JP2004046217A - 微細構造体の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法、および液体吐出ヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ヒーターを形成した基板2011上に形成する液流路となる型パターンを、下層及び上層の2層構造にポジ型感光性材料から形成し、下層については熱架橋化してから液流路の形成に用いる。
【選択図】 図1
Description
(1)液体吐出用の熱エネルギーを発生するヒーター及びこれらヒーターを駆動するドライバー回路等を形成した素子基板にインク供給の為の貫通孔を形成した後、感光性ネガ型レジストにて液流路の壁となるパターン形成を行い、これに、電鋳法やエキシマレーザー加工によりインク吐出口を形成したプレートを接着して製造する方法、
(2)上記製法と同様に形成した素子基板を用意し、接着層を塗布した樹脂フィルム(通常はポリイミドが好適に使用される)にエキシマレーザーにて液流路及びインク吐出口を加工し、次いで、この加工した液流路構造体プレートと前記素子基板とを熱圧を付与して貼り合わせる方法、
等を挙げることができる。
基板上に、架橋化された状態で第1の波長域の電離放射線に感光する第1のポジ型感光性材料の層を設け、該ポジ型感光性材料の層を加熱処理して架橋化されたポジ型感光性材料層からなる下層を形成する工程と、
該下層上に前記第1の波長域とは異なる第2の波長域の電離放射線に感光する第2のポジ型感光性材料からなる上層を設けて2層構造を得る工程と、
該2層構造の前記上層の所定部に前記第2の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで前記上層の照射領域のみを除去して上層を所望のパターンに形成する工程と、
該上層のパターン形成により露出した前記下層の所定の領域に前記第1の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで、前記下層を所望のパターンに形成する工程と
を有することを特徴とする微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、メタクリル酸エステルを主成分とし、更に熱架橋因子としてのメタクリル酸と、前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子とを有する3元系共重合体を含むものであることを特徴とする微細構造体の製造方法である。
基板上に、架橋化された状態で第1の波長域の電離放射線に感光する第1のポジ型感光性材料の層を設け、該ポジ型感光性材料の層を加熱処理して架橋化されたポジ型感光性材料層からなる下層を形成する工程と、
該下層上に前記第1の波長域とは異なる第2の波長域の電離放射線に感光する第2のポジ型感光性材料からなる上層を設けて2層構造を得る工程と、
該2層構造の前記上層の所定部に前記第2の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで前記上層の照射領域のみを除去して上層を所望のパターンに形成する工程と、
該上層のパターン形成により露出した前記下層の所定の領域に前記第1の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで、前記下層を所望のパターンに形成する工程と、
を有する微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、少なくともカルボン酸の無水物構造を有する光崩壊型の樹脂を含有することを特徴とする微細構造体の製造方法である。
液体吐出エネルギー発生素子を形成した基板上の液流路形成部分に、溶解除去可能な樹脂にて型パターンを形成し、該型パターンを被覆するように前記基板上に被覆樹脂層を塗布し硬化させた後、前記型パターンを溶解除去して液流路を形成する、液体吐出ヘッドの製造方法において、
該型パターンを上記微細構造体の製造方法の第1の態様により形成することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
基板上に、第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を形成し、且つ、該第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を熱架橋反応により熱架橋膜とする工程と、
該熱架橋膜の上に、該第1の波長域とは異なる第2の波長域の光に感光する第2のポジ型感光性材料の層を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第2の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第2のポジ型感光性材料の層の所望の領域のみを反応させ、現像により所望のパターンを形成後に、基板を加熱することで、該パターンの側壁に所望の傾斜を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第1の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第1のポジ型感光性材料の層の所定の領域を反応させる工程とを有し、
