JP2003524631A - 有害廃棄物から低等級アセトニトリルおよび他の成分を精製する方法および装置 - Google Patents
有害廃棄物から低等級アセトニトリルおよび他の成分を精製する方法および装置Info
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Abstract
Description
を生成することに関する。
リル、工業等級アセトニトリル、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等級
アセトニトリル、DNA合成等級アセトニトリルおよび超高純度アセトニトリル
が使用されている。まだ利用されていない低等級アセトニトリルの供給源が3つ
ある。
よび最高50重量パーセントの水を含み、アクリロニトリル製造プロセス中の副
反応から得られる。この未精製アセトニトリルは次いで、工業品質規格に合うよ
うに精製されて使用される。現在のところ、未精製アセトニトリルが、より高い
等級のアセトニトリルを生産する唯一の源である。
トリルおよび約500ppmの水を含み、一般に、ガス・クロマトグラフィー応
用および農薬製造プロセスで使用される。
ニトリルを含み、波長190ナノメートルで1オングストローム未満のUV吸収
スペクトル測定値を有する高純度アセトニトリルであり、100ppm超の水を
含むことができる。HPLC等級アセトニトリルは一般に、合成分子およびDN
Aプローブを精製し測定する目的に使用される。
トニトリルの純度を有し、約50ppm以下の水を含み、波長190ナノメート
ルで1オングストローム未満の、波長260ナノメートルで0オングストローム
の紫外吸収スペクトル測定値を有する。DNA合成等級アセトニトリルは一般に
、DNA合成プロセスで洗浄剤、反応溶媒および希釈剤として使用される。DN
A合成等級アセトニトリルは、DNA合成化学物質の製造でも使用される。
トリルの純度を有し、約20ppm以下の水を含み、波長190ナノメートルで
1オングストローム未満の紫外吸収スペクトル測定値を有する。超高純度アセト
ニトリルは一般に製薬プロセスで使用される。
セス廃棄物および製薬プロセス廃棄物に由来する。これらの廃棄物は現在、燃料
混合(再利用)または焼却によって処分されている。低等級アセトニトリルは主
として、30から85重量パーセント・アセトニトリルであり、約40パーセン
ト未満の水を含む。
セトニトリル廃棄物、ハロゲン化ジクロロメタン廃棄物および水性廃棄物を生成
する。非ハロゲン化アセトニトリル廃棄物は一般に、アセトニトリル(ACN)
、ジクロロメタン(DCM)、テトラヒドロフラン(THF)、ピリジン、n−
ブタノール、酢酸、酢酸イソブチル、無水酢酸、水、および他の微量成分を含む
いくつかの成分から成る。ただしこれらに限定されるわけではない。微量成分に
は塩および他の高分子量断片が含まれる。
他のさまざまな溶媒を精製する方法は既にいくつか開発されている。しかし、低
等級アセトニトリル供給材料からアセトニトリルを精製するための効率的なプロ
セスはまだ開発されていない。
共沸蒸留または抽出蒸留に依拠している。使用される方法は一般に、水を含む不
純物成分の種類および量、必要な最終生成物純度ならびに方法の経済性によって
決まる。抽出および共沸技法は、平衡接触の間にアセトニトリルをその不純物か
ら共沸させ、または抽出し、さらに共沸混合物を処置する必要を排除する分離剤
を必要とする。次いでこの添加成分からアセトニトリルを分離する。例えば、米
国特許第2807573号には、水を分離剤として用いた抽出蒸留を使用してア
セトニトリルを含む不純混合物からアクリロニトリルを精製することが開示され
ている。これらのプロセスは、比較的大型で高価な機器を必要とし、比較的高い
エネルギー所要量を有する。少なくとも1つまたは複数の追加の溶媒の処理、損
失および廃棄処分において、これらは環境への追加の影響も招く。
精製する従来の方法は、有機不純物を除去するためのさまざまな吸収剤(例えば
活性アルミナ、活性ボーキサイト、活性炭、特殊なアルミノケイ酸塩、モレキュ
ラー・シーブ、処理粘土、フーラー土、ケイ藻土)および水を除去するためのさ
まざまな吸収剤(例えば活性アルミナ、塩化カルシウム乾燥剤、シリカゲル、ア
ルミノケイ酸塩、モレキュラー・シーブ、ならびにこれらの酸化物および炭酸塩
