JP2004304009A

JP2004304009A - 有機薄膜トランジスタ

Info

Publication number: JP2004304009A
Application number: JP2003096208A
Authority: JP
Inventors: Akio Koganei; 昭雄小金井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2003-03-31
Filing date: 2003-03-31
Publication date: 2004-10-28
Also published as: US20060192197A1; WO2004088767A1

Abstract

【課題】封止可能な構造の有機薄膜トランジスタを安価に提供する。
【解決手段】有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタにおいて、有機薄膜トランジスタが第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板によって構成されており、第１基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ゲート電極、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極を形成し、第２基板上に保護膜を形成して、第１基板の有機半導体膜が形成されている面と第２基板の保護膜が形成されている面とを重ね合わせてなる有機薄膜トランジスタ。前記保護膜が半固形物からなる。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機半導体材料を用いた薄膜トランジスタおよびその製造方法に関し、特に有機半導体層の保護膜の製造工程に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、有機半導体材料を用いた薄膜トランジスタ（以下、有機薄膜トランジスタ）の開発競争が加速している。有機材料を用いることでプロセスの低温化が図れ、大面積に低コストでトランジスタを形成できることが期待される。薄型ディスプレイや電子ペーパーの駆動回路、無線認証（ＲＦ−ＩＤ）のタグ、ＩＣカードなどの応用展開が想定されている。技術的なレビューが幾つか存在する。（例えば、非特許文献１参照）
【０００３】
有機薄膜トランジスタの構造例を図３に示す。３０１は基板、３０２は導体膜からなるゲート電極、３０３はゲート絶縁膜、３０４は有機半導体膜、３０５はソース電極、３０６はドレイン電極である。
【０００４】
図３において、基板３０１には例えばガラスエポキシ樹脂を用いることが出来る。この場合、ゲート電極３０２は導体膜をゲート電極形状にパターニング後、研磨による平坦化処理を行っている。さらにその上にゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極を形成し有機薄膜トランジスタを構成している。
【０００５】
この有機薄膜トランジスタを動作させるには、ソース電極を接地し、ドレイン電極にＶｄｄを印加した状態で、ゲート電極にしきい値電圧Ｖｔｈを超える電圧を印加する。この時、ゲート電極近傍における電界効果によって有機半導体膜の導電率が変化し、ソース〜ドレイン電極間に電流が流れる。ゲート電圧によってスイッチのようにソース〜ドレイン電極間の電流をオンオフすることが出来る。
【０００６】
有機薄膜トランジスタに用いる有機半導体材料は光や水、酸素などに弱い傾向がある。これは、酸素のドーピングによってホールのトラップサイトが増加することや、光照射によって分子間の結合状態が変化しΠ電子共役の構造変化を起こすことで導電率が変化していると考えることができる。特にＮ型半導体材料は、大気中で安定なものは数少ない。そのため、何らかの保護膜を設けて有機半導体膜を遮光あるいは（および）封止する技術が必要である。
【０００７】
従来の封止技術および遮光技術としては、既に実用化で先行している有機ＥＬ素子で多数提案されている。封止技術として、応力緩和層が封止をもつものが提案されている（一例として、特許文献１参照）。また、遮光技術として、有機ＥＬ素子を駆動する薄膜トランジスタを遮光する構造を取るものが提案されている（例えば、特許文献２参照）。有機薄膜トランジスタに関する提案としては、有機半導体膜を蒸着で成膜後にｉｎ−ｓｉｔｕで保護膜を形成するものが提案されている。（一例として、特許文献３参照）
