JP2004294720A - 高分子光導波路及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】量産性に優れ、低コストであり、各種特性に優れた高分子光導波路を提供する。
【解決手段】クラッド基板３に形成されたコア溝２にコア材料４を充填してコア５を形成することによって製造される高分子光導波路に関する。クラッド基板３を作製するためのクラッド材料１として、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いる。コア材料４として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと下記一般式で表されるものとからなる材料を用いる。

【選択図】 なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信分野、光情報処理分野において使用される光デバイスを構成するための光導波路型光学素子等における高分子光導波路及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
平面型光導波路であるスプリッタ等の製造方法は、材料として、透明性に優れ、光学異方性が小さく、耐熱性の高い石英ガラスや誘電体結晶等を用いる場合が多く、その製造方法は、フォトリソグラフィー、ドライエッチングプロセスの組み合わせが中心であるが、この方法ではプロセスが複雑で、装置コストも高価であるために、大量生産には適さない工程であり、材料コストも高価であった。
【０００３】
その後、高分子系材料を用いた光導波路（高分子光導波路）が注目され始め、低コスト化が期待されている。この高分子光導波路を製造するにあたっては、コア、クラッド基板にポリイミド系、エポキシ系材料等を用いて、半導体プロセスと同様にフォトリソグラフィーや反応性イオンエッチングを行う方法が採られている。しかしこの方法は、石英ガラス導波路と同様の製造方法であるために、低コストとはならない。
【０００４】
そこで、低コスト化を実現するために、近年、光導波路のコアパターンが表面に形成された金型を用い、この金型に溶融状態の熱可塑性樹脂を流し込んで射出成形することによって、コアパターンの形状に対応するコア溝が形成されたクラッド基板を作製する方法や、あるいは上記の金型を溶融状態の熱可塑性樹脂に押し当てることによって、コアパターンの形状に対応するコア溝が形成されたクラッド基板をホットエンボス法により作製する方法が検討されている。いずれの作製方法も量産性に優れており、これらの方法によって作製したクラッド基板を用いることによって、高分子光導波路の製造コストを削減することができるものである。
【０００５】
図２は高分子光導波路の一例を示す断面図であり、この高分子光導波路は、上記のようにクラッド材料１を用いて作製したクラッド基板３のコア溝２にコア材料４を充填してコア５を形成すると共に、この面にクラッド基板３と同じ材料（クラッド材料１）で形成されたフィルム６を接合することによって製造される。
【０００６】
そして上記のような方法で高分子光導波路を製造する技術としては、具体的には、特開昭５８−９５３０５号公報（特許文献１）、特開平６−３５４５号公報（特許文献２）、特開平１０−９０５３２号公報（特許文献３）に記載された技術を挙げることができる。これらの公報で使用されている材料について、クラッド基板３を作製するためのクラッド材料１としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が例示されている（例えば、特許文献２の段落番号［００４２］、特許文献３の段落番号［００３４］）。また、コア５を形成するためのコア材料４としては、ジュウテリウム置換メタクリレートやフッ素置換メタクリレートが例示されており（例えば、特許文献２の段落番号［００４３］）、このようなコア材料４を用いることにより光の吸収を低減しているのが一般的である。
【０００７】
しかし、上記のようなクラッド材料１やコア材料４を用いる場合には、以下に列挙するような問題が生じる。
【０００８】
（問題点１）
光導波路は、コア５部分に入射した光を屈折率の小さいクラッド基板３間（コア溝２の内壁など）で繰り返し反射させながら伝播させるものであるが、クラッド基板３へのいわゆるしみだしによりクラッド基板３部分を伝播する光もある。特に、コア５の径が小さいシングルモードの光導波路においては、この影響が顕著となる。そのためクラッド材料１としては、ＰＭＭＡよりも光吸収の小さい材料を用いる必要がある。すなわち、ＰＭＭＡは吸収損失が大きいため、クラッド材料１としてＰＭＭＡを用いると、光通信に使用する１５５０ｎｍ付近の波長の光が吸収され、光導波路の損失が大きくなるという問題がある。
【０００９】
（問題点２）
また、ＰＭＭＡは、耐熱性が低いことから、高分子光導波路が使用される環境によっては、その特性が悪化するという問題もある。
【００１０】
（問題点３）
また、コア材料４として特許文献２（段落番号［００４３］）に例示されているジュウテリウム置換ＰＭＭＡ−ｄ８とテトラフルオロプロピルメタクリレート（ＴＦＰＭＡ）からなるコポリマーは、ジュウテリウムやフッ素を含有する材料より構成されているため材料が高価となる。
【００１１】
（問題点４）
さらに、上記のようにコア材料４にフッ素を含有させる場合には、クラッド基板３に対する密着性が低下するという問題もある。
【００１２】
（問題点５）
また、熱可塑性樹脂で作製されるクラッド基板３のコア溝２にコア材料４を充填してコア５を形成する際に、このコア材料４によってクラッド基板３が溶解し、初期に設計したコア５の形状とは異なるコア５が形成されたり、クラッド基板３の溶解によりクラッド基板３とコア５との界面の屈折率差がぼやけ、コア５に光を十分に閉じ込めることができなかったりするという問題がある。
【００１３】
（問題点６）
また、従来のコア材料４は、硬化時の収縮率が大きいため、所定の形状を有するコア５を得るのが難しいという問題や、収縮時の応力によりクラッド基板３とコア５との界面の剥離の問題もあった。
【００１４】
【特許文献１】
特開昭５８−９５３０５号公報
【特許文献２】
特開平６−３５４５号公報
【特許文献３】
特開平１０−９０５３２号公報
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の問題点１は、例えば、クラッド材料１として、芳香族を含むポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアリレート樹脂等の熱可塑性樹脂からなる材料を用いることによって解消することができる。その理由は、上記の樹脂からなる材料は、ＰＭＭＡに比べて光吸収が小さいためである。
【００１６】
しかし、上記のような材料をクラッド材料１として用いても、それに適したコア材料４はこれまでに提供された例がない。そのため、上記の問題点２〜６は依然として解消されていない。
【００１７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、量産性に優れ、低コストであり、各種特性に優れた高分子光導波路及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る高分子光導波路は、クラッド基板３に形成されたコア溝２にコア材料４を充填してコア５を形成することによって製造される高分子光導波路において、クラッド基板３を作製するためのクラッド材料１として、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いると共に、コア材料４として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと下記一般式［化３］で表されるものとからなる材料を用いることを特徴とするものである。
【００１９】
【化３】

【００２０】
また請求項２の発明は、請求項１において、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を少なくとも２個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を１個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものとを併用することを特徴とするものである。
【００２１】
また請求項３の発明は、請求項１又は２において、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、脂肪族メタクリレート系化合物及び脂肪族アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いることを特徴とするものである。
【００２２】
また請求項４の発明は、請求項３において、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、さらに、チオエーテル類メタクリレート系化合物及びチオエーテル類アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いることを特徴とするものである。
【００２３】
また請求項５の発明は、請求項１乃至４のいずれかにおいて、上記一般式［化３］で表されるものとして、下記一般式［化４］で表されるビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートを用いることを特徴とするものである。
【００２４】
【化４】

【００２５】
また請求項６の発明は、請求項１乃至５のいずれかにおいて、芳香族を含む熱可塑性樹脂として、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂から選ばれるものを用いることを特徴とするものである。
【００２６】
また請求項７の発明は、請求項１乃至６のいずれかにおいて、コア材料４にラジカル重合開始剤である光重合開始剤を配合することを特徴とするものである。