を含む他の無機物)による処理を含む。例えば、米国特許第2107904号に
は、アルミナおよび他の吸収剤を使用して液化炭化水素混合物からニトリルを吸
収するための吸収剤が開示されている。米国特許第2560931号には、活性
アルミナを用いた処理によるアセトニトリルの脱水が開示されている。
他の方法には、空気、酸素、オゾンなどの酸化剤を触媒とともに、または触媒を
使用せずに使用し、続いて蒸留および/または吸収を実施して、酸化された不純
物を除去する方法が含まれる。米国特許第5426208号には、オゾンを使用
してアセトニトリルの有害不純物を酸化させ、精製されたアセトニトリルを生成
する方法が開示されている。この方法の1つの問題は、実質上99.95パーセ
ント・アセトニトリルである供給材料を必要とすることである。
結晶プロセスの使用では、初期供給材料の組成が99.9+パーセント・アセト
ニトリルである必要がある。さらに、分別結晶プロセスは複雑であり、初期投資
、エネルギー所要量および保守の面で不経済である。
方法および装置を開示する。本発明の一実施態様によれば、アセトニトリル供給
材料を精製するためのプロセスは、アセトニトリル、アセトニトリルよりも低い
沸騰温度を有する第1の不純物セットおよびアセトニトリルよりも高い沸騰温度
を有する第2の不純物セットを含む低等級アセトニトリル供給材料を精製するこ
とを含み、a)第1の蒸留塔に供給材料を導入し、アセトニトリルおよび第1の
不純物セットを第2の不純物セットから分離する段階であって、アセトニトリル
および第1の不純物セットが前記第1の蒸留塔から蒸気として取り出され、第2
の不純物セットが第1の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と、b)蒸気を
凝縮して第1の留出物を生成する段階と、c)第1の留出物を第2の蒸留塔に導
入し、第1の不純物セットをアセトニトリルから分離する段階であって、アセト
ニトリルが第2の蒸留塔のボトムスとして生成される段階とを含む。
ドロフランを含む。アセトニトリルは上記の方法で精製する。さらにジクロロメ
タンを、第1の蒸留塔からの蒸気を第1の熱交換器に通し、そこで温度を、アセ
トニトリルおよびテトラヒドロフランの露点よりも下げることによって精製する
。アセトニトリルおよびテトラヒドロフランは実質的に凝縮され、一方、ジクロ
ロメタン蒸気は第2の熱交換器に導かれて、そこで凝縮される。
れたDNA合成装置が提供される。一実施態様ではDNA合成廃棄物が、アセト
ニトリル廃棄物、ジクロロメタン廃棄物および脱トリリル廃棄物に分離される。
アセトニトリル廃棄物は、先に説明した第1および第2の蒸留塔を含む精製装置
に結合される。
れた高速液体クロマトグラフィー機器が提供される。精製装置は、先に説明した
第1および第2の蒸留塔を含む。
して、工業等級、HPLC等級、DNA合成等級および超高純度等級のアセトニ
トリルを生成する。
となろう。
示する。
び装置を開示する。以下の説明では、本発明の完全な理解を提供するために数多
くの具体的な詳細を記載する。しかし、これらの詳細を使用しなくとも本発明を
実施できることは当業者には明白である。また、本発明をいたずらに不明瞭にす
ることを避けるため、周知のプロセス、装置、材料などは詳細に説明しなかった
。
ム100を示す。本発明によれば、アセトニトリル供給材料102は第1の蒸留
塔104の下部に導かれる。供給材料102は例えば、DNA合成廃棄物由来の
低等級アセトニトリルである。この低等級アセトニトリルは、HPLC廃棄物、
製薬廃棄物などの他の供給源から供給することもできるがそれだけには限定され
ない。先に論じたとおり、DNA合成廃棄物は一般に、プロセスごとに異なる多
くの成分を含む。本発明の精製プロセスを説明する目的上、アセトニトリル、水
、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ピリジン、塩および他の高分子量断片
を含むアセトニトリル供給材料を考える。アセトニトリル供給材料はこれよりも
多い、またはこれよりも少ない成分を含むことができることを理解されたい。い
ずれにしても、アセトニトリル供給材料の含水率は、アセトニトリル/水共沸混
合物が要求する含水率約16重量パーセントよりも低くなければならない。供給
材料102は、0から5重量パーセントの水を含むことが好ましく、0から2重
量パーセントの水を含むことがより好ましい。
