JP2003518711A - バイポーラプレートを用いた電気化学セル設計 - Google Patents
バイポーラプレートを用いた電気化学セル設計Info
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Abstract
(57)【要約】
バイポーラプレートを使用する電気化学セル配列を開示する。バイポーラプレートは、好ましくはチタンの金属箔(31、33)の、流体場を有する様にエンボス加工された単一シートまたは複数のシートから形成される。バイポーラプレートは酸素経路(41)、水素経路(45)、冷却剤経路(43)を形成し、セルスタックの隣接セル間のセパレータとして機能する。本発明のバイポーラプレートは従来のバイポーラプレートに比べ、軽量で小さく、延性があり、安価で、容易に製造できる。
Description
【0001】
(技術分野)
この発明は電気化学電池(セル:cell)に関し、特に電気化学セルにおい
て使用するためのバイポーラプレート(bipolar plate)に関する
。
て使用するためのバイポーラプレート(bipolar plate)に関する
。
【0002】
(背景技術)
電気化学セルはエネルギー変換装置であり、通常電解電池または燃料電池のい
ずれかに分類される。電解電池では水の電気分解により水素および酸素ガスが発
生するため、典型的には水素が生成し、水素を酸素と電気化学的に反応させ電気
を発生させることにより燃料電池として機能する。
ずれかに分類される。電解電池では水の電気分解により水素および酸素ガスが発
生するため、典型的には水素が生成し、水素を酸素と電気化学的に反応させ電気
を発生させることにより燃料電池として機能する。
【0003】
図1には、典型的なプロトン交換膜燃料電池10の部分断面図が示されている
。燃料電池10では、水素ガス12と反応水14が水素電極(アノード)16に
導入され、酸素ガス18が酸素電極(カソード)20に導入される。燃料電池動
作用の水素ガス12は純粋水素源、メタノールあるいは他の水素源から供給する
ことができる。水素ガスは電気化学的にアノード16で反応して水素イオン(プ
ロトン)と電子が発生し、電子はアノード16から電気的に接続された外部負荷
22を通って流れ、プロトン24は膜24を通ってカソード20に移動する。カ
ソード20では、プロトンと電子が酸素ガスと反応して水14′が形成され、そ
の水はさらに膜24からカソード20に移動したすべての反応水14を含む。ア
ノード16およびカソード20を横切る電位を利用して、外部負荷に電力を供給
することができる。
。燃料電池10では、水素ガス12と反応水14が水素電極(アノード)16に
導入され、酸素ガス18が酸素電極(カソード)20に導入される。燃料電池動
作用の水素ガス12は純粋水素源、メタノールあるいは他の水素源から供給する
ことができる。水素ガスは電気化学的にアノード16で反応して水素イオン(プ
ロトン)と電子が発生し、電子はアノード16から電気的に接続された外部負荷
22を通って流れ、プロトン24は膜24を通ってカソード20に移動する。カ
ソード20では、プロトンと電子が酸素ガスと反応して水14′が形成され、そ
の水はさらに膜24からカソード20に移動したすべての反応水14を含む。ア
ノード16およびカソード20を横切る電位を利用して、外部負荷に電力を供給
することができる。
【0004】
図1に示した燃料電池と同じ構造が従来、電解電池においても使用されている
。典型的なアノード送り(feed)水電解電池では、プロセス水は酸素電極側
(電解電池では、アノード)から電池に送り込まれ、酸素ガス、電子およびプロ
トンが形成される。電解反応はアノードに電気的に接続された電源の正端子、お
よび水素電極(電解電池では、カソード)に接続された電源の負端子により促進
される。酸素ガスおよびプロセス水の一部は電池から出て行き、プロトンと水は
プロトン交換膜を横切ってカソードに移動しそこで水素ガスが形成される。カソ
ード送り電解電池では、プロセス水は水素電極上に送られ、水の一部はカソード
から膜を横切ってアノードに移動し、そこでプロトンと酸素ガスが形成される。
プロセス水の一部は電池のカソード側から出て行き、膜を通過しない。プロトン
は膜を横切ってカソードに移動しそこで水素ガスが形成される。
。典型的なアノード送り(feed)水電解電池では、プロセス水は酸素電極側
(電解電池では、アノード)から電池に送り込まれ、酸素ガス、電子およびプロ
トンが形成される。電解反応はアノードに電気的に接続された電源の正端子、お
よび水素電極(電解電池では、カソード)に接続された電源の負端子により促進
される。酸素ガスおよびプロセス水の一部は電池から出て行き、プロトンと水は
プロトン交換膜を横切ってカソードに移動しそこで水素ガスが形成される。カソ
ード送り電解電池では、プロセス水は水素電極上に送られ、水の一部はカソード
から膜を横切ってアノードに移動し、そこでプロトンと酸素ガスが形成される。
プロセス水の一部は電池のカソード側から出て行き、膜を通過しない。プロトン
は膜を横切ってカソードに移動しそこで水素ガスが形成される。
【0005】
一定の配列では、電気化学セルを使用し、必要に応じて電気を水素に、かつ水
素を電気に変換することができる。そのようなシステムは通常再生燃料電池シス
テムと呼ばれる。
素を電気に変換することができる。そのようなシステムは通常再生燃料電池シス
テムと呼ばれる。
【0006】
典型的な電気化学セルは、1つのスタック内に配列された多くの個々のセルを
含み、スタック構造内に形成された入力および出力コンジットによりセルを介し
て作用流体が誘導される。スタック内のセルは連続して配列され、それぞれがカ
ソードと、プロトン交換膜と、アノードとを含む。従来の一定配列では、アノー
ド、カソードあるいはその両方共がガスの膜への拡散を容易にするガス拡散電極
である。各カソード/膜/アノードアセンブリ(以後、「膜電極アセンブリ」ま
たは「MEA」とする)は典型的にはスクリーンパックまたはバイポーラプレー
トを構成する流れ場(フローフィールド:flow field)により両側で
支持される。そのような流れ場は流体移動および膜水和を容易にし、MEAを機
械的に支持する。
含み、スタック構造内に形成された入力および出力コンジットによりセルを介し
て作用流体が誘導される。スタック内のセルは連続して配列され、それぞれがカ
ソードと、プロトン交換膜と、アノードとを含む。従来の一定配列では、アノー
ド、カソードあるいはその両方共がガスの膜への拡散を容易にするガス拡散電極
である。各カソード/膜/アノードアセンブリ(以後、「膜電極アセンブリ」ま
