的な面に照射される紫外線の単位面積当たりの強度分布（すなわち、照度分布）を指すものとする。
【００２８】
図３は、図１におけるヘッド部５の下部の拡大側面図であり、図４は、ノズル５４側からの光出射部５３の下部および基板９の様子を示す拡大図である。図３および図４に示すように、端面５３３から開口数（＝ＮＡ）約０．２の広がりをもって基板９に向けて出射された紫外線は拡散板５５によって拡散され、ノズル５４の先端に形成された複数の吐出口５４１から基板９に向けて吐出された複数のパターン要素９１に照射される。
【００２９】
図３および図４では、拡散板５５と基板９との間において拡散された光のおよその広がりの様子を便宜上実線５５１にて示しており、拡散しない場合の仮想的な紫外線の広がりを破線５５２にて示している。このように、拡散板５５を設けることにより、各端面５３３から出射される紫外線はＸ方向およびＹ方向に広げられ、拡散板５５が設けられない場合よりも基板９上のより広範な領域に照射される。その結果、隣接する端面５３３からの紫外線の基板９上の照射領域が大きく重なり合い、紫外線の強度分布の均一性が向上される。なお、拡散板５５は寸法や形状を厳密に設計する必要がないため、Ｘ方向およびＹ方向に対する紫外線の強度分布の均一性を容易かつ安価に向上することができる。
【００３０】
また、紫外線の拡散により、例えば、図４に示す１つのパターン要素９１ａに注目した場合、拡散板５５が設置されていない場合は端面５３３ｂおよび端面５３３ｃからの紫外線のみが照射されるが、拡散板５５が設置されている場合は端面５３３ａ，５３３ｂ，５３３ｃ，５３３ｄからの紫外線が照射される。さらに、図２および図３に示すように端面５３３はＸ方向にも配列されているため、他の端面５３３からの紫外線もパターン要素９１ａに照射される。
【００３１】
これにより、一部の光ファイバ５３１が断線等により紫外線を出射することができない、あるいは、光ファイバ５３１の異常な湾曲や端面５３３の汚損等により出射光量が低下したとしても、周囲の光ファイバ５３１からの紫外線が不具合を有する光ファイバ５３１の照射領域に照射されるため、紫外線の強度分布のばらつきを緩和することができる。すなわち、拡散板５５を設置することにより紫外線の強度分布の均一性の向上のみならず、光出射部５３の出射異常の影響を緩和することも実現される。
【００３２】
なお、パターン要素９１に照射される紫外線の強度は拡散板５５による拡散によって若干弱められるが、拡散板５５とパターン要素９１とは数ｍｍ程度まで近接しているため仮形成されたパターンの硬化に影響を与えるほどには弱められない。
【００３３】
以上のように、第１の実施の形態に係るパターン形成装置１では、拡散板５５により光出射部５３からの紫外線が拡散されることによって、仮形成直後のパターン形成材料に照射される紫外線のＸ方向およびＹ方向に対する強度分布の均一性が向上される結果、基板９上の複数のパターン要素９１が均等に硬化され、拡散板５５を設けない場合よりも均一なパターンをより確実に形成することができる。また、光出射部５３の不具合の影響も緩和されるため、歩留まりの向上による生産コストの低減を図ることができる。
【００３４】
図５は本発明の第２の実施の形態に係るパターン形成装置１の光出射部５３の下部および基板９の拡大図であり、第１の実施の形態における図４に対応する。第２の実施の形態に係るパターン形成装置１では、拡散板５５に代えてＸ方向に伸びる微小なシリンドリカルレンズをＹ方向（すなわち、パターン要素９１の配列方向）に配列したレンチキュラーレンズ５６が用いられる。パターン形成装置１の他の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００３５】
すなわち、図５に示すように、レンチキュラーレンズ５６は光出射部５３と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、支持ガイドを介して光出射部５３に取り付けられており、光ファイバ５３１の端面５３３から出射された紫外線はレンチキュラーレンズ５６を通過する際に複雑に屈折してパターン要素９１に照射される。なお、図５では２つの端面５３３からの紫外線の発散の様子のみを平行斜線を付して例示している。
【００３６】
レンチキュラーレンズ５６と基板９とは紫外線の屈折の度合いに対して十分に離れており、各端面５３３からの紫外線はレンチキュラーレンズ５６が設置されていない場合（図５中に破線５５２にて図示）より発散する（あるいは、分散しつつ発散する）。その結果、各端面５３３からの紫外線はレンチキュラーレンズ５６の設置によって基板９上のより広範な領域に照射される。レンチキュラーレンズ５６は磨りガラスである拡散板５５よりも紫外線の透過率が高く、拡散板５５と異なり、Ｙ方向にのみ紫外線を発散するため、拡散板５５を設置する場合に比べてパターンに照射される紫外線の強度低下を抑制することができる。
【００３７】
このように、レンチキュラーレンズ５６により複数の端面５３３からの紫外線の照射領域が複雑に重なり合うことによって、仮形成直後のパターン要素９１に照射される紫外線のＹ方向に対する強度分布の均一性の向上を図りつつ、効率よく紫外線を照射することができる。その結果、レンチキュラーレンズ５６を設けない場合に比べて基板９上に均一なパターンをより確実に形成することができる。また、第１の実施の形態と同様に、光出射部５３の異常に起因する紫外線の強度分布のばらつきの緩和も実現され、歩留まりの向上による生産コストの低減を図ることができる。
【００３８】
図６は本発明の第３の実施の形態に係るパターン形成装置１のヘッド部５の下部の拡大側面図である。第３の実施の形態に係るパターン形成装置１では、光出射部５３と仮形成されたパターン形成材料（すなわち、複数のパターン要素９１）との間に照射位置移動機構５７が設けられる。パターン形成装置１の他の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００３９】
