JP2003294903A - 防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法 - Google Patents
防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法Info
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- JP2003294903A JP2003294903A JP2002094871A JP2002094871A JP2003294903A JP 2003294903 A JP2003294903 A JP 2003294903A JP 2002094871 A JP2002094871 A JP 2002094871A JP 2002094871 A JP2002094871 A JP 2002094871A JP 2003294903 A JP2003294903 A JP 2003294903A
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- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ベーキングによる加熱処理を施したＭｇＦ２
層からなる防曇性被膜を反射防止膜の最上層に形成する
ことにより、その防曇効果を長時間に亘って持続させ
る。 【構成】 ガラス基板１上に、Ａｌ２Ｏ３層２、ＺｒＯ
２層３を順次形成し、最上層としてＭｇＦ２層４を形成
してなる。３つの層２、３、４は全体として反射防止膜
５を構成しており、真空蒸着法やスパッタリング法等に
より作成される。この膜作成後、２００℃のベーキング
によりガラス基板１および反射膜５に対して加熱処理を
行なう。その加熱時間はガラス基板１および反射防止膜
５中に含まれる水分が充分除去される時間とされ、例え
ば、小型レンズの場合には１時間から２時間程度で充分
である。
層からなる防曇性被膜を反射防止膜の最上層に形成する
ことにより、その防曇効果を長時間に亘って持続させ
る。 【構成】 ガラス基板１上に、Ａｌ２Ｏ３層２、ＺｒＯ
２層３を順次形成し、最上層としてＭｇＦ２層４を形成
してなる。３つの層２、３、４は全体として反射防止膜
５を構成しており、真空蒸着法やスパッタリング法等に
より作成される。この膜作成後、２００℃のベーキング
によりガラス基板１および反射膜５に対して加熱処理を
行なう。その加熱時間はガラス基板１および反射防止膜
５中に含まれる水分が充分除去される時間とされ、例え
ば、小型レンズの場合には１時間から２時間程度で充分
である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は防曇機能を有する、
防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに
防曇性反射防止膜形成方法に関し、詳しくは、密閉され
たレンズ鏡胴の端部において、隔壁として機能する対物
レンズ等の光学部材に形成された反射防止膜の防曇機能
を高め得る防曇性反射防止膜、光学部材およびその膜形
成方法に関するものである。
防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに
防曇性反射防止膜形成方法に関し、詳しくは、密閉され
たレンズ鏡胴の端部において、隔壁として機能する対物
レンズ等の光学部材に形成された反射防止膜の防曇機能
を高め得る防曇性反射防止膜、光学部材およびその膜形
成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】内部
が密閉空間とされたレンズ鏡胴等においては、その先端
に位置して外部との隔壁として機能する対物レンズが配
されており、その内側のレンズ面に反射防止膜が形成さ
れたものが知られている。
が密閉空間とされたレンズ鏡胴等においては、その先端
に位置して外部との隔壁として機能する対物レンズが配
されており、その内側のレンズ面に反射防止膜が形成さ
れたものが知られている。
【０００３】ところで、このような対物レンズは外界環
境の影響を受けやすく、その外界雰囲気の急激な温度変
化に伴いその内側のレンズ面が曇ることはよく知られて
いるところである。このレンズの曇りは、レンズ基板の