たは「MEA」とする)は典型的にはスクリーンパックまたはバイポーラプレー
トを構成する流れ場(フローフィールド:flow field)により両側で
支持される。そのような流れ場は流体移動および膜水和を容易にし、MEAを機
械的に支持する。
【0007】
燃料電池、および程度は低いが電解電池では広範にバイポーラプレートが使用
され、流体流れ場、シーリング、およびセルスタック内のセル間の電気的接続が
提供される。バイポーラプレートを使用すると、セパレータプレート、絶縁プレ
ート、および少なくとも2つのスクリーンパックを単一ユニットのバイポーラプ
レートと置換することによりセルスタックサイズを減少させることができる。し
たがって、バイポーラプレートは水素および酸素流れ場、かつシーリング部材の
両方として機能しスタックが簡略化され、空間が制約され制御因子となっている
場合、例えば自動車産業において特に有効となる。
され、流体流れ場、シーリング、およびセルスタック内のセル間の電気的接続が
提供される。バイポーラプレートを使用すると、セパレータプレート、絶縁プレ
ート、および少なくとも2つのスクリーンパックを単一ユニットのバイポーラプ
レートと置換することによりセルスタックサイズを減少させることができる。し
たがって、バイポーラプレートは水素および酸素流れ場、かつシーリング部材の
両方として機能しスタックが簡略化され、空間が制約され制御因子となっている
場合、例えば自動車産業において特に有効となる。
【0008】
従来のバイポーラプレートは典型的には炭素または複合体ブロックから所望の
形状に鋳造または機械加工される。しかしながら、適した構造上の一体性を得る
と共に必要な機械加工を可能とするためには、これらの部品は典型には非常に厚
く、約0.125インチ(約ミクロン)より大きなオーダーである。とりわけ高
い圧力差の下でしばしば動作する電解電池では厚い。その結果、バイポーラプレ
ートはしばしば重くコストがかかる。さらに、炭素プレートはもろく、これらの
プレートは衝撃および振動が重要な因子である自動車の電気化学セルに適用する
にはあまり有効ではない。
形状に鋳造または機械加工される。しかしながら、適した構造上の一体性を得る
と共に必要な機械加工を可能とするためには、これらの部品は典型には非常に厚
く、約0.125インチ(約ミクロン)より大きなオーダーである。とりわけ高
い圧力差の下でしばしば動作する電解電池では厚い。その結果、バイポーラプレ
ートはしばしば重くコストがかかる。さらに、炭素プレートはもろく、これらの
プレートは衝撃および振動が重要な因子である自動車の電気化学セルに適用する
にはあまり有効ではない。
【0009】
したがって当分野で必要なのは、延性のある、軽量の、コストが低く、容易に
製造することができる構造上の一体性の高いバイポーラプレートアセンブリであ
る。
製造することができる構造上の一体性の高いバイポーラプレートアセンブリであ
る。
【0010】
(発明の開示)
燃料電池や電解電池などの電気化学反応器用のコストの低いバイポーラプレー
トアセンブリは少なくとも1つの導電性材料の箔シートを含み、そのシート上に
流れ場が存在する。
トアセンブリは少なくとも1つの導電性材料の箔シートを含み、そのシート上に
流れ場が存在する。
【0011】
したがって、バイポーラプレートを使用する電気化学セルスタックは、少なく
とも2つの膜アセンブリであって、それぞれが電解質膜の対向する側に配置され
たアノード電極とカソード電極とを有する膜アセンブリと、少なくとも1つの導
電性材料製の箔シートを有するバイポーラプレートであって、前記シートは水素
流れ場と酸素流れ場とを有し別個の水素および酸素流路(フローパッセージ:f
low passage)が形成され、前記バイポーラプレートは1つの膜アセ
ンブリのアノード電極と他の膜アセンブリのカソード電極との間に配置されるバ
イポーラプレートと、第1の膜アセンブリと最後の膜アセンブリに隣接する電気
化学セルの各端に配置された2つの端板(エンドプレート:end plate
)とを含む。
とも2つの膜アセンブリであって、それぞれが電解質膜の対向する側に配置され
たアノード電極とカソード電極とを有する膜アセンブリと、少なくとも1つの導
電性材料製の箔シートを有するバイポーラプレートであって、前記シートは水素
流れ場と酸素流れ場とを有し別個の水素および酸素流路(フローパッセージ:f
low passage)が形成され、前記バイポーラプレートは1つの膜アセ
ンブリのアノード電極と他の膜アセンブリのカソード電極との間に配置されるバ
イポーラプレートと、第1の膜アセンブリと最後の膜アセンブリに隣接する電気
化学セルの各端に配置された2つの端板(エンドプレート:end plate
)とを含む。
【0012】
図面について説明する。図面は例示的なものであり限定するものではない。複
数の図面において同様の要素には同様の符号を付する。
数の図面において同様の要素には同様の符号を付する。
【0013】
(発明を実施するための最良の形態)
電気化学セルスタックにおいて使用するためのバイポーラプレートは箔から構
成された1以上の金属シートを含み、その箔上には流れ場が形成されている。バ
イポーラプレートの全体形状は電気化学セルと適合し、すなわち、典型的には正
方形、長方形、円形、八角形、六角形などである。1以上の箔を使用して各セル
内で、水素/燃料、空気/酸素、および他の電気化学セル反応物および/または
生成物、および必要に応じて冷却剤などの反応物に対する流路を各セル内に形成
させることができる。各バイポーラプレートの周囲は、各セル部品を通ってある
いはその周りに存在するタイロッドを用いて加圧して配置したガスケット、典型
的にはゴム、プラスチックあるいは他の延性のある材料またはそれらの組み合わ
せを用いてシールされる。
成された1以上の金属シートを含み、その箔上には流れ場が形成されている。バ
イポーラプレートの全体形状は電気化学セルと適合し、すなわち、典型的には正
方形、長方形、円形、八角形、六角形などである。1以上の箔を使用して各セル
内で、水素/燃料、空気/酸素、および他の電気化学セル反応物および/または
生成物、および必要に応じて冷却剤などの反応物に対する流路を各セル内に形成
させることができる。各バイポーラプレートの周囲は、各セル部品を通ってある
いはその周りに存在するタイロッドを用いて加圧して配置したガスケット、典型
的にはゴム、プラスチックあるいは他の延性のある材料またはそれらの組み合わ
せを用いてシールされる。
【0014】
箔は電気化学セル環境と適合し、その上に流れ場を形成することができると共
にセル動作条件に耐える、あるいはクラックが生じてまたは故障して反応物およ
び/または冷却剤が混合することがないように十分な構造一体性を維持すること