【００２７】
また請求項８の発明は、請求項７において、光重合開始剤として、クラッド基板３を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解するものを用いることを特徴とするものである。
【００２８】
本発明の請求項９に係る高分子光導波路の製造方法は、光導波路のコアパターンが表面に形成された金型をクラッド材料１に押し付けることによって、コアパターンの形状に対応するコア溝２が転写により形成されたクラッド基板３を作製し、このクラッド基板３のコア溝２にコア材料４を充填してコア５を形成することによって高分子光導波路を製造する方法において、クラッド材料１及びコア材料４としてそれぞれ請求項１乃至８のいずれかに記載のクラッド材料１及びコア材料４を用いると共に、クラッド基板３とコア材料４のいずれか一方又は両方を加熱した状態でクラッド基板３にコア材料４を塗布することによって、クラッド基板３のコア溝２にコア材料４を充填することを特徴とするものである。
【００２９】
また請求項１０の発明は、請求項９において、クラッド基板３にコア材料４を塗布した後に脱泡することを特徴とするものである。
【００３０】
本発明の請求項１１に係る高分子光導波路は、請求項１乃至８のいずれかにおいて、コア５の形状がシングルモードに対応する形状であることを特徴とするものである。
【００３１】
本発明の請求項１２に係る高分子光導波路は、請求項１乃至８のいずれかにおいて、コア５の形状がマルチモードに対応する形状であることを特徴とするものである。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００３３】
本発明においてクラッド材料１としては、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いるものである。芳香族を含む熱可塑性樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂等の非晶性の熱可塑性樹脂を用いることができる。ここで、例えば、ポリカーボネート樹脂としては、ビスフェノールＡタイプのもの、ビスフェノールＺタイプのもの、フルオレン構造を有するタイプのもの等を用いることができる。ポリカーボネート樹脂以外の樹脂としても、上記と同様のものを用いることができる。
【００３４】
芳香族を含む熱可塑性樹脂は、光通信に使用される領域（通信帯域）や近赤外領域の光を吸収するＣＨが、芳香族を含まない熱可塑性樹脂（例えば、ＰＭＭＡ）と比較して少ないため、透明性に優れている。よって、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料をクラッド材料１として用いると、上記領域における光の吸収損失が小さいクラッド基板３を作製することができ、このクラッド基板３を用いることによって、低損失の高分子光導波路を製造することができるものである。
【００３５】
ここで、芳香族を含む熱可塑性樹脂の中でも特に、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂から選ばれるものを用いるのが好ましい（請求項６の発明）。これらの樹脂からなる材料をクラッド材料１として用いると、これらの樹脂以外の樹脂からなる材料をクラッド材料１として用いるよりも、さらに吸収損失が小さいクラッド基板３を作製することができ、さらに低損失の高分子光導波路を製造することができるものである。
【００３６】
図１（ａ）はクラッド基板３を示すものであり、このようなクラッド基板３を作製するにあたっては、例えば、エンボス加工、射出成形等を利用することができる。エンボス加工を利用する場合は、所定の光導波路のコアパターンが凸部として表面に形成された金型を加熱し、あらかじめ平板状に成形しておいたクラッド材料１の表面に上記の金型を押し付け、所定時間経過後、金型を冷却した後に離型することによって、上記のコアパターンの形状に対応するコア溝２が転写により凹部として形成されたクラッド基板３を得ることができる。ここで、コア溝２の本数や形状は、高分子光導波路の用途に応じて適宜に設計されるものであり、１本のコア溝２を形成しても複数本のコア溝２を形成してもよく、１つ又は複数の分岐を有するスプリット状のコア溝２を形成してもよい。一方、射出成形を利用する場合は、所定の光導波路のコアパターンが凸部としてキャビティの内面に形成された金型に、加熱溶融したクラッド材料１を射出充填し、金型を冷却した後に離型することによって、上記のコアパターンの形状に対応するコア溝２が転写により凹部として形成されたクラッド基板３を得ることができる。
【００３７】
上記のエンボス加工、射出成形等の成形法は量産性に優れているため、これらの方法を利用する方が、従来のようにフォトリソグラフィーやドライエッチングプロセスを組み合わせるよりも、量産性に優れ、低コストな高分子光導波路を安定して製造することができるものである。
【００３８】
一方、コア材料４としては、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものとからなる材料を用いるものである。ここで、メタクリレート系化合物やアクリレート系化合物を１種類のものに限定していないのは、これらを組み合わせて配合することによって、伝播させる光の波長帯域におけるコア５の屈折率がクラッド基板３の屈折率よりも所定の割合高くなるようにするためである。また、製造時における収縮率や流動性、クラッド基板３との密着性や線膨張係数のマッチング等を改善するためである。なお、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものの配合量は、コア材料４全量に対して３０〜７０重量％であることが好ましい。また、コア材料４にはビニル系化合物を配合することも可能であるが、反応性が乏しいため望ましくない。
【００３９】
１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、単官能アクリレート、多官能アクリレート等を用いることができる。なお、単官能とは、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を１個有していることを意味しており、多官能とは、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を２個以上有していることを意味している。
【００４０】
単官能メタクリレートとしては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、テトラブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メチルシクロヘキシルメタクリレート、２−エチルシクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、１−ナフチルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、ブロモフェニルメタクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、メトキシフェニルメタクリレート、シアノフェニルメタクリレート、フェニルチオメタクリレート等を用いることができる。
【００４１】
多官能メタクリレートとしては、２官能メタクリレート及び３官能メタクリレートのほか、４官能以上のメタクリレートも用いることができる。
【００４２】
２官能メタクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレートトリメチロールプロパントリジメタクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジメタクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジメタクリレート、ビス［（２−メタクリロイルチオ）エチル］スルフィド（化学名：Ｓ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート））、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（化学名：Ｓ，Ｓ’−（チオジ−４，１−フェニレン）チオメタクリレート）等を用いることができる。
【００４３】
３官能メタクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリメタクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリメタクリレート等を用いることができる。
【００４４】
一方、単官能アクリレートとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、テトラブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、メチルシクロヘキシルアクリレート、２−エチルシクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、ブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、メトキシフェニルアクリレート、シアノフェニルアクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性アクリレート等を用いることができる。
【００４５】
多官能アクリレートとしては、２官能アクリレート及び３官能アクリレートのほか、４官能以上のアクリレートも用いることができる。
【００４６】
２官能アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートトリメチロールプロパントリジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレート等を用いることができる。
【００４７】
