JP2003527129A - 核に被覆を形成するための方法及び装置 - Google Patents
核に被覆を形成するための方法及び装置Info
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Abstract
Description
し、さらに詳しくは、撹拌された大量の核の上に被膜または外殻を形成するため
に、パンニング及び薄塗を行う、高速でより効率的な方法に関する。
プロセスである。パンニングは一般に糖を基材とする被膜の作成に関すると見な
され、一方薄塗は糖以外の基材(例えば高分子材)の被膜の作成に関すると見なさ
れる。しかし、これらの被覆形成プロセスはほぼ同じ態様で行われる。パンニン
グ及び薄塗はいずれも、撹拌された大量の核の上の薄い被覆形成溶液層を乾燥す
る工程からなる繰返プロセスである。微視的レベルでは、パンニングは核の表面
または被覆された核の表面上での被覆形成溶液に含有され得るショ糖またはその
他の糖の乾燥及び結晶化である。薄塗は核の表面または被覆された核の表面上で
の被覆形成溶液に含有されるセルロース重合体またはその他の通常の膜形成材料
の乾燥である。動作において、パンニングプロセスは3つのサイクル:被覆形成
溶液供給サイクル、分配サイクル及び乾燥サイクルの繰返しを含み;薄塗プロセ
スは被覆形成溶液の塗布及び乾燥を同時に行う工程を含む。それぞれのプロセス
においては、被覆形成材料の複数の薄層が互いに積み重なり、この結果外殻また
は被覆が形成される。
は粗粒化された、様々な製造物のいずれかとすることができる。被覆は、核を封
入するため、または核にさらに材料を付加するために、そのような核に施される
。そのような被覆された核調合物の例には、薬用に被覆された丸剤、錠剤及びノ
ンパレイユのような医薬;合成洗剤のような化学製品;及び砂糖またはチョコレ
ートを被せたキャンディー及びミンツのような食品がある。医薬用調合物につい
ては、そのような被覆された調合物は、核に含有される貴重な薬物または薬剤の
浪費を防止し、服用量の正確な計量及び投与を保証する。さらに、そのような被
覆は空気(酸素)及び/または湿気への曝露による劣化または分解からの核の保護
に役立つ。
計量供給して乾燥用ガス(乾燥空気)流により核を乾燥しながら、大量の核を撹拌
する、被覆形成槽を備えることである。一般に、被覆形成材料は糖、糖アルコー
ル、ワックス及びセルロースのような粉末、あるいは、糖、糖アルコール、ワッ
クス及びセルロースの水溶液または溶剤溶液(被覆形成溶液)であることが最も多
い、液体である。被覆形成溶液は、いずれか適当な被覆形成原料(例えばショ糖
、デキストリン、エチルセルロース等)または原料の組合せを水に溶かすだけで
作成することができる。被覆形成溶液は、大量の核の上に溶液をスプレーするか
、注ぐか、またはふり掛けることにより、計量供給または塗布することができる
。均一性を保証するため、及び被覆された核が乾燥工程中に互いに付着すること
を防止するために、被覆形成溶液は通常、核が被覆形成槽内で撹拌されている間
に供給される。一般に、乾燥用ガス流は被覆形成材料の供給と同時にまたは供給
に引き続いて被覆形成槽内に導入される。最も普通に用いられるガスは空気であ
り、ガスは通常熱せられている。
製品のコンシステンシー及び品質を改善するために、好ましい、乾燥用ガスの温
度、流量及び水分含有量、核撹拌の強さ及び被覆形成溶液散布の勢いを見定める
ための努力がなされてきた。これらのプロセス変数のそれぞれに対して常用のプ
ロセスパラメータが決定されている。例えば、高品質被覆の形成に必要とされる
適切な乾燥速度を得るための乾燥用ガス(空気)の露点は、約5℃(水5.4g/
乾燥空気1kg)である。被覆形成槽を通る乾燥用ガスの流量は、被覆/乾燥さ
れるべき核集団の重量及び使用される被覆形成槽のタイプに依存すると考えられ
る。例えば、回転ドラムを用いて重量が約400キログラム(kg)の核集団に被
覆を形成するには、約1,800立方フィート/分(約51m3/分)から約4,
000立方フィート/分(約113m3/分)の流量が用いられ得るが、重量が約
2,500kgの核集団には約8,000立方フィート/分(約227m3/分)
から約10,000立方フィート/分(約283m3/分)の流量が用いられ得る
。対照的に、流動床を用いて重量が約30キログラム(kg)の核集団に被覆を形
成するには、約350立方フィート/分(約10m3/分)から約1,000立方
フィート/分(約28m3/分)の流量が用いられ得る。乾燥用ガスが調節され得
る温度または温度範囲は、被覆されるべき核の熱安定性に依存する、あらかじめ
決定された温度/温度範囲である。例えば、高温に強い核については、すなわち
高温(例えば約50℃より上)において容易に溶融または劣化することはないであ
ろう核については、乾燥用ガス温度は一般に約50℃から約85℃の温度に維持
される。対照的に、核が熱に弱い、すなわち比較的低温(例えば約50℃より下)
で溶融するか、溶融はしなくとも高温またはやや高い温度において不安定である
場合、乾燥用ガス温度は一般に、核の溶融または劣化温度より低い温度に、また
は温度範囲内に維持される。
ば、ファッター(Futter)の米国特許第4,167,674号明細書は、タブレッ
トのバッチが回転する被覆形成パン内で被覆されるときのパン床温度がセンサで
検知されるプロセスを開示している。どの1サイクル中であっても、検知された
温度と記憶装置に格納された基準温度との間にあらかじめ選ばれた差があると信
号がつくられるように、被覆形成プロセスが監視される。このプロセスは、度重
なるセンサとの衝突により被覆されたタブレットが損傷を受け得るという欠点を
かかえている。同様に、センサは、回転するパン内で撹拌されているタブレット
との度重なる衝突により損傷を受け得る。
作パラメータをコンピュータにより制御できる、コンピュータ制御被覆形成装置
を開示している。例えば、スプレー速度、吸入空気温度、被覆形成パン内の空気
温度、排出空気温度、被覆形成パン速度、空気流量、露点及びスプレー材料の組
成を、被覆されたタブレットを製造するために、自動的に制御することができる
。ラティニ(Latini)の米国特許第5,495,418号明細書は、乾燥/スプレ
ーサイクルを制御するために、乾燥の開始及び終了時間並びに核に計量供給され
る被覆形成溶液のスプレー時間長/量のような、より少ないプロセス変数を制御
する被覆形成システムを開示している。
スの実際の進行を監視し、そのような監視で得られる情報に基づいて被覆形成プ
ロセスを迅速に調節または修正する能力を運転者に提供しない。したがって、被
覆形成装置内部の被覆されたタブレットまたは核の特性を監視することにより被
覆形成プロセスの進行を監視するための、単純で効率的な被覆形成方法、装置及
