JP2004198513A - レーザビームの伝送方法及びビーム強度変換器 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザアニール装置におけるレーザビームの強度分布の均一性を安価に向上する。
【解決手段】ファイババンドル20、21、22を用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布を得られるようにする。
【選択図】 図2
【解決手段】ファイババンドル20、21、22を用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布を得られるようにする。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームの伝送方法及びビーム強度分布変換器に係り、特に、ガラス基板上のアモルファス層を結晶化するためのレーザアニール装置等のレーザ加工装置のビームホモジナイザとして用いるのに好適な、レーザアニール装置におけるレーザビームの強度分布の均一性を安価に向上することが可能な、レーザビームの伝送方法及び装置、レーザの運転方法、ビーム強度分布変換器、ビームホモジナイザ、レーザ光学系及びレーザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
レーザ加工装置、特にレーザアニール装置においては、できるだけ強度分布が均一なレーザビームを半導体基板等の加工対象物に照射することが望ましい。
【0003】
そこで、レーザビームの強度分布を均一化するため、特許文献1に記載されているように、ビームホモジナイザと呼ばれる光学系が利用されている。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−244078号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、小さなレンズを多数並べた、フライアイ方式と呼ばれる従来のビームホモジナイザ10は、例えば図1に示す如く、片面が平面で、もう一方の面に複数の凸部が配列して形成された2枚のアレイレンズ11、12および(複数枚の)集光レンズ13で形成されており、複雑な光学設計計算、高額な光学部品、精密な部品製作と組立調整等が必要であるという問題点を有していた。
【0006】
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくなされたもので、レーザビームの任意の強度分布を安価に得ることを第1の課題とする。
【0007】
本発明は、又、レーザビームの強度分布の均一性を安価に向上することを第2の課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、レーザビームの伝送に際して、ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにして、前記第1の課題を解決したものである。
【0009】
又、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置して、前記第2の課題を解決したものである。
【0010】
又、出口側のファイバを1列又は数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布を線状としたものである。
【0011】
又、複数系統のファイババンドルにそれぞれ別のレーザからレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、これらの別系統のファイババンドルの出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように1本1本のファイバを並べて配置するようして、複数のレーザを同時に運転し、完全同時照射することによってピークパワーを倍増させたり、あるいは、一方を所定時間遅延させて、実質的にパルス幅の長いレーザ光を作り出すことができるようにしたものである。
【0012】
又、複数のレーザを同時に動作させず、交互に動作させることにより、レーザ発振器のメンテナンス時間等のダウンタイムを補間するようにレーザを交互に運転できるようにしたものである。即ち、1台のレーザ発振器を数時間乃至数十時間運転した後、メンテナンス等のために停止するときに、もう1台のレーザを運転することにより、実質上無停止で加工対象にレーザを照射することが可能となる。
【0013】
本発明は、又、ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにされていることを特徴とするビーム強度分布変換器を提供するものである。
【0014】
又、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置されていることを特徴とするビームホモジナイザを提供するものである。
【0015】
又、出口側のファイバを1列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布が線状にされていることを特徴とするビームホモジナイザを提供するものである。
【0016】
本発明は、又、複数系統のファイババンドルと、各ファイババンドルにレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射するための複数のレーザとを備え、別系統のファイババンドルの出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように1本1本のファイバが並べて配置されていることを特徴とするレーザビームの伝送装置を提供するものである。
【0017】
又、前記のビーム強度分布変換器、ビームホモジナイザ、又は、伝送装置を備えたことを特徴とするレーザ光学系を提供するものである。
【0018】
又、前記のレーザ光学系を備えたことを特徴とするレーザ加工装置を提供するものである。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【0020】
本発明においては、レーザ光強度分布の均一化のため、従来のようなアレイレンズを用いたホモジナイザではなく、図2に示す第1実施形態の如く光ファイババンドル20を用いる。通常、ファイババンドル20は、ファイバの束ね方を入口と出口で同一にするため、出口の強度分布は、入口のレーザの強度分布と全く同じになる。しかし本発明では、ファイババンドルの入口と出口での個々のファイバの配置を、必要な強度分布に応じて、意図的に並べ替えた構成とする。
【0021】
出口側のファイバの束ね方を敢えて崩し、ランダムに並べ替えることにより、入口における強度分布を、出口ではマクロ的に均一にすることが可能となる。
