JP2004085144A - ボイラ装置のスケール生成抑制方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】給水を加熱して蒸気を生成するボイラ2と、このボイラ2へ給水を供給する給水部3と、前記ボイラ2で生成した蒸気を負荷機器4へ供給する蒸気供給部5とを備えたボイラ装置1において、スケール分散剤を用いて前記ボイラ2におけるスケールの生成を抑制する方法であって、前記給水部3の給水路11中の給水の全炭酸濃度を測定する全炭酸濃度測定工程と、前記給水部3の給水路11中の給水のシリカ濃度を測定するシリカ濃度測定工程と、前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、前記給水部3に対してスケール分散剤を供給するスケール分散剤供給工程とを含むことを特徴としている。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、ボイラ装置のスケール生成抑制方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ボイラ装置の配管,とくにボイラから蒸気を発生させるための主として鋼管製の伝熱管は、スケール生成が原因で破損する場合がある。この伝熱管のスケール生成は、ボイラ水の炭酸イオン濃度およびシリカ濃度が高いと生じやすい。通常、ボイラ内において全炭酸およびシリカは、硬度分(カルシウムイオン,マグネシウムイオンなど)と結合し、伝熱管に炭酸系スケールおよびシリカ系スケールとして付着する。これにより、伝熱管の熱伝導率が低下して伝熱管の破損などを引き起こす可能性がある。
【0003】
このため、伝熱管へのスケール生成を抑制するために、給水に含まれる全炭酸濃度およびシリカ濃度からボイラ水の炭酸イオン濃度およびシリカ濃度を予測している。このボイラ水の炭酸イオン濃度およびシリカ濃度予測方法として、通常給水の全炭酸濃度およびシリカ濃度を一回測定し、それに応じてスケール分散剤を供給している。しかし、給水の水質は日々変動し、全炭酸濃度およびシリカ濃度が減少すると、ボイラ水の炭酸イオン濃度およびシリカ濃度は減少し、スケール分散剤の供給量が少なくても良いにもかかわらず、スケール分散剤の供給量は予め設定されているため、スケール分散剤の供給量が過多となり、薬品が無駄に使われることになる。逆に、全炭酸濃度およびシリカ濃度が上昇すると、ボイラ水の炭酸イオン濃度およびシリカ濃度が上昇し、スケール分散剤を増量しなければならないにもかかわらず、スケール分散剤の供給量は予め設定されているため、スケール分散剤の供給量が不足し、伝熱管にスケールの生成を引き起こす可能性がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
この発明が解決しようとする課題は、スケール分散剤を用いてボイラ装置に生成するスケールを抑制するにあたり、スケール分散剤の使用量を適正化することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
この発明は、前記課題を解決するためになされたものであって、請求項1に記載の発明は、給水を加熱して蒸気を生成するボイラと、このボイラへ給水を供給する給水部と、前記ボイラで生成した蒸気を負荷機器へ供給する蒸気供給部とを備えたボイラ装置において、スケール分散剤を用いて前記ボイラにおけるスケールの生成を抑制する方法であって、前記給水部の給水路中の給水の全炭酸濃度を測定する全炭酸濃度測定工程と、前記給水部の給水路中の給水のシリカ濃度を測定するシリカ濃度測定工程と、前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、前記給水部に対してスケール分散剤を供給するスケール分散剤供給工程とを含むことを特徴としている。
【0006】
請求項2に記載の発明は、給水を加熱して蒸気を生成するボイラと、このボイラへ給水を供給する給水部と、前記ボイラで生成した蒸気を負荷機器へ供給する蒸気供給部と、前記負荷機器で使用した蒸気を復水として前記給水部へ供給する復水供給部とを備えたボイラ装置において、スケール分散剤を用いて前記ボイラにおけるスケールの生成を抑制する方法であって、前記給水部の給水路中の給水の全炭酸濃度を測定する全炭酸濃度測定工程と、前記給水部の給水路中の給水のシリカ濃度を測定するシリカ濃度測定工程と、前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、前記給水部に対してスケール分散剤を供給するスケール分散剤供給工程とを含むことを特徴としている。
【0007】
さらに、請求項3に記載の発明は、前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、スケール分散剤の供給量を調節することを特徴としている。
【0008】
【発明の実施の形態】
図1を参照して、この発明の実施の形態に係るボイラ装置を説明する。図1において、ボイラ装置1は、給水を加熱して蒸気を生成するボイラ2と、このボイラ2へ給水を供給する給水装置3(給水部の一例)と、蒸気を使用する負荷機器4と、前記ボイラ2で生成した蒸気を負荷機器4へ供給する蒸気配管5(蒸気供給部の一例)と、スケール分散剤を前記給水装置3へ供給する薬剤供給装置6と、給水中に含まれる全炭酸濃度を測定する全炭酸濃度測定装置7と、給水中に含まれるシリカ濃度を測定するシリカ濃度測定装置8とを主に備えている。
【0009】
前記給水装置3は、前記ボイラ2へ給水するために、補給水の注水路9と、この注水路9からの補給水を貯留する給水タンク10と、この給水タンク10に貯留された給水を前記ボイラ2へ供給する給水路11とを主に備えている(図1参照)。ここで、前記注水路9は、軟水化装置12と脱酸素装置13とをこの順にそれぞれ備えている。前記軟水化装置12は、補給水中に含まれるカルシウムイオンやマグネシウムイオンなどの硬度成分をナトリウムイオンに置換して軟水に変換するものである。一方、前記脱酸素装置13は、補給水中に含まれる溶存酸素を機械的に除去するものである。また、前記給水路11は、給水を前記ボイラ2へ送り出す給水ポンプ14を備えている。
【0010】
前記負荷機器4は、前記ボイラ2からの蒸気を用いて所要の熱交換するもの,すなわち前記ボイラ装置1における負荷装置であり、前記蒸気配管5の下流側に接続されている。
【0011】
前記薬剤供給装置6は、スケール分散剤を前記給水装置3へ供給するために、スケール分散剤を貯蔵している薬剤タンク15と、前記給水路11へ連絡する薬剤供給路16とを主に備えている。前記薬剤タンク15内に貯蔵されているスケール分散剤は、前記ボイラ2の伝熱管(図示省略)におけるスケールの生成および成長を硬度分を分散させることにより抑制する機能を有するものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえばエチレンジアミン四酢酸またはその塩,リン酸またはその塩,ポリアクリル酸およびポリマレイン酸などのポリカルボン酸またはその塩などが挙げられる。さらに、スケール分散剤は、前記例示のものおよびこれら以外のもののうちから、適宜2種以上組み合わせて用いてもよい。
