JP2004172317A

JP2004172317A - Device and method for positioning work, liquid droplet discharger, electrooptic device, method of manufacturing electrooptic device, and electronic equipment

Info

Publication number: JP2004172317A
Application number: JP2002335841A
Authority: JP
Inventors: Kenji Kojima; 健嗣小島; Tatsuo Yoda; 達雄依田
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-11-19
Filing date: 2002-11-19
Publication date: 2004-06-17

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and a method for positioning a work by which the structure of a work transporting table is simplified, and the size and weight of the table are reduced, and also to provide a liquid droplet discharger provided with the device, an electrooptic device manufactured by using the discharger, a method of manufacturing the electrooptic device using the discharger, and electronic equipment equipped with the electrooptic device. <P>SOLUTION: The device for positioning the work (substrate) is provided with: the work (substrate) transporting table 3; a Y-axis direction moving mechanism which moves the table 3 in the Y-axis direction; a Y-axis direction guide 41 which is installed to the main body of the device and corrects the position of a substrate W in the Y-axis direction with respect to the table 3; a Y-axis direction guide elevating/lowering mechanism 42 which elevates and lowers the guide 41; an X-axis direction guide which corrects the position of the substrate W in the X-axis direction with respect to the table 3; an X-axis direction moving mechanism which relatively moves the X-axis direction guide in the X-axis direction; and an X-axis direction guide elevating/lowering mechanism which elevates and lowers the X-axis direction guide. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば基板等のワークに対し例えば露光などの処理を施す装置においては、基板に対し所定のパターンで正確に露光等を行うため、基板を搬送する基板搬送テーブルに対し基板を所定の位置に正確に位置決めして載置する必要がある。従来の基板位置決め装置は、基板搬送テーブルに、複数のガイドピンとこれらを移動させる駆動手段とを設けており、基板搬送テーブルに載置された基板を前記ガイドピンの移動により所定の位置に誘導している（例えば、特許文献１参照）。
このような従来の基板位置決め装置では、基板搬送テーブルに複数のガイドピンとこれらを移動させる駆動手段とを設ける必要があるため、基板搬送テーブルの構造の複雑化、大型化および重量増大を招くという問題があった。
【０００３】
【特許文献１】
特開平６−３４８０２５号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ワーク搬送テーブルの構造の簡素化、小型化、軽量化を図ることができるワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法、前記ワーク位置決め装置を備える液滴吐出装置、前記液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、前記液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、前記電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のワーク位置決め装置は、装置本体と、
ワークを載置可能なワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記装置本体に設置され、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向の位置を修正するＹ軸方向ガイドと、
前記Ｙ軸方向ガイドを、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る下降位置と、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに干渉しない上昇位置とに昇降させるＹ軸方向ガイド昇降機構と、
前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向に垂直であって水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）の位置を修正するＸ軸方向ガイドと、
前記Ｘ軸方向ガイドを前記ワーク搬送テーブルに対し前記Ｘ軸方向に相対的に移動させるＸ軸方向移動機構と、
前記Ｘ軸方向ガイドを、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る下降位置と、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに干渉しない上昇位置とに昇降させるＸ軸方向ガイド昇降機構とを備えることを特徴とする。
これにより、簡単な構成で、ワーク搬送テーブルに対しワークを正確に位置決めすることができるとともに、ワーク搬送テーブルの構造の簡素化、小型化および軽量化が図れる。
【０００６】
本発明のワーク位置決め装置では、前記Ｘ軸方向ガイドは、前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動可能に設置されており、
前記Ｘ軸方向移動機構は、前記Ｘ軸方向ガイドを前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動させることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルが装置本体に対しＸ軸方向に移動する必要がないので、装置の小型化が図れる。
【０００７】
本発明のワーク位置決め装置では、前記Ｙ軸方向ガイドの前記ワークに対する当接点は、前記Ｘ軸方向に沿って複数配置されていることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルに対するワークのＹ軸方向の位置を修正する際、Ｙ軸方向ガイドが当接したワークの辺がＸ軸方向に平行になるようにワークの姿勢を修正することができる。
【０００８】
本発明のワーク位置決め装置では、前記Ｘ軸方向ガイドの前記ワークに対する当接点は、前記Ｙ軸方向に沿って複数配置されていることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルに対するワークのＸ軸方向の位置を修正する際、Ｘ軸方向ガイドが当接したワークの辺がＹ軸方向に平行になるようにワークの姿勢を修正することができる。
【０００９】
本発明のワーク位置決め装置では、前記Ｙ軸方向ガイドおよび／または前記Ｘ軸方向ガイドは、回転可能に支持された少なくとも２個のローラーを有し、前記下降位置にあるとき、該ローラーの外周面が前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得ることが好ましい。
これにより、Ｙ軸方向ガイドおよび／またはＸ軸方向ガイドがワークに当接したとき、ローラーが回転することによりワークを摩擦することがないので、ワークを傷つけるのをより確実に防止することができる。
【００１０】
本発明のワーク位置決め装置は、前記Ｙ軸方向ガイドから前記Ｙ軸方向に離れた位置に設置され、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向の位置を修正する第２のＹ軸方向ガイドと、
前記第２のＹ軸方向ガイドを、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る下降位置と、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに干渉しない上昇位置とに昇降させる第２のＹ軸方向ガイド昇降機構とをさらに備え、
前記Ｙ軸方向ガイドと、前記第２のＹ軸方向ガイドとは、互いに反対方向から前記ワークに当接することが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離が少なくて済むので、装置本体のＹ軸方向の長さを短縮することができる。
本発明のワーク位置決め装置は、前記ワークに設けられたマークを認識する認識カメラをさらに備え、前記マークが前記認識カメラの視野に入るように位置決めを行うことが好ましい。
これにより、より正確にワークを位置決めすることができる。
【００１１】
本発明のワーク位置決め装置では、前記認識カメラは、前記Ｘ軸方向ガイドと共に前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動可能に設置されており、
前記Ｘ軸方向移動機構は、前記Ｘ軸方向ガイドおよび前記認識カメラを共に前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動させることが好ましい。
これにより、認識カメラとＸ軸方向ガイドとがＸ軸方向移動機構を共用するので、装置の構造の簡素化が図れる。
【００１２】
本発明のワーク位置決め装置では、前記ワーク搬送テーブルは、載置されたワークが前記ワーク搬送テーブルに対し移動するときの移動抵抗を低減可能な移動抵抗低減手段を有することが好ましい。
これにより、位置決め時にワークがワーク搬送テーブル上を円滑に移動することができ、より正確かつ確実に位置決めを行うことができるとともに、ワークが傷つくのをより確実に防止することもできる。
【００１３】
本発明のワーク位置決め装置では、前記移動抵抗低減手段は、回転可能に支持された少なくとも３個のボールと、前記ボールを、前記ボールが前記ワーク搬送テーブルの載置面より上方に突出する位置と、前記ボールが前記載置面より下側に退避する位置とに昇降させるボール昇降機構とを有することが好ましい。
これにより、簡単な構造で、ワークがワーク搬送テーブルに対し移動するときの移動抵抗を低減することができる。
本発明のワーク位置決め装置では、前記ワーク搬送テーブルは、載置されたワークを吸着するための吸引部を有することが好ましい。
これにより、ワークの位置決め後、ワークをワーク搬送テーブルに確実に固定することができる。
【００１４】
本発明のワーク位置決め装置は、前記Ｙ軸方向移動機構、前記Ｙ軸方向ガイド昇降機構、前記Ｘ軸方向移動機構および前記Ｘ軸方向ガイド昇降機構の作動を制御する制御手段をさらに備えることが好ましい。
これにより、Ｙ軸方向移動機構、Ｙ軸方向ガイド昇降機構、Ｘ軸方向移動機構およびＸ軸方向ガイド昇降機構の作動をそれぞれ制御して、ワークの位置決め動作を実行することができる。
【００１５】
本発明のワーク位置決め装置では、前記制御手段の記憶部に予め記憶されたワークの寸法データに基づいて、前記ワークの位置決めを行うことが好ましい。
これにより、ワークの形状、寸法に応じて正確に位置決めを行うことができる。
本発明のワーク位置決め装置では、前記ワーク搬送テーブル上での前記ワークの位置決めする位置を設定可能であることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブル上でのワークの位置決めする位置をワークに応じて変更することができる。
【００１６】
本発明のワーク位置決め方法は、本発明のワーク位置決め装置を用いて、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークを前記ワーク搬送テーブルに対し位置決めするワーク位置決め方法であって、
前記Ｙ軸方向ガイドを前記下降位置に位置させた状態で前記ワーク搬送テーブルを前記Ｙ軸方向に移動させつつ、前記Ｙ軸方向ガイドを前記ワークの端面に当接させることにより、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向の位置を修正する少なくとも１回のＹ軸方向位置修正工程と、
前記Ｘ軸方向ガイドを前記下降位置に位置させた状態で前記ワーク搬送テーブルに対し前記Ｘ軸方向ガイドを相対的に前記Ｘ軸方向に移動させつつ、前記Ｘ軸方向ガイドを前記ワークの端面に当接させることにより、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｘ軸方向の位置を修正する少なくとも１回のＸ軸方向位置修正工程とを備えることを特徴とする。
これにより、簡単な構成で、ワーク搬送テーブルに対しワークを正確に位置決めすることができるとともに、ワーク搬送テーブルの構造の簡素化および軽量化が図れる。
本発明のワーク位置決め方法は、温度および／または湿度が管理された状態の中で行われることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルに対しワークをより高精度に位置決めすることができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置は、本発明のワーク位置決め装置と、
前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドとを備えることを特徴とする。
これにより、簡単な構成で、ワーク搬送テーブルに対しワークを正確に位置決めすることができるとともに、ワーク搬送テーブルの構造の簡素化、小型化および軽量化が図れる液滴吐出装置を提供することができる。
【００１８】
本発明の液滴吐出装置では、前記液滴吐出ヘッドは、前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動可能に設置されていることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブルが装置本体に対しＸ軸方向に移動する必要がないので、装置の小型化が図れる。
本発明の液滴吐出装置では、前記ワーク位置決め装置の作動により前記ワークを前記ワーク搬送テーブルに対し位置決めした後、前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１９】
本発明の液滴吐出装置は、隔離された空間内に収納された状態で使用されることが好ましい。
これにより、チリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、ワークを清浄に維持した状態で、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を行うことができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記隔離された空間は、内部の温度および／または湿度が管理されたものであることが好ましい。
これにより、ワーク搬送テーブル上でのワークの位置決めをより高精度に行うことができるとともに、吐出液滴によるパターンの形成（描画）もより高精度に行うことができる。
【００２０】
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、量産に適し、製造コストの低減が図れる電気光学装置を提供することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、量産に適し、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、量産に適し、製造コストの低減が図れる電子機器を提供することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法および液滴吐出装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１および図２は、それぞれ、本発明のワーク位置決め装置を適用した基板位置決め装置を備える液滴吐出装置の実施形態を示す平面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向については、図１および図２中の右方向を「前方」、図１および図２中の左方向を「後方」と言い、Ｘ軸方向については、図１中の下方向を「前方」、図１中の上方向を「後方」と言う。また、Ｙ軸方向であって図１および図２中の右方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図１および図２中の左方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図１中の下方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図１中の上方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００２２】
これらの図に示す液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものである。液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。
【００２３】
また、本発明で対象とするワークは、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型のワーク（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００２４】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワーク搬送テーブル（ワーク搬送ステージ）としての基板搬送テーブル（基板搬送ステージ）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、給液タンク、排液タンクおよび再利用タンクを備えたタンクユニット１３と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板搬送テーブル３の移動距離を測定するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００２５】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（ＰｌａｓｍａＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌ）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００２６】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板搬送テーブル３は、リニアモータ１０１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板搬送テーブル３上に載置される。
【００２７】
液滴吐出装置１では、基板搬送テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板Ｗから、基板搬送テーブル３より小さい比較的小型の基板Ｗまで、様々な大きさおよび形状の基板Ｗを対象にすることができる。基板Ｗは、原則としては基板搬送テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板Ｗの場合には、基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００２８】
図１に示すように、基板搬送テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット１０４が設置されている。描画前フラッシングユニット１０４には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００２９】
基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段としてのレーザー測長器１５により測定される。レーザー測長器１５は、装置本体２に設置されたレーザー測長器センサヘッド１５１、プリズム１５２およびレーザー測長器本体１５３と、基板搬送テーブル３に設置されたコーナーキューブ１５４とを有している。レーザー測長器センサヘッド１５１からＸ軸方向に沿って出射したレーザー光は、プリズム１５２で屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ１５４に照射される。コーナーキューブ１５４での反射光は、プリズム１５２を経て、レーザー測長器センサヘッド１５１に戻る。液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングが生成される。
【００３０】
また、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ１０２が、基板搬送テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ１０３の駆動により、メインキャリッジ１０２とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００３１】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、レーザー測長器１５を用いて生成した吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００３２】
また、装置本体２には、基板Ｗ上に吐出された液滴を半乾燥させるブロー装置１４が設置されている。ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００３３】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００３４】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００３５】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００３６】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通ってタンクユニット１３に設置された再利用タンク内に流入し貯留される。この貯留された液体は、回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００３７】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００３８】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００３９】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１のノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って回収され、タンクユニット１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００４０】
タンクユニット１３には、前述したキャッピング時に回収された吐出液を貯留する再利用タンクと、描画前フラッシング、定期フラッシングおよびドット抜け検出で回収された吐出液を貯留する排液タンクのほか、液滴吐出ヘッド１１１へ供給される吐出液を貯留する給液タンクや、クリーニングユニット１２２へ供給される洗浄液を貯留する給液タンクなどがそれぞれ設置されている。各給液タンク内は、液滴吐出装置１の近傍（好ましくは後述するチャンバ９１の外）に設置された図示しない加圧気体供給源から供給された例えば窒素ガス等の加圧気体により加圧され、この圧力によって、吐出液および洗浄液が送出される。
【００４１】
このような液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、好ましくは、チャンバ装置９により、温度および湿度が管理された環境下に置かれている。チャンバ装置９は、液滴吐出装置１を収納するチャンバ（隔離された空間）９１と、チャンバ９１の外部に設置された温度調整装置９２とを有している。温度調整装置９２は、公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（温調空気）を生成する。この温調空気は、導入ダクト９３を通ってチャンバ９１の天井裏９１１に送り込まれる。この温調空気は、天井裏９１１からフィルタ９１２を透過して、チャンバ９１の主室９１３に導入される。
【００４２】
チャンバ９１内には、隔壁９１４、９１５により別室９１６が設けられており、タンクユニット１３は、この別室９１６内に設置されている。隔壁９１４には、主室９１３と別室９１６とを連通する連通部（開口）９１７が形成されている。別室９１６には、排気ダクト９４が接続されている。主室９１３に導入された温調空気は、連通部９１７を通過して別室９１６に流入した後、排気ダクト９４を通過してチャンバ装置９の外部に排出される。
【００４３】
このようなチャンバ装置９によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板Ｗや装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板Ｗ上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンクユニット１３も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板Ｗを清浄に維持することができる。
なお、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
【００４４】
チャンバ９１の外部には、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する制御装置（制御手段）１６が設置されている。制御装置１６は、ＣＰＵ（ＣｅｎｔｒａｌＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇＵｎｉｔ）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有しており、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する。
【００４５】
図３は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図、図４は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図である。
図４に示すように、架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２により、周囲の環境条件や振動等の影響を防ぎ、基板搬送テーブル３およびヘッドユニット１１が高精度に移動することができる。
【００４６】
石定盤２２の上には、Ｙ軸方向移動機構としてのリニアモータ１０１およびエアスライダ１０８が設置されている。基板搬送テーブル３は、エアスライダ１０８によりＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ１０１の駆動によりＹ軸方向に移動する。また、基板搬送テーブル３の下部には、θ軸回転機構１０５が設けられており、これにより、基板搬送テーブル３は、基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。
また、図３に示すように、基板搬送テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引口（吸引部）３３２が形成されている。
【００４７】
図５は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図、図６は、図５中の矢印Ａ方向から見た側面図、図７は、図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図である。
これらの図に示すように、装置本体２は、石定盤２２の上に設置された４本の支柱２３と、これらの支柱２３により支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とをさらに有している。基板搬送テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００４８】
図５に示すように、桁２４および２５には、メインキャリッジ１０２と、カメラキャリッジ１０６とがそれぞれ桁２４および２５の間に架け渡されるようにして設置されている。桁２４には、メインキャリッジ１０２およびカメラキャリッジ１０６の共通のＸ軸方向移動機構として、リニアモータアクチュエータ１０３が設置されている。メインキャリッジ１０２と、カメラキャリッジ１０６とは、それぞれ、リニアモータアクチュエータ１０３と、桁２５に設けられたリニアガイドとの案内により、Ｘ軸方向に円滑に移動可能に設置されている。メインキャリッジ１０２と、カメラキャリッジ１０６とは、リニアモータアクチュエータ１０３の駆動により、それぞれ独立してＸ軸方向に移動する。
【００４９】