表面温度が露点以下まで下がったときに、密閉空間内部
の水分が微小な水滴となって対物レンズの内側の面に付
着し、光を散乱することによりおきる。この曇りは、光
学系の視野不良を引き起こし、その使用を困難なものと
するため、このような分野における防曇対策は重要であ
る。
境の影響を受けやすく、その外界雰囲気の急激な温度変
化に伴いその内側のレンズ面が曇ることはよく知られて
いるところである。このレンズの曇りは、レンズ基板の
表面温度が露点以下まで下がったときに、密閉空間内部
の水分が微小な水滴となって対物レンズの内側の面に付
着し、光を散乱することによりおきる。この曇りは、光
学系の視野不良を引き起こし、その使用を困難なものと
するため、このような分野における防曇対策は重要であ
る。
【０００４】従来、このような分野における防曇対策と
して、レンズをその鏡胴内に組み込む工程において、作
業環境を低温、低湿（２５℃３０％ＲＨ以下）に保持す
るようにしたものが知られているが、その効果は満足で
きるものとはなっていなかった。
して、レンズをその鏡胴内に組み込む工程において、作
業環境を低温、低湿（２５℃３０％ＲＨ以下）に保持す
るようにしたものが知られているが、その効果は満足で
きるものとはなっていなかった。
【０００５】そこで、近年、例えば、特開2001-356201
号公報に開示されているように、反射防止膜の表面に親
水性被膜を設ける方法が知られているが、このような方
法によれば、初期状態では極めて良好な防曇性を示すも
のの、時間の経過とともに急激に防曇性が劣化する。こ
れは、親水性被膜の接触角が５度以下（超親水性）なら
充分な防曇効果が得られるが、一般的な親水性被膜の接
触角は１０〜２０度であり、この親水性被膜の表面に水
滴の粒が付着すると、互いに寄り集まって非常に大きな
粒の水滴となり、しかも広い面積に亘って拡がろうとす
ることから、むしろ通常の曇り以上に光学性能に悪影響
を与えてしまうこととなる。
号公報に開示されているように、反射防止膜の表面に親
水性被膜を設ける方法が知られているが、このような方
法によれば、初期状態では極めて良好な防曇性を示すも
のの、時間の経過とともに急激に防曇性が劣化する。こ
れは、親水性被膜の接触角が５度以下（超親水性）なら
充分な防曇効果が得られるが、一般的な親水性被膜の接
触角は１０〜２０度であり、この親水性被膜の表面に水
滴の粒が付着すると、互いに寄り集まって非常に大きな
粒の水滴となり、しかも広い面積に亘って拡がろうとす
ることから、むしろ通常の曇り以上に光学性能に悪影響
を与えてしまうこととなる。
【０００６】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、密閉空間と外部との隔壁として機能する光学部材
の密閉空間側の光学面に反射防止膜が形成されたものに
おいて、従来に比して反射防止膜の防曇効果の持続性を
高めることができる防曇性反射防止膜およびこれを用い
た光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法を提供す
ることを目的とするものである。
ので、密閉空間と外部との隔壁として機能する光学部材
の密閉空間側の光学面に反射防止膜が形成されたものに
おいて、従来に比して反射防止膜の防曇効果の持続性を
高めることができる防曇性反射防止膜およびこれを用い
た光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法を提供す
ることを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の防曇性反射防止
膜は、ベーキング処理がなされたＭｇＦ２からなる防曇
性被膜を最上層に設けてなることを特徴とするものであ
る。
膜は、ベーキング処理がなされたＭｇＦ２からなる防曇
性被膜を最上層に設けてなることを特徴とするものであ
る。
【０００８】また、本発明の光学部材は、鏡胴の端部に
位置し該鏡胴内を密閉空間とする隔壁として機能し、前
記防曇性反射防止膜を前記鏡胴側の光学面に形成してな
ることを特徴とするものである。
位置し該鏡胴内を密閉空間とする隔壁として機能し、前
記防曇性反射防止膜を前記鏡胴側の光学面に形成してな
ることを特徴とするものである。
【０００９】また、前記鏡胴は撮像装置の撮影光学系を