照射位置移動機構５７は光出射部５３からの紫外線を屈折するウェッジプリズム５７ａと、ウェッジプリズム５７ａを基板９の主面に垂直な回転軸５７ｂを中心に回転する回転機構５７０とを有する。ウェッジプリズム５７ａの外周はホルダ５７１に保持され、ホルダ５７１は円環状のガイド５７２に沿って案内される。ホルダ５７１の側面には回転子５７３が当接し、回転子５７３がモータ５７４により回転することにより、ウェッジプリズム５７ａがガイド５７２に案内されつつ回転軸５７ｂを中心に回転する。
【００４０】
図７はパターン形成装置１の光出射部５３の下部および基板９を吐出部５２側からみた様子を拡大図であり、ウェッジプリズム５７ａの回転によって紫外線の照射領域の位置（例えば、照射領域の中心の位置であり、以下、「照射位置」という。）が移動する様子を示している。ただし、ウェッジプリズム５７ａと基板９との間では１つの光ファイバ５３１の端面５３３から出射された紫外線の様子のみを図示している。図７において２点差線にて示すウェッジプリズム５７ａは、実線にて示すウェッジプリズム５７ａが１８０°回転した後の状態を示し、これにより、１つの端面５３３から出射された実線５７５にて示す紫外線は２点差線５７５ａにて示すように屈折により向きを変える。
【００４１】
図８はウェッジプリズム５７ａの回転により基板９上の紫外線の照射位置がノズル５４近傍にて移動する様子を示す図である。１つの光ファイバ５３１の端面５３３からの照射領域５７７（図８中に平行斜線を付す領域）の中心である照射位置５７６は、ウェッジプリズム５７ａの回転に伴い、矢印５７８にて示すように回転移動する。これにより、符号５７９を付す範囲に照射領域が実質的に拡大され、光ファイバ５３１の隣接する端面５３３からの紫外線の照射領域が実質的に大きく重なることとなる。その結果、基板９上において紫外線の強度分布の均一性を向上することができる。
【００４２】
ウェッジプリズム５７ａは拡散板５５に比べて紫外線の透過率が高く、各端面５３３から出射される紫外線が不要な箇所へと散乱することもないため、効率よく紫外線の強度分布の均一性を向上することができる。また、紫外線の照射位置の移動を振動の発生が少ない回転運動によって実現しているため、駆動関係の機構がパターン形状に影響を及ぼすことも抑制される。
【００４３】
以上のように、第３の実施の形態では、ウェッジプリズム５７ａの回転により基板９上の仮形成直後のパターンに照射される紫外線の照射位置が移動してパターン要素９１の配列方向（Ｙ方向）に対する紫外線の強度分布の均一性が向上されるため、ウェッジプリズム５７ａが介在しない場合に比べて基板９上に均一なパターンをより確実に形成することができる。また、光出射部５３の不具合の影響も緩和され、歩留まりの向上による生産コストの低減を図ることができる。
【００４４】
以上、本発明の実施の形態について説明を行ってきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００４５】
紫外線を拡散させる光学部材として、磨りガラスである拡散板５５に代えて、例えば、フッ素系樹脂板が用いられてもよい。テフロン（登録商標）を用いる場合、パーフロロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）をはじめ種々の樹脂が適用可能であるが、紫外線透過率という点ではフッ化ビニリデン樹脂（ＰＶｄＦ）が好ましい。
【００４６】
少なくともパターン要素９１の配列方向（Ｙ方向）に関して紫外線の強度分布の均一性を向上させる光学部材として、例えば、マイクロレンズアレイの一種であるマイクロフライアイレンズが用いられてもよく、Ｙ方向に微小レンズが配列された他のレンズアレイが用いられてもよい。さらには、ロッドレンズの全反射を利用したオプティカル・インテグレータ、あるいはホモジナイザが用いられてもよい。
【００４７】
また、紫外線の均一性を実現する光学要素は拡散板やレンズアレイのように部材として存在するものには限定されず、例えば、光ファイバ５３１の端面５３３に凹凸や傷の加工を施して少なくともＹ方向に対して紫外線を拡散させることにより実現されてもよい。この場合、光ファイバ５３１の端面が光学要素としての役割を果たすことになる。
【００４８】
第３の実施の形態において、ウェッジプリズム５７ａに代えて透明な平板を傾斜姿勢にて配置し、平板を基板９の主面に垂直な軸を中心に回転させてもよい。このような手法でも屈折を利用して各光ファイバ５３１の端面５３３からの紫外線の照射位置を移動することができる。なお、ウェッジプリズム５７ａや平板等の光学部材の回転は、例えば、Ｚ方向を向く回転軸に光学部材を直接取り付けることにより行われてもよい。
【００４９】
上記実施の形態では、複数の吐出口５４１からパターン形成材料を基板９に向けて吐出することによってパターンの仮形成を容易に実現しているが、パターンを仮形成しつつ順次紫外線を照射してパターンを形成する他の様々な手法に上記実施の形態にて説明した紫外線を均一に照射する技術を利用することができる。例えば、基板９上に一様に塗布されたパターン形成材料を櫛歯状の形成部材を用いて掻き取ることにより、基板９上に所定のパターンが順次仮形成される場合にも上記実施の形態にて説明した手法にて紫外線を均一に照射することにより、均一なパターンの形成が実現される。
【００５０】
また、ヘッド部５は基板９に対して相対移動すればよく、例えば、ステージ３が固定されてヘッド部５に移動機構が設けられてもよい。
【００５１】
パターン形成装置１は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置（フラットパネルディスプレイ）における隔壁、配線、電極、蛍光体等のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。パターン形成材料もガラスフリットを含むものには限定されず、例えば、電極が形成される場合には、銀等の金属粒子および（紫外線硬化性）樹脂を含むものが利用される。さらに、パターン形成材料に含まれる光硬化性樹脂は必ずしも紫外線により硬化する樹脂である必要はなく、光により硬化する樹脂であれば容易に利用することができる。この場合、光出射部５３からは光硬化性樹脂の特性に応じた光が出射されることとなる。
【００５２】
【発明の効果】
請求項１ないし８の発明では、仮形成直後のパターンに照射される光の強度分布の均一性を向上することにより、均一なパターンをより確実に形成することができる。
【００５３】