３官能アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート等を用いることができる。
【００４８】
ここで、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物としては、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を少なくとも２個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を１個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものとを併用するのが好ましい（請求項２の発明）。このように、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、多官能のものと単官能のものとを併用すると、屈折率を容易に調整することができると共に、コア材料４の低粘度化を図ることができるものである。そしてコア材料４の粘度が低下すると、クラッド基板３に形成されたコア溝２にコア材料４を充填する作業を簡便に行うことができると共に、気泡の巻き込みがさらに抑制され、コア材料４のコア溝２への充填性をさらに高く得ることができるものである。
【００４９】
上記のように、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、多官能のものと単官能のものとを併用する場合において、単官能のものの配合量はコア材料４全量に対して５〜５０重量％であることが望ましく、５〜２５重量％であることがより望ましく、５〜１５重量％であることが最も望ましい。単官能のものの配合量が５重量％より少ないと、コア材料４の低粘度化の効果を十分に得ることができないおそれがある。逆に単官能のものの配合量が５０重量％より多いと、コア５の収縮率が増加することによって高分子光導波路の製造が困難となるおそれがあり、また、コア５の線膨張係数が増加することによってクラッド基板３との線膨張係数の差が大きくなり、高分子光導波路を高温下に放置したときに上記の差に起因して応力が生じ、この応力によりクラッド基板３とコア５との界面に剥離が発生するおそれがある。
【００５０】
また、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物としては、脂肪族メタクリレート系化合物及び脂肪族アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いるのが好ましい（請求項３の発明）。脂肪族メタクリレート系化合物としては、例えば、エチレングリコールジメタクリレートやジエチレングリコールジメタクリレート等を用いることができ、また脂肪族アクリレート系化合物としては、エチレングリコールジアクリレートやジエチレングリコールジアクリレート等を用いることができる。このような脂肪族のものを用いると、芳香族メタクリレート系化合物及び芳香族アクリレート系化合物のみを用いる場合よりも、コア材料４の低粘度化を図ることができると共に、コア５とクラッド基板３との線膨張係数の差を小さくすることができるものである。そして上記のようにコア材料４の粘度が低下すると、クラッド基板３に形成されたコア溝２にコア材料４を充填する際に気泡の巻き込みがさらに抑制され、コア材料４のコア溝２への充填性をさらに高く得ることができるものであり、また、コア５とクラッド基板３との線膨張係数の差が小さくなると、高分子光導波路を高温下に放置してもコア５とクラッド基板３との界面に剥離が発生しにくくなり、低損失を長期にわたって維持することができ、信頼性を向上させることができるものである。
【００５１】
また上記のように、脂肪族メタクリレート系化合物及び脂肪族アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いる場合においては、さらに、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、チオエーテル類メタクリレート系化合物及びチオエーテル類アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いるのが好ましい（請求項４の発明）。チオエーテル類メタクリレート系化合物としては、例えば、ビス［（２−メタクリロイルチオ）エチル］スルフィド、フェニルチオメタクリレート等を用いることができ、また、チオエーテル類アクリレート系化合物としては、例えば、ビス［（２−アクリロイルチオ）エチル］スルフィド、フェニルチオアクリレート等を用いることができる。このようなチオエーテル類のものを脂肪族のものと併用すると、脂肪族のもののみを用いる場合よりも、コア材料４の低粘度化を図ることができ、クラッド基板３に形成されたコア溝２にコア材料４を充填する際に気泡の巻き込みがさらに抑制され、コア材料４のコア溝２への充填性をさらに高く得ることができるものである。
【００５２】
また、コア材料４の配合成分である上記一般式［化１］（［化３］）は、フルオレン環にベンゼン環が直交配置するスピロ構造を有するものであるが、これを用いることによって、以下のような効果を得ることができる。すなわち、コア５の光学異方性を小さくすることができる。また、コア５の耐熱性を高めることができる。また、通信帯域や近赤外領域の光の吸収損失を小さくすることができる。また、コア材料４の熱硬化時の収縮率を小さくすることができ、これにより硬化後のコア材料４はコアパターンの形状に対応するコア５を正確に形成することができる。また、コア５の線膨張係数を小さくすることができ、これにより高分子光導波路の使用時において熱負荷がかかっても、コア５とクラッド基板３との膨張差が小さいためこれらの界面に剥離が発生せず、信頼性を高めることができる。また、コア材料４の浸透性を小さくすることができ、コア材料４をクラッド基板３に形成されたコア溝２に充填する際に、クラッド材料１（芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料）がコア材料４によって溶解されにくく、初期に設計したコア５の形状とほぼ同一のコア５を形成することができ、コア５に光を十分に閉じ込め、低損失の高分子光導波路を製造することができる。また、コア材料４とクラッド材料１（芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料）との接着性を高めることができ、高分子光導波路の長期安定性を高く得ることができる。
【００５３】
ここで、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものとしては、上記一般式［化２］（［化４］）で表されるビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートを用いるのが好ましい（請求項５の発明）。ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートは［化１］（［化３］）においてＲ１を水素原子、ｎ及びｍをいずれも１としたものであるが、これは、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものの中で、最も分子内のＣＨが少ないものであるため、通信帯域や近赤外領域の光の吸収損失をさらに小さくすることができ、さらに低損失の高分子光導波路を製造することができるものである。
【００５４】
ここで、コア材料４には、ラジカル重合開始剤である光重合開始剤を配合するのが好ましい（請求項７の発明）。光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとベンゾフェノンとの共融混合物、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフェンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド等を用いることができる。これらの光重合開始剤のうち１種のものを単独で用いてもよいし、２種以上のものを混合して用いてもよい。
【００５５】
また、ラジカル重合開始剤としては、熱重合開始剤を用いてもよい。熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド、ジシソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等を用いることができる。ただ、ラジカル重合開始剤として熱重合開始剤を用いる場合には、コア材料４を硬化させるために熱を付与する必要があり、この熱によりクラッド基板３が膨張した状態でコア材料４が硬化することとなる。そうすると、コア材料４が硬化した後の冷却工程においてクラッド基板３とコア５との膨張率の違いによりクラッド基板３とコア５との界面に応力が発生し、この応力によりクラッド基板３とコア５との界面に剥離が発生するおそれがある。しかし、ラジカル重合開始剤として光重合開始剤を用いる場合には、コア材料４を硬化させるために熱を付与する必要はなく、紫外線等の光の照射により低温度でコア材料４を重合させて硬化させることが可能となる。そうすると、上記のような応力が発生しにくくなるので、クラッド基板３とコア５との界面に剥離が発生しにくくなり、また上記界面における残留応力が低減することによって、高分子光導波路の初期特性が維持されると共に環境負荷による特性低下を防止することが可能となるものである。よって、ラジカル重合開始剤としては、熱重合開始剤よりも光重合開始剤を用いるのが好ましい。
【００５６】
