JP2004054199A - 分割露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】精度が高い露光をすることができ、生産効率が高く、構造が簡単で、より小型な分割露光装置を提供する。
【解決手段】プリント配線板を製造するときに使用され、基板Ｋに対して原版Ｍを密着し、原版Ｍに付されているパターンを基板Ｋに露光する露光装置であって、特に、基板Ｋ上の任意の位置毎に露光を行うことができる分割露光装置である。具体的には、照射範囲変更部１６０により照射範囲の大きさを変更し、第２の平面鏡１３２により照射位置の変更を行う。また、照射領域と非照射領域との境界部分は、幅の狭い遮光帯２１１〜２１４により遮光を行う。
【選択図】　　　　　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性のある基板を複数の領域に分割し、領域毎に原版に設けられたパターンを露光することができる分割露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プリント配線板の製造に使用される露光装置において、パターン精度向上、多品種少量生産への対応、製造工程の効率向上などのために、分割露光装置が使用されるようになってきている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−６６４１８号公報
【特許文献２】
特開２０００−２５０２２７号公報
【特許文献３】
特開２０００−２９２９４２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の分割露光装置では、基板を保持する露光テーブル又は光源を移動させることにより、露光位置を変更するため、これらの退避スペースが必要となり、装置が大型化するという問題があった。
また、露光する領域以外の領域は、他の露光領域を露光するときに基板が感光してしまわないように、露光したくない領域全体を完全に覆う遮光板等が必要であり、この遮光板の退避スペースも確保する必要があった。
また、上記特許文献１には、露光に使用する光の光路を変更することにより露光位置を変更する手法が開示されているが、この手法を用いた場合であっても、上述の遮光板が必要であり、装置を小型化することが困難であった。
【０００５】
本発明の課題は、精度が高い露光をすることができ、生産効率が高く、構造が簡単で、より小型な分割露光装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。すなわち、請求項１の発明は、基板（Ｋ）上を複数の露光領域に分割して、前記基板に投影するパターンを備えた原版（Ｍ）を前記基板に近接又は密着して前記露光領域毎に露光を行う分割露光装置であって、前記基板を保持する露光テーブル（３００）と、前記露光領域に略対応した範囲に光を照射する照射手段（１００）と、を備え、前記照射手段は、照射する光の照射位置を前記露光領域に応じて変更する照射位置変更部（１３２）を備えること、を特徴とする分割露光装置である。
【０００７】
請求項２の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光を反射する中間反射部（１３１，１３２）と、前記中間反射部により反射された光を反射して、前記基板に対して光を照射する凹面鏡又は平面鏡により形成された最終反射部（１９０）と、を備え、前記照射位置変更部は、前記中間反射部の角度を変更することにより、前記照射位置を変更すること、を特徴とする分割露光装置である。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項２に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）をさらに備え、前記中間反射部（１３２）は、前記インテグレータを通過した後の光を反射する位置に設けられていること、を特徴とする分割露光装置である。
【０００９】
請求項４の発明は、請求項２又は請求項３に記載の分割露光装置において、前記最終反射部（１９０）は、前記中間反射部（１３２）の角度変更に伴い前記光源からの光の光路が移動する範囲を鏡面領域に含むこと、を特徴とする分割露光装置である。
【００１０】
請求項５の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、照射する光の照射範囲を前記露光領域に応じて拡大及び／又は縮小する照射範囲変更部（１６０）を備えること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１１】
請求項６の発明は、請求項５に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記照射範囲変更部（１６０）は、前記複数のレンズアレイの間隔を変更することにより照射する光の照射範囲を変更すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１２】
請求項７の発明は、請求項５に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記照射範囲変更部（１６０）は、前記インテグレータを通過した光を拡大及び／又は縮小する照射範囲変更光学系（１６１，１６３）により照射範囲を変更すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１３】
請求項８の発明は、請求項７に記載の分割露光装置において、前記照射範囲変更光学系（１６１，１６３）は、前記インテグレータ（１５０）を通過した光の光軸上に進退自在に設けられていること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１４】
請求項９の発明は、請求項７又は請求項８に記載の分割露光装置において、前記照射範囲変更部（１６０）は、前記複数のレンズアレイ（１５１，１５２）及び／又は前記照射範囲変更光学系（１６１，１６３）の間隔を変更することにより照射する光の照射範囲を変更すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１５】
請求項１０の発明は、請求項５に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記照射範囲変更部は、前記インテグレータを交換することにより、照射する光の照射範囲を変更すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１６】