収納するレンズ鏡胴である場合に特に有効である。
収納するレンズ鏡胴である場合に特に有効である。
【００１０】また、本発明の防曇性反射防止膜形成方法
は、光学基板上に積層され、最上層にＭｇＦ２被膜を備
える反射防止膜を形成し、この後１５０℃以上の温度で
ベーキング処理を行なって含有水分を除去することを特
徴とするものである。
は、光学基板上に積層され、最上層にＭｇＦ２被膜を備
える反射防止膜を形成し、この後１５０℃以上の温度で
ベーキング処理を行なって含有水分を除去することを特
徴とするものである。
【００１１】この場合において、前記ベーキング処理
は、前記反射防止膜が形成された光学部材を鏡胴内に組
み込む前に行われることが望ましい。
は、前記反射防止膜が形成された光学部材を鏡胴内に組
み込む前に行われることが望ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を用いて説明する。図１は、本発明の防曇性反射防
止膜をレンズ基板上に形成した様子を示すものである。
図面を用いて説明する。図１は、本発明の防曇性反射防
止膜をレンズ基板上に形成した様子を示すものである。
【００１３】すなわち、レンズ基板としてのガラス基板
１上に、Ａｌ２Ｏ３層２、ＺｒＯ２層３を順次形成し、
最上層としてＭｇＦ２層４を形成してなる。なお、Ｍｇ
Ｆ２層４の厚みは例えば１００ｎｍとする。上記３つの
層２、３、４は全体として反射防止膜５を構成してお
り、真空蒸着法やスパッタリング法等により作成され
る。
１上に、Ａｌ２Ｏ３層２、ＺｒＯ２層３を順次形成し、
最上層としてＭｇＦ２層４を形成してなる。なお、Ｍｇ
Ｆ２層４の厚みは例えば１００ｎｍとする。上記３つの
層２、３、４は全体として反射防止膜５を構成してお
り、真空蒸着法やスパッタリング法等により作成され
る。
【００１４】また、この膜作成後、２００℃のベーキン
グによりガラス基板１および反射膜５に対して加熱処理
を行なったものである。その加熱時間はガラス基板１お
よび反射防止膜５中に含まれる水分が充分除去される時
間とされ、ガラス基板１のサイズにもよるが、例えば、
小型レンズの場合には１時間から２時間程度で充分であ
る。
グによりガラス基板１および反射膜５に対して加熱処理
を行なったものである。その加熱時間はガラス基板１お
よび反射防止膜５中に含まれる水分が充分除去される時
間とされ、ガラス基板１のサイズにもよるが、例えば、
小型レンズの場合には１時間から２時間程度で充分であ
る。
【００１５】図２は、上述した防曇性の反射防止膜５が
形成された対物レンズ１０を、テレビレンズ等の撮像装
置に用いられるレンズ鏡胴２０に組み込んだ様子を示す
ものである。すなわち、この対物レンズ１０は、上述し
たように、反射防止膜５が形成され、ベーキングによる
加熱処理がなされた後、他の光学部材（レンズ、フィル
タ等）１１、１２、１３とともにレンズ鏡胴２０内に組
み込まれる。この組立工程においては、温度、湿度が各
々２５℃、３０％以下の雰囲気に保持されている。
形成された対物レンズ１０を、テレビレンズ等の撮像装
置に用いられるレンズ鏡胴２０に組み込んだ様子を示す
ものである。すなわち、この対物レンズ１０は、上述し
たように、反射防止膜５が形成され、ベーキングによる
加熱処理がなされた後、他の光学部材（レンズ、フィル
タ等）１１、１２、１３とともにレンズ鏡胴２０内に組
み込まれる。この組立工程においては、温度、湿度が各
々２５℃、３０％以下の雰囲気に保持されている。
【００１６】この対物レンズ１０は図２に示されるよう
に、レンズ鏡胴２０の端部において外部との隔壁として
機能し、レンズ（光学部材）１１との間に狭い密閉空間
３０を形成する。上述した防曇性の反射防止膜５は、こ
の対物レンズ１０がレンズ鏡胴２０内に組み込まれた際
に、密閉空間３０側に位置するレンズ面（以下、内側レ
ンズ面と称する）上の略全面に形成される。なお、この
対物レンズ１０の内側レンズ面の外周領域にはコバ部６
が形成されており、そのコバ部６には墨塗り処理が施さ
れている。
に、レンズ鏡胴２０の端部において外部との隔壁として
機能し、レンズ（光学部材）１１との間に狭い密閉空間
３０を形成する。上述した防曇性の反射防止膜５は、こ
の対物レンズ１０がレンズ鏡胴２０内に組み込まれた際
に、密閉空間３０側に位置するレンズ面（以下、内側レ