請求項２の発明では、線状光を容易に生成することができる。
【００５４】
請求項３の発明では、光の強度分布の均一性を容易かつ安価に向上することができる。
【００５５】
請求項４および請求項６の発明では、光の強度分布の均一性を効率よく向上することができ、請求項６の発明では、振動の発生を抑制しつつ光の照射位置を移動することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態に係るパターン形成装置の構成を示す図である。
【図２】光出射部の底面図である。
【図３】ヘッド部の下部の拡大側面図である。
【図４】吐出部側からの光出射部の下部および基板の様子を示す図である。
【図５】第２の実施の形態に係るパターン形成装置の光出射部の下部の拡大図である。
【図６】第３の実施の形態に係るパターン形成装置のヘッド部の下部の拡大側面図である。
【図７】吐出部側からの光出射部の下部および基板の様子を示す図である。
【図８】ノズル先端部と紫外線の照射領域を示す平面図である。
【符号の説明】
１パターン形成装置
２ステージ移動機構
９基板
５２吐出部
５３光出射部
５４ノズル
５５拡散板
５３１光ファイバ
５４１吐出口
９１パターン
５６レンチキュラーレンズ
５７照射位置移動機構
５７ａウェッジレンズ
５７ｂ回転軸
５７０回転機構[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a technique for forming a pattern on a substrate.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a partition pattern on a panel used for a plasma display device, an organic EL display device, or the like, a sand blast method (also called a photolithography method), a screen printing method, a lift-off method, and the like are known. However, these methods are complicated and cause an increase in production cost. Therefore, in recent years, as disclosed in Patent Document 1, after a paste-like pattern forming material containing a photocurable resin is discharged from a nozzle having a fine discharge port onto a substrate to temporarily form a pattern, an ultraviolet ray is formed. There has been proposed a method of curing a pattern forming material by irradiation to form a pattern.
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-184303
[Problems to be solved by the invention]
By the way, when a pattern is formed on a substrate by the above method, if the intensity distribution of the ultraviolet light applied to the pattern forming material is not uniform, a variation occurs in the cured state of the photocurable resin included in the pattern forming material, The pattern shape (specifically, the cross-sectional shape of a plurality of linear pattern elements) may be uneven. Uneven patterns cause unevenness in displayed images when the substrate is used for a product such as a plasma display device. In particular, if the shapes of a plurality of adjacent pattern elements are different, unevenness tends to occur in the arrangement direction of the pattern elements.
[0005]
For example, when irradiating ultraviolet rays to a temporarily formed pattern using a plurality of optical fibers, the intensity distribution of the ultraviolet rays radiated to the pattern forming material may become uneven due to the intensity of the ultraviolet rays emitted from each optical fiber. There is. It is also conceivable that the intensity distribution of ultraviolet light becomes non-uniform due to disconnection of some optical fibers or contamination of the emission end face.