【0012】
一方、前記薬剤供給路16は、前記薬剤タンク15内のスケール分散剤を前記給水路11に対して供給する供給ポンプ17を備えている。この供給ポンプ17は、前記給水路11中を前記ボイラ2へ向けて移動中の一定量の給水に対し、所定量のスケール分散剤を供給することができる定量ポンプである。
【0013】
前記全炭酸濃度測定装置7は、給水中に含まれる全炭酸濃度を測定するために、前記給水路11において、第一測定試料供給路18に設けられている(図1参照)。ここにおいて、全炭酸は、炭酸,炭酸水素イオンおよび炭酸イオンの3つの形態を含んでおり、中性付近においては、ほとんど炭酸水素イオンとして存在している。そのため、この実施の形態では、炭酸水素イオン濃度を測定する場合について説明する。炭酸水素イオン濃度を測定する場合、前記全炭酸濃度測定装置7は、図2に示すように、第一測定セル19と、第一測定部20と、第一試薬供給装置21と、第一制御装置22とを主に備えている。
【0014】
前記第一測定セル19は、たとえばアクリル樹脂を筒状に形成した透明な容器であり、上部に第一開口部23を備えている。また、前記第一測定セル19の底部近傍の側面には、前記第一測定試料供給路18と接続された第一試料導入路24が設けられている。この第一試料導入路24は、前記第一測定試料供給路18側から順に第一フィルター25,第一定流量弁26および第一電磁弁27をそれぞれ備えており、前記給水路11から前記第一測定試料供給路18を介して供給される給水を前記第一測定セル19内へ供給可能に設定されている。また、前記第一測定セル19の側部には、前記第一開口部23の近傍において、測定試料を外部へ排出する第一試料排出路28が設けられている。
【0015】
また、前記第一測定セル19の底部には、第一攪拌装置29が設けられている。この第一攪拌装置29は、第一攪拌子30と第一ステータ31とを備えている。この第一攪拌子30は、前記第一測定セル19の底部において回転可能に配置されており、磁石(図示省略)を内蔵している。前記第一ステータ31は、前記第一攪拌子30を取り囲むように、前記第一測定セル19の外側に配置されており、電磁誘導コイル(図示省略)を備えている。この電磁誘導コイルには、電流が供給されるように設定されている。
【0016】
前記第一測定部20は、前記第一測定セル19内に貯留された給水(以下、「給水試料」と云う。)の透過光強度を測定するものであり、前記第一測定セル19を挟んで対向する第一発光体32と第一受光体33とを備えている。ここで、この第一発光体32は、たとえばLEDであり、また前記第一受光体33は、たとえばフォトトランジスタである。
【0017】
前記第一試薬供給装置21は、前記第一開口部23に着脱可能に配置されており、図3(前記第一試薬供給装置21を図2のIII方向から見た縦断面図)に示すように、第一試薬カセット34,第一試薬カートリッジ35および第一排出装置36を主に備えている。この第一試薬カセット34は、装着具(図示省略)により底部が前記第一開口部23に気密状態を維持するように、着脱可能に装着されている。前記第一試薬カセット34の壁部には、上下方向に延びる第一スリット37が形成されている。また、前記第一試薬カセット34の内部には、前記第一スリット37と対向する内面に第一押圧部材38が上下方向に装着されている。
【0018】
前記第一試薬カートリッジ35は、第一容器39と試薬の第一収納体40とを主に備えている。この第一容器39は、前記第一試薬カートリッジ35の上部に装着されており、前記第一収納体40の上部は前記第一容器39内に収容されている。前記第一収納体40は、炭酸水素イオンと反応して変色する試薬(たとえば、メチルオレンジ)および緩衝液(たとえば、pH3.4のフタル酸緩衝液)が貯蔵された第一貯蔵部41と、この第一貯蔵部41内の試薬および緩衝液を外部へ排出する第一排出部42とを備えている。この第一排出部42は、たとえばフッ素ゴム製のチューブからなり、前記第一貯蔵部41から延びかつ先端部に第一排出ノズル43を備えている。前記第一排出部42は、前記第一試薬カートリッジ35の内部を上下方向に延びており、前記第一排出ノズル43が前記第一開口部23から前記第一測定セル19内へ挿入されることになる。ここにおいて、前記第一排出ノズル43は、前記第一測定セル19内の給水試料が逆流するのを防止する逆止弁(図示省略)を内蔵している。
【0019】
前記第一排出装置36は、前記第一貯蔵部41内に貯蔵された試薬および緩衝液を排出させるものであり、第一モータ(図示省略)に接続された第一回転駆動軸44,第一駆動アーム45および第一押圧ローラ46を主に備えている。この第一回転駆動軸44は、前記第一スリット37の外側に配置されており、図3の反時計方向へ回転可能である。前記第一駆動アーム45は、一端が前記第一回転駆動軸44に連結されており、他端に前記第一押圧ローラ46が回転自在に装着されている。前記第一駆動アーム45は、前記第一回転駆動軸44の回転により、図3に二点鎖線で示すように、反時計方向へ回転可能であり、この回転により、前記第一スリット37の部分において前記第一押圧ロ−ラ46が前記第一試薬カセット34から出入り可能に設定されている。
【0020】
なお、前記第一試薬供給装置21は、本特許出願人の特許である特許第3186577号(発明の名称:液体吐出装置)とほぼ同様の構成を採用しているので、詳細は、同公報を参照されたい。
【0021】
前記第一制御装置22は、前記全炭酸濃度測定装置7の動作を制御するものであり、図4に示すように、第一演算装置47と第一入出力ポート48とを主に備えている。この第一演算装置47は、第一中央制御装置49(以下、「第一CPU49」と云う。),前記第一制御装置22の動作プログラムを記憶している第一読み取り専用記憶装置50(以下、「第一ROM50」と云う。)および読み書き可能な第一記憶装置51(以下、「第一RAM51」と云う。)を主に備えている。
【0022】
一方、前記第一入出力ポート48の入力側には、オペレータが動作条件などを入力する第一スイッチ52および前記第一受光体33などが接続されている。また、その出力側には、測定結果などを表示する第一LCD53,前記第一発光体32,前記第一電磁弁27,前記第一ステータ31および前記第一回転駆動軸44を駆動する第一モータ(符号省略)などが接続されている。
【0023】
前記第一制御装置22は、前記第一ROM50に記憶させた動作プログラムにしたがって、前記第一演算装置47が前記第一入出力ポート48を介して入力された各種の情報を前記第一RAM51で適宜保存しながら演算処理し、前記第一演算装置47は、そこで得られた演算結果に基づいて、前記第一入出力ポート48を介して各種の動作指令を各部材に対して伝達するように設定されている。
【0024】
