JP2004178904A

JP2004178904A - Conductive paste for forming ohmic electrode

Info

Publication number: JP2004178904A
Application number: JP2002342245A
Authority: JP
Inventors: Masahito Nishikawa; 仁人西川; Shinichi Ogura; 晋一小倉; Masatoshi Suehiro; 雅利末広
Original assignee: Kyoto Elex Co Ltd
Current assignee: Kyoto Elex Co Ltd
Priority date: 2002-11-26
Filing date: 2002-11-26
Publication date: 2004-06-24
Anticipated expiration: 2022-11-26
Also published as: JP3939634B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive paste for forming an ohmic electrode capable of obtaining high adhesion strength without containing a lead component in conductive paste. <P>SOLUTION: This conductive paste contains conductive powder, a suitable amount of glass frit without containing a lead component, a suitable amount of Mo compound, a suitable amount of metal Zn and an organic vehicle.Metal Mo, MoSi<SB>2</SB>, MoO<SB>3</SB>, naphthenic-acid Mo, octylic acid Mo, etc. are used as the Mo compound. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は有害な鉛成分を含まずに高密着強度が得られるオーミック電極を形成するための導体ペーストに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
キュリー点以下の室温付近において温度上昇とともに抵抗値が低下する特性を示すＮＴＣサーミスタや、温度上昇とともに抵抗値が大きくなるＰＴＣサーミスタや、バリスターや、半導体コンデンサーなどの電極には、セラミック素体とオーミック接触性を有する電極用導体ペーストが必要である。従来、この電極用導体ペーストは、貴金属、銅またはニッケル等の導電性粉末と、金属酸化物やガラスなどの無機結合剤と、有機ビビクルから構成されるものが一般的であった。その導体ペーストはセラミック素体上に塗布され、８００〜９００℃の温度で焼成することで電極が形成される。そして、現在一般に用いられている導体ペーストは、密着強度を向上するためにガラスフリットに酸化鉛を配合しているものが多い（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１には、アルミニウムが４８〜９６重量％およびケイ素が４〜５２重量％からなる主成分に対して、ガラスフリットが１０〜５０重量％添加される半導体磁器用オーミック性電極材料が開示されており、その段落番号［００１６］には、低融点ガラスフリットとして、平均粒径が１０μｍのほうけい酸鉛系ガラスフリットを用いることが記載されている。
【０００４】
しかし、近年、環境上の問題から鉛化合物の使用が制限されており、非鉛化ガラスフリットの要求が高まっているが、鉛成分を含有しないガラスフリットでは十分な密着強度を得ることが困難である。
【０００５】
【特許文献１】
特開平５−６２８０４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来のオーミック電極形成用導体ペーストは鉛成分を含有しており、環境への悪影響が懸念される。しかし、単に鉛成分を含有しないガラスフリットを用いるだけでは十分な密着強度が得られず、そのようなガラスフリットから得られる導体ペーストでは実使用に適する電極を形成することはできない。
【０００７】
本発明は従来の技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、導体ペースト中に鉛成分を含有することなく高い密着強度を得ることができるオーミック電極形成用導体ペーストを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、導電性粉末、鉛成分を含有しないガラスフリット、Ｍｏ化合物、金属Ｚｎ及び有機ビヒクルを含有しており、適量のＭｏ化合物と金属Ｚｎを含有することにより、密着性と良好なオーミック接触（接触抵抗値が低いこと）を確保することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明に係るオーミック電極形成用導体ペーストは、導電性粉末、鉛成分を含有しないガラスフリット、Ｍｏ化合物および金属Ｚｎを有機ビヒクル中に均一に分散させてなるものである。
