JP2004266264A5

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Publication number: JP2004266264A5
Application number: JP2004011791A
Authority: JP
Filing date: 2004-01-20
Publication date: 2007-03-08

Claims

複数の光学素子を有する光学系であって、
基準ミラーと、
前記複数の光学素子のうち第１の光学素子の、前記基準ミラーに対する相対的な位置を測定する第１の計測装置と、
前記複数の光学素子のうち第２の光学素子の、前記基準ミラーに対する相対的な位置を測定する第２の計測装置と、
前記第１の計測装置と前記第２の計測装置との計測結果に基づいて、前記第１の光学素子と前記第２の光学素子との相対的な位置関係が、予め記憶された位置関係になるように前記第１の光学素子と前記第２の光学素子との少なくとも一方を駆動する駆動機構とを有することを特徴とする光学系。
前記第１の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第１のターゲットミラーと、
前記第２の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第２のターゲットミラーとを有し、
前記第１の計測装置及び前記第２の計測装置は、前記第１のターゲットミラー及び前記第２のターゲットミラーの３自由度以上の位置情報をそれぞれ計測することが可能であることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
前記３自由度のうち、２自由度が位置を表す座標軸に関する自由度で、残りの１自由度が回転を表す座標軸に関する自由度であることを特徴とする請求項２に記載の光学系。
前記第１の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第１のターゲットミラーと、
前記第２の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第２のターゲットミラーとを有し、
前記第１の計測装置及び前記第２の計測装置は、前記第１のターゲットミラー及び前記第２のターゲットミラーの５自由度以上の位置情報をそれぞれ計測することが可能であることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
前記５自由度のうち、２自由度が位置を表す座標軸に関する自由度で、残りの３自由度が回転を表す座標軸に関する自由度であることを特徴とする請求項４に記載の光学系。
前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子を支持する鏡筒を有しており、前記基準ミラーは前記鏡筒の外側に設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学系。
前記基準ミラーは、低熱膨張部材に反射膜を付けて平面ミラー加工された部材であることを特徴とする請求項６に記載の光学系。
前記第１の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第１のターゲットミラーと、
前記第２の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第２のターゲットミラーとを有し、
前記第１の計測装置及び前記第２の計測装置は、前記基準ミラーと前記第１のターゲットミラーとの距離及び前記基準ミラーと前記第２のターゲットミラーとの距離をそれぞれ測定する計測装置であって、それぞれが多波長レーザーを用いた干渉計装置であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学系。
前記第１の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第１のターゲットミラーと、
前記第２の光学素子に対する相対的な位置が実質的に変化しないように配置された第２のターゲットミラーとを有し、
前記第１の計測装置及び前記第２の計測装置は、前記基準ミラーと前記第１のターゲットミラーとの距離及び前記基準ミラーと前記第１のターゲットミラーとの距離をそれぞれ測定する単波長レーザーを用いた干渉計装置であって、それぞれが、前記光学系を構成する光学素子には前記単波長レーザーの半波長以下の精度で位置保証をする変位センサーを有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学系。
前記光学系が有する第１の光学素子及び第２の光学素子の相対位置を前記基準ミラーと各光学素子との距離に置き換えて記憶する記憶手段を有しており、前記駆動装置が、前記記憶手段に記憶された情報に基づいて前記各光学素子を駆動することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学系。