びシステム、並びに、被覆形成プロセスを容易に制御できる方法を提供すること
が有益であろう。そのような被覆形成プロセスを高速で費用効果が高い態様で行
うことができるような、被覆形成方法、装置及びシステムを提供することは特に
有益であろう。
核が被覆形成溶液で被覆される、被覆形成槽を備える、大量の核の上に外殻被覆
を形成するための、改善された方法、装置及びシステムに関する。本発明の装置
は、大量の被覆された核の表面温度を測定するための温度センサを備える。本発
明の別の装置は、大量の被覆された核の表面の含水量を測定するための水分セン
サを備える。本発明の方法は、大量の被覆された核の温度を温度センサを用いて
測定し、大量の被覆された核の表面温度をあらかじめ決定された温度に維持する
ために乾燥用ガスの温度を調節することによる、被覆された核の乾燥工程を含む
。本発明の別の方法は、被覆された核の表面の含水量を水分センサを用いて測定
する工程及び、被覆された核の表面の含水量が、水約0重量%から約30重量%
になるまで、被覆された核を乾燥する工程を含む。
うに改造された、従来のまたは市販の被覆形成装置(例えば、パンニングまたは
薄塗装置)を用いて実施することができる。本発明の方法及び装置を用いて形成
される外殻は硬殻であることが好ましい。本発明の一実施形態は、大量の核の上
に被覆形成溶液を計量供給する工程及び被覆された核を乾燥用ガス流で乾燥する
工程を含む、大量の核の上に外殻被覆を形成する方法であって、大量の被覆され
た核の表面温度を測定する工程及び被覆された核の表面温度をあらかじめ決定さ
れた温度に維持するために乾燥用ガスの温度を調節することにより被覆された核
を乾燥する工程を含み、乾燥用ガスの温度は被覆された核の表面温度測定に応答
して調節されるものである方法に関する。本発明の別の実施形態は、大量の核の
上に被覆形成溶液を計量供給する工程及び被覆された核を乾燥用ガス流で乾燥す
る工程を含む、大量の核の上に外殻被覆を形成する方法であって、大量の被覆さ
れた核の表面の含水量を測定する工程及び被覆された核の表面の含水量が、水約
0重量%から約30重量%になるまで、被覆された核を乾燥する工程を含む方法
に関する。上述の表面温度及び表面水分の測定は、核が被覆形成槽内にある間の
、核の被覆形成プロセス中に行われることが有利である。好ましくは、大量の核
の上に外殻被覆を形成するための本発明の方法は: (a) 大量の被覆された核の表面温度を測定する工程; (b) 大量の被覆された核の表面の水分を測定する工程; 及び (c) 被覆された核の表面温度をあらかじめ決定された温度に維持するために
被覆された核の表面の温度測定に応答して乾燥用ガスの温度を調節し、被覆され
た核の表面の含水量が、水約0重量%から約30重量%になるまで被覆された核
を乾燥することにより、被覆された核を乾燥する工程; を含む。
は: (a) 大量の核を被覆形成槽内に入れる工程; (b) 大量の核を撹拌する工程; (c) 大量の核の上に被覆形成溶液を計量供給する工程; (d) 大量の被覆された核の表面温度を温度センサを用いて測定する工程; (e) 乾燥用ガス流に被覆形成槽を通過させ、被覆された核の表面温度をあら
かじめ決定された温度に維持するために工程(d)の温度測定に応答して乾燥用ガ
スの温度を調節することにより、被覆された核を乾燥する工程;及び (f) 完成製品を製造するために工程(c)から工程(e)をあらかじめ決定され
た回数繰り返す工程; を含む。
た重量を獲得するまで大量の核の上に被覆形成溶液を計量供給する工程であって
、乾燥用ガスの温度が、被覆された核の表面温度をあらかじめ決定された温度に
維持するために工程(c)の温度測定に応答して調節されるものである工程;及び (f) 完成製品を製造するために被覆された核を乾燥する工程; を含む。
いて測定する工程及び、被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約30重
量%になるまで被覆された核を乾燥する工程をさらに含んで差支えない。あるい
は、上記プロセスは、被覆された核の含水量の測定により被覆形成プロセスを制
御する工程を含んで差支えない。本発明のこの実施形態において、大量の核の上
に外殻被膜を形成するためのパンニング方法は: (a) 大量の核を被覆形成槽内に入れる工程; (b) 大量の核を撹拌する工程; (c) 大量の核上に被覆形成溶液を計量供給する工程; (d) 乾燥用ガス流に被覆形成槽を通過させることにより被覆された核を乾燥
する工程; (e) 大量の被覆された核の表面の含水量を水分センサを用いて測定し、被覆
された核の表面水分が、水約0重量%から約30重量%になるまで、被覆された
核を乾燥する工程;及び (f) 完成製品を製造するために工程(c)から工程(e)をあらかじめ決定され
た回数繰り返す工程; を含む。
塗方法は: (a) 大量の核を被覆形成槽内に入れる工程; (b) 大量の核を撹拌する工程; (c) 大量の核の表面の含水量を水分センサを用いて測定する工程; (d) 乾燥用ガス流に被覆形成槽を通過させながら、核があらかじめ決定され
た重量を獲得するまで大量の核の上に被覆形成溶液を計量供給する工程;及び (e) 完成製品を製造するために、被覆された核の表面水分が、水約0重量%
から約30重量%になるまで被覆された核を乾燥する工程; を含む。
有するか、あるいは所望の厚さの被覆を有する完成製品を提供するに必要なだけ
長いかまたは短い時間をかけて行うことができる。本発明の膜被覆実施形態にお
いては、一般に、あらかじめ決定された重量が所望の重量増として表され、被覆
された核の所望の最終重量をもたらす。例えば、被覆の重量(重量増)は、(例え
ば腸溶性被覆調合物については)被覆された核の総重量の2〜5%と小さくする
ことができ、あるいは(例えば変わり玉については)80〜90%と大きくするこ
とができる。
面におけるあらかじめ決定されているかまたは所望の温度の維持及び、被覆形成
槽内の大量の被覆された核の表面であらかじめ決定されているかまたは所望の含
水量が得られるまでの、乾燥プロセスの継続に基づく。本発明において、大量の
被覆された核の表面の温度及び水分は、どのような直接測定方法によっても測定
または決定することができる。本明細書で用いられる用語“直接測定”あるいは
“直接決定”とは、被覆形成槽内の核または被覆された核の表面のパラメータ(
例:温度または水分/含水量)の値を、核の表面のスキャン、検査または分析に
より測定または決定するために有用な技法または装置を指す。直接測定または決
定は、被覆形成槽に流入するかまたは被覆形成槽から流出する乾燥用ガスの水分
/含水量の測定及び分析による大量の被覆された核の水分/含水量の決定のよう
な、間接測定または間接決定とは異なり、そのような間接測定または間接決定を