[0006]
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to form a uniform pattern on a substrate more reliably.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to claim 1 is a pattern forming apparatus for forming a pattern on a substrate, wherein the pattern forming apparatus is arranged in a first direction along a main surface of the substrate with a pattern forming material including a photocurable resin. A forming unit for temporarily forming a plurality of pattern elements sequentially in a second direction substantially perpendicular to the first direction; and a light for irradiating the pattern forming material immediately after the temporary formation and sequentially curing the pattern forming material. An optical element that is provided between a light emitting part that emits light and the pattern forming material that is temporarily formed with the light emitting part, and that improves the uniformity of intensity distribution of light from the light emitting part in at least the first direction. Elements.
[0008]
The invention according to claim 2 is the pattern forming apparatus according to claim 1, wherein the light emitting section has a plurality of optical fibers arranged in the first direction.
[0009]
The invention according to claim 3 is the pattern forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the optical element is a diffusion plate.
[0010]
The invention according to claim 4 is the pattern forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the optical element is a lens array in which minute lenses are arranged in the first direction.
[0011]
The invention according to claim 5 is a pattern forming apparatus for forming a pattern on a substrate, wherein the pattern forming apparatus is arranged in a first direction along a main surface of the substrate with a pattern forming material containing a photocurable resin. A forming unit for temporarily forming a plurality of pattern elements sequentially in a second direction substantially perpendicular to the first direction; and a light for irradiating the pattern forming material immediately after the temporary formation and sequentially curing the pattern forming material. An irradiation position provided between the light emission unit for emitting light and the pattern forming material temporarily formed with the light emission unit, and configured to move an irradiation position of light from the light emission unit at least in the first direction; A moving mechanism.
[0012]
According to a sixth aspect of the present invention, in the pattern forming apparatus according to the fifth aspect, the irradiation position moving mechanism includes an optical member that refracts the light from the light emitting unit, and an optical member that moves the optical member by a predetermined axis. And a rotation mechanism that rotates about the center.
[0013]
The invention according to claim 7 is the pattern forming apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the forming section has a plurality of discharge ports for discharging the pattern forming material toward the substrate.
[0014]
The invention according to claim 8 is the pattern forming apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein a partition pattern for a flat panel display is formed by the pattern forming material.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a pattern forming apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention. The pattern forming apparatus 1 is an apparatus for forming a pattern corresponding to a plurality of partitions on a glass substrate (hereinafter, referred to as “substrate”) 9 for a plasma display device. Through the panel (usually a rear panel) which is an assembly part of the plasma display device.
[0016]
In the pattern forming apparatus 1, a stage moving mechanism 2 is provided on a base 11, and the stage 3 holding the substrate 9 can be moved in the X direction shown in FIG. 1 along the main surface of the substrate 9 by the stage moving mechanism 2. It is said. A frame 12 is fixed to the base 11 so as to straddle the stage 3, and the head unit 5 is attached to the frame 12.
[0017]
The stage moving mechanism 2 has a structure in which a ball screw 22 is connected to a motor 21, and a nut 23 fixed to the stage 3 is attached to the ball screw 22. A guide rail 24 is fixed above the ball screw 22. When the motor 21 rotates, the stage 3 moves smoothly along the guide rail 24 in the X direction together with the nut 23.
[0018]
The head unit 5 includes an ejection unit 52 that ejects a paste-like pattern forming material toward the substrate 9, a light emission unit 53 that emits ultraviolet light toward the substrate 9, and a diffuser that emits ultraviolet light emitted from the light emission unit 53. It has a diffusion plate 55 which is frosted glass. The discharge section 52 and the light emitting section 53 are attached to a lower portion of the base 51 fixed to the frame 12, and the diffusion plate 55 is provided between the light emitting section 53 and the temporarily formed pattern forming material. It is attached to the light emitting section 53 via a support guide.
[0019]
The discharge unit 52 has a nozzle 54 having a plurality of discharge ports arranged in the Y direction. A supply pipe 522 having a check valve 521 is connected to the discharge section 52, and is branched into two on the way, one of which is connected to a pump 523 for controlling discharge of the pattern forming material from the nozzle 54, and the other is connected. It is connected via a control valve 524 to a material tank 525 for storing the pattern forming material. The pattern forming material contains a low softening point glass frit, a photocurable resin (in the present embodiment, an ultraviolet curable resin), a solvent, an additive, and the like.
[0020]
The light emitting unit 53 emits ultraviolet light toward the substrate 9 on the (−X) side of the ejection unit 52 (after the relative movement of the ejection unit 52 with respect to the substrate 9 during pattern formation), and the nozzle 54 on the substrate 9 The (-X) side is irradiated with ultraviolet rays. The light emitting unit 53 is connected to a light source unit 532 that generates ultraviolet light via a bundle of a plurality of optical fibers 531.
[0021]
The motor 21, the pump 523, the control valve 524, and the light source unit 532 are connected to the control unit 6, and the configuration of these components is controlled by the control unit 6 so that the pattern forming apparatus 1 forms a pattern on the substrate 9. Is
[0022]
When a pattern is formed on the substrate 9 by the pattern forming apparatus 1, the stage moving mechanism 2 moves the stage 3 in the direction indicated by the arrow 31 in FIG. (In a direction perpendicular to the vertical direction), the pattern forming material is discharged from the plurality of discharge ports of the nozzle 54.