前記シリカ濃度測定装置8は、給水中に含まれるシリカ濃度を測定するために、前記給水路11において、第二測定試料供給路54に設けられている(図1参照)。ここにおいて、シリカは、ケイ酸の他、ケイ酸の塩(すなわち、ケイ酸塩)も含むものを意味している。ケイ酸の塩には、オルトケイ酸塩(nSiO2・(n+1)M2O)や,ポリケイ酸塩(nSiO2・nM2O,nSiO2・(n−1)M2OおよびnSiO2・(n−2)M2O)もしくはこれらの水和物が含まれる。塩の化学式において、Mはアルカリ金属やアルカリ土類金属などの金属元素を示しており、金属元素が一価の場合は、前記のとおりであり、金属元素が二価の場合は、一価の場合の半分の原子数になる。また、ポリケイ酸塩の化学式において、nは2よりも大きい。以下、シリカという場合は、前記のような塩も含む概念を意味する場合がある。シリカ濃度を測定する場合、前記シリカ濃度測定装置8は、図5に示すように、第二測定セル55と、第二測定部56と、第二試薬供給装置57と、第二制御装置58とを主に備えている。
【0025】
前記第二測定セル55は、たとえばアクリル樹脂を筒状に形成した透明な容器であり、上部に第二開口部59を備えている。また、前記第二測定セル55の底部近傍の側面には、前記第二測定試料供給路54と接続された第二試料導入路60が設けられている。この第二試料導入路60は、前記第二測定試料供給路54側から順に第二フィルター61,第二定流量弁62および第二電磁弁63をそれぞれ備えており、前記給水路11から前記第二測定試料供給路54を介して供給される給水を前記第二測定セル55内へ供給可能に設定されている。また、前記第二測定セル55の側部には、前記第二開口部59の近傍において、測定試料を外部へ排出する第二試料排出路64が設けられている。
【0026】
また、前記第二測定セル55の底部には、第二攪拌装置65が設けられている。この第二攪拌装置65は、第二攪拌子66と第二ステータ67とを備えている。この第二攪拌子66は、前記第二測定セル55の底部において回転可能に配置されており、磁石(図示省略)を内蔵している。前記第二ステータ67は、前記第二攪拌子66を取り囲むように、前記第二測定セル55の外側に配置されており、電磁誘導コイル(図示省略)を備えている。この電磁誘導コイルには、電流が供給されるように設定されている。
【0027】
前記第二測定部56は、前記第二測定セル55内に貯留された給水(以下、「給水試料」と云う。)の透過光強度を測定するものであり、前記第二測定セル55を挟んで対向する第二発光体68と第二受光体69とを備えている。ここで、この第二発光体68は、たとえばLEDであり、また前記第二受光体69は、たとえばフォトトランジスタである。
【0028】
前記第二試薬供給装置57は、前記第二開口部59に着脱可能に配置されており、図6(前記第二試薬供給装置57を図5のVI方向から見た縦断面図)に示すように、第二試薬カセット70,第二試薬カートリッジ71および第二排出装置72を主に備えている。この第二試薬カセット70は、装着具(図示省略)により底部が前記第二開口部59に気密状態を維持するように、着脱可能に装着されている。前記第二試薬カセット70の壁部には、上下方向に延びる第二スリット73が形成されている。また、前記第二試薬カセット70の内部には、前記第二スリット73と対向する内面に第二押圧部材74が上下方向に装着されている。
【0029】
前記第二試薬カートリッジ71は、第二容器75と試薬の第二収納体76とを主に備えている。この第二容器75は、前記第二試薬カートリッジ71の上部に装着されており、前記第二収納体76の上部は前記第二容器75内に収容されている。前記第二収納体76は、シリカと反応して変色する試薬(たとえば、モリブデンアンモニウム)およびpH調整液(たとえば、硫酸)が貯蔵された第二貯蔵部77と、この第二貯蔵部77内の試薬およびpH調整液を外部へ排出する第二排出部78とを備えている。この第二排出部78は、たとえばフッ素ゴム製のチューブからなり、前記第二貯蔵部77から延びかつ先端部に第二排出ノズル79を備えている。前記第二排出部78は、前記第二試薬カートリッジ71の内部を上下方向に延びており、前記第二排出ノズル79が前記第二開口部59から前記第二測定セル55内へ挿入されることになる。ここにおいて、前記第二排出ノズル79は、前記第二測定セル55内の給水試料が逆流するのを防止する逆止弁(図示省略)を内蔵している。
【0030】
前記第二排出装置72は、前記第二貯蔵部77内に貯蔵された試薬およびpH調整液を排出させるものであり、第二モータ(図示省略)に接続された第二回転駆動軸80,第二駆動アーム81および第二押圧ローラ82を主に備えている。この第二回転駆動軸80は、前記第二スリット73の外側に配置されており、図6の反時計方向へ回転可能である。前記第二駆動アーム81は、一端が前記第二回転駆動軸80に連結されており、他端に前記第二押圧ローラ82が回転自在に装着されている。前記第二駆動アーム81は、前記第二回転駆動軸80の回転により、図6に二点鎖線で示すように、反時計方向へ回転可能であり、この回転により、前記第二スリット73の部分において前記第二押圧ロ−ラ82が前記第二試薬カセット70から出入り可能に設定されている。
【0031】
なお、前記第二試薬供給装置57は、前記第一試薬供給装置21と同様の構成であり、かつ本特許出願人の特許である特許第3186577号(発明の名称:液体吐出装置)とほぼ同様の構成を採用しているので、詳細は、同公報を参照されたい。
【0032】
前記第二制御装置58は、前記シリカ濃度測定装置8の動作を制御するものであり、図7に示すように、第二演算装置83と第二入出力ポート84とを主に備えている。この第二演算装置83は、第二中央制御装置85(以下、「第二CPU85」と云う。),前記第二制御装置58の動作プログラムを記憶している第二読み取り専用記憶装置86(以下、「第二ROM86」と云う。)および読み書き可能な第二記憶装置87(以下、「第二RAM87」と云う。)を主に備えている。
【0033】
一方、前記第二入出力ポート84の入力側には、オペレータが動作条件などを入力する第二スイッチ88および前記第二受光体69などが接続されている。また、その出力側には、測定結果などを表示する第二LCD89,前記第二発光体68,前記第二電磁弁63,前記第二ステータ67および前記第二回転駆動軸80を駆動する第二モータ(符号省略)などが接続されている。
【0034】
前記第二制御装置58は、前記第二ROM86に記憶させた動作プログラムにしたがって、前記第二演算装置83が前記第二入出力ポート84を介して入力された各種の情報を前記第二RAM87で適宜保存しながら演算処理し、前記第二演算装置83は、そこで得られた演算結果に基づいて、前記第二入出力ポート84を介して各種の動作指令を各部材に対して伝達するように設定されている。
【0035】