前記各工程からなる工程を用いて基板に対して上と下のパターンを異ならせる、微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、メタクリル酸メチルを主成分とし、更に熱架橋因子としてのメタクリル酸と、前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子とを有する3元系共重合体を含むものであることを特徴とする微細構造体の製造方法である。
基板上に、第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を形成し、且つ、該第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を熱架橋反応により熱架橋膜とする工程と、
該熱架橋膜の上に、該第1の波長域とは異なる第2の波長域の光に感光する第2のポジ型感光性材料の層を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第2の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第2のポジ型感光性材料の層の所望の領域のみを反応させ、現像により所望のパターンを形成後に、基板を加熱することで、該パターンの側壁に所望の傾斜を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第1の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第1のポジ型感光性材料の層の所定の領域を反応させる工程とを有し、
前記各工程からなる工程を用いて基板に対して上と下のパターンを異ならせる、微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、少なくともカルボン酸の無水物構造を有する光崩壊型の樹脂を含有することを特徴とする微細構造体の製造方法である。
該型パターンを上記微細構造体の製造方法の第2の態様により形成することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
1)液体吐出ヘッド製作の為の主要工程が、フォトレジストや感光性ドライフィルム等を用いたフォトリソグラフィー技術による為、液体吐出ヘッドの液流路構造体の細密部を、所望のパターンで、しかも極めて容易に形成することができるばかりか、同構成の多数の液体吐出ヘッドを同時に加工することも容易にできる。
2)液流路の高さを部分的に変えることが可能であり、記録液の再充填速度が速く高速で記録できる液体吐出ヘッドを提供できる。
3)液流路構造体材料層の厚さを部分的に変えることが可能であり、機械的強度の高い液体吐出ヘッドを提供できる。
4)吐出速度が速く、極めて着弾精度の高い液体吐出ヘッドが製造できる為、高画質の記録を行うことができる。
5)高密度マルチアレイノズルの液体吐出ヘッドが簡単な手段で得られる。
6)液流路の高さ、およびオリフィス部(吐出口部)の長さの制御は、レジスト膜の塗布膜厚によって簡単且つ精度良く変えられる為、設計の変更と制御が容易に実施できる。
7)熱架橋性ポジ型レジストを適用することにより、極めてプロセスマージンの高い工程条件を設定でき、歩留まり良く液体吐出ヘッドを製造できる。
で表されるモノマー単位を用いることができる。このモノマー単位導入用のモノマーとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニル等を挙げることができる。加熱処理による架橋化は脱水縮合反応によって行われる。
一般式1
さらに光崩壊型の樹脂が、下記一般式3で示される構造単位を有していても良い。
一般式3
感度領域を広げる因子としては、感光性を示す波長域を広げる機能を有するものを選択して用いることができ、以下の式(2)〜(6)で表される長波長側へ感度領域を広げることができるモノマーを、共重合させて得られるモノマー単位が好適に利用できる。
ジエチレングリコールモノブチルエーテル 60vol%
エタノールアミン 5vol%
モルフォリン 20vol%
イオン交換水 15vol%
から成る現像液を用いることが可能である。
図10から図19の夫々には、本発明の方法に係わる液体噴射記録ヘッドの構成とその製作手順の一例が示されている。尚、本例では、2つのオリフィス(吐出口)を有する液体噴射記録ヘッドが示されるが、もちろんこれ以上のオリフィスを有する高密度マルチアレイ液体噴射記録ヘッドの場合でも同様であることは、言うまでもない。また、図10〜図19は第1のポジ型感光性材料層と第2のポジ型感光性材料層の上下関係についてこれらの要部を用いて模式的に示すもので、その他の具体的構造については適宜省略してある。
(1)メタクリル酸メチルとメタクリル酸とメタクリル酸グリシジルの80:5:15比の共重合体で、重量平均分子量(Mw)は、34000であり、平均分子量(Mn)は、11000で、分散度(Mw/Mn)は、3.09であるもの(その吸収スペクトルを図22に示す)。
