JP2004152751A - Organic electroluminescent device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(EL)デバイスに関し、より詳しくは、外光反射の少ない有機エレクトロルミネッセンスデバイスに関する。 The present invention relates to an organic electroluminescence (EL) device, and more particularly, to an organic electroluminescence device with low external light reflection.
有機エレクトロルミネッセンス(EL)デバイスは、透過性基材上に成膜・パターニングが施された透明電極を陽極とし、その上に機能性有機材料、具体的にはホール輸送性材料、発光性材料、電子輸送性材料等を順に積層し、機能性有機材料の上にマグネシウム−銀合金や、アルミニウム−リチウム合金などを積層したものを陰極とする構成とされ、透過性基材を通してデバイス外部に取り出されるEL光をディスプレイとして利用する。 An organic electroluminescence (EL) device uses a transparent electrode, which has been formed and patterned on a transparent substrate, as an anode, and a functional organic material, specifically, a hole transport material, a luminescent material, A structure in which electron transporting materials and the like are sequentially laminated, and a magnesium-silver alloy or an aluminum-lithium alloy laminated on a functional organic material is used as a cathode, and is taken out of the device through a transparent base material. Use EL light as a display.
光を外部に取り出す方向と反対側に配された背面側の金属陰極は、高い反射性を持ち、デバイスに強い光学干渉効果をもたらす。従って、この背面金属陰極による内部EL光の反射干渉現象を最適化することにより、外部に取り出されるEL光強度を増強することが可能となる。 The metal cathode on the rear side, which is arranged on the opposite side to the direction in which light is extracted to the outside, has high reflectivity and brings a strong optical interference effect to the device. Therefore, by optimizing the reflection interference phenomenon of the internal EL light by the back metal cathode, it is possible to enhance the intensity of the EL light extracted to the outside.
しかし、この背面金属陰極は、EL光を増強する反面、デバイス内部に入射する外部光の大部分を反射してしまうため、EL光の視認性が著しく低下してしまう。このため、有機ELデバイスには、背面金属陰極による外光反射を抑えるための手法を施す必要がある。 However, while the rear metal cathode enhances the EL light, it reflects most of the external light incident on the inside of the device, so that the visibility of the EL light is significantly reduced. Therefore, it is necessary to apply a method for suppressing the reflection of external light by the rear metal cathode to the organic EL device.
この外光反射を抑える一つの手法としては、円偏向フィルタを用いる方法がある。しかし、円偏向フィルタは、高価なパーツであるためコストの増大につながる。また円偏向フィルタは、フィルタ自体の透過率が40%程度であるので、円偏向フィルタを使用した場合には、内部EL光の取り出し光強度も40%前後に減衰してしまう。 One method for suppressing the reflection of external light is to use a circular deflection filter. However, since the circular deflection filter is an expensive part, it leads to an increase in cost. Further, since the transmittance of the circular deflection filter itself is about 40%, when the circular deflection filter is used, the light intensity of the extracted internal EL light is also attenuated to about 40%.
外光反射を抑える為の他の手法としては、光学干渉効果を利用し、光学薄膜の低反射率積層構造体によって外光反射を低減する方法が知られている。この低反射率積層構造体を開示した先行技術としては、以下のようなものがある。 As another method for suppressing the reflection of external light, there is known a method of utilizing the optical interference effect and reducing the reflection of external light by a low-reflectance laminated structure of an optical thin film. Prior art disclosing this low-reflectance laminated structure includes the following.
特開2001-332391号公報は、低反射率積層構造体としてアルミ、酸化亜鉛(ZnO)、及びアルミを開示している。具体的に、特開2001-332391号公報では、透明基材上に成膜された透明電極であるインジウム錫酸化物(ITO)の上に、正孔輸送層として4,4’−ビス−[(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−ビフェニル(NPD)を、発光層としてトリス(8−キノリノラト−N1, 08)−アルミニウム(Alq3)を順に成膜した後に、フッ化リチウムを成膜している。そしてフッ化リチウム膜の上に、アルミ、酸化亜鉛(ZnO)、及びアルミを順に成膜し、低反射率積層構造体を構成している。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-332391 discloses aluminum, zinc oxide (ZnO), and aluminum as a low-reflectance laminated structure. Specifically, in JP-A-2001-332391, on a transparent electrode formed of indium tin oxide (ITO) formed on a transparent substrate, 4,4′-bis- [ After forming (1-naphthyl) -N-phenylamino] -biphenyl (NPD) and tris (8-quinolinolato-N1,08) -aluminum (Alq 3 ) in order as a light emitting layer, a film of lithium fluoride was formed. are doing. Then, aluminum, zinc oxide (ZnO), and aluminum are sequentially formed on the lithium fluoride film to form a low-reflectance laminated structure.
特開2001-332391号公報に開示された低反射率積層構造体にて用いられるZnOは導電性無機膜であるため、有機ELデバイスを製造する装置に蒸着源の追加が必要である。また、有機ELデバイスの有機層は、成膜時のダメージを受けやすく、ZnOのように熱蒸発に高温を要する無機材料では熱ダメージが発生する。また、EB蒸着が必要な材料では、反射電子によるダメージが発生する。ところが、低反射率積層構造体は、有機ELデバイスにおける陰極をかねるため、前記第２半透過性層は導電性を持つ必要がある。よって、特開2001-332391号公報に開示された例では、有機物へのダメージの少ない材料を選択することが出来なかった。 Since ZnO used in the low-reflectance laminated structure disclosed in JP-A-2001-332391 is a conductive inorganic film, it is necessary to add an evaporation source to an apparatus for manufacturing an organic EL device. Further, the organic layer of the organic EL device is susceptible to damage during film formation, and thermal damage occurs with inorganic materials such as ZnO which require a high temperature for thermal evaporation. Further, in a material that requires EB deposition, damage due to reflected electrons occurs. However, since the low-reflectance laminated structure also functions as a cathode in an organic EL device, the second semi-transmissive layer needs to have conductivity. Therefore, in the example disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-332391, it was not possible to select a material having little damage to organic substances.
本発明の課題としては、有機ELデバイスにダメージを与えることなく、低反射率積層構造体を有機ELデバイスに付与すること等が挙げられる。 An object of the present invention is to provide a low-reflectance laminated structure to an organic EL device without damaging the organic EL device.
本発明の請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、第１半透過性膜と、第２半透過性膜と、反射層とが順に積層されてなる光学干渉を利用した低反射率積層構造を有し、少なくとも二つの電極で発光性の有機物を含む有機物薄膜積層体を挟持した有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、
前記低反射率積層構造を構成する前記第２半透過性膜が有機物からなることを特徴とする。
The organic electroluminescent device according to claim 1 of the present invention has a low-reflectivity laminated structure utilizing optical interference in which a first semi-permeable film, a second semi-permeable film, and a reflective layer are laminated in this order. Having, an organic electroluminescence device sandwiching an organic thin film laminate containing a luminescent organic material with at least two electrodes,
The second semi-permeable film constituting the low-reflectance laminated structure is made of an organic material.
本願発明者らは、低反射率積層構造体を、通常有機ELデバイスを作製するときに用いるAlと、有機物で構成することが出来ることを見出した。また、発明者らは、半導体である有機物で構成された低反射率積層構造体を有機ELデバイスの陰極に用いることができることを見出した。 The inventors of the present application have found that the low-reflectance laminated structure can be composed of Al and an organic substance which are usually used when manufacturing an organic EL device. In addition, the inventors have found that a low-reflectance laminated structure composed of an organic substance, which is a semiconductor, can be used as a cathode of an organic EL device.
以下、図面を参照しながら本発明に係る有機ELデバイスの実施形態について、詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the organic EL device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
（第１実施形態）
以下、本発明に係る有機ELデバイスの第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態の有機ELデバイス１０を示す図である。有機ELデバイス１０は、透明基板１１上に、陽極として機能するＩＴＯを素材とする透明電極１２と、有機層１３と、陰極として機能する背面電極構造体１４とを順に積層して構成されている。
(1st Embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the organic EL device according to the present invention will be described. FIG. 1 is a diagram illustrating an organic EL device 10 according to the first embodiment. The organic EL device 10 is configured such that a transparent electrode 12 made of ITO serving as an anode, an organic layer 13, and a back electrode structure 14 serving as a cathode are sequentially laminated on a transparent substrate 11. .