つぎに、前記ボイラ装置1の動作を説明し、あわせて前記ボイラ装置1のスケール生成抑制方法を説明する。前記ボイラ装置1を運転する場合は、前記注水路9から前記給水タンク10へ補給水を供給し、この補給水を前記ボイラ2への給水として前記給水タンク10に貯留する。ここで、貯留される給水は、前記軟水化装置12および前記脱酸素装置13で処理されたもの,すなわち脱酸素された軟水である。そして、前記給水ポンプ14を作動させ、前記給水タンク10に貯留された給水を前記給水路11を介して前記ボイラ2へ供給する。
【0036】
前記ボイラ2へ前記給水路11を介して供給される給水は、ボイラ水として前記ボイラ2内に貯留される。そして、前記ボイラ2に貯留されたボイラ水は、加熱されて徐々に蒸気になる。生成した蒸気は、前記蒸気配管5を介して前記負荷機器4へ供給される。前記負荷機器4へ供給された蒸気は、所望の熱交換を行った後、廃棄される。
【0037】
ところで、前記ボイラ2へ供給する給水は、炭酸水素イオンおよびシリカを含む場合がある。この場合、前記ボイラ2内で給水が加熱されて蒸気になるとともに、炭酸水素イオンおよびシリカは硬度分と結合し、炭酸系スケールおよびシリカ系スケールを生成する可能性があり、とくに炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が高いと、前記ボイラ2の伝熱管へ炭酸系スケールおよびシリカ系スケールが付着し、前記ボイラ2の伝熱管の破損をもたらす可能性がある。
【0038】
そこで、前記ボイラ装置1は、前記全炭酸濃度測定装置7により、給水に炭酸水素イオンが予め設定した設定値以上であるか否を一定時間毎に測定する。また、前記シリカ濃度測定装置8により、給水にシリカが予め設定した設定値以上であるか否かを一定時間毎に測定する。そして、前記全炭酸濃度測定装置7および前記シリカ濃度測定装置8での測定結果に基づいて、前記薬剤供給装置6から給水中へスケール分散剤を供給する。以下、図8および図9に示す動作フローチャートにしたがって、この動作を詳細に説明する。
【0039】
前記ボイラ装置1の運転が開始されると、プログラムは、ステップS1において、前記第一制御装置22および前記第二制御装置58の内部タイマーの経過時間tをゼロ(0)に設定し、またつぎのステップS2において、経過時間tが一定時間t1に到達したか否かを判断する。経過時間tが一定時間t1になると、プログラムはステップS3へ移行し、経過時間tをゼロ(0)にリセットする。ここにおいて、一定時間t1は、通常0.1〜24時間程度の時間である。
【0040】
ステップS3の後、プログラムはステップS4へ移行し、前記全炭酸濃度測定装置7において前洗浄工程を実施する。まず、前記給水路11内の給水は、前記第一測定試料供給路18を経由して前記第一試料導入路24から前記第一測定セル19内へ流入する。この際、給水中に含まれる爽雑物は、前記第一フィルター25により取り除かれる。また、前記第一測定セル19内へ流入する給水の流量は、前記第一定流量弁26により制御される。前記第一測定セル19内へ連続的に流入する給水は、前記第一測定セル19内を満たし、前記第一試料排出路28から外部へ連続的に排出される。このとき、前記第一ステータ31の電磁誘導コイルが通電され、それによって生じる磁場を前記第一攪拌子30内の磁石が受ける。これにより、前記第一測定セル19内の前記第一攪拌子30が回転し、前記第一測定セル19内へ流入した給水は攪拌される。この結果、前記第一測定セル19は、連続的に流入する給水により洗浄される。
【0041】
また、前記シリカ濃度測定装置8において前洗浄工程を実施する。まず、前記給水路11内の給水は、前記第二測定試料供給路54を経由して前記第二試料導入路60から前記第二測定セル55内へ流入する。この際、給水中に含まれる爽雑物は、前記第二フィルター61により取り除かれる。また、前記第二測定セル55内へ流入する給水の流量は、前記第二定流量弁62により制御される。前記第二測定セル55内へ連続的に流入する給水は、前記第二測定セル55内を満たし、前記第二試料排出路64から外部へ連続的に排出される。このとき、前記第二ステータ67の電磁誘導コイルが通電され、それによって生じる磁場を前記第二攪拌子66内の磁石が受ける。これにより、前記第二測定セル55内の前記第二攪拌子66が回転し、前記第二測定セル55内へ流入した給水は攪拌される。この結果、前記第二測定セル55は、連続的に流入する給水により洗浄される。
【0042】
前記のような前洗浄工程の後、プログラムはステップS5へ移行し、給水中の炭酸水素イオン濃度を測定する(炭酸水素イオン濃度測定工程)。ここでは、前記第一ステータ31の電磁誘導コイルへの通電を一旦停止し、また給水の供給も停止する。これにより、前記第一測定セル19内への給水の流入が断たれ、前記第一測定セル19内において、図2に一点鎖線で示す水位まで所定量の給水が給水試料として貯留される。また、前記第一排出ノズル43の先端部は、貯留された給水試料中に位置することになる。この状態で前記第一測定部20を作動させ、前記第一発光体32から前記第一受光体33へ向けて光を照射する。そして、給水試料の透過光強度(A)を測定する。
【0043】
つぎに、前記第一ステータ31の電磁誘導コイルへの通電を開始して前記第一攪拌子30の回転を再開し、その状態を継続しながら、前記第一排出装置36の第一モータを駆動させて前記第一回転駆動軸44を回転させる。この結果、前記第一駆動アーム45が図3の反時計方向へ回転し、それにともなって前記第一押圧ローラ46が前記第一排出部42を前記第一押圧部材38と協働して下方向へ扱く。この結果、前記第一測定セル19内の給水試料には、前記第一貯蔵部41に貯蔵された試薬および緩衝液の一定量が注入される。そして、このような前記第一駆動アーム45の回転運動を所定回数繰り返すと、給水試料には前記第一駆動アーム45の回転動作毎に、一定量の試薬および緩衝液が前記第一測定セル19内へ断続的に注入される(第一注入工程)。したがって、試薬および緩衝液が徐々に注入されることになる。このようにして前記第一測定セル19内に注入された試薬および緩衝液は、前記第一攪拌子30の回転により攪拌される給水試料中に溶解され、給水試料を変色させる。
【0044】
前記のような第一注入工程において、前記第一制御装置22は、前記第一攪拌子30の回転を継続し、また前記第一測定部20により、徐々に注入される試薬および緩衝液により変色する給水試料の透過光強度(B)を連続的に測定する。この際、前記第一制御装置22は、給水試料に対して注入される試薬および緩衝液の量の増加にともなう透過光強度の変化量を測定する(第一変化量測定工程)。ここで測定する透過光強度の変化量は、通常一定量の試薬および緩衝液が注入される前後の透過光強度の差(ΔB)である。たとえば、図11に示すように、給水試料の透過光強度は、試薬および緩衝液の注入回数(すなわち、前記第一駆動アーム45の回転動作数)にしたがって徐々に減少する。ここで、給水試料中の炭酸水素イオンの全てが第X回目以前に注入された試薬および緩衝液と反応した場合、第X回目より後の注入動作においてそれ以上の試薬および緩衝液を注入しても、給水試料の変色は進行しにくくなり、給水試料の透過光強度は変化しにくくなる。すなわち、試薬および緩衝液の第X回目の注入後の透過光強度B1と第X+1回目の注入後の透過光強度B2との差(B1−B2,すなわち前記ΔB)は、微差になる。したがって、前記ΔBが所定量以下になったとき、給水試料にそれ以上の試薬および緩衝液を注入しても、その試薬および緩衝液は給水試料中の炭酸水素イオンとの反応に関与せず、そのままの状態で給水試料中に残留することになる。