[0023]
The discharge of the pattern forming material from the nozzle 54 is performed by a check valve 521, a pump 523, and a control valve 524. First, the pump 523 performs a suction operation in a state where the control valve 524 is opened under the control of the control unit 6. At this time, since the check valve 521 prevents the backflow of the pattern forming material, the pattern forming material is drawn into the pump 523 from the material tank 525. Next, the control valve 524 is closed under the control of the control unit 6, and the pump 523 performs an extruding operation, whereby the pattern forming material is continuously discharged from the nozzle 54.
[0024]
Thereby, a plurality of pattern elements arranged in the Y direction along the main surface of the substrate 9 are temporarily formed sequentially from the (−X) side to the (+ X) side of the substrate 9. Note that the relative movement direction of the discharge unit 52 may be slightly inclined with respect to a direction perpendicular to the arrangement of the plurality of discharge ports.
[0025]
FIG. 2 is a bottom view of the light emitting section 53. The light emitting section 53 has a plurality of optical fibers 531, and the end faces 533 of the optical fibers 531 are arranged on the bottom surface of the light emitting section 53. The end face 533 of the optical fiber 531 has a predetermined width in the X direction (that is, the relative movement direction of the substrate 9), and has an arrangement of the ejection ports 541 in the Y direction (that is, the arrangement direction of the ejection ports 541). It is arranged in an area longer than the length.
[0026]
By moving the ejection unit 52 and the light emitting unit 53 in the (+ X) direction relative to the substrate 9 and continuously ejecting the pattern forming material as described above, the light emitting unit 53 shown in FIG. Is emitted from each of the ejection ports 541 and is applied to the pattern forming material immediately after being temporarily formed (ie, all the pattern elements immediately after the ejection). As a result, the pattern forming material including the photocurable resin is sequentially cured, and a plurality of linear partition patterns are sequentially formed.
[0027]
In addition, by arranging the plurality of optical fibers 531 in the Y direction, it is possible to easily generate long linear light (light having a light beam cross section in the Y direction) that irradiates ultraviolet rays to all the pattern elements that are temporarily formed sequentially. can do. Further, as described later, in the pattern forming apparatus 1, it is realized that the irradiation of the ultraviolet rays is performed uniformly by the diffusion plate 55. However, by devising the arrangement of the end faces 533, the uniformity of the intensity distribution of the ultraviolet rays applied to the pattern Can be further improved. The ultraviolet light intensity distribution (from the light emitting portion 53) refers to the intensity distribution per unit area of the ultraviolet light applied to a virtual surface parallel to the substrate 9 in the vicinity of the pattern (that is, the illuminance distribution). And
[0028]
FIG. 3 is an enlarged side view of the lower part of the head unit 5 in FIG. 1, and FIG. 4 is an enlarged view showing the state of the lower part of the light emitting unit 53 from the nozzle 54 side and the substrate 9. As shown in FIGS. 3 and 4, ultraviolet light emitted from the end face 533 toward the substrate 9 with a numerical aperture (= NA) of about 0.2 is diffused by the diffusion plate 55 and formed at the tip of the nozzle 54. The plurality of pattern elements 91 discharged from the plurality of discharge ports 541 toward the substrate 9 are irradiated.
[0029]
In FIGS. 3 and 4, the state of the spread of the light diffused between the diffusion plate 55 and the substrate 9 is indicated by a solid line 551 for convenience, and the virtual spread of the ultraviolet light without diffusion is indicated by a broken line 552. Is indicated by. By providing the diffusion plate 55 in this manner, the ultraviolet light emitted from each end surface 533 is spread in the X direction and the Y direction, and irradiates a wider area on the substrate 9 than when the diffusion plate 55 is not provided. Is done. As a result, the irradiation area of the ultraviolet rays from the adjacent end face 533 on the substrate 9 largely overlaps, and the uniformity of the intensity distribution of the ultraviolet rays is improved. Since it is not necessary to strictly design the size and shape of the diffusion plate 55, the uniformity of the intensity distribution of the ultraviolet rays in the X direction and the Y direction can be easily and inexpensively improved.
[0030]
Further, by focusing on one pattern element 91a shown in FIG. 4, for example, when the diffusion plate 55 is not installed, only the ultraviolet rays from the end surfaces 533b and 533c are irradiated by the diffusion of the ultraviolet light. When 55 is installed, ultraviolet rays are emitted from the end faces 533a, 533b, 533c, 533d. Further, since the end faces 533 are also arranged in the X direction as shown in FIGS. 2 and 3, ultraviolet rays from other end faces 533 are also applied to the pattern element 91a.
[0031]
As a result, even if some of the optical fibers 531 cannot emit ultraviolet light due to disconnection or the like, or even if the amount of emitted light decreases due to abnormal bending of the optical fiber 531 or contamination of the end face 533, the surrounding optical fiber 531 does not emit ultraviolet light. Irradiation of ultraviolet rays from the optical fiber 531 onto the irradiation area of the optical fiber 531 having a problem can reduce variations in the intensity distribution of the ultraviolet rays. That is, the provision of the diffusion plate 55 not only improves the uniformity of the intensity distribution of the ultraviolet light, but also alleviates the influence of the emission abnormality of the light emission unit 53.