【００１０】
導電性粉末としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＣｕまたはＮｉのうち少なくとも１種類の金属粉末を用いることができる。これらの金属粉末の平均粒径は、０．５〜１０μｍのものが好ましい。０．５μｍ未満の小粒径のものは高温で焼成すると焼結して塊状化するという欠点があり、一方、１０μｍを超える大粒径のものは分散性が良くないからである。これらの導電性粉末は、単独金属の粉末として、金属粉末の混合物として、あるいは合金粉末として使用することができる。また、これらの導電性粉末のなかでは、経済的理由でＡｇ粉末、Ａｇ粉末にＰｔ粉末やＰｄ粉末を混合したもの、またはＡｇとＰｔもしくはＡｇとＰｄの合金化粉末が好適に使用される。
【００１１】
鉛成分を含有しないガラスフリットとしては、例えば、ホウケイ酸亜鉛系ガラス、ホウ酸ビスマス系ガラス、ホウ酸亜鉛系ガラスまたはホウケイ酸系ガラスのような鉛成分を含まないガラスフリットを用いることができる。ガラスフリットの粒径は、１０μｍ以下であることが好ましい。１０μｍを超える粒径の大きいものを用いると、ペースト中のガラスフリットの分散性が著しく悪化し、ペースト成分の均一性が得られないからである。ガラスフリットは、導電性粉末１００重量部に対して０．０１〜１０．０重量部添加するのが好ましい。ガラスフリット０．０１重量部未満では必要な密着強度が得られず、１０．０重量部を超えると、良好なオーミック接触が得られないからである。この点で、導電性粉末１００重量部に対して、ガラスフリットを０．０５〜５．０重量部添加するのがより好ましい。
【００１２】
Ｍｏ化合物としては、金属Ｍｏ、ＭｏＳｉ_２、ＭｏＯ_３、ナフテン酸Ｍｏまたはオクチル酸Ｍｏのうち少なくとも１種類を用いることができる。これらＭｏ化合物の添加量はＭｏ金属に換算した場合に、導電性粉末１００重量部に対して０．０１〜５．０重量部とするのが好ましい。０．０１重量部未満では必要な密着強度が得られず、５．０重量部を超えるとオーミック接触に伴う抵抗が増加するからである。これらの点を考慮すると、Ｍｏ化合物の添加量はＭｏ金属に換算した場合に、導電性粉末１００重量部に対して０．０５〜３．０重量部とするのが特に好ましい。
【００１３】
金属Ｚｎは、導電性粉末１００重量部に対して０．０１〜５．０重量部添加するのが好ましい。０．０１重量部未満では必要な密着強度が得られず、５．０重量部を超えるとオーミック接触に伴う抵抗が増加するからである。
【００１４】
さらに、ＩｎまたはＩｎ−Ｇａ合金のうち少なくとも１種類を導電性粉末１００重量部に対して０．０１〜５．０重量部添加することができる。これらの金属を添加することで、密着強度を一層高めることができるからである。しかし、０．０１重量部未満の添加量では密着強度は向上せず、５．０重量部を超えるとオーミック接触に伴う抵抗が増加するという弊害が現れるので、ＩｎまたはＩｎ−Ｇａ合金を添加する場合は、導電性粉末１００重量部に対して０．０１〜５．０重量部添加するのが好ましい。
【００１５】
有機ビヒクルとしては、例えばセルロース系樹脂をα−テルピネオール等に溶解したものを挙げることができるが、これに限定されるものではなく、通常ペースト化に際して用いられるものであれば使用することができ、導電性粉末１００重量部に対して５〜１００重量部添加するのが好ましい。５重量部未満ではペースト化が困難で、１００重量部を超えると、膜の緻密性が悪化し、電極としての特性を維持できないという不都合な点があるからである。
【００１６】
ペーストを作製するに際しては、所定の配合の導電性粉末、鉛成分を含有しないガラスフリット、Ｍｏ化合物、金属Ｚｎ、さらに必要に応じて、ＩｎまたはＩｎ−Ｇａ合金を有機ビヒクルと混合し、３本ロールミルで混練してこれらの物質を均一に分散したペーストを得ることができる。
【００１７】
【実施例】
以下に本発明の好ましい実施例を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱しない範囲において適宜の修正と変更が可能である。
【００１８】
以下の表１に示す実施例１〜１１と比較例１〜３の各配合（重量部）のものにエチルセルロース樹脂をα−テルピネオールに溶解した有機ビヒクルを１５重量部添加し、３本ロールミルで混練して配合成分を均一に分散したペーストを得た。このペーストをＭｎ−Ｎｉ−Ｃｏ系セラミックからなるＮＴＣサーミスタ素体上に塗布して、空気中８５０℃で１０分間焼成して電極を形成した。なお、表１において、Ａｇ粉末の平均粒径は２μｍであり、Ｐｔ粉末の平均粒径は０．５μｍである。
【００１９】
そして、実施例１〜１１および比較例１〜３の電極について、オーミック接触性と密着強度を評価した。その評価方法は、下記のとおりである。
（１）オーミック接触性
上記焼成ペーストからなる電極と素体との境界面に抵抗測定器の測定端子を当接し、室温で抵抗値を測定することによりオーミック接触性を評価した。この接触抵抗値が低いほどオーミック接触性は良好である。
（２）密着強度
上記焼成ペーストからなる電極上に、Ｓｎ／Ａｇ／Ｃｕ系の鉛を含有しない半田を用いて０．６ｍｍの直径の錫メッキ軟銅線を接着し、その錫メッキ軟銅線の引き剥がし強度を測定することにより密着強度を評価した。
【００２０】
【表１】