請求項１１の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記光源と前記インテグレータとの間に、前記光源から照射される光の一部を遮光し、前記光の投影形状を前記レンズアレイが有する単位レンズの光軸方向における投影形状に略相似な形状とする光源絞り（１２０）を有すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１７】
請求項１２の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記光源と前記インテグレータとの間に、凹レンズ（１４０）を設けること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１８】
請求項１３の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記複数のレンズアレイは、単位レンズの光軸方向における投影形状が互いに略等しい形状であって、前記複数のレンズアレイの間に、前記単位レンズ毎に前記投影形状に略等しい形状の光路を仕切る遮光壁（１５３）を設けること、を特徴とする分割露光装置である。
【００１９】
請求項１４の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光路中に設けられた複数のレンズアレイ（１５１，１５２，１６１，１６３）と、を備え、前記レンズアレイは、隣り合う単位レンズが略黒色の遮光性を有する素材により接合されていること、を特徴とする分割露光装置である。
【００２０】
請求項１５の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、を備え、前記インテグレータから射出された光の一部を遮光し、前記光の投影形状を前記露光領域の形状に略相似な形状とする照射絞り（１７０）を有すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００２１】
請求項１６の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、その光学的構成要素の少なくとも一部（１５０，１６０，１７０）を照射光路の光軸を略中心として回転させ、照射する光束の形状を補正する光束形状補正部（２００）を有すること、を特徴とする分割露光装置である。
【００２２】
請求項１７の発明は、請求項１から請求項１６までのいずれか１項に記載の分割露光装置において、前記基板（Ｋ）と前記照射手段（１００）との間にあって、前記照射位置及び／又は前記照射範囲の変更に応じて、前記基板に沿って移動可能に設けられ、前記露光領域の境界付近のみを遮光する遮光帯（２１１〜２１４）を少なくとも１つ備えること、を特徴とする分割露光装置である。
【００２３】
請求項１８の発明は、請求項２に記載の分割露光装置において、前記最終反射部（１９２）は、前記照射位置変更部の動作に応じて角度を変更することができること、を特徴とする分割露光装置である。
【００２４】
請求項１９の発明は、請求項１に記載の分割露光装置において、前記照射手段（１００）は、光源（１１０）と、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイ（１５１，１５２）を有するインテグレータ（１５０）と、前記複数のレンズアレイから出射される単位照射光の前記基板（Ｋ）上での照射領域が略同一位置で重なるように集光する集光光学系（４００）と、を備えること、を特徴とする分割露光装置である。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、図面等を参照しながら、本発明の実施の形態について、更に詳しく説明する。
（第１実施形態）
図１は、本発明による分割露光装置の第１実施形態の全体を示す図である。
本実施形態における分割露光装置は、プリント配線板を製造するときに使用され、基板Ｋに対して原版Ｍを密着し、原版Ｍに付されているパターンを基板Ｋに露光する露光装置であって、特に、基板Ｋ上の任意の位置毎に露光を行うことができる分割露光装置である。本実施形態における分割露光装置は、照射手段１００，遮光帯２１１〜２１４，露光テーブル３００を備えている。
なお、以下の説明中において、光源１１０から射出されて露光テーブル３００まで達する光の光路上における位置関係を表すために、ある位置を基準として、その位置に光が入光する側、すなわち、光路として光源に近い側を、光路光源側と呼び、その反対側を、光路露光テーブル側と呼ぶこととする。
【００２６】
照射手段１００は、光源１１０、光源絞り１２０、中間反射部（第１の平面鏡１３１，第２の平面鏡１３２）、凹レンズ１４０、インテグレータ１５０、照射範囲変更部１６０、照射絞り１７０、シャッタ１８０、最終反射部１９０等を備えている。
【００２７】
光源１１０は、基板Ｋを感光させる光の照射源であり、本実施形態では、５ｋＷショートアークランプを使用し、楕円鏡により光を反射して射出される。
【００２８】
光源絞り１２０は、光源１１０と後述のインテグレータ１５０との間に設けられた遮光性を有する板状の部材であり、形状が略正方形の開口部を有しており、光源１１０から照射される光（以下、照射光と呼ぶ）の一部を遮光し、光の投影形状をインテグレータ１５０のレンズアレイ１５１，１５２（図２等参照）が有する単位レンズの光軸方向における投影形状（本実施形態では、正方形）に略相似な形状（正方形）とする絞りである。
【００２９】
中間反射部は、第１の平面鏡１３１と第２の平面鏡１３２とが設けられており、照射光を反射して、光路を曲げる役割を果たしている。
第１の平面鏡１３１は、不図示の固定部材に固定され、照射光を凹レンズ１４０，インテグレータ１５０等の方向に向ける役割を果たしている。この第１の平面鏡１３１は、光源１１０の配置の自由度を高くし、露光装置全体を小型にすることを主な目的として設けられている。
【００３０】
第２の平面鏡１３２は、直交する２つの回転軸まわりに回転可能に設けられている。従って、第２の平面鏡１３２は、照射光の反射角度を自由に変更することができ、第２の平面鏡１３２により反射した後に後述の最終反射部１９０に入射する位置を自由に変更することができる。従って、第２の平面鏡１３２により、基板Ｋ上の照射位置を自由に変更することができる。
【００３１】
凹レンズ１４０は、第１の平面鏡１３１とインテグレータ１５０との間の光路上に設けられているレンズである。