有機層１３は、透明基板１１上に成膜された透明電極１２上にパターニングなどの必要な工程を施した後に、真空槽内で複数の有機物を順次加熱蒸着して作製されている。例えば、透明電極１２の上に、ホール輸送層を数十〜数百nm堆積させた後、発光層を同じく堆積し、続いて電子輸送層を堆積する。これらの層の機能は、一つの層が複数の機能を有している場合もある。また、ひとつの機能を複数の材料の積層で構成することもある。以上は、低分子系有機EL材料の製膜方法であるが、高分子系有機EL材料等を用い、溶液をスピンコート法やインクジェット法等で順次塗布してもよい。 The organic layer 13 is formed by performing necessary processes such as patterning on the transparent electrode 12 formed on the transparent substrate 11 and then sequentially heating and depositing a plurality of organic substances in a vacuum chamber. For example, after a tens to hundreds of nm of hole transport layer is deposited on the transparent electrode 12, a light emitting layer is deposited in the same manner, and then an electron transport layer is deposited. Regarding the functions of these layers, one layer may have a plurality of functions in some cases. Further, one function may be constituted by a laminate of a plurality of materials. The above is a method for forming a low-molecular organic EL material, but a high-molecular organic EL material or the like may be used and the solution may be sequentially applied by a spin coating method, an inkjet method, or the like.
このようにして順次多層積層成膜された有機ELデバイスは、pn接合型の半導体発光ダイオードのように振る舞う。すなわち、透明電極１２と背面電極構造体１４の間に電圧を印加すると、陽極である透明電極１２からホールが有機層１３内部に注入され、陰極である背面電極構造体１４から電子が有機層１３内部に注入される。ホールは、ホール輸送層中を輸送され、電子は電子輸送層中を輸送され、発光層内部で両キャリアが再結合し、そのエネルギーが発光層分子を励起し、励起分子が基底状態に戻る際に蛍光またはリン光を発する。 The organic EL device thus formed in a multi-layered manner behaves like a pn junction type semiconductor light emitting diode. That is, when a voltage is applied between the transparent electrode 12 and the back electrode structure 14, holes are injected into the organic layer 13 from the transparent electrode 12 serving as an anode, and electrons are emitted from the back electrode structure 14 serving as a cathode. Injected inside. Holes are transported in the hole transport layer, electrons are transported in the electron transport layer, and both carriers are recombined inside the light emitting layer, the energy excites the light emitting layer molecules and the excited molecules return to the ground state. Emits fluorescence or phosphorescence.
背面電極構造体１４は、有機層１３上に成膜される層であり、複数の層から構成された低反射率積層構造体として機能する。この背面電極構造体１４は、金属を素材とした第１半透過性膜１５の上に有機物を素材とした第２半透過性膜１６を蒸着し、第２半透過性膜１６上に金属を素材とした反射層１７が積層されて構成されている。 The back electrode structure 14 is a layer formed on the organic layer 13 and functions as a low-reflectance laminated structure composed of a plurality of layers. The back electrode structure 14 is obtained by depositing a second semi-permeable film 16 made of an organic material on a first semi-permeable film 15 made of a metal, and depositing a metal on the second semi-permeable film 16. The reflective layer 17 made of a material is laminated.
第１半透過性膜１５は、透明基板１１から入射した光を一部透過し、一部反射する。第１半透過性膜１５は、膜にならない程薄く、段部における連続性が低いため、横方向（透明基板１１に平行な方向、以下横方向）の配線抵抗が高く、電流を殆ど流さない。 The first semi-permeable film 15 partially transmits light incident from the transparent substrate 11 and partially reflects the light. The first semi-permeable film 15 is so thin that it does not become a film, and has low continuity at the steps, so that the wiring resistance in the lateral direction (the direction parallel to the transparent substrate 11; hereinafter, lateral direction) is high, and almost no current flows. .
第１半透過性膜１５は、真空加熱蒸着法により有機層１３上に成膜される光半透過性膜であり、具体的な素材としては、Al, Au, Cr, Cu, Agや、低仕事関数金属のMg,Ca等を用いることが可能である。第１半透過性膜１５は、導電性でありかつ真空加熱蒸着法による成膜時に有機層１３にダメージを与えないものであることが好ましい。 The first semi-permeable film 15 is a light semi-permeable film formed on the organic layer 13 by a vacuum heating evaporation method, and specific materials include Al, Au, Cr, Cu, Ag, It is possible to use work function metals such as Mg and Ca. It is preferable that the first semi-permeable film 15 is conductive and does not damage the organic layer 13 at the time of film formation by the vacuum heating evaporation method.
第２半透過性膜１６は、有機物から構成され、第１半透過性膜１５上に成膜された光半透過性薄膜である。第２半透過性膜１６は、有機物を真空加熱蒸着法により第１半透過性膜１５上に堆積することにより成膜される。第２半透過性膜は、第１半透過性膜１５と反射層１７間に電流を流す必要があるため、半導体または導体で構成されている。例として、第２半透過性膜１６は、トリス（8―キノリノラト−N1, 08）−アルミニウム(Alq3)、銅フタロシアニン(CuPC)等を用いることが可能である。このAlq3及び銅フタロシアニンは、有機層１３内部の層の組成と同一であるため、デバイス成膜時の蒸着源を増やすことなく第２半透過性膜１６を成膜することが可能である。また、有機物である第２半透過性膜１６として有機物を成膜する場合の蒸着温度は、200〜350℃程度である。この温度は、ZnO等の無機半透過膜を蒸着する場合の温度（1725℃）と比べて十分に低いため、有機層１３へのダメージが少なく、また製造装置の真空槽への熱的負荷も小さい。 The second semi-permeable film 16 is made of an organic material, and is a light semi-transparent thin film formed on the first semi-permeable film 15. The second semi-permeable film 16 is formed by depositing an organic substance on the first semi-permeable film 15 by a vacuum heating evaporation method. The second semi-permeable film is made of a semiconductor or a conductor because it is necessary to pass a current between the first semi-permeable film 15 and the reflective layer 17. As an example, the second semi-permeable membrane 16 can use tris (8-quinolinolato-N1, 08) -aluminum (Alq 3 ), copper phthalocyanine (CuPC), or the like. Since Alq 3 and copper phthalocyanine have the same composition as the layer inside the organic layer 13, the second semi-permeable film 16 can be formed without increasing the number of evaporation sources at the time of device formation. In addition, when an organic material is formed as the second semi-permeable film 16 which is an organic material, the deposition temperature is about 200 to 350 ° C. Since this temperature is sufficiently lower than the temperature (1725 ° C.) for depositing an inorganic semi-permeable film such as ZnO, the damage to the organic layer 13 is small, and the thermal load on the vacuum chamber of the manufacturing apparatus is also reduced. small.
反射層１７は、光学反射層であり、第１半透過性膜１５と同じ素材でよく、異なっていてもよい。反射層１７は、配線として十分に低抵抗で、図１の矢印に示す経路に沿って電流を流す電荷パスとして機能する。反射層１７は、引き出し電極１８から供給された電子を輸送し、第２半透過性膜１６及び第１半透過性膜１５を介して有機層１３に電子を注入する。反射層１７は、必ずしも第１半透過性膜１５と同じ素材で構成する必要はないが、蒸着源の数を増やさないためには、第１半透過性膜と同一の素材であることが好ましい。 The reflection layer 17 is an optical reflection layer, and may be made of the same material as the first semi-permeable film 15 or may be different. The reflection layer 17 has a sufficiently low resistance as a wiring, and functions as a charge path for flowing a current along a path indicated by an arrow in FIG. The reflection layer 17 transports the electrons supplied from the extraction electrode 18 and injects the electrons into the organic layer 13 via the second semi-permeable film 16 and the first semi-permeable film 15. The reflective layer 17 does not necessarily need to be made of the same material as the first semi-permeable film 15, but is preferably made of the same material as the first semi-permeable film in order not to increase the number of evaporation sources. .