ができるいずれかの導電性材料とすることができる。好ましくはこの箔は十分な
構造一体性と弾性とを有するため膜と電極アセンブリとセルの残りとの間にスプ
リングが形成され、これにより膜と電極アセンブリが実質的に均一に加圧される
ことによりクリープが避けられる。可能な材料としては、金属、金属合金および
金属超合金、例えば鉄およびステンレス鋼などの鉄合金、チタン、ニオブ、ニッ
ケルおよびハステロイ(HASTELLOY、登録商標)(インジアナ州ココモ
所在のヘインズインターナショナル(Haynes Internationa
l)から市販されている)などのニッケル合金、コバルトおよびエルギロイ(E
LGILOY、登録商標)(イリノイ州エルギン所在のエルギロイ(登録商標)
リミテッドパートナーシップ(Elgiloy Limited Partne
rship)から市販されている)およびMP35N(登録商標)(ニューヨー
ク州ライ所在のマリーランドスペシャリティワイヤ社(Maryland Sp
eciality Wire Inc.)から市販されている)などのコバルト
超合金、ハフニウム、ジルコニウム、タングステン、およびタンタルが挙げられ
るがこれらに限定されるものではない。その中でも特にチタンが強度、耐久性、
有用性、低コスト、延性、低密度、電気化学セル環境との適合性の点から好まし
い。
にセル動作条件に耐える、あるいはクラックが生じてまたは故障して反応物およ
び/または冷却剤が混合することがないように十分な構造一体性を維持すること
ができるいずれかの導電性材料とすることができる。好ましくはこの箔は十分な
構造一体性と弾性とを有するため膜と電極アセンブリとセルの残りとの間にスプ
リングが形成され、これにより膜と電極アセンブリが実質的に均一に加圧される
ことによりクリープが避けられる。可能な材料としては、金属、金属合金および
金属超合金、例えば鉄およびステンレス鋼などの鉄合金、チタン、ニオブ、ニッ
ケルおよびハステロイ(HASTELLOY、登録商標)(インジアナ州ココモ
所在のヘインズインターナショナル(Haynes Internationa
l)から市販されている)などのニッケル合金、コバルトおよびエルギロイ(E
LGILOY、登録商標)(イリノイ州エルギン所在のエルギロイ(登録商標)
リミテッドパートナーシップ(Elgiloy Limited Partne
rship)から市販されている)およびMP35N(登録商標)(ニューヨー
ク州ライ所在のマリーランドスペシャリティワイヤ社(Maryland Sp
eciality Wire Inc.)から市販されている)などのコバルト
超合金、ハフニウム、ジルコニウム、タングステン、およびタンタルが挙げられ
るがこれらに限定されるものではない。その中でも特にチタンが強度、耐久性、
有用性、低コスト、延性、低密度、電気化学セル環境との適合性の点から好まし
い。
【0015】
箔は動作中、セルスタック内の圧力に耐え得るほど十分な厚さを有し、すなわ
ち、十分な構造一体性を有する。例えば、単一層のチタン箔バイポーラプレート
では、箔の厚さは約1から約20milであり、好ましくは約2から約10mi
lである。層の数に関係なく、バイポーラプレート全体の厚さは典型的には約1
0mil未満であり、約2milから約5milが好ましい。
ち、十分な構造一体性を有する。例えば、単一層のチタン箔バイポーラプレート
では、箔の厚さは約1から約20milであり、好ましくは約2から約10mi
lである。層の数に関係なく、バイポーラプレート全体の厚さは典型的には約1
0mil未満であり、約2milから約5milが好ましい。
【0016】
バイポーラプレートを形成する場合、1つのまたは複数のシートの箔はその上
に形成された流れ場を有することができ、シートの望ましい数は望ましい流れ場
の数に依存する。典型的には、別個の水素/燃料、酸素/空気、および冷却剤流
れ場を有するシステム、すなわち燃料電池適用では2つのシートが使用されるが
、より多くのシートを使用することもできる。一方、別個の水素/燃料および酸
素/空気流れ場を有する電解電池適用では単一のシートが好ましい。
に形成された流れ場を有することができ、シートの望ましい数は望ましい流れ場
の数に依存する。典型的には、別個の水素/燃料、酸素/空気、および冷却剤流
れ場を有するシステム、すなわち燃料電池適用では2つのシートが使用されるが
、より多くのシートを使用することもできる。一方、別個の水素/燃料および酸
素/空気流れ場を有する電解電池適用では単一のシートが好ましい。
【0017】
1つの実施の形態では、1つのまたは複数のシートは所望の流れ場を有するよ
うにエンボス加工することができる。エンボス加工は、金属を引き延ばしすぎず
に、または故障を招きがちな弱い領域を形成させずに箔内に流路を形成すること
ができるスタンピング、等方加工プレス、圧延などの従来の箔形成プロセスを用
いて実行することができる。成形(例えば、射出成形)、鋳造または他の技術な
どの他の流れ場形成技術も使用することができる。
うにエンボス加工することができる。エンボス加工は、金属を引き延ばしすぎず
に、または故障を招きがちな弱い領域を形成させずに箔内に流路を形成すること
ができるスタンピング、等方加工プレス、圧延などの従来の箔形成プロセスを用
いて実行することができる。成形(例えば、射出成形)、鋳造または他の技術な
どの他の流れ場形成技術も使用することができる。
【0018】
流路のサイズおよび形状はどのようなものであってもよいが、好ましくは反応
物を導入し生成物を除去しセルを冷却するのに有効な流れを形成するものであり
、限定された流れのゾーンの無いサイズおよび形状が好ましい。例えば、燃料電
池では、流れ場は十分な水素をアノードに、酸素をカソードに導入し、十分な水
をカソードから除去するサイズおよび形状が必要である。1つの電解適用では、
流れ場は十分な水をカソードへ導入し、十分な水素と水をカソードから、十分な
酸素をアノードから除去するサイズおよび形状が必要である。流路は正方形、長
方形、半円形、多角形、実質的に環状、あるいは他のいずれかの形状とすること
ができ、いずれかの望ましい流れ場の全体形状、例えば、直線、螺旋、ジグザク
などを形成することができる。
物を導入し生成物を除去しセルを冷却するのに有効な流れを形成するものであり
、限定された流れのゾーンの無いサイズおよび形状が好ましい。例えば、燃料電
池では、流れ場は十分な水素をアノードに、酸素をカソードに導入し、十分な水
をカソードから除去するサイズおよび形状が必要である。1つの電解適用では、
流れ場は十分な水をカソードへ導入し、十分な水素と水をカソードから、十分な