【０００８】
一方、安価な封止技術としてはラミネート技術が知られている。ラミネートとは積層することを意味し、食品包装に使われるラミネートフィルムは２層以上の材質が異なるフィルム（例えばナイロンとポリエチレン）を積層したもので熱溶着することで封止する。ラミネートフィルムに関しては広く情報がある。（一例として、非特許文献２参照）
【０００９】
【非特許文献１】
Ｃ．Ｄ．Ｄｉｍｉｔｒａｋｏｐｏｕｌｏｓ他、「ＯｒｇａｎｉｃＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒｓｆｏｒＬａｒｇｅＡｒｅａＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ」、ＡｄｖａｎｃｅｄＭａｔｅｒｉａｌ誌、２００２年１４、Ｎｏ．２、Ｐ．９９−１１７
【非特許文献２】
「フィルムとラミネートの種類」、［ｏｎｌｉｎｅ］、株式会社河野包材企画、［平成１４年１２月２６日検索］、インターネット＜ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｐｌａｚａ２７．ｍｂｎ．ｏｒ．ｊｐ／〜ｋｏｎｏｈｏｚａｉ／ｆｕｋｕｒｏ−ｒａｍｉ１．＞
【特許文献１】
特開平８−１２４６７７号公報（第９−１０頁、図１）
【特許文献２】
特開２００２−１０８２５０号公報（第６−７頁、図１）
【特許文献３】
特開２００２−３１４０９３号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
有機ＥＬ素子から派生した従来から知られている封止技術、遮光技術を用いることで有機薄膜トランジスタにおいても一定の効果を得ることができる。しかしながら、前述の封止技術は粘性のある応力緩和層を取り扱うためハンドリング上困難な操作を伴うものであったり（前述の特許文献１）、アンモニアを用いた真空プロセスで装置コストが高くなるもの（前述の特許文献２）で、プラスチック基板を用いた安価な有機薄膜トランジスタを製造する上では十分なものではなかった。また、プラスチック基板を用いた安価なフレキシブル構造を実現する上では十分なものではなかった。
【００１１】
従って、安価なプロセスを実現するためにラミネートのような技術を保護膜の形成に使用したいが、単純にラミネートしても加熱時のプレスによって有機半導体膜に過大なストレスが局所的にかかってしまうという課題があった。
【００１２】
特に、ソース電極、ドレイン電極をマスク蒸着ではなく、オフセット印刷あるいはスクリーン印刷といった印刷技術を利用して形成した場合には電極の膜厚が厚くなる。このため、電極がある部分とない部分とのギャップが大きいことから過大な応力が有機半導体膜にかかる。このため、有機薄膜トランジスタの多くが破壊するか性能を損なうという課題があった。
【００１３】
従って本発明の第１の課題は、プラスチック基板を用いた安価な有機薄膜トランジスタを製造する上で生産性の高い保護膜形成プロセスを構築することである。
本発明の第２の課題は、封止性能が高く、遮光性に優れた保護膜の形成プロセスを提供することである。
本発明の第３の課題は、安定した動作特性が得られるトランジスタを多数個使用した安価な半導体装置を作ることである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するための手段について鋭意検討を行った結果、以下の手段が適当であるとの結論に至った。
【００１５】
すなわち、本発明は、有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタにおいて、有機薄膜トランジスタが第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板によって構成されていることを特徴とする有機薄膜トランジスタである。
前記保護膜が半固形物からなることが好ましい。
【００１６】