含まない。したがって、本発明の乾燥プロセスは、温度が被覆形成槽内の核の表
面の直接測定により監視され、含水量が被覆形成槽内の核の表面の直接測定によ
り監視される、大量の被覆された核の表面における温度の、あらかじめ決定され
た温度への、またはあらかじめ決定された温度範囲内への維持及び、被覆された
核の表面であらかじめ決定された含水量が得られるまでの、乾燥プロセスの継続
に基づく。
される。さらに乾燥用ガスの温度は、あらかじめ決定された温度またはあらかじ
め決定された温度範囲を維持するに必要な程度にしか制御または調節されない。
本発明の方法にしたがえば、乾燥プロセスを通じて熱に弱い核の融点または劣化
温度より低くなるように、乾燥用ガスの温度を制御する必要はもはやない。大量
の被覆された核の表面における温度があらかじめ決定された温度に、またはあら
かじめ決定された温度範囲内にとどまる限り、乾燥用ガスの温度を任意の温度範
囲にわたって変えることができる。
。被覆された核の表面から水が蒸発するとともに、核の表面の温度が下がる。こ
の過程は“断熱冷却”と呼ばれる。大量の水が蒸発しているとき(例えば、大量
の核の上に被覆形成溶液が計量供給された直後)には、冷却効果が大きくなり得
る。したがって、蒸発の冷却効果を相殺して被覆された核の上であらかじめ決定
された表面温度を維持するため、乾燥用ガスの温度をかなり高めることができる
。
の利点を提供する。しかし、本方法は熱に弱い核の被覆形成に対して特に有用で
ある。そのような熱に弱い核の従来の処理では、乾燥用ガスの温度が、乾燥プロ
セスを通して、熱に弱い核の融点または劣化温度より低く制御されなければなら
なかった。したがって、低融点の核、例えば融点が50℃より低い核の被覆形成
には非常に長い処理時間が必要であった。本発明では、核の融点より低く維持さ
れるのは、そのような低融点核の表面温度である。断熱冷却の効果を利用するこ
とにより、低融点核の融点より十分高い温度まで加熱された乾燥用ガスの使用が
可能になり;乾燥用ガスの温度が核の融点よりかなり高い間であっても核の温度
は融点より低いままである。例えば、チョコレート入りまたはココア入りの核の
パンニングを、被覆されたチョコレート入りまたはココア入りの核の表面温度を
それらの核の融点より低い温度に維持しながら、約50℃より高い温度にある乾
燥用ガスを用いて行うことができる。好ましくは、表面温度は約20℃から約2
6℃の範囲にあり、より好ましくは、表面温度は約21℃から約25℃の範囲に
あり、最も好ましくは、表面温度は約22℃から約24℃である。したがって、
本発明の方法は、融点または劣化温度が50℃より低い熱に弱い核の上に被覆を
形成するために特に有用である。本方法は、チョコレート、チョコレート入り調
合物、ココア入り調合物、及びナッツ風味またはナッツ入り調合物からなる核、
並びに類似の、例には、ミルクチョコレート、ブラックチョコレート、ホワイト
チョコレート、ピーナッツバター入り調合物、チョコレート入り調合物、及びチ
ョコレートでくるんだナッツ(ピーナッツ、アーモンド、カシューナッツ等)、チ
ョコレートでくるんだ米、チョコレートでくるんだピーナッツバター入り調合物
等のような添加物入りチョコレートがある、核のような、融点または劣化温度が
30℃より低い熱に弱い核の上に被覆を形成するために特に有用である。
量が監視される。乾燥サイクルは、被覆された核の表面の含水量があらかじめ決
定された含水量に達した時点で完了する。あらかじめ決定される含水量は、核の
上に被覆されるべき被覆形成溶液内の材料に依存して変わることになろう。しか
し、一般的には、被覆された核の表面のあらかじめ決定される含水量は、水約0
重量%から約30重量%であろう。被覆された核の表面のあらかじめ決定される
含水量は、好ましくは水約0重量%から約20重量%,より好ましくは水約0重
量%から約10重量%,最も好ましくは水約0重量%から約5重量%であろう。
乾燥サイクルが完了に達したと決定されると、別の乾燥サイクルを開始するため
にある量の被覆形成溶液を大量の被覆された核にさらにスプレーすることができ
、あるいは被覆された核を被覆形成槽から取り出すことができる。
する。本方法は温度が高められた乾燥用ガスを用いて行うことができるから、乾
燥速度をかなり高めることができる。さらに、被覆の表面含水量を容易に決定で
きるから、核の長時間乾燥を回避することができ、よってそれぞれの乾燥サイク
ルの完了に必要な時間を短縮することができる。総被覆形成プロセスは被覆形成
溶液の塗布及び乾燥サイクルの繰返しからなるから、乾燥時間の短縮により総プ
ロセス時間を大きく短縮することができ、よって与えられた時間内に製造し得る
被覆された製品の量を増加させることができる。本発明の方法は、従来プロセス
を用いて得ることができる被覆された核より品質が高い、被覆された核を提供す
ることもできる。本方法は乾燥時間、したがって被覆された核が被覆形成槽内で
撹拌される時間長を短縮することができるから、被覆された核どうしの、あるい
は被覆された核と被覆形成槽との間の衝突により生じる被覆への損傷も低減され
る。したがって、本発明の方法を用いることにより、かなりのプロセスコスト低
減及び製品品質向上が実現され得る。
スペンサー、ガス入口ポート及びガス出口ポートを備え;改善された被覆形成装
置は大量の被覆された核の表面温度を測定するための温度センサを備える。別の
実施形態において、本発明にしたがう改善された被覆形成装置は、被覆形成槽、
被覆形成溶液ディスペンサー、ガス入口ポート及びガス出口ポートを備え;改善
された被覆形成装置は大量の被覆された核の表面の含水量を測定するための水分
センサを備える。改善された被覆装置は、大量の被覆された核の表面を測定する
ための温度センサ及び水分センサのいずれをももつことが好ましい。
01を備え、ファン204,捕集器200,乾燥器206,加熱器205を含む
乾燥用ガスフローシステム,並びに温度センサ207及び水分センサ208を含
み、運転を制御するためのコンピュータ化制御ユニット209を含む、被覆形成
運転制御システムを備える、本発明の汎用被覆形成装置システムを示す。本発明
に用いられる装置システムは、乾燥されたガスをつくる乾燥器206及び、乾燥
されたガスを調節して、大量の被覆された核の表面の温度の維持に用いられる乾
燥用ガスをつくるための加熱器205を備える。上記方法の実施に適するために
は、本明細書に説明される温度センサ及び水分センサの内の少なくとも1つが被
覆形成槽に備えられていなければならない。図2及び3に示される、本発明の被
覆形成装置の一実施形態は、本実施形態では回転ドラム104として例示される
被覆形成槽,被覆形成溶液ディスペンサー100,温度センサ101及び水分セ
ンサ102を備える。大量の核103が、被覆形成プロセスのために被覆形成槽
内に入れられる。