【0045】
そこで、前記第一制御装置22は、前記ΔBが所定量以下になったと判定した場合、前記第一駆動アーム45の回転動作を停止する。これにより、給水試料に対する試薬および緩衝液の追加的な注入が停止される。続いて、前記第一制御装置22は、その時点における給水試料の透過光強度(B)と試薬および緩衝液注入前の前記透過光強度(A)との比(透過光強度比:B/A)を求める。そして、予め作成された透過光強度比と炭酸水素イオン濃度との検量線データに基づいて、前記第一制御装置22は、給水試料中の炭酸水素イオン濃度を算出し、その結果を前記第一LCD53に表示する。
【0046】
前記のような全炭酸濃度測定工程の後、プログラムはステップS5からステップS6へ移行し(図8参照)、給水中のシリカ濃度を測定する(シリカ濃度測定工程)。ここでは、前記第二ステータ67の電磁誘導コイルへの通電を一旦停止し、また給水の供給も停止する。これにより、前記第二測定セル55内への給水の流入が断たれ、前記第二測定セル55内において、図5に一点鎖線で示す水位まで所定量の給水が給水試料として貯留される。また、前記第二排出ノズル79の先端部は、貯留された給水試料中に位置することになる。この状態で前記第二測定部56を作動させ、前記第二発光体68から前記第二受光体69へ向けて光を照射する。そして、給水試料の透過光強度(C)を測定する。
【0047】
つぎに、前記第二ステータ67の電磁誘導コイルへの通電を開始して前記第二攪拌子66の回転を再開し、その状態を継続しながら、前記第二排出装置72の第二モータを駆動させて前記第二回転駆動軸80を回転させる。この結果、前記第二駆動アーム81が図6の反時計方向へ回転し、それにともなって前記第二押圧ローラ82が前記第二排出部78を前記第二押圧部材74と協働して下方向へ扱く。この結果、前記第二測定セル55内の給水試料には、前記第二貯蔵部77に貯蔵された試薬およびpH調整液の一定量が注入される。そして、このような前記第二駆動アーム81の回転運動を所定回数繰り返すと、給水試料には前記第二駆動アーム81の回転動作毎に、一定量の試薬およびpH調整液が前記第二測定セル55内へ断続的に注入される(第二注入工程)。したがって、試薬およびpH調整液が徐々に注入されることになる。このようにして前記第二測定セル55内に注入された試薬およびpH調整液は、前記第二攪拌子66の回転により攪拌される給水試料中に溶解され、給水試料を変色させる。
【0048】
前記のような第二注入工程において、前記第二制御装置58は、前記第二攪拌子66の回転を継続し、また前記第二測定部56により、徐々に注入される試薬およびpH調整液により変色する給水試料の透過光強度(D)を連続的に測定する。この際、前記第二制御装置58は、給水試料に対して注入される試薬およびpH調整液の量の増加にともなう透過光強度の変化量を測定する(第二変化量測定工程)。ここで測定する透過光強度の変化量は、通常一定量の試薬およびpH調整液が注入される前後の透過光強度の差(ΔD)である。たとえば、図12に示すように、給水試料の透過光強度は、試薬およびpH調整液の注入回数(すなわち、前記第二駆動アーム81の回転動作数)にしたがって徐々に減少する。ここで、給水試料中のシリカの全てが第X回目以前に注入された試薬およびpH調整液と反応した場合、第X回目より後の注入動作においてそれ以上の試薬およびpH調整液を注入しても、給水試料の変色は進行しにくくなり、給水試料の透過光強度は変化しにくくなる。すなわち、試薬およびpH調整液の第X回目の注入後の透過光強度D1と第X+1回目の注入後の透過光強度D2との差(D1−D2,すなわち前記ΔD)は、微差になる。したがって、前記ΔDが所定量以下になったとき、給水試料にそれ以上の試薬およびpH調整液を注入しても、その試薬およびpH調整液は給水試料中のシリカとの反応に関与せず、そのままの状態で給水試料中に残留することになる。
【0049】
そこで、前記第二制御装置58は、前記ΔDが所定量以下になったと判定した場合、前記第二駆動アーム81の回転動作を停止する。これにより、給水試料に対する試薬およびpH調整液の追加的な注入が停止される。続いて、前記第二制御装置58は、その時点における給水試料の透過光強度(D)と試薬およびpH調整液注入前の前記透過光強度(C)との比(透過光強度比:D/C)を求める。そして、予め作成された透過光強度比とシリカ濃度との検量線データに基づいて、前記第二制御装置58は、給水試料中のシリカ濃度を算出し、その結果を前記第二LCD89に表示する。
【0050】
前記のような測定工程の後、プログラムはステップS7へ移行し、このステップS7において、給水試料の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が設定値未満か否かを判定する。ステップS5の全炭酸濃度測定工程において炭酸水素イオン濃度が予め設定した設定値,たとえば100mg/リットル未満と測定された場合、およびステップS6のシリカ濃度測定工程においてシリカ濃度が予め設定した設定値,たとえば60mg/リットル未満と測定された場合、プログラムはステップS7からステップS8へ移行して、前記第一CPU49および前記第二CPU85のスケール分散剤供給識別フラグがオン(ON)であるか否かを判定する。スケール分散剤供給識別フラグがオン(ON)の場合、プログラムはステップS9へ移行し、スケール分散剤を供給する前記供給ポンプ17の動作を停止する。これにより、前記薬剤供給装置6は、前記給水路11に対するスケール分散剤の供給を停止する。この結果、炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が予め設定した設定値未満の給水に対するスケール分散剤の無駄な供給が防止されることになる。
【0051】
そして、ステップS9の終了後、プログラムはステップS10へ移行し、前記第一CPU49および前記第二CPU85のスケール分散剤供給識別フラグをオフ(OFF)に設定する。そして、ステップS11において、後洗浄工程を実施する。この後洗浄工程において、プログラムは、前記第一攪拌子30を回転させながら給水を供給する。ここで、前記第一測定セル19内に貯留された試薬および緩衝液を含む給水試料は、前記第一試料導入路24から新たに流入する給水により押し出され、前記第一試料排出路28から外部へ排出される。これにより、前記第一測定セル19は、新たに流入する給水により洗浄されることになる。また、前記第二攪拌子66を回転させながら給水を供給する。ここで、前記第二測定セル55内に貯留された試薬およびpH調整液を含む給水試料は、前記第二試料導入路60から新たに流入する給水により押し出され、前記第二試料排出路64から外部へ排出される。これにより、前記第二測定セル55は、新たに流入する給水により洗浄されることになる。ステップS11の終了後、プログラムはステップS2へ戻る。