(2)メタクリル酸メチルとメタクリル酸と3−オキシイミノ−2−ブタノンメタクリル酸メチルの85:5:10比の共重合体で、重量平均分子量(Mw)は、35000であり、平均分子量(Mn)は、13000で、分散度(Mw/Mn)は、2.69であるもの(その吸収スペクトルを図23に示す)。
(3)メタクリル酸メチルとメタクリル酸とメタクリロニトリルの75:5:20比の共重合体で、重量平均分子量(Mw)は、30000であり、平均分子量(Mn)は、16000で、分散度(Mw/Mn)は、1.88であるもの(その吸収スペクトルを図24に示す)。
(4)メタクリル酸メチルとメタクリル酸と無水マレイン酸の80:5:15比の共重合体で、重量平均分子量(Mw)は、30000であり、平均分子量(Mn)は、14000で、分散度(Mw/Mn)は、2.14であるもの(その吸収スペクトルを図25に示す)。
実施例1の実施の形態の製法により、図6(a)に示した構造のインクジェットヘッドを作製した。本実施形態では図20に示すとおり、インクジェットヘッドはインク供給口42の開口部42aから吐出チャンバー47のインク供給口側の端部47aまでの水平距離が100μmである。液流路壁46は、吐出チャンバー47のインク供給口側の端部47aからインク供給口42側へ60μmの箇所まで形成され、夫々の吐出エレメントを分割している。また、液流路高さは吐出チャンバー47のインク供給口側の端部47aからインク供給口42側へ10μmに亘って10μm、それ以外の個所は20μmで形成されている。基板41の表面から液流路構造体材料45の表面までの距離は26μmである。
実施例1の実施の形態の製法により、図7(a)に示したノズルフィルターを有するインクジェットヘッドを試作した。
実施例1の実施の形態の製法により、図8(a)に示した構造のインクジェットヘッドを試作した。
実施例1の実施の形態により、図9(a)に示した構造のインクジェットヘッドを試作した。本実施形態では図21(a)に示すとおり、吐出チャンバー77は下層レジストより形成される矩形部が25μmの正方形にて高さ10μm、上層レジストより形成される矩形部が20μmの正方形にて高さ10μm、吐出口は直径15μmの丸穴より構成される。ヒーター73からインク吐出口74の開口面までの距離は26μmである。
まず、基板201を準備する。最も汎用的には、基板201としてはシリコン基板が適用される。一般に、液体吐出エネルギー発生素子を制御するドライバーやロジック回路等は、汎用的な半導体製法にて生産される為、該基板にシリコンを適用することが好適である。本例においては、液体吐出エネルギー発生素子202としての電気熱変換素子(材質HfB2からなるヒーター)と、インク流路およびノズル形成部位にSiN+Taの積層膜(不図示)を有するシリコン基板を準備した(図10)。
重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=25000
分散度(Mw/Mn)=2.3
この樹脂粉末をシクロヘキサノンに約30重量%の固形分濃度にて溶解し、レジスト液として使用した。その際のレジスト溶液の粘度は、630cpsであった。該レジスト液を、スピンコート法にて塗布し、120℃で、3分でプリベークした後、窒素雰囲気中オーブンにて250℃で、60分間の熱処理を行った。なお、熱処理後の第1のポジ型レジスト層203の膜厚は10μmであった。
ジエチレングリコールモノブチルエーテル 60vol%
エタノールアミン 5vol%
モルフォリン 20vol%
イオン交換水 15vol%
次いで、被処理基板上に以下の組成からなる感光性樹脂組成物(ネガ型感光性材料)を用いてスピンコートを行い(平板上膜厚20μm)、100℃で2分間(ホットプレート)のベークを行い、液流路構造体材料207を形成した(図16)。
1、4HFAB(セントラル硝子製、商品名) 20重量部
SP−170(旭電化工業製、商品名) 2重量部
A−187(日本ユニカー製、商品名) 5重量部
メチルイソブチルケトン 100重量部
ジグライム 100重量部
引き続き、被処理基板上に以下の組成からなる感光性樹脂組成物を用いて、スピンコートにより1μmの膜厚となるように塗布し、80℃で3分間(ホットプレート)のベークを行い、撥インク剤層を形成した。
2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)ヘキサフロロプロパン
25重量部
1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサフロロイソプロピル)ベンゼン
25重量部
3−(2−パーフルオロヘキシル)エトキシ−1,2−エポキシプロパン
16重量部
A−187(日本ユニカー製、商品名) 4重量部
SP−170(旭電化工業製、商品名) 2重量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 100重量部
次いで、MPA−600(キヤノン製、商品名)を用い、290〜400nmの波長の光を用いて、400mJ/cm2の露光量にてパターン露光した後、ホットプレートにて120℃で120秒のPEB(露光後ベーク)を行い、メチルイソブチルケトンにて現像することにより、液流路構造体材料207および撥インク剤層のパターニングを行い、インク吐出口209を形成した(図17)。なお、本実施例ではφ10μmの吐出口パターンを形成した。