またはシステムを流れる気−液ストリームを平衡に近づけるために多段式接触段
とすることができる同種の機械的構成を含む。蒸留塔104内で使用する段数お
よび内部構造物の種類は、供給材料の組成、供給材料入口の位置、還流比、所望
の塔効率などによって変動する。そのため、塔の縦断形状は応用ごとに異なる。
塔104の底に位置する熱交換リボイラ106が塔に熱を供給する。
ング塔として使用される。図2に、塔104を通過するときのアセトニトリル供
給材料のボトムスおよび留出物組成物の沸点を示す。図2の温度目盛上に、供給
材料102のさまざまな成分および成分共沸混合物の標準沸騰温度が示されてい
る。周知の2成分共沸混合物および純粋成分の標準沸騰温度に基づいて、実質上
全てのアセトニトリル、アセトニトリル/水共沸混合物、テトラヒドロフラン、
テトラヒドロフラン/水共沸混合物、ジクロロメタン、ジクロロメタン/水共沸
混合物を精留して、塔104の出口蒸気108を生成する。塔104を出ると蒸
気108は、凝縮器112の内部で凝縮されて留出物114を生成する。還流1
16は塔104に戻される。
4の中でストリッピングされ、ボトムスからストリーム110中に捨てられる。
塔104中でのストリッピングの目的は、アセトニトリルとピリジン/水共沸混
合物の沸点の差を利用して液体のクリーンな分離に影響を及ぼすことである。こ
の分離を達成するのに必要なストリッピングおよび精留段の数は供給物の組成に
よって決まるので、供給材料102の塔104への入口の位置は、供給材料の組
成に応じて変化する。一実施形態では、塔104内に位置する実質的に大多数の
段が供給材料の精留に使用され、実質的により少ない数の段が供給材料のストリ
ッピングに使用されるように、供給材料入口102が塔104の十分に低い位置
に導かれる。2成分共沸混合物による分離に、3成分および4成分共沸混合物が
干渉するようには示さなかったが、3成分およびおそらく4成分相互作用が存在
する可能性は高い。アセトニトリルの収率(すなわちプロセス効率)は、還流比
、塔104内の段数、および所望の留出物114プロファイルのバランスによっ
て決まる。
貯留する受器115へ流れる。塔120の底に位置する熱交換リボイラ122が
塔に熱を供給する。塔120の内部構成は塔104のそれと同様である。供給物
118は、塔内の大多数の段がストリッピングに使用されるように塔120に導
入される。図2に示すように、アセトニトリル/水共沸混合物、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロフラン/水共沸混合物、ジクロロメタンおよびジクロロメタ
ン/水共沸混合物が精留されて、留出物124が生み出され、一方、アセトニト
リルはストリッピングされてボトムス126が生成される。供給物入口118の
位置は、塔の縦断形状、供給物の組成、塔の操作パラメータなどによって変化す
る。塔120からの蒸気124は凝縮器128で凝縮されて、凝縮物130を形
成する。凝縮物130の一部は還流132として戻され、一方、残りの部分には
留出物134が含まれる。
ることによって、アセトニトリル99.9+重量パーセントおよび水500pp
m未満を含み、波長190ナノメートルで3.8オングストロームの最小UV吸
収を有するボトムス126が達成され、工業用等級アセトニトリルが生成される
。塔120を出た後、ボトムス126は、脱水装置150、微量不純物吸収装置
152およびフィルタ154を通して導くことができ、そこで含水率、UV吸収
および不溶性微粒子が低減されて、HPLC、DNA合成または超高純度等級の
アセトニトリルが生成される。脱水装置150は、モレキュラー・シーブ、乾燥
剤または当技術分野で周知の他の水分除去材料を含むさまざまな任意の水分除去
装置を含むことができる。微量不純物吸収装置152は、活性炭、アルミナ、シ
リカゲル、粘土または当技術分野で周知の他の微量不純物吸収装置を含むことが
できる。フィルタ154は、精製されたアセトニトリル・ストリームから微粒子
を除去する。フィルタ154は一般に、0.1〜0.5ミクロン・メンブラン・
フィルタを含み、好ましくは0.2ミクロン・メンブラン・フィルタを含む。一
実施形態では、ボトムス126をさらに処理して、アセトニトリル99.9+重
量パーセント、水200ppm未満を含み、波長190ナノメートルで1オング
