JP2004134768A - 圧電体膜形成用組成物、圧電体膜の製造方法、圧電体素子及びインクジェット式記録ヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 金属化合物から得られる分散質を含む圧電体膜形成用組成物において、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンの内少なくとも1種を含有することを特徴とする圧電体膜形成用組成物。
【選択図】 図1
Description
における金属原子の原子分率で0.05以下である。
本製造例は、表1に示すように圧電体薄膜用の塗工液として金属組成がPb1+x-yLayZr0.52Ti0.48(式中、0≦x≦0.3、0≦y<1)で表されるの塗工液を以下の通り作製した。
本製造例は、DBUのかわりにジイソプロピルエチルアミンを添加した点を除いて、製造例2と同様にして、圧電体薄膜用の塗工液を作成した。
本製造例は、酢酸鉛水和物(Pb)および酢酸ランタン水和物(La)を混合し脱水しておいたものに、ジルコニア−イソプロポキシドおよびチタン−イソプロポキシドを加えて反応し、その後DBUのかわりにジアミノエタノールを添加する点を除いて、製造例5と同様にして、圧電体薄膜用の塗工液を作成した。
本比較例は、DBUを添加せずに合成した点を除いて、製造例2と同様にして、圧電体薄膜用の塗工液を作成した。この塗工液を放置すると、白色結晶物が析出した。
図3、図4に示すような裏面の一部がくり抜かれたジルコニアの基板(3cm角)の表面に上記塗工液製造例1、3、4、6、7、8,9で得られた塗工液を、スピンコート法によって塗布し、25℃で相対湿度35%の空気を、100℃の温度、空気中において5分間乾燥した(乾燥工程)。その後、直径5cm 長さ100cm(内ヒーター部30cm)の管状炉に25℃で相対湿度80%の酸素30%、窒素70%含有気体を流速20cm/secで流しながら400℃5分(仮焼成工程)、同じ雰囲気下で650℃5分間熱処理した(本焼成工程)。この塗布と加熱を3回繰り返した後、最後に、上記管状炉で25℃で相対湿度75%の酸素30%、窒素70%含有気体雰囲気下、700℃にて40分間焼成し(本焼成工程)、その後同湿度環境下で室温まで冷却し(冷却工程)、本発明の圧電体素子を得た。(図5)圧電体薄膜の中間部の金属組成を分析したところPb1.0Zr0.52Ti0.48であった。
実施例1〜4と同様の基板に上記塗工液製造例2、5で得られた塗工液を、スピンコートによって塗布し、25℃で相対湿度50%、100℃、空気中において5分間乾燥した(乾燥工程)。その後、直径5cm 長さ100cm(内ヒーター部30cm)の管状炉に25℃で相対湿度90%、酸素30%窒素70%含有気体雰囲気下で300℃20分間加熱(仮焼成工程)し、この塗布と加熱を3回繰り返した後、最後に薄膜を結晶化させるために上記管状炉に25℃で相対湿度70%の酸素40%、窒素60%含有気体雰囲気下、750℃40分間焼成(本焼成工程)し、その後同湿度環境下で室温まで冷却した(冷却工程)。本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の金属組成を分析したところPb0.99La0.01Zr0.52Ti0.48であった。3回塗布焼成後の膜厚は次の通りである。
本実施例は、乾燥時には25℃で相対湿度60%の空気を、150℃での乾燥において5分間用いたこと、その後、25℃で相対湿度80%の空気を、400℃から600℃まで昇温速度2℃/min昇温し、650℃に至ったとき10分間熱処理した際に用いた点を除いて、実施例6と同様にして、本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の金属組成を分析したところPb0.99La0.01Zr0.52Ti0.48であった。10回塗布焼成後の膜厚は2.71μmであった。
実施例1において基板をジルコニア製からSiウエハーに変更した以外は同様に製造した。(図5)3回塗布焼成後の膜厚は1.22μmであった。
製造比較例1、2で得られた塗工液を用いて、実施例5、6と同様にして圧電体素子を得た。
実施例1〜13、比較例1、2の圧電体素子を各30個作成し、以下のように評価した。
実施例1、比較例1で作製した圧電体素子における印加電界に対する分極特性を測定した。測定はRadiants社製HVS−6000を用いて素子に20V印加しヒステリシス曲線を得た。これを図8に示す。
Claims (7)
- 金属化合物から得られる分散質を含む圧電体膜形成用組成物において、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンの内少なくとも1種を含有することを特徴とする圧電体膜形成用組成物。
- 前記金属化合物が、有機金属化合物であることを特徴とする請求項1記載の圧電体膜形成用組成物。
- 前記少なくとも1種の材料が、圧電体膜組成物中の総金属原子のモル数に対し、0.005倍モル以上、5.0倍モル以下の量含有されていることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電体膜形成用組成物。
- 前記圧電体膜形成用組成物が、Pb及びLa、Zr、Tiの元素から少なくとも1種類以上を構成元素として含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の圧電体膜形成用組成物。
- 金属化合物から得られる分散質を含み、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンの内少なくとも1種を含有する圧電体膜形成用組成物を基板に塗布して塗布膜を形成する工程と、