ポジ型レジストとして、以下の光崩壊型のポジ型レジストを用いた以外は、実施例6と同様にしてインクジェットヘッドを作製し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。
(モノマー組成比10/90−モル比)
重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=28000
分散度(Mw/Mn)=3.3
(実施例8)
ポジ型レジストとして、以下の光崩壊型のポジ型レジストを用いた以外は、実施例6と同様にしてインクジェットヘッドを作製し、吐出および記録評価を行ったところ、良好な画像記録が可能であった。
(モノマー組成比10/85/5−モル比)
重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)=31000
分散度(Mw/Mn)=3.5
32 架橋化されたポジ型レジスト層
33 ポジ型レジスト層
34 液流路構造体材料
35 インク吐出口
36 フォトマスク
37 フォトマスク
38 フォトマスク
39 液流路
41 基板
42 インク供給口
42a 開口部
43 ヒーター
44 インク吐出口
44a インク吐出口端部
45 液流路構造体材料
46 液流路壁
47 吐出チャンバー
47a 端部
51 基板
52 インク供給口
53 ヒーター
54 インク吐出口
55 液流路構造体材料
56 液流路壁
57 吐出チャンバー
58 ノズルフィルター
59 ノズルフィルター
61 基板
62 インク供給口
62a 開口部
62b 縁部
63 ヒーター
64 インク吐出口
65 液流路構造体材料
66 液流路壁
67 吐出チャンバー
71 基板
72 インク供給口
73 ヒーター
74 インク吐出口
75 液流路構造体材料
76 液流路壁
77 吐出チャンバー
100 高圧水銀灯
101 コールドミラー
102 縄の目レンズ
103 反射集光器
104 水銀灯スクリーン
105 コンデンサーレンズ
106 マスク
201 基板
202 液体吐出エネルギー発生素子
203 架橋化されたポジ型レジスト層
204 ポジ型レジスト層
205 電離放射線
206 フォトマスク
207 液流路構造体材料
208 電離放射線
209 インク吐出口
210 インク供給口
211 液流路
212 インク吐出エレメント
213 インクタンク
214 TABフィルム
215 電気接続用リード
Claims (40)
- 基板上に、架橋化された状態で第1の波長域の電離放射線に感光する第1のポジ型感光性材料の層を設け、該ポジ型感光性材料の層を加熱処理して架橋化されたポジ型感光性材料層からなる下層を形成する工程と、
該下層上に前記第1の波長域とは異なる第2の波長域の電離放射線に感光する第2のポジ型感光性材料からなる上層を設けて2層構造を得る工程と、
該2層構造の前記上層の所定部に前記第2の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで前記上層の照射領域のみを除去して上層を所望のパターンに形成する工程と、
該上層のパターン形成により露出した前記下層の所定の領域に前記第1の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで、前記下層を所望のパターンに形成する工程と、
を有する微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、メタクリル酸エステルを主成分とし、更に熱架橋因子としてのメタクリル酸と、前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子とを有する3元系共重合体を含むものであることを特徴とする微細構造体の製造方法。 - 前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子が、無水メタクリル酸モノマー単位である請求項1に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記第1のポジ型感光性材料の層の熱架橋化が、脱水縮合反応によるものである請求項1に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記3元系共重合体が、該共重合体に対してメタクリル酸を2〜30重量%の割合で含み、アゾ化合物または過酸化物を重合開始剤とした100〜120℃の温度での環化重合タイプのラジカル重合により調製されたものである請求項2に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記3元系共重合体の重量平均分子量が、5000〜50000の範囲にある請求項1に記載の微細構造体の製造方法。
- 基板上に、架橋化された状態で第1の波長域の電離放射線に感光する第1のポジ型感光性材料の層を設け、該ポジ型感光性材料の層を加熱処理して架橋化されたポジ型感光性材料層からなる下層を形成する工程と、
該下層上に前記第1の波長域とは異なる第2の波長域の電離放射線に感光する第2のポジ型感光性材料からなる上層を設けて2層構造を得る工程と、