また、光重合開始剤としては、クラッド基板３を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解するものを用いるのが好ましい（請求項８の発明）。光重合開始剤を配合したコア材料４を用いる場合には、このコア材料４をクラッド基板３に形成されたコア溝２に充填した後に、上記コア材料４に紫外線等の光を照射して硬化させる必要がある。このとき、紫外線照射装置を用いて、図１（ｄ）に示すようにクラッド基板３を介してコア材料４に紫外線Ｌを照射すると、クラッド基板３を作製しているクラッド材料１は芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料であるため、紫外線Ｌの多くがクラッド基板３に吸収されることとなり、コア材料４の硬化に長時間を要したり、あるいはコア材料４の硬化が不十分となって、後工程における熱履歴や使用環境下での熱履歴によって硬化反応がさらに進行してコア５の硬化収縮が発生したりすることとなる。しかし上記のように、光重合開始剤として、クラッド基板３を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解するものを用いると、クラッド基板３に吸収される光の一部によって光重合開始剤が分解されるのではなく、当初からクラッド基板３を透過する光によって光重合開始剤を分解することができ、これによりコア材料４の硬化を速め、コア材料４の硬化に要する時間を短縮することができるものである。そしてこのようにしてコア材料４を十分に硬化させることができるため、後工程における熱履歴や使用環境下での熱履歴によってコア５の硬化収縮が発生するようなことがなくなり、高分子光導波路の特性変化を十分に抑えることが可能となるものである。
【００５７】
なお、例えば、クラッド材料１がポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂からなる材料である場合には、このクラッド材料１で作製されるクラッド基板３を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解する光重合開始剤としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のように、４００ｎｍ以上の波長の光で分解されるものを用いることができる。このような光重合開始剤を用いることによって、コア材料４の硬化を短時間で十分に行うことが可能となるものである。
【００５８】
また、光重合開始剤等のラジカル重合開始剤の配合量は、コア材料４全量に対して０．１〜５重量％の範囲であることが好ましい。上記配合量が０．１重量％未満であると、コア材料４を重合させて硬化させるのに長時間を要するおそれがある。逆に、上記配合量が５重量％を超えると、コア材料４が硬化するときにヒビが発生したり割れたりするおそれがあり、また、コア材料４の硬化収縮により部分的にクラッド基板３とコア５との界面に剥離が発生するおそれがある。
【００５９】
コア材料４は、既述の１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものとを混合した後に、必要に応じてラジカル重合開始剤を添加して混合することによって、調製することができる。
【００６０】
そして、高分子光導波路を製造するにあたっては、基本的には、以下のようにして行うことができる。
【００６１】
まず、既述のエンボス加工等によって、コア溝２が形成されたクラッド基板３を作製する。次に、クラッド基板３のコア溝２が形成された側の面にコア材料４を滴下するなどして塗布することによって、コア溝２にコア材料４を充填する。次に、この面にクラッド材料１等で作製されたフィルムを被せ、このフィルムをクラッド基板３に向けてプレスした後に、コア溝２に充填されたコア材料４を硬化させて、このコア材料４でコア５を形成することによって、高分子光導波路を製造することができるものである。
【００６２】
また、以下のような製造方法を採用してもよい。すなわち、上記と同様に既述のエンボス加工等によって、コア溝２が形成されたクラッド基板３を作製する。次に、クラッド基板３のコア溝２が形成された側の面にコア材料４を滴下するなどして塗布することによって、コア溝２にコア材料４を充填する。そしてコア溝２に充填されていない余分なコア材料４を除去した後に、まずコア材料４を硬化させてコア５を形成し、次いで、クラッド基板３においてコア５を形成した側の面に、クラッド基板３と略同一の屈折率を有する材料（例えば、光硬化性材料、熱硬化性材料等）を滴下するなどして塗布し、これを硬化させることによって、高分子光導波路を製造することができるものである。
【００６３】
なお、クラッド基板３の作製、コア材料４の調製、高分子光導波路の製造においては、特にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の溶剤を使用する必要がないので、環境負荷を低減することができるものである。
【００６４】
ここで、クラッド基板３へのコア材料４の塗布は、クラッド基板３とコア材料４のいずれか一方又は両方を所定温度に加熱した状態で行うのが好ましい（請求項９の発明）。これは、コア５の形状が小さいシングルモードの高分子光導波路を製造する場合に特に有効である。すなわち、シングルモードの高分子光導波路におけるコア５の形状は通常、数μｍであり、非常に微細なものであるため、このようなコア５が形成されるコア溝２も非常に微細なものとなり、コア溝２へのコア材料４の充填性を高く得ることが課題となる。しかし、コア材料４の配合によっては粘度が高くなり、コア溝２への充填が困難となることがある。また、コア材料４をコア溝２へ充填する過程において気泡を巻き込むおそれがあり、この気泡を除去する必要が生じる。このような問題を解消するには、上述のとおり、クラッド基板３とコア材料４のいずれか一方又は両方を所定温度に加熱した状態でクラッド基板３にコア材料４を塗布すればよく、加熱によりコア材料４の粘度が低下することによって、容易かつ短時間にコア材料４をコア溝２に充填することができ、充填時にコア材料４が気泡を巻き込みにくくなると共に、高分子光導波路の製造に要する時間も短縮化することができるものである。
【００６５】
なお、クラッド基板３やコア材料４を加熱するときの温度の上限は、例えば、クラッド基板３に形成したコア溝２の形状を維持することができる温度あるいはコア材料４に配合された成分が揮発し、コア材料４が硬化したときの屈折率変化が所定範囲となる温度のうち、どちらか低い方の温度に設定することができる。ただし、加熱温度は、充填の途中でコア材料４が硬化しない温度である必要がある。また、クラッド基板３やコア材料４（光重合開始剤を配合したもの）を加熱した状態で、紫外線Ｌ等の光を照射してコア材料４を硬化させることもできるが、コア材料４の硬化後、冷却する際にコア５とクラッド基板３との界面に剥離や残留応力が発生するおそれがあるため、紫外線Ｌ等の光を照射するのは、コア材料４をクラッド基板３のコア溝２に充填した後、一旦冷却して常温に戻してから行うのが望ましい。
【００６６】
また、クラッド基板３にコア材料４を塗布した後に、これを１００Ｐａ程度の減圧雰囲気下に置くなどして、脱泡するのが好ましい（請求項１０の発明）。このようにすると、コア溝２へのコア材料４の充填をより短時間で行うことができると共に、コア材料４の内部の微細な気泡をも除去することができ、光の散乱損失を低減することが可能となる。なお、クラッド基板３とコア材料４のいずれか一方又は両方を加熱しながら脱泡するようにすると、高分子光導波路を製造するのに要する時間をより短縮化することができる。
【００６７】
また、光重合開始剤を配合したコア材料４を用いて高分子光導波路を製造するにあたっては、以下のようにして行うことができる。まず、既述のエンボス加工等によって、図１（ａ）に示すようなコア溝２が形成されたクラッド基板３を作製する。次に、図１（ｂ）に示すように、クラッド基板３のコア溝２が形成された側の面にコア材料４を滴下するなどして塗布することによって、コア溝２にコア材料４を充填する。次に、図１（ｃ）に示すように、クラッド基板３においてコア材料４を塗布した側の面に、クラッド基板３と略同一の屈折率を有するフィルム又はクラッド材料１で作製されたフィルム６を被せ、このフィルム６をプレス治具７によってクラッド基板３に押圧することによって、余分なコア材料４をクラッド基板３とフィルム６との間から排除する。そして紫外線照射装置を用いて、図１（ｄ）に示すようにクラッド基板３（又はフィルム６）を介してコア溝２に充填されたコア材料４に紫外線Ｌを照射し、コア材料４を硬化させてこのコア材料４でコア５を形成することによって、高分子光導波路を製造することができるものである。
【００６８】
なお、クラッド基板３にコア材料４を塗布し、コア溝２に充填されていない余分なコア材料４を除去した後に、紫外線Ｌを照射することによって、まずコア材料４を硬化させてコア５を形成し、次いで、クラッド基板３においてコア５を形成した側の面に、クラッド基板３と略同一の屈折率を有する光硬化性材料を塗布し、これを紫外線Ｌにより硬化させることによって、高分子光導波路を製造してもよい。
【００６９】
また、熱重合開始剤を配合したコア材料４を用いて高分子光導波路を製造するにあたっては、以下のようにして行うことができる。まず、既述のエンボス加工等によって、図１（ａ）に示すようなコア溝２が形成されたクラッド基板３を作製する。次に、図１（ｂ）に示すように、クラッド基板３のコア溝２が形成された側の面にコア材料４を滴下するなどして塗布することによって、コア溝２にコア材料４を充填する。次に、図１（ｃ）に示すように、クラッド基板３においてコア材料４を塗布した側の面に、クラッド基板３と略同一の屈折率を有するフィルム又はクラッド材料１で作製されたフィルム６を被せ、このフィルム６をプレス治具７によってクラッド基板３に押圧することによって、余分なコア材料４をクラッド基板とフィルムとの間から排除する。そしてこの状態でコア材料４が硬化する温度まで加熱し、コア材料４を硬化させてこのコア材料４でコア５を形成することによって、高分子光導波路を製造することができるものである。
【００７０】
なお、クラッド基板３にコア材料４を塗布し、コア溝２に充填されていない余分なコア材料４を除去した後に、加熱することによって、まずコア材料４を硬化させてコア５を形成し、次いで、クラッド基板３においてコア５を形成した側の面に、クラッド基板３と略同一の屈折率を有する光硬化性材料又は熱硬化性材料を塗布し、これを紫外線照射により又は加熱することにより硬化させることによって、高分子光導波路を製造してもよい。