[0032]
Although the intensity of the ultraviolet light applied to the pattern element 91 is slightly weakened by the diffusion by the diffusion plate 55, the diffusion plate 55 and the pattern element 91 are close to each other by about several mm, so that the temporarily formed pattern is hardened. Not weakened enough to affect.
[0033]
As described above, in the pattern forming apparatus 1 according to the first embodiment, the diffusion plate 55 diffuses the ultraviolet light from the light emitting portion 53, so that the ultraviolet light applied to the pattern forming material immediately after the temporary formation is reduced. As a result of improving the uniformity of the intensity distribution in the X direction and the Y direction, the plurality of pattern elements 91 on the substrate 9 are uniformly cured, and a more uniform pattern is formed more reliably than when the diffusion plate 55 is not provided. be able to. In addition, since the influence of the defect of the light emitting unit 53 is reduced, the production cost can be reduced by improving the yield.
[0034]
FIG. 5 is an enlarged view of the lower part of the light emitting section 53 and the substrate 9 of the pattern forming apparatus 1 according to the second embodiment of the present invention, and corresponds to FIG. 4 in the first embodiment. In the pattern forming apparatus 1 according to the second embodiment, instead of the diffusion plate 55, a lenticular lens 56 in which minute cylindrical lenses extending in the X direction are arranged in the Y direction (that is, the arrangement direction of the pattern elements 91) is used. . Other configurations of the pattern forming apparatus 1 are the same as those of the first embodiment.
[0035]
That is, as shown in FIG. 5, the lenticular lens 56 is provided between the light emitting portion 53 and the temporarily formed pattern forming material, and is attached to the light emitting portion 53 via a support guide. The ultraviolet light emitted from the end face 533 is refracted intricately when passing through the lenticular lens 56 and is applied to the pattern element 91. In FIG. 5, only the state of divergence of ultraviolet rays from the two end surfaces 533 is illustrated with parallel oblique lines.
[0036]
The lenticular lens 56 and the substrate 9 are sufficiently separated from each other with respect to the degree of refraction of the ultraviolet light, and the ultraviolet light from each end face 533 is smaller than when the lenticular lens 56 is not installed (shown by a broken line 552 in FIG. 5). Diverge (or diverge while dispersing). As a result, the ultraviolet light from each end surface 533 is irradiated to a wider area on the substrate 9 by the installation of the lenticular lens 56. The lenticular lens 56 has a higher transmittance of ultraviolet light than the diffuser plate 55 made of frosted glass, and unlike the diffuser plate 55, emits ultraviolet light only in the Y direction. Lowering the intensity of ultraviolet light.
[0037]
As described above, the irradiating regions of the ultraviolet rays from the plurality of end faces 533 are complicatedly overlapped by the lenticular lens 56, thereby improving the uniformity of the intensity distribution in the Y direction of the ultraviolet rays irradiated to the pattern element 91 immediately after the provisional formation. In addition, it is possible to efficiently irradiate ultraviolet rays. As a result, a uniform pattern can be formed on the substrate 9 more reliably than when the lenticular lens 56 is not provided. Further, similarly to the first embodiment, the variation in the intensity distribution of the ultraviolet light caused by the abnormality of the light emitting portion 53 can be reduced, and the production cost can be reduced by improving the yield.
[0038]
FIG. 6 is an enlarged side view of the lower part of the head unit 5 of the pattern forming apparatus 1 according to the third embodiment of the present invention. In the pattern forming apparatus 1 according to the third embodiment, the irradiation position moving mechanism 57 is provided between the light emitting unit 53 and the temporarily formed pattern forming material (that is, the plurality of pattern elements 91). Other configurations of the pattern forming apparatus 1 are the same as those of the first embodiment.
[0039]
The irradiation position moving mechanism 57 has a wedge prism 57a that refracts the ultraviolet light from the light emitting section 53, and a rotation mechanism 570 that rotates the wedge prism 57a about a rotation axis 57b perpendicular to the main surface of the substrate 9. The outer periphery of the wedge prism 57a is held by a holder 571, and the holder 571 is guided along an annular guide 572. The rotor 573 is in contact with the side surface of the holder 571, and the rotor 573 is rotated by the motor 574, so that the wedge prism 57a rotates around the rotation shaft 57b while being guided by the guide 572.
[0040]
FIG. 7 is an enlarged view of the lower part of the light emitting unit 53 of the pattern forming apparatus 1 and the substrate 9 as viewed from the ejection unit 52 side, and the position of the ultraviolet irradiation region (for example, the center of the irradiation region by rotation of the wedge prism 57a). (Hereinafter referred to as “irradiation position”). However, only the state of the ultraviolet light emitted from the end face 533 of one optical fiber 531 between the wedge prism 57a and the substrate 9 is shown. In FIG. 7, the wedge prism 57a indicated by a two-dot line indicates a state after the wedge prism 57a indicated by a solid line has been rotated by 180 °, whereby the ultraviolet light indicated by a solid line 575 emitted from one end surface 533 is The direction is changed by refraction as shown by a two-point difference line 575a.