【0022】
又、例えばガウス分布型のレーザ強度分布の光を入射する場合、各ファイバに取り込まれた光のみがファイバを伝播し、当然中央部のビームを伝播したファイバはエネルギが強く、端部のビームを伝播したエネルギが弱い。よって各ファイバの取り回しを強弱強弱・・・とすれば、近接したビーム強度の波は相殺され、均一性の良いビームを作り出すことができる。又、バンドル入口では中心部にあったファイバを、出口では外側に配置し、外側にあったファイバは中心部に配置すれば、通常とは逆に、中央が低く周辺が高いリング状の強度分布を得ることも可能である。
【0023】
この際、ファイバの並べ替えを容易とするために、ファイバを色分けしたり、番号を付けることが可能である。
【0024】
又、出口でのファイバの並べ方を、図3に示す第2実施形態のように1列又は必要な長さに応じて折り返して複数列に並べることにより、線状のビーム強度分布を作り出すことも可能である。図において30は(例えばエキシマまたは固体または高調波固体)レーザ(発振器)である。
【0025】
このように、レーザビームの強度分布を線状にする場合も、第1実施形態と同様の方法で容易に均一化することができる。即ち、入口での強度が強い部分と弱い部分のファイバを出口で交互に直線上に並べることにより、エネルギ強度分布の均一度の高い線状ビームを作り出すことができる。
【0026】
次に、本発明の第3実施形態を図4に示す。本実施形態は、複数系統(図では2系統)のファイババンドル21、22に、それぞれ別のレーザ31、32からレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、これらの別系統のファイババンドル21、22の出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように、1本1本のファイバの交互に並べて配置したものである。
【0027】
本実施形態においては、図5に示す如く、完全に同時照射した場合には、ピークパワーAを2倍にできる。又、図6に示す如く、一方を、所定時間、例えば数十ナノ秒遅延させれば、実質的にパルス幅Tの長い(図6の例では2倍)レーザ光を作り出すことができる。
【0028】
あるいは、複数台(図4では2台)のレーザ31、32を同時に動作させずに、交互に動作させることも可能である。即ち、レーザのパルス動作を交互に行なうのではなく、1台のレーザ発振器を数時間乃至数十時間運転した後、メンテナンス等のために停止するときに、もう一方のレーザを運転することにより、実質上、半導体基板等の加工対象にとっては無停止にすることが可能となる。また、複数のレーザを交互または順番に発振させることにより、実質的に高繰り返し照射が可能となる。
【0029】
なお、ファイババンドルの本数やレーザの台数は2に限定されない。
【0030】
前記実施形態においては、出口側の強度分布が均一となるようにファイバを並べ替えていたが、ファイバを並べ替える方法はこれに限定されず、出口側で必要な強度分布に応じて任意の配置に並べ替えることが可能である。
【0031】
又、前記実施形態において、本発明が、レーザアニール装置に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定されず、他のレーザ加工装置にも同様に適用できる。
【0032】
【発明の効果】
本発明によれば、任意の強度分布を有するレーザビームを安価に得ることができる。特に、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置することによって、マクロ的に見て均一なビーム強度を安価に得ることができる。又、線状のレーザビームも容易に得ることができる。
【0033】
本発明により、ビームホモジナイザ等の複雑な光学系を設計製作する必要が無く、自在な強度分布を作り出すことができる。特に、均一強度分布を作り出す場合に非常に有効である。
【0034】
又、ファイバを用いた伝送光学系であるから、ミラーやレンズの部品点数を大幅に削減することができるため、低コスト化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のフライアイ方式のビームホモジナイザの一例の基本的な構成を示す斜視図
【図2】本発明の第1実施形態の構成を示す図
【図3】同じく第2実施形態の構成を示す正面図
【図4】同じく第3実施形態の構成を示す正面図
【図5】第3実施形態の一つの動作形態を示すタイムチャート
【図6】第3実施形態の他の動作形態を示すタイムチャート
【符号の説明】
20、21、22…(光)ファイババンドル
30、31、32…レーザ(発振器)
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームの伝送方法及びビーム強度分布変換器に係り、特に、ガラス基板上のアモルファス層を結晶化するためのレーザアニール装置等のレーザ加工装置のビームホモジナイザとして用いるのに好適な、レーザアニール装置におけるレーザビームの強度分布の均一性を安価に向上することが可能な、レーザビームの伝送方法及び装置、レーザの運転方法、ビーム強度分布変換器、ビームホモジナイザ、レーザ光学系及びレーザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
レーザ加工装置、特にレーザアニール装置においては、できるだけ強度分布が均一なレーザビームを半導体基板等の加工対象物に照射することが望ましい。
【0003】
そこで、レーザビームの強度分布を均一化するため、特許文献1に記載されているように、ビームホモジナイザと呼ばれる光学系が利用されている。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−244078号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、小さなレンズを多数並べた、フライアイ方式と呼ばれる従来のビームホモジナイザ10は、例えば図1に示す如く、片面が平面で、もう一方の面に複数の凸部が配列して形成された2枚のアレイレンズ11、12および(複数枚の)集光レンズ13で形成されており、複雑な光学設計計算、高額な光学部品、精密な部品製作と組立調整等が必要であるという問題点を有していた。
【0006】
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくなされたもので、レーザビームの任意の強度分布を安価に得ることを第1の課題とする。
【0007】
本発明は、又、レーザビームの強度分布の均一性を安価に向上することを第2の課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、レーザビームの伝送に際して、ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにして、前記第1の課題を解決したものである。