インテグレータ１５０は、照射光の強度分布を均一にするための光学部材である。
照射範囲変更部１６０は、照射光の照射範囲を露光領域に応じて変更する部分である。
凹レンズ１４０、インテグレータ１５０、照射範囲変更部１６０についての詳細な説明は、後述する。
【００３２】
照射絞り１７０は、照射範囲変更部１６０を通過した照射光の一部、具体的には、照射光の外周部分の不要な部分を遮光し、照射光の投影形状を露光領域の形状に略相似な形状とする役割を果たす。この照射絞り１７０は、照射範囲変更部１６０による照射範囲の変更に応じて、開口サイズを変更するようになっている。
【００３３】
シャッタ１８０は、照射絞り１７０よりも光路露光テーブル側に設けられているシャッタであり、露光を行うときに開口し、露光を行わない間は、光源１１０からの光を完全に遮光するようになっている。
最終反射部１９０は、照射光を露光テーブル３００上の基板Ｋに向けて反射する凹面鏡であり、本実施形態では、球面鏡を使用している。
【００３４】
遮光帯２１１〜２１４は、最終反射部１９０と原版Ｍとの間にあって、原版Ｍに近接した位置に設けられ、露光領域の境界付近のみを遮光する幅の狭い遮光性を有した部材である。遮光帯２１１〜２１４は、第２の平面鏡１３２の回転（傾き）による照射位置の変更と、照射範囲変更部１６０による照射範囲の変更に応じて、原版Ｍに沿って移動可能であり、不図示の制御部により駆動制御されている。
【００３５】
露光テーブル３００は、基板Ｋを吸着保持し、原版Ｍと基板Ｋとの位置整合（アライメント）動作を行う部分である。不図示のカメラなどを用いた位置検出手段により、原版Ｍと基板Ｋとの位置ずれを検出し、この位置ずれがなくなる位置に露光テーブル３００が移動するようになっている。本実施形態における露光テーブル３００は、面内方向の直交する２軸方向に移動可能であるとともに、面内の回転も行うことができる。また、露光テーブル３００による位置整合は、露光領域毎に、露光を行う前に行われる。
【００３６】
次に、凹レンズ１４０、インテグレータ１５０及び照射範囲変更部１６０まわりについて、さらに詳しく説明する。
図２は、インテグレータ１５０の分解斜視図である。
インテグレータ１５０は、第１レンズアレイ１５１，第２レンズアレイ１５２，遮光壁１５３を有している。
本実施形態では、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２は、いずれも１４×１４ｍｍの正方形単位凸レンズを５×５個並べたフライアイレンズで構成されているが、この個数及び寸法については特に、これにこだわるものではない。これらのレンズは、互いに単位レンズが１対１で対応し、各単位レンズの光軸が一致するように配置されている。
遮光壁１５３は、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の間に設けられており、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の各単位レンズ同士の境界部分にあって、単位レンズの光軸方向における投影形状に略等しい形状の光路を仕切る部材である。具体的には、図２に示すように、１４×１４ｍｍの正方形の光路を格子状（５×５個）に形成するようになっている。
【００３７】
図３は、インテグレータ１５０の作用を説明する概念図である。
インテグレータ１５０に入射した照射光は、インテグレータ１５０から射出される時に単位レンズ毎に射出されることになり、露光面を２５個の光源により重畳照射することから、露光面での光強度分布（照度分布）が均一になる。
【００３８】
図４は、インテグレータ１５０から射出された照射光の露光面における光強度分布を模式的に示した図である。図４（ａ）は、露光面を正面から見たと仮定した図であり、図４（ｂ）は、照射光が重畳される方向をｚ軸方向として示した図である。
インテグレータ１５０から射出された照射光は、略正方形の範囲を照射する光束が５×５個整然と並んで露光面を照射するので、図４に示したような光強度分布を示し、図４中に斜線により示した領域Ａにおいて光強度がほぼ均一になっている。本実施形態における露光装置では、この領域Ａに相当する部分を露光に使用し、そのまわりに生じる光強度が不均一な領域については、遮光帯２１１〜２１４により遮光するようになっている。
【００３９】
図５は、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２のみからなるインテグレータを想定し、このインテグレータが光源１１０からの照射光を受けたときに、インテグレータの光路露光テーブル側から観察した状態を示す模式図であって、ひとつの単位レンズに入射する光についてのみ着目して示した図である。図５（ａ）は、照射光の光路を側面から観察した図であり、図５（ｂ）は、第２レンズアレイ１５２の、ある単位レンズに入射した照射光を光路露光テーブル側から見た図である。なお、図５及び後述の図６〜９及び図１７は、説明のために誇張し、かつ、簡略化して示した図であり、寸法、光路などは、実施形態とは異なっている。
【００４０】
上述したように、理想的には、インテグレータ１５０を用いる事により均一な照射光により露光を行うことができる。しかし、光源１１０から射出される照射光は、全ての光が整合されて理想的に射出されるわけではなく、狙いとする方向とは異なる方向に射出される光も含んでいる。従って、図５（ｂ）に示すように、第１レンズアレイ１５１のある単位レンズを通過した照射光は、第２レンズアレイ１５２の中の対応する単位レンズのまわりの単位レンズにも入射してしまう。この場合、対応する単位レンズ以外の単位レンズに入射した光は、本来の狙い通りには制御することができず、いわゆる迷光となってしまい、露光領域外に広がってしまうこととなる。
【００４１】
本実施形態における露光装置は、遮光帯２１１〜２１４の幅を狭くすることにより、遮光帯２１１〜２１４の退避スペースを少なくし、装置の小型化を達成している。従って、遮光帯２１１〜２１４に遮光される部分以外に照射光が到達すると、基板Ｋが感光してしまい、不良となってしまうおそれがある。そこで、本実施形態における露光装置では、これら迷光を排除するために、以下に示す対策を講じている。
【００４２】
（対策１：光源絞り１２０）
図６は、図５に示した光学系に光源絞り１２０を追加した場合を示す図である。