ス入口ポート及びガス出口ポートを備える、従来のまたは市販の被覆形成装置は
いずれも、本発明に用いることができる。上記方法の実施に適するためには、被
覆形成プロセス装置が本明細書に説明される温度センサ及び水分センサを備えて
いなければならないことは当然である。そのような被覆形成装置の例には、回転
ドラム型装置、流動床型装置またはウルスター(Wurster)チューブ型装置のよう
な、いずれかの従来用いられている被覆形成装置、あるいは(名称を「被覆形成及
び乾燥装置」とする同時継続出願[弁理士事件整理番号第22280.2540号
]に開示されるような)振動流動床型装置がある。そのような従来のまたは市販の
被覆形成プロセス装置またはシステムの例には、カナダ国トロント(Tronto)のオ
ハラ・コーティング・システムズ社(O'Hara Coating Systems, Inc.),米国アイ
オワ州デモイン(Des Moines)のコーティング・マシナリー・システムズ社(Coati
ng Machinery Systems, Inc.),米国サウスカロライナ州スパルタンズバーグ(Sp
artansburg)のドリアム(Driam)社(ドリアマット・ドラムコーター(Driamat drum
coater)),英国のディー・ティー・ジー(DTG)社(ベルトコーター(Belt Coater)
),仏国のデュムーラン(Dumoulin)社(アイ・ディー・エイ・システム・ドラムコ
ーター(IDA system drum coater)),伊国のカール・アンド・モンタナリ(Carle
and Montanari)社(ビー・イー・100 バーティカルパン(BE 100 vertical pa
n)),仏国のウットラン社(Huttlin)社,英国のマネスティ・ドラム・コーターズ
(Manesty Drum Coaters)社,伊国のペレグリニ(Pellegrini)社,独国のスタイン
バーグ・ドラム・コーター(Steinburg Drum Coater)社(ベルトコーター)から入
手できるプロセス装置またはシステム、あるいは米国特許第4,168,674
号明細書、米国特許第5,495,418号明細書、米国特許第5,010,8
38号明細書、米国特許第4,554,887号明細書、米国特許第4,430
,003号明細書及び米国特許第4,245,580号明細書に説明されるプロ
セス装置またはシステム、米国特許第4,478,171号明細書、米国特許第
4,334,493号明細書、米国特許第4,779,449号明細書、米国特
許第4,725,446号明細書及び米国特許第4,639,383号明細書に
説明される部品を必要に応じて備えることができるプロセス装置またはシステム
がある。上記特許明細書の全ての開示は本明細書に参照として含まれる。
中に、大量の核/被覆された核を入れるために、通常の被覆形成槽を備える。例
えば、回転ドラム型装置は、被覆形成運転中に核を入れるための、チューリップ
・パン、無孔壁パンまたは多孔壁パンのような、従来の(パンとも呼ばれる)ドラ
ムを備える。温度センサ及び/または水分センサを、被覆形成運転中にセンサが
核の上方に位置するように、ドラムの内側に取り付けることができる。必要に応
じて、センサを、被覆形成溶液の計量供給経路を避けて、被覆形成溶液ディスペ
ンサーに(例えばスプレーアームに)取り付けることができる。回転ドラム型装置
は、被覆形成運転中に核を混転(撹拌)するためにドラムを回転させるための機構
も備える。どのような従来のまたは市販の回転機構もドラムを回転させるために
用いることができ、そのような回転機構の例には、ベルト伝動または歯車伝動モ
ーターがある。流動床型被覆形成装置では、核が多孔の底壁を有する槽内に入れ
られる。撹拌は、最も普通には、乾燥用ガスの速度が核を浮遊または流動化する
に十分であるように、強い乾燥用ガス流に多孔壁を通過させることにより達成さ
れる。撹拌は槽を振動させることによっても達成できる。この装置においては、
同様に、温度センサ及び/または水分センサを、被覆形成運転中にセンサが核の
上方に位置するように、装置の内部に取り付けることができる。必要に応じて、
センサを、被覆形成溶液の計量供給経路を避けて、被覆形成溶液ディスペンサー
に取り付けることができる。流動床型装置とともに用いるに適するどのような従
来のまたは市販の機構も用いることができ、そのような機構の例には、槽を振動
させるためのベルト伝動または歯車伝動モーター及び(槽内の核を浮遊/撹拌す
るに十分な空気乱流をつくるための)ファンがある。ウルスターチューブ型被覆
形成装置では、外囲チューブ内に収められた中心チューブを備える集成縦型チュ
ーブ内に核が入れられる。核はチューブの底を通して導かれる非常に強い乾燥用
ガス流を用いて撹拌され、核/被覆された核は強い乾燥用ガス(空気)流内で中心
縦型チューブを通って推進される。中心チューブの頂部に到達後、核は外囲チュ
ーブを通ってチューブの底に落下し、再び空気流内で中心チューブを通って上方
に推進され、よってチューブを通る大量の被覆された核の循環流をつくる。この
装置では、温度センサ及び/または水分センサを、核が中心チューブから外に出
るときにセンサが核の上方に位置するように、中心縦型チューブの頂部の上方に
取り付けることができる。そのような装置とともに用いるに適するどのような従
来のまたは市販の機構も用いることができ、そのような機構の例には、(チュー
ブを通して核を浮遊させ、推進するに十分な空気乱流をつくるための)ファンが
ある。
ディスペンサーが用いられる。そのようなディスペンサーの例には、被覆形成溶
液を計量供給するための1つまたはそれより多くのノズルか、または杓子を備え
ることができる、内部スプレーアームまたは外部スプレーアームのような、“ス
プレーアーム”がある。被覆形成溶液は、ディスペンサーを通して被覆形成溶液
を押し進めるための、圧搾空気及び/または、容積式ポンプ、定量ポンプ、遠心
ポンプ、蠕動ポンプ等のようなポンプを用いる、そのようなディスペンサーを通
して供給される。ガス入口ポートは槽内にまたは槽を通して乾燥用がスを導くた
めに被覆形成槽に取り付けられ、ガス出口ポートは乾燥用ガスが槽を出ることが
できるかまたは層から排出され得るようにするために槽に取り付けられる。その
ようなガス入口ポート及びガス出口ポートの例は、空気ダクト及び差込チューブ
である。被覆形成槽を通り、また必要に応じて、乾燥用ガス(空気)処理システム
を通る(捕集器、乾燥器及び加熱器を通る)乾燥用ガス流を強めるために、1つま
たはそれより多いファンまたは送風機を用いることができる。適するどのような
従来のファンまたは送風機も用いることができる。
、回転ドラムまたはその他の被覆形成槽を用いる場合に、乾燥用ガスを流量を少
なくして用いることができるという利点がある。上述したように、本発明に用い