該2層構造の前記上層の所定部に前記第2の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで前記上層の照射領域のみを除去して上層を所望のパターンに形成する工程と、
該上層のパターン形成により露出した前記下層の所定の領域に前記第1の波長域の電離放射線を照射し、現像処理を施すことで、前記下層を所望のパターンに形成する工程と、
を有する微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、少なくともカルボン酸の無水物構造を有する光崩壊型の樹脂を含有することを特徴とする微細構造体の製造方法。 - 前記光崩壊型の樹脂が、カルボン酸の無水物構造を介して分子間架橋したアクリル樹脂であることを特徴とする請求項6に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記光崩壊型の樹脂が、側鎖に不飽和結合を有するアクリル樹脂であることを特徴とする請求項7に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記第1の波長域が、前記第2の波長域よりも短波長域であることを特徴とする請求項1に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記第2のポジ型感光性材料が、ポリメチルイソプロペニルケトンを主成分とする電離放射線分解性のポジ型レジストである請求項1に記載の微細構造体の製造方法。
- 液体吐出エネルギー発生素子を形成した基板上の液流路形成部分に、溶解除去可能な樹脂にて型パターンを形成し、該型パターンを被覆するように前記基板上に被覆樹脂層を塗布し硬化させた後、前記型パターンを溶解除去して液流路を形成する、液体吐出ヘッドの製造方法において、
該型パターンを請求項1〜12のいずれかに記載の微細構造体の製造方法により形成することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記溶解除去するための現像液として、少なくとも
(1)水と任意の割合で混合可能な炭素数6以上のグリコールエーテル
(2)含窒素塩基性有機溶剤
(3)水
を含有する現像液を用いることを特徴とする請求項13に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテルおよび/またはジエチレングリコールモノブチルエーテルであることを特徴とする請求項14に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記含窒素塩基性有機溶剤が、エタノールアミンおよび/またはモルフォリンであることを特徴とする請求項14に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 請求項13に記載された方法で製造された液体吐出ヘッド。
- 前記液流路に、ごみ捕捉用の柱状部材が前記液流路を構成する材料より形成されていて、該柱状部材が前記基板と離れた状態で設置された請求項17に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記基板に、前記液流路の各々に共通に繋がる液体供給口が形成され、該液体供給口の前記液流路側の開口部の縁部における前記液流路高さに対して、前記液体供給口の前記液流路側の開口部の中心部における前記液流路高さが低い、請求項17に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記液体吐出エネルギー発生素子上の気泡発生室の断面形状が凸形状を有する、請求項17に記載の液体吐出ヘッド。
- 基板上に、第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を形成し、且つ、該第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を熱架橋反応により熱架橋膜とする工程と、
該熱架橋膜の上に、該第1の波長域とは異なる第2の波長域の光に感光する第2のポジ型感光性材料の層を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第2の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第2のポジ型感光性材料の層の所望の領域のみを反応させ、現像により所望のパターンを形成後に、基板を加熱することで、該パターンの側壁に所望の傾斜を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第1の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第1のポジ型感光性材料の層の所定の領域を反応させる工程とを有し、