ストローム未満のUV吸収を有するHPLC等級アセトニトリル・ストリーム1
60を生成する。他の実施形態では、ボトムス126を処理して、アセトニトリ
ル99.9+重量パーセント、水50ppm未満を含み、波長190ナノメート
ルで1オングストローム未満のUV吸収を有するDNA合成等級アセトニトリル
・ストリーム160を生成する。追加の実施形態では、ボトムス126を処理し
て、アセトニトリル99.99+重量パーセント、水20ppm未満を含み、波
長190ナノメートルで1オングストローム未満のUV吸収を有する超高純度ア
セトニトリル・ストリーム160を生成する。本発明はさらに、いたずらに要件
を超えることなく装置の設計および/または操作を修正し、これによって生成物
の収率を最適化することによって、特定のアセトニトリル仕様(例えば含水率4
ppm未満、波長190ナノメートルで0.3オングストローム未満のUV吸収
)を達成する柔軟性を有する。下表1に、本発明の蒸留プロセスに基づく供給物
、留出物およびボトムス・ストリームの組成および工業スケールの速度を示す。
表2には蒸留塔の構成および還流比を示した。表1および2の例では、アセトニ
トリルの収率が約85重量パーセントとなる。
えば、表3に示すように、供給材料中のアセトニトリル濃度が高いほど、その収
率は高くなる。
セトニトリル供給材料の実際の蒸留、脱水および微量不純物吸収の結果を示す。
供給材料は、約77.8重量パーセントのアセトニトリルおよび約0.17重量
パーセントの水を含んでいた。表5に、蒸留塔の構成、およびエネルギー効率の
尺度である還流比を示す。両蒸留塔は大気圧に維持し、塔平衡を促進するため両
塔に供給物予熱器を設置した。表から分かるように、蒸留後の生成物126の品
質は、アセトニトリル純度99.99+重量パーセントであった。紫外吸収スペ
クトル測定値は、波長190ナノメートルで3.8から4.2オングストローム
であった。含水率は平均350ppmであった。生成物収率は約80パーセント
であった。
R.Graceモレキュラー・シーブA Grade 564−C型を充填した
。色除去塔には、Carbon Link BKK 12×40メッシュ粒状炭
素を充填した。それぞれの充填床で処理を受ける生成物の滞留時間は、3から1
2psigで1.5から25分であった。このプロセスによって、水20ppm
未満を有し、波長190ナノメートルで0.45から0.65のUV吸収を有す
る処理済み生成物(超高純度等級アセトニトリル)が得られた。処理を受ける生
成物の充填床滞留時間を短縮することによってUV吸収はさらに低減させること
ができるが、1.0未満の目標仕様は、実質100パーセント収率で達成された
。
ープ・アセトニトリル・リサイクリング・システム300を示す。図3の実施形
態では、DNA合成装置200が3つの流出廃棄物ストリーム、すなわち(1)
非ハロゲン化アセトニトリル廃棄物202、(2)ハロゲン化ジクロロメタン廃
棄物204および(3)脱トリチル廃棄物206を有する。非ハロゲン化アセト
ニトリル廃棄物ストリーム202は、蒸留塔104の入口に直接に供給され、先
に説明したプロセスに従って精製される。精製後のアセトニトリル・ストリーム
160は、DNA合成装置200のアセトニトリル流入液201中へ戻される。
精製後のアセトニトリル・ストリームがDNA合成等級のアセトニトリルである
ことが好ましい。
棄物が蒸留塔104の入口に直接に供給され、先に説明したプロセスに従って精
製される。精製後のアセトニトリル・ストリーム160は、高速液体クロマトグ
ラフィー機器のアセトニトリル流入液中へ戻される。精製後のアセトニトリル・
ストリームがHPLC等級のアセトニトリルであることが好ましい。
04の入口に直接に供給され、先に説明したプロセスに従って精製される。精製
後のアセトニトリル・ストリーム160は、製薬プロセスのアセトニトリル流入
液中へ戻される。精製されたアセトニトリル・ストリームが超高純度等級のアセ
トニトリルであることが好ましい。
ム400が示されている。いくつかの場合には、蒸留プロセスの前に供給材料を
脱水したほうがよいことがある。図4に示すように、蒸留塔104の入口のとこ
ろに脱水装置101を設置する。脱水装置101の代わりに、または脱水装置1
01に加えて、蒸留塔120の供給物入口のところに脱水装置を設置してもよい
。こうすると、蒸留供給物ストリームの含水率を制御して、蒸留プロセスを最適