られる乾燥用ガスは、被覆されるべき核の融点または劣化温度より十分高い温度
に調節することができ、しかも核の表面温度を、核の融点または劣化温度より低
い、あらかじめ決定された温度に、またはあらかじめ決定された温度範囲内に維
持することができる。本発明の方法、装置及びシステムにより、運転者が、乾燥
用ガスの温度及び乾燥用ガスの流量を、被覆された核の表面であらかじめ決定さ
れた温度が維持されるように、バランスよく調整し/操作することが可能になる
。例えば、乾燥用ガスの流量は一定のままで、被覆された核の表面温度があらか
じめ決定された温度に維持されるように、乾燥用ガスの温度を調節することがで
きる。必要に応じて、被覆された核の表面温度があらかじめ決定された温度に維
持されるように、乾燥用ガスの温度及び流量のいずれをも調節することができる
。
測定するために温度センサが用いられる。大量の被覆された核の表面の含水量を
測定するために水分センサが用いられる。本発明で用いられる温度センサ及び水
分センサは、非接触型センサであることが有利である。どのような非接触型温度
センサ及び水分センサも本発明の方法及び装置での使用に適するであろうことが
、当業者には理解されよう。そのような非接触型センサは、赤外線センサ及び近
赤外線センサであることが好ましい。センサは回転している大量の被覆された核
と接触していないから、被覆された核との度重なる衝突により生じるセンサへの
損傷は本質的に排除される。さらに、センサとの度重なる衝突による被覆された
核への損傷はおこらない。本発明に用いられる水分センサは近赤外線水分センサ
であり、温度センサは赤外線温度センサであることが最も好ましい。そのような
水分センサの例は、米国カリフォルニア州ミルピタス(Milpitas)のセンサ・コン
トロールズ社(Sensor Controls, Inc.)から入手可能である。そのような温度セ
ンサの例は、米国カリフォルニア州サンタクルス(Santa Cruz)のレイテック社(R
aytek, Corp.)及び米国ミズーリ州セントルイス(St. Louis)のワトロー(Watlow)
社から入手可能である。
乾燥することができる。そのような除湿/乾燥装置の製造業者には、米国ニュー
ジャージー州ニューブランズウィック(New Brunswick)のカタバール(Kathabar)
社(塩化リチウム溶液乾燥剤とともに使用するに適する装置の製造業者)、米国ニ
ューヨーク州シラキュース(Syracuse)のキャリア・コーポレーション(Carrier C
orp.)社(冷却により空気を除湿するための空調装置の製造業者)、米国マサチュ
ーセッツ州エイムズベリー(Amesbury)のカーゴケア・エンジニアリング・コーポ
レーション(Cargocaire Engineering Corp.)社(固体除湿剤とともに使用するに
適する装置の製造業者)がある。通常、被覆形成プロセスに用いられる乾燥用ガ
スの露点は約5℃である。本発明の方法に用いられる乾燥用ガスはさらに乾燥し
得る点で有利である。本発明の方法に用いられる乾燥用ガスの含水量は、露点で
約0℃(水3.7g/乾燥空気1kg)から約−15℃(水1.0g/乾燥空気1
kg)であることが好ましい。したがって、本発明の方法及び装置は、乾燥用ガ
スを乾燥するために乾燥剤を用いることが好ましいことになろう。本発明に有用
な乾燥剤の例には、固体乾燥剤及び塩化リチウム溶液があるが、これらには限定
されない。ここで塩化リチウム溶液は乾燥剤として用いられる。上で示したよう
に、そのような固体及び溶液乾燥剤、並びにそのような乾燥剤とともに使用する
に適する方法及び装置は、既知であり、市販されている。乾燥用ガスは、ガスに
、シリカのような固体乾燥剤が入っている装置を通過させることにより乾燥する
ことができる。あるいは、ガスに、約30〜45重量%の塩化リチウムを含有す
る塩化リチウムの噴霧を通過させることによりガスを乾燥することができる。乾
燥プロセスは、技術上知られているように、選ばれた塩化リチウム濃度に対して
いずれか適当な温度に維持された塩化リチウム溶液を用いて行うことができる(
例えば、30重量%LiCl水溶液は約−17℃から約103℃の温度で用いる
ことができ、一方45重量%LiCl水溶液は約18℃から約104℃の温度で
用いることができる)。ガスの乾燥は、約5℃から約50℃の温度に維持された
塩化リチウム溶液を用いて行われることが好ましい。
定された温度に、またはあらかじめ決定された温度範囲内に維持するに適する温
度に調節される。乾燥用ガスは、大量の被覆された核の表面をあらかじめ決定さ
れた温度に、またはあらかじめ決定された温度範囲内に維持するに適する温度を
有する乾燥用ガスを供給するために、必要に応じて、加熱または冷却することが
できる。乾燥用ガスの温度を調節する(高める)ために用いられる加熱素子は、温
度センサにより測定される、大量の被覆された核の表面温度の変化に応答できな
ければならない。本発明の方法により提供される高められた乾燥度により、大量
の被覆された核の表面温度に比較的迅速な変化を生じさせることができる。した
がって、本発明の装置、システム及び方法に用いられる加熱素子は、乾燥用ガス
をかなりの速度で加熱する(加熱温度を上げる)か、または冷却する(加熱温度を
下げるかまたは加熱をしない)ことにより、そのような変化に応答できなければ
ならない。ガス源に印加される熱量を迅速に変化させ得る、どのような従来の加
熱素子も用いることができる。そのような加熱素子の例には、電気加熱素子、小
量蒸気噴射加熱器、直火式ガス加熱器等がある。加熱素子は電気加熱素子である
ことが好ましい。必要に応じて、乾燥用ガス流に低温空気流を導入することによ
り、乾燥用ガスの温度を調節する(下げる)ことができる。
せるか、または乾燥用ガスを被覆形成槽を通して再循環させるように設計されて
いる。再循環システムにおいては、乾燥用ガスが、乾燥、加熱及び被覆形成槽通
過を繰返し受けるループ内にある。乾燥過程中に被覆形成槽から排出される乾燥
用ガスにより運ばれ得るか、あるいは乾燥または加熱運転中に乾燥用ガスに取り
込まれ得る、ガス中のどのような材料も除去するために、フィルタ、捕集器また
はスクラバーをループ内にさらに設置することができる。被覆形成槽から排出さ
れた乾燥用ガスは、被覆形成溶液原料の微粒子を含んでいることが多い。これら
の微粒子は爆発性または燃焼性であり得るから、乾燥用ガス流から、特に加熱の
前に除去する必要がある。例えば、砂糖溶液が大量の核の上にスプレーされる被
覆形成槽を通過した乾燥用ガスは非常に微細な砂糖粒子を含んでいることがあり
、これらの微細砂糖粒子はガスに微粒子フィルタまたは集塵器を通過させること
により除去できる。ガス乾燥プロセスにより、微細材料が乾燥されたガスに取り
込まれることもおこり得る。例えば、塩化リチウム溶液を用いて乾燥されたガス