【0009】
又、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置して、前記第2の課題を解決したものである。
【0010】
又、出口側のファイバを1列又は数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布を線状としたものである。
【0011】
又、複数系統のファイババンドルにそれぞれ別のレーザからレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、これらの別系統のファイババンドルの出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように1本1本のファイバを並べて配置するようして、複数のレーザを同時に運転し、完全同時照射することによってピークパワーを倍増させたり、あるいは、一方を所定時間遅延させて、実質的にパルス幅の長いレーザ光を作り出すことができるようにしたものである。
【0012】
又、複数のレーザを同時に動作させず、交互に動作させることにより、レーザ発振器のメンテナンス時間等のダウンタイムを補間するようにレーザを交互に運転できるようにしたものである。即ち、1台のレーザ発振器を数時間乃至数十時間運転した後、メンテナンス等のために停止するときに、もう1台のレーザを運転することにより、実質上無停止で加工対象にレーザを照射することが可能となる。
【0013】
本発明は、又、ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにされていることを特徴とするビーム強度分布変換器を提供するものである。
【0014】
又、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置されていることを特徴とするビームホモジナイザを提供するものである。
【0015】
又、出口側のファイバを1列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布が線状にされていることを特徴とするビームホモジナイザを提供するものである。
【0016】
本発明は、又、複数系統のファイババンドルと、各ファイババンドルにレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射するための複数のレーザとを備え、別系統のファイババンドルの出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように1本1本のファイバが並べて配置されていることを特徴とするレーザビームの伝送装置を提供するものである。
【0017】
又、前記のビーム強度分布変換器、ビームホモジナイザ、又は、伝送装置を備えたことを特徴とするレーザ光学系を提供するものである。
【0018】
又、前記のレーザ光学系を備えたことを特徴とするレーザ加工装置を提供するものである。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【0020】
本発明においては、レーザ光強度分布の均一化のため、従来のようなアレイレンズを用いたホモジナイザではなく、図2に示す第1実施形態の如く光ファイババンドル20を用いる。通常、ファイババンドル20は、ファイバの束ね方を入口と出口で同一にするため、出口の強度分布は、入口のレーザの強度分布と全く同じになる。しかし本発明では、ファイババンドルの入口と出口での個々のファイバの配置を、必要な強度分布に応じて、意図的に並べ替えた構成とする。
【0021】
出口側のファイバの束ね方を敢えて崩し、ランダムに並べ替えることにより、入口における強度分布を、出口ではマクロ的に均一にすることが可能となる。
【0022】
又、例えばガウス分布型のレーザ強度分布の光を入射する場合、各ファイバに取り込まれた光のみがファイバを伝播し、当然中央部のビームを伝播したファイバはエネルギが強く、端部のビームを伝播したエネルギが弱い。よって各ファイバの取り回しを強弱強弱・・・とすれば、近接したビーム強度の波は相殺され、均一性の良いビームを作り出すことができる。又、バンドル入口では中心部にあったファイバを、出口では外側に配置し、外側にあったファイバは中心部に配置すれば、通常とは逆に、中央が低く周辺が高いリング状の強度分布を得ることも可能である。
【0023】
この際、ファイバの並べ替えを容易とするために、ファイバを色分けしたり、番号を付けることが可能である。
【0024】
又、出口でのファイバの並べ方を、図3に示す第2実施形態のように1列又は必要な長さに応じて折り返して複数列に並べることにより、線状のビーム強度分布を作り出すことも可能である。図において30は(例えばエキシマまたは固体または高調波固体)レーザ(発振器)である。
【0025】
このように、レーザビームの強度分布を線状にする場合も、第1実施形態と同様の方法で容易に均一化することができる。即ち、入口での強度が強い部分と弱い部分のファイバを出口で交互に直線上に並べることにより、エネルギ強度分布の均一度の高い線状ビームを作り出すことができる。
【0026】
次に、本発明の第3実施形態を図4に示す。本実施形態は、複数系統(図では2系統)のファイババンドル21、22に、それぞれ別のレーザ31、32からレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、これらの別系統のファイババンドル21、22の出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように、1本1本のファイバの交互に並べて配置したものである。
【0027】
本実施形態においては、図5に示す如く、完全に同時照射した場合には、ピークパワーAを2倍にできる。又、図6に示す如く、一方を、所定時間、例えば数十ナノ秒遅延させれば、実質的にパルス幅Tの長い(図6の例では2倍)レーザ光を作り出すことができる。
【0028】
あるいは、複数台(図4では2台)のレーザ31、32を同時に動作させずに、交互に動作させることも可能である。即ち、レーザのパルス動作を交互に行なうのではなく、1台のレーザ発振器を数時間乃至数十時間運転した後、メンテナンス等のために停止するときに、もう一方のレーザを運転することにより、実質上、半導体基板等の加工対象にとっては無停止にすることが可能となる。また、複数のレーザを交互または順番に発振させることにより、実質的に高繰り返し照射が可能となる。
【0029】
なお、ファイババンドルの本数やレーザの台数は2に限定されない。
【0030】