光源１１０は、光路露光テーブル側から見ると円形であることから、照射光の投影形状も円形となる。一方、基板Ｋは、四角形であり、これに合わせてインテグレータ１５０の第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の各単位レンズは、光軸方向から見ると正方形をしている。このため、光源１１０に光源絞り１２０を取り付けない場合には、インテグレータ１５０との位置関係や、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の単位レンズの焦点距離等を最適な値にしても、単位レンズ毎に着目すると、第２レンズアレイに入射する光束は円錐状となり、上述の迷光が非常に多くなってしまう。光源絞り１２０はこれをできるだけ少なくする目的から使用されるものであり、光源１１０から射出される照射光の外周部分を、単位レンズに合わせて正方形に遮光することにより、前記の迷光を減少させる役割を果たしている。
ただし、光源絞り１２０が遮光する部分をあまり多くすると、照射光の光量が減少しすぎるので、光源絞り１２０の開口面積は、できる限り大きくすることが望ましい。図６に示した形態では、第２レンズアレイ１５２に入射した照射光は、単位レンズ形状と略相似形状となっているが、光源絞り１２０の開口面積を大きくした結果、まだ不必要に広がっている部分が残っている。
【００４３】
（対策２：凹レンズ１４０）
図７は、図６に示した光学系に凹レンズ１４０を追加した場合を示す図である。
凹レンズ１４０は、図６において、光源絞り１２０の開口面積を大きくした結果、まだ不必要に広がっていた照射光を集光して、単位レンズ毎に、第２レンズアレイ１５２に入射する照射光を単位レンズのサイズにほぼ等しくする役割を果たしている。なお、この凹レンズ１４０を設けることなく、インテグレータ１５０の第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の各単位レンズの焦点距離、レンズ間隔等を適宜調整することにより、同様の作用を得ることもできる。しかし、インテグレータ１５０を新たに作製すると、他製品との部品共通化、製造コスト等の点において、不利となる場合もあり、本実施形態では、凹レンズ１４０を追加する構成を選択している。
【００４４】
（対策３：遮光壁１５３）
図８は、インテグレータ１５０が有する遮光壁１５３と、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の単位レンズ同士の接合部分について説明する図である。
遮光壁１５３は、第１レンズアレイ１５１のある単位レンズを通過した照射光の中で、第２レンズアレイ１５２の対応する単位レンズ以外の領域に入って来る光を遮る役割を果たしている〔図８（ａ）〕。
【００４５】
（対策４：黒色ガラスによる単位レンズ同士の接合）
インテグレータ１５０の第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２は、単位レンズ同士を５×５個ずつ並べて接合して形成している。この接合は、ガラスを融着することにより行われるが、接合部分に透明なガラスを使用した通常のレンズアレイでは、単位レンズ同士の接合面における反射、隣の単位レンズへの再入射等が生じ、迷光として射出されるおそれがある。本実施形態では、単位レンズ同士の接合に、遮光性を有する黒色ガラスを使用することにより、上述の迷光を防止している〔図８（ｂ）〕。
なお、後述のシリンドリカル凹レンズ１６１，凹レンズアレイ１６３についても、同様の対策を施すことにより、迷光をより減衰させることが可能になる。
【００４６】
図９は、上記対策１〜４を全て実施した場合の本実施形態の光源１１０〜インテグレータ１５０について示した図である。なお、図９では、第１の平面鏡１３１を省略している。
本実施形態では、上述の対策により、単位レンズ毎に、ほぼ理想的に照射光を射出することから、インテグレータ１５０を通過した照射光は、迷光も極めて少なく、かつ、光強度も強い、図４に示されるような、理想的な光強度分布になっている。
【００４７】
図１０は、照射範囲変更部１６０の斜視図である。
図１１は、照射範囲変更部１６０とインテグレータ１５０との位置関係を示す図である。
照射範囲変更部１６０は、シリンドリカル凹レンズ１６１，通過孔１６２，凹レンズアレイ１６３を並べて有しており、これらの並べられている方向（矢印Ｅ方向）に移動可能に設けられている。
【００４８】
シリンドリカル凹レンズ１６１は、両側凹形状のシリンドリカルレンズを５つ並べた光学素子（レンチキュラーレンズ）であり、照射光の照射範囲を一辺方向に拡大する第１の照射範囲変更光学系である。
通過孔１６２は、単なる貫通孔であり、インテグレータ１５０を通過した光に、なんら影響を与えない。
凹レンズアレイ１６３は、両側凹レンズの単位レンズを５×５個並べたレンズアレイであり、照射光の照射範囲を両辺方向に拡大する第２の照射範囲変更光学系である。
照射範囲変更部１６０を矢印Ｅ方向に移動することにより、インテグレータ１５０を通過した照射光の照射範囲を変更するか否か、及び、変更の形態を選択することができ、露光テーブル３００上の基板Ｋに対する照射面積を必要に応じて変更することができる。
【００４９】
図１２は、インテグレータ１５０と照射範囲変更部１６０との組み合わせにより照射範囲を変更した場合についてを、列挙した概念図である。
図１３は、基板Ｋ上における照射範囲の変更形態を示した図である。
図１４は、第２の平面鏡１３２の角度を変更して照射領域を移動した状態を示す概念図である。
本実施形態では、照射範囲変更部１６０により照射範囲を、小範囲、中範囲、全範囲の３種類から選択することができ、小範囲及び中範囲を選択した場合には、さらに照射位置を選択することができる。
【００５０】
（１）小範囲の照射範囲
本実施形態における小範囲とは、基板の略１／４の面積の露光範囲を照射する場合であり、図１２（ａ），図１３（ａ）〜（ｄ）に示した場合の露光範囲である。この場合、照射範囲変更部１６０は、通過孔１６２を照射光が通過する位置になるように設定され、インテグレータ１５０から射出された光は、照射範囲変更部１６０により拡大縮小されることなく、基板Ｋに到達する。
【００５１】
（２）中範囲の照射範囲
本実施形態における中範囲とは、基板の略１／２の面積の露光範囲を照射する場合であり、図１２（ｂ），（ｃ），図１３（ｅ）〜（ｇ）に示した場合の露光範囲である。この場合、照射範囲変更部１６０は、シリンドリカル凹レンズ１６１を照射光が通過する位置になるように設定され、インテグレータ１５０から射出された光は、シリンドリカル凹レンズ１６１により一辺方向についてのみ拡大されて、照射範囲を長方形とする。なお、シリンドリカル凹レンズ１６１の取り付け方向を基本の位置〔図１２（ｂ）〕に対し、９０度回転した位置〔図１２（ｃ）〕とすることで、照射範囲を図１３（ｇ）のように９０度回転することができる。