化することができる。脱水装置101を使用することによって、未精製アセトニ
トリルを本発明の方法に従って精製することができる。脱水装置101は、未精
製アセトニトリルの含水率を低減するように働き、約30から85重量パーセン
トのアセトニトリル、0から約16重量パーセントの水を含む供給材料を生成す
る。0から5重量パーセントの水を含む供給材料が生成されるように含水率を低
減することが好ましい。
を酸性化することができる。供給材料を酸性化することによって、ピリジンなど
のアルカリ性の成分がイオン化され、これらが、蒸留塔104の留出物として持
ち出されることがなくなる。
ク流れ図である。図5の実施形態では、蒸留塔120からの留出物124を部分
凝縮器140に通し、そこで、蒸気温度を、アセトニトリルおよびテトラヒドロ
フランの露点よりも低く、かつジクロロメタンの露点よりも高く維持する。アセ
トニトリル/テトラヒドロフラン凝縮物141の一部分142を還流として塔1
20に導き、残りの部分144は廃棄するか、またはさらに処理する。凝縮器1
40からのジクロロメタン蒸気146は、第2の凝縮器148に導かれ、そこで
凝縮される。凝縮器148の凝縮流出液149は、実質的に精製されたジクロロ
メタンであり、これを、DNA合成装置または他のジクロロメタン源に再循環さ
せることができる。
、添付の請求項に記載した本発明のより広い趣旨および範囲から逸脱することな
くこれらの例示的な特定の実施形態にさまざまな修正および変更を加えることが
できることは明白である。したがって本明細書および図面は例示的なものと考え
るべきであって、限定的なものとみなしてはならない。
ある。
準沸点を示す図である。
システムのブロック流れ図である。
。
ック流れ図である。
Claims (59)
- 【請求項1】 アセトニトリル、アセトニトリルよりも低い沸騰温度を有す
る第1の不純物セットおよびアセトニトリルよりも高い沸騰温度を有する第2の
不純物セットを含む低等級アセトニトリル供給材料を精製する方法であって、 a)第1の蒸留塔に供給材料を導入し、アセトニトリルおよび第1の不純物セ
ットを第2の不純物セットから分離する段階であって、アセトニトリルおよび第
1の不純物セットが前記第1の蒸留塔から蒸気として取り出され、第2の不純物
セットが第1の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と、 b)蒸気を凝縮して第1の留出物を生成する段階と、 c)第1の留出物を第2の蒸留塔に導入し、第1の不純物セットをアセトニト
リルから分離する段階であって、アセトニトリルが第2の蒸留塔のボトムスとし
て生成される段階と を含む方法。 - 【請求項2】 第1の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、ア
セトニトリルおよび第1の不純物セットを精留するのに使用される請求項1に記
載の方法。 - 【請求項3】 第2の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、段
階b)でアセトニトリルをストリッピングするのに使用される請求項1に記載の
方法。 - 【請求項4】 第2の蒸留塔のボトムスが少なくとも工業等級のアセトニト
リルである請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 第2の蒸留塔のボトムスをさらに処理し、アセトニトリルの
含水率を200ppm未満に、波長190ナノメートルでの紫外吸収スペクトル
測定値を1オングストローム未満に低減して、HPLC等級のアセトニトリルを
生成する請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 第2の蒸留塔のボトムスをさらに処理し、含水率を50pp
m未満に、波長190ナノメートルでのアセトニトリルの紫外吸収スペクトル測
定値を1オングストローム未満に、波長260ナノメートルでの紫外吸収スペク
トル測定値を0に低減して、DNA合成等級のアセトニトリルを生成する請求項
4に記載の方法。 - 【請求項7】 第2の蒸留塔のボトムスをさらに処理し、蒸留ボトムスの含
水率および波長190ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値をそれぞれ、