また、本発明は、有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタの製造方法において、有機薄膜トランジスタが第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板によって構成されており、第１基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ゲート電極、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極を形成し、第２基板上に保護膜を形成して、第１基板の有機半導体膜が形成されている面と第２基板の保護膜が形成されている面とを重ね合わせることを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法である。
【００１７】
また、本発明は、有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタの製造装置において、上記の製造方法により保護膜を重ね合わせる装置であり、有機半導体膜の成膜工程と保護膜の重ね合わせ工程を連続的に同一装置内で行うことを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造装置である。
【００１８】
【発明の実施の形態】
プラスチック基板を用いた安価な有機薄膜トランジスタを製造する上で生産性の高い保護膜形成プロセスについて鋭意検討した結果、ラミネートのように第２基板を重ね合わせて保護膜を形成することが低コストなプロセスを志向する上で有効なこと、また、単純に第２基板を重ね合わせようとしても密着させるためにプレスすることによって有機半導体膜に過大なストレスが局所的にかかることがわかった。この現象に対処するため半固形物を保護膜として用いることを見出した。本発明はこの知見を元に発案するにいたったものである。
【００１９】
本発明である有機薄膜トランジスタの構造例を図１に示す。１０１は第１基板、１０２は導体膜からなるゲート電極、１０３はゲート絶縁膜、１０４は有機半導体膜、１０５はソース電極、１０６はドレイン電極、１０７は保護膜、１０８は第２基板である。
【００２０】
本発明の有機薄膜トランジスタを作る上では、第１基板１０１上にソース電極１０５、ドレイン電極１０６までの積層構造を作成し、第２基板１０８上に保護膜１０７を形成する。第１基板１０１の有機半導体膜１０４の露出面と第２基板１０８の保護膜１０７を接触させる形で、重ね合わせることにより本発明の有機薄膜トランジスタは完成する。
【００２１】
第２基板１０８上に作成する保護膜１０７は半固形物であるため、第１基板の有機半導体膜と接触した際に、第１基板側の形状にならって変形する。このため、重ね合わせする際の加圧力が緩和されるため、有機薄膜トランジスタに余分な応力がかかることなく保護膜を形成することが出来るようになる。
【００２２】
また、第２基板上に半固形物からなる保護膜を形成する条件を調整することにより、保護膜がたれて余計な場所に付着したりすることがない。このため、素子作成のハンドリング性が大幅に向上し生産性が高まることになる。
【００２３】
保護膜として使用する半固形物としては、有機半導体膜と化学的に反応を生じない不活性な絶縁材料を用いる。また放出ガスが少なく、水分、大気、酸素に対し封止効果をもつものが良い。グリスやワニス、ゲルを用いることが出来る。具体的には、グリスであれば、シリコーン系グリス、フッ素系グリス（例えばテフロン（登録商標）を増ちょう材としたＰＴＦＥグリス）、炭化水素系グリス（例えばアピエゾングリス）などで、真空グリスとして用いられるものである。具体的には、ゲルであれば、ゼラチンやセルロース類、アミド類などが用いられる。
【００２４】
グリスの硬さは、ちょう度で表すことが規格化されており（ＪＩＳＫ２２２０．５．３）規定の円錐がグリスに侵入した深さで定義されている。グリスを構成する基材、増ちょう材、添加剤のうち、増ちょう材と添加剤が固体粒子である場合は、粒径が小さく微小な凹凸になじむものが、余分な応力を有機半導体膜に与えないという観点で好ましい。グリスのちょう度は、小さいほど硬いことを示しちょう度番号は大きくなる。本発明に用いるグリスのちょう度としては２００から４５０が望ましい。より望ましくは２５０から３５０が望ましい。
【００２５】