小範囲及び中範囲を照射する場合には、図１４（ｂ），（ｃ）に示すように、第２の平面鏡１３２の角度を変更することにより、照射位置を移動することができる。
【００５２】
（３）全範囲の照射範囲
本実施形態における全範囲とは、基板の全ての面積の露光範囲を照射する場合であり、図１２（ｄ），図１３（ｈ）に示した場合の露光範囲である。この場合、照射範囲変更部１６０は、凹レンズアレイ１６３を照射光が通過する位置になるように設定され、インテグレータ１５０から射出された光は、凹レンズアレイ１６３により両辺方向に拡大されて、照射範囲を全範囲とする。
【００５３】
図１５は、照射位置の移動に応じた遮光帯２１１〜２１４の遮光位置を示す図である。
上述の光源１１０〜インテグレータ１５０まわりの各種対策により、照射光は、照射領域以外に殆ど広がらないので、露光を行わない領域全面を遮光する必要がなくなり、幅の狭い遮光帯とすることができ、遮光帯が退避するスペースも少なくなり、装置全体を小型にすることができる。
なお、図１５では、遮光帯の幅を広めに示しているが、この図よりも幅を狭くすることができる。
【００５４】
本実施形態によれば、基板の領域を必要に応じて簡単に分割して露光することができるので、生産効率を落とすことなく精度が高い露光をすることができる。
また、露光領域の移動は、第２の平面鏡１３２の角度を変更することにより行うので、構造が簡単で、小型な分割露光装置とすることができる。
さらに、光源絞り１２０，凹レンズ１４０，遮光壁１５３，黒色ガラスによる単位レンズ同士の接合などを行うことにより、照射光が照射領域以外を照射しないようにしたので、遮光帯２１１〜２１４の幅を狭くすることができ、装置をさらに小型にすることができる。
【００５５】
（第２実施形態）
第２実施形態は、第１実施形態における分割露光装置に、光束形状補正部２００を追加した形態であるので、第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
図１６は、本発明による分割露光装置の第２実施形態の全体を示す図である。
光束形状補正部２００は、インテグレータ１５０，照射範囲変更部１６０及び照射絞り１７０をまとめて照射光束の光軸を略中心として回転させる部分である。
【００５６】
照射手段１００は、基盤Ｋ上に照射される形状が狙いの形状となるように、光学的に最適な配置とすることが望ましいが、装置全体を小型化したい場合などには、光学的観点からすると必ずしも最適と言えないが、小型化に適した配置とする場合がある。このような場合、第２の平面鏡１３２を回転させることによって基板Ｋ上の照射位置を変更させたときに、照射光の形状に若干の歪みが発生する場合がある。光束形状補正部２００は、このような場合に設けられるものであり、照射光の歪みを補正し、この形状を、必要とする露光領域の形状に略相似な形状とするための機構である。
【００５７】
本実施形態では、照射位置の移動は第１実施形態と同様に、第２の平面鏡１３２の角度を変更することにより実現されるが、図１２（ａ），（ｃ）及び図１３（ａ），（ｄ），（ｇ）で示されるような、小範囲又は中範囲を照射する場合で、第２の平面鏡１３２の角度変更方向を照射光の入射方向と異なる方向に傾斜させる必要が有る場合には、第１，第２の平面鏡１３１，１３２及び最終反射部１９０の配置関係の影響から、結果として、照射光束にも若干の回転が発生するため、照射光の断面形状も若干歪んでしまう。このため、このままでは、露光領域も図１３とは若干異なった歪みの有る形状となってしまう。
光束形状補正部２００は、この形状歪みを減少させる目的で設けられている機能であり、インテグレータ１５０，照射範囲変更部１６０及び照射絞り１７０を、一括して回転させることができる。
【００５８】
図１７は、照射位置を移動したときに、露光面に照射される光束の形状と、光束形状補正部２００の効果を示す図である。
図１７（ａ）は、基板面センタを中心とする小さな露光範囲を選択した場合であり、このような場合は、照射光束も図１３（ｂ）の露光領域に略相似な形状となり、特に補正の必要性は発生しない。
【００５９】
これに対し、図１７（ｂ）は、第２の平面鏡１３２を図１７（ａ）の基準位置から図の手前側及び右側に同時に傾斜させた場合の例であり、図１３（ａ）における露光領域Ｄを選択した場合に対応しているが、このような場合の照射光束の形状は、図１３（ａ）に対し若干歪みを持ったものとなってしまう。
【００６０】
図１７（ｃ）は上記（ｂ）に対し光束形状補正部２００を機能させた場合の例であり、第２の平面鏡１３２の傾斜角度に略比例した角度だけインテグレータ１５０を回転させることによって、第２の平面鏡からの反射光束形状も図１７（ａ）の場合とほぼ同様の形状に補正されるため、必要とする露光領域の形状に略相似な形状による露光が可能となる。
基板Ｋの中範囲を照射する場合についても全く同様の形状歪みが発生するため、照射範囲変更部１６０及び照射絞り１７０についても、インテグレータ１５０と一緒に、一括して回転させる事が可能な構成を採用している。
【００６１】
本実施形態によれば、光束形状補正部２００を備えたので、第１，第２の平面鏡１３１，１３２及び最終反射部１９０の配置関係によらず、照射形状を狙い通りの形状とすることができる。したがって、レイアウトの自由度が増し、装置全体の小型化を図ることが可能となる。
【００６２】
（第３実施形態）
図１８は、本発明による分割露光装置の第３実施形態の全体を示す図である。
第３実施形態は、第１実施形態における最終反射部１９０を、角度変更（回転）可能な最終反射部１９２とした形態であるので、第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
最終反射部１９２は、図１８に示すＸ軸周り、及び、Ｙ軸周りそれぞれに独立して回転可能に設けられている。
【００６３】
最終反射部１９２から基板Ｋへ反射する光は、全領域において、基板Ｋに対して垂直に投光されるのが望ましい。しかし、光源１１０から出射する方向がそろっておらず、また、光を斜めに複数回反射させることなどから、全ての領域において理想的に投光することは、困難である。したがって、例えば、全面露光する場合〔図１５（ｈ）〕に、露光領域の中央付近を最適化して投光光学系を設定すると、露光領域の端部付近では、基板Ｋの垂線に対して若干の角度を有して投光される（以下、角度エラーと呼ぶ）ようになる。一方、同じ投光光学系の設定であっても、露光領域を例えば１／４の領域とした場合〔図１５（ａ）〕には、最終反射部１９２の中央部に対応する角付近では、ほぼ理想的に投光され、その対角付近において、角度エラーが最も大きくなる。この場合、この１／４の領域に最適な投光光学系を設定することにより、角度エラーをより少なくすることができる。