背面電極構造体１４を構成する第１半透過性膜１５、第２半透過性膜１６、反射層１７は、透明基板１１の外部から入射する低反射率積層構造体として機能する。この低反射率積層構造体に入射した光は、有機層１３と第１半透過性膜１５の界面、第１半透過性膜と第２半透過性膜１６の界面、及び第２半透過性膜１６と反射層１７の界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあう。低反射率積層構造体では、光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱めるように、第１半透過性膜１５、第２半透過性膜１６の厚みが調整されている。例としては、第２半透過性膜１６の光学的膜厚が目的波長λの概略１／４となるように調整されている。 The first semi-permeable film 15, the second semi-permeable film 16, and the reflective layer 17 constituting the back electrode structure 14 function as a low-reflectance laminated structure that enters from outside the transparent substrate 11. Light incident on the low-reflectance laminated structure is reflected at the interface between the organic layer 13 and the first semi-permeable film 15, the interface between the first semi-permeable film and the second semi-permeable film 16, and the second semi-permeable film. The light reflected at the interface between the film 16 and the reflective layer 17 interferes with each other at each interface. In the low-reflectivity laminated structure, the thickness of the first semi-transmissive film 15 and the second semi-transmissive film 16 is adjusted so as to weaken light of a target wavelength by optical interference or light absorption. For example, the optical thickness of the second semi-permeable film 16 is adjusted so as to be approximately の of the target wavelength λ.
上記構成によれば、外部から有機ELデバイス１０内部に入射した外部光は、低反射率積層構造体である背面電極構造体１４に入射し、強度が弱められて低反射積層体外部に出力されるので、外部光の反射が小さいデバイスとなる。従って、背面電極構造体１４は、有機ELデバイスの背面電極でありかつ低反射率積層構造体として機能することが可能である。 According to the above configuration, external light that has entered the inside of the organic EL device 10 from the outside enters the back electrode structure 14, which is a low-reflectance laminated structure, and is weakened in intensity and output to the outside of the low-reflective laminated body. Therefore, the device has low reflection of external light. Therefore, the back electrode structure 14 is a back electrode of the organic EL device and can function as a low-reflectance laminated structure.
また、有機層１３を構成する素材と同一の素材のもので第２半透過性膜１６を成膜した場合には、第２半透過性膜１６と蒸着源を共有できるため、蒸着源の数を減らすことが可能となる。また、コンタミネーションの影響もなくなる。 Further, when the second semi-permeable film 16 is formed of the same material as the material forming the organic layer 13, the evaporation source can be shared with the second semi-permeable film 16; Can be reduced. In addition, there is no influence of contamination.
また、本実施形態でも、第１半透過性膜１５としてAl、第２半透過性膜１６としてAlq3を用いた場合には、ZnO等の無機物を成膜する場合よりも蒸着温度が低いため、有機層１３へのダメージを低くすることが可能である。また、Al及びAlq3を用いた場合には、これらの蒸着温度が低いため、蒸着源への負荷を小さくすることが可能となる。 Also in this embodiment, when Al is used as the first semi-permeable film 15 and Alq 3 is used as the second semi-permeable film 16, the deposition temperature is lower than when an inorganic substance such as ZnO is formed. In addition, damage to the organic layer 13 can be reduced. Further, when Al and Alq 3 are used, the load on the deposition source can be reduced because the deposition temperature is low.
なお、本実施形態では、第２半透過性膜１６は、導体又は半導体であるとしたが、第１半透過性膜１５が、有機層１３に電荷を供給できる程度の厚みを有し、横方向に連続性を有している場合には、絶縁体であってもよい。 In the present embodiment, the second semi-permeable film 16 is assumed to be a conductor or a semiconductor. However, the first semi-permeable film 15 has a thickness enough to supply charges to the organic layer 13, If it has continuity in the direction, it may be an insulator.
（第２実施形態）
以下、本発明に係る有機ELデバイスの第２実施形態について説明する。図２は、第２実施形態の有機ELデバイス２０を示す図である。有機ELデバイス２０は、透明基板２１上に、陽極として機能するＩＴＯを素材とする透明電極２２と、有機層２３と、陰極として機能する背面電極構造体２４とを順に積層して構成されている。透明基板２１、透明電極２２及び有機層２３の構成は、第１実施形態に記載の透明基板１１、透明電極１２及び有機層１３と同等である。
(2nd Embodiment)
Hereinafter, a second embodiment of the organic EL device according to the present invention will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating an organic EL device 20 according to the second embodiment. The organic EL device 20 is configured by sequentially laminating a transparent electrode 22 made of ITO serving as an anode, an organic layer 23, and a back electrode structure 24 serving as a cathode on a transparent substrate 21. . The configurations of the transparent substrate 21, the transparent electrode 22, and the organic layer 23 are the same as those of the transparent substrate 11, the transparent electrode 12, and the organic layer 13 described in the first embodiment.
背面電極構造体２４は、有機層２３上に成膜される層であり、複数の層から構成された低反射率積層構造体として機能する。この背面電極構造体２４は、導電性の第１半透過性膜２５の上に有機物からなる第２半透過性膜２６を蒸着し、第２半透過性膜２６上に導電性の反射層２７が積層されて構成されている。ここで、第１半透過性膜２５，第２半透過性膜２６，及び反射層２７の素材は、第１実施形態に記載の第１半透過性膜１５，第２半透過性膜１６，及び反射層１７と同一のものを用いることが可能である。 The back electrode structure 24 is a layer formed on the organic layer 23 and functions as a low-reflectance laminated structure composed of a plurality of layers. The back electrode structure 24 is formed by depositing a second semi-permeable film 26 made of an organic material on the first conductive semi-permeable film 25 and forming a conductive reflective layer 27 on the second semi-permeable film 26. Are laminated. Here, the materials of the first semi-permeable film 25, the second semi-permeable film 26, and the reflective layer 27 are the first semi-permeable film 15, the second semi-permeable film 16, the second semi-permeable film 16 described in the first embodiment. And the same material as the reflection layer 17 can be used.
本実施形態では、第２半透過性膜が電子を供給する引き出し電極２８の上方には成膜されておらず、第１半透過成膜２５と反射層２７は、引き出し電極２８の上方の接続部２９にて接続されている。本実施形態の構成では、電流は、第１実施形態と異なり第２半透過性膜２６を介さず、引き出し電極２８から反射層２７、接続部２９、第１半透過性膜２５の順に流れる。この場合、第２半透過性膜２６は、絶縁性であってもよい。 In the present embodiment, the second semi-permeable film is not formed above the extraction electrode 28 for supplying electrons, and the first semi-transmission film 25 and the reflection layer 27 are connected to each other above the extraction electrode 28. It is connected at the unit 29. In the configuration of the present embodiment, unlike the first embodiment, the current flows from the extraction electrode 28 to the reflective layer 27, the connection portion 29, and the first semi-permeable film 25 in this order without passing through the second semi-permeable film 26. In this case, the second semi-permeable film 26 may be insulating.
背面電極構造体２４を構成する第１半透過性膜２５、第２半透過性膜２６、反射層２７は、透明基板２１の外部から入射する低反射率積層構造体として機能する。この低反射率積層構造体に入射した光は、有機層２３と第１半透過性膜２５の界面、第１半透過性膜２５と第２半透過性膜２６の界面、及び第２半透過性膜２６と反射層２７の界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあう。低反射率積層構造体では、光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱めるように、第１半透過性膜２５、第２半透過性膜２６の厚みが調整されている。例としては、第２半透過性膜２６の光学的膜厚が目的波長λの概略１／４となるように調整されている。 The first semi-permeable film 25, the second semi-permeable film 26, and the reflective layer 27 constituting the back electrode structure 24 function as a low-reflectance laminated structure that enters from outside the transparent substrate 21. The light incident on the low-reflectivity laminated structure has an interface between the organic layer 23 and the first semi-permeable film 25, an interface between the first semi-permeable film 25 and the second semi-permeable film 26, and a second semi-transmissive film. The light reflected at the interface between the conductive film 26 and the reflective layer 27 interferes with each other at the respective interfaces. In the low-reflectivity laminated structure, the thickness of the first semi-transmissive film 25 and the second semi-transmissive film 26 is adjusted so as to weaken light of a target wavelength by optical interference or light absorption. As an example, the optical thickness of the second semi-permeable film 26 is adjusted to be approximately の of the target wavelength λ.