【0052】
また、ステップS8において、スケール分散剤供給識別フラグがオフ(OFF)の場合、プログラムはステップS11へ移行し、前記後洗浄工程を実施した後、ステップS2へ戻る。
【0053】
逆に、ステップS7において、ステップS5の全炭酸濃度測定工程において炭酸水素イオン濃度が予め設定した設定値,たとえば100mg/リットル以上と測定された場合、またはステップS6のシリカ濃度測定工程においてシリカ濃度が予め設定した設定値,たとえば60mg/リットル以上と測定された場合、プログラムはステップS7からステップS12へ移行して、前記第一CPU49および前記第二CPU85のスケール分散剤供給識別フラグがオン(ON)であるか否かを判定する。
【0054】
そして、ステップS12において、スケール分散剤供給識別フラグがオフ(OFF)の場合、プログラムはステップS13へ移行し、スケール分散剤供給工程を実施する。
【0055】
このステップS13におけるスケール分散剤供給工程において、前記第一制御装置22および前記第二制御装置58は、前記薬剤供給装置6の前記供給ポンプ17を作動させ、前記給水路11に対してスケール分散剤を供給する。これにより、前記給水路11を前記ボイラ2へ向けて通過中の給水へスケール分散剤が供給される。ここにおいて、前記第一制御装置22は、ステップS5において測定した炭酸水素イオン濃度に基づいて、前記供給ポンプ17の動作を制御し、また前記第二制御装置58は、ステップS6において測定したシリカ濃度に基づいて、前記供給ポンプ17の動作を制御するように設定しているが、前記供給ポンプ17の動作は、前記第一制御装置22および前記第二制御装置58の供給指示の供給量が多いほうの指示にしたがうように設定されている。より具体的には、前記第一制御装置22は、ステップS5において測定した炭酸水素イオン濃度が予め設定した設定値に近く、ステップS6において測定したシリカ濃度が予め設定した設定値より高い場合は、前記給水路11を通過する単位量の給水に対し、シリカ濃度にあったスケール分散剤が供給されるように、前記供給ポンプ17を連続して作動させる。一方、ステップS5において測定した炭酸水素イオン濃度が予め設定した設定値より高く、ステップS6において測定したシリカ濃度が設定値に近い場合は、前記給水路11を通過する単位量の給水に対し、炭酸水素イオン濃度にあったスケール分散剤が供給されるように、前記供給ポンプ17を連続的に作動させる。すなわち、前記第一制御装置22および前記第二制御装置58は、給水に対して供給するスケール分散剤の量がステップS5およびステップS6において測定した炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度のうちの供給量の多い指示にしたがうように前記供給ポンプ17を作動させる。ここにおいて、前記供給ポンプ17は、前記第一制御装置22および前記第二制御装置58からの停止指令を受けない限り作動し続ける。
【0056】
そして、ステップS13の終了後、プログラムはステップS14へ移行し、スケール分散剤供給識別フラグをオン(ON)に設定する。そして、ステップS16において、ステップS11と同様に後洗浄を実施した後、プログラムはステップS2ヘ戻る。
【0057】
この結果、前記給水路11から前記ボイラ2内へ供給される給水は、給水の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度に応じた適正量のスケール分散剤が導入されることになるので、前記ボイラ2において、スケールの生成が効果的に抑制される。
【0058】
逆に、ステップS12において、スケール分散剤供給識別フラグがオン(ON)の場合、プログラムはステップS15へ移行し、スケール分散剤供給量調整工程を実施する。
【0059】
このスケール分散剤供給量調整工程は、今回のステップS5およびステップS6で測定した炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が、前回のステップS5およびステップS6で測定した炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度と異なる場合、ステップS15において、プログラムが前記第一制御装置22および前記第二制御装置58からの供給指示のうち供給量の多い指示にしたがって、前記供給ポンプ17を作動させることになるため、前記給水路11から前記ボイラ2へ供給される給水に対して供給されるスケール分散剤の量を変化させることになる。
【0060】
そして、プログラムはステップS16へ移行し、ステップS11と同様に後洗浄工程を実施した後、プログラムはステップS2へ戻る。
【0061】
そして、プログラムは、ステップS2において、ステップS3でゼロ(0)にリセットした経過時間tが一定時間t1になったか否かを判定する。そして、経過時間tが一定時間t1に到達すると、再びステップS4以下を繰り返す。したがって、前記ボイラ装置1では、一定時間t1が経過する毎に、給水における炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が測定され、またその結果に基づいて、必要に応じて前記薬剤供給装置6から供給されるスケール分散剤が前記給水路11を介して給水に対して供給されることになる。
【0062】
たとえば、先のステップS5およびステップS6において給水の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が予め設定した設定値未満の場合であっても、つぎの繰返し工程におけるステップS5およびステップS6において炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が予め設定した設定値以上の場合、プログラムはステップS7からステップS12へ移行する。ここで、先のステップS10においてスケール分散剤供給識別フラグがオフ(OFF)に設定されているため、プログラムはステップS13へ移行し、ステップS14〜ステップS16を経由してステップS2へ戻る。したがって、前記給水路11に対するスケール分散剤の供給が開始されることになる。逆に、先のステップS5およびステップS6において給水の炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が予め設定した設定値以上の場合であっても、つぎの繰返し工程におけるステップS5およびステップS6において給水の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が予め設定した設定値未満の場合、プログラムはステップS7からステップS8へ移行し、ステップS9〜ステップS11を経由してステップS2ヘ戻る。したがって、前記給水路11から前記ボイラ2へ供給する給水には、前記薬剤供給装置6からスケール分散剤の供給が停止されることになる。