ンズ面と称する）上の略全面に形成される。なお、この
対物レンズ１０の内側レンズ面の外周領域にはコバ部６
が形成されており、そのコバ部６には墨塗り処理が施さ
れている。
【００１７】ところで、このような内部密閉空間３０や
その回りの各部材（対物レンズ１０、レンズ（光学部
材）１１、レンズ鏡胴２０等）は、水分を完全に排除す
ることは難しく、また水分を充分に除去しても、時間の
経過と共に、上記各部材を透して内部密閉空間３０内に
水分が浸入する。そして、特に対物レンズ１０の外部と
接するレンズ面（以下、外側レンズ面と称する）が冷気
に触れたり、冷水を掛けられたりして表面の温度が低下
した場合には、対物レンズ１０の内側レンズ面の温度が
低下し、この部分における露点が低下し、この内側レン
ズ面上に微小な水滴の粒が付着する。
その回りの各部材（対物レンズ１０、レンズ（光学部
材）１１、レンズ鏡胴２０等）は、水分を完全に排除す
ることは難しく、また水分を充分に除去しても、時間の
経過と共に、上記各部材を透して内部密閉空間３０内に
水分が浸入する。そして、特に対物レンズ１０の外部と
接するレンズ面（以下、外側レンズ面と称する）が冷気
に触れたり、冷水を掛けられたりして表面の温度が低下
した場合には、対物レンズ１０の内側レンズ面の温度が
低下し、この部分における露点が低下し、この内側レン
ズ面上に微小な水滴の粒が付着する。
【００１８】この水滴の粒は光を散乱するため、時間の
経過と共にこの対物レンズ１０の内側レンズ面に曇りが
生じてしてしまう。このような曇り現象は対物レンズ１
０の厚みが薄い場合に顕著である。
経過と共にこの対物レンズ１０の内側レンズ面に曇りが
生じてしてしまう。このような曇り現象は対物レンズ１
０の厚みが薄い場合に顕著である。
【００１９】従来、この内側レンズ面に親水性コートを
施して防曇性を高める技術が知られているが、親水性コ
ートの場合、親水性被膜の接触角が５度以下（超親水
性）なら充分な防曇効果が得られるが、一般的な親水性
被膜の接触角は１０〜２０度であり、内側レンズ面に一
旦水滴の粒が形成されると、各々の粒が寄り集まって大
きな水滴となり、しかも内側レンズ面上で拡がろうとす
る傾向があるため単なる曇りよりもさらに深刻な視界不
良を引き起こす虞があった。
施して防曇性を高める技術が知られているが、親水性コ
ートの場合、親水性被膜の接触角が５度以下（超親水
性）なら充分な防曇効果が得られるが、一般的な親水性
被膜の接触角は１０〜２０度であり、内側レンズ面に一
旦水滴の粒が形成されると、各々の粒が寄り集まって大
きな水滴となり、しかも内側レンズ面上で拡がろうとす
る傾向があるため単なる曇りよりもさらに深刻な視界不
良を引き起こす虞があった。
【００２０】本発明者は、このような知見に基づき、発
想の転換により、反射防止膜５の最上層に防曇性被膜と
して機能するＭｇＦ２層４を形成し、さらに、このＭｇ
Ｆ２層４にベーキングによる加熱処理を施すことにより
反射防止膜５の防曇効果を持続させる手法を見出した。
想の転換により、反射防止膜５の最上層に防曇性被膜と
して機能するＭｇＦ２層４を形成し、さらに、このＭｇ
Ｆ２層４にベーキングによる加熱処理を施すことにより
反射防止膜５の防曇効果を持続させる手法を見出した。
【００２１】この防曇効果を持続させるメカニズムは解
明されていないが、所定温度で所定時間のベーキングが
なされ、一旦水分がその空気層との界面から充分に除去
されたＭｇＦ２層４は水滴の粒を球状化し、内側レンズ
面の表面から離脱させるため、曇り現象の発生が遅延
し、また、少なくともこれら微小な水滴の粒が寄り集ま
る状態を回避し得るからではないかとも考えられる。
明されていないが、所定温度で所定時間のベーキングが
なされ、一旦水分がその空気層との界面から充分に除去
されたＭｇＦ２層４は水滴の粒を球状化し、内側レンズ
面の表面から離脱させるため、曇り現象の発生が遅延
し、また、少なくともこれら微小な水滴の粒が寄り集ま
る状態を回避し得るからではないかとも考えられる。
【００２２】以下、本発明の実施例を種々の比較例と比
較することによって、その効果をより明らかにする。な
お、反射防止膜５の層構成は上記実施形態のものに限ら
れるものではなく、最上層にＭｇＦ２層４を形成するこ
とができれば種々の構成の態様が可能であり、ＭｇＦ２
層４の単層とすることも可能である。
較することによって、その効果をより明らかにする。な