メインキャリッジ１０２には、ヘッドユニット１１が支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ１０２とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。ヘッドユニット１１には、吐出液を供給するための配管（図示せず）や、配線ケーブル（図示せず）等がそれぞれ接続されている。また、ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ１０２に対し着脱可能になっている。
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００５０】
図８は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図８に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
【００５１】
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００５２】
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド１１１で構成してもよい。また、メインキャリッジ１０２に複数のヘッドユニット１１が設置されていてもよい。
【００５３】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。後述する基板位置決め装置の作動により基板搬送テーブル３上に基板Ｗが所定の位置に位置決め（プリアライメント）して載置されると、基板搬送テーブル３の各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラ１０７が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構１０５が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
【００５４】
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【００５５】
その後、メインキャリッジ１０２を移動させることにより、ヘッドユニット１１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了したら、ヘッドユニット１１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板Ｗの全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する。
【００５６】
図９および図１０は、それぞれ、図５中の矢印Ｃ方向から見た側面図である。以下、図５、図７、図９および図１０に基づいて、液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置の構成について説明する。
これらの図に示すように、装置本体２の桁２４には、基板Ｗの基板搬送テーブル３に対するＹ軸方向の位置を修正するＹ軸方向ガイド４１と、このＹ軸方向ガイド４１を昇降させるＹ軸方向ガイド昇降機構４２とが設置されている。Ｙ軸方向ガイド昇降機構４２は、例えば空気圧シリンダなどを利用した構成になっている。Ｙ軸方向ガイド昇降機構４２は、Ｙ軸方向ガイド４１を、基板搬送テーブル３に載置された基板Ｗの端面に当接し得る下降位置（図１０に示す位置）と、基板搬送テーブル３に載置された基板Ｗに干渉しない上昇位置（図９に示す位置）とに昇降させる。
【００５７】
Ｙ軸方向ガイド４１は、鉛直方向の回転軸を中心として回転可能に支持された４個のローラー４１１で構成されている。図５に示すように、４個のローラー４１１は、Ｘ軸方向に沿って並ぶように配置されている。Ｙ軸方向ガイド４１は、下降位置にあるとき、４個のローラー４１１の外周面を当接点として基板Ｗの１つの辺の端面に当接することができる。これにより、基板Ｗの基板搬送テーブル３に対するＹ軸方向の位置を修正する際、当接した基板Ｗの辺がＸ軸方向に平行になるように基板Ｗの姿勢を修正することもできる。図示の構成では、４個のローラー４１１は、２個ずつに２つに分かれて支持され、それぞれに対応して設けられたＹ軸方向ガイド昇降機構４２により昇降するようになっている。なお、ローラー４１１（当接点）は、少なくとも２個設けられていればよい。
【００５８】
装置本体２の桁２５には、基板Ｗの基板搬送テーブル３に対するＹ軸方向の位置を修正する第２のＹ軸方向ガイド４３と、この第２のＹ軸方向ガイド４３を昇降させる第２のＹ軸方向ガイド昇降機構４４とが設置されている。すなわち、第２のＹ軸方向ガイド４３は、Ｙ軸方向ガイド４１からＹ軸方向に離れた位置に設置されている。第２のＹ軸方向ガイド４３は、４個のローラー４３１で構成されている。第２のＹ軸方向ガイド４３および第２のＹ軸方向ガイド昇降機構４４の構成は、それぞれ、Ｙ軸方向ガイド４１およびＹ軸方向ガイド昇降機構４２と同様であるので、その説明を省略する。
【００５９】
図９に示すように、カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの基板搬送テーブル３に対するＸ軸方向の位置を修正するＸ軸方向ガイド４５と、このＸ軸方向ガイド４５を昇降させるＸ軸方向ガイド昇降機構４６とが設置されている。Ｘ軸方向ガイド昇降機構４６は、例えば空気圧シリンダなどを利用した構成になっている。Ｘ軸方向ガイド昇降機構４６は、Ｘ軸方向ガイド４５を、基板搬送テーブル３に載置された基板Ｗの端面に当接し得る下降位置（図１０に示す位置）と、基板搬送テーブル３に載置された基板Ｗに干渉しない上昇位置（図９に示す位置）とに昇降させる。
【００６０】
Ｘ軸方向ガイド４５は、鉛直方向の回転軸を中心として回転可能に支持された２個のローラー４５１で構成されている。２個のローラー４５１は、Ｙ軸方向に沿って並ぶように配置されている。Ｘ軸方向ガイド４５は、下降位置にあるとき、２個のローラー４５１の外周面を当接点として基板Ｗの１つの辺の端面に当接することができる。これにより、基板Ｗの基板搬送テーブル３に対するＸ軸方向の位置を修正する際、当接した基板Ｗの辺がＹ軸方向に平行になるように基板の姿勢を修正することもできる。図示の構成では、２個のローラー４５１は、それぞれ別個に支持され、それぞれに対応して設けられたＹ軸方向ガイド昇降機構４６により昇降するようになっている。
【００６１】
このようなＸ軸方向ガイド４５は、Ｘ軸方向移動機構としてのリニアモータアクチュエータ１０３の駆動により、カメラキャリッジ１０６とともに基板搬送テーブル３に対しＸ軸方向に相対的に移動する。
なお、ローラー４１１、４３１、４５１は、少なくともその外周面が樹脂材料またはゴム等の弾性材料で構成されているのが好ましい。これにより、基板Ｗを傷つけることが防止される。
【００６２】
図１１は、図１および図２に示す液滴吐出装置における基板搬送テーブルを示す斜視図、図１２および図１３は、それぞれ、図１１中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図である。以下、これらの図に基づいて、基板搬送テーブル３の構成について詳細に説明する。
図１１に示すように、基板搬送テーブル３は、平板状の上板３１と、上板３１の下面側に重ねて接合された下板３２と、上板３１上に設置された複数のブロック３３と、上板３１上に設置された複数のボールリフト装置３４とを有している。
【００６３】
ブロック３３は、上板３１上で、互いに間隔を空けて行列状（図示の構成では、９×１１で９９個のブロック３３がある）に並んで配置されている。これらのブロック３３の上面は、基板Ｗが載置される載置面３３１を構成する。各ブロック３３には、載置面３３１に開口する吸引口３３２が形成されている。各吸引口３３２は、エアー吸引する吸引経路に通じている。
【００６４】
各ブロック３３の近傍には、それぞれ、ボールリフト装置３４が設置されている。これら複数のボールリフト装置３４は、互いに同様の構成であるので、１つのボールリフト装置３４について代表して説明する。図１２に示すように、ボールリフト装置３４は、ハウジング３４１と、ハウジング３４１内に設けられた空気圧シリンダ（ボール昇降機構）３４２と、空気圧シリンダ３４２のピストンとしても機能するボール支持体３４３と、ボール支持体３４３に複数の小球（ベアリング）３４５を介して滑らかに回転可能に支持されたボール（球体）３４４とを有している。
【００６５】
空気圧シリンダ３４２には、液滴吐出装置１の近傍（好ましくはチャンバ９１の外）に設置された図示しないエアー供給源（圧力供給源）からの空気圧を供給する配管３４６が接続されている。Ｙ軸方向に並ぶ一列の各ボールリフト装置３４の各空気圧シリンダ３４２は、通路３４７により互いに連通しており、１つの配管３４６によりＹ軸方向の一列のボールリフト装置３４のすべてに空気圧が供給される。
【００６６】
空気圧シリンダ３４２の作動により、ボール３４４は、載置面３３１より上方に突出する位置（図１３に示す位置）と、載置面３３１より下側に退避する位置（図１２に示す位置）とに昇降する。図１３に示すように、ボール３４４が上昇した状態では、基板Ｗは、各載置面３３１から離間して各ボール３４４に支持されるので、各ボール３４４の回転により、基板搬送テーブル３に対しＹ軸方向およびＸ軸方向に自由に移動（回転も含む）可能になる。なお、ボール３４４は、樹脂材料（例えばメラミン樹脂等）で構成されているのが好ましい。これにより、基板Ｗを傷つけることが防止される。
【００６７】
すなわち、これらのボールリフト装置３４は、載置された基板Ｗが基板搬送テーブル３に対し移動（スライド）するときの移動抵抗を低減可能な移動抵抗低減手段として機能するものである。なお、ボールリフト装置３４の設置個数は特に限定されないが、基板Ｗを少なくとも３点で支持し得るように、最低３個設置されていればよい。また、本発明では、この移動抵抗低減手段としては、ボールリフト装置３４に限らず、例えば、空気を吹き出して基板Ｗを浮上させるような機構を用いてもよい。
【００６８】
図１４および図１５は、それぞれ、図１および図２に示す液滴吐出装置における基板搬送テーブルに、基板を搬入・載置する作業の様子を示す平面図および側面図である。以下、これらの図に基づいて、基板Ｗを基板搬送テーブル３上に給材する作業について説明するが、後述するように、基板搬送テーブル３に給材された基板Ｗは、その後、Ｙ軸方向ガイド４１、第２のＹ軸方向ガイド４３およびＸ軸方向ガイド４５を用いて位置決め（プリアライメント）されるので、以下の作業では、大まかに位置を合わせて基板Ｗを載置すればよい。
【００６９】
液滴吐出装置１の基板搬送テーブル３上に基板Ｗを搬入・載置する際には、チャンバ９１に設けられた基板搬入用扉（図示せず）を開き、台車５０を利用して、基板Ｗを基板搬送テーブル３の近くまで運ぶ。このとき、基板搬送テーブル３のボールリフト装置３４は、ボール３４４が下降した状態になっていても上昇した状態になっていてもよい。台車５０には、互いに平行に配置された複数のバー５０１を有するフォーク５０２が設けられており、このフォーク５０２上に基板Ｗが載せられている。このとき、台車５０の向きは、バー５０１がＹ軸方向に平行となるような向きとされる。
【００７０】
図１４および図１５に示す状態から、作業者６０がフォーク送りハンドル５０３を回すと、フォーク５０２が図中の右方向に前進する。フォーク５０２および基板Ｗが基板搬送テーブル３の上方まで移動したら、作業者６０は、フォーク昇降ハンドル５０４を回して、フォーク５０２および基板Ｗを下降させ、基板Ｗを各載置面３３１または各ボール３４４に接地させる。このとき、フォーク５０２を構成する各バー５０１は、ブロック３３とブロック３３との間に形成される空間３５に入り込むので、作業者６０は、フォーク送りハンドル５０３を前記と反対方向に回してフォーク５０２を図中の左方向に後退させることにより、フォーク５０２を基板Ｗと基板搬送テーブル３との間から引き抜くことができる。以上により、基板搬送テーブル３に、基板Ｗを搬入・載置する作業が終了する。
【００７１】
図１６および図１７は、それぞれ、図１および図２に示す液滴吐出装置が備える基板位置決め装置により実施される基板位置決め方法（ワーク位置決め方法）を模式的に示す側面図および正面図である。以下、これらの図に基づいて、液滴吐出装置１の基板搬送テーブル３に載置された基板Ｗを基板搬送テーブル３に対し位置決め（プリアライメント）する基板位置決め方法について説明する。なお、以下の説明では、基板Ｗの中心Ｗ１を基板搬送テーブル３の中心に一致させるように位置決めする場合を例に説明するが、基板搬送テーブル３上で基板Ｗを位置決めする位置は、いかなる位置でもよい。例えば、基板Ｗの大きさが基板搬送テーブル３の大きさより小さい場合、基板Ｗを基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めしてもよい。
【００７２】
液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置は、制御装置１６の制御により、以下に説明するように作動する。基板Ｗの位置決め前、Ｙ軸方向ガイド４１、第２のＹ軸方向ガイド４３およびＸ軸方向ガイド４５は、基板Ｗに干渉しないよう上方に退避している。そして、前述したような作業により基板搬送テーブル３上に基板Ｗが搬入・載置されたら、基板搬送テーブル３がＹ軸方向に前進し、基板ＷのＹ軸方向後端Ｗ２がＹ軸方向ガイド４１より前方に位置する状態とする。また、基板搬送テーブル３は、各ボール３４４を上昇させることにより、基板搬送テーブル３上で基板Ｗが自由に移動可能な状態とする。
【００７３】
次いで、図１６に示すようなＹ軸方向位置修正工程を行う。Ｙ軸方向位置修正工程では、まず、図１６の▲１▼に示すように、Ｙ軸方向ガイド４１を下降させた状態で、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に後退させつつ、Ｙ軸方向ガイド４１を基板ＷのＹ軸方向後端Ｗ２の端面に当接（接触）させる。そして、制御装置１６の記憶部に予め記憶された基板Ｗの寸法データ（例えば、基板Ｗの形状、長さ、幅、厚さ等の寸法、基板Ｗの属性（基板ナンバー等）、材質、アライメントマーク位置等の情報を含むデータ）に基づき、中心Ｗ１が基板搬送テーブル３のＹ軸方向中央位置に一致するような位置まで基板搬送テーブル３をＹ軸方向に後退させる。これにより、基板Ｗが基板搬送テーブル３に対しＹ軸方向後方に片寄った位置にあった場合、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に対し相対的にＹ軸方向に前進して、Ｙ軸方向の位置が修正される。
【００７４】
なお、液滴吐出装置１では、基板Ｗの種類に応じた複数組の寸法データを制御装置１６の記憶部に予め記憶しておくことにより、複数種類の基板Ｗに対応して、基板の位置決め（プリアライメント）や、その後の液滴吐出動作を行うことができる。また、基板Ｗの寸法データには、基板搬送テーブル３上での基板Ｗの位置決めすべき位置を含ませることもでき、これにより、基板搬送テーブル３上での基板Ｗの位置決めする位置を設定（変更）することができる。
【００７５】
次いで、図１６の▲２▼に示すように、Ｙ軸方向ガイド４１を上昇させるとともに、第２のＹ軸方向ガイド４３を下降させた状態で、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に前進させつつ、Ｙ軸方向ガイド４１を基板ＷのＹ軸方向前端Ｗ３の端面に当接（接触）させる。そして、制御装置１６の記憶部に予め記憶された基板Ｗの寸法データに基づき、中心Ｗ１が基板搬送テーブル３のＹ軸方向中央位置に一致するような位置まで基板搬送テーブル３をＹ軸方向に前進させる。これにより、基板Ｗが基板搬送テーブル３に対しＹ軸方向前方に片寄った位置にあった場合、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に対し相対的にＹ軸方向に後退して、Ｙ軸方向の位置が修正される。なお、以上のようなＹ軸方向修正工程の図１６の▲１▼、▲２▼の順序は上記と逆でもよい。
【００７６】
次いで、図１７に示すようなＸ軸方向位置修正工程を行う。Ｘ軸方向位置修正工程では、図１７の▲１▼に示すように、Ｘ軸方向ガイド４５を下降させた状態でＸ軸方向に後退させつつ、Ｘ軸方向ガイド４５を基板ＷのＸ軸方向前端Ｗ４の端面に当接（接触）させる。そして、制御装置１６の記憶部に予め記憶された基板Ｗの寸法データに基づき、中心Ｗ１が基板搬送テーブル３のＸ軸方向中央位置に一致するような位置まで、Ｘ軸方向ガイド４５をＸ軸方向に後退させる。これにより、基板Ｗが基板搬送テーブル３に対しＸ軸方向前方に片寄った位置にあった場合、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に対し相対的にＸ軸方向に後退して、Ｘ軸方向の位置が修正される。
【００７７】
次いで、Ｘ軸方向ガイド４５を一旦上昇させ、Ｘ軸方向ガイド４５が基板ＷのＸ軸方向後端Ｗ５より後方に位置するようにＸ軸方向に後退させる。この状態から、図１７の▲２▼に示すように、Ｘ軸方向ガイド４５を下降させた状態でＸ軸方向に前進させつつ、Ｘ軸方向ガイド４５を基板ＷのＸ軸方向後端Ｗ５の端面に当接（接触）させる。そして、制御装置１６の記憶部に予め記憶された基板Ｗの寸法データに基づき、中心Ｗ１が基板搬送テーブル３のＸ軸方向中央位置に一致するような位置まで、Ｘ軸方向ガイド４５をＸ軸方向に前進させる。これにより、基板Ｗが基板搬送テーブル３に対しＸ軸方向後方に片寄った位置にあった場合、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に対し相対的にＸ軸方向に前進して、Ｘ軸方向の位置が修正される。
【００７８】
以上のようなＸ軸方向修正工程の間、Ｙ軸方向ガイド４１および第２のＹ軸方向ガイド４３は、上昇した状態になっていてもよいが、第２のＹ軸方向ガイド４３（またはＹ軸方向ガイド４１）が下降して基板ＷのＹ軸方向前端Ｗ３（またはＹ軸方向後端Ｗ２）に当接（接触）した状態を維持してもよい。これにより、Ｙ軸方向位置修正工程により修正した基板ＷのＹ軸方向の位置がずれるのをより確実に防止しつつ、Ｘ軸方向の位置修正を行うことができる。また、この場合、ローラー４３１（またはローラー４１１）が回転するので、基板ＷがＸ軸方向に移動するのを第２のＹ軸方向ガイド４３（またはＹ軸方向ガイド４１）が妨げることはない。
また、以上のようなＸ軸方向修正工程の図１７の▲１▼、▲２▼の順序は上記と逆でもよい。さらに、Ｙ軸方向修正工程とＸ軸方向修正工程との順序も、上記と逆でもよい。
【００７９】
以上のようなＹ軸方向修正工程およびＸ軸方向修正工程を終えたら、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６をそれぞれ移動させることにより、基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマーク（図示せず）を認識カメラ１０７に認識しに行かせる。このとき、認識カメラ１０７の視野内にアライメントマークが入っていれば、基板Ｗのプリアライメントを終了する。認識カメラ１０７の視野内にアライメントマークが入っていない場合には、Ｙ軸方向修正工程およびＸ軸方向修正工程を再度行った後、認識カメラ１０７に再度アライメントマークを認識しに行かせる。このようにして、認識カメラ１０７の視野内にアライメントマークが入るまで、Ｙ軸方向修正工程およびＸ軸方向修正工程を複数回繰り返し行ってもよい。また、認識カメラ１０７と基板Ｗとをそれぞれ微小に移動させることによってアライメントマークが認識カメラ１０７の視野内に入るように制御し、その後、本アライメント作業に移行することとしてもよい。また、認識カメラ１０７の視野に基板Ｗのアライメントマークが入ったことを確認することなく、基板Ｗの位置決め（プリアライメント）を終了してもよい。
【００８０】
基板Ｗのプリアライメントを終了したら、各ボール３４４を下降させて基板Ｗを各載置面３３１に接地させるとともに、各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗを基板搬送テーブル３に吸着・固定する。その後、制御装置１６は、認識カメラ１０７による基板Ｗのアライメントマークの認識結果に基づいて、θ軸回転機構１０５を作動させて基板Ｗのθ軸回りの角度を補正するとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正をデータ上で行う。これが、基板Ｗの本アライメントとなる。その後、液滴吐出装置１は、前述したような液滴吐出動作を基板Ｗに対して行う。
【００８１】
以上説明したように、本発明によれば、簡単な構成で、例えば基板Ｗのようなワークをワーク搬送テーブル上で正確に（高精度で）位置決めすることができる。よって、ワーク搬送テーブル上にワークを搬入・載置する際、大まかに位置を合わせて載置すれば済み、正確な位置にワークを給材する必要がない。よって、ロボット（産業用ロボット）を利用してワークを正確に位置決めして給材せずに、前述したような作業で人手によってワークを給材してもよいので、ロボットを用いない場合には、その分の設備投資額を少なくすることができ、コスト低減が図れる。また、給材にロボットを利用するのが困難な比較的大型のワークを扱う際にも有利である。また、ワークの給材にロボットを利用する場合であっても、ワークが大型のものになると、ワークのアライメントマークが認識カメラ１０７の視野内に入るように正確に位置決めして給材するのが難しくなるが、このような場合でも、本発明によれば、給材時の正確な位置決めが不要であるので、不都合を生じない。よって、大型のワークをロボットを利用して給材し、量産を図るような場合にも有利であり、コスト低減に寄与する。
【００８２】
また、ワーク搬送テーブルに位置決め機構を設置する必要がないので、ワーク搬送テーブルの構造の簡素化、小型化および軽量化が図れる。よって、比較的大型のワークに対応する比較的大型のワーク搬送テーブルを容易に作製することができる。
また、ワークの寸法を予め制御装置１６に入力しておけば、ワークの大きさにかかわらず位置決めを行うことができる。また、ワークが矩形の場合に限らず、ワークが円形の場合でも位置決めを行うことができる。また、ワークの厚さにかかわらず位置決めを行うこともできる。
【００８３】
また、本実施形態では、互いに反対方向からワークに当接するＹ軸方向ガイド４１と、第２のＹ軸方向ガイド４３との２組のＹ軸方向ガイドを設けたことにより、ワーク搬送テーブルのＹ軸方向の移動距離が少なくて済むので、装置本体２のＹ軸方向の長さを短縮することができ、液滴吐出装置１全体の小型化が図れる。なお、本発明では、Ｙ軸方向ガイドは、１組設置されていればよく、この１組のＹ軸方向ガイドがワークに対しＹ軸方向の両側から当接するようにしてもよい。
【００８４】
また、Ｙ軸方向ガイド、Ｘ軸方向ガイドの基板に対する当接部は、本実施形態のように、ワークの端面に複数点で点状に接触するものに限らず、端面の長手方向に連続して線状に接触するようなものでもよい。
また、本実施形態では、Ｘ軸方向ガイド４５と認識カメラ１０７とが共通のＸ軸方向移動機構（リニアモータアクチュエータ１０３）によってＸ軸方向に移動するので、さらなる構造の簡素化が図れる。
【００８５】
また、本発明では、ワーク搬送テーブルと、Ｘ軸方向ガイド４５とが相対的にＸ軸方向に移動可能であればよいので、ワーク搬送テーブルをＸ軸方向に移動させる機構がある場合には、Ｘ軸方向ガイド４５が装置本体２に設置されていてもよい。すなわち、本発明の液滴吐出装置１は、ヘッドユニット１１を装置本体２に対し固定とし、ワークをＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。
【００８６】
以上、本発明のワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法および液滴吐出装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではく、ワーク位置決め装置、液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
例えば、Ｙ軸方向移動機構、Ｘ軸方向移動機構は、リニアモータに代えて、例えばボールネジ（送りネジ）などでもよい。また、Ｙ軸方向ガイド昇降機構、Ｘ軸方向ガイド昇降機構は、空気圧シリンダに代えて、例えば液圧シリンダ、ボールネジ（送りネジ）などでもよい。
【００８７】
また、本実施形態においては、本発明のワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法を液滴吐出装置に適用した場合について説明したが、本発明のワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法は、これに限らず、例えば露光装置などの他の各種の装置にも適用することができる。
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【００８８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図３】架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図。
【図４】架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図。
【図５】ヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図。
【図６】図５中の矢印Ａ方向から見た側面図。
【図７】図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図。
【図８】ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図９】図５中の矢印Ｃ方向から見た側面図。
【図１０】図５中の矢印Ｃ方向から見た側面図。
【図１１】基板搬送テーブルを示す斜視図。
【図１２】図１１中の矢印Ｄの部分を拡大して示す一部切欠き側面図。
【図１３】図１１中の矢印Ｄの部分を拡大して示す一部切欠き側面図。
【図１４】基板搬送テーブルに基板を給材する作業の様子を示す平面図。
【図１５】基板搬送テーブルに基板を給材する作業の様子を示す側面図。
【図１６】本発明の基板位置決め方法を模式的に示す側面図。
【図１７】本発明の基板位置決め方法を模式的に示す正面図。
【符号の説明】
３……基板搬送テーブル、３３……ブロック、３３１……載置面、３４……ボールリフト装置、３４４……ボール、４１……Ｙ軸方向ガイド、４１１……ローラー、４２……Ｙ軸方向ガイド昇降機構、４３……第２のＹ軸方向ガイド、４３１……ローラー、４４……第２のＹ軸方向ガイド昇降機構、Ｗ……基板、Ｗ１……中心、Ｗ２……Ｙ軸方向後端、Ｗ３……Ｙ軸方向前端[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a work positioning device, a work positioning method, a droplet discharge device, an electro-optical device, a method of manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus.
[0002]
[Prior art]
For example, in an apparatus that performs processing such as exposure on a workpiece such as a substrate, the substrate is accurately placed in a predetermined position with respect to a substrate transport table that transports the substrate in order to accurately expose the substrate in a predetermined pattern. It must be positioned and placed. A conventional substrate positioning device is provided with a plurality of guide pins and a driving means for moving the guide pins on a substrate transport table, and guides a substrate placed on the substrate transport table to a predetermined position by moving the guide pins. (For example, see Patent Document 1).
In such a conventional substrate positioning apparatus, it is necessary to provide a plurality of guide pins and a driving means for moving the guide pins on the substrate transfer table, which causes a problem that the structure of the substrate transfer table becomes complicated, large, and heavy. was there.
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-6-348025
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a work positioning device, a work positioning method, a droplet discharge device including the work positioning device, and a droplet discharge device that can achieve simplification, miniaturization, and weight reduction of the structure of a work transfer table. An object of the present invention is to provide an electro-optical device manufactured using the same, a method of manufacturing an electro-optical device using the droplet discharge device, and an electronic apparatus including the electro-optical device.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the present invention described below.
The work positioning device of the present invention, the device body,
A work transfer table on which the work can be placed;