には、乾燥されたガス中に存在し得るどのような微細な霧滴も除去するために、
加熱の前に、別の捕集器、特に霧滴分離装置を通過させることが好ましい。ある
いは、固体乾燥剤を用いて乾燥されたガスには、乾燥されたガス中に存在し得る
どのような固体微粒子も除去するために、別の集塵器を通過させることができる
。一般に、市販の塩化リチウム溶液乾燥装置は、乾燥装置の一部としてそのよう
な霧滴分離装置を含んでいる。適当な品質のガスを供給するため、ガスフローシ
ステムの選ばれた段階でガスを純化するにどれだけ多くのフィルタ、捕集器また
はスクラバーを本発明の被覆形成装置システムの乾燥用ガスフローシステムに組
み込むかは、当業者の技術能力の範囲内にあると見なされる。
を監視し、その出力をシステムの他のコンポーネントの動作とリンクさせる、コ
ンピュータ化制御ユニットを備えることが有利である。動作変数(例えば、被覆
形成溶液ディスペンサーの起動、被覆形成槽内に計量供給されるべき被覆形成溶
液量、並びに被覆形成槽内に計量供給されるべき被覆形成溶液のタイプ(1つよ
り多い被覆形成溶液が完成被覆製品を製造するために用いられ得る))のどれでも
全てを、コンピュータ化制御ユニットにより通常の態様で制御することができる
。本発明においては、コンピュータ化制御ユニットが、少なくとも、乾燥用ガス
が調節される(加熱/冷却される)温度、被覆形成槽内の大量の核の上への被覆形
成溶液の計量供給、被覆形成槽を通る乾燥用ガスのフローを制御し、被覆形成槽
内の核の表面の温度及び含水量を監視することが好ましい。コンピュータ化制御
ユニットは、被覆された核の表面温度の上昇または下降を、調節される(加熱ま
たは冷却される)乾燥用ガスの温度の下降または上昇とリンクさせることにより
、乾燥プロセスを制御することが有利である。上述したように、本発明に用いら
れる乾燥用ガスは、大量の水が蒸発している場合(例えば、断熱冷却効果が非常
に大きい場合)には特に、核の融点または劣化温度よりかなり高くすることがで
きる。しかし、乾燥が進むにつれて断熱冷却効果は小さくなり、熱い乾燥用ガス
流にさらされる被覆された核の表面温度が上昇しはじめることになり得る。した
がって、乾燥用ガスの温度は、被覆された核の表面温度の、あらかじめ決定され
た温度またはあらかじめ決定された温度範囲より高い温度への上昇を防止するよ
うに調節されなければならない。本発明のコンピュータ化制御ユニットは、表面
温度の頻繁な監視(温度センサ出力の頻繁な監視)及び温度センサ出力と乾燥用ガ
スの温度調節との相関を提供する。被覆された核の表面温度が、あらかじめ決定
された温度より高い温度に上昇しはじめるか、またはあらかじめ決定された温度
範囲の上限に近づくと、表面温度をあらかじめ決定された温度に、またはあらか
じめ決定された温度範囲内に下げるように、乾燥用ガスの温度が(加熱温度を下
げることにより、あるいは乾燥用ガス流に低温空気を導入することにより)調節
される。
水量)を必要に応じて被覆形成槽内の大量の核の上への被覆形成溶液の計量供給
及び/または被覆形成槽を通る乾燥用ガスのフローにリンクさせることにより、
被覆形成溶液計量供給プロセス及び被覆形成プロセスの終結も制御する。被覆さ
れた核の表面の含水量が、水約0重量%から約30重量%の間のあらかじめ決定
された乾燥度に達すると、乾燥サイクルが完了に至ったと決定される。この時点
で、別の乾燥サイクルを開始するために大量の被覆された核の上にある量の被覆
形成溶液をさらにスプレーすることができる。したがって、制御ユニットは被覆
形成溶液ディスペンサーを通してある量の被覆形成溶液を大量の被覆された核の
上に計量供給するためにポンプを起動することができる。必要に応じて、制御ユ
ニットは、被覆された核があらかじめ決定された乾燥度(表面含水量)に達した時
点、被覆形成溶液を計量供給する時点、または核を被覆するために被覆形成溶液
を分配する時点で、乾燥用ガスのファンまたは送風機を停止するか、あるいは乾
燥用ガスの経路を変えて被覆形成槽を迂回させることもできる。本発明の被覆形
成方法にそのようなコンピュータ化制御を与えるために従来の内部制御ループプ
ログラム(PID,神経回路網、ルックアップテーブル等)を利用することは、当
業者の技術能力の範囲内であると見なされる。本発明の被覆形成方法、装置及び
システムは従来は用いられていないセンサを利用するから、従来のまたは市販の
被覆形成装置システムのコンピュータプログラミング制御装置は、従来の被覆形
成運転において監視されていた空気温度センサではなく温度センサ及び水分セン
サの監視を提供するために再プログラムされる必要がある。異なるセンサの出力
を監視するため及びそのようなセンサの出力を被覆形成システムの別の、例えば
乾燥用ガス加熱器、ファン/送風機またはスプレーポンプの動作とリンクさせる
ために、そのような被覆形成運転制御装置を再プログラムすることは、当業者の
技術能力の範囲内であると見なされる。
れより多くの艶出しまたは仕上げ被覆を施すことができる。これらの仕上げ/艶
出し被覆には、着色被覆、腸溶性被覆、仕上げグレーズ、ワックス被覆等を含め
ることができる。腸溶性被覆(耐胃内消化性の仕上げ被覆)は、薬用化合物または
調合物を含有する被覆された錠剤の作成での使用に望ましいことがある。所望の
外観、保存性または生理学的安定性を有する、仕上げ被覆された製品を提供する
ために、どのような従来の仕上げ/艶出し被覆も用いることができる。例えば、
艶出しガム(例:アラビアゴム、デキストリン等)、ペーストワックス(例:カル
ナウバろう、蜜ろう、ゼイン等)、セラック(例:食品用セラック)、粉末ワック
ス、コーンシロップ、デキストロース重合体、バター、セルロース(エチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、フタル酸ヒドロキシプロピルメ
チルセルロース、酢酸フタル酸セルロース、ポリ酢酸フタル酸ビニル、アクリレ
ート重合体等)を含有する被覆形成溶液を、所望の性質を有する仕上げ被覆され
た核を作成するために用いることができる。一般に、そのような仕上げ/艶出し
被覆は1から5層の被覆材料だけからなる。これらの被覆は本明細書で上述した
本発明の方法を用いて施されることが有利であり、艶出しまたは仕上げ被覆形成
溶液は被覆された核に供給され、仕上げ被覆された、被覆済の核を、大量の仕上
げ被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約30重量%になるまで本明細
書で上述した方法にしたがって乾燥することにより、仕上げ被覆された製品が製
造される。
劣化するかまたは悪影響を受ける核からなる、熱に弱い核の被覆形成に特に有用
である。したがって、本発明の一実施形態は、大量の核の上に被覆形成溶液を計