上記構成によれば、外部から有機ELデバイス２０内部に入射した外部光は、低反射率積層構造体である背面電極構造体２４に入射し、強度が弱められて低反射積層体外部に出力される。従って、外部光の出力を弱め、有機層２３から出射するEL光強度を相対的に強めることが可能となる。従って、背面電極構造体２４は、有機ELデバイスの背面電極でありかつ低反射率積層構造体として機能することが可能である。 According to the above configuration, external light that has entered the inside of the organic EL device 20 from the outside enters the back electrode structure 24, which is a low-reflectance laminated structure, and is weakened in intensity and output to the outside of the low-reflective laminated body. You. Therefore, it is possible to weaken the output of the external light and relatively increase the intensity of the EL light emitted from the organic layer 23. Therefore, the back electrode structure 24 is a back electrode of the organic EL device and can function as a low-reflectance laminated structure.
また、本実施形態は、第２半透過性膜２６としてAl及びAlq3を用いた場合には、ZnO等の無機物を成膜する場合よりも蒸着温度が低いため、有機層２３へのダメージが低くすることが可能である。また、Al及びAlq3を用いた場合には、これらの蒸着温度が低いため、蒸着源への負荷が小さくすることが可能となる。 Further, in the present embodiment, when Al and Alq 3 are used as the second semi-permeable film 26, the deposition temperature is lower than in the case of forming an inorganic substance such as ZnO, so that the organic layer 23 is not damaged. It is possible to lower it. Further, when Al and Alq 3 are used, the load on the deposition source can be reduced because the deposition temperature is low.
また、有機層を構成する素材と同一の素材のもので第２半透過性膜２６を成膜した場合には、第２半透過性膜２６用に蒸着源を共有できるため、蒸着源の数を減らすことが可能となる。 Further, when the second semi-permeable film 26 is formed of the same material as the material constituting the organic layer, the evaporation source can be shared for the second semi-permeable film 26. Can be reduced.
（層構造について）
図７は、第１実施形態及び第２実施形態の有機ELデバイス１０，２０の層構造を模式的に表したものである。
図７における有機ELデバイス１００は、電極層１０５上に発光性の有機物を含む有機物薄膜積層体１０４が配置され、そして有機物薄膜積層体１０４上に、第１半透過性膜１０３、第２半透過性膜１０２及び反射層１０１が順に積層されて構成されている。
(About layer structure)
FIG. 7 schematically illustrates the layer structure of the organic EL devices 10 and 20 according to the first embodiment and the second embodiment.
In the organic EL device 100 in FIG. 7, an organic thin film stack 104 containing a light-emitting organic substance is disposed on an electrode layer 105, and a first semi-permeable film 103 and a second semi-transparent film are formed on the organic thin film stack 104. The conductive film 102 and the reflective layer 101 are sequentially laminated.
反射層１０１、第２半透過性膜１０２、および第１半透過性膜１０３は、光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱める低反射率積層構造を構成している。
第２半透過性膜１０２は、有機物によって構成されている。この第２半透過性膜１０２は、有機物薄膜積層体１０４を構成する有機物によって構成されていてもよい。
The reflective layer 101, the second semi-transmissive film 102, and the first semi-transmissive film 103 form a low-reflectance laminated structure that weakens light of a target wavelength by optical interference or light absorption.
The second semi-permeable film 102 is made of an organic substance. The second semi-permeable film 102 may be made of an organic material constituting the organic thin film laminate 104.
有機ELデバイス１００では、第１半透過性膜１０３が有機物薄膜積層体１０４に電子またはホールを供給する電極として機能しており、第１半透過性膜１０３、有機物薄膜積層体１０４、及び電極層１０５によって有機EL光を発光させるための有機EL機能部が構成されている。すなわち、有機ELデバイス１００においては、有機EL機能部と、低反射率積層構造とが一部重複している。
ここで、第１半透過性膜１０３は、第２半透過性膜１０２、または第２半透過性膜１０２及び反射層１０１を介して電子またはホールを受け取ってもよいし、外部の供給源または供給配線等から直接電子またはホールを受け取ってもよい。
In the organic EL device 100, the first semi-permeable film 103 functions as an electrode for supplying electrons or holes to the organic thin film stack 104, and the first semi-permeable film 103, the organic thin film stack 104, and the electrode layer An organic EL function unit for emitting organic EL light is constituted by 105. That is, in the organic EL device 100, the organic EL function part and the low-reflectance laminated structure partially overlap.
Here, the first semi-permeable film 103 may receive electrons or holes via the second semi-permeable film 102, or the second semi-permeable film 102 and the reflective layer 101, or may be an external source or Electrons or holes may be directly received from the supply wiring or the like.
この有機ELデバイス１００では、電極層１０５と第１半透過性膜１０３からそれぞれ有機物薄膜積層体１０４に電子及びホールが供給され、有機物薄膜積層体１０４内で電子及びホールが再結合することにより発光する。発光した光は、電極層１０５側から外部に出射される。 In the organic EL device 100, electrons and holes are supplied from the electrode layer 105 and the first semi-permeable film 103 to the organic thin film stack 104, respectively, and the electrons and holes recombine in the organic thin film stack 104 to emit light. I do. The emitted light is emitted to the outside from the electrode layer 105 side.
また、外部から電極層１０５に入射した外部光は、有機物薄膜積層体１０４と第１半透過性膜１０３の界面、第１半透過性膜１０３と第２半透過性膜１０２の界面、及び第２半透過性膜１０２と反射層１０１の界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあい弱められる。したがって、外部光の反射率が低下し、相対的に有機物薄膜積層体１０４内で発光した発光光の輝度が向上する。 Further, external light incident on the electrode layer 105 from the outside is applied to the interface between the organic thin film stack 104 and the first semi-permeable film 103, the interface between the first semi-permeable film 103 and the second semi-permeable film 102, and the (2) The light is reflected at the interface between the semi-transmissive film 102 and the reflective layer 101, and the reflected light at each interface interferes with each other and is weakened. Therefore, the reflectance of the external light decreases, and the luminance of the light emitted in the organic thin film laminate 104 relatively increases.
なお、有機物薄膜積層体１０４にて発光した光は、反射層１０１側から出射されるようにしてもよい。この場合には、第１半透過性膜１０３が実質的には反射層として機能し、そして反射層１０１が実質的には第１半透過性膜として機能し、反射層１０１から入射した外部光の反射率を低下させることが可能である。 The light emitted from the organic thin film laminate 104 may be emitted from the reflective layer 101 side. In this case, the first semi-transmissive film 103 substantially functions as a reflective layer, and the reflective layer 101 substantially functions as a first semi-transmissive film. Can be reduced.
ここで、本発明に係る有機ELデバイスの層構造としては、上記有機ELデバイス１００に限られることはなく、様々な変形例が考えられる。 Here, the layer structure of the organic EL device according to the present invention is not limited to the organic EL device 100, and various modifications are conceivable.
図８は、有機ELデバイスの層構造の第１の変形例を示す図である。
図８に示す有機ELデバイス１１０は、電極層１１５上に有機物層１１４が配置され、そして有機物層１１４上に、第１半透過性膜１１３、第２半透過性膜１１２及び反射層１１１が順に積層されて構成されている。
FIG. 8 is a diagram showing a first modification of the layer structure of the organic EL device.