【0063】
一方、先のステップS5およびステップS6において給水の炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が予め設定した設定値以上であり、つぎの繰返し工程のステップS5およびステップS6においても炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が予め設定した設定値以上の場合、プログラムはステップS7からステップS8へ移行し、前記給水路11に対するスケール分散剤の供給を継続する。ただし、この場合、後のステップS5またはステップS6で測定した炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が先のステップS5およびステップS6で測定した炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度と異なる場合、ステップS15において、プログラムが前記第一制御装置22および前記第二制御装置58の供給指示の供給量が多いほうの指示にしたがって、前記供給ポンプ17を作動させることになるため、前記給水路11から前記ボイラ2へ供給される給水に対して供給されるスケール分散剤の量が変化する。すなわち、この場合、給水に含まれる炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度に応じ、前記給水路11へのスケール分散剤の供給量が変化することになる。
【0064】
前記のように、前記ボイラ装置1においては、給水における炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度とは無関係に、連続的にもしくは定期的にスケール分散剤を供給するのではなく、炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度に基づいて、前記給水路11を介して給水に対してスケール分散剤を供給することができるので、スケール分散剤の使用量を適正化することができ、結果的にスケール生成の抑制に要するコストを削減することができる。また、前記ボイラ装置1は、前記ボイラ2内にスケールが生成してからスケール分散剤を供給するのではなく、スケールの発生原因となる給水中の炭酸水素イオンおよびシリカ濃度に注目してスケール分散剤を供給しているので、前記ボイラ2におけるスケールの生成を未然に防止することができる。
【0065】
[他の実施の形態]
(1)前記の実施の形態では、一定時間t1が経過する毎に給水中の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度を測定し、その結果に基づいてスケール分散剤を前記給水路11中の給水に対して供給しているが、この一定時間は状況に応じて変更することができる。たとえば、図10に示すように、動作フローチャートのステップS16の後にステップS17をさらに設定し、ここでステップS3でゼロ(0)にリセットした経過時間tが別の一定時間t2に到達したか否かを判断する。そして、ステップS17において経過時間tが一定時間t2に到達していると判断した場合、プログラムがステップS3へ移行するように設定する。ここにおいて、t2は、t1よりも短い時間である。
【0066】
この場合、前記ボイラ装置1は、ステップS5およびステップS6において炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度が予め設定した設定値未満の場合は、長めの一定時間t1の経過毎に給水中の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度を測定し、またステップS5およびステップS6において炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が予め設定した設定値以上の場合は、短めの一定時間t2の経過毎に給水中の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度を測定することになるので、給水に対するスケール分散剤の供給量を適正化することができる。
【0067】
(2)前記の実施の形態では、前記全炭酸濃度測定装置7において給水中の炭酸水素イオン濃度を測定し、また前記シリカ濃度測定装置8において給水中のシリカ濃度を測定し、その結果に基づいて、前記給水路11に対して供給するスケール分散剤の量を変化させているが、この発明はこれに限定されるものではない。たとえば、前記全炭酸濃度測定装置7において、給水中に炭酸水素イオン濃度が予め設定した設定値以上かどうかのみを単純に測定し、また前記シリカ濃度測定装置8において、給水中にシリカ濃度が予め設定した設定値以上かどうかのみを単純に測定し、給水中に炭酸水素イオン濃度またはシリカ濃度が予め設定した設定値以上の場合は、炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度とは無関係に一定量のスケール分散剤を前記給水路11中の給水に対して供給するようにしてもよい。
【0068】
(3)前記の実施の形態において用いられる前記全炭酸濃度測定装置7は、給水中の炭酸水素イオン濃度を自動的に測定することができるものであれば、他の形態のものに変更することもできる。ここにおいて、給水中の炭酸水素イオン濃度を自動的に測定する方法としては、たとえばTOC計(有機体炭素濃度計)を用いた測定装置も採用することができる。
【0069】
(4)前記の実施の形態において用いられる前記シリカ濃度測定装置8は、給水中のシリカ濃度を自動的に測定することができるものであれば、他の形態のものに変更することもできる。ここにおいて、給水中のシリカ濃度を自動的に測定する方法としては、たとえば原子吸光光度計を用いた測定装置も採用することができる。
【0070】
(5)前記の実施の形態では、前記ボイラ装置1に前記全炭酸濃度測定装置7および前記シリカ濃度測定装置8を設け、前記全炭酸濃度測定装置7および前記シリカ濃度測定装置8において自動的に測定された給水中の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度に基づいて、前記薬剤供給装置6から前記給水路11に対してスケール分散剤を供給するようにしたが、この発明のスケール生成抑制方法はこれに限定されるものではない。たとえば、給水中の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度を手作業により測定し、その測定結果に基づいて、前記給水路11に対してスケール分散剤を供給することができる。ここにおいて、給水中の炭酸水素イオン濃度を手作業により測定する方法としては、たとえばJIS K0101:1998に規定されている「炭酸,炭酸水素イオン及び炭酸イオンの濃度の算出」などを採用することができる。また、給水中のシリカ濃度を手作業により測定する方法としては、たとえばJIS K 0101:1998に規定されている「モリブデン青吸光光度法」を採用することができる。