量供給する工程及び被覆された核を乾燥用ガス流で乾燥する工程を含む、大量の
熱に弱い核の上に外殻被覆を形成するための改善された方法に関し;改善は、大
量の被覆された核の表面温度の測定及び被覆された核の表面温度を熱に弱い核の
融点または劣化温度より低い温度に維持するために被覆された核の表面の温度測
定に応答して乾燥用ガスの温度を調節することによる被覆された核の乾燥を含む
。本発明の別の実施形態は、大量の核の上に被覆形成溶液を計量供給する工程及
び被覆された核を乾燥用ガス流で乾燥する工程を含む、大量の熱に弱い核の上に
外殻被覆を形成するための改善された方法に関し;改善は、大量の被覆された核
の表面の含水量の測定及び被覆された核の表面の含水量が、水約0重量%から約
30重量%になるまでの被覆された核の乾燥を含む。本発明の好ましい実施形態
において、熱に弱い核は、チョコレート、チョコレート入り調合物、ココア入り
調合物及びナッツ風味またはナッツ入り調合物を含む。
形成を含む、糖菓を製造するための方法に関する。どのような食品用顔料も、被
覆形成溶液に取り入れることができ、本発明の方法に用いることができる。好ま
しい実施形態において、本発明は、大量の、チョコレートの核あるいはチョコレ
ート入りまたはピーナッツバター入り調合物の核の上に糖衣を形成するための方
法に関する。本発明にしたがえば、大量の、チョコレートの核あるいはチョコレ
ート入りまたはピーナッツバター入り調合物の核の上に外殻被覆を形成する方法
は、大量の核の上に被覆形成溶液を計量計量供給する工程及び被覆された核を空
気流で乾燥する工程を含み;改善は: (a) 大量の被覆された核の表面の温度の測定; (b) 大量の被覆された核の表面の水分の測定;及び (c) 被覆された核の表面温度を核の融点より低い温度に維持するために被覆
された核の表面温度測定に応答して乾燥用ガスの温度を調節し、被覆された核の
表面の含水量が、水約0重量%から約30重量%になるまで被覆された核を乾燥
することによる、被覆された核の乾燥; を含む。
コレート入りまたはピーナッツバター入り調合物の核の上に糖衣を形成するため
の方法は: (a) 大量の、チョコレートの核あるいはチョコレート入りまたはピーナッツ
バター入り調合物の核を被覆形成槽内に入れる工程; (b) 大量の核を撹拌する工程; (c) 核を被覆するために、砂糖シロップまたは着色砂糖シロップを大量の核
にスプレーする工程; (d) 大量の被覆された核の表面温度を温度センサを用いて測定する工程; (e) 乾燥用ガス流に被覆形成槽を通過させ、被覆された核の表面温度を約2
0℃から約26℃の温度に維持するために工程(d)の温度測定に応答して乾燥用
ガスの温度を調節することにより、被覆された核を乾燥させる工程;及び (f)糖衣製品を製造するために、工程(c)から工程(e)を1回から50回繰り
返す工程; を含む。
工程及び、被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約30重量%になるま
で、被覆された核を乾燥させる工程をさらに含むことが有利である。
入り調合物の核の上に外殻被覆を形成するために本方法で用いられる被覆形成槽
は、回転ドラム型被覆形成装置、流動床型装置または振動床型装置であることが
好ましい。被覆形成槽が回転ドラム型装置であり、大量の核がドラムを回転させ
ることにより撹拌される(混転される)ことが、さらに好ましい。本発明の方法に
おいては、ドラムを通る空気流(乾燥用ガス流)の流量を、回転ドラム型装置で通
常用いられる流量に比較して、大きく低減することができる。例えば、本発明で
は、約1,800立方フィート/分(約50m3/分)から約4,000立方フィ
ート/分(約113m3/分)の流量を、重量が約2,500キログラム(kg)の
核集団に被覆を形成するために用いることができる。乾燥用ガスは空気であり、
重量が約2,500kgの核集団を乾燥するための空気流量は約2,500立方
フィート/分(約70m3/分)から約3,500立方フィート/分(約99m3
/分)であって、空気を約20℃から約60℃の間の温度に調節することができ
ることが好ましい。被覆されたチョコレート核またはピーナッツバター核の表面
温度は、約20℃から約26℃の範囲に維持され、より好ましくは、表面温度は
約21℃から約25℃の範囲であり、最も好ましくは、表面温度は約22℃から
約24℃である。例えば、砂糖シロップを核の上にスプレーした後の約1分間は
空気の温度を約50℃とすることができ、被覆された核の含水量が、水約0重量
%から約30重量%であるときの空気の温度は約26℃である。
ッツバター入り調合物製品に、着色することも無着色とすることもできる、1つ
またはそれより多くの艶出しまたは仕上げ被覆を施すことができる。多くの別々
の砂糖層からなり得る糖衣とは異なり、そのような艶出しまたは仕上げ被覆は1
から5層だけからなる。糖菓は一般に、艶出しガム、食用ワックスまたはバター
を含有する艶出しまたは仕上げ被覆をもつ。これらの追加被覆は、上述したよう
にして製造された、糖衣されたチョコレートの核あるいは糖衣されたチョコレー
ト入りまたは糖衣されたピーナッツバター入り調合物の核に: (a) 大量の糖衣された核を被覆形成槽内に入れる工程; (b) 大量の被覆された核を撹拌する工程; (c) 大量の核の上に艶出しガム、食用ワックスまたはバターを含有する被覆
形成溶液を計量供給する工程; (d) 大量の被覆された核の表面温度を温度センサを用いて測定する工程; (e) 乾燥用ガス流に被覆形成槽を通過させ、被覆された核の表面温度を約2
0℃から約26℃の温度に維持するために工程(d)の温度測定に応答して乾燥用
ガス流の温度を調節することにより、被覆された核を乾燥する工程;及び (f) 完成糖衣チョコレートまたはピーナッツバター製品を製造するために、
工程(c)から工程(e)を1回から5回繰り返す工程; を含む方法により、施すことができる。
、本発明の精神及び範囲を逸脱することなく様々な変更及び改変がなされ得るこ
とを認めるであろう。したがって、本発明が上述の詳細な説明により制限されず
、特許請求項及びそれらの等価物により定められるとすることは当然である。
Claims (20)
- 【請求項1】 大量の核の上に外殻被覆を形成する方法であって、前記核の
上に被覆形成溶液を計量供給する工程及び乾燥用ガス流で前記被覆された核を乾
燥させる工程を含む方法において、 (a) 大量の前記被覆された核の表面温度を測定し、前記被覆された核の表面
温度をあらかじめ決定された温度に維持するために前記被覆された核の前記表面
温度測定に応答して前記乾燥用ガスの温度を調節することにより、前記被覆され
た核を乾燥させる工程;及び (b) 大量の前記被覆された核の表面の含水量を測定し、前記被覆された核の