A Y-axis direction moving mechanism for moving the work transfer table in one direction (hereinafter, referred to as “Y-axis direction”) that is horizontal to the apparatus main body;
A Y-axis direction guide installed on the apparatus main body, for correcting a position of the work in the Y-axis direction with respect to the work transfer table;
A Y-axis direction guide that raises and lowers the Y-axis direction guide to a lowering position where it can come into contact with an end surface of the work placed on the work transfer table, and a rising position that does not interfere with the work placed on the work transfer table. Lifting mechanism,
An X-axis direction guide for correcting a position of the work in a direction perpendicular to the Y-axis direction and horizontal to the work transfer table (hereinafter, referred to as “X-axis direction”);
An X-axis direction moving mechanism that relatively moves the X-axis direction guide relative to the work transfer table in the X-axis direction;
An X-axis guide that raises and lowers the X-axis direction guide to a lowering position where it can come into contact with an end surface of the work placed on the work transfer table and a rising position that does not interfere with the work placed on the work transfer table. A lifting mechanism.
Thus, with a simple configuration, the work can be accurately positioned with respect to the work transfer table, and the structure, size, and weight of the work transfer table can be simplified.
[0006]
In the work positioning device of the present invention, the X-axis direction guide is installed so as to be movable in the X-axis direction with respect to the device main body,
It is preferable that the X-axis direction moving mechanism moves the X-axis direction guide in the X-axis direction with respect to the apparatus main body.
This eliminates the need for the work transfer table to move in the X-axis direction with respect to the apparatus main body, so that the apparatus can be downsized.
[0007]
In the work positioning device of the present invention, it is preferable that a plurality of contact points of the Y-axis direction guide with respect to the work are arranged along the X-axis direction.
Thus, when correcting the position of the work with respect to the work transfer table in the Y-axis direction, the posture of the work can be corrected so that the side of the work that is brought into contact with the Y-axis direction guide is parallel to the X-axis direction.
[0008]
In the work positioning device of the present invention, it is preferable that a plurality of contact points of the X-axis direction guide with respect to the work are arranged along the Y-axis direction.
Accordingly, when correcting the position of the work with respect to the work transfer table in the X-axis direction, the posture of the work can be corrected so that the side of the work contacted by the X-axis direction guide is parallel to the Y-axis direction.
[0009]
In the work positioning apparatus of the present invention, the Y-axis direction guide and / or the X-axis direction guide has at least two rollers rotatably supported, and when in the lowered position, an outer peripheral surface of the rollers. Preferably can contact the end face of the work placed on the work transfer table.
Accordingly, when the Y-axis direction guide and / or the X-axis direction guide abut on the work, the work is not rubbed by the rotation of the roller, so that the work can be more reliably prevented from being damaged. .
[0010]
The work positioning device according to the present invention is provided at a position apart from the Y-axis guide in the Y-axis direction, and corrects the position of the work in the Y-axis direction with respect to the work transfer table. When,
Raising and lowering the second Y-axis direction guide to a lowering position where it can come into contact with an end surface of the work placed on the work transfer table, and a rising position that does not interfere with the work placed on the work transfer table. And two Y-axis guide elevating mechanisms.
It is preferable that the Y-axis direction guide and the second Y-axis direction guide abut on the workpiece from directions opposite to each other.
Thus, the moving distance of the work transfer table in the Y-axis direction can be reduced, and the length of the apparatus body in the Y-axis direction can be reduced.
It is preferable that the work positioning device of the present invention further includes a recognition camera for recognizing a mark provided on the work, and performs positioning such that the mark is in a field of view of the recognition camera.
Thereby, the workpiece can be positioned more accurately.
[0011]
In the work positioning device of the present invention, the recognition camera is installed so as to be movable in the X-axis direction with respect to the device main body together with the X-axis direction guide,
It is preferable that the X-axis direction moving mechanism moves both the X-axis direction guide and the recognition camera in the X-axis direction with respect to the apparatus main body.
Thereby, the recognition camera and the X-axis direction guide share the X-axis direction moving mechanism, so that the structure of the apparatus can be simplified.
[0012]
In the work positioning device of the present invention, it is preferable that the work transfer table has a movement resistance reducing unit that can reduce a movement resistance when the placed work moves with respect to the work transfer table.
Thus, the work can be smoothly moved on the work transfer table at the time of positioning, the positioning can be performed more accurately and more reliably, and the work can be more reliably prevented from being damaged.
[0013]
In the work positioning device of the present invention, the movement resistance reducing unit includes at least three rotatably supported balls, and a position where the balls protrude above a mounting surface of the work transfer table. And a ball elevating mechanism for elevating the ball to a position where the ball retracts below the placement surface.
Thus, with a simple structure, the movement resistance when the work moves with respect to the work transfer table can be reduced.
In the work positioning device of the present invention, it is preferable that the work transport table has a suction unit for sucking the placed work.
Thus, after positioning the work, the work can be securely fixed to the work transfer table.
[0014]
It is preferable that the work positioning device of the present invention further includes control means for controlling operations of the Y-axis direction moving mechanism, the Y-axis direction guide elevating mechanism, the X-axis direction moving mechanism, and the X-axis direction guide elevating mechanism. .
Thereby, the operation of the Y-axis direction moving mechanism, the Y-axis direction guide elevating mechanism, the X-axis direction moving mechanism, and the X-axis direction guide elevating mechanism can be controlled to execute the work positioning operation.
[0015]
In the work positioning device of the present invention, it is preferable that the work is positioned based on the work dimensional data stored in advance in the storage unit of the control means.
Thereby, accurate positioning can be performed according to the shape and size of the work.
In the work positioning device of the present invention, it is preferable that a position for positioning the work on the work transfer table can be set.
Thus, the position where the work is positioned on the work transfer table can be changed according to the work.
[0016]
The work positioning method of the present invention is a work positioning method of positioning a work placed on the work transfer table with respect to the work transfer table using the work positioning device of the present invention,
While moving the work transfer table in the Y-axis direction while the Y-axis direction guide is located at the lowered position, the Y-axis direction guide is brought into contact with an end surface of the work, so that At least one Y-axis direction position correcting step of correcting the position in the Y-axis direction with respect to the work transfer table;
While moving the X-axis direction guide relative to the work transfer table in the X-axis direction while the X-axis direction guide is located at the lowered position, the X-axis direction guide is moved to the end face of the work. At least one X-axis direction position correcting step of correcting the position of the work with respect to the work transfer table in the X-axis direction by contacting the work is provided.
Thus, the work can be accurately positioned with respect to the work transfer table with a simple configuration, and the structure of the work transfer table can be simplified and reduced in weight.
The work positioning method of the present invention is preferably performed in a state where temperature and / or humidity are controlled.
Thereby, the work can be positioned with higher accuracy with respect to the work transfer table.
[0017]
The droplet discharge device of the present invention, the work positioning device of the present invention,
A droplet discharge head that discharges droplets onto the work placed on the work transfer table.
Thus, it is possible to provide a droplet discharge device that can accurately position a work with respect to the work transfer table with a simple configuration, and that can simplify, reduce the size, and reduce the weight of the work transfer table. .
[0018]
In the droplet discharge device according to the aspect of the invention, it is preferable that the droplet discharge head is installed so as to be movable in the X-axis direction with respect to the device main body.
This eliminates the need for the work transfer table to move in the X-axis direction with respect to the apparatus main body, so that the apparatus can be downsized.
In the droplet discharge device of the present invention, after the work is positioned relative to the work transfer table by the operation of the work positioning device, the droplet is moved while the work transfer table and the droplet discharge head are relatively moved. It is preferable that a predetermined pattern is formed on the workpiece by discharging droplets from a discharge head.
Thereby, various patterns can be formed (drawn) on the work according to the purpose.
[0019]
The droplet discharge device of the present invention is preferably used in a state where it is housed in an isolated space.
Thereby, intrusion of dust, dust and the like can be prevented, and a pattern can be formed (drawn) by the discharged droplets while the work is kept clean.
In the droplet discharge device according to the aspect of the invention, it is preferable that the isolated space has an internal temperature and / or humidity controlled.
Thus, the positioning of the work on the work transfer table can be performed with higher precision, and the formation (drawing) of the pattern by the discharged droplets can be performed with higher precision.
[0020]
An electro-optical device according to the present invention is manufactured using the droplet discharge device according to the present invention.
This makes it possible to provide an electro-optical device suitable for mass production and capable of reducing manufacturing costs.
A method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention uses the droplet discharge device according to the present invention.
Accordingly, it is possible to provide a method of manufacturing an electro-optical device suitable for mass production and capable of reducing the manufacturing cost.
An electronic apparatus according to the present invention includes the electro-optical device according to the present invention.
Thus, it is possible to provide an electronic device suitable for mass production and capable of reducing manufacturing costs.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a work positioning device, a work positioning method, and a droplet discharge device of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
1 and 2 are a plan view and a side view, respectively, showing an embodiment of a droplet discharge device including a substrate positioning device to which the work positioning device of the present invention is applied. In the following, for convenience of explanation, one horizontal direction (a direction corresponding to the horizontal direction in FIGS. 1 and 2) is referred to as a “Y-axis direction”, and a direction perpendicular to the Y-axis direction and horizontal ( The direction corresponding to the up-down direction in FIG. 1) is referred to as “X-axis direction”. The right direction in FIGS. 1 and 2 is referred to as “forward”, the left direction in FIGS. 1 and 2 is referred to as “rearward”, and the X direction is the downward direction in FIG. Is referred to as “front”, and the upward direction in FIG. 1 is referred to as “rear”. The movement in the Y-axis direction to the right in FIGS. 1 and 2 is “forward in the Y-axis direction”, and the movement in the Y-axis direction to the left in FIGS. 1 and 2 is “Y”. 1 is referred to as “retreat in the axial direction”, a downward movement in the X-axis direction in FIG. 1 is referred to as “forward in the X-axis direction”, and an upward movement in the X-axis direction in FIG. Retreat in the axial direction. "
[0022]