[0041]
FIG. 8 is a diagram showing a state in which the irradiation position of the ultraviolet light on the substrate 9 moves near the nozzle 54 by the rotation of the wedge prism 57a. The irradiation position 576, which is the center of the irradiation area 577 (the area indicated by parallel oblique lines in FIG. 8) from the end face 533 of one optical fiber 531, rotates as the wedge prism 57a rotates, as shown by the arrow 578. I do. As a result, the irradiation area is substantially enlarged to the range denoted by reference numeral 579, and the irradiation area of the ultraviolet rays from the adjacent end face 533 of the optical fiber 531 substantially overlaps. As a result, the uniformity of the intensity distribution of the ultraviolet light on the substrate 9 can be improved.
[0042]
The wedge prism 57a has a higher transmittance of ultraviolet rays than the diffuser plate 55, and does not scatter ultraviolet rays emitted from the end faces 533 to unnecessary portions. Therefore, the uniformity of the intensity distribution of ultraviolet rays is efficiently improved. be able to. In addition, since the movement of the irradiation position of the ultraviolet rays is realized by the rotational movement with less generation of vibration, it is possible to suppress the mechanism related to the driving from affecting the pattern shape.
[0043]
As described above, in the third embodiment, the irradiation position of the ultraviolet light applied to the pattern immediately after the temporary formation on the substrate 9 is moved by the rotation of the wedge prism 57a, and the arrangement direction of the pattern elements 91 (Y direction). Since the uniformity of the intensity distribution of the ultraviolet rays is improved, a uniform pattern can be more reliably formed on the substrate 9 than when the wedge prism 57a is not interposed. In addition, the influence of the defect of the light emitting portion 53 is reduced, and the production cost can be reduced by improving the yield.
[0044]
The embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible.
[0045]
As the optical member for diffusing the ultraviolet rays, for example, a fluorine resin plate may be used instead of the diffusion plate 55 made of frosted glass. When Teflon (registered trademark) is used, various resins such as a perfluoroalkoxy resin (PFA) can be applied, but a vinylidene fluoride resin (PVdF) is preferable in terms of ultraviolet transmittance.
[0046]
As an optical member for improving the uniformity of the intensity distribution of ultraviolet rays at least in the arrangement direction (Y direction) of the pattern elements 91, for example, a micro fly's eye lens which is a kind of a micro lens array may be used. Other lens arrays in which lenses are arranged may be used. Further, an optical integrator using a total reflection of the rod lens or a homogenizer may be used.
[0047]
In addition, the optical element for realizing the uniformity of the ultraviolet rays is not limited to an element existing as a member such as a diffusion plate or a lens array. It may be realized by diffusing ultraviolet rays in the direction. In this case, the end face of the optical fiber 531 plays a role as an optical element.
[0048]
In the third embodiment, a transparent flat plate may be arranged in an inclined posture in place of the wedge prism 57a, and the flat plate may be rotated around an axis perpendicular to the main surface of the substrate 9. Even in such a method, the irradiation position of the ultraviolet light from the end surface 533 of each optical fiber 531 can be moved by utilizing refraction. The rotation of the optical member such as the wedge prism 57a or the flat plate may be performed by, for example, directly attaching the optical member to a rotation axis oriented in the Z direction.
[0049]
In the above embodiment, the temporary formation of the pattern is easily realized by discharging the pattern forming material toward the substrate 9 from the plurality of discharge ports 541. The technique for uniformly irradiating ultraviolet rays described in the above embodiment can be used for various other techniques for forming a pattern. For example, even when a predetermined pattern is sequentially formed on the substrate 9 sequentially by scraping off the pattern forming material uniformly applied on the substrate 9 using a comb-shaped forming member, the above-described embodiment is also applicable. By uniformly irradiating the ultraviolet rays by the method described in the above section, a uniform pattern can be formed.
[0050]
Further, the head unit 5 only needs to move relatively to the substrate 9, and for example, the stage 3 may be fixed and the head unit 5 may be provided with a moving mechanism.
[0051]
The pattern forming apparatus 1 may be used to form a pattern of a partition, a wiring, an electrode, a phosphor, and the like in another type of flat display device (flat panel display) such as an organic EL display device or a liquid crystal display device. The substrate is not limited to a glass substrate, but may be a resin substrate, a semiconductor substrate, or the like. The pattern forming material is not limited to a material containing glass frit. For example, when an electrode is formed, a material containing metal particles such as silver and (ultraviolet curable) resin is used. Furthermore, the photocurable resin contained in the pattern forming material does not necessarily need to be a resin that is cured by ultraviolet light, and any resin that is cured by light can be easily used. In this case, light according to the characteristics of the photocurable resin is emitted from the light emitting section 53.
[0052]
【The invention's effect】
According to the first to eighth aspects of the present invention, a uniform pattern can be formed more reliably by improving the uniformity of the intensity distribution of light applied to the pattern immediately after the provisional formation.