20ppm未満および1オングストローム未満に低減することによって、超高純
度等級のアセトニトリルを生成する請求項4に記載の方法。 - 【請求項8】 第1の不純物セットが、テトラヒドロフラン、テトラヒドロ
フラン/水共沸混合物、ジクロロメタン、ジクロロメタン/水共沸混合物および
アセトニトリル/水共沸混合物を含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項9】 第1の蒸留塔に導かれる前にアセトニトリル供給材料が少な
くとも部分的に脱水される請求項1に記載の方法。 - 【請求項10】 第2の蒸留塔に導かれる前に、第1の蒸留塔からの第1の
留出物が少なくとも部分的に脱水される請求項1に記載の方法。 - 【請求項11】 第2の蒸留塔のボトムスをモレキュラー・シーブに通すこ
とによってその含水率を低減させる請求項5、6または7に記載の方法。 - 【請求項12】 第2の蒸留塔のボトムスを活性炭床に通すことによって紫
外吸収を低減させる請求項5、6または7に記載の方法。 - 【請求項13】 アセトニトリル供給材料がDNA合成廃棄物を含む請求項
1に記載の方法。 - 【請求項14】 アセトニトリル供給材料が高速液体クロマトグラフィー廃
棄物を含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項15】 アセトニトリル供給材料が製薬廃棄物を含む請求項1に記
載の方法。 - 【請求項16】 前記DNA合成等級アセトニトリルの少なくとも一部がD
NA合成装置の流入液中に導かれる請求項6に記載の方法。 - 【請求項17】 前記HPLC等級アセトニトリルの少なくとも一部が高速
液体クロマトグラフィー機器の流入液中に導かれる請求項5に記載の方法。 - 【請求項18】 供給材料が、約16重量パーセント未満の水を含む請求項
1に記載の方法。 - 【請求項19】 供給材料が、0から5重量パーセントの水を含む請求項1
に記載の方法。 - 【請求項20】 供給材料が、0から2重量パーセントの水を含む請求項1
に記載の方法。 - 【請求項21】 第1の蒸留塔からの蒸気が、テトラヒドロフラン、ジクロ
ロメタンおよびアセトニトリルを含み、少なくとも一部の蒸気が第1の凝縮器に
導かれ、そこで蒸気温が、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの露点より
も下げられ、これによって、少なくとも一部のジクロロメタン蒸気が第2の凝縮
器に導かれ、そこで蒸気温が、ジクロロメタンの露点よりも下げられて、ジクロ
ロメタン凝縮物が生成される請求項1に記載の方法。 - 【請求項22】 ジクロロメタン凝縮物をDNA合成装置の流入液中に導く
段階をさらに含む請求項21に記載の方法。 - 【請求項23】 a)低等級アセトニトリル供給材料を受け取る段階と、 b)低等級アセトニトリル供給材料を精製して、工業等級アセトニトリル、H
PLC等級アセトニトリル、DNA合成等級アセトニトリルおよび超高純度等級
アセトニトリルから成るグループから選択されたより高い等級のアセトニトリル
を生成する段階と を含む方法。 - 【請求項24】 低等級アセトニトリル供給材料が、アセトニトリル、アセ
トニトリルよりも低い沸騰温度を有する第1の不純物セットおよびアセトニトリ
ルよりも高い沸騰温度を有する第2の不純物セットを含み、低等級アセトニトリ
ルを精製する前記プロセスが、 a)低等級アセトニトリル供給材料を第1の蒸留塔に導入し、アセトニトリル
および第1の不純物セットを第2の不純物セットから分離する段階であって、ア
セトニトリルおよび第1の不純物セットが前記第1の蒸留塔から蒸気として取り
出され、第2の不純物セットが第1の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と
、 b)蒸気を凝縮して第1の留出物を生成する段階と、 c)第1の留出物を第2の蒸留塔に導入し、第1の不純物セットをアセトニト
リルから分離する段階であって、アセトニトリルが第2の蒸留塔のボトムスとし
て生成される段階と を含む請求項23に記載の方法。 - 【請求項25】 前記低等級アセトニトリル供給材料よりも高い等級のアセ
トニトリルが、第2の蒸留塔の蒸留ボトムスとして回収される請求項24に記載
の方法。 - 【請求項26】 前記より高い等級のアセトニトリルが、少なくとも99.