The droplet discharge device (inkjet drawing device) 1 shown in these drawings applies a liquid (discharge liquid) such as, for example, ink or a functional liquid containing a target material to a substrate W as a work by an inkjet method (droplet). This is a device that forms (draws) a predetermined pattern by discharging in the state of minute droplets by a discharge method, for example, manufacturing a color filter or an organic EL device in a liquid crystal display device, or forming a metal wiring on a substrate. It can be used for forming. The material of the substrate W targeted by the droplet discharge device 1 is not particularly limited, and any material may be used as long as it is a plate-like member. For example, a glass substrate, a silicon substrate, a flexible substrate, and the like may be targeted. it can.
[0023]
Further, the work to be targeted in the present invention is not limited to a plate-shaped member, and may be any member as long as the member has a flat bottom surface. For example, the present invention can also be applied to a droplet discharge device that forms a coating such as an optical thin film by discharging a droplet to the lens using a lens as a work. In addition, the present invention is particularly preferably applied to a relatively large droplet discharge device 1 that can cope with a relatively large work (for example, each having a length and a width of about several tens cm to several meters). can do.
[0024]
The droplet discharge device 1 includes an apparatus body 2, a substrate transfer table (substrate transfer stage) 3 as a work transfer table (work transfer stage), and a head unit 11 having a plurality of droplet discharge heads (inkjet heads) 111. A maintenance unit 12 for maintaining the droplet discharge head 111; a tank unit 13 having a liquid supply tank, a drainage tank and a reuse tank; a blow device 14 for blowing gas onto the substrate W; It has a laser length measuring device 15 for measuring the moving distance, a control device 16, and a missing dot detection unit 19.
[0025]
The liquid ejected from the droplet ejection head 111 is not particularly limited. In addition to the ink containing the filter material of the color filter, for example, a liquid containing the following various materials (including a dispersion liquid such as a suspension and an emulsion). It can be. A light emitting material for forming an EL light emitting layer in an organic EL (electroluminescence) device. A fluorescent material for forming a phosphor on an electrode in an electron emission device; -A fluorescent material for forming a phosphor in a PDP (Plasma Display Panel) device. -An electrophoretic material forming an electrophoretic body in an electrophoretic display device. A bank material for forming a bank on the surface of the substrate W;・ Various coating materials. A liquid electrode material for forming an electrode; A particle material forming a spacer for forming a minute cell gap between two substrates; A liquid metal material for forming metal wiring; A lens material for forming a microlens;・ Resist material. A light diffusion material for forming a light diffuser;
[0026]
As shown in FIG. 2, the apparatus main body 2 has a gantry 21 installed on the floor, and a stone stool 22 installed on the gantry 21. On the stone platen 22, the substrate transfer table 3 is installed movably in the Y-axis direction with respect to the apparatus main body 2. The substrate transport table 3 moves forward and backward in the Y-axis direction by driving of the linear motor 101. The substrate W is placed on the substrate transfer table 3.
[0027]
In the droplet discharge device 1, substrates W of various sizes and shapes from a relatively large substrate W having the same size as the substrate transfer table 3 to a relatively small substrate W smaller than the substrate transfer table 3 can be used. Can be targeted. In principle, it is preferable that the substrate W performs the droplet discharging operation in a state where the substrate W is positioned so as to be aligned with the center of the substrate transport table 3. The droplet discharging operation may be performed by positioning at a position close to the position.
[0028]
As shown in FIG. 1, in the vicinity of two sides along the X-axis direction of the substrate transfer table 3, each of the substrates W is discarded and discharged (flushing) from the droplet discharge head 111 before the droplet is discharged (drawn) on the substrate W. A pre-drawing flushing unit 104 that receives the discharged droplets is provided. A suction tube (not shown) is connected to the pre-drawing flushing unit 104, and the discarded and discharged liquid is collected through the suction tube and stored in a drain tank installed in the tank unit 13. Will be stored.
[0029]
The moving distance of the substrate transfer table 3 in the Y-axis direction is measured by a laser length measuring device 15 as a moving distance detecting means. The laser length measuring device 15 has a laser length measuring device sensor head 151, a prism 152 and a laser length measuring device main body 153 installed on the apparatus main body 2, and a corner cube 154 installed on the substrate transfer table 3. . The laser light emitted from the laser measuring device sensor head 151 along the X-axis direction is bent by the prism 152, travels in the Y-axis direction, and is irradiated on the corner cube 154. The light reflected by the corner cube 154 returns to the laser length measuring device sensor head 151 via the prism 152. In the droplet discharge device 1, discharge timing from the droplet discharge head 111 is generated based on the moving distance (current position) of the substrate transfer table 3 detected by the laser length measuring device 15 as described above.
[0030]
Further, a main carriage 102 that supports the head unit 11 is installed in the apparatus main body 2 so as to be movable in the X-axis direction in a space above the substrate transfer table 3. The head unit 11 having the plurality of droplet discharge heads 111 moves forward and backward in the X-axis direction together with the main carriage 102 by driving a linear motor actuator 103 having a linear motor and a guide.
[0031]
In the droplet discharge device 1 of the present embodiment, the so-called main scanning of the droplet discharge head 111 is performed based on the discharge timing generated by using the laser length measuring device 15 while moving the substrate transfer table 3 in the Y-axis direction. Then, the droplet discharge head 111 is driven (selective discharge of the discharged droplet). Correspondingly, so-called sub-scanning is performed by moving the head unit 11 (droplet ejection head 111) in the X-axis direction.
[0032]
Further, the apparatus main body 2 is provided with a blow device 14 for semi-drying the droplets discharged on the substrate W. The blow device 14 has a nozzle that opens in a slit shape along the X-axis direction, and blows gas toward the substrate W from this nozzle while transporting the substrate W in the Y-axis direction by the substrate transport table 3. . In the droplet discharge device 1 of the present embodiment, two blow devices 14 are provided at positions separated from each other in the Y-axis direction.
[0033]
The maintenance device 12 is installed on the side of the gantry 21 and the stone surface plate 22. The maintenance device 12 includes a capping unit 121 for capping the droplet discharge head 111 when the head unit 11 is on standby, a cleaning unit 122 for wiping the nozzle forming surface of the droplet discharge head 111, and a periodic operation of the droplet discharge head 111. It has a regular flushing unit 123 which receives a proper flushing and a weight measuring unit 125.
[0034]
Further, the maintenance device 12 has a movable table 124 movable in the Y-axis direction, and the capping unit 121, the cleaning unit 122, the regular flushing unit 123, and the weight measuring unit 125 are mounted on the movable table 124 in the Y-axis direction. Are installed side by side. When the moving table 124 moves in the Y-axis direction while the head unit 11 is moved above the maintenance device 12, any one of the capping unit 121, the cleaning unit 122, the regular flushing unit 123, and the weight measuring unit 125 drops. It can be located below the ejection head 111. During standby, the head unit 11 moves above the maintenance device 12, and performs capping, cleaning (wiping), and regular flushing in a predetermined order.
[0035]
The capping unit 121 has a plurality of caps arranged to correspond to each of the plurality of droplet discharge heads 111, and an elevating mechanism for elevating the caps. A suction tube (not shown) is connected to each cap, and the capping unit 121 covers the nozzle forming surface of each droplet discharge head 111 with each cap, and discharges from the nozzle formed on the nozzle forming surface. The liquid can be sucked. By performing such capping, it is possible to prevent the nozzle forming surface of the droplet discharge head 111 from drying, and to recover (eliminate) nozzle clogging.
[0036]
The capping by the capping unit 121 is performed when the head unit 11 is in a standby state, when the head unit 11 is initially filled with the discharge liquid, when the discharge liquid is discharged from the head unit 11 when the discharge liquid is replaced with a different liquid, the cleaning liquid is used. This is performed when the flow path is washed.
The liquid discharged from the droplet discharge head 111 during the capping by the capping unit 121 flows into the reuse tank provided in the tank unit 13 through the suction tube and is stored. The stored liquid is collected and provided for reuse. However, the washing liquid collected at the time of washing the channel is not reused.
[0037]
The cleaning unit 122 operates so that the wiping sheet containing the cleaning liquid is run by a roller, and the wiping sheet wipes and cleans the nozzle forming surface of the droplet discharge head 111.
The periodic flushing unit 123 is used for flushing of the head unit 11 during standby, and receives the ejected droplets that the droplet ejection head 111 has discarded and ejected. A suction tube (not shown) is connected to the periodic flushing unit 123, and the discarded and discharged liquid is collected through the suction tube and stored in a drainage tank installed in the tank unit 13. Is done.
[0038]
The weight measurement unit 125 is used to measure the amount (weight) of a single droplet discharge from the droplet discharge head 111 as a preparation stage for the droplet discharge operation on the substrate W. In other words, before the droplet discharging operation on the substrate W, the head unit 11 moves above the weight measuring unit 125, and applies one or more droplets from all the discharging nozzles of each droplet discharging head 111 to the weight measuring unit 125. It discharges to. The weight measurement unit 125 includes a liquid receiver that receives the discharged droplets and a weighing scale such as an electronic balance, and measures the weight of the discharged droplets. Alternatively, the liquid receiver may be removed and measurement may be performed with a weighing scale outside the apparatus. The control device 16, which will be described later, calculates the amount (weight) of one ejection droplet at the ejection nozzle based on the result of the weight measurement, and adjusts the liquid so that the calculated value becomes equal to a predetermined design value. The voltage applied to the head driver that drives the droplet ejection head 111 is corrected.
[0039]
The dot missing detection unit 19 is fixedly installed in a place that does not overlap with the moving area of the substrate table 3 on the stone platen 22 and that is located below the moving area of the head unit 11. The dot missing detection unit 19 detects a missing dot caused by clogging of a nozzle of the droplet discharge head 111, and includes, for example, a light emitting unit and a light receiving unit that emit and receive laser light. I have. When performing missing dot detection, the head unit 11 discards and discharges droplets from each nozzle while moving in the X-axis direction above the dot missing detection unit 19. By projecting and receiving the droplets, the presence or absence and location of a clogged nozzle are optically detected. At this time, the liquid discharged from the droplet discharge head 111 accumulates in a tray provided in the dot missing detection unit 19, and is collected through a suction tube (not shown) connected to the bottom of the tray, and is collected in a tank unit. 13 is stored in a drainage tank.
[0040]
The tank unit 13 includes a reuse tank for storing the ejection liquid collected at the time of the capping described above, a drain tank for storing the ejection liquid collected by flushing before drawing, periodic flushing, and detection of missing dots, as well as a droplet tank. A liquid supply tank for storing the discharge liquid supplied to the discharge head 111 and a liquid supply tank for storing the cleaning liquid supplied to the cleaning unit 122 are provided. The inside of each liquid supply tank is pressurized by a pressurized gas such as nitrogen gas supplied from a non-illustrated pressurized gas supply source installed near the droplet discharge device 1 (preferably outside a chamber 91 described later). Then, the discharge liquid and the cleaning liquid are delivered by this pressure.
[0041]
Such a droplet discharge device 1 (excluding the control device 16) is preferably placed in an environment in which temperature and humidity are controlled by the chamber device 9. The chamber device 9 has a chamber (isolated space) 91 for accommodating the droplet discharge device 1 and a temperature adjusting device 92 installed outside the chamber 91. The temperature adjusting device 92 has a built-in known air conditioner device, and generates air (temperature-controlled air) whose temperature and humidity are adjusted. This temperature-regulated air is sent to the underside 911 of the chamber 91 through the introduction duct 93. This temperature-controlled air passes through the filter 912 from the ceiling 911 and is introduced into the main chamber 913 of the chamber 91.