【0071】
(6)前記の実施の形態では、前記負荷機器4で使用した蒸気を復水として回収しない場合について説明したが、この発明はこれに限定されるものではない。たとえば、図13に示すように、前記負荷機器4で使用した蒸気を復水として前記給水タンク10へ供給する復水配管90(復水供給部の一例)を設けた構成とすることも、実施に応じて好適である。この場合、補給水と復水を前記給水タンク10で混合し、前記ボイラ2へ供給する給水として使用しているが、補給水と復水とを混合した後の給水の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度を測定しているため、前記ボイラ2へ供給される給水の炭酸水素イオン濃度およびシリカ濃度を測定することができ、スケール分散剤の使用量を適正化することができる。
【0072】
(7)前記の各実施の形態では、前記全炭酸濃度測定装置7として、炭酸水素イオン濃度を測定する場合について説明したが、全炭酸濃度を測定する装置(図示省略)を用いてスケール分散剤の供給を制御することも、実施に応じて好適である。
【0073】
ここにおいて、前記給水タンク10内の無機体炭素は、炭酸,炭酸水素イオンおよび炭酸イオンの形態に分かれており、さらにそれらの存在割合は、前記負荷機器4やスチームトラップ(符号省略)の構造,前記復水配管90の長さや構造,前記給水タンク10への供給方法などにより異なっている。そのため、これら3つの形態を含めた全炭酸として測定することにより、前記ボイラ2内で発生するアルカリの全量を予測することができるため、前記ボイラ2のスケールの生成を抑制する上で、スケール分散剤の使用量を適正化することができる。全炭酸濃度を測定する装置は、給水中の全炭酸の存否もしくは全炭酸の濃度を測定することができるものであれば、とくに限定されるものではない。たとえば、JIS K0101:1998に規定されている「全炭酸」などを採用することができる。
【0074】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、スケール分散剤を用いてボイラ装置に生成するスケールを抑制するにあたり、スケール分散剤の使用量を適正化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態に適用されるボイラ装置の概略図である。
【図2】前記ボイラ装置において用いられる全炭酸濃度測定装置の縦断面概略図である。
【図3】前記全炭酸濃度測定装置を構成する試薬供給装置部分を図2のIII方向から見た縦断面概略図である。
【図4】前記全炭酸濃度測定装置の制御装置部分の概略構成を示す図である。
【図5】前記ボイラ装置において用いられるシリカ濃度測定装置の縦断面概略図である。
【図6】前記シリカ濃度測定装置を構成する試薬供給装置部分を図5のVI方向から見た縦断面概略図である。
【図7】前記シリカ濃度測定装置の制御装置部分の概略構成を示す図である。
【図8】前記ボイラ装置におけるスケール分散剤の供給動作工程を示すフローチャートである。
【図9】前記ボイラ装置におけるスケール分散剤の供給動作工程を示すフローチャートである。
【図10】他の実施の形態におけるスケール分散剤の供給動作工程を示すフローチャートである。
【図11】給水試料を通過する光の透過率に基づいて炭酸水素イオン濃度を測定する判定テーブルを概念的に示したグラフである。
【図12】給水試料を通過する光の透過率に基づいてシリカ濃度を測定する判定テーブルを概略的に示したグラフである。
【図13】他の実施の形態におけるボイラ装置の概略図である。
【符号の説明】
1 ボイラ装置
2 ボイラ
3 給水部
4 負荷機器
5 蒸気供給部
11 給水路
90 復水供給部
Claims (3)
- 給水を加熱して蒸気を生成するボイラ2と、このボイラ2へ給水を供給する給水部3と、前記ボイラ2で生成した蒸気を負荷機器4へ供給する蒸気供給部5とを備えたボイラ装置1において、スケール分散剤を用いて前記ボイラ2におけるスケールの生成を抑制する方法であって、前記給水部3の給水路11中の給水の全炭酸濃度を測定する全炭酸濃度測定工程と、前記給水部3の給水路11中の給水のシリカ濃度を測定するシリカ濃度測定工程と、前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、前記給水部3に対してスケール分散剤を供給するスケール分散剤供給工程とを含むことを特徴とするボイラ装置のスケール生成抑制方法。
- 給水を加熱して蒸気を生成するボイラ2と、このボイラ2へ給水を供給する給水部3と、前記ボイラ2で生成した蒸気を負荷機器4へ供給する蒸気供給部5と、前記負荷機器4で使用した蒸気を復水として前記給水部3へ供給する復水供給部90とを備えたボイラ装置1において、スケール分散剤を用いて前記ボイラ2におけるスケールの生成を抑制する方法であって、前記給水部3の給水路11中の給水の全炭酸濃度を測定する全炭酸濃度測定工程と、前記給水部3の給水路11中の給水のシリカ濃度を測定するシリカ濃度測定工程と、前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、前記給水部3に対してスケール分散剤を供給するスケール分散剤供給工程とを含むことを特徴とするボイラ装置のスケール生成抑制方法。
- 前記全炭酸濃度測定工程および前記シリカ濃度測定工程における測定結果に基づいて、スケール分散剤の供給量を調節することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のボイラ装置のスケール生成抑制方法。
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JP2008170112A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-07-24 | Miura Co Ltd | 蒸気ボイラへの薬剤供給方法 |
WO2017064962A1 (ja) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | 栗田工業株式会社 | ボイラ給水用水処理装置及びボイラの運転方法 |
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2002
- 2002-08-29 JP JP2002250011A patent/JP2004085144A/ja active Pending
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