お、反射防止膜５の層構成は上記実施形態のものに限ら
れるものではなく、最上層にＭｇＦ２層４を形成するこ
とができれば種々の構成の態様が可能であり、ＭｇＦ２
層４の単層とすることも可能である。
【００２３】
【実施例】（実施例）：ＡＲ（反射防止膜；以下同じ）
＋ベーク処理 対物レンズ（ガラス基板）上にＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２の
各層を積層し、さらに最上部にＭｇＦ２層を積層し反射
防止膜を作成した。膜作成初期状態でのＭｇＦ ２層上で
の水滴の接触角は５度以下であった。
＋ベーク処理 対物レンズ（ガラス基板）上にＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２の
各層を積層し、さらに最上部にＭｇＦ２層を積層し反射
防止膜を作成した。膜作成初期状態でのＭｇＦ ２層上で
の水滴の接触角は５度以下であった。
【００２４】上記反射防止膜が作成された対物レンズに
対して加熱温度２００℃で１時間のベーキング処理を行
った。この処理により対物レンズ基材内および反射防止
膜内の水分除去が充分に行われた。この後、この対物レ
ンズを充分乾燥した雰囲気中（温度２５℃，湿度３０％
以下）でレンズ鏡胴内に組み込み、密封した。そのアッ
センブリを温度４０℃，湿度９０％の雰囲気中に放置し
た。放置したアッセンブリを、一旦６０℃で加熱処理
し、その加熱処理がなされた対物レンズの外表面に５℃
の冷水を掛けた。その後の経過日数と曇りが生じた対物
レンズの割合の関係を調べた。なお、曇りが一部に生じ
た時点でＮＧ品とした。
対して加熱温度２００℃で１時間のベーキング処理を行
った。この処理により対物レンズ基材内および反射防止
膜内の水分除去が充分に行われた。この後、この対物レ
ンズを充分乾燥した雰囲気中（温度２５℃，湿度３０％
以下）でレンズ鏡胴内に組み込み、密封した。そのアッ
センブリを温度４０℃，湿度９０％の雰囲気中に放置し
た。放置したアッセンブリを、一旦６０℃で加熱処理
し、その加熱処理がなされた対物レンズの外表面に５℃
の冷水を掛けた。その後の経過日数と曇りが生じた対物
レンズの割合の関係を調べた。なお、曇りが一部に生じ
た時点でＮＧ品とした。
【００２５】（比較例１）：ＡＲのみ
実施例と同様に、対物レンズ（ガラス基板）上にＡｌ２
Ｏ３、ＺｒＯ２の各層を積層し、さらに最上部にＭｇＦ
２層を積層し反射防止膜を作成した。
Ｏ３、ＺｒＯ２の各層を積層し、さらに最上部にＭｇＦ
２層を積層し反射防止膜を作成した。
【００２６】ベーキング処理は一切行なわず、この対物
レンズを充分乾燥した雰囲気中（温度２５℃，湿度３０
％以下）でレンズ鏡胴内に組み込み、密封した。そのア
ッセンブリを温度４０℃，湿度９０％の雰囲気中に放置
した。放置したアッセンブリを、一旦６０℃で加熱処理
し、その加熱処理がなされた対物レンズの外表面に５℃
の冷水を掛けた。その後の経過日数と曇りが生じた対物
レンズの割合の関係を調べた。なお、曇りが一部に生じ
た時点でＮＧ品とした。
レンズを充分乾燥した雰囲気中（温度２５℃，湿度３０
％以下）でレンズ鏡胴内に組み込み、密封した。そのア
ッセンブリを温度４０℃，湿度９０％の雰囲気中に放置
した。放置したアッセンブリを、一旦６０℃で加熱処理
し、その加熱処理がなされた対物レンズの外表面に５℃
の冷水を掛けた。その後の経過日数と曇りが生じた対物
レンズの割合の関係を調べた。なお、曇りが一部に生じ
た時点でＮＧ品とした。
【００２７】（比較例２）：親水性ＡＲ
対物レンズ（ガラス基板）上にＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２の
各層を積層し、さらに最上部に親水性のＳｉＯ２層を積
層し反射防止膜を作成した。膜作成初期状態でのＳｉＯ
２層上の水滴の接触角は５度以下であった。
各層を積層し、さらに最上部に親水性のＳｉＯ２層を積
層し反射防止膜を作成した。膜作成初期状態でのＳｉＯ
２層上の水滴の接触角は５度以下であった。
【００２８】この後、この対物レンズを充分乾燥した雰
囲気中（温度２５℃，湿度３０％以下）でレンズ鏡胴内
に組み込み、密封した。そのアッセンブリを温度４０
℃，湿度９０％の雰囲気中に放置した。放置したアッセ
ンブリを、一旦６０℃で加熱処理し、その加熱処理がな