【００７１】
そして既述の方法を用いて、シングルモードやマルチモードの高分子光導波路（請求項１１、１２の発明）を製造することができる。すなわち、クラッド基板３を作製する際に、シングルモードに対応する形状（例えば、１０×１０μｍ）を有するコア溝２を形成しておき、このコア溝２にコア材料４を充填してこれを硬化させることによって、シングルモードに対応する形状を有するコア５が形成された高分子光導波路を製造することができるものである。一方、クラッド基板３を作製する際に、マルチモードに対応する形状（例えば、５０×５０μｍ）を有するコア溝２を形成しておき、このコア溝２にコア材料４を充填してこれを硬化させることによって、マルチモードに対応する形状を有するコア５が形成された高分子光導波路を製造することができるものである。
【００７２】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００７３】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂からなる材料を用いた。
【００７４】
また、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものとして、Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートを用いると共に、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレート（２官能、脂肪族）、Ｃ：ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレート（２官能、芳香族）、Ｄ：ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性アクリレート（単官能、芳香族）、Ｅ：ビス［（２−メタクリロイルチオ）エチル］スルフィド（２官能、チオエーテル類）、Ｆ：フェニルチオメタクリレート（単官能、チオエーテル類）を用いた。そしてこれらのものを表１に示す配合割合で配合することによって、７種類のコア材料を調製した。このようにして得たコア材料の屈折率はいずれも硬化後においてクラッド基板の屈折率より０．００５高い。以下においてさらに詳細に説明する。
【００７５】
（実施例１）
請求項１、３、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【００７６】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレートをそれぞれ６７．６ｗｔ％、３２．４ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【００７７】
吸収損失は、以下のようにして測定した。まずコア材料に紫外線を照射することによって、厚み（光路長）の異なる成形品を成形した。次に各成形品に波長１３１０ｎｍ、１５５０ｎｍの近赤外領域の光を透過させ、各光の透過率を分光光度計を用いて測定した。そして、上記の厚みと透過率の関係より傾きを計算し、この傾きを吸収損失とした。結果は１３１０ｎｍで０．１８ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍで０．５８ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【００７８】
また粘度は、上記のコア材料の溶液から光重合開始剤を除いたものを対象とし、Ｅ型粘度計を用いて２５℃の雰囲気において測定した。結果は５００ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【００７９】
また線膨張係数は、コア材料に紫外線を照射することによって成形した成形品を対象とし、ＴＭＡを用いて３０〜８５℃における値として測定した。結果は７２×１０^−６／℃であった。
【００８０】
また収縮率は、体積既知の容器に硬化前のコア材料を充填し、これに紫外線を照射してコア材料を硬化させ、硬化後のコア材料の体積を水中置換法によって測定し、硬化前後の体積より計算することによって測定した。結果は９ｖｏｌ％であった。クラッド材料がポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）である場合に使用される従来のコア材料（エチレングリコールジメタクリレートとテトラフルオロメタクリレートを９：１の重量比で配合したもの）の収縮率が２０ｖｏｌ％であるから、本実施例のコア材料は従来のコア材料に比べて硬化収縮を半分以下に抑えられることが判明した。
【００８１】
また密着性は、碁盤目テープ剥離試験（ＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠）を行うことによって測定した。すなわち、まず既述のクラッド材料（ポリカーボネート樹脂からなる材料）を用いてクラッド基板を作製し、次にこのクラッド基板の表面にコア材料の溶液を塗布して、これに紫外線を照射することにより、厚み２０μｍ程度のコア材料の硬化被膜を形成した。そして、この硬化被膜に碁盤目状に切れ目を入れ、テープを張り付けた後に剥がして、硬化被膜が剥離するか否かを観察した。結果は良好であった。
【００８２】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【００８３】
（実施例２）
請求項１、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【００８４】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｃ：ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレートをそれぞれ４１ｗｔ％、５９ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｃに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、実施例１と同様にして、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【００８５】
吸収損失は１３１０ｎｍで０．２１ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍでは０．６６ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【００８６】
また粘度は１０００ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【００８７】
また線膨張係数は１００×１０^−６／℃であった。
【００８８】
また収縮率は８ｖｏｌ％であり、本実施例のコア材料も従来のコア材料に比べて硬化収縮を半分以下に抑えられることが判明した。
【００８９】
また密着性は良好であった。
【００９０】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【００９１】
（実施例３）
請求項１、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【００９２】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｄ：ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性アクリレートをそれぞれ５５．５ｗｔ％、４４．５ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｄに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、実施例１と同様にして、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【００９３】
吸収損失は１３１０ｎｍで０．２０ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍで０．５８ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【００９４】
また粘度の結果は３００ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【００９５】
また線膨張係数は１７０×１０^−６／℃であった。
【００９６】
また収縮率は１２ｖｏｌ％であり、本実施例のコア材料は従来のコア材料に比べて硬化収縮を約半分に抑えられることが判明した。
【００９７】
また密着性は良好であった。
【００９８】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【００９９】
（実施例４）
請求項１、３、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１００】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレート、Ｃ：ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性ジアクリレートをそれぞれ５８．２ｗｔ％、２０．９ｗｔ％、２０．９ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂ＋Ｃに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、実施例１と同様にして、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【０１０１】