前記各工程からなる工程を用いて基板に対して上と下のパターンを異ならせる、微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、メタクリル酸メチルを主成分とし、更に熱架橋因子としてのメタクリル酸と、前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子とを有する3元系共重合体を含むものであることを特徴とする微細構造体の製造方法。 - 前記電離放射線に対する感度領域を広げる因子が、無水メタクリル酸モノマー単位である請求項21に記載の製造方法。
- 前記第1のポジ型感光性材料の層の熱架橋化が、脱水縮合反応によるものである請求項21記載の製造方法。
- 前記3元系共重合体が、該共重合体に対してメタクリル酸を2〜30重量%の割合で含み、アゾ化合物または過酸化物を重合開始剤とした100〜120℃の温度での環化重合タイプのラジカル重合により調製されたものである請求項22に記載の製造方法。
- 前記3元系共重合体の重量平均分子量が、5000〜50000の範囲にある請求項21に記載の製造方法。
- 基板上に、第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を形成し、且つ、該第1の波長域の光に感光する第1のポジ型感光性材料の層を熱架橋反応により熱架橋膜とする工程と、
該熱架橋膜の上に、該第1の波長域とは異なる第2の波長域の光に感光する第2のポジ型感光性材料の層を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第2の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第2のポジ型感光性材料の層の所望の領域のみを反応させ、現像により所望のパターンを形成後に、基板を加熱することで、該パターンの側壁に所望の傾斜を形成する工程と、
前記第1及び第2のポジ型感光性材料の層が形成された基板面に、前記第1の波長域の光をマスクを介して照射することで前記第1のポジ型感光性材料の層の所定の領域を反応させる工程とを有し、
前記各工程からなる工程を用いて基板に対して上と下のパターンを異ならせる、微細構造体の製造方法であって、
前記第1のポジ型感光性材料は、少なくともカルボン酸の無水物構造を有する光崩壊型の樹脂を含有することを特徴とする微細構造体の製造方法。 - 前記光崩壊型の樹脂が、カルボン酸の無水物構造を介して分子間架橋したアクリル樹脂であることを特徴とする請求項26に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記光崩壊型の樹脂が、側鎖に不飽和結合を有するアクリル樹脂であることを特徴とする請求項27に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記第1の波長域が、前記第2の波長域よりも短波長域であることを特徴とする請求項21に記載の微細構造体の製造方法。
- 前記第2のポジ型感光性材料が、ポリメチルイソプロペニルケトンを主成分とする電離放射線分解性のポジ型レジストである請求項21に記載の製造方法。
- 液体吐出エネルギー発生素子を形成した基板上の液流路形成部分に、溶解除去可能な樹脂にて型パターンを形成し、該型パターンを被覆するように前記基板上に被覆樹脂層を塗布し硬化させた後、前記型パターンを溶解除去して液流路を形成する、液体吐出ヘッドの製造方法において、
該型パターンを請求項21〜32のいずれかに記載の微細構造体の製造方法により形成することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記溶解除去するための現像液として、少なくとも
1)水と任意の割合で混合可能な炭素数6以上のグリコールエーテル
2)含窒素塩基性有機溶剤
3)水
を含有する現像液を用いることを特徴とする請求項33に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記グリコールエーテルが、エチレングリコールモノブチルエーテルおよび/またはジエチレングリコールモノブチルエーテルであることを特徴とする請求項34に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記含窒素塩基性有機溶剤が、エタノールアミンおよび/またはモルフォリンであることを特徴とする請求項34に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 請求項33に記載された方法で製造された液体吐出ヘッド。
- 前記液流路に、ごみ捕捉用の柱状部材が前記液流路を構成する材料より形成されていて、該柱状部材が前記基板と離れた状態で設置された請求項37に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記基板に、前記液流路の各々に共通に繋がる液体供給口が形成され、該液体供給口の前記液流路側の開口部の縁部における前記液流路高さに対して、前記液体供給口の前記液流路側の開口部の中心部における前記液流路高さが低い、請求項37に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記液体吐出エネルギー発生素子上の気泡発生室の断面形状が凸形状を有する、請求項37に記載の液体吐出ヘッド。
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