該塗布膜を乾燥する工程と、
該乾燥した塗布膜を焼成して、圧電体膜を得る工程と、
を有することを特徴とする圧電体膜の製造方法。 - 下部電極及び上部電極に挟持された圧電体膜を備える圧電体素子において、該圧電体膜が請求項5記載の方法により製造されたものであることを特徴とする圧電体素子。
- インク吐出口に連通する圧力室と、該圧力室に対応して設けられた振動板と、該振動板に対応して設けられた請求項6に記載の圧電体素子とを有し、該圧電体素子により生じる前記圧力室内の体積変化によって該圧力室内のインクを前記インク吐出口から吐出するインクジェット記録ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003312958A JP3955001B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-04 | 圧電体膜形成用組成物、圧電体膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002275599 | 2002-09-20 | ||
JP2003312958A JP3955001B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-04 | 圧電体膜形成用組成物、圧電体膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004134768A true JP2004134768A (ja) | 2004-04-30 |
JP3955001B2 JP3955001B2 (ja) | 2007-08-08 |
Family
ID=32301773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003312958A Expired - Fee Related JP3955001B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-04 | 圧電体膜形成用組成物、圧電体膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3955001B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005340428A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Seiko Epson Corp | 圧電体素子及びその製造方法 |
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JP2008143760A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Showa Denko Kk | 複合酸化物膜形成用塗布剤 |
JP2008143735A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Showa Denko Kk | 複合酸化物膜形成用塗布剤 |
JP2008156138A (ja) * | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Showa Denko Kk | ペロブスカイト型チタン含有複合酸化物膜の製造方法 |
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2003
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JP2013136502A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-07-11 | Mitsubishi Materials Corp | 強誘電体薄膜形成用組成物及びその薄膜の形成方法並びにその方法で形成された薄膜 |
JP2014056870A (ja) * | 2012-09-11 | 2014-03-27 | Mitsubishi Materials Corp | 強誘電体薄膜形成用組成物及びその薄膜の形成方法並びにその方法で形成された薄膜 |
JP2014154610A (ja) * | 2013-02-06 | 2014-08-25 | Ricoh Co Ltd | 薄膜製造方法、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 |
JP2014229645A (ja) * | 2013-05-20 | 2014-12-08 | 三菱マテリアル株式会社 | 強誘電体薄膜形成用組成物とその製造方法 |
US9905417B2 (en) | 2013-05-20 | 2018-02-27 | Mitsubishi Materials Corporation | Composition for forming ferroelectric thin film, and method for manufacturing same |
JP2015193524A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-05 | 三菱マテリアル株式会社 | Pzt系強誘電体薄膜及びその形成方法 |
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---|---|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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