された対物レンズの外表面に５℃の冷水を掛けた。その
後の経過日数と曇りが生じた対物レンズの割合の関係を
調べた。なお、曇りが一部に生じた時点でＮＧ品とし
た。
囲気中（温度２５℃，湿度３０％以下）でレンズ鏡胴内
に組み込み、密封した。そのアッセンブリを温度４０
℃，湿度９０％の雰囲気中に放置した。放置したアッセ
ンブリを、一旦６０℃で加熱処理し、その加熱処理がな
された対物レンズの外表面に５℃の冷水を掛けた。その
後の経過日数と曇りが生じた対物レンズの割合の関係を
調べた。なお、曇りが一部に生じた時点でＮＧ品とし
た。
【００２９】（比較例３）：ＡＲ＋撥水処理
対物レンズ（ガラス基板）上にＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、
ＭｇＦ２の各層を積層し、さらに最上層にフッ素系の撥
水被膜を積層し反射防止膜を形成した。この後、この対
物レンズを充分乾燥した雰囲気中（温度２５℃，湿度３
０％以下）でレンズ鏡胴内に組み込み、密封した。その
アッセンブリを温度４０℃，湿度９０％の雰囲気中に放
置した。放置したアッセンブリを、一旦６０℃で加熱処
理し、その加熱処理がなされた対物レンズの外表面に５
℃の冷水を掛けた。その後の経過日数と曇りが生じた対
物レンズの割合の関係を調べた。なお、曇りが一部に生
じた時点でＮＧ品とした。
ＭｇＦ２の各層を積層し、さらに最上層にフッ素系の撥
水被膜を積層し反射防止膜を形成した。この後、この対
物レンズを充分乾燥した雰囲気中（温度２５℃，湿度３
０％以下）でレンズ鏡胴内に組み込み、密封した。その
アッセンブリを温度４０℃，湿度９０％の雰囲気中に放
置した。放置したアッセンブリを、一旦６０℃で加熱処
理し、その加熱処理がなされた対物レンズの外表面に５
℃の冷水を掛けた。その後の経過日数と曇りが生じた対
物レンズの割合の関係を調べた。なお、曇りが一部に生
じた時点でＮＧ品とした。
【００３０】（評価）表１および表２（ＮＧ品が１００
％となるまでの日数を示す）に示すように、比較例２で
は、２日経過した時点で全数がＮＧ品となり、比較例３
では、４日経過した時点で全数がＮＧ品となり、比較例
１では、７日経過した時点で全数がＮＧ品となった。な
お、比較例の中では防曇効果の持続性が一番高かった比
較例１のものも、２日経過した時点で４０％がＮＧ品と
なった。これに対し、本実施例のものでは、１８日経過
した時点でも全数がＮＧ品とはならず（ＮＧ発生率８６
％）、ＮＧ品の発生率が４０％を超えたのは１０日経過
した時点であった。
％となるまでの日数を示す）に示すように、比較例２で
は、２日経過した時点で全数がＮＧ品となり、比較例３
では、４日経過した時点で全数がＮＧ品となり、比較例
１では、７日経過した時点で全数がＮＧ品となった。な
お、比較例の中では防曇効果の持続性が一番高かった比
較例１のものも、２日経過した時点で４０％がＮＧ品と
なった。これに対し、本実施例のものでは、１８日経過
した時点でも全数がＮＧ品とはならず（ＮＧ発生率８６
％）、ＮＧ品の発生率が４０％を超えたのは１０日経過
した時点であった。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】この実験結果から、本実施例のものが防曇
効果を極めて長く維持することができるものであること
が明らかである。なお、上記経過日数に対するＮＧ発生
率の関係をグラフに表したものを図３に示す。
効果を極めて長く維持することができるものであること
が明らかである。なお、上記経過日数に対するＮＧ発生
率の関係をグラフに表したものを図３に示す。
【００３４】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の防曇性
反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性
反射防止膜形成方法によれば、ベーキングによる加熱処
理を施したＭｇＦ２層からなる防曇性被膜を反射防止膜
の最上層に形成することにより、その防曇効果を長時間
に亘って持続させることができる。これにより、この防
曇性反射防止膜が形成された光学部材においては、曇り
現象により、その使用を中断しなければならないという
不都合を減少させることができる。