[0042]
A separate room 916 is provided in the chamber 91 by partition walls 914 and 915, and the tank unit 13 is installed in the separate room 916. A communication portion (opening) 917 that connects the main chamber 913 and the separate chamber 916 is formed in the partition 914. An exhaust duct 94 is connected to the separate room 916. The temperature-controlled air introduced into the main chamber 913 passes through the communication portion 917 and flows into the separate chamber 916, and then passes through the exhaust duct 94 and is discharged outside the chamber device 9.
[0043]
By controlling the temperature and humidity around the droplet discharge device 1 by such a chamber device 9, it is possible to prevent an error from occurring due to expansion and contraction of the substrate W and various parts of the device due to a temperature change. Thus, the accuracy of the pattern drawn (formed) by the discharged droplets on the substrate W can be further improved. Further, since the tank unit 13 is also placed in an environment where the temperature and the humidity are controlled, the viscosity and the like of the discharged liquid are stabilized, and the formation (drawing) of the pattern by the discharged liquid droplets can be performed with higher accuracy. In addition, it is possible to prevent dust and the like from entering the chamber 91 and to keep the substrate W clean.
A gas other than air (for example, an inert gas such as nitrogen, carbon dioxide, helium, neon, argon, krypton, xenon, and radon) is supplied and filled into the chamber 91 at a controlled temperature. The droplet discharge device 1 may be operated in an atmosphere.
[0044]
Outside the chamber 91, a control device (control means) 16 for controlling the operation of each part of the droplet discharge device 1 is provided. The control device 16 includes a CPU (Central Processing Unit) and a storage unit that stores (stores) various programs and various data such as a program for executing a control operation of the droplet discharge device 1. The operation of each part of the droplet discharge device 1 is controlled.
[0045]
FIG. 3 is a plan view showing a gantry, a stone platen, and a substrate transfer table in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2, and FIG. 4 is a gantry, a stone plate in the droplet discharge device shown in FIGS. It is a side view which shows a board and a board | substrate conveyance table.
As shown in FIG. 4, the gantry 21 has a frame body 211 configured by assembling angle materials or the like in a rectangular shape, and a plurality of support legs 212 that are dispersedly arranged below the frame body 211. The stone platen 22 is made of solid stone, and the upper surface thereof has a high flatness. The stone platen 22 prevents the influence of surrounding environmental conditions, vibration, and the like, and allows the substrate transfer table 3 and the head unit 11 to move with high precision.
[0046]
On the stone platen 22, a linear motor 101 and an air slider 108 as a Y-axis direction moving mechanism are installed. The substrate transfer table 3 is supported by an air slider 108 so as to be able to move smoothly in the Y-axis direction, and moves in the Y-axis direction by driving the linear motor 101. Further, a θ-axis rotating mechanism 105 is provided below the substrate transfer table 3, whereby the substrate transfer table 3 is rotated within a predetermined range around a vertical θ-axis passing through the center of the substrate transfer table 3. It is rotatable.
As shown in FIG. 3, a plurality of suction ports (suction units) 332 for sucking and fixing the placed substrate W are formed in the substrate transfer table 3.
[0047]
5 is a plan view showing a head unit and an X-axis direction moving mechanism in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2, FIG. 6 is a side view seen from the direction of arrow A in FIG. 5, and FIG. It is the front view seen from the arrow B direction in FIG.
As shown in these figures, the apparatus main body 2 includes four columns 23 installed on a stone platen 22 and two parallel columns extending along the X-axis direction supported by these columns 23. (Beams) 24 and 25. The substrate transfer table 3 can pass below the girders 24 and 25.
[0048]
As shown in FIG. 5, the main carriage 102 and the camera carriage 106 are installed on the girders 24 and 25 so as to be bridged between the girders 24 and 25, respectively. On the girder 24, a linear motor actuator 103 is installed as a common X-axis direction moving mechanism for the main carriage 102 and the camera carriage 106. The main carriage 102 and the camera carriage 106 are installed so as to be able to move smoothly in the X-axis direction under the guidance of a linear motor actuator 103 and a linear guide provided on the spar 25, respectively. The main carriage 102 and the camera carriage 106 move independently in the X-axis direction by driving the linear motor actuator 103.
[0049]
The head unit 11 is supported by the main carriage 102. When the head unit 11 moves in the X-axis direction together with the main carriage 102, sub-scanning of the droplet discharge head 111 is performed. The head unit 11 is connected to a pipe (not shown) for supplying a liquid to be ejected, a wiring cable (not shown), and the like. The head unit 11 is detachable from the main carriage 102.
The camera carriage 106 is provided with a recognition camera 107 for recognizing an image of an alignment mark provided at a predetermined position on the substrate W. The recognition camera 107 is supported by being suspended from the camera carriage 106 below. Note that the recognition camera 107 may be used for other purposes.
[0050]
FIG. 8 is a plan view schematically showing a configuration of a head unit and a droplet discharging operation in the droplet discharging device shown in FIGS. 1 and 2. As shown in FIG. 8, on the nozzle forming surface of the droplet discharge head 111, a number of discharge nozzles (openings) from which droplets are discharged are formed in one or more rows. The droplet discharge head 111 has a piezoelectric element that is displaced (deformed) by application of a voltage, and utilizes a displacement (deformation) of the piezoelectric element to form a pressure chamber (liquid chamber) formed to communicate with the discharge nozzle. The droplets are ejected from the ejection nozzles by changing the pressure in the parentheses. The droplet discharge head 111 is not limited to such a configuration. For example, the droplet discharge head 111 may be configured to heat a discharge liquid with a heater to boil the liquid, and discharge the liquid droplet from the discharge nozzle by the pressure. .
The head unit 11 is provided with a plurality of the droplet discharge heads 111 (described as 12 in the following description). These droplet discharge heads 111 are arranged in two rows of six in the sub-scanning direction (X-axis direction), and are arranged so that the nozzle rows are inclined at a predetermined angle with respect to the sub-scanning direction.
[0051]
Note that such an arrangement pattern is merely an example. For example, adjacent droplet discharge heads 111 in each head row are arranged at an angle of 90 ° (the adjacent heads have a “C” shape), The droplet discharge heads 111 between the head rows may be arranged at an angle of 90 ° (the heads between the rows are arranged in a “C” shape). In any case, the dots by all the ejection nozzles of the plurality of droplet ejection heads 111 need only be continuous in the sub-scanning direction.
[0052]
Furthermore, the droplet discharge heads 111 do not have to be installed in a posture inclined with respect to the sub-scanning direction, and a plurality of droplet discharge heads 111 may be arranged in a staggered or stepwise manner. . Further, as long as a nozzle row (dot row) having a predetermined length can be formed, this may be formed by a single droplet discharge head 111. Further, a plurality of head units 11 may be installed on the main carriage 102.
[0053]
Here, the overall operation of the droplet discharge device 1 under the control of the control device 16 will be briefly described. When the substrate W is positioned (pre-aligned) at a predetermined position and placed on the substrate transfer table 3 by the operation of a substrate positioning device described later, the substrate is suctioned by air from the suction ports 332 of the substrate transfer table 3. W is sucked and fixed to the substrate transfer table 3. Next, by moving the substrate transport table 3 and the camera carriage 106 respectively, the recognition camera 107 moves above the alignment mark provided at a predetermined position (one or more positions) of the substrate W, and the alignment mark is moved. recognize. Based on the recognition result, the θ-axis rotation mechanism 105 is operated to correct the angle of the substrate W about the θ-axis, and the position correction of the substrate W in the X-axis direction and the Y-axis direction is performed on the data ( Book alignment).
[0054]
When the alignment operation of the substrate W as described above is completed, while the head unit 11 is stopped, the substrate transport table 3 is moved to move the substrate W in the main scanning direction (Y-axis direction). A selective droplet discharge operation from 111 to the substrate W is performed. At this time, the droplet discharging operation may be performed during the forward movement (forward movement) of the substrate transfer table 3, during the backward movement (backward movement), or during both the forward movement and the backward movement (reciprocation). Further, the droplet discharge operation may be repeated a plurality of times by reciprocating the substrate transfer table 3 a plurality of times. By the above operation, the discharge of the droplet is completed in the region extending along the main scanning direction with a predetermined width (the width that can be discharged by the head unit 111) on the substrate W.
[0055]
Thereafter, by moving the main carriage 102, the head unit 111 is moved in the sub-scanning direction (X-axis direction) by the predetermined width. In this state, similar to the above-described operation, a selective droplet discharge operation from each droplet discharge head 111 to the substrate W is performed while moving the substrate W in the main scanning direction. When the droplet discharging operation to this area is completed, the substrate W is moved in the main scanning direction while the head unit 111 is further moved in the sub-scanning direction (X-axis direction) by the predetermined width. In addition, the same droplet discharging operation is performed. By repeating this several times, droplet discharge is performed on the entire region of the substrate W. In this way, the droplet discharge device 1 forms (draws) a predetermined pattern on the substrate W.
[0056]
9 and 10 are side views as viewed from the direction of arrow C in FIG. 5, respectively. Hereinafter, the configuration of the substrate positioning device included in the droplet discharge device 1 will be described with reference to FIGS. 5, 7, 9, and 10.
As shown in these figures, a Y-axis direction guide 41 for correcting the position of the substrate W in the Y-axis direction with respect to the substrate transfer table 3 and a Y-axis for raising and lowering the Y-axis direction guide 41 are provided on the beam 24 of the apparatus main body 2. An axial guide lifting mechanism 42 is provided. The Y-axis direction guide lifting / lowering mechanism 42 is configured to use, for example, a pneumatic cylinder or the like. The Y-axis direction guide raising / lowering mechanism 42 places the Y-axis direction guide 41 on a lowering position (a position shown in FIG. 10) at which the end surface of the substrate W placed on the substrate transfer table 3 can be contacted, and on the substrate transfer table 3. The substrate W is moved up and down to an ascending position (a position shown in FIG. 9) which does not interfere with the placed substrate W.
[0057]
The Y-axis direction guide 41 is composed of four rollers 411 supported rotatably about a vertical rotation axis. As shown in FIG. 5, the four rollers 411 are arranged so as to be arranged in the X-axis direction. When the Y-axis direction guide 41 is at the lowered position, the outer peripheral surfaces of the four rollers 411 can be in contact with the end surface of one side of the substrate W using the contact points as contact points. Thus, when correcting the position of the substrate W in the Y-axis direction with respect to the substrate transfer table 3, the posture of the substrate W can be corrected so that the side of the abutting substrate W is parallel to the X-axis direction. In the configuration shown in the figure, the four rollers 411 are supported by being divided into two rollers two by two, and are moved up and down by Y-axis direction guide elevating mechanisms 42 provided corresponding to the respective rollers. Note that at least two rollers 411 (contact points) may be provided.
[0058]
A second Y-axis guide 43 for correcting the position of the substrate W in the Y-axis direction with respect to the substrate transfer table 3 is provided on the spar 25 of the apparatus main body 2, and a second Y-axis guide 43 for raising and lowering the second Y-axis guide 43. A Y-axis direction guide elevating mechanism 44 is provided. That is, the second Y-axis direction guide 43 is installed at a position separated from the Y-axis direction guide 41 in the Y-axis direction. The second Y-axis direction guide 43 includes four rollers 431. The configurations of the second Y-axis direction guide 43 and the second Y-axis direction guide lifting / lowering mechanism 44 are the same as those of the Y-axis direction guide 41 and the Y-axis direction guide lifting / lowering mechanism 42, respectively, and thus description thereof will be omitted.