酸素をアノードから除去するサイズおよび形状が必要である。流路は正方形、長
方形、半円形、多角形、実質的に環状、あるいは他のいずれかの形状とすること
ができ、いずれかの望ましい流れ場の全体形状、例えば、直線、螺旋、ジグザク
などを形成することができる。
【0019】
典型的には、電解セルスタックでは、箔の直径は約1.5フィート(0.46
メートル)以上までであり、好ましくは約0.15(.046メートル)から約
1.0フィート(0.31メートル)までである。また、箔の厚さは典型的には
約0.0025インチ(63.5μm)以上までであり、好ましくは0.000
1インチ(2.54μm)から0.0015インチ(38.1μm)であり、特
に好ましい厚さは電気化学セルの所望の寸法に依存する。
メートル)以上までであり、好ましくは約0.15(.046メートル)から約
1.0フィート(0.31メートル)までである。また、箔の厚さは典型的には
約0.0025インチ(63.5μm)以上までであり、好ましくは0.000
1インチ(2.54μm)から0.0015インチ(38.1μm)であり、特
に好ましい厚さは電気化学セルの所望の寸法に依存する。
【0020】
燃料電池では上述したように、バイポーラプレートは好ましくはそれを通る少
なくとも1つの冷却剤流れ場を有し、セル内での発熱反応により引き起こされる
蓄積熱が除去され、これにより膜アセンブリの劣化が阻止される。その結果、少
なくとも1つの冷却剤経路は好ましくは組み立てられたバイポーラプレートの少
なくとも1つを通って形成され、水、エチレングリコール、アルコール類などの
冷却剤は実質的にすべての膜アセンブリに隣接して通過することができ、過剰の
熱が除去できる。この冷却剤流れ場および関連する冷却剤流路は典型的には、個
々のバイポーラプレートの他の流れ場および経路と同様のサイズおよび形状を有
する。
なくとも1つの冷却剤流れ場を有し、セル内での発熱反応により引き起こされる
蓄積熱が除去され、これにより膜アセンブリの劣化が阻止される。その結果、少
なくとも1つの冷却剤経路は好ましくは組み立てられたバイポーラプレートの少
なくとも1つを通って形成され、水、エチレングリコール、アルコール類などの
冷却剤は実質的にすべての膜アセンブリに隣接して通過することができ、過剰の
熱が除去できる。この冷却剤流れ場および関連する冷却剤流路は典型的には、個
々のバイポーラプレートの他の流れ場および経路と同様のサイズおよび形状を有
する。
【0021】
図2について説明する。バイポーラプレートは箔シート31、33を含むこと
ができ、好ましくは組み立てられると、酸素経路41と、水素経路45と、水素
経路45と酸素経路41との間の冷却剤経路43とが形成される。バイポーラプ
レートの両側は電極支持体32を含むことができ、膜アセンブリ、および保護リ
ングやガスケットなど(図示せず)の従来の部品が経路内に押し出されないよう
にしている。電極支持体32は膜アセンブリを支持することができると共に基準
に合った質量の流れ条件下で流体接続を提供するいずれかの多孔質媒体とするこ
とができるが、典型的にはカーボン紙、布またはフェルト、多孔質金属、または
同様の質量輸送能を有する他の薄い材料、金属繊維または金属粒状プレート(焼
結させてもよい)、エキスパンドメタルスクリーン、織または不織スクリーン、
またはそれらを組み合わせたものである。例えば、エキスパンドメタルスクリー
ンは膜を支持し、水素ガスと水、酸素ガスと水、をそれぞれ通過させることがで
き、電流を通すことができる従来のスクリーンとすることができる。圧力および
他の応力の問題を解決するために、スクリーンサイズおよびストランド厚は個々
の層により、あるいは全体のスクリーンパックに対し調整することができる。
ができ、好ましくは組み立てられると、酸素経路41と、水素経路45と、水素
経路45と酸素経路41との間の冷却剤経路43とが形成される。バイポーラプ
レートの両側は電極支持体32を含むことができ、膜アセンブリ、および保護リ
ングやガスケットなど(図示せず)の従来の部品が経路内に押し出されないよう
にしている。電極支持体32は膜アセンブリを支持することができると共に基準
に合った質量の流れ条件下で流体接続を提供するいずれかの多孔質媒体とするこ
とができるが、典型的にはカーボン紙、布またはフェルト、多孔質金属、または
同様の質量輸送能を有する他の薄い材料、金属繊維または金属粒状プレート(焼
結させてもよい)、エキスパンドメタルスクリーン、織または不織スクリーン、
またはそれらを組み合わせたものである。例えば、エキスパンドメタルスクリー
ンは膜を支持し、水素ガスと水、酸素ガスと水、をそれぞれ通過させることがで
き、電流を通すことができる従来のスクリーンとすることができる。圧力および
他の応力の問題を解決するために、スクリーンサイズおよびストランド厚は個々
の層により、あるいは全体のスクリーンパックに対し調整することができる。
【0022】
例えば、典型的にはスクリーンはエッチングされた、あるいは穴が開けられた
シートまたは織金属メッシュの1以上の層を含み、スクリーンサイズは典型的に
は約7/0までであり、ほとんどの適用例では約3/0から約5/0のサイズが
好ましい。セルの低圧側の膜と電極アセンブリに隣接させて配置したスクリーン
層ではストランド厚は約0.005インチ(127μm)が好ましく、残りのス
クリーン層ではストランド厚は約0.005インチ以上が一般に好ましい。スク
リーンは鉄(例えばステンレス鋼)、ニッケル、ニオブ、ジルコニウム、コバル
ト、タンタル、チタン、炭素、ハフニウムなど、合金、およびそれらの超合金を
含む材料で構成することができる。スクリーンの開口の形状はしばしば、楕円、
円および六角形からダイヤモンドおよび他の細長い形状にまで至る。電気化学セ
ルにおいて使用するのにとりわけ好ましいスクリーンアセンブリについては共に
譲渡されたトレントモルター(Trent Molter)らの米国特許番号第
09/102,305号、代理人事件整理番号第97−1801号において開示
されている(この特許については参照により明細書に組み込むものとする)。
シートまたは織金属メッシュの1以上の層を含み、スクリーンサイズは典型的に
は約7/0までであり、ほとんどの適用例では約3/0から約5/0のサイズが
好ましい。セルの低圧側の膜と電極アセンブリに隣接させて配置したスクリーン
層ではストランド厚は約0.005インチ(127μm)が好ましく、残りのス
クリーン層ではストランド厚は約0.005インチ以上が一般に好ましい。スク
リーンは鉄(例えばステンレス鋼)、ニッケル、ニオブ、ジルコニウム、コバル
ト、タンタル、チタン、炭素、ハフニウムなど、合金、およびそれらの超合金を