吸収損失は、１３１０ｎｍで０．１７ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍで０．５７ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【０１０２】
また粘度は７００ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【０１０３】
また線膨張係数は７８×１０^−６／℃であった。
【０１０４】
また収縮率は９ｖｏｌ％であり、本実施例のコア材料も従来のコア材料に比べて硬化収縮を半分以下に抑えられることが判明した。
【０１０５】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【０１０６】
また密着性は良好であった。
【０１０７】
（実施例５）
請求項１、３、４〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１０８】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレート、Ｅ：ビス［（２−メタクリロイルチオ）エチル］スルフィドをそれぞれ３３ｗｔ％、３４ｗｔ％、３３ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂ＋Ｅに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、実施例１と同様にして、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【０１０９】
吸収損失は１３１０ｎｍで０．１４ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍで０．６５ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【０１１０】
また粘度は１００ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【０１１１】
また線膨張係数は７０×１０^−６／℃であった。
【０１１２】
また収縮率は１０ｖｏｌ％であり、本実施例のコア材料は従来のコア材料に比べて硬化収縮を約半分に抑えられることが判明した。
【０１１３】
また密着性は良好であった。
【０１１４】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【０１１５】
（実施例６）
請求項１〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１１６】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレート、Ｆ：フェニルチオメタクリレートをそれぞれ３３ｗｔ％、３４ｗｔ％、３３ｗｔ％の比率でビーカーに混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂ＋Ｆに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、実施例１と同様にして、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【０１１７】
吸収損失は１３１０ｎｍで０．１７ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍで０．５６ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【０１１８】
また粘度は７５ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【０１１９】
また線膨張係数は７５×１０^−６／℃であった。
【０１２０】
また収縮率は９ｖｏｌ％であり、本実施例のコア材料は従来のコア材料に比べて硬化収縮を約半分に抑えられることが判明した。
【０１２１】
また密着性は良好であった。
【０１２２】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【０１２３】
（実施例７）
請求項１〜３、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１２４】
Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレート、Ｄ：ビスフェノールＦエチレンオキサイド変性アクリレートをそれぞれ６０ｗｔ％、１１．６ｗｔ％、２８．４ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂ＋Ｄに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。そして、このようにして得たコア材料について、実施例１と同様にして、吸収損失（伝播損失）、粘度、線膨張係数、収縮率、密着性を測定した。
【０１２５】
吸収損失は１３１０ｎｍで０．２０ｄＢ／ｃｍ、１５５０ｎｍで０．６０ｄＢ／ｃｍであり、高分子光導波路の製造に使用するのに十分な特性であった。
【０１２６】
また粘度は２００ｍＰａ・ｓであり、コア溝へ充填するのに十分な特性であった。
【０１２７】
また線膨張係数は８５×１０^−６／℃であった。
【０１２８】
また収縮率は１０ｖｏｌ％であり、本実施例のコア材料は従来のコア材料に比べて硬化収縮を約半分に抑えられることが判明した。
【０１２９】
また密着性は良好であった。
【０１３０】
そして、上記のクラッド材料を用いてエンボス加工により、コア溝が形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝に上記のコア材料を充填してコアを形成すると、低損失の高分子光導波路を製造することができた。
【０１３１】
【表１】

【０１３２】
次に、実施例１におけるクラッド材料（ポリカーボネート樹脂からなる材料）の吸収損失（伝播損失）を以下のようにして測定した。まず上記のクラッド材料を用いて、厚み（光路長）の異なる成形品を成形した。次に各成形品に波長１３１０ｎｍ、１５５０ｎｍの近赤外領域の光を透過させ、各光の透過率を分光光度計を用いて測定した。そして、上記の厚みと透過率の関係より傾きを計算し、この傾きを吸収損失とした。結果を表２に示す。
【０１３３】
（実施例８）
請求項１、３、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１３４】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリアリレート樹脂からなる材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、高分子光導波路を製造した。そして、本実施例におけるクラッド材料の吸収損失（伝播損失）を実施例１と同様に測定した。結果を表２に示す。
【０１３５】
（実施例９）
請求項１、３、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１３６】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリエステル樹脂（フルオレン構造を有するタイプのもの）からなる材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、高分子光導波路を製造した。そして、本実施例におけるクラッド材料の吸収損失（伝播損失）を実施例１と同様に測定した。結果を表２に示す。
【０１３７】
（比較例）
クラッド材料として、芳香族を含まない熱可塑性樹脂であるポリメチルメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ）からなる材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、高分子光導波路を製造した。そして、本比較例におけるクラッド材料の吸収損失（伝播損失）を実施例１と同様に測定した。結果を表２に示す。
【０１３８】
【表２】

【０１３９】
表２にみられるように、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いた実施例１、８、９は、芳香族を含まない熱可塑性樹脂からなる材料を用いた比較例に比べて、波長１５５０ｎｍの光についての吸収損失が特に小さいことが確認される。
【０１４０】
（実施例１０）
請求項１、３、５〜７の発明に対応する実施例を示す。
【０１４１】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂からなる材料を用いて、エンボス加工により、コア溝が形成された厚み２ｍｍのクラッド基板を作製した。
【０１４２】
また、Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレートをそれぞれ６８ｗｔ％、３２ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを上記Ａ＋Ｂに対して３ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。
【０１４３】
そして、クラッド基板のコア溝が形成された側の面にコア材料の溶液を塗布した後に、上記と反対側の面から７ｍＷ／ｃｍ^２の強度の紫外線を照射するようにして、紫外線の照射時間とコア材料の重合度との関係を調べた。ここで、紫外線の強度はウシオ電機（株）製の紫外線強度測定器を用いて測定し、コア材料の重合度はＦＴ−ＩＲを用いてＣ＝Ｃの二重結合の吸収ピークの変化より求めた。その結果、紫外線を３０分間照射した後のコア材料の重合度は６５％であった。
【０１４４】
（実施例１１）
請求項１、３、５〜８の発明に対応する実施例を示す。
【０１４５】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂からなる材料を用いて、エンボス加工により、コア溝が形成された厚み２ｍｍのクラッド基板を作製した。