【００６４】
そこで、本実施形態では、最終反射部１９２をＸ軸周り、及び、Ｙ軸周りそれぞれに独立して回転可能に設け、露光領域の変更に応じて、最適な投光角度で投光されるようにしている。このようにすることにより、狭い露光領域を露光する場合には、角度エラーをより少なくすることができる。
【００６５】
（第４実施形態）
第４実施形態は、第１実施形態におけるインテグレータ１５０と露光テーブル３００との間に、集光レンズ４００を追加した形態であるので、第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
【００６６】
図１９は、第４実施形態における集光レンズ４００の作用を説明する概念図である。
集光レンズ４００は、単位レンズから出射される単位照射光の基板Ｋ上での照射領域が略同一位置で重なるように集光する集光光学系である。集光レンズ４００の焦点距離は、集光レンズ４００を設けた位置から露光面までの距離と略等しくなっている。従って、インテグレータ１５０の各単位レンズから射出した光は、露光面上のほぼ同じ位置に投光される。
なお、集光レンズ４００の位置は、インテグレータ１５０と最終反射部（１９０，１９２）との間であればよいが、あまり最終反射部に近くなると、巨大な集光レンズが必要となるので、本実施形態では、インテグレータ１５０の直後に設けている。ただし、図１９は、説明のため誇張しているので、位置関係は不正確である。
【００６７】
図２０は、インテグレータ１５０及び集光レンズ４００を通過した照射光の露光面における光強度分布を、集光レンズ４００を設けない場合と比較して、模式的に示した図である。
【００６８】
図２０（ａ），（ｂ）は、第１実施形態の図４に示したものと同じ図であり、集光レンズ４００を設けていないので、領域Ａにおいては、光強度がほぼ均一となるが、その周囲の照射領域は、段階的に照度が低下していることから、露光に使用することができず、無駄が多い。
【００６９】
図２０（ｃ），（ｄ）は、図２０（ａ），（ｂ）と同じ光学系に、集光レンズ４００を追加した場合を示す図である。この場合、図２０（ｂ），（ｄ）のＺ軸方向に示す照度Ｌ１は変わらないが、光強度がほぼ均一となる領域Ｂの面積が、領域Ａよりも広がっている。このように、集光レンズ４００を追加することにより、単位レンズの場合とほぼ同じ面積の照射領域が全て均一な照度となり、露光に使用することができる領域の面積が相対的に増加する。
【００７０】
また、図２０（ｅ），（ｆ）に示すように、集光レンズ４００を追加した場合には、照射面積が領域Ａと同一となるように光学系を設定することにより、光強度がほぼ均一となる領域Ｃの照度をさらに高く（Ｌ１＋Ｌ２）することができる。
【００７１】
ここで、一例として、４００×４００ｍｍの領域を露光に使用したい場合を考える。
第１実施形態に示した方式では、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２は、いずれも１４×１４ｍｍの正方形単位凸レンズを５×５個並べたフライアイレンズであるから、単位レンズが照射する領域を考えると、４５６×４５６ｍｍ（＝２０７９３６ｍｍ^２　）の照射領域を照射するようにして、単位レンズの照射領域の内の全てが重なった部分で、光強度がほぼ均一となった４００×４００ｍｍの領域だけを露光に使用することとなる。
【００７２】
一方、本実施形態のように、集光レンズ４００を追加した場合には、各単位レンズ毎で考えると、４００×４００ｍｍ（＝１６００００ｍｍ^２　）の必要な照射領域だけを照射すればよい。従って、各単位レンズが照射している領域は、（２０７９３６−１６００００）／２０７９３６×１００％＝２３％減少することとなる。このため、捨てていた光を有効に利用することになり、照度を、（２０７９３６−１６００００）／１６００００×１００％＝３０％増加させることができる。
【００７３】
本実施形態によれば、集光レンズ４００を追加したので、無駄になる光を有効に集めることができ、同一面積を露光する場合には、照度を増加することができる。
【００７４】
（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
（１）各実施形態において、最終反射部１９０は、球面鏡である例を示したが、これに限らず、例えば、放物面鏡であってもよいし、平面鏡であってもよい。
【００７５】
（２）各実施形態において、光源絞り１２０，凹レンズ１４０，遮光壁１５３，黒色ガラスによる単位レンズ同士の接合，照射絞り１７０及び光束形状補正部２００を設けた例を示したが、これに限らず、例えば、これらの一部のみを設けるようにしてもよい。
【００７６】
（３）各実施形態において、第２の平面鏡１３２は、直交する２つの回転軸のまわりに回転可能に設けられている例を示したが、これに限らず、例えば、上記回転に加えて照射光の光路に沿って移動可能にし、反射方向のズレは第２の平面鏡１３２の角度を再設定することとしてもよい。このようにすることにより、小範囲及び中範囲を選択した場合の、照射位置の変更による光路長の違いを補正することができ、最終反射部１９０から反射される照射光の平行度を高めることが可能となる。
【００７７】
（４）各実施形態において、照射範囲変更部１６０は、シリンドリカル凹レンズ１６１，通過孔１６２，凹レンズアレイ１６３を適宜選択することにより、照射光の照射範囲を変更する例を示したが、これに限らず、例えば、第１レンズアレイ１５１，第２レンズアレイ１５２，シリンドリカル凹レンズ１６１，凹レンズアレイ１６３等の各レンズ間隔を変更することにより照射する光の照射範囲を変更するようにしてもよい。
【００７８】
（５）各実施形態において、照射範囲変更部１６０は、シリンドリカル凹レンズ１６１，通過孔１６２，凹レンズアレイ１６３を適宜選択することにより、照射光の照射範囲を変更する例を示したが、これに限らず、例えば、必要とする３種類の露光領域の形状のそれぞれに略相似な形状を持った、焦点距離の異なる３種類の単位レンズを複数枚使って作られているレンズアレイをそれぞれ２枚ずつ用意し、これら２枚１組のレンズアレイをそれぞれの焦点距離に略近似した間隔で照射範囲変更部１６０に内蔵させるとともに、前記実施例で示した第１レンズアレイ１５１，第２レンズアレイ１５２は取り外し、これらの代わりに、上記の照射範囲変更部１６０に内蔵させた３組のレンズアレイを、３種類の異なる露光領域に対応した、第１レンズアレイ，第２レンズアレイとして置き換えても良い。このように構成された照射範囲変更部１６０を適宜選択することにより、照射する光の照射範囲を変更するようにしてもよい。