含む材料で構成することができる。スクリーンの開口の形状はしばしば、楕円、
円および六角形からダイヤモンドおよび他の細長い形状にまで至る。電気化学セ
ルにおいて使用するのにとりわけ好ましいスクリーンアセンブリについては共に
譲渡されたトレントモルター(Trent Molter)らの米国特許番号第
09/102,305号、代理人事件整理番号第97−1801号において開示
されている(この特許については参照により明細書に組み込むものとする)。
【0023】
プロテクタリングは、セルの活性領域の縁の周りを十分膜を支持することがで
きる、いずれかの金属、ポリマー、あるいは組み合わせ部材とすることができる
。これらの構造は薄く、典型的には約1mil(25.4μm)から約3mil
(76.2μm)であり、バイポーラプレートの外周の外縁の周りに配置され、
セル部品間のギャップを架橋するように流れ場形状と実質的に類似した形状を有
する。
きる、いずれかの金属、ポリマー、あるいは組み合わせ部材とすることができる
。これらの構造は薄く、典型的には約1mil(25.4μm)から約3mil
(76.2μm)であり、バイポーラプレートの外周の外縁の周りに配置され、
セル部品間のギャップを架橋するように流れ場形状と実質的に類似した形状を有
する。
【0024】
様々な箔シート31、33との間、箔シート31,33とプロテクタリング4
0との間に配置されたガスケット38は、流体密閉シールを形成し、水素、酸素
および/または冷却剤の漏れおよび/または混合を防いでいる。これらのガスケ
ットは電気化学セル環境と適合することができ、望ましいシールを形成すること
ができる、プラスチックまたはゴムなどの非金属の弾性媒体とすることができる
が、セルのシール面全体になじむため好ましくはゴムであり、典型的にはフィラ
ーや他の不純物の濃度が低い(すなわち、約0.01重量%未満の)、再使用の
ものではないエラストマーから形成される。液体射出成形により製造されるゴム
ガスケットは、電気化学セルのコスト、製造の容易さ、信頼性のためとりわけ好
ましい。
0との間に配置されたガスケット38は、流体密閉シールを形成し、水素、酸素
および/または冷却剤の漏れおよび/または混合を防いでいる。これらのガスケ
ットは電気化学セル環境と適合することができ、望ましいシールを形成すること
ができる、プラスチックまたはゴムなどの非金属の弾性媒体とすることができる
が、セルのシール面全体になじむため好ましくはゴムであり、典型的にはフィラ
ーや他の不純物の濃度が低い(すなわち、約0.01重量%未満の)、再使用の
ものではないエラストマーから形成される。液体射出成形により製造されるゴム
ガスケットは、電気化学セルのコスト、製造の容易さ、信頼性のためとりわけ好
ましい。
【0025】
図3では、水素流れ場36は膜と電極アセンブリ(7/8/3)に隣接して配
置され、電極支持体32はそれらの間に、それらと密接に接触して配置される。
膜と電極アセンブリ(7/8/3)の反対側にはバイポーラプレート33が設け
られ、バイポーラプレートの1つの側には、膜と電極アセンブリ(7/8/3)
を接触する電極支持体32と接触して酸素流れ場34が配置され、反対側には、
冷却剤流れ場43が設けられる。ガスケット38は好ましくはバイポーラプレー
ト33および端板50と接触する。セルスタックでは、端板50の代わりに、続
きのセルのバイポーラプレート31がガスケット38と接触して配置される。
置され、電極支持体32はそれらの間に、それらと密接に接触して配置される。
膜と電極アセンブリ(7/8/3)の反対側にはバイポーラプレート33が設け
られ、バイポーラプレートの1つの側には、膜と電極アセンブリ(7/8/3)
を接触する電極支持体32と接触して酸素流れ場34が配置され、反対側には、
冷却剤流れ場43が設けられる。ガスケット38は好ましくはバイポーラプレー
ト33および端板50と接触する。セルスタックでは、端板50の代わりに、続
きのセルのバイポーラプレート31がガスケット38と接触して配置される。
【0026】
1つの実施の形態では、燃料電池スタックは、膜と電極アセンブリを支持する
カーボン紙32と接触する水素流れ場を備えるエンボス加工されたチタンバイポ
ーラプレートを含む。膜と電極アセンブリの反対側には、好ましくは、第2のカ
ーボン紙がアセンブリとエンボス加工されたチタンバイポーラプレートの酸素流
れ場との間に配置される。最後に、ゴムガスケットがバイポーラプレートの冷却
剤流れ場に隣接して配置される。セルスタックの次のセルは別のエンボス加工さ
れたチタンバイポーラプレートを有し、冷却剤流れ場がゴムガスケットと接触し
、水素流れ場がカーボン紙と接触する。スクリーンパックをバイポーラプレート
とカーボン紙の間に、あるいはカーボン紙の代わりに配置することができる。
カーボン紙32と接触する水素流れ場を備えるエンボス加工されたチタンバイポ
ーラプレートを含む。膜と電極アセンブリの反対側には、好ましくは、第2のカ
ーボン紙がアセンブリとエンボス加工されたチタンバイポーラプレートの酸素流
れ場との間に配置される。最後に、ゴムガスケットがバイポーラプレートの冷却
剤流れ場に隣接して配置される。セルスタックの次のセルは別のエンボス加工さ
れたチタンバイポーラプレートを有し、冷却剤流れ場がゴムガスケットと接触し
、水素流れ場がカーボン紙と接触する。スクリーンパックをバイポーラプレート
とカーボン紙の間に、あるいはカーボン紙の代わりに配置することができる。
【0027】
電解槽の実施の形態では、部品の順序は以下の通りである。エンボス加工され
たバイポーラプレートの水素流れ場、スクリーンパック、カーボン紙、膜と電極
アセンブリ、カーボン紙、スクリーンパック、エンボス加工されたバイポーラプ
レートの酸素流れ場であり、そのバイポーラプレートの反対側にはセルスタック
の次のセルの水素流れ場が形成されている。
たバイポーラプレートの水素流れ場、スクリーンパック、カーボン紙、膜と電極
アセンブリ、カーボン紙、スクリーンパック、エンボス加工されたバイポーラプ
レートの酸素流れ場であり、そのバイポーラプレートの反対側にはセルスタック
の次のセルの水素流れ場が形成されている。
【0028】
本発明のバイポーラプレートは反応物および生成物流路、冷却剤経路、流体シ
ーリング、および反応器電極への、および反応器電極からの電気の流れを提供す
る。この設計により、バイポーラ形態で形成されるエンボス加工された流れ場を
使用することにより、成形または機械加工されたグラファイトプレートで通常か
かるコストを減少させることができる。設計が簡単なため、この電気化学反応器
とバイポーラプレートにより材料の使用、コスト、重量がかなり減少し、これら