[0059]
As shown in FIG. 9, the camera carriage 106 has an X-axis direction guide 45 for correcting the position of the substrate W in the X-axis direction with respect to the substrate transfer table 3 and an X-axis direction guide for raising and lowering the X-axis direction guide 45. A mechanism 46 is provided. The X-axis direction guide lifting / lowering mechanism 46 is configured to use, for example, a pneumatic cylinder or the like. The X-axis direction guide elevating mechanism 46 moves the X-axis direction guide 45 to a lowering position (a position shown in FIG. 10) where the end surface of the substrate W placed on the substrate transfer table 3 can be brought into contact with the X-axis direction guide 45. The substrate W is moved up and down to a rising position (a position shown in FIG. 9) which does not interfere with the placed substrate W.
[0060]
The X-axis direction guide 45 is composed of two rollers 451 supported rotatably about a vertical rotation axis. The two rollers 451 are arranged so as to be arranged along the Y-axis direction. When the X-axis direction guide 45 is at the lowered position, the outer peripheral surfaces of the two rollers 451 can be in contact with the end surface of one side of the substrate W using the contact points as contact points. Accordingly, when correcting the position of the substrate W in the X-axis direction with respect to the substrate transfer table 3, the posture of the substrate W can be corrected so that the side of the abutted substrate W is parallel to the Y-axis direction. In the illustrated configuration, the two rollers 451 are separately supported, and are moved up and down by Y-axis direction guide elevating mechanisms 46 provided correspondingly to the two rollers 451.
[0061]
Such an X-axis direction guide 45 moves relative to the substrate transport table 3 in the X-axis direction together with the camera carriage 106 by driving a linear motor actuator 103 as an X-axis direction moving mechanism.
Preferably, at least the outer peripheral surfaces of the rollers 411, 431, and 451 are made of an elastic material such as a resin material or rubber. This prevents the substrate W from being damaged.
[0062]
FIG. 11 is a perspective view showing a substrate transport table in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2, and FIGS. 12 and 13 are partially cut-away views each showing an enlarged portion indicated by an arrow D in FIG. It is a chipping side view. Hereinafter, the configuration of the substrate transfer table 3 will be described in detail with reference to these drawings.
As shown in FIG. 11, the substrate transfer table 3 includes a flat upper plate 31, a lower plate 32 superposed and joined to the lower surface of the upper plate 31, and a plurality of blocks 33 installed on the upper plate 31. And a plurality of ball lift devices 34 installed on the upper plate 31.
[0063]
The blocks 33 are arranged side by side in a matrix (in the configuration shown, there are 9 × 11 blocks of 99 blocks 33) at intervals on the upper plate 31. The upper surfaces of these blocks 33 constitute a mounting surface 331 on which the substrate W is mounted. Each block 33 is formed with a suction port 332 that opens to the mounting surface 331. Each suction port 332 communicates with a suction path for suctioning air.
[0064]
In the vicinity of each block 33, a ball lift device 34 is installed, respectively. Since the plurality of ball lifts 34 have the same configuration, one ball lift 34 will be described as a representative. As shown in FIG. 12, the ball lift device 34 includes a housing 341, a pneumatic cylinder (ball lifting mechanism) 342 provided in the housing 341, a ball support 343 also functioning as a piston of the pneumatic cylinder 342, and a ball. A ball (sphere) 344 supported on the support 343 via a plurality of small balls (bearings) 345 so as to be smoothly rotatable.
[0065]
The pneumatic cylinder 342 is connected to a pipe 346 that supplies air pressure from an unillustrated air supply source (pressure supply source) installed near the droplet discharge device 1 (preferably outside the chamber 91). The pneumatic cylinders 342 of each row of the ball lift devices 34 arranged in the Y-axis direction communicate with each other through a passage 347, and one pipe 346 supplies air pressure to all of the row of the ball lift devices 34 in the Y-axis direction. You.
[0066]
By the operation of the pneumatic cylinder 342, the ball 344 moves to a position protruding above the mounting surface 331 (a position shown in FIG. 13) and a position retracting below the mounting surface 331 (a position shown in FIG. 12). Go up and down. As shown in FIG. 13, in a state where the balls 344 are raised, the substrate W is separated from the mounting surfaces 331 and is supported by the respective balls 344. It is possible to freely move (including rotation) in the Y-axis direction and the X-axis direction. Note that the ball 344 is preferably made of a resin material (for example, melamine resin). This prevents the substrate W from being damaged.
[0067]
That is, these ball lift devices 34 function as movement resistance reducing means capable of reducing the movement resistance when the placed substrate W moves (slides) with respect to the substrate transfer table 3. The number of the ball lift devices 34 is not particularly limited, but it is sufficient that at least three ball lift devices 34 are provided so that the substrate W can be supported at at least three points. Further, in the present invention, the moving resistance reducing means is not limited to the ball lift device 34, but may be, for example, a mechanism for blowing air to float the substrate W.
[0068]
FIGS. 14 and 15 are a plan view and a side view, respectively, showing an operation of loading and placing a substrate on the substrate transfer table in the droplet discharge device shown in FIGS. 1 and 2. Hereinafter, the work of feeding the substrate W onto the substrate transfer table 3 will be described with reference to these drawings. However, as described later, the substrate W supplied to the substrate transfer table 3 is thereafter moved in the Y-axis direction. Since the positioning is performed (pre-alignment) using the guide 41, the second Y-axis direction guide 43, and the X-axis direction guide 45, in the following operation, the substrate W may be roughly aligned and placed.
[0069]
When loading and placing the substrate W on the substrate transfer table 3 of the droplet discharge device 1, the substrate loading door (not shown) provided in the chamber 91 is opened, and the substrate 50 is W is carried to the vicinity of the substrate transfer table 3. At this time, the ball lift device 34 of the substrate transfer table 3 may be in a state where the ball 344 is lowered or in a state where the ball 344 is raised. The carriage 50 is provided with a fork 502 having a plurality of bars 501 arranged in parallel with each other, and the substrate W is placed on the fork 502. At this time, the bogie 50 is oriented such that the bar 501 is parallel to the Y-axis direction.
[0070]
When the operator 60 rotates the fork feed handle 503 from the state shown in FIGS. 14 and 15, the fork 502 moves rightward in the figure. When the fork 502 and the substrate W have moved to above the substrate transfer table 3, the operator 60 turns the fork up / down handle 504 to lower the fork 502 and the substrate W, and places the substrate W on each mounting surface 331 or each ball 344. Ground. At this time, since each bar 501 constituting the fork 502 enters the space 35 formed between the blocks 33, the operator 60 turns the fork feed handle 503 in the opposite direction to the fork 502 to rotate the fork 502. Is retracted to the left in the figure, whereby the fork 502 can be pulled out from between the substrate W and the substrate transfer table 3. Thus, the operation of loading and placing the substrate W on the substrate transfer table 3 is completed.
[0071]
16 and 17 are a side view and a front view, respectively, schematically illustrating a substrate positioning method (work positioning method) performed by the substrate positioning device included in the droplet discharge device illustrated in FIGS. 1 and 2. Hereinafter, a substrate positioning method for positioning (pre-aligning) the substrate W placed on the substrate transport table 3 of the droplet discharge device 1 with respect to the substrate transport table 3 will be described with reference to these drawings. In the following description, a case where the center W1 of the substrate W is positioned so as to coincide with the center of the substrate transfer table 3 will be described as an example. However, the position where the substrate W is positioned on the substrate transfer table 3 may be any position. May be. For example, when the size of the substrate W is smaller than the size of the substrate transfer table 3, the substrate W may be positioned at a position closer to the end of the substrate transfer table 3.
[0072]
The substrate positioning device provided in the droplet discharge device 1 operates as described below under the control of the control device 16. Before positioning the substrate W, the Y-axis direction guide 41, the second Y-axis direction guide 43, and the X-axis direction guide 45 are retracted upward so as not to interfere with the substrate W. When the substrate W is loaded and placed on the substrate transfer table 3 by the above-described operation, the substrate transfer table 3 advances in the Y-axis direction, and the rear end W2 of the substrate W in the Y-axis direction is guided by the Y-axis guide. It is assumed that it is located forward of 41. Further, the substrate transport table 3 raises each ball 344 so that the substrate W can move freely on the substrate transport table 3.
[0073]
Next, a Y-axis direction position correction process as shown in FIG. 16 is performed. In the Y-axis direction position correcting step, first, as shown in (1) of FIG. 16, while the Y-axis direction guide 41 is lowered, the Y-axis direction guide is moved while the substrate carrying table 3 is retracted in the Y-axis direction. 41 is brought into contact with the end surface of the rear end W2 of the substrate W in the Y-axis direction. Then, the dimension data of the substrate W stored in the storage unit of the control device 16 in advance (for example, dimensions such as shape, length, width, and thickness of the substrate W, attributes of the substrate W (substrate number and the like), material, alignment) Based on the data including information such as the mark position), the substrate transport table 3 is retracted in the Y-axis direction until the center W1 coincides with the center position of the substrate transport table 3 in the Y-axis direction. Thereby, when the substrate W is located at a position deviated rearward in the Y-axis direction with respect to the substrate transfer table 3, the substrate W moves forward in the Y-axis direction relative to the substrate transfer table 3 and moves in the Y-axis direction. The position is corrected.
[0074]
In the droplet discharge device 1, a plurality of sets of dimensional data corresponding to the type of the substrate W are stored in advance in the storage unit of the control device 16, so that the positioning of the substrate can be performed in correspondence with the plurality of types of the substrate W. (Pre-alignment) and a subsequent droplet discharge operation can be performed. Further, the dimension data of the substrate W can include a position where the substrate W is to be positioned on the substrate transport table 3, thereby setting the position at which the substrate W is positioned on the substrate transport table 3 ( Change).
[0075]
Next, as shown in (2) of FIG. 16, while the Y-axis direction guide 41 is raised and the second Y-axis direction guide 43 is lowered, the substrate transfer table 3 is moved forward in the Y-axis direction. Then, the Y-axis direction guide 41 is brought into contact (contact) with the end surface of the front end W3 in the Y-axis direction of the substrate W. Then, based on the dimension data of the substrate W stored in advance in the storage unit of the control device 16, the substrate transport table 3 is moved in the Y-axis direction until the center W1 coincides with the center position of the substrate transport table 3 in the Y-axis direction. Let go forward. Accordingly, when the substrate W is at a position shifted forward in the Y-axis direction with respect to the substrate transfer table 3, the substrate W retreats relative to the substrate transfer table 3 in the Y-axis direction and moves in the Y-axis direction. The position is corrected. Note that the order of (1) and (2) in FIG. 16 in the Y-axis direction correction process as described above may be reversed.
[0076]
Next, an X-axis direction position correction process as shown in FIG. 17 is performed. In the X-axis direction position correcting step, as shown in (1) of FIG. 17, while the X-axis direction guide 45 is lowered and retracted in the X-axis direction, the X-axis direction guide 45 is moved in the X-axis direction of the substrate W. The end face of the front end W4 is brought into contact (contact). Then, based on the dimension data of the substrate W stored in advance in the storage unit of the control device 16, the X-axis direction guide 45 is moved to the position where the center W1 coincides with the center position of the substrate transfer table 3 in the X-axis direction. Retract in the direction. Accordingly, when the substrate W is at a position shifted forward with respect to the substrate transfer table 3 in the X-axis direction, the substrate W retreats relative to the substrate transfer table 3 in the X-axis direction and moves in the X-axis direction. The position is corrected.