反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性
反射防止膜形成方法によれば、ベーキングによる加熱処
理を施したＭｇＦ２層からなる防曇性被膜を反射防止膜
の最上層に形成することにより、その防曇効果を長時間
に亘って持続させることができる。これにより、この防
曇性反射防止膜が形成された光学部材においては、曇り
現象により、その使用を中断しなければならないという
不都合を減少させることができる。
【図１】本実施形態に係る防曇性反射防止膜を示す概略
図
図
【図２】本実施形態に係る防曇性反射防止膜を形成した
対物レンズをレンズ鏡胴に組み込んだ様子を示す概略図
対物レンズをレンズ鏡胴に組み込んだ様子を示す概略図
【図３】本実施例と各比較例の評価結果を示すグラフ
１ ガラス基板
２ Ａｌ２Ｏ３層
３ ＺｒＯ２層
４ ＭｇＦ２層
５ 反射防止膜
６ コバ部
１０ 対物レンズ
１１、１２、１３ 光学部材
２０ レンズ鏡胴
３０ 密閉空間
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(72)発明者 窪谷 洋
埼玉県さいたま市植竹町１丁目324番地
富士写真光機株式会社内
Ｆターム(参考） 2H044 AD01 AD02
2K009 AA06 BB02 CC03 CC06 DD03
DD06 EE00
4G059 EA01 EA09
4G076 AA05 CA10 DA30
Claims (5)
- 【請求項１】 ベーキング処理がなされたＭｇＦ２から
なる防曇性被膜を最上層に設けてなることを特徴とする
防曇性反射防止膜。 - 【請求項２】 鏡胴の端部に位置し該鏡胴内を密閉空間
とする隔壁として機能し、請求項１記載の防曇性反射防
止膜を前記密閉空間側の光学面に形成してなることを特
徴とする光学部材。 - 【請求項３】 前記鏡胴は撮像装置の撮影光学系を収納
するレンズ鏡胴であることを特徴とする請求項２記載の
光学部材。 - 【請求項４】 光学基板上に積層され、最上層にＭｇＦ
２被膜を備える反射防止膜を形成し、この後１５０℃以
上の温度でベーキング処理を行なって含有水分を除去す
ることを特徴とする防曇性反射防止膜形成方法。 - 【請求項５】 前記ベーキング処理は、前記反射防止膜
が形成された光学部材を鏡胴内に組み込む前に行われる
ことを特徴とする請求項４記載の防曇性反射防止膜形成
方法。
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|---|---|---|---|
| JP2002094871A JP4018420B2 (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2002094871A JP4018420B2 (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法 |
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| JP4018420B2 JP4018420B2 (ja) | 2007-12-05 |
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ID=29238645
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|---|---|
| JP (1) | JP4018420B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007017591A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Pentax Corp | 光学機器 |
| JP2020016863A (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 京セラ株式会社 | 結合方法、レンズ、保持機構、カメラ装置および移動体 |
-
2002
- 2002-03-29 JP JP2002094871A patent/JP4018420B2/ja not_active Expired - Fee Related
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