のパーツと関連する労働量がかなり減少する。約100mil(2.54mm)
以上の厚さの従来のバイポーラプレートとは異なり、本発明のバイポーラプレー
トは約20mil(0.51mm)未満であり、約10mil(0.25mm)
以下であることが好ましい。
ーリング、および反応器電極への、および反応器電極からの電気の流れを提供す
る。この設計により、バイポーラ形態で形成されるエンボス加工された流れ場を
使用することにより、成形または機械加工されたグラファイトプレートで通常か
かるコストを減少させることができる。設計が簡単なため、この電気化学反応器
とバイポーラプレートにより材料の使用、コスト、重量がかなり減少し、これら
のパーツと関連する労働量がかなり減少する。約100mil(2.54mm)
以上の厚さの従来のバイポーラプレートとは異なり、本発明のバイポーラプレー
トは約20mil(0.51mm)未満であり、約10mil(0.25mm)
以下であることが好ましい。
【0029】
さらに、それぞれの金属箔内に流れ場を形成することにより、各流れ場が効果
的にセルの活性領域のスプリングとして機能する。これにより、セルの膜と電極
表面への均一な加圧が維持され、セルが時間経過に伴いクリープしてもすべての
部品面全体に対し均一な接触が維持される。従来のバイポーラ配列において証明
されているように、グラファイトプレートおよび同様のプレートの弾性特性は劣
っており、時間が経過すると部品と電極との間にギャップが生じることがある。
的にセルの活性領域のスプリングとして機能する。これにより、セルの膜と電極
表面への均一な加圧が維持され、セルが時間経過に伴いクリープしてもすべての
部品面全体に対し均一な接触が維持される。従来のバイポーラ配列において証明
されているように、グラファイトプレートおよび同様のプレートの弾性特性は劣
っており、時間が経過すると部品と電極との間にギャップが生じることがある。
【0030】
さらに、金属、特にチタンの箔シートを使用してバイポーラプレートを作成す
ると、(1)グラファイトに比べ熱伝導性が良好であり、セルの熱除去または冷
却が良好となる、(2)グラファイトより多孔性が低く、そのため拡散による損
失が減少する、(3)グラファイトより導電率が良い、(4)構造的な一体性が
向上し導電率、熱伝導性がより良好で、損失が少ないより薄いプレートを使用す
ることができる。
ると、(1)グラファイトに比べ熱伝導性が良好であり、セルの熱除去または冷
却が良好となる、(2)グラファイトより多孔性が低く、そのため拡散による損
失が減少する、(3)グラファイトより導電率が良い、(4)構造的な一体性が
向上し導電率、熱伝導性がより良好で、損失が少ないより薄いプレートを使用す
ることができる。
【0031】
最後に、この発明の電気化学セル設計では容易に所望の形態とすることができ
る市販の低コスト材料が使用され、そのため電気化学セルのコストが実質的に減
少する。
る市販の低コスト材料が使用され、そのため電気化学セルのコストが実質的に減
少する。
【0032】
好ましい実施の形態について図示し説明してきたが、本発明の精神および範囲
内であれば様々な変更や置換が可能である。したがって、この発明について例示
により説明したにすぎず、限定するものではないことを理解すべきである。
内であれば様々な変更や置換が可能である。したがって、この発明について例示
により説明したにすぎず、限定するものではないことを理解すべきである。
【図1】 典型的な燃料電池反応を示す従来の燃料電池の概略図である。
【図2】 本発明にかかるバイポーラプレートアセンブリの1つの実施の形
態の詳細断面図である。
態の詳細断面図である。
【図3】 本発明にかかるバイポーラ電気化学セルの1つの実施の形態の詳
細図である。
細図である。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成14年2月8日(2002.2.8)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
H01M 8/02 H01M 8/02 Y
8/10 8/10
8/24 8/24 E
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF
,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,
ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G
M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ
,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,
MD,RU,TJ,TM),AE,AL,AM,AT,
AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,C
H,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,EE
,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,HR,
HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,KG,K
P,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU
,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,MX,
NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,S
G,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ
,UA,UG,UZ,VN,YU,ZA,ZW
Fターム(参考) 5H026 AA06 CC03 CC04 CX01 CX02
CX03 CX04 EE02 EE05 EE08
EE18 HH03
Claims (37)
- 【請求項1】 導電性材料からなる2つの箔シートであって、前記シートの
それぞれは少なくともその上に形成された少なくとも2つの流れ場を有し、その
ため組み立てられると、前記シートは少なくとも3つの別個の流路を形成する箔
シートを備える、電気化学セルにおいて使用するためのバイポーラプレート。 - 【請求項2】 前記箔シート間に配置された非金属ガスケットをさらに備え
、前記ガスケットは前記箔シート間に配置された前記ガスケットと対向する各箔