前記記憶手段は、予め調整された前記各光学素子間の相対位置を前記基準ミラーと各光学素子との距離に置き換えて記憶していることを特徴とする請求項１０に記載の光学系。
前記複数の光学素子のうち第３の光学素子の、前記基準ミラーに対する相対的な位置を測定する第３の計測装置と、
前記複数の光学素子のうち第４の光学素子の、前記基準ミラーに対する相対的な位置を測定する第４の計測装置と、
前記複数の光学素子のうち第５の光学素子の、前記基準ミラーに対する相対的な位置を測定する第５の計測装置と、
前記複数の光学素子のうち第６の光学素子の、前記基準ミラーに対する相対的な位置を測定する第６の計測装置と、
前記第１乃至６の計測装置の計測結果に基づいて、前記第１乃至６の光学素子の相対的な位置関係が予め記憶された位置関係になるように、前記第１乃至６の光学素子のうち少なくとも５つの光学素子を駆動する駆動機構とを有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の光学系。
前記光学素子はすべて反射部材であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光学系。
前記複数の光学素子の相対的な位置関係値を記憶する記憶手段を有しており、
前記駆動機構が、前記複数の計測装置による計測結果と、前記記憶手段に記憶している位置関係値とに基づいて、前記複数の光学素子のうち少なくとも１つを駆動することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれかに記載の光学系。
請求項１乃至１４いずれか１項に記載の光学系を有する露光装置。
光源からの光でパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を被露光体に投影する、請求項１乃至１４いずれかに記載の光学系とを有することを特徴とする露光装置。
前記複数の光学素子を保持する鏡筒と、該鏡筒を支持する鏡筒定盤とを有しており、前記基準ミラーは、前記鏡筒とは別体で前記鏡筒定盤の上に載置されていることを特徴とする請求項１５又は１６記載の露光装置。
前記複数の光学素子を保持する鏡筒と、該鏡筒を支持する鏡筒定盤と、前記鏡筒定盤と床との間に配置され、前記床から前記鏡筒定盤に伝播する振動を低減する第１除振機構とを有していることを特徴とする請求項１５乃至１７いずれかに記載の露光装置。
前記複数の光学素子を保持する鏡筒と、該鏡筒を支持する鏡筒定盤と、前記鏡筒定盤と床との間に配置され、前記床から前記鏡筒定盤に伝播する振動を低減する第１除振機構と、前記基準ミラーを支持するミラー定盤と、前記ミラー定盤と前記床との間に配置され、前記床から前記ミラー定盤に伝播する振動を低減する第２除振機構とを有していることを特徴とする請求項１５又は１６記載の露光装置。
前記ミラー定盤が、前記鏡筒定盤の振動の少なくとも一部に対しては同期して振動するように制御することを特徴とする請求項１９記載の露光装置。
デバイスの製造方法であって、
請求項１５乃至２０いずれかに記載の露光装置でウエハを露光する露光工程と、
前記露光されたウエハを現像する現像工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
少なくとも１つの光学素子を有する光学系における、前記少なくとも１つの光学素子の位置調整方法であって、
前記少なくとも１つの光学素子の、基準ミラーに対する相対的な位置を測定する工程と、
前記測定工程の測定結果に基づいて、前記少なくとも１つの光学素子の位置が予め記憶された位置になるように、前記少なくとも１つの光学素子を駆動する駆動工程とを有することを特徴とする位置調整方法。
前記光学系が複数の光学素子を有しており、
予め調整された前記複数の光学素子の相対的な位置関係を記憶する記憶工程を有しており、
前記測定工程において、前記複数の光学素子の相対的な位置関係を測定し、
前記駆動工程において、前記測定結果及び前記記憶工程で記憶した情報に基づいて、前記複数の光学素子のうち少なくとも１つの光学素子を駆動することを特徴とする請求項２２に記載の位置調整方法。
前記記憶工程は、搬送前の前記複数の光学素子の相対的な位置関係を記憶し、前記搬送後に前記測定工程が実行され、前記記憶工程で記憶した情報及び前記測定結果に基づいて、前記駆動工程において前記少なくとも１つの光学素子を駆動することを特徴とする請求項２３に記載の位置調整方法。
複数の光学素子と、
前記複数の光学素子を保持する鏡筒と、
前記複数の光学素子のうち１以上の光学素子に対してそれぞれ実質的に相対的な位置が変わらないターゲットミラーと、
前記１以上の光学素子を駆動する駆動手段と、
前記鏡筒の外側に設けた基準ミラーと、
前記基準ミラーに対する前記ターゲットミラーの位置を計測する計測手段と、
予め調整された前記複数の光学素子の相対的な位置関係値を記憶する記憶手段と、
を有しており、
前記駆動手段は、前記計測手段による計測結果と、前記記憶手段に記憶している位置関係値とに基づいて、前記複数の光学素子のうち少なくとも１つを駆動することを特徴とする光学装置。