また、保護膜は複数の材料からなる積層物であっても良い。例えば、無機あるいは有機絶縁膜と前記の半固形物の組み合わせでも良い。無機絶縁膜としては、例えば酸素透過性が低いＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，Ｔａ_２Ｏ_５などの酸化物やＳｉ_３Ｎ_４などの窒化物を用いることが出来る。また、有機絶縁膜としてはポリビニルフェノール（ＰＶＰ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンなどの絶縁性有機ポリマーを用いることも出来る。
【００２６】
また、保護膜は複数の材料からなる混合物であっても良い。例えば、吸湿材料と前記の半固形物の組み合わせでも良い。吸湿材料としては、炭酸カルシウム、合成ゼオライト、酸化バリウム、シリカゲル等を用いることが出来る。
また、保護膜は遮光性の高い物質からなる層を設けるか、混入する形としても良い。遮光性の高い物質が導電性である場合には、第２基板の側に設けても良い。
【００２７】
本発明の第１基板としては、シリコンウエハやガラスなどの無機材料や、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの高分子材料などから選択することが可能である。基板に要求される項目としては、平坦性、強度、耐熱性、熱膨張係数、コストなどの観点から適宜用途に応じて選択することが可能である。
【００２８】
本発明の第２基板としては、各種高分子材料を用いることが出来る。例えば、ナイロン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、エチレン・酢酸ビニル共重合体（ＰＶＡ）、二軸延伸ポリプロピレン、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレンなどである。また、酸素バリア性を向上させるため塩化ビニリデンを被覆したものや、遮光性を向上させるためアルミニウムを蒸着したものを用いても良い。その際は、有機半導体膜と接する面を絶縁材料とすれば良い。
【００２９】
また本発明の第２基板としては、保護膜との密着力を調整するため、保護膜と接する面に対しては親保護膜性を、保護膜と接しない面に対しては疎保護膜性を付与することが重要である。調整手段としては、プラズマ処理、オゾン処理、ＵＶ処理などの各種表面処理を行うことや、接着層などの新たな機能付加を行うことが出来る。これら技術の詳細は当該業者にとって容易に理解できることである。
【００３０】
本発明における第２基板と保護膜の違いは、第２基板が基材として単独で形状を保持しうるのに対し、保護膜は基材の存在なしに形状を保持できないという違いで分離することにする。換言すれば第２基板と保護膜とでは厚さが異なり、材質により異なるが概ね５０μｍの厚さを境に厚いものを第２基板、５０μｍより薄いものを保護膜と定義することにする。
【００３１】
また本発明の第１基板は、２枚の第２基板を用いて挟み込むことが出来る（図１１）。この場合、ラミネートとして知られる熱溶着を行うことが可能になる。
【００３２】
本発明の有機半導体膜としては、ペンタセン、テトラセン、アントラセンなどのΠ共役電子を持つオリゴマーやポリチオフェン、ポリアセン、ポリアセチレン、ポリアニリン等の有機半導体ポリマーなどから適宜選択することが可能である。
【００３３】
本発明のゲート絶縁膜としてはＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，Ｔａ_２Ｏ_５などの無機酸化物やＳｉ_３Ｎ_４などの窒化物を用いることが出来る。ゲート絶縁膜は、オン抵抗を下げ、ドレイン電流を増大するためには高誘電率材料であることが望ましい。また、ポリビニルフェノール（ＰＶＰ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンなどの絶縁性有機ポリマーを用いることも出来る。
【００３４】
本発明のゲート電極、ソース電極、ドレイン電極としては、金、銀、白金などの貴金属や銅、アルミニウムなど導電率が高い材料を用いることが出来る。また、導電性ポリマーを用いてこれらの電極を形成することも出来る。
【００３５】
有機薄膜トランジスタの構造は、基板に対し有機半導体膜の上にソース電極、ドレイン電極を形成するトップ電極構造（ＴＥ）と、ゲート絶縁膜上にソース電極、ドレイン電極を形成した後に有機半導体膜を形成するボトム電極構造（ＢＥ）が知られている。ＴＥはゲート絶縁膜上にソース電極、ドレイン電極がないために、高品位の有機半導体膜を形成しやすいことから移動度がＢＥ構造よりも高い傾向にある。一方、ＴＥ構造をとる事により、有機半導体膜の成膜領域を制限して下側の電極構造との接続を取ることになるため製造工程が複雑になるという欠点がある。本発明の保護膜形成プロセスは、ＴＥ構造、ＢＥ構造いずれに対しても適用することが可能である。