【０１４６】
また、Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレートをそれぞれ６８ｗｔ％、３２ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。
【０１４７】
そして、クラッド基板のコア溝が形成された側の面にコア材料の溶液を塗布した後に、上記と反対側の面から７ｍＷ／ｃｍ^２の強度の紫外線を照射するようにして、紫外線の照射時間とコア材料の重合度との関係を調べた。ここで、紫外線の強度は実施例９と同様にして測定し、コア材料の重合度も実施例９と同様にして求めた。その結果、紫外線を５分間照射した後のコア材料の重合度は８０％であった。
【０１４８】
なお、実施例１０、１１においてクラッド基板を作製するのに用いたポリカーボネート樹脂の紫外線透過率を分光光度計で測定した結果、波長３６５ｎｍ、４０５ｎｍにおいて透過率はそれぞれ５％、８０％であった。
【０１４９】
また、実施例１０において光重合開始剤として用いた２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの吸光係数を測定すると、波長３６５ｎｍにおいて７４ｍｌ／ｇｃｍ（メタノール溶液）、波長４０５ｎｍにおいて吸収はほとんどなかった。
【０１５０】
また、実施例１１において光重合開始剤として用いた２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１の吸光係数を測定すると、波長３６５ｎｍにおいて７９００ｍｌ／ｇｃｍ（メタノール溶液）、波長４０５ｎｍにおいて９３ｍｌ／ｇｃｍ（メタノール溶液）であった。
【０１５１】
既述のように、実施例１０においては紫外線を３０分間照射した後のコア材料の重合度は６５％であるのに対し、実施例１１においては紫外線を５分間照射した後のコア材料の重合度は８０％であることから、光重合開始剤として、クラッド基板を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解するものを用いた実施例１１の方が、実施例１０よりも、高分子光導波路の製造に要する時間を短縮できることが確認される。
【０１５２】
（実施例１２）
請求項１、３、５〜１１の発明に対応する実施例を示す。
【０１５３】
本実施例においてはシングルモードの高分子光導波路を以下のようにして製造した。
【０１５４】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂からなる材料を用いた。
【０１５５】
また、Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレートをそれぞれ６８ｗｔ％、３２ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。このコア材料の屈折率をプリズムカップリング法により測定すると、波長１３１０ｎｍで１．５６８、波長１５５０ｎｍで１．５６６であった。
【０１５６】
まず、断面の大きさが６μｍ×６μｍのコアパターンが表面に形成された金型を加熱し、あらかじめ平板状に成形しておいたクラッド材料の表面に上記の金型を押し付けることによって、上記のコアパターンの形状に対応するコア溝が転写により形成されたクラッド基板を作製した。このクラッド基板の屈折率をプリズムカップリング法により測定すると、波長１３１０ｎｍで１．５６３、波長１５５０ｎｍで１．５６１であった。
【０１５７】
次に、クラッド基板のコア溝が形成された側の面にコア材料を滴下し、１００Ｐａ程度の減圧雰囲気下において、温度６０℃に加熱して脱泡を行うことによってコア溝にコア材料を充填した後、常温まで冷却した。
【０１５８】
そして、クラッド基板のコア材料を充填した側の面に厚み１００μｍのポリカーボネート樹脂製フィルムを配置し、このフィルムをクラッド基板に押圧しながら上記と反対側の面から波長４０５ｎｍ、強度１０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を紫外線照射装置により照射してコアを形成することによって、シングルモードの高分子光導波路を製造した。このようにして得たシングルモードの高分子光導波路の吸収損失は波長１３１０ｎｍで０．３ｄＢ／ｃｍ、波長１５５０ｎｍで０．６ｄＢ／ｃｍであった。
【０１５９】
（実施例１３）
請求項１、３、４〜１０、１２の発明に対応する実施例を示す。
【０１６０】
本実施例においてはマルチモードの高分子光導波路を以下のようにして製造した。
【０１６１】
クラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂からなる材料を用いた。
【０１６２】
また、Ａ：ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、Ｂ：エチレングリコールジメタクリレート、Ｅ：ビス［（２−メタクリロイルチオ）エチル］スルフィドをそれぞれ６０．３ｗｔ％、１３．９ｗｔ％、２５．８ｗｔ％の比率でビーカーに採取し、これを混合した後に、光重合開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１を上記Ａ＋Ｂ＋Ｅに対して１ｗｔ％配合することによって、コア材料の溶液を調製した。このコア材料の屈折率をプリズムカップリング法（測定装置：メトリコン社製モデル２０１０屈折率測定装置）により測定すると、波長８５０ｎｍで１．６００であった。
【０１６３】
まず、断面の大きさが６５μｍ×６５μｍのコアパターンが表面に形成された金型を加熱し、あらかじめ平板状に成形しておいたクラッド材料の表面に上記の金型を押し付けることによって、上記のコアパターンの形状に対応するコア溝が転写により形成されたクラッド基板を作製した。このクラッド基板の屈折率をプリズムカップリング法により測定すると、波長８５０ｎｍで１．５７３であった。
【０１６４】
次に、クラッド基板のコア溝が形成された側の面にコア材料を滴下し、１００Ｐａ程度の減圧雰囲気下において、温度６０℃に加熱して脱泡を行うことによってコア溝にコア材料を充填した後、常温まで冷却した。
【０１６５】
そして、クラッド基板のコア材料を充填した側と反対側の面から紫外線を数秒間照射することによってコア材料を半硬化させた後、クラッド基板のコア材料を充填した側の面に厚み１００μｍのポリカーボネート樹脂製フィルムを配置し、このフィルムをクラッド基板に押圧しながらクラッド基板のコア材料を充填した側と反対側の面から波長４０５ｎｍ、強度１０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を紫外線照射装置により照射してコアを形成することによって、マルチモードの高分子光導波路を製造した。このようにして得たマルチモードの高分子光導波路の吸収損失は波長８５０ｎｍで０．１ｄＢ／ｃｍであった。
【０１６６】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項１に係る高分子光導波路は、クラッド基板に形成されたコア溝にコア材料を充填してコアを形成することによって製造される高分子光導波路において、クラッド基板を作製するためのクラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いるので、光通信に使用される領域（通信帯域）や近赤外領域における光の吸収損失が小さいクラッド基板を作製することができ、このクラッド基板を用いることによって、低損失の高分子光導波路を製造することができるものである。また、コア材料として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものとからなる材料を用いるので、以下のような効果を得ることができる。すなわち、クラッド基板に形成されたコア溝への充填性を高く得ることができ、コア溝に形成されたコアの内部に気泡が残りにくくなり、不良品の発生を低減することができる。また、コアの光学異方性を小さくすることができる。また、コアの耐熱性を高めることができる。また、通信帯域や近赤外領域の光の吸収損失を小さくすることができる。また、コア材料の熱硬化時の収縮率を小さくすることができ、これにより硬化後のコア材料はコアパターンの形状に対応するコアを正確に形成することができる。また、コアの線膨張係数を小さくすることができ、これにより高分子光導波路の使用時において熱負荷がかかっても、コアとクラッド基板との膨張差が小さいためこれらの界面に剥離が発生せず、信頼性を高めることができる。また、コア材料の浸透性を小さくすることができ、コア材料をクラッド基板に形成されたコア溝に充填する際に、クラッド材料（芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料）がコア材料によって溶解されにくく、初期に設計したコアの形状とほぼ同一のコアを形成することができ、コアに光を十分に閉じ込め、低損失の高分子光導波路を製造することができる。また、コア材料と芳香族を含む熱可塑性樹脂との接着性を高めることができ、高分子光導波路の長期安定性を高く得ることができる。
【０１６７】
また請求項２の発明は、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を少なくとも２個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を１個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものとを併用するので、屈折率を容易に調整することができると共に、コア材料の低粘度化を図ることができるものである。そしてコア材料の粘度が低下すると、クラッド基板に形成されたコア溝にコア材料を充填する作業を簡便に行うことができると共に、気泡の巻き込みがさらに抑制され、コア材料のコア溝への充填性をさらに高く得ることができるものである。
【０１６８】