シートの第2の側上に存在する請求項1記載のバイポーラプレート。 - 【請求項3】 前記箔シートの厚さは約20mil(0.51mm)までで
ある請求項1記載のバイポーラプレート。 - 【請求項4】 前記箔シートの厚さは約2mil(0.05mm)から約1
0mil(0.35mm)である請求項1記載のバイポーラプレート。 - 【請求項5】 前記流体流れ場のそれぞれの断面形状は長方形、正方形、半
円、円、多角形または実質的な環状形状である請求項1記載のバイポーラプレー
ト。 - 【請求項6】 前記箔シートは、鉄、チタン、ニオブ、ニッケル、コバルト
、ジルコニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、前記金属の少なくとも
1つを含む合金、または前記金属の少なくとも1つを含む超合金を含む請求項1
記載のバイポーラプレート。 - 【請求項7】 前記シートは前記流れ場を有するようにエンボス加工される
請求項1記載のバイポーラプレート。 - 【請求項8】 電解質膜の対向する側に配置された第1のアノード電極と第
1のカソード電極を有する少なくとも1つの第1の膜アセンブリと、 導電性材料から作製された少なくとも2つの箔シートを含むバイポーラプレー
トであって、前記箔シートのそれぞれは第1の流体流路と第2の流体流路を形成
する少なくとも2つの流れ場を有し、前記少なくとも2つのシートは組み立てら
れると少なくとも3つの別個の流路を形成し、前記バイポーラプレートの第1の
側は前記第1の膜アセンブリの前記アノード電極に隣接して配置されるバイポー
ラプレートと、 を備える電気化学セルスタック。 - 【請求項9】 第2の電解質膜の対向する側に配置された第2のアノード電
極と第2のカソード電極と有する第2の膜アセンブリをさらに備え、前記第2の
カソードは前記第1のバイポーラプレートの第2の側に隣接して配置される請求
項8記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項10】 前記バイポーラプレートと、前記第1および前記第2の膜
アセンブリとの間に配置された非金属ガスケットを、さらに備える請求項9記載
の電気化学セルスタック。 - 【請求項11】 前記バイポーラプレートと前記第1の膜アセンブリとの間
に配置された第1の電極支持体と、前記バイポーラプレートと前記第2の膜アセ
ンブリとの間に配置された第2の電極支持体とをさらに備える請求項9記載の電
気化学セルスタック。 - 【請求項12】 前記第1および第2の膜支持体は1以上のカーボン紙、カ
ーボンフェルト、カーボン布、多孔質金属、エキスパンドメタルスクリーン、織
スクリーン、不織スクリーン、金属ファイバ、金属粒子、またはそれらの組み合
わせである請求項11記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項13】 前記第1のカソード電極に隣接して配置された第2のバイ
ポーラプレートと、 前記第2のアノード電極に隣接して配置された第3のバイポーラプレートと、 をさらに備える請求項9記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項14】 組み立てられると別個の冷却剤流路を形成する冷却剤流れ
場を有する少なくとも1つの箔シートをさらに備える請求項9記載の電気化学セ
ルスタック。 - 【請求項15】 前記箔シートの厚さは約20mil(0.51mm)まで
である請求項8記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項16】 前記箔シートの厚さは約2mil(0.05mm)から約
10mil(0.35mm)である請求項8記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項17】 前記箔シートは鉄、チタン、ニオブ、ニッケル、コバルト
、ジルコニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、前記金属の少なくとも
1つを含む合金、または前記金属の少なくとも1つを含む超合金を含む請求項8
記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項18】 前記シートは前記流れ場を有するようにエンボス加工され
る請求項8記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項19】 それぞれが、電解質膜の対向する側に配置された第1のア
ノード電極と第1のカソード電極を有する少なくとも2つの膜アセンブリと、 導電性材料から作製された少なくとも2つの箔シートを有するバイポーラプレ
ートであって、前記箔シートのそれぞれは第1の流体流れ場と第2の流体流れ場
とを有し、そのため、前記シートは別個の第1の流体流路と第2の流体流路とを
形成し、前記少なくとも2つのシートは組み立てられると少なくとも3つの別個
の経路を形成し、前記バイポーラプレートは前記第1の膜アセンブリの前記アノ
ード電極と前記第2の膜アセンブリの前記カソード電極との間に配置されるバイ
ポーラプレートと、 前記バイポーラプレートと前記第1の膜アセンブリとの間に配置され、前記バ
イポーラプレートの周囲と接触する第1のエラストマー製ガスケットと、 前記バイポーラプレートと前記第1の膜アセンブリとの間に配置されると共に
、前記第1の膜アセンブリの前記アノードと隣接し、電気的に接続されて配置さ
れた第1のカーボン紙と、 前記バイポーラプレートと前記第2の膜アセンブリとの間に配置され、前記バ
イポーラプレートの周囲と接触する第2のエラストマー製ガスケットと、 前記バイポーラプレートと前記第2の膜アセンブリとの間に配置されると共に
、前記第2の膜アセンブリの前記カソードと隣接して配置された第1のカーボン
紙と、 を備える電気化学セルスタック。 - 【請求項20】 前記第1のカーボン紙と前記バイポーラプレートとの間に
配置された第1のスクリーンパックと、 前記第2のカーボン紙と前記バイポーラプレートとの間に配置された第2のス
クリーンパックと、 をさらに備える請求項19記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項21】 前記箔シートの厚さは約20mil(0.51mm)まで
である請求項19記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項22】 前記箔シートの厚さは約2mil(0.05mm)から約
10mil(0.35mm)である請求項19記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項23】 前記箔シートは鉄、チタン、ニオブ、ニッケル、コバルト
、ジルコニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、前記金属の少なくとも
1つを含む合金、または前記金属の少なくとも1つを含む超合金を含む請求項1
9記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項24】 前記シートは前記流れ場を有するようにエンボス加工され
る請求項19記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項25】 それぞれが、電解質膜の対向する側に配置された第1のア
ノード電極と第1のカソード電極を有する少なくとも第1および第2の膜アセン
ブリと、 導電性材料から作製された第1および第2の箔シートを有するバイポーラプレ
ートであって、前記第1の箔シートは第1の流体流れ場と第1の冷却剤流れ場を
有するようにエンボス加工され、前記第2の箔シートは第2の流体流れ場と第2
の冷却剤流れ場を有するようにエンボス加工され、そのため、組み立てられると
、前記シートは別個の第1の流体流路と、冷却剤流路と、第2の流体流路と、を
形成し、前記バイポーラプレートは前記第1の膜アセンブリの前記アノード電極
と前記第2の膜アセンブリの前記カソード電極との間に配置されるバイポーラプ
レートと、 を備える電気化学セルスタック。 - 【請求項26】 前記第1の膜アセンブリの前記カソード電極に隣接して配
置された第2のバイポーラプレートと、 前記第2の膜アセンブリの前記アノード電極に隣接して配置された第3のバイ
ポーラプレートと、 をさらに備える請求項25記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項27】 前記箔シートの厚さは約20milまでである請求項25
記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項28】 前記箔シートの厚さは約2milから約10milである
請求項27記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項29】 前記箔シートは、鉄、チタン、ニオブ、ニッケル、コバル
ト、ジルコニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、前記金属の少なくと
も1つを含む合金、または前記金属の少なくとも1つを含む超合金を含む請求項
25記載の電気化学セルスタック。 - 【請求項30】 導電性材料製の第1および第2の箔シートを有するバイポ
ーラプレートを使用する工程であって、前記第1の箔シートは水素流れ場と冷却
剤流れ場とを有し、前記第2の箔シートは酸素流れ場と冷却剤流れ場とを有し、
そのため、組み立てられると、前記シートは別個の水素流路と、冷却剤流路と酸
素流路とを形成する、工程と、 水素を水素流れ場に導入する工程と、 前記水素を前記水素流れ場を通して水素電極まで移動させる工程と、 前記水素をイオン化して水素イオンと電子とを形成させる工程と、 前記電子を電気負荷を通して酸素電極に移動させる工程と、 前記水素イオンを電解質膜を通して前記酸素電極に移動させる工程と、 酸素を前記酸素流れ場に導入する工程と、 前記酸素を前記酸素電極に移動させる工程と、 前記酸素を前記水素イオンおよび前記電子と反応させる工程と、 を含むバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項31】 前記箔シートの厚さは約20milまでである請求項30
記載のバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項32】 前記箔シートの厚さは約2milから約10milである
請求項30記載のバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項33】 前記箔シートは、鉄、チタン、ニオブ、ニッケル、コバル
ト、ジルコニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、前記金属の少なくと
も1つを含む合金、または前記金属の少なくとも1つを含む超合金を含む請求項
30記載のバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項34】 導電性材料製の箔シートを有するバイポーラプレートを使
用する工程であって、前記箔シートは水素流れ場と酸素流れ場とを有し、そのた
め、組み立てられると、前記シートは別個の水素流路と酸素流路とを形成する、
工程と、 水を前記酸素流れ場に導入する工程と、 前記水を前記酸素流れ場を通して酸素電極まで移動させる工程と、 前記酸素電極で水素イオンと電子とを形成させる工程と、 前記電子を電気負荷を通して水素電極に移動させる工程と、 前記水素イオンを電解質膜を通して前記水素電極に移動させる工程と、 前記水素イオンと前記電子とを反応させ水素を形成させる工程と、 を含むバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項35】 前記箔シートの厚さは約20milまでである請求項34
記載のバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項36】 前記箔シートの厚さは約2milから約10milである
請求項34記載のバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。 - 【請求項37】 前記箔シートは、鉄、チタン、ニオブ、ニッケル、コバル
ト、ジルコニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、前記金属の少なくと
も1つを含む合金、または前記金属の少なくとも1つを含む超合金を含む請求項
34記載のバイポーラ電気化学セルスタックを動作させるための方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US17141999P | 1999-12-22 | 1999-12-22 | |
US60/171,419 | 1999-12-22 | ||
PCT/US2000/035211 WO2001047049A1 (en) | 1999-12-22 | 2000-12-22 | Electrochemical cell design using a bipolar plate |
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