[0077]
Next, the X-axis direction guide 45 is once raised, and is retreated in the X-axis direction so that the X-axis direction guide 45 is located behind the rear end W5 of the substrate W in the X-axis direction. From this state, as shown in (2) of FIG. 17, the X-axis direction guide 45 is advanced in the X-axis direction with the X-axis direction guide 45 lowered, and the X-axis direction guide 45 is moved to the X-axis direction rear end W5 of the substrate W. Make contact (contact) with the end face. Then, based on the dimension data of the substrate W stored in advance in the storage unit of the control device 16, the X-axis direction guide 45 is moved to the position where the center W1 coincides with the center position of the substrate transfer table 3 in the X-axis direction. Forward in the direction. Accordingly, when the substrate W is at a position shifted rearward in the X-axis direction with respect to the substrate transfer table 3, the substrate W advances relatively in the X-axis direction with respect to the substrate transfer table 3 and moves in the X-axis direction. The position is corrected.
[0078]
During the above-described X-axis direction correcting step, the Y-axis direction guide 41 and the second Y-axis direction guide 43 may be in a raised state, but the second Y-axis direction guide 43 (or Y The state where the axial guide 41) descends and contacts (contacts) the front end W3 of the substrate W in the Y-axis direction (or the rear end W2 in the Y-axis direction) may be maintained. Thus, the position in the X-axis direction can be corrected while the position of the substrate W corrected in the Y-axis direction position correction step in the Y-axis direction is more reliably prevented from being shifted. In this case, since the roller 431 (or the roller 411) rotates, the second Y-axis direction guide 43 (or the Y-axis direction guide 41) does not prevent the substrate W from moving in the X-axis direction.
In addition, the order of (1) and (2) in FIG. 17 in the X-axis direction correction process as described above may be reversed. Further, the order of the Y-axis direction correcting step and the X-axis direction correcting step may be reversed.
[0079]
After completing the Y-axis direction correction step and the X-axis direction correction step as described above, the substrate transport table 3 and the camera carriage 106 are respectively moved to provide the substrate W at a predetermined location (one or a plurality of locations). The recognition camera 107 is made to recognize the alignment mark (not shown). At this time, if the alignment mark is within the field of view of the recognition camera 107, the pre-alignment of the substrate W ends. If the alignment mark is not in the field of view of the recognition camera 107, the Y-axis direction correction step and the X-axis direction correction step are performed again, and then the recognition camera 107 is made to recognize the alignment mark again. In this manner, the Y-axis direction correction step and the X-axis direction correction step may be repeated a plurality of times until the alignment mark is within the field of view of the recognition camera 107. Alternatively, the recognition camera 107 and the substrate W may be slightly moved to control the alignment mark so as to be within the field of view of the recognition camera 107, and then the process may be shifted to the main alignment work. Further, the positioning (pre-alignment) of the substrate W may be ended without confirming that the alignment mark of the substrate W has entered the field of view of the recognition camera 107.
[0080]
When the pre-alignment of the substrate W is completed, each ball 344 is lowered to ground the substrate W on each mounting surface 331, and the substrate W is sucked and fixed to the substrate transfer table 3 by suctioning air from each suction port 332. I do. Thereafter, based on the recognition result of the alignment mark of the substrate W by the recognition camera 107, the control device 16 operates the θ-axis rotation mechanism 105 to correct the angle of the substrate W about the θ-axis, The position correction in the direction and the Y-axis direction is performed on the data. This is the main alignment of the substrate W. Thereafter, the droplet discharge device 1 performs the above-described droplet discharge operation on the substrate W.
[0081]
As described above, according to the present invention, a work such as the substrate W can be accurately (highly) positioned on the work transfer table with a simple configuration. Therefore, when loading and placing the work on the work transfer table, the work need only be roughly aligned and placed, and it is not necessary to feed the work to an accurate position. Therefore, instead of using a robot (industrial robot) to accurately position the work and feed the work, the work may be fed manually by the work described above. Therefore, the amount of capital investment can be reduced and the cost can be reduced. It is also advantageous when handling relatively large workpieces in which it is difficult to use a robot for feeding materials. Further, even when a robot is used to supply the workpiece, when the workpiece becomes large, it is necessary to accurately position and supply the workpiece so that the alignment mark of the workpiece is within the field of view of the recognition camera 107. Although it is difficult, in such a case, according to the present invention, since accurate positioning at the time of material supply is unnecessary, no inconvenience occurs. Therefore, it is advantageous when mass-producing large workpieces by using a robot to supply materials, and contributes to cost reduction.
[0082]
Further, since there is no need to install a positioning mechanism on the work transfer table, the structure of the work transfer table can be simplified, reduced in size and reduced in weight. Therefore, a relatively large work transfer table corresponding to a relatively large work can be easily manufactured.
If the dimensions of the work are input in advance to the control device 16, positioning can be performed regardless of the size of the work. Further, the positioning can be performed not only when the work is rectangular but also when the work is circular. Further, positioning can be performed regardless of the thickness of the work.
[0083]
Further, in the present embodiment, by providing two sets of the Y-axis direction guides, the Y-axis direction guide 41 and the second Y-axis direction guide 43, which contact the work from opposite directions, the Y-axis guide of the work transfer table is provided. Since the movement distance in the axial direction is small, the length of the device main body 2 in the Y-axis direction can be reduced, and the size of the entire droplet discharge device 1 can be reduced. In the present invention, it is sufficient that one set of the Y-axis direction guides is provided, and the one set of the Y-axis direction guides may contact the workpiece from both sides in the Y-axis direction.
[0084]
Further, the contact portions of the Y-axis direction guide and the X-axis direction guide with respect to the substrate are not limited to those that contact the end surface of the work at a plurality of points as in this embodiment, and are continuous in the longitudinal direction of the end surface. The contact may be linear.
Further, in the present embodiment, the X-axis direction guide 45 and the recognition camera 107 are moved in the X-axis direction by the common X-axis direction moving mechanism (linear motor actuator 103), so that the structure can be further simplified.
[0085]
Further, in the present invention, the work transfer table and the X-axis direction guide 45 only need to be relatively movable in the X-axis direction. Therefore, when there is a mechanism for moving the work transfer table in the X-axis direction, The X-axis direction guide 45 may be installed in the apparatus main body 2. That is, the droplet discharge device 1 of the present invention is configured to perform main scanning and sub-scanning by fixing the head unit 11 to the device main body 2 and moving the work in the Y-axis direction and the X-axis direction, respectively. May be used.
[0086]
The work positioning device, the work positioning method, and the droplet discharge device of the present invention have been described above with reference to the illustrated embodiments. However, the present invention is not limited to this, and the work positioning device and the droplet discharge device are configured as follows. Each of the components can be replaced with an arbitrary component having the same function. Further, an arbitrary component may be added.
For example, the Y-axis direction moving mechanism and the X-axis direction moving mechanism may be, for example, ball screws (feed screws) instead of linear motors. Further, the Y-axis direction guide elevating mechanism and the X-axis direction guide elevating mechanism may be, for example, a hydraulic cylinder, a ball screw (feed screw) or the like instead of the pneumatic cylinder.
[0087]
Further, in the present embodiment, the case where the work positioning device and the work positioning method of the present invention are applied to the droplet discharge device has been described. However, the work positioning device and the work positioning method of the present invention are not limited to this. The present invention can be applied to various other apparatuses such as an exposure apparatus.
Further, an electro-optical device according to the present invention is characterized by being manufactured using the above-described droplet discharge device according to the present invention. Specific examples of the electro-optical device according to the invention are not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal display device and an organic EL display device.
[0088]
Further, a method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention uses the droplet discharge device according to the present invention. The method for manufacturing an electro-optical device according to the invention can be applied to, for example, a method for manufacturing a liquid crystal display device. That is, by selectively discharging the liquid containing the filter material of each color onto the substrate using the droplet discharge device of the present invention, a color filter having a large number of filter elements arranged on the substrate is manufactured. A liquid crystal display device can be manufactured using a color filter. In addition, the method for manufacturing an electro-optical device according to the invention can be applied to, for example, a method for manufacturing an organic EL display device. That is, by selectively discharging a liquid containing a luminescent material of each color onto a substrate using the droplet discharge device of the present invention, an organic pixel having a large number of pixel pixels including an EL luminescent layer arranged on the substrate. An EL display device can be manufactured.
According to another aspect of the invention, there is provided an electronic apparatus including the electro-optical device manufactured as described above. Specific examples of the electronic apparatus of the present invention include, but are not particularly limited to, a personal computer and a mobile phone equipped with the liquid crystal display device and the organic EL display device manufactured as described above.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a droplet discharge device of the present invention.
FIG. 2 is a side view showing an embodiment of the droplet discharge device of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a gantry, a stone surface plate, and a substrate transfer table.
FIG. 4 is a side view showing a gantry, a stone surface plate, and a substrate transfer table.
FIG. 5 is a plan view showing a head unit and an X-axis direction moving mechanism.
FIG. 6 is a side view as seen from the direction of arrow A in FIG. 5;
FIG. 7 is a front view as seen from the direction of arrow B in FIG. 5;
FIG. 8 is a schematic plan view showing a configuration of a head unit and a droplet discharging operation.
FIG. 9 is a side view as viewed from the direction of arrow C in FIG. 5;
FIG. 10 is a side view as viewed from the direction of arrow C in FIG. 5;
FIG. 11 is a perspective view showing a substrate transport table.
FIG. 12 is a partially cutaway side view showing a part indicated by an arrow D in FIG. 11 in an enlarged manner.
FIG. 13 is a partially cutaway side view showing an arrow D portion in FIG. 11 in an enlarged manner.
FIG. 14 is a plan view showing an operation of supplying a substrate to the substrate transport table.
FIG. 15 is a side view showing an operation of supplying a substrate to the substrate transfer table.
FIG. 16 is a side view schematically showing the substrate positioning method of the present invention.
FIG. 17 is a front view schematically showing a substrate positioning method of the present invention.
[Explanation of symbols]
3 ... board transfer table, 33 ... block, 331 ... mounting surface, 34 ... ball lift device, 344 ... ball, 41 ... ... Y-axis direction guide, 411 ... roller, 42 ... ... Y-axis direction Guide elevating mechanism 43, second Y-axis guide 431, roller 44, second Y-axis guide elevating mechanism W, substrate, W1, center W2, rear in Y-axis direction End, W3 ... Y-axis direction front end