【００２１】
表１に示すように、適量のＭｏ化合物と金属Ｚｎを配合した実施例１〜１１の電極は、比較例１〜３の電極に比べて密着強度が高く、且つオーミック接触性が良好である（接触抵抗値が低い）。
【００２２】
なお、実施例の中では、Ｍｏ化合物の添加量が少ない実施例５は、他の実施例に比べて密着強度がやや低く、適量のＭｏ化合物を添加することにより密着強度が高められることが分かる。また、Ｍｏ化合物の添加量が多い実施例６と金属Ｚｎの添加量が多い実施例１０の接触抵抗値は他の実施例に比べてやや高く、Ｍｏ化合物や金属Ｚｎの添加量が多くなると接触抵抗は増加する傾向にあることが分かる。また、Ｍｏ化合物については、酸化物のみならず、実施例７のＭｏＳｉ_２や実施例８のオクチル酸Ｍｏや実施例１１の金属Ｍｏを用いても、酸化物の場合と同様に高い密着強度と良好なオーミック接触性（接触抵抗値が低いこと）を確保できることが分かる。
【００２３】
一方、比較例１は、Ｍｏ化合物が全く添加されていないので、密着強度が極めて低い。
【００２４】
また、比較例２は、Ｍｏ化合物の添加量が多すぎるので、実使用に適さない程度の高い接触抵抗値である。
【００２５】
さらに、比較例３は、金属Ｚｎの添加量が多すぎるので、比較例２と同様に、実使用に適さない程度の高い接触抵抗値である。
【００２６】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成されているので、鉛成分を含有することなく、高い密着強度と良好なオーミック接触性を有するオーミック電極形成用導体ペーストを提供することができる。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive paste for forming an ohmic electrode having high adhesion strength without containing a harmful lead component.
[0002]
[Prior art]
Ceramic elements are used for electrodes such as NTC thermistors that exhibit a characteristic that the resistance value decreases with increasing temperature near room temperature below the Curie point, PTC thermistors that increase in resistance value with increasing temperature, varistors, and semiconductor capacitors. A conductor paste for electrodes having ohmic contact is required. Conventionally, the conductive paste for an electrode generally includes a conductive powder such as a noble metal, copper or nickel, an inorganic binder such as a metal oxide or glass, and an organic vehicle. The conductive paste is applied on a ceramic body and fired at a temperature of 800 to 900 ° C. to form an electrode. Many of the conductor pastes generally used at present include lead oxide mixed with glass frit in order to improve adhesion strength (for example, see Patent Document 1).
[0003]
Patent Literature 1 discloses an ohmic electrode material for semiconductor porcelain in which a glass frit is added in an amount of 10 to 50% by weight based on a main component consisting of 48 to 96% by weight of aluminum and 4 to 52% by weight of silicon. The paragraph [0016] describes that a lead borosilicate glass frit having an average particle diameter of 10 μm is used as the low melting point glass frit.
[0004]
However, in recent years, the use of lead compounds has been restricted due to environmental problems, and the demand for non-leaded glass frit has been increasing. However, it is difficult to obtain sufficient adhesion strength with glass frit containing no lead component. is there.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-5-62804
[Problems to be solved by the invention]
The conventional conductive paste for forming an ohmic electrode contains a lead component, and there is a concern that it may have a bad influence on the environment. However, simply using a glass frit that does not contain a lead component does not provide sufficient adhesion strength, and a conductor paste obtained from such a glass frit cannot form an electrode suitable for practical use.
[0007]
The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and has as its object to form an ohmic electrode capable of obtaining high adhesion strength without containing a lead component in a conductive paste. It is to provide a conductor paste.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention includes a conductive powder, a glass frit containing no lead component, a Mo compound, a metal Zn and an organic vehicle, and containing an appropriate amount of the Mo compound and the metal Zn. Adhesion and good ohmic contact (low contact resistance value) can be ensured.
[0009]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
That is, the conductive paste for forming an ohmic electrode according to the present invention is obtained by uniformly dispersing conductive powder, glass frit containing no lead component, Mo compound, and metal Zn in an organic vehicle.
[0010]
As the conductive powder, metal powder of at least one of Au, Ag, Pt, Pd, Cu and Ni can be used. The average particle diameter of these metal powders is preferably 0.5 to 10 μm. This is because particles having a small particle size of less than 0.5 μm have a disadvantage that they are sintered and agglomerated when fired at a high temperature, whereas those having a large particle size of more than 10 μm have poor dispersibility. These conductive powders can be used as a single metal powder, as a mixture of metal powders, or as an alloy powder. Of these conductive powders, Ag powder, a mixture of Ag powder and Pt powder or Pd powder, or an alloyed powder of Ag and Pt or Ag and Pd is preferably used for economic reasons.
[0011]
As the glass frit containing no lead component, for example, a glass frit containing no lead component such as zinc borosilicate glass, bismuth borate glass, zinc borate glass or borosilicate glass can be used. The particle size of the glass frit is preferably 10 μm or less. If a particle having a large particle size exceeding 10 μm is used, the dispersibility of the glass frit in the paste is remarkably deteriorated, and uniformity of the paste components cannot be obtained. The glass frit is preferably added in an amount of 0.01 to 10.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive powder. If the glass frit is less than 0.01 part by weight, the necessary adhesion strength cannot be obtained, and if it exceeds 10.0 parts by weight, good ohmic contact cannot be obtained. In this regard, it is more preferable to add 0.05 to 5.0 parts by weight of glass frit to 100 parts by weight of the conductive powder.
[0012]
As the Mo compound, at least one of metal Mo, MoSi ₂ , MoO ₃ , Mo naphthenate or Mo octylate can be used. The amount of addition of these Mo compounds is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive powder when converted to Mo metal. If the amount is less than 0.01 part by weight, the necessary adhesion strength cannot be obtained, and if the amount exceeds 5.0 parts by weight, the resistance accompanying the ohmic contact increases. In consideration of these points, it is particularly preferable that the addition amount of the Mo compound is 0.05 to 3.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive powder when converted to Mo metal.
[0013]
It is preferable to add 0.01 to 5.0 parts by weight of metal Zn to 100 parts by weight of the conductive powder. If the amount is less than 0.01 part by weight, the necessary adhesion strength cannot be obtained, and if the amount exceeds 5.0 parts by weight, the resistance accompanying the ohmic contact increases.
[0014]
Further, 0.01 to 5.0 parts by weight of at least one of In and In-Ga alloy can be added to 100 parts by weight of the conductive powder. This is because the adhesion strength can be further increased by adding these metals. However, if the addition amount is less than 0.01 part by weight, the adhesion strength is not improved, and if the addition amount exceeds 5.0 parts by weight, an adverse effect of increasing resistance accompanying ohmic contact appears. Therefore, In or an In-Ga alloy is added. In this case, it is preferable to add 0.01 to 5.0 parts by weight to 100 parts by weight of the conductive powder.
[0015]
Examples of the organic vehicle include, for example, those obtained by dissolving a cellulosic resin in α-terpineol or the like, but are not limited thereto. It is preferable to add 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive powder. If the amount is less than 5 parts by weight, it is difficult to form a paste. If the amount exceeds 100 parts by weight, the denseness of the film deteriorates, and the characteristics as an electrode cannot be maintained.
[0016]
In preparing the paste, a conductive powder having a predetermined composition, a glass frit containing no lead component, a Mo compound, metal Zn, and, if necessary, In or an In-Ga alloy are mixed with an organic vehicle. A paste in which these substances are uniformly dispersed can be obtained by kneading with a roll mill.
[0017]
【Example】
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following embodiments, and appropriate modifications and changes can be made without departing from the technical scope of the present invention.
[0018]
To each of the compositions (parts by weight) of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 3 shown in Table 1 below, 15 parts by weight of an organic vehicle obtained by dissolving an ethyl cellulose resin in α-terpineol was added, and kneaded with a three-roll mill. As a result, a paste in which the components were uniformly dispersed was obtained. This paste was applied onto an NTC thermistor body made of a Mn-Ni-Co-based ceramic and fired at 850 ° C for 10 minutes in air to form an electrode. In Table 1, the average particle size of the Ag powder is 2 μm, and the average particle size of the Pt powder is 0.5 μm.
[0019]
The electrodes of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 3 were evaluated for ohmic contact and adhesion strength. The evaluation method is as follows.
(1) Ohmic Contact The ohmic contact was evaluated by contacting the measurement terminal of the resistance measuring device with the interface between the electrode made of the above-mentioned fired paste and the element body and measuring the resistance at room temperature. The lower the contact resistance value, the better the ohmic contact property.
(2) Adhesion strength A tin-plated soft copper wire having a diameter of 0.6 mm is adhered to the electrode made of the above-mentioned baked paste using a Sn / Ag / Cu-based lead-free solder, and the tin-plated soft copper wire is drawn. The adhesion strength was evaluated by measuring the peel strength.
[0020]
[Table 1]