【００３６】
本発明の有機薄膜トランジスタの動作手順は図３に示した従来のものと同じである。すなわち、ソース電極を接地し、ドレイン電極にＶｄｄを印加した状態で、ゲート電極にしきい値電圧Ｖｔｈを超える電圧を印加する。この時、ゲート電極からの電界によって有機半導体膜の導電率が変化し、ソース〜ドレイン電極間に電流が流れる。ゲート電圧によってスイッチのようにソース〜ドレイン電極間の電流をオンオフすることが出来る。
【００３７】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【００３８】
実施例１
図４から９は、本発明の有機薄膜トランジスタの作成方法を示す模式図である。図４において、４０１は基板、４０２は導体膜である。４０１と４０２は、例えばガラスエポキシ基板と銅箔の組み合わせで一体となったものがプリント回路基板として流通しており、今回は基板厚さ０．２ｍｍ、導体膜である銅箔の膜厚３５μｍのものを使用した。また、基板に対し両面に導体膜を配した形態のものが多いが、本発明の説明上不要なため省略している。
【００３９】
次に、導体膜に対しパターニングを施し所望のゲート形状に加工する。加工手段としてはドライフィルムを利用したリソグラフィ技術によるマスク形成と、導体膜のウエットエッチングによる形状転写を用いることが出来る。図５は配線形状に加工した後の状態を示す。４０２がゲート電極となる導体膜である。ウエットエッチ後に、この導体膜部分をＣＭＰで研磨を行い、本発明を実施する上で必要な表面荒さの調整を行う。
【００４０】
図６は、ゲート電極となる導体膜４０２上にゲート絶縁膜４０３を形成した状態を示す。ゲート絶縁膜４０３の形成にはマグネトロンスパッタを用いた。成膜領域はシャドーマスクで規定する。材料はＡｌ_２Ｏ_３である。膜厚は２５０ｎｍである。
【００４１】
図７は、ゲート絶縁膜４０３上に有機半導体膜４０４を形成した状態を示す。有機半導体膜４０４の形成には蒸着を用いた。成膜領域はシャドーマスクで規定する。材料は昇華精製したペンタセンである。膜厚は１５０ｎｍである。
【００４２】
図８は、有機半導体膜４０４と接するようにソース電極４０５とドレイン電極４０６を設けた状態を示す。ソース電極４０５およびドレイン電極４０６の形成には蒸着を用いた。成膜領域はシャドーマスクで規定する。材料はＡｕである。膜厚は１００ｎｍである。
【００４３】
図９は、有機半導体膜４０４およびソース電極４０５、ドレイン電極４０６を覆うように保護膜４０７および第２基板４０８を重ね合わせした後の状態を示す。保護膜４０７は信越シリコーンのシリコン真空グリスで、重ね合わせ前の厚さは６０μｍ、第２基板４０８はポリエチレンで厚さは１５０μｍである。保護膜４０７を設けた第２基板４０８は、重ね合わせ前には保護膜４０７が第２基板４０８に沿うように平坦な形状である（図２）。しかしながら、重ね合わせ後は図９に示すように、保護膜４０７は変形して有機半導体膜４０４およびソース電極４０５、ドレイン電極４０６が形成する起伏に沿って全体をカバーする。このため、重ね合わせ時の印加圧力が特定の電極部分に集中することがないため、有機半導体膜に対して低い応力しかかからない。従って、半導体素子としての特性を損なうことや、素子の破壊をまねくことなく保護膜を形成することが可能になる。
【００４４】
次に、研磨工程まで終了した基板は、カードサイズ（８６ｍｍ×５４ｍｍ）に切り出される。この基板を以降の工程を行ってトランジスタ素子を完成させた。完成後にトランジスタ素子のＤＣ特性を半導体パラメータアナライザ（ＨＰ４１５５Ｂ）で測定した。テストに用いたパターン形状は、同一サイズのトランジスタ素子が切り出した１枚の基板上に１２０ケ並ぶものである。その結果、ゲートリークが少なくＶｔｈのバラツキが小さい良好なトランジスタ特性が得られた。長期にわたり安定したトランジスタ特性が得られたことで有機半導体膜が大気にさらされることなく封止が効いていることを確認できた。
【００４５】