[0053]
According to the second aspect of the present invention, linear light can be easily generated.
[0054]
According to the third aspect of the invention, the uniformity of the light intensity distribution can be easily and inexpensively improved.
[0055]
According to the fourth and sixth aspects of the present invention, it is possible to efficiently improve the uniformity of the light intensity distribution. In the sixth aspect of the present invention, it is possible to move the light irradiation position while suppressing the occurrence of vibration. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a pattern forming apparatus according to a first embodiment.
FIG. 2 is a bottom view of a light emitting unit.
FIG. 3 is an enlarged side view of a lower part of a head unit.
FIG. 4 is a diagram showing a state of a lower part of a light emitting part from a discharge part side and a substrate.
FIG. 5 is an enlarged view of a lower part of a light emitting unit of a pattern forming apparatus according to a second embodiment.
FIG. 6 is an enlarged side view of a lower part of a head of a pattern forming apparatus according to a third embodiment.
FIG. 7 is a diagram showing a state of a lower part of a light emitting part from a discharge part side and a substrate.
FIG. 8 is a plan view showing a nozzle tip and an irradiation area of ultraviolet rays.
[Explanation of symbols]
Reference Signs List 1 pattern forming apparatus 2 stage moving mechanism 9 substrate 52 discharge unit 53 light emitting unit 54 nozzle 55 diffusion plate 531 optical fiber 541 discharge port 91 pattern 56 lenticular lens 57 irradiation position moving mechanism 57a wedge lens 57b rotation axis 570 rotation mechanism

Claims

基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、
仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、
前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の少なくとも前記第１の方向に対する強度分布の均一性を向上する光学要素と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。A pattern forming apparatus for forming a pattern on a substrate,
A plurality of pattern elements arranged in a first direction along a main surface of a substrate are sequentially provisionally arranged in a second direction substantially perpendicular to the first direction, using a pattern forming material including a photocurable resin. A forming part to form;
A light emitting portion that emits light that is applied to the pattern forming material immediately after provisional formation and sequentially cures the pattern forming material,
An optical element that is provided between the light emitting unit and the temporarily formed pattern forming material, and improves uniformity of intensity distribution in at least the first direction of light from the light emitting unit;
A pattern forming apparatus comprising:

請求項１に記載のパターン形成装置であって、
前記光出射部が、前記第１の方向に配列された複数の光ファイバを有することを特徴とするパターン形成装置。The pattern forming apparatus according to claim 1,
The pattern forming apparatus, wherein the light emitting section has a plurality of optical fibers arranged in the first direction.

請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、
前記光学要素が拡散板であることを特徴とするパターン形成装置。The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein:
The pattern forming apparatus, wherein the optical element is a diffusion plate.

請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、
前記光学要素が、前記第１の方向に微小レンズが配列されたレンズアレイであることを特徴とするパターン形成装置。The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein:
The pattern forming apparatus, wherein the optical element is a lens array in which minute lenses are arranged in the first direction.

基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
光硬化性樹脂を含むパターン形成材料にて、基板の主面に沿って第１の方向に配列される複数のパターン要素を前記第１の方向にほぼ垂直な第２の方向に向かって順次仮形成する形成部と、
仮形成直後のパターン形成材料に照射されて前記パターン形成材料を順次硬化させる光を出射する光出射部と、
前記光出射部と仮形成されたパターン形成材料との間に設けられ、前記光出射部からの光の照射位置を少なくとも前記第１の方向に対して移動する照射位置移動機構と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。A pattern forming apparatus for forming a pattern on a substrate,
A plurality of pattern elements arranged in a first direction along a main surface of a substrate are sequentially provisionally arranged in a second direction substantially perpendicular to the first direction, using a pattern forming material including a photocurable resin. A forming part to form;
A light emitting portion that emits light that is applied to the pattern forming material immediately after provisional formation and sequentially cures the pattern forming material,
An irradiation position moving mechanism that is provided between the light emitting unit and the temporarily formed pattern forming material and moves an irradiation position of light from the light emitting unit at least in the first direction.
A pattern forming apparatus comprising:

請求項５に記載のパターン形成装置であって、
前記照射位置移動機構が、
前記光出射部からの光を屈折する光学部材と、
前記光学部材を所定の軸を中心に回転する回転機構と、
を有することを特徴とするパターン形成装置。The pattern forming apparatus according to claim 5,
The irradiation position moving mechanism,
An optical member that refracts light from the light emitting unit,
A rotation mechanism for rotating the optical member about a predetermined axis,
A pattern forming apparatus comprising:

請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記形成部が、パターン形成材料を基板に向けて吐出する複数の吐出口を有することを特徴とするパターン形成装置。The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein:
The pattern forming apparatus, wherein the forming unit has a plurality of discharge ports for discharging a pattern forming material toward a substrate.

請求項１ないし７のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記パターン形成材料により平面表示装置用の隔壁パターンが形成されることを特徴とするパターン形成装置。The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein:
A pattern forming apparatus, wherein a partition pattern for a flat panel display is formed by the pattern forming material.