表面の含水量が、水約0重量%から約30重量%になるまで、前記被覆された核
を乾燥させる工程; の内の少なくとも1つを含むことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 大量の核の上に外殻被覆を形成する方法において: (a) 被覆形成槽内に大量の核を入れる工程; (b) 前記大量の核を撹拌する工程; (c) 前記大量の核の上に被覆形成溶液を計量供給する工程; (d) 大量の前記被覆された核の表面温度を温度センサを用いて測定する工程
; (e) 乾燥用ガス流に前記被覆形成槽を通過させ、前記被覆された核の表面温
度をあらかじめ決定された温度に維持するために前記工程(d)の前記温度測定に
応答して前記乾燥用ガスの温度を調節することにより、前記被覆された核を乾燥
させる工程;及び (f) 完成製品を製造するために前記工程(c)から前記工程(e)までをあらか
じめ決定された回数繰り返す工程; を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項3】 大量の前記被覆された核の表面の含水量を水分センサを用い
て測定し、前記被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約30重量%にな
るまで、前記被覆された核を乾燥させる工程をさらに含むことを特徴とする請求
項2記載の方法。 - 【請求項4】 前記被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約10重
量%になるまで、前記被覆された核を乾燥させる工程を含むことを特徴とする請
求項2記載の方法。 - 【請求項5】 前記乾燥用ガスの温度が、前記被覆された核の表面温度を前
記核の融点より低い温度に維持するに十分な温度であることを特徴とする請求項
2記載の方法。 - 【請求項6】 前記核が、チョコレート、チョコレート入り調合物、ココア
入り調合物、ナッツ風味調合物またはナッツ入り調合物を含むことを特徴とする
請求項5記載の方法。 - 【請求項7】 大量の核の上に外殻被覆を形成するための方法において: (a) 被覆形成槽内に大量の核を入れる工程; (b) 前記大量の核を撹拌する工程; (c) 大量の前記核の表面温度を温度センサを用いて測定する工程; (d) 乾燥用ガス流に前記被覆形成槽を通過させながら、前記核があらかじめ
決定された重量を獲得するまで前記大量の核の上に被覆形成溶液を計量供給する
工程であって、前記乾燥用ガスの温度が前記被覆された核の表面温度をあらかじ
め決定された温度に維持するために前記工程(c)の前記温度測定に応答して調節
されるものである工程;及び (e) 完成製品を製造するために前記被覆された核を乾燥させる工程; を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項8】 大量の前記被覆された核の表面の含水量を水分センサを用い
て測定し、前記被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約30重量%にな
るまで、前記被覆された核を乾燥させる工程をさらに含むことを特徴とする請求
項7記載の方法。 - 【請求項9】 前記被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約10重
量%になるまで、前記被覆された核を乾燥させる工程を含むことを特徴とする請
求項7記載の方法。 - 【請求項10】 被覆形成槽、被覆形成溶液ディスペンサー、ガス入口ポー
ト及びガス出口ポートを備える、大量の核に被覆を形成するための被覆形成装置
において、 (a) 大量の前記被覆された核の表面温度を測定するための温度センサ;及び (b) 大量の前記被覆された核の表面の含水量を測定するための水分センサ;
の内の少なくとも1つを備えることを特徴とする被覆形成装置。 - 【請求項11】 大量の核に被覆を形成するための被覆形成装置システムに
おいて、被覆形成槽、被覆形成溶液ディスペンサー、ガス入口ポート、ガス出口
ポート、ファン、ガス乾燥素子、ガス加熱素子、並びに前記大量の核の表面温度
を測定するための温度センサ及び前記大量の核の表面の含水量を測定するための
水分センサの内の少なくとも1つを備えることを特徴とするシステム。 - 【請求項12】 前記ガス乾燥素子が乾燥剤を含むことを特徴とする請求項
11記載のシステム。 - 【請求項13】 前記乾燥剤が塩化リチウム溶液または固体乾燥剤であるこ
とを特徴とする請求項12記載のシステム。 - 【請求項14】 前記溶液が約30〜45重量%の塩化リチウムを含む塩化
リチウム溶液であることを特徴とする請求項13記載のシステム。 - 【請求項15】 前記ガス加熱素子が電気加熱素子を含むことを特徴とする
請求項11記載のシステム。 - 【請求項16】 前記水分センサが近赤外線水分センサであることを特徴と
する請求項11記載のシステム。 - 【請求項17】 前記温度センサが赤外線温度センサであることを特徴とす
る請求項11記載のシステム。 - 【請求項18】 大量の、チョコレートを含む核あるいはチョコレート入り
またはピーナッツバター入り調合物を含む核の上に、糖衣を形成する方法におい
て: (a) 大量の、チョコレートの核あるいはチョコレート入りまたはピーナッツ
バター入り調合物の核を被覆形成槽内に入れる工程; (b) 前記大量の核を撹拌する工程; (c) 前記核を被覆するために砂糖シロップまたは着色砂糖シロップを前記大
量の核にスプレーする工程; (d) 大量の前記被覆された核の表面温度を温度センサを用いて測定する工程
; (e) 乾燥用ガス流に前記被覆形成槽を通過させ、前記被覆された核の表面温
度を約20℃から約26℃の温度に維持するために前記工程(d)の前記温度測定
に応答して前記乾燥用ガスの温度を調節することにより、前記被覆された核を乾
燥させる工程;及び (f) 糖衣製品を製造するために前記工程(c)から前記工程(e)を1から50
回繰り返す工程; を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項19】 大量の前記被覆された核の表面の含水量を水分センサを用
いて測定する工程及び、前記被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約3
0重量%になるまで前記被覆された核を乾燥させる工程をさらに含むことを特徴
とする請求項18記載の方法。 - 【請求項20】 前記被覆された核の表面水分が、水約0重量%から約10
重量%になるまで前記被覆された核を乾燥させる工程を含むことを特徴とする請
求項18記載の方法。
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