一方、比較例として、保護膜４０７を設けない点以外は全て同じ工程からなる素子も作成し、トランジスタ素子のＤＣ特性の評価を行った。その結果、同一基板上に存在する多数の素子が壊れ、トランジスタ特性としてもバラツキが大きなものとなった。
【００４６】
実施例２
第１基板１０１を２枚の第２基板１０８，１０９で挟み込んでラミネートする以外には実施例１と同じ構成で作成した有機薄膜トランジスタについて、保護膜のありなしによるラミネート後のトランジスタ特性の評価を行った。断面模式図は図１１である。第２基板１０８，１０９はポリエチレン・ポリエステル・ＥＶＡからなる１５０μｍ厚のフィルムを用いた。真空グリスを６０μｍ厚にバーコートし、７０℃でクリーンオーブン加熱をして第２基板側に対する密着力を上げている。また、周囲にはグリスが付着しない領域を設けてヒートシールが可能な構造としている。
【００４７】
実施例１と同様にして薄膜トランジスタ素子を作成した。ラミネートには市販されているラミネータ（株式会社アスカ製、Ａｓｍｉｘ）を用いた。静特性を半導体パラメータアナライザで測定した。保護膜を設けなかった比較サンプルでは、同一基板上に存在する多数の素子が壊れ、トランジスタ特性としてもバラツキが大きなものとなったのに対し、本発明である保護膜を設けて重ね合わせしたサンプルでは不良品の発生率が抑制できていることがわかった。また、長期にわたり安定したトランジスタ特性が得られたことで有機半導体膜が大気にさらされることなく封止が効いていることを確認できた。
【００４８】
実施例３
保護膜として、絶縁膜と前記半固形物である真空グリスとの組み合わせからなる積層物とした以外には実施例１と同じ構成で作成した有機薄膜トランジスタについて、保護膜のありなしによる重ね合わせ後のトランジスタ特性の評価を行った。絶縁膜は無機酸化物である１μｍ厚のＳｉＯ_２である。第２基板はポリエチレン・ポリエステル・ＥＶＡからなるフィルムで厚さは１５０μｍである。この第２基板に対して、マグネトロンスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２膜をリアクティブスパッタで成膜した。Ａｒに対する酸素の混合比は５％、放電圧力は０．４Ｐａである。
【００４９】
実施例１と同様にして薄膜トランジスタ素子を作成した。断面模式図は図１２であり、実施例１の図１と比べ酸素バリア膜ＳｉＯ_２（図１２の１１０）と真空グリス（図１２の１０７）の積層構造となっている。トランジスタの静特性を半導体パラメータアナライザで測定した。保護膜を設けなかった比較サンプルでは、同一基板上に存在する多数の素子が壊れ、トランジスタ特性としてもバラツキが大きなものとなったのに対し、本発明である保護膜を設けて重ね合わせしたサンプルでは不良品の発生率が抑制できていることがわかった。また、長期にわたり安定したトランジスタ特性が得られたことで有機半導体膜が大気にさらされることなく封止が効いていることを確認できた。
【００５０】
実施例４
保護膜として、複数の異なる材料の混合物とした以外には実施例１と同じ構成で作成した有機薄膜トランジスタについて、保護膜のありなしによる重ね合わせ後のトランジスタ特性の評価を行った。混合物は、吸湿材料である炭酸カルシウムと前記半固形物である真空グリスからなる。信越シリコーン製の真空グリス中に炭酸カルシウムを１０ｗｔ％混入し、充分に攪拌したものを６０μｍ厚にバーコートし、７０℃で窒素雰囲気中で加熱をして第２基板側に対する密着力を上げている。
【００５１】
実施例１と同様にして薄膜トランジスタ素子を作成した。断面模式図は図１３であり、実施例１の図１と比べ吸湿材料である炭酸カルシウム（図１３の１１１）が半固形物である真空グリス中に追加されている。トランジスタの静特性を半導体パラメータアナライザで測定した。保護膜を設けなかった比較サンプルでは、同一基板上に存在する多数の素子が壊れ、トランジスタ特性としてもバラツキが大きなものとなったのに対し、本発明である保護膜を設けて重ね合わせしたサンプルでは不良品の発生率が抑制できていることがわかった。また、長期にわたり安定したトランジスタ特性が得られたことで有機半導体膜が大気にさらされることなく封止が効いていることを確認できた。
【００５２】
実施例５