In the organic EL device 110 shown in FIG. 8, an organic material layer 114 is disposed on an electrode layer 115, and a first semi-permeable film 113, a second semi-permeable film 112, and a reflective layer 111 are sequentially formed on the organic material layer 114. It is configured to be laminated.
反射層１１１、第２半透過性膜１１２、および第１半透過性膜１１３は、光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱める低反射率積層構造を構成している。
また、本変形例では、発光性の有機物は、有機物層１１４、第１半透過性膜１１３及び第２半透過性膜１１２の何れか一つに設けられ、有機物層１１４、第１半透過性膜１１３及び第２半透過性膜１１２により有機物薄膜積層体が構成されている。
The reflection layer 111, the second semi-transmissive film 112, and the first semi-transmissive film 113 form a low-reflectance laminated structure that weakens light of a target wavelength by optical interference or light absorption.
In this modification, the organic substance having a light-emitting property is provided on any one of the organic substance layer 114, the first semi-permeable film 113, and the second semi-permeable film 112, and the organic substance layer 114, the first semi-permeable substance The film 113 and the second semi-permeable film 112 constitute an organic thin film laminate.
反射層１１１は、第２半透過性膜１１２に電子またはホールを供給する電極として機能しており、反射層１１１，第２半透過性膜１１２、第１半透過性膜１１３、有機物層１１４、第１半透過性膜１１３及び第２半透過性膜１１２及び電極層１１５によって有機EL光を発光させるための有機EL機能部が構成されている。すなわち、有機ELデバイス１１０においては、有機EL機能部が低反射率積層構造を含む構造となっている。
なお、少なくとも第２半透過性膜１１２は、有機物によって構成されている。
The reflective layer 111 functions as an electrode for supplying electrons or holes to the second semi-permeable film 112, and includes a reflective layer 111, a second semi-permeable film 112, a first semi-permeable film 113, an organic material layer 114, The first semi-permeable film 113, the second semi-permeable film 112, and the electrode layer 115 constitute an organic EL function unit for emitting organic EL light. That is, in the organic EL device 110, the organic EL function part has a structure including a low-reflectance laminated structure.
Note that at least the second semi-permeable film 112 is made of an organic substance.
この有機ELデバイス１１０では、電極層１１５と第１半透過性膜１１３からそれぞれ有機物薄膜積層体に電子及びホールが供給され、有機物薄膜積層体内で電子及びホールが再結合することにより発光する。発光した光は、電極層１１５側から外部に出射される。 In the organic EL device 110, electrons and holes are supplied to the organic thin film stack from the electrode layer 115 and the first semi-permeable film 113, respectively, and light is emitted when the electrons and holes recombine in the organic thin film stack. The emitted light is emitted to the outside from the electrode layer 115 side.
また、外部から電極層１１５に入射した外部光は、有機物層１１４と第１半透過性膜１１３の界面、第１半透過性膜１１３と第２半透過性膜１１２の界面、及び第２半透過性膜１１２と反射層１１１の界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあい弱められる。したがって、外部光の反射率が低下し、相対的に有機物薄膜積層体１１４内で発光した発光光の輝度が向上する。 Further, external light incident on the electrode layer 115 from the outside is applied to the interface between the organic material layer 114 and the first semi-permeable film 113, the interface between the first semi-permeable film 113 and the second semi-permeable film 112, and the second semi-permeable film 112. The light is reflected at the interface between the transmissive film 112 and the reflective layer 111, and the reflected light at each interface interferes with each other and is weakened. Therefore, the reflectance of the external light is reduced, and the luminance of the light emitted in the organic thin film laminate 114 is relatively improved.
なお、有機物薄膜積層体内にて発光した光は、反射層１１１側から出射されるようにしてもよい。この場合には、第１半透過性膜１１３が実質的には反射層として機能し、そして反射層１１１が実質的には第１半透過性膜として機能し、反射層１１１から入射した外部光の反射率を低下させることが可能である。 Light emitted in the organic thin film laminate may be emitted from the reflective layer 111 side. In this case, the first semi-transmissive film 113 substantially functions as a reflective layer, and the reflective layer 111 substantially functions as a first semi-transmissive film. Can be reduced.
図９は、有機ELデバイスの層構造の第２の変形例を示す図である。
図９に示す有機ELデバイス１２０では、第１電極層１２３上に発光性の有機物を含む有機物薄膜積層体１２２が配置され、そして有機物薄膜積層体１２２上に、第２電極層１２１が配置されている。
FIG. 9 is a diagram showing a second modification of the layer structure of the organic EL device.
In the organic EL device 120 shown in FIG. 9, an organic thin film laminate 122 containing a light-emitting organic substance is disposed on the first electrode layer 123, and a second electrode layer 121 is disposed on the organic thin film laminate 122. I have.
ここで、第２電極層１２１、有機物薄膜積層体１２２及び第１電極層１２３は、それぞれ反射層、第２半透過性膜及び第１半透過性膜を構成し、全体として光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱める低反射率積層構造をなしている。また、第２電極層１２１、有機物薄膜積層体１２２及び第１電極層１２３によって有機EL光を発光させるための有機EL機能部が構成され、すなわち、有機ELデバイス１２０は、有機EL機能部全体が低反射率積層構造となる構造を有している。 Here, the second electrode layer 121, the organic thin film laminate 122, and the first electrode layer 123 constitute a reflective layer, a second semi-transmissive film, and a first semi-transmissive film, respectively. By absorption, a low-reflectivity laminated structure that weakens light of a target wavelength is formed. The second electrode layer 121, the organic thin film laminate 122, and the first electrode layer 123 constitute an organic EL function unit for emitting organic EL light. That is, the organic EL device 120 includes the entire organic EL function unit. It has a structure that becomes a low reflectance laminated structure.
この有機ELデバイス１２０では、第２電極層１２１と第１電極層１２３からそれぞれ有機物薄膜積層体１２２に電子及びホールが供給され、有機物薄膜積層体１２２内で電子及びホールが再結合することにより発光する。発光した光は、第１電極層１２３側から外部に出射される。 In this organic EL device 120, electrons and holes are supplied from the second electrode layer 121 and the first electrode layer 123 to the organic thin film laminate 122, respectively, and the electrons and holes recombine in the organic thin film laminate 122 to emit light. I do. The emitted light is emitted to the outside from the first electrode layer 123 side.
また、外部から第１電極層１２３に入射した外部光は、第１電極層１２３と外界との界面、第１電極層１２３と有機物薄膜積層体１２２との界面、及び有機物薄膜積層体１２２と第２電極層１２１との界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあい弱められる。したがって、外部光の反射率が低下し、相対的に有機物薄膜積層体１２２内で発光した発光光の輝度が向上する。 External light incident on the first electrode layer 123 from the outside is generated at the interface between the first electrode layer 123 and the outside, the interface between the first electrode layer 123 and the organic thin film laminate 122, and between the organic thin film laminate 122 and the second thin film. Light reflected at the interface with the two-electrode layer 121 interferes with each other and is weakened. Therefore, the reflectance of the external light is reduced, and the luminance of the light emitted in the organic thin film laminate 122 is relatively improved.
なお、有機物薄膜積層体１２２にて発光した光は、第２電極層１２１側から出射されるようにしてもよい。この場合には、第１電極層１２３が実質的には反射層として機能し、そして第２電極層１２１が実質的には第１半透過性膜として機能し、第２電極層１２１から入射した外部光の反射率を低下させることが可能である。 The light emitted from the organic thin film laminate 122 may be emitted from the second electrode layer 121 side. In this case, the first electrode layer 123 substantially functions as a reflective layer, and the second electrode layer 121 substantially functions as a first semi-transmissive film, and is incident from the second electrode layer 121. It is possible to reduce the reflectance of external light.