[0021]
As shown in Table 1, the electrodes of Examples 1 to 11 in which an appropriate amount of the Mo compound and the metal Zn were blended had higher adhesion strength and better ohmic contact than the electrodes of Comparative Examples 1 to 3 ( Low contact resistance).
[0022]
Note that, among the examples, Example 5 in which the amount of the Mo compound added is small has slightly lower adhesion strength than the other examples, and it can be seen that the adhesion strength can be increased by adding an appropriate amount of the Mo compound. . Further, the contact resistance value of Example 6 in which the amount of addition of the Mo compound is large and that of Example 10 in which the amount of addition of metal Zn is large are slightly higher than those of the other examples. It can be seen that the resistance tends to increase. In addition, as for the Mo compound, not only the oxide but also the MoSi _{2 of} Example 7, the octylic acid Mo of Example 8, and the metal Mo of Example 11 have the same high adhesion strength as the oxide. It can be seen that good ohmic contact (low contact resistance) can be ensured.
[0023]
On the other hand, in Comparative Example 1, the adhesion strength was extremely low because no Mo compound was added.
[0024]
Comparative Example 2 has a high contact resistance value that is not suitable for practical use because the amount of the Mo compound added is too large.
[0025]
Furthermore, Comparative Example 3 has a high contact resistance value that is not suitable for actual use, as in Comparative Example 2, because the amount of metal Zn added is too large.
[0026]
【The invention's effect】
Since the present invention is configured as described above, it is possible to provide a conductive paste for forming an ohmic electrode having high adhesion strength and good ohmic contact without containing a lead component.