また請求項３の発明は、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、脂肪族メタクリレート系化合物及び脂肪族アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いるので、芳香族メタクリレート系化合物及び芳香族アクリレート系化合物のみを用いる場合よりも、コア材料の低粘度化を図ることができると共に、コアとクラッド基板との線膨張係数の差を小さくすることができるものである。そして上記のようにコア材料の粘度が低下すると、クラッド基板に形成されたコア溝にコア材料を充填する際に気泡の巻き込みがさらに抑制され、コア材料のコア溝への充填性をさらに高く得ることができるものであり、また、コアとクラッド基板との線膨張係数の差が小さくなると、高分子光導波路を高温下に放置してもコアとクラッド基板との界面に剥離が発生しにくくなり、低損失を長期にわたって維持することができ、信頼性を向上させることができるものである。
【０１６９】
また請求項４の発明は、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、さらに、チオエーテル類メタクリレート系化合物及びチオエーテル類アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いるので、脂肪族のもののみを用いる場合よりも、コア材料の低粘度化を図ることができ、クラッド基板に形成されたコア溝にコア材料を充填する際に気泡の巻き込みがさらに抑制され、コア材料のコア溝への充填性をさらに高く得ることができるものである。
【０１７０】
また請求項５の発明は、上記一般式［化１］（［化３］）で表されるものとして、上記一般式［化２］（［化４］）で表されるビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートを用いるので、通信帯域や近赤外領域の光の吸収損失をさらに小さくすることができ、さらに低損失の高分子光導波路を製造することができるものである。
【０１７１】
また請求項６の発明は、芳香族を含む熱可塑性樹脂として、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂から選ばれるものを用いるので、これらの樹脂以外の樹脂からなる材料をクラッド材料として用いるよりも、吸収損失が小さいクラッド基板を作製することができ、低損失の高分子光導波路を製造することができるものである。
【０１７２】
また請求項７の発明は、コア材料にラジカル重合開始剤である光重合開始剤を配合するので、コア材料を硬化させるために熱を付与する必要はなく、紫外線等の光の照射により低温度でコア材料を重合させて硬化させることが可能となる。そうすると、クラッド基板とコアとの界面に応力が発生しにくくなるので、クラッド基板とコアとの界面に剥離が発生しにくくなり、また上記界面における残留応力が低減することによって、高分子光導波路の初期特性が維持されると共に環境負荷による特性低下を防止することが可能となるものである。
【０１７３】
また請求項８の発明は、光重合開始剤として、クラッド基板を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解するものを用いるので、クラッド基板を透過する光によって光重合開始剤を分解することができ、これによりコア材料の硬化を速め、コア材料の硬化に要する時間を短縮することができるものである。そしてこのようにしてコア材料を十分に硬化させることができるため、後工程における熱履歴や使用環境下での熱履歴によってコアの硬化収縮が発生するようなことがなくなり、高分子光導波路の特性変化を十分に抑えることが可能となるものである。
【０１７４】
本発明の請求項９に係る高分子光導波路の製造方法は、光導波路のコアパターンが表面に形成された金型をクラッド材料に押し付けることによって、コアパターンの形状に対応するコア溝が転写により形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝にコア材料を充填してコアを形成することによって高分子光導波路を製造する方法において、クラッド材料及びコア材料としてそれぞれ請求項１乃至８のいずれかに記載のクラッド材料及びコア材料を用いると共に、クラッド基板とコア材料のいずれか一方又は両方を加熱した状態でクラッド基板にコア材料を塗布するので、加熱によりコア材料の粘度が低下することによって、容易かつ短時間にコア材料をコア溝に充填することができ、充填時にコア材料が気泡を巻き込みにくくなると共に、高分子光導波路の製造に要する時間も短縮化することができるものである。
【０１７５】
また請求項１０の発明は、クラッド基板にコア材料を塗布した後に脱泡するので、コア溝へのコア材料の充填をより短時間で行うことができると共に、コア材料の内部の微細な気泡をも除去することができ、光の散乱損失を低減することが可能となる。
【０１７６】
また請求項１１の発明は、コアの形状がシングルモードに対応する形状であるので、量産性に優れ、低コストであり、各種特性に優れたシングルモードの高分子光導波路を製造することができるものである。
【０１７７】
また請求項１２の発明は、コアの形状がマルチモードに対応する形状であるので、量産性に優れ、低コストであり、各種特性に優れたマルチモードの高分子光導波路を製造することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、（ａ）〜（ｄ）は断面図である。
【図２】高分子光導波路の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１ クラッド材料
２ コア溝
３ クラッド基板
４ コア材料
５ コア

Claims (12)

1. クラッド基板に形成されたコア溝にコア材料を充填してコアを形成することによって製造される高分子光導波路において、クラッド基板を作製するためのクラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いると共に、コア材料として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと下記一般式［化１］で表されるものとからなる材料を用いることを特徴とする高分子光導波路。
   

   
2. １分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を少なくとも２個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものと、１分子内にラジカル重合可能な二重結合を１個有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものとを併用することを特徴とする請求項１に記載の高分子光導波路。
3. １分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、脂肪族メタクリレート系化合物及び脂肪族アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の高分子光導波路。
4. １分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物として、さらに、チオエーテル類メタクリレート系化合物及びチオエーテル類アクリレート系化合物のうち少なくとも１種類のものを用いることを特徴とする請求項３に記載の高分子光導波路。
5. 上記一般式［化１］で表されるものとして、下記一般式［化２］で表されるビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートを用いることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の高分子光導波路。
   

   
6. 芳香族を含む熱可塑性樹脂として、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂から選ばれるものを用いることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の高分子光導波路。
7. コア材料にラジカル重合開始剤である光重合開始剤を配合することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の高分子光導波路。
8. 光重合開始剤として、クラッド基板を透過する光の波長以上の波長を有する光により分解するものを用いることを特徴とする請求項７に記載の高分子光導波路。
9. 光導波路のコアパターンが表面に形成された金型をクラッド材料に押し付けることによって、コアパターンの形状に対応するコア溝が転写により形成されたクラッド基板を作製し、このクラッド基板のコア溝にコア材料を充填してコアを形成することによって高分子光導波路を製造する方法において、クラッド材料及びコア材料としてそれぞれ請求項１乃至８のいずれかに記載のクラッド材料及びコア材料を用いると共に、クラッド基板とコア材料のいずれか一方又は両方を加熱した状態でクラッド基板にコア材料を塗布することによって、クラッド基板のコア溝にコア材料を充填することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
10. クラッド基板にコア材料を塗布した後に脱泡することを特徴とする請求項９に記載の高分子光導波路の製造方法。
11. コアの形状がシングルモードに対応する形状であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の高分子光導波路。
12. コアの形状がマルチモードに対応する形状であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の高分子光導波路。

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