第２基板に対し遮光性を向上するためにＡｌを成膜した以外には実施例１と同じ構成で作成した有機薄膜トランジスタについて、保護膜のありなしによる重ね合わせ後のトランジスタ特性の評価を行った。第２基板はポリエチレン・ポリエステル・ＥＶＡからなるフィルムで厚さは１５０μｍである。この第２基板に対して、保護膜を形成しない面に対して０．３μｍのＡｌ膜をマグネトロンスパッタ装置を用いて成膜した。成膜後の第２基板の透過率測定を３５０−１１００ｎｍの波長域で行うと５％以下であり全反射状態であった。
【００５３】
実施例１と同様にして薄膜トランジスタ素子を作成した。断面模式図は図１４であり、実施例１の図１と比べＡｌ遮光膜（図１４の１１２）が追加されている。トランジスタの静特性を半導体パラメータアナライザで測定した。保護膜を設けなかった比較サンプルでは、同一基板上に存在する多数の素子が壊れ、トランジスタ特性としてもバラツキが大きなものとなったのに対し、本発明である保護膜を設けて重ね合わせしたサンプルでは不良品の発生率が抑制できていることがわかった。また、長期にわたり安定したトランジスタ特性が得られたことで有機半導体膜が大気にさらされることなく封止が効いていることを確認できた。
【００５４】
実施例６
図１０は本発明の保護膜形成プロセスをインラインで行う製造装置の模式図である。この装置ではラミネート用ヒータによりラミネートを行っているが熱溶着は本発明において必須ではない。図１０において、５００は真空チャンバ、５０１は巻きだしロール、５０２は巻き取りロール、５０３はあいし巻きだしロール、５０４はあいし巻取りロール、５０５は図８の工程まで終了した第１基板、５０６は基板ヒータ、５０７は膜厚モニタ、５０８はラミネータ用ヒータ、５０９は成膜シャッタ、５１０と５１１は防着板、５１２は蒸着ソース、５１３は第２基板の巻きだしロール、５１４と５１５はテンションローラ、５１６は第２基板用のラミネートローラ、５１７は第２基板である。
【００５５】
真空チャンバ５００は図示しない真空排気用ポンプおよびバルブを通して、大気圧より低い真空度に保たれており、図８の工程まで終了した第１基板５０５は巻きだしロール５０１から巻き取りロール５０２へ向けて一定速度で搬送される。このとき、テンションローラ５１４，５１５が、第１基板の張り具合を調節する。また、基板面へのきず防止のためのあいしはあいし巻きとりローラ５０３に巻き取られる。
【００５６】
真空チャンバ内５００は図示しないゲートバルブを通りぬけて、防着板５１０，５１１で覆われた成膜空間へと導かれる。成膜空間の真空度は２×１０^−４Ｐａに保たれており、そこでは、必要なタイミングに応じてシャッタ５０９があけられ、蒸着源５１２から発生した有機半導体粒子が第１基板に付着する。成膜に際しては基板ヒータ５０６がオンになっており、所望の温度に基板をコントロールする。ペンタセンを用いて成膜をおこなった。蒸着速度は、膜厚モニタで管理されており、蒸着速度は毎秒０．９Å、基板温度は５０度である。成膜したペンタセンの総膜厚は７０ｎｍである。
【００５７】
次に有機半導体膜の成膜が終了した基板５０５はラミネートヒータのそば５０８を通り、第２基板の巻きだしローラ５１３から供給された第２基板５１７とともに密着ローラ５１６を通り抜け、圧着される。ラミネートヒータによる加熱で２枚の基板は溶着する。溶着後の基板は最終的には巻き取り前にあいし巻きだしローラ５０４から排出されてラミネートが終了して第１基板と第２基板が合体したものと一緒に巻き取りローラ５０２に巻き取られて工程が終了する。有機半導体膜は一切大気に触れることがなく、またラミネートの際にエアをかむこともなく本工程を経るとスムーズに実装工程へまわすことが可能になる。
【００５８】
本発明は図１の構造に基づいて説明がなされているが、この構造のみに適用されるものではない。広く同じ課題に直面するケースに適用可能であることは当該業者には容易に理解出来ることである。また、フィールド絶縁膜や保護膜やコンタクトビアなど本発明と直接関係ない部分について大幅な省略が加えられていることも当該業者には理解出来ることである。
【００５９】
次に、本発明の好ましい実施態様について説明する。
第１の実施態様は、前記保護膜が半固形物からなることを特徴とする。