75重量パーセント・アセトニトリルである請求項25に記載の方法。 - 【請求項27】 第1の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、
アセトニトリルおよび第1の不純物セットを精留するのに使用される請求項24
に記載の方法。 - 【請求項28】 第2の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、
段階b)でアセトニトリルをストリッピングするのに使用される請求項24に記
載の方法。 - 【請求項29】 第1の蒸留塔に導かれる前に低等級アセトニトリル供給材
料が少なくとも部分的に脱水される請求項24に記載の方法。 - 【請求項30】 第2の蒸留塔に導かれる前に、第1の蒸留塔からの留出物
が少なくとも部分的に脱水される請求項24に記載の方法。 - 【請求項31】 供給材料が、約16重量パーセント未満の水を含む請求項
24に記載の方法。 - 【請求項32】 供給材料が、0から5重量パーセントの水を含む請求項2
4に記載の方法。 - 【請求項33】 供給材料が、0から2重量パーセントの水を含む請求項2
4に記載の方法。 - 【請求項34】 a)未精製アセトニトリル・ストリームを脱水装置に通し
て、約30から85重量パーセントのアセトニトリルを含む低等級アセトニトリ
ル供給材料を生成する段階と、 b)低等級アセトニトリル供給材料を精製して、工業等級アセトニトリル、H
PLC等級アセトニトリル、DNA合成等級アセトニトリルおよび超高純度等級
アセトニトリルから成るグループから選択されたより高い等級のアセトニトリル
を生成する段階と を含む方法。 - 【請求項35】 低等級アセトニトリル供給材料が、アセトニトリル、アセ
トニトリルよりも低い沸騰温度を有する第1の不純物セットおよびアセトニトリ
ルよりも高い沸騰温度を有する第2の不純物セットを含み、低等級アセトニトリ
ルを精製する前記プロセスが、 a)低等級アセトニトリル供給材料を第1の蒸留塔に導入し、アセトニトリル
および第1の不純物セットを第2の不純物セットから分離する段階であって、ア
セトニトリルおよび第1の不純物セットが前記第1の蒸留塔から蒸気として取り
出され、第2の不純物セットが第1の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と
、 b)蒸気を凝縮して第1の留出物を生成する段階と、 c)第1の留出物を第2の蒸留塔に導入し、第1の不純物セットをアセトニト
リルから分離する段階であって、アセトニトリルが第2の蒸留塔のボトムスとし
て生成される段階と を含む請求項34に記載の方法。 - 【請求項36】 アセトニトリル供給材料が、約16重量パーセント未満の
水を含む請求項34に記載の方法。 - 【請求項37】 アセトニトリル供給材料が、0から5重量パーセントの水
を含む請求項34に記載の方法。 - 【請求項38】 アセトニトリル供給材料が、0から2重量パーセントの水
を含む請求項34に記載の方法。 - 【請求項39】 a)DNA合成廃棄物に由来する低等級アセトニトリルを
DNA合成装置から受け取る段階と、 b)低等級アセトニトリルを精製して、工業等級アセトニトリル、HPLC等
級アセトニトリル、DNA合成等級アセトニトリルおよび超高純度等級アセトニ
トリルから成るグループから選択されたより高い等級のアセトニトリルを生成す
る段階と を含む方法。 - 【請求項40】 低等級アセトニトリルが、アセトニトリル、アセトニトリ
ルよりも低い沸騰温度を有する第1の不純物セットおよびアセトニトリルよりも
高い沸騰温度を有する第2の不純物セットを含み、低等級アセトニトリルを精製
する前記プロセスが、 a)第1の蒸留塔に低等級アセトニトリルを導入し、アセトニトリルおよび第
1の不純物セットを第2の不純物セットから分離する段階であって、アセトニト
リルおよび第1の不純物セットが前記第1の蒸留塔から蒸気として取り出され、
第2の不純物セットが第1の蒸留塔のボトムスとして生成される段階と、 b)蒸気を凝縮して第1の留出物を生成する段階と、 c)第1の留出物を第2の蒸留塔に導入し、第1の不純物セットをアセトニト
リルから分離する段階であって、アセトニトリルが第2の蒸留塔のボトムスとし
て生成される段階と を含む請求項39に記載の方法。 - 【請求項41】 前記低等級アセトニトリルよりも高い等級のアセトニトリ
ルが、第2の蒸留塔の蒸留ボトムスとして回収される請求項39に記載の方法。 - 【請求項42】 蒸留ボトムスが、少なくとも99.75重量パーセント・