【００７９】
（６）第２実施形態において、光束形状補正部２００は、インテグレータ１５０，照射範囲変更部１６０，照射絞り１７０を一括して回転させる機能を持ち、これにより照射位置変更部１３２の角度変更によって発生してしまう照射光の形状歪みを補正する例を示したが、これに限らず、例えば、これらの一部のみを回転させる機構にしてもよい。また、光源絞り１２０についても、光束形状補正部２００の回転角に同期させて動かすようにしてもよい。
【００８０】
（７）各実施形態において、インテグレータ１５０の第１レンズアレイ１５１、第２レンズアレイ１５２、シリンドリカル凹レンズ１６１及び凹レンズアレイ１６３は、単位レンズ同士の接合に、黒色ガラスを使用することにより迷光を防止している例を示したが、これに限らず、例えば、遮光性を有する黒色の接着剤により接合してもよい。
【００８１】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、本発明によれば、以下の効果を奏することができる。
（１）照射手段は、照射する光の照射位置を露光領域に応じて変更する照射位置変更部を備えるので、必要な位置のみを露光することができる。
【００８２】
（２）照射位置変更部は、中間反射部の角度を変更することにより、照射位置を変更するので、照射位置変更部を簡単な構造とすることができる。
【００８３】
（３）中間反射部は、インテグレータを通過した後の光を反射する位置に設けられているので、照射位置の変更に応じてインテグレータを移動する必要がなく、装置を簡単にすることができる。
【００８４】
（４）最終反射部は、中間反射部の角度変更に伴い光源からの光の光路が移動する範囲を鏡面領域に含むので、照射位置の変更に応じて最終反射部を移動する必要がなく、装置を簡単にすることができる。
【００８５】
（５）照射手段は、照射する光の照射範囲を露光領域に応じて拡大及び／又は縮小する照射範囲変更部を備えるので、様々な大きさの露光領域に対応した分割露光を行うことができる。
【００８６】
（６）照射範囲変更部は、複数のレンズアレイの間隔の変更，照射範囲変更光学系の使用，インテグレータの交換のいずれかの手法により、照射する光の照射範囲を変更するので、簡単かつ確実に照射範囲の変更を行うことができる。
【００８７】
（７）照射範囲変更光学系は、インテグレータを通過した光の光軸上に進退自在に設けられているので、照射範囲変更光学系を容易に交換することができる。
【００８８】
（８）光源絞り，凹レンズ，遮光壁，隣り合う単位レンズが略黒色の素材により接合されたレンズアレイ，照射絞り，光束形状補正部の中のいずれかを有するので、必要な照射領域以外に照射される光を少なくすることができ、幅の狭い遮光帯を使用することができる。
【００８９】
（９）光束形状補正部を有するので、各種光学素子の配置を変更しても、照射光束の形状を狙い通りにすることができる。したがって、設計の自由度が増し、装置全体を小型化することができる。
【００９０】
（１０）露光領域の境界付近のみを遮光する遮光帯を備えるので、装置を小型にすることができる。
【００９１】
（１１）最終反射部は、照射位置変更部の動作に応じて角度を変更することができるので、露光領域毎に最適な投光光路を形成することができ、角度エラーを最小限にすることができる。
【００９２】
（１２）複数のレンズアレイから出射される単位照射光の基板上での照射領域が略同一位置で重なるように集光する集光光学系を備えるので、無駄にする光を無くし、効率よく露光を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による分割露光装置の第１実施形態の全体を示す図である。
【図２】インテグレータ１５０の分解斜視図である。
【図３】インテグレータ１５０の作用を説明する概念図である。
【図４】インテグレータ１５０から射出された照射光の露光面における光強度分布を模式的に示した図である。
【図５】第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２のみからなるインテグレータのひとつの単位レンズに入射する光についてのみ着目して示した図である。
【図６】図５に示した光学系に光源絞り１２０を追加した場合を示す図である。
【図７】図６に示した光学系に凹レンズ１４０を追加した場合を示す図である。
【図８】インテグレータ１５０が有する遮光壁１５３と、第１レンズアレイ１５１及び第２レンズアレイ１５２の単位レンズ同士の接合部分について説明する図である。
【図９】本実施形態の光源１１０〜インテグレータ１５０について示した図である。
【図１０】照射範囲変更部１６０の斜視図である。
【図１１】照射範囲変更部１６０とインテグレータ１５０との位置関係を示す図である。
【図１２】インテグレータ１５０と照射範囲変更部１６０との組み合わせにより照射範囲を変更した場合についてを、列挙した概念図である。
【図１３】基板Ｋ上における照射範囲の変更形態を示した図である。
【図１４】第２の平面鏡１３２の角度を変更して照射領域を移動した状態を示す概念図である。
【図１５】照射位置の移動に応じた遮光帯２１１〜２１４の遮光位置を示す図である。
【図１６】本発明による分割露光装置の第２実施形態の全体を示す図である。
【図１７】照射位置を移動したときに、露光面に照射される光束の形状と、光束形状補正部２００の効果を示す図である。
【図１８】本発明による分割露光装置の第３実施形態の全体を示す図である。
【図１９】第４実施形態における集光レンズ４００の作用を説明する概念図である。
【図２０】インテグレータ１５０及び集光レンズ４００を通過した照射光の露光面における光強度分布を、集光レンズ４００を設けない場合と比較して、模式的に示した図である。
【符号の説明】
１００　照射手段
１１０　光源
１２０　光源絞り
１３１，１３２　中間反射部（第１の平面鏡，第２の平面鏡）
１４０　凹レンズ
１５０　インテグレータ
１６０　照射範囲変更部
１７０　照射絞り
１８０　シャッタ
１９０，１９２　最終反射部
２００　光束形状補正部
２１１〜２１４　遮光帯
３００　露光テーブル
４００　集光レンズ

Claims (19)

1. 基板上を複数の露光領域に分割して、前記基板に投影するパターンを備えた原版を前記基板に近接又は密着して前記露光領域毎に露光を行う分割露光装置であって、