第２の実施態様は、有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタの製造方法において、有機薄膜トランジスタが第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板によって構成されており、第１基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ゲート電極、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極を形成し、第２基板上に保護膜を形成して、第１基板の有機半導体膜が形成されている面と第２基板の保護膜が形成されている面とを重ね合わせることを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法である。
【００６０】
第３の実施態様は、有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタの製造装置において、前記の製造方法により保護膜を重ね合わせる装置であり、有機半導体膜の成膜工程と保護膜の重ね合わせ工程を連続的に同一装置内で行うことを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造装置である。
【００６１】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明は、有機薄膜トランジスタを第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板という構成にすることによって、安価に封止可能な構造とすることが出来た。
また、保護膜が設けられた第２基板を有機半導体膜を形成した第１基板に対して重ね合わせする方式で保護膜の形成を行うことで、素子を破壊することなく保護膜を形成することが可能になった。
また、封止性能が高く、遮光性に優れた保護膜を形成することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機薄膜トランジスタの構造を示す模式図である。
【図２】本発明の第２基板と保護膜を示す模式図である。
【図３】従来技術の有機薄膜トランジスタの構造を示す模式図である。
【図４】本発明の有機薄膜トランジスタを作成するプロセスを示す模式図である。
【図５】本発明の有機薄膜トランジスタを作成するプロセスを示す模式図である。
【図６】本発明の有機薄膜トランジスタを作成するプロセスを示す模式図である。
【図７】本発明の有機薄膜トランジスタを作成するプロセスを示す模式図である。
【図８】本発明の有機薄膜トランジスタを作成するプロセスを示す模式図である。
【図９】本発明の有機薄膜トランジスタを作成するプロセスを示す模式図である。
【図１０】本発明の実施例６に示す有機薄膜トランジスタの製造装置を示す模式図である。
【図１１】本発明の実施例２に示す有機薄膜トランジスタの構造を示す模式図である。
【図１２】本発明の実施例３に示す有機薄膜トランジスタの構造を示す模式図である。
【図１３】本発明の実施例４に示す有機薄膜トランジスタの構造を示す模式図である。
【図１４】本発明の実施例５に示す有機薄膜トランジスタの構造を示す模式図である。
【符号の説明】
１０１第１基板
１０２導体膜からなるゲート電極
１０３ゲート絶縁膜
１０４有機半導体膜
１０５ソース電極
１０６ドレイン電極
１０７保護膜
１０８第２基板
１０９第２基板
１１０絶縁膜
１１１吸湿材料
１１２遮光膜
３０１基板
３０２導体膜からなるゲート電極
３０３ゲート絶縁膜
３０４有機半導体膜
３０５ソース電極
３０６ドレイン電極
４０１基板
４０２ゲート電極となる導体膜
４０３ゲート絶縁膜
４０４有機半導体膜
４０５ソース電極
４０６ドレイン電極
４０７保護膜
４０８第２基板
５００真空チャンバ
５０１巻きだしロール
５０２巻き取りロール
５０３あいし巻取りロール
５０４あいし巻だしロール
５０５図８の工程まで終了した第１基板
５０６基板ヒータ
５０７膜厚モニタ
５０８ラミネータ用ヒータ
５０９成膜シャッタ
５１０防着板
５１１防着板
５１２蒸着ソース
５１３第２基板の巻きだしロール
５１４テンションローラ
５１５テンションローラ
５１６第２基板用のラミネートローラ
５１７第２基板

Claims

有機半導体膜を用いた有機薄膜トランジスタにおいて、有機薄膜トランジスタが第１基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、ドレイン電極、保護膜、第２基板によって構成されていることを特徴とする有機薄膜トランジスタ。