アセトニトリルである請求項41に記載の方法。 - 【請求項43】 前記低等級アセトニトリルが、DNA合成装置の廃棄流出
液から第1の蒸留塔の供給物入口へ導かれる請求項39に記載の方法。 - 【請求項44】 第1の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、
アセトニトリルおよび第1の不純物セットを精留するのに使用される請求項40
に記載の方法。 - 【請求項45】 第2の蒸留塔が複数の段を含み、実質的に大多数の段が、
段階b)でアセトニトリルをストリッピングさせるのに使用される請求項40に
記載の方法。 - 【請求項46】 蒸留ボトムスを処理して、アセトニトリルの含水率を20
0ppm未満に、波長190ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値を1オ
ングストローム未満に低減する請求項41に記載の方法。 - 【請求項47】 蒸留ボトムスを処理して、アセトニトリルの含水率を50
ppm未満に、波長190ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値を1オン
グストローム未満に、波長260ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値を
0に低減する請求項41に記載の方法。 - 【請求項48】 蒸留ボトムスを処理して、アセトニトリルの含水率を20
ppm未満に、波長190ナノメートルでの紫外吸収スペクトル測定値を1オン
グストローム未満に低減する請求項41に記載の方法。 - 【請求項49】 第1の蒸留塔に導かれる前に低等級アセトニトリルが少な
くとも部分的に脱水される請求項39に記載の方法。 - 【請求項50】 第2の蒸留塔に導かれる前に第1の留出物が少なくとも部
分的に脱水される請求項40に記載の方法。 - 【請求項51】 低等級アセトニトリルが、約16重量パーセント未満の水
を含む請求項40に記載の方法。 - 【請求項52】 低等級アセトニトリルが、0から5重量パーセントの水を
含む請求項40に記載の方法。 - 【請求項53】 低等級アセトニトリルが、0から2重量パーセントの水を
含む請求項40に記載の方法。 - 【請求項54】 前記より高い等級のアセトニトリルの少なくとも一部がD
NA合成装置の流入液中に導かれ、前記より高い等級のアセトニトリルの純度が
、DNA合成等級アセトニトリルの純度以上である請求項39に記載の方法。 - 【請求項55】 蒸気が、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびアセ
トニトリルを含み、少なくとも一部の蒸気が第1の凝縮器に導かれ、そこで蒸気
温が、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの露点よりも下げられ、これに
よって、少なくとも一部のジクロロメタン蒸気が第2の凝縮器に導かれ、そこで
蒸気温が、ジクロロメタンの露点よりも下げられて、ジクロロメタン凝縮物が生
成される請求項40に記載の方法。 - 【請求項56】 少なくとも一部のジクロロメタン凝縮物をDNA合成装置
の流入液中に導く段階をさらに含む請求項55に記載の方法。 - 【請求項57】 テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびアセトニトリ
ルを含むDNA合成廃棄物からジクロロメタンを分離する方法であって、 a)DNA合成廃棄物を第1の蒸留塔に導入し、DNA合成廃棄物を蒸留して
、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびアセトニトリルを含む蒸気を生成
する段階と、 b)少なくとも一部の蒸気を第1の凝縮器に導き、そこで蒸気温を、アセトニ
トリルおよびテトラヒドロフランの露点よりも下げる段階と を含む方法。 - 【請求項58】 少なくとも一部のジクロロメタン蒸気を第2の凝縮器に導
き、そこで蒸気温を、ジクロロメタンの露点よりも下げて、ジクロロメタン凝縮
物を生成する段階をさらに含む請求項57に記載の方法。 - 【請求項59】 少なくとも一部のジクロロメタン凝縮物をDNA合成装置
の流入液中に導くことをさらに含む請求項58に記載の方法。
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