   前記基板を保持する露光テーブルと、
   前記露光領域に略対応した範囲に光を照射する照射手段と、
   を備え、
   前記照射手段は、照射する光の照射位置を前記露光領域に応じて変更する照射位置変更部を備えること、
   を特徴とする分割露光装置。
2. 請求項１に記載の分割露光装置において、
   前記照射手段は、光源と、
   前記光源からの光を反射する中間反射部と、
   前記中間反射部により反射された光を反射して、前記基板に対して光を照射する凹面鏡又は平面鏡により形成された最終反射部と、
   を備え、
   前記照射位置変更部は、前記中間反射部の角度を変更することにより、前記照射位置を変更すること、
   を特徴とする分割露光装置。
3. 請求項２に記載の分割露光装置において、
   前記照射手段は、前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータをさらに備え、
   前記中間反射部は、前記インテグレータを通過した後の光を反射する位置に設けられていること、
   を特徴とする分割露光装置。
4. 請求項２又は請求項３に記載の分割露光装置において、
   前記最終反射部は、前記中間反射部の角度変更に伴い前記光源からの光の光路が移動する範囲を鏡面領域に含むこと、
   を特徴とする分割露光装置。
5. 請求項１に記載の分割露光装置において、
   前記照射手段は、照射する光の照射範囲を前記露光領域に応じて拡大及び／又は縮小する照射範囲変更部を備えること、
   を特徴とする分割露光装置。
6. 請求項５に記載の分割露光装置において、
   前記照射手段は、光源と、
   前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
   を備え、
   前記照射範囲変更部は、前記複数のレンズアレイの間隔を変更することにより照射する光の照射範囲を変更すること、
   を特徴とする分割露光装置。
7. 請求項５に記載の分割露光装置において、
   前記照射手段は、光源と、
   前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
   を備え、
   前記照射範囲変更部は、前記インテグレータを通過した光を拡大及び／又は縮小する照射範囲変更光学系により照射範囲を変更すること、
   を特徴とする分割露光装置。
8. 請求項７に記載の分割露光装置において、
   前記照射範囲変更光学系は、前記インテグレータを通過した光の光軸上に進退自在に設けられていること、
   を特徴とする分割露光装置。
9. 請求項７又は請求項８に記載の分割露光装置において、
   前記照射範囲変更部は、前記複数のレンズアレイ及び／又は前記照射範囲変更光学系の間隔を変更することにより照射する光の照射範囲を変更すること、
   を特徴とする分割露光装置。
10. 請求項５に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
    を備え、
    前記照射範囲変更部は、前記インテグレータを交換することにより、照射する光の照射範囲を変更すること、
    を特徴とする分割露光装置。
11. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
    を備え、
    前記光源と前記インテグレータとの間に、前記光源から照射される光の一部を遮光し、前記光の投影形状を前記レンズアレイが有する単位レンズの光軸方向における投影形状に略相似な形状とする光源絞りを有すること、
    を特徴とする分割露光装置。
12. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
    を備え、
    前記光源と前記インテグレータとの間に、凹レンズを設けること、
    を特徴とする分割露光装置。
13. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
    を備え、
    前記複数のレンズアレイは、単位レンズの光軸方向における投影形状が互いに略等しい形状であって、
    前記複数のレンズアレイの間に、前記単位レンズ毎に前記投影形状に略等しい形状の光路を仕切る遮光壁を設けること、
    を特徴とする分割露光装置。
14. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光路中に設けられた複数のレンズアレイと、
    を備え、
    前記レンズアレイは、隣り合う単位レンズが略黒色の遮光性を有する素材により接合されていること、
    を特徴とする分割露光装置。
15. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
    を備え、
    前記インテグレータから射出された光の一部を遮光し、前記光の投影形状を前記露光領域の形状に略相似な形状とする照射絞りを有すること、
    を特徴とする分割露光装置。
16. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、その光学的構成要素の少なくとも一部を照射光路の光軸を略中心として回転させ、照射する光束の形状を補正する光束形状補正部を有すること、
    を特徴とする分割露光装置。
17. 請求項１から請求項１６までのいずれか１項に記載の分割露光装置において、
    前記基板と前記照射手段との間にあって、前記照射位置及び／又は前記照射範囲の変更に応じて、前記基板に沿って移動可能に設けられ、前記露光領域の境界付近のみを遮光する遮光帯を少なくとも１つ備えること、
    を特徴とする分割露光装置。
18. 請求項２に記載の分割露光装置において、
    前記最終反射部は、前記照射位置変更部の動作に応じて角度を変更することができること、
    を特徴とする分割露光装置。
19. 請求項１に記載の分割露光装置において、
    前記照射手段は、光源と、
    前記光源からの光の光強度を均一化する複数のレンズアレイを有するインテグレータと、
    前記複数のレンズアレイから出射される単位照射光の前記基板上での照射領域が略同一位置で重なるように集光する集光光学系と、
    を備えること、
    を特徴とする分割露光装置。

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