Claims

装置本体と、
ワークを載置可能なワーク搬送テーブルと、
前記ワーク搬送テーブルを前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、
前記装置本体に設置され、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向の位置を修正するＹ軸方向ガイドと、
前記Ｙ軸方向ガイドを、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る下降位置と、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに干渉しない上昇位置とに昇降させるＹ軸方向ガイド昇降機構と、
前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向に垂直であって水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）の位置を修正するＸ軸方向ガイドと、
前記Ｘ軸方向ガイドを前記ワーク搬送テーブルに対し前記Ｘ軸方向に相対的に移動させるＸ軸方向移動機構と、
前記Ｘ軸方向ガイドを、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る下降位置と、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに干渉しない上昇位置とに昇降させるＸ軸方向ガイド昇降機構とを備えることを特徴とするワーク位置決め装置。The device body,
A work transfer table on which the work can be placed;
A Y-axis direction moving mechanism for moving the work transfer table in one direction (hereinafter, referred to as “Y-axis direction”) that is horizontal to the apparatus main body;
A Y-axis direction guide installed on the apparatus main body, for correcting a position of the work in the Y-axis direction with respect to the work transfer table;
A Y-axis direction guide that raises and lowers the Y-axis direction guide to a lowering position where it can come into contact with an end surface of the work placed on the work transfer table, and a rising position that does not interfere with the work placed on the work transfer table. Lifting mechanism,
An X-axis direction guide for correcting a position of the work in a direction perpendicular to the Y-axis direction and horizontal to the work transfer table (hereinafter, referred to as “X-axis direction”);
An X-axis direction moving mechanism that relatively moves the X-axis direction guide relative to the work transfer table in the X-axis direction;
An X-axis guide that raises and lowers the X-axis direction guide to a lowering position where it can come into contact with an end surface of the work placed on the work transfer table, and a rising position that does not interfere with the work placed on the work transfer table. A work positioning device comprising a lifting mechanism.

前記Ｘ軸方向ガイドは、前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動可能に設置されており、
前記Ｘ軸方向移動機構は、前記Ｘ軸方向ガイドを前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動させる請求項１に記載のワーク位置決め装置。The X-axis direction guide is installed movably in the X-axis direction with respect to the apparatus main body,
The work positioning device according to claim 1, wherein the X-axis direction moving mechanism moves the X-axis direction guide in the X-axis direction with respect to the apparatus main body.

前記Ｙ軸方向ガイドの前記ワークに対する当接点は、前記Ｘ軸方向に沿って複数配置されている請求項１または２に記載のワーク位置決め装置。The work positioning device according to claim 1, wherein a plurality of contact points of the Y-axis direction guide with respect to the work are arranged along the X-axis direction.

前記Ｘ軸方向ガイドの前記ワークに対する当接点は、前記Ｙ軸方向に沿って複数配置されている請求項１ないし３のいずれかに記載のワーク位置決め装置。4. The work positioning device according to claim 1, wherein a plurality of contact points of the X-axis direction guide with respect to the work are arranged along the Y-axis direction. 5.

前記Ｙ軸方向ガイドおよび／または前記Ｘ軸方向ガイドは、回転可能に支持された少なくとも２個のローラーを有し、前記下降位置にあるとき、該ローラーの外周面が前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る請求項１ないし４のいずれかに記載のワーク位置決め装置。The Y-axis direction guide and / or the X-axis direction guide has at least two rollers rotatably supported, and when in the lowered position, the outer peripheral surface of the rollers is placed on the work transfer table. The work positioning device according to any one of claims 1 to 4, wherein the work positioning device can contact an end surface of the work.

前記Ｙ軸方向ガイドから前記Ｙ軸方向に離れた位置に設置され、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向の位置を修正する第２のＹ軸方向ガイドと、
前記第２のＹ軸方向ガイドを、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークの端面に当接し得る下降位置と、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに干渉しない上昇位置とに昇降させる第２のＹ軸方向ガイド昇降機構とを備え、
前記Ｙ軸方向ガイドと、前記第２のＹ軸方向ガイドとは、互いに反対方向から前記ワークに当接する請求項１ないし５のいずれかに記載のワーク位置決め装置。A second Y-axis guide installed at a position separated from the Y-axis guide in the Y-axis direction to correct a position of the work in the Y-axis direction with respect to the work transfer table;
Raising and lowering the second Y-axis direction guide to a lowering position where the second Y-axis guide can be brought into contact with an end face of the work placed on the work transfer table, and a rising position that does not interfere with the work placed on the work transfer table; And two Y-axis guide elevating mechanisms.
The work positioning device according to any one of claims 1 to 5, wherein the Y-axis direction guide and the second Y-axis direction guide come into contact with the work from opposite directions.

前記ワークに設けられたマークを認識する認識カメラを備え、前記マークが前記認識カメラの視野に入るように位置決めを行う請求項１ないし６のいずれかに記載のワーク位置決め装置。The work positioning apparatus according to claim 1, further comprising a recognition camera that recognizes a mark provided on the work, and positioning the mark so that the mark is within a field of view of the recognition camera.

前記認識カメラは、前記Ｘ軸方向ガイドと共に前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動可能に設置されており、
前記Ｘ軸方向移動機構は、前記Ｘ軸方向ガイドおよび前記認識カメラを共に前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動させる請求項７に記載のワーク位置決め装置。The recognition camera is installed so as to be movable in the X-axis direction with respect to the apparatus body together with the X-axis direction guide,
The work positioning apparatus according to claim 7, wherein the X-axis direction moving mechanism moves both the X-axis direction guide and the recognition camera in the X-axis direction with respect to the apparatus main body.

前記ワーク搬送テーブルは、載置されたワークが前記ワーク搬送テーブルに対し移動するときの移動抵抗を低減可能な移動抵抗低減手段を有する請求項１ないし８のいずれかに記載のワーク位置決め装置。9. The work positioning device according to claim 1, wherein the work transfer table includes a movement resistance reducing unit configured to reduce a movement resistance when the placed work moves with respect to the work transfer table. 10.

前記移動抵抗低減手段は、回転可能に支持された少なくとも３個のボールと、前記ボールを、前記ボールが前記ワーク搬送テーブルの載置面より上方に突出する位置と、前記ボールが前記載置面より下側に退避する位置とに昇降させるボール昇降機構とを有する請求項９に記載のワーク位置決め装置。The moving resistance reducing means includes at least three balls rotatably supported, a position where the balls protrude above a mounting surface of the work transfer table, and a position where the balls are mounted on the mounting surface. The workpiece positioning device according to claim 9, further comprising: a ball elevating mechanism for elevating the ball to a position retracted further below.

前記ワーク搬送テーブルは、載置されたワークを吸着するための吸引部を有する請求項１ないし１０のいずれかに記載のワーク位置決め装置。The work positioning apparatus according to claim 1, wherein the work transfer table has a suction unit for sucking the placed work.

前記Ｙ軸方向移動機構、前記Ｙ軸方向ガイド昇降機構、前記Ｘ軸方向移動機構および前記Ｘ軸方向ガイド昇降機構の作動を制御する制御手段を備える請求項１ないし１１のいずれかに記載のワーク位置決め装置。The work according to any one of claims 1 to 11, further comprising control means for controlling operations of the Y-axis direction moving mechanism, the Y-axis direction guide elevating mechanism, the X-axis direction moving mechanism, and the X-axis direction guide elevating mechanism. Positioning device.

前記制御手段の記憶部に予め記憶されたワークの寸法データに基づいて、前記ワークの位置決めを行う請求項１２に記載のワーク位置決め装置。13. The work positioning device according to claim 12, wherein the work is positioned based on work dimension data stored in advance in a storage unit of the control unit.

前記ワーク搬送テーブル上での前記ワークの位置決めする位置を設定可能である請求項１２または１３に記載のワーク位置決め装置。14. The work positioning device according to claim 12, wherein a position at which the work is positioned on the work transfer table can be set.

請求項１ないし１４のいずれかに記載のワーク位置決め装置を用いて、前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークを前記ワーク搬送テーブルに対し位置決めするワーク位置決め方法であって、
前記Ｙ軸方向ガイドを前記下降位置に位置させた状態で前記ワーク搬送テーブルを前記Ｙ軸方向に移動させつつ、前記Ｙ軸方向ガイドを前記ワークの端面に当接させることにより、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｙ軸方向の位置を修正する少なくとも１回のＹ軸方向位置修正工程と、
前記Ｘ軸方向ガイドを前記下降位置に位置させた状態で前記ワーク搬送テーブルに対し前記Ｘ軸方向ガイドを相対的に前記Ｘ軸方向に移動させつつ、前記Ｘ軸方向ガイドを前記ワークの端面に当接させることにより、前記ワークの前記ワーク搬送テーブルに対する前記Ｘ軸方向の位置を修正する少なくとも１回のＸ軸方向位置修正工程とを備えることを特徴とするワーク位置決め方法。A work positioning method for positioning a work placed on the work transfer table with respect to the work transfer table, using the work positioning device according to any one of claims 1 to 14.
While moving the work transfer table in the Y-axis direction while the Y-axis direction guide is located at the lowered position, the Y-axis direction guide is brought into contact with an end surface of the work, so that At least one Y-axis direction position correcting step of correcting the position in the Y-axis direction with respect to the work transfer table;
While moving the X-axis direction guide relative to the work transfer table in the X-axis direction while the X-axis direction guide is located at the lowered position, the X-axis direction guide is moved to the end face of the work. At least one X-axis direction position correction step of correcting the position of the work with respect to the work transfer table in the X-axis direction by contacting the work.

温度および／または湿度が管理された状態の中で行われる請求項１５に記載のワーク位置決め方法。The method according to claim 15, wherein the method is performed in a state where temperature and / or humidity are controlled.

請求項１ないし１４のいずれかに記載のワーク位置決め装置と、
前記ワーク搬送テーブルに載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドとを備えることを特徴とする液滴吐出装置。A work positioning device according to any one of claims 1 to 14,
A droplet discharge head that discharges droplets onto the work placed on the work transfer table.

前記液滴吐出ヘッドは、前記装置本体に対し前記Ｘ軸方向に移動可能に設置されている請求項１７に記載の液滴吐出装置。18. The droplet discharge device according to claim 17, wherein the droplet discharge head is installed movably in the X-axis direction with respect to the device main body.

前記ワーク位置決め装置の作動により前記ワークを前記ワーク搬送テーブルに対し位置決めした後、前記ワーク搬送テーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成する請求項１７または１８に記載の液滴吐出装置。After positioning the work with respect to the work transfer table by the operation of the work positioning device, discharging the droplets from the droplet discharge head while relatively moving the work transfer table and the droplet discharge head. The droplet discharge device according to claim 17, wherein a predetermined pattern is formed on the workpiece by the method.

隔離された空間内に収納された状態で使用される請求項１７ないし１９のいずれかに記載の液滴吐出装置。The droplet discharge device according to any one of claims 17 to 19, wherein the droplet discharge device is used in a state of being housed in an isolated space.

前記隔離された空間は、内部の温度および／または湿度が管理されたものである請求項２０に記載の液滴吐出装置。21. The droplet discharge device according to claim 20, wherein the isolated space is one whose internal temperature and / or humidity is controlled.

請求項１７ないし２１のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。An electro-optical device manufactured using the droplet discharge device according to any one of claims 17 to 21.

請求項１７ないし２１のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。A method of manufacturing an electro-optical device, comprising using the droplet discharge device according to claim 17.

請求項２２に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 22.