図１０は、有機ELデバイスの層構造の第３の変形例を示す図である。
図１０に示す有機ELデバイス１３０は、第１電極層１３７上に複数の有機物層１３６，１３５，１３４，１３３，１３２が順に積層され、有機物層１３２上に第２電極層１３１が積層されて構成されている。
複数の有機物層１３２，１３３，１３４，１３５，１３６の少なくとも一つは、発光性の有機物を含む発光層であり、複数の有機物層１３２，１３３，１３４，１３５，１３６全体で、有機物薄膜積層体を構成している。
FIG. 10 is a diagram showing a third modification of the layer structure of the organic EL device.
The organic EL device 130 shown in FIG. 10 has a configuration in which a plurality of organic layers 136, 135, 134, 133, and 132 are sequentially stacked on a first electrode layer 137, and a second electrode layer 131 is stacked on an organic layer 132. Have been.
At least one of the plurality of organic layers 132, 133, 134, 135, and 136 is a light-emitting layer containing a light-emitting organic substance. Is composed.
本変形例では、有機物薄膜積層体の有機物層１３５が第１半透過性膜を、有機物層１３４が第２半透過性膜を、そして有機物層１３３が反射層を構成しており、全体で光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱める低反射率積層構造をなしている。そして、第１電極層１３１、複数の有機層１３２，１３３，１３４，１３５，１３６及び第２電極層１３７は、全体で有機EL光を発光させるための有機EL機能部を構成している。すなわち、有機ELデバイス１３０においては、有機EL機能部の内部に低反射率積層構造が設けられた構造となっている。 In this modification, the organic layer 135 of the organic thin film laminate constitutes a first semi-permeable film, the organic layer 134 constitutes a second semi-permeable film, and the organic layer 133 constitutes a reflective layer. It has a low-reflectance laminated structure that weakens light of a target wavelength by interference or light absorption. The first electrode layer 131, the plurality of organic layers 132, 133, 134, 135, and 136, and the second electrode layer 137 constitute an organic EL function unit for emitting organic EL light as a whole. That is, the organic EL device 130 has a structure in which a low-reflectance laminated structure is provided inside the organic EL function unit.
この有機ELデバイス１３０では、第１電極層１３７と第２電極層１３１からそれぞれ有機物薄膜積層体に電子及びホールが供給され、有機物薄膜積層体内で電子及びホールが再結合することにより発光する。発光した光は、第１電極層１３７側から外部に出射される。 In the organic EL device 130, electrons and holes are supplied to the organic thin film laminate from the first electrode layer 137 and the second electrode layer 131, respectively, and light is emitted when the electrons and holes recombine in the organic thin film laminate. The emitted light is emitted to the outside from the first electrode layer 137 side.
また、外部から第１電極層１３７に入射した外部光は、有機物層１３６と有機物層１３５との界面、有機物層１３５と有機物層１３４との界面、及び有機物層１３４と有機物層１３３との界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあい弱められる。したがって、外部光の反射率が低下し、相対的に有機物薄膜積層体内で発光した発光光の輝度が向上する。 External light incident on the first electrode layer 137 from the outside is generated at the interface between the organic layer 136 and the organic layer 135, the interface between the organic layer 135 and the organic layer 134, and the interface between the organic layer 134 and the organic layer 133. The light reflected and reflected at each interface interferes with each other and is weakened. Therefore, the reflectance of the external light is reduced, and the luminance of the light emitted in the organic thin film laminate is relatively improved.
なお、有機物薄膜積層体にて発光した光は、第２電極層１３１側から出射されるようにしてもよい。この場合には、有機物層１３３が実質的には第１半透過性膜として機能し、そして有機物層１３５が実質的には反射層として機能することにより、第２電極層１３１側から入射した外部光の反射率を低下させることが可能である。 The light emitted from the organic thin film laminate may be emitted from the second electrode layer 131 side. In this case, the organic material layer 133 substantially functions as a first semi-permeable film, and the organic material layer 135 substantially functions as a reflective layer. It is possible to reduce the light reflectance.
図１１は、有機ELデバイスの層構造の第４の変形例を示す図である。
図１１における有機ELデバイス１４０は、第１電極層１４６上に発光性の有機物を含む有機物薄膜積層体１４５が配置され、そして有機物薄膜積層体１４５上に第２電極層１４４が積層され、この第２電極層１４４上に第１半透過性膜１４３、第２半透過性膜１４２及び反射層１４１が順に積層されて構成されている。
FIG. 11 is a diagram showing a fourth modification of the layer structure of the organic EL device.
In the organic EL device 140 shown in FIG. 11, an organic thin film laminate 145 containing a luminescent organic substance is disposed on a first electrode layer 146, and a second electrode layer 144 is laminated on the organic thin film laminate 145. A first semi-permeable film 143, a second semi-permeable film 142, and a reflective layer 141 are sequentially stacked on the two electrode layers 144.
反射層１４１、第２半透過性膜１４２、および第１半透過性膜１４３は、光学干渉や光の吸収により、目的とする波長の光を弱める低反射率積層構造を構成している。
第２半透過性膜１４２は、有機物によって構成されている。この第２半透過性膜１４２は、有機物薄膜積層体１４５を構成する有機物によって構成されていてもよい。
The reflective layer 141, the second semi-transmissive film 142, and the first semi-transmissive film 143 form a low-reflectance laminated structure that weakens light of a target wavelength by optical interference or light absorption.
The second semi-permeable film 142 is made of an organic material. The second semi-permeable film 142 may be made of an organic material constituting the organic thin film laminate 145.
有機ELデバイス１４０では、第１電極層１４６、有機物薄膜積層体１４５及び第２電極層１４４によって有機EL光を発光させるための有機EL機能部が構成されている。すなわち、有機ELデバイス１４０においては、有機EL機能部上に低反射率積層構造が設けられている。 In the organic EL device 140, the first electrode layer 146, the organic thin film laminate 145, and the second electrode layer 144 constitute an organic EL function unit for emitting organic EL light. That is, in the organic EL device 140, a low-reflectance laminated structure is provided on the organic EL function unit.
この有機ELデバイス１４０では、第１電極層１４６と第２電極層１４７からそれぞれ有機物薄膜積層体１４５に電子及びホールが供給され、有機物薄膜積層体１４５内で電子及びホールが再結合することにより発光する。発光した光は、第１電極層１４６側から外部に出射される。 In the organic EL device 140, electrons and holes are supplied from the first electrode layer 146 and the second electrode layer 147 to the organic thin film stack 145, respectively, and the electrons and holes are recombined in the organic thin film stack 145 to emit light. I do. The emitted light is emitted from the first electrode layer 146 side to the outside.
また、外部から第１電極層１４６に入射した外部光は、第２電極層１４４と第１半透過性膜１４３の界面、第１半透過性膜１４３と第２半透過性膜１４２の界面、及び第２半透過性膜１４２と反射層１４１の界面で反射し、各界面での反射光は互いに干渉しあい弱められる。したがって、外部光の反射率が低下し、相対的に有機物薄膜積層体１４５内で発光した発光光の輝度が向上する。 In addition, external light incident on the first electrode layer 146 from the outside receives an interface between the second electrode layer 144 and the first semi-permeable film 143, an interface between the first semi-permeable film 143 and the second semi-permeable film 142, In addition, the light is reflected at the interface between the second semi-transmissive film 142 and the reflective layer 141, and the light reflected at each interface interferes with each other and is weakened. Therefore, the reflectance of the external light is reduced, and the luminance of the light emitted in the organic thin film laminate 145 is relatively improved.
なお、有機物薄膜積層体１４５にて発光した光は、反射層１４１側から出射されるようにしてもよい。この場合には、第１半透過性膜１４３が実質的には反射層として機能し、そして反射層１４１が実質的には第１半透過性膜として機能し、反射層１４１から入射した外部光の反射率を低下させることが可能である。 The light emitted from the organic thin film laminate 145 may be emitted from the reflective layer 141 side. In this case, the first semi-transmissive film 143 substantially functions as a reflective layer, and the reflective layer 141 substantially functions as a first semi-transmissive film. Can be reduced.