Claims

オーミック電極を形成するための導体ペーストであって、導電性粉末、鉛成分を含有しないガラスフリット、Ｍｏ化合物、金属Ｚｎ及び有機ビヒクルを含有することを特徴とするオーミック電極形成用導体ペースト。A conductive paste for forming an ohmic electrode, comprising conductive powder, glass frit containing no lead component, Mo compound, metallic Zn, and an organic vehicle.

導電性粉末１００重量部に対して、鉛成分を含有しないガラスフリットを０．０１〜１０．０重量部、Ｍｏ化合物を０．０１〜５．０重量部、金属Ｚｎを０．０１〜５．０重量部添加することを特徴とする請求項１記載のオーミック電極形成用導体ペースト。Based on 100 parts by weight of the conductive powder, 0.01 to 10.0 parts by weight of a glass frit containing no lead component, 0.01 to 5.0 parts by weight of a Mo compound, and 0.01 to 5.0 parts by weight of metal Zn. 2. The conductive paste for forming an ohmic electrode according to claim 1, wherein 0 part by weight is added.

導電性粉末として、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＣｕまたはＮｉのうち少なくとも１種類の金属粉末もしくはこれらの金属の合金粉末を用いることを特徴とする請求項１または２記載のオーミック電極形成用導体ペースト。3. The conductor for forming an ohmic electrode according to claim 1, wherein at least one of Au, Ag, Pt, Pd, Cu, and Ni is used as the conductive powder, or an alloy powder of these metals is used. paste.

Ｍｏ化合物として、金属Ｍｏ、ＭｏＳｉ_２、ＭｏＯ_３、ナフテン酸Ｍｏまたはオクチル酸Ｍｏのうち少なくとも１種類を用いることを特徴とする請求項１、２または３記載のオーミック電極形成用導体ペースト。4. The conductive paste for forming an ohmic electrode according to claim 1, wherein the Mo compound is at least one of metal Mo, MoSi ₂ , MoO ₃ , Mo naphthenate or Mo octylate.