前記実施形態においては、出口側の強度分布が均一となるようにファイバを並べ替えていたが、ファイバを並べ替える方法はこれに限定されず、出口側で必要な強度分布に応じて任意の配置に並べ替えることが可能である。
【0031】
又、前記実施形態において、本発明が、レーザアニール装置に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定されず、他のレーザ加工装置にも同様に適用できる。
【0032】
【発明の効果】
本発明によれば、任意の強度分布を有するレーザビームを安価に得ることができる。特に、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置することによって、マクロ的に見て均一なビーム強度を安価に得ることができる。又、線状のレーザビームも容易に得ることができる。
【0033】
本発明により、ビームホモジナイザ等の複雑な光学系を設計製作する必要が無く、自在な強度分布を作り出すことができる。特に、均一強度分布を作り出す場合に非常に有効である。
【0034】
又、ファイバを用いた伝送光学系であるから、ミラーやレンズの部品点数を大幅に削減することができるため、低コスト化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のフライアイ方式のビームホモジナイザの一例の基本的な構成を示す斜視図
【図2】本発明の第1実施形態の構成を示す図
【図3】同じく第2実施形態の構成を示す正面図
【図4】同じく第3実施形態の構成を示す正面図
【図5】第3実施形態の一つの動作形態を示すタイムチャート
【図6】第3実施形態の他の動作形態を示すタイムチャート
【符号の説明】
20、21、22…(光)ファイババンドル
30、31、32…レーザ(発振器)
Claims (11)
- ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布を得られるようにすることを特徴とするレーザビームの伝送方法。
- 請求項1において、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置することを特徴とするレーザビームの伝送方法。
- 請求項2において、出口側のファイバを1列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布を線状にすることを特徴とするレーザビームの伝送方法。
- 請求項1乃至3のいずれかにおいて、複数系統のファイババンドルにそれぞれ別のレーザからレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射し、
これらの別系統のファイババンドルの出口側を束ねて1系統とし、
強度分布がマクロ的に均一となるように1本1本のファイバを並べて配置することを特徴とするレーザビームの伝送方法。 - 請求項1乃至4のいずれかにおいて、複数のレーザを同時に動作させず、交互に動作させることを特徴とするレーザの運転方法。
- ファイババンドルを用い、入口側と出口側のファイバの配列を異なるようにして入口側のビーム強度分布を変換し、出口側で任意の強度分布が得られるようにされていることを特徴とするビーム強度分布変換器。
- 請求項6において、出口側のビーム強度分布がマクロ的に見て均一となるように、出口側のファイバをランダム又はビーム強度が異なるファイバが出口面内で均等になるように配置されていることを特徴とするビームホモジナイザ。
- 請求項7において、出口側のファイバを1列又は複数列の直線上に並べることにより、レーザビームの強度分布が線状にされていることを特徴とするビームホモジナイザ。
- 請求項6乃至8のいずれかに記載の複数系統のファイババンドルと、
各ファイババンドルにレーザパルスビームを同時又は所定の時間差を設けて入射するための複数のレーザとを備え、
別系統のファイババンドルの出口側を束ねて1系統とし、強度分布がマクロ的に均一となるように1本1本のファイバが並べて配置されていることを特徴とするレーザビームの伝送装置。 - 請求項6に記載のビーム強度分布変換器、請求項7又は8に記載のビームホモジナイザ、又は、請求項9に記載の伝送装置を備えたことを特徴とするレーザ光学系。
- 請求項10に記載のレーザ光学系を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
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---|---|---|---|
JP2002364046A JP2004198513A (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | レーザビームの伝送方法及びビーム強度変換器 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008209611A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Moritex Corp | ラインライトガイド |
JP2009294247A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ビーム変換器 |
WO2016147308A1 (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-22 | 国立大学法人九州大学 | レーザシステム及びレーザアニール装置 |
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2002
- 2002-12-16 JP JP2002364046A patent/JP2004198513A/ja active Pending
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JP2008209611A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Moritex Corp | ラインライトガイド |
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WO2016147308A1 (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-22 | 国立大学法人九州大学 | レーザシステム及びレーザアニール装置 |
JPWO2016147308A1 (ja) * | 2015-03-16 | 2017-12-28 | 国立大学法人九州大学 | レーザシステム及びレーザアニール装置 |
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