また、上記説明においては、各有機ELデバイスは、低反射率積層構造を一つ有するとして説明を行ったが、これに限られることはなく、複数の低反射率積層構造を一つの有機ELデバイス内に構成するようにしてもよい。 In the above description, each organic EL device has been described as having one low-reflectance laminated structure. However, the present invention is not limited to this. It may be constituted in.
（実施例１）
第１実施形態及び第２実施形態に係る第２半透過性膜１６，２６として使用されるトリス(8-キノリノラト-N1,08)-アルミニウム(Alq3)を用いた低反射性積層体を作成した。低反射性積層体を構成するためには、簡単な場合には、Alq3の光学的膜厚が低減させるべき光の目的波長λの概略1/4であればよい。Alq3の屈折率は、たとえばエリプソメトリ法などで測定することが出来、波長525nmにおいて1.76である。
(Example 1)
Preparation of low-reflection laminate using tris (8-quinolinolato-N1,08) -aluminum (Alq 3 ) used as second semipermeable films 16 and 26 according to the first and second embodiments did. In order to construct a low-reflection laminate, in a simple case, the optical film thickness of Alq 3 should be approximately / 4 of the target wavelength λ of light to be reduced. The refractive index of Alq 3 can be measured by, for example, an ellipsometry method or the like, and is 1.76 at a wavelength of 525 nm.
膜の屈折率をn、厚さをdとしたとき、その光学厚さはn×dで与えられ、Alq3膜の場合、λ=525nmの1/4となるdは
n・d ＝ 525/4 ＝ 131.25
∴ d ＝74.6 nm
である。
When the refractive index of the film is n and the thickness is d, the optical thickness is given by n × d.In the case of an Alq 3 film, d, which is λ of λ = 525 nm, is
n · d = 525/4 = 131.25
∴ d = 74.6 nm
It is.
界面活性剤で超音波洗浄を行った後乾燥させたソーダライムガラス上に、真空加熱蒸着法によりアルミニウムを5nm堆積させた後、同じく真空加熱蒸着法によりAlq3を20, 40, 60, 80nm堆積させ、続いて同じく真空加熱蒸着法によりアルミニウムを100nm堆積した構造体を作製した。図３は、実施例1の、ソーダライムガラスから観察した光の反射率である。反射率の最低値は1%程度であり、また、Alq3厚さを調整することで、反射率の調整が可能であることが確認された。 5 nm of aluminum is deposited on soda lime glass, which has been subjected to ultrasonic cleaning with a surfactant and then dried, by vacuum heating evaporation, and Alq 3 is then deposited by vacuum heating evaporation at 20, 40, 60, and 80 nm. Subsequently, a structure in which aluminum was deposited to a thickness of 100 nm by the same vacuum evaporation method was produced. FIG. 3 shows the reflectance of light observed from soda lime glass in Example 1. The minimum value of the reflectance was about 1%, and it was confirmed that the reflectance could be adjusted by adjusting the thickness of Alq 3 .
（実施例２）
実施例２として、実施例１の低反射率積層構造体を第２実施形態に係る有機ELデバイス２の陰極として用いたものを作製した。ソーダライムガラス上に成膜された透明電極をパターニングし、その上に有機ELデバイスを以下の要領で作製した。
(Example 2)
As Example 2, a device using the low-reflectance laminated structure of Example 1 as a cathode of the organic EL device 2 according to the second embodiment was manufactured. A transparent electrode formed on soda lime glass was patterned, and an organic EL device was fabricated thereon in the following manner.
30×30mmサイズのソーダライムガラスに2mm幅でストライプをパターニングし、その上に６×12mmのサイズで有機物を蒸着した。ホール注入層として銅フタロシアニンを25nm、ホール輸送層としてNPDを45nm、発光層としてAlq3を60nm順次真空中にて加熱蒸着した。その後、電子注入添加材として、Li2Oを0.3nm積層した。その後、透明電極と直交する方向に2mm幅のアルミニウムを5nm成膜した。続いて、Alq3を6×12mmのサイズで80nm成膜した。最後に、再び透明電極と直交する方向に2ｍｍ幅のアルミニウムを100nm蒸着した素子を作製した。本実施例では、画素の近傍で、導電性の高い高反射層である厚いアルミと、有機ELデバイスの電極となる第一の半透過膜である薄いアルミを接続することで、第一の半透過膜を有効に有機ELデバイスの陰極として作用させた。 A stripe having a width of 2 mm was patterned on soda lime glass having a size of 30 × 30 mm, and an organic material having a size of 6 × 12 mm was deposited thereon. Copper phthalocyanine was used as a hole injection layer in a thickness of 25 nm, NPD was used as a hole transport layer at 45 nm, and Alq 3 was used as a light emitting layer. Thereafter, 0.3 nm of Li 2 O was laminated as an electron injection additive. Thereafter, a 5 nm-thick aluminum film having a width of 2 mm was formed in a direction orthogonal to the transparent electrode. Subsequently, 80 nm of Alq 3 was formed at a size of 6 × 12 mm. Finally, a device was produced by depositing 100 nm of aluminum having a width of 2 mm again in a direction orthogonal to the transparent electrode. In the present embodiment, by connecting thick aluminum, which is a highly reflective layer having high conductivity, and thin aluminum, which is a first semi-permeable film serving as an electrode of an organic EL device, in the vicinity of a pixel, the first half is formed. The permeable membrane effectively acted as the cathode of the organic EL device.
（比較例1）
比較例1として、ソーダライムガラス上に成膜された透明電極をパターニングし、その上にホール注入層として銅フタロシアニンを25nm、ホール輸送層としてNPDを45nm、発光層としてAlq3を60nm順次真空中にて加熱蒸着した。その後、電子注入添加材として、Li2Oを0.3nm積層した後、アルミを100nm蒸着し、比較例１の有機ELデバイスとした。
(Comparative Example 1)
As Comparative Example 1, a transparent electrode formed on soda lime glass was patterned, and on that, copper phthalocyanine was used as a hole injection layer at 25 nm, NPD was used as a hole transport layer at 45 nm, and Alq 3 was used as a light emitting layer at 60 nm in vacuum. Was deposited by heating. After that, as an electron injection additive, Li 2 O was laminated to a thickness of 0.3 nm, and aluminum was deposited to a thickness of 100 nm to obtain an organic EL device of Comparative Example 1.
図４は、実施例２と比較例１のデバイスの電圧-電流特性を示す図である。図４より、両デバイスの電圧-電流特性はほとんど同一であることがわかる。このことは、両デバイスにおいて有機ダイオードが等しく機能しており、同一電流に対するデバイスの内部発光強度も等しいと見なすことが出来る。また、視認された発光面は均一であり、Alq3を用いた低反射率積層構造体は、陰極として有効に働いていることがわかった。 FIG. 4 is a diagram illustrating voltage-current characteristics of the devices of Example 2 and Comparative Example 1. FIG. 4 shows that the voltage-current characteristics of both devices are almost the same. This means that the organic diodes function equally in both devices, and that the internal light emission intensities of the devices for the same current are equal. Further, the visible light-emitting surface was uniform, and it was found that the low-reflectivity laminated structure using Alq 3 effectively worked as a cathode.
（実施例３）
第１実施形態及び第２実施形態に係る第２半透過性膜１６，２６として使用される銅フタロシアニン(CuPC)を用いた低反射性積層体を作成した。界面活性剤で超音波洗浄を行った後に乾燥させたソーダライムガラス上に、真空加熱蒸着法によりアルミニウムを5nm堆積させた後、同じく、真空加熱蒸着法によりCuPCを50, 70, 90, 120, 150nm堆積させ、続いて同じく真空加熱蒸着法によりアルミニウムを100nm堆積した構造体をそれぞれ作成した。
(Example 3)
A low-reflection laminate using copper phthalocyanine (CuPC) used as the second semipermeable films 16 and 26 according to the first and second embodiments was created. On soda lime glass dried after performing ultrasonic cleaning with a surfactant, aluminum was deposited to 5 nm by vacuum heating evaporation method, and similarly, CuPC was 50, 70, 90, 120, by vacuum heating evaporation method. Each of the structures was deposited by depositing 150 nm, and then deposited with 100 nm of aluminum by the same vacuum heating deposition method.
図５は、第２半透過性膜をCuPCで構成した実施例３の低反射率積層構造体のソーダライムガラス側から観察した反射率である。反射率の最低値は、１%程度であり
1065517660702_0
十分に反射光を抑制している。
FIG. 5 shows the reflectance observed from the soda-lime glass side of the low-reflectivity laminated structure of Example 3 in which the second semi-permeable film was made of CuPC. The lowest value of reflectivity is about 1%
1065517660702_0
The reflected light is sufficiently suppressed.
（実施例４）
実施例４として、実施例３のうち最も反射率が低い厚さ70nmのCuPCで構成された低反射率積層構造体を第２実施形態に係る有機ELデバイス２０の陰極として用いたものを作製した。ソーダライムガラス上に成膜された透明電極をパターニングし、その上に有機ELデバイスを以下の要領で作製した。
(Example 4)
As Example 4, a device was manufactured in which the low-reflectance laminated structure composed of 70-nm-thick CuPC having the lowest reflectance of Example 3 was used as the cathode of the organic EL device 20 according to the second embodiment. . A transparent electrode formed on soda lime glass was patterned, and an organic EL device was fabricated thereon in the following manner.
ソーダライムガラス上に成膜された透明電極をパターニングし、その上にホール注入層として銅フタロシアニンを25nm、ホール輸送層としてNPDを45nm、発光層としてAlq3を60nm順次真空中にて加熱蒸着した。そして発光層上に、電子注入添加剤としてLiO2を0.3nm、アルミニウムを5nm、銅フタロシアニンを70nm、アルミニウムを100nm、順次蒸着したデバイスを作製した。 The transparent electrode formed on soda lime glass was patterned, and copper phthalocyanine was used as a hole injection layer, 25 nm was used as a hole transport layer, NPD was used as a hole transport layer, and Alq 3 was used as a light emitting layer. . Then, on the light emitting layer, a device was prepared in which LiO 2 as an electron injection additive was 0.3 nm, aluminum was 5 nm, copper phthalocyanine was 70 nm, and aluminum was 100 nm in that order.
（比較例２）
比較例２として、ソーダライムガラス上に成膜された透明電極をパターニングし、その上にホール注入層として銅フタロシアニンを25nm、ホール輸送層としてNPDを45nm、発光層としてAlq3を60nm順次真空中にて加熱蒸着した。その後、電子注入添加材として、Li2Oを0.3nm積層した後、アルミを100nm蒸着し、比較例１の有機ELデバイスとした。
(Comparative Example 2)
As Comparative Example 2, a transparent electrode formed on soda lime glass was patterned, and copper phthalocyanine was used as a hole injection layer at 25 nm, NPD was used as a hole transport layer at 45 nm, and Alq 3 was used as a light emitting layer at 60 nm in vacuum. Was deposited by heating. After that, as an electron injection additive, Li 2 O was laminated to a thickness of 0.3 nm, and then aluminum was deposited to a thickness of 100 nm to obtain an organic EL device of Comparative Example 1.
図６は、実施例４と比較例２のデバイスの電圧-電流特性を示す図である。図４より、両デバイスの電圧-電流特性はほとんど同一であることがわかる。このことは、両デバイスにおいて有機ダイオードが等しく機能しており、同一電流に対するデバイスの内部発光強度も等しいと見なすことが出来る。また、視認された発光面は均一であり、CuPCを用いた低反射率積層構造体は、陰極として有効に働いていることがわかった。 FIG. 6 is a diagram showing voltage-current characteristics of the devices of Example 4 and Comparative Example 2. FIG. 4 shows that the voltage-current characteristics of both devices are almost the same. This means that the organic diodes function equally in both devices, and that the internal light emission intensities of the devices for the same current are also equal. In addition, the visible light-emitting surface was uniform, and it was found that the low-reflectance laminated structure using CuPC worked effectively as a cathode.
１０，２０ 有機ELデバイス
１１，２１ 透明基板
１２，２２ 透明電極（陽極）
１３，２３ 有機層
１４，２４ 背面電極構造体（低反射構造積層体）
１５，２５ 第１半透過性膜
１６，２６ 第２半透過性膜
１７，２７ 反射層
１８，２８ 引き出し電極
２９ 接続部
10,20 Organic EL device 11,21 Transparent substrate 12,22 Transparent electrode (anode)
13,23 Organic layer 14,24 Back electrode structure (low-reflection structure laminate)
15, 25 First semi-permeable film 16, 26 Second semi-permeable film 17, 27 Reflective layer 18, 28 Extraction electrode 29 Connection
Claims (10)
前記低反射率積層構造を構成する前記第２半透過性膜が有機物からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイス。 The first semi-permeable film, the second semi-permeable film, and the reflective layer have a low-reflectance laminated structure using optical interference in which a reflective layer is sequentially laminated, and at least two electrodes include a light-emitting organic substance. An organic electroluminescence device sandwiching an organic thin film laminate,
An organic electroluminescent device, wherein the second semi-permeable film constituting the low-reflectance laminated structure is made of an organic material.
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|---|---|
| JP (1) | JP4580160B2 (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004164890A (en) * | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Sony Corp | Light emitting element and display device using same |
| JP2006156396A (en) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Samsung Sdi Co Ltd | Flat display device and its manufacturing method |
| JP2006286401A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tdk Corp | Organic el element, and image display device provided with the same |
| JPWO2005094130A1 (en) * | 2004-03-26 | 2008-02-14 | 松下電工株式会社 | Organic light emitting device |
| JP2008047340A (en) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Organic electroluminescence device |
| JP2011096679A (en) * | 2005-09-22 | 2011-05-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Organic-light emitting element, and manufacturing method thereof |
| KR101197045B1 (en) | 2005-02-07 | 2012-11-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display device and manufacturing method thereof |
| WO2014083693A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | パイオニア株式会社 | Light emitting device |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001052878A (en) * | 1999-08-11 | 2001-02-23 | Eastman Kodak Co | Transparent cathode and organic light emitting diode including the same |
| WO2001039554A1 (en) * | 1999-11-22 | 2001-05-31 | Sony Corporation | Display device |
| JP2001332391A (en) * | 2000-05-24 | 2001-11-30 | Eastman Kodak Co | Organic luminous device |
| JP2003505849A (en) * | 1999-07-27 | 2003-02-12 | ラクセル テクノロジーズ インク | Organic electroluminescence device |
-
2003
- 2003-10-07 JP JP2003348862A patent/JP4580160B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003505849A (en) * | 1999-07-27 | 2003-02-12 | ラクセル テクノロジーズ インク | Organic electroluminescence device |
| JP2001052878A (en) * | 1999-08-11 | 2001-02-23 | Eastman Kodak Co | Transparent cathode and organic light emitting diode including the same |
| WO2001039554A1 (en) * | 1999-11-22 | 2001-05-31 | Sony Corporation | Display device |
| JP2001332391A (en) * | 2000-05-24 | 2001-11-30 | Eastman Kodak Co | Organic luminous device |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004164890A (en) * | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Sony Corp | Light emitting element and display device using same |
| JPWO2005094130A1 (en) * | 2004-03-26 | 2008-02-14 | 松下電工株式会社 | Organic light emitting device |
| JP4758889B2 (en) * | 2004-03-26 | 2011-08-31 | パナソニック電工株式会社 | Organic light emitting device |
| JP2006156396A (en) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Samsung Sdi Co Ltd | Flat display device and its manufacturing method |
| US7495385B2 (en) | 2004-11-29 | 2009-02-24 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display |
| KR101197045B1 (en) | 2005-02-07 | 2012-11-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display device and manufacturing method thereof |
| JP2006286401A (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tdk Corp | Organic el element, and image display device provided with the same |
| JP2011096679A (en) * | 2005-09-22 | 2011-05-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Organic-light emitting element, and manufacturing method thereof |
| JP2008047340A (en) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Organic electroluminescence device |
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