JP2003275954A - Rotary plate for supporting centerless work - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rotary plate for a centerless work supporting machining method formed such that no notch is formed in a ultrarigid chip attached to a rotary plate. <P>SOLUTION: In the rotary plate rotating a work piece brought into contact with it, a protection layer 11 formed of a resin material is situated at the periphery of the ultrarigid chip 16 situated on the rotary plate 1 and making direct contact with the work piece 100. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、センタレス・ワー
ク支持用回転プレートに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a centerless work supporting rotary plate.

【０００２】[0002]

【従来の技術】回転プレートは、被加工物を回転させつ
つ砥石や切削工具などにより被加工物を加工する装置に
用いられるもので、この回転プレートに被加工物を押し
当てることで被加工物を保持している。2. Description of the Related Art A rotary plate is used in an apparatus for processing a work piece with a grindstone or a cutting tool while rotating the work piece. The work piece is pressed against the rotary plate. Holding

【０００３】このような加工は、センタレス・ワーク支
持加工と称されており、被加工物を固定することなく、
被加工物の一端面を工具の回転軸に設けられている回転
プレートに押し付けるだけで被加工物を保持している。This type of processing is called centerless work supporting processing, and does not fix the work piece,
The workpiece is held by simply pressing one end surface of the workpiece against a rotary plate provided on the rotary shaft of the tool.

【０００４】図６は、このセンタレス・ワーク支持加工
による加工装置と加工方法の概略を示す図面である。FIG. 6 is a view showing the outline of a processing apparatus and a processing method by the centerless work supporting processing.

【０００５】ここでは、被加工物としてトロイダル形無
段変速機のディスク（転動体）の転動面を加工する方法
を例に説明する。Here, a method of processing a rolling surface of a disk (rolling element) of a toroidal type continuously variable transmission as a workpiece will be described as an example.

【０００６】まず、被加工物１００（上記転動体）の一
端面（加工しない側）を回転する主軸１０２に設けられ
ている回転プレート１０１に接触させ、被加工物１００
の他端面に押し付けローラ１０７を押し付けることによ
り、被加工物１００を主軸方向に押さえ付けて保持す
る。また、被加工物１００は、主軸１０２の下方にある
外周支持ローラ１０８により回転自在となるように保持
する。First, one end surface (non-working side) of the workpiece 100 (the rolling element) is brought into contact with the rotating plate 101 provided on the rotating main shaft 102 to make the workpiece 100
By pressing the pressing roller 107 against the other end surface of the workpiece, the workpiece 100 is pressed and held in the main axis direction. Further, the workpiece 100 is rotatably held by the outer peripheral support roller 108 below the main shaft 102.

【０００７】この状態で、主軸１０２を回転させること
により回転プレート１０１と共に被加工物１００を回転
させ、被加工物１００の軌道面（転動面）１１０に砥石
１０９を押し付けながら揺動させて転動面１１０を研磨
し超仕上げ加工を行う。In this state, the main shaft 102 is rotated to rotate the workpiece 100 together with the rotary plate 101, and the grindstone 109 is oscillated while being pressed against the raceway surface (rolling surface) 110 of the workpiece 100. The moving surface 110 is polished and superfinishing is performed.

【０００８】加工される被加工物１００である転動体
（被加工物）の回転中心０ｗは、たとえば図７に示すよ
うに、回転する主軸１０２の回転中心Ｏｓｐに対して水
平方向にＬだけわずかにずれるように配置されており、
加工される転動体の外周部を支持するよう配置された外
周支持ローラ１０８、または固定シューで位置決めされ
ている。The center of rotation 0w of the rolling element (workpiece), which is the workpiece 100 to be processed, is slightly L in the horizontal direction with respect to the rotation center Osp of the rotating main shaft 102, as shown in FIG. It is arranged so that it shifts to
It is positioned by an outer peripheral support roller 108 arranged to support the outer peripheral portion of the rolling element to be processed, or a fixed shoe.

【０００９】これにより主軸１０２の回転に伴って被加
工物１００には回転中心Ｏｗにおいて外周支持ローラ１
０８同士で構成される角度βの中心角度方向に力Ｆが働
き、外周支持ローラ１０８で位置決めされる被加工物１
００の回転中心Ｏｗ位置回りに安定して転動体が回転す
る。As a result, with the rotation of the main shaft 102, the workpiece 100 has an outer peripheral support roller 1 at the rotation center Ow.
Workpiece 1 in which force F acts in the direction of the central angle of angle β composed of 08 and is positioned by outer peripheral support roller 108
The rolling element stably rotates around the rotation center Ow position of 00.

【００１０】このようにセンタレス・ワーク支持加工で
は、被加工物を回転させる主軸に結合された回転プレー
トに被加工物を固定することなく、回転プレートと被加
工物との摩擦力により被加工物を回転させている。As described above, in the centerless work supporting processing, the workpiece is fixed by the frictional force between the rotating plate and the workpiece without fixing the workpiece to the rotating plate connected to the spindle for rotating the workpiece. Is rotating.

【００１１】したがって、センタレス・ワーク支持加工
においては、回転プレートと被加工物との間で摩擦が生
じるために、回転プレートが摩耗して加工精度や回転安
定性を悪化させてしまうことがある。Therefore, in the centerless work supporting process, friction occurs between the rotary plate and the workpiece, so that the rotary plate may wear and deteriorate the machining accuracy and the rotational stability.

【００１２】従来から、回転プレートの摩耗を防止する
ために回転プレートの被加工物と接触する部分に超硬性
のチップが取り付けられている。Conventionally, in order to prevent wear of the rotary plate, a superhard chip is attached to a portion of the rotary plate that comes into contact with a workpiece.

【００１３】たとえば、図８に示すように、超硬性チッ
プ１０３は、回転プレート１０１の表面周方向に設けら
れた溝１０５に接着剤１０４などにより複数個取り付け
られている。For example, as shown in FIG. 8, a plurality of cemented carbide chips 103 are attached to a groove 105 provided in the circumferential direction of the surface of the rotary plate 101 with an adhesive agent 104 or the like.

【００１４】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
超硬性チップは、被加工物が回転プレートに押し付けら
れる際や、被加工物を接触させて回転させているときな
どに、超硬性チップの縁が欠けたり、ひどいときにはチ
ップ自体に亀裂や割れが発生してしまうことがある。そ
して超硬性チップに欠けや亀裂、割れなどが生じると、
被加工物に傷を付けてしまうと言う問題があった。However, the conventional cemented carbide tip has the edge of the cemented carbide tip when the workpiece is pressed against the rotating plate or when the workpiece is rotated by contacting the workpiece. Chips may be chipped or, in severe cases, chips may crack or break. And when chips, cracks, cracks etc. occur in the carbide tip,
There is a problem that the work piece is scratched.

【００１５】また、短時間で加工を行うために、被加工
物を高速で回転させたり、被加工物への工具（たとえば
砥石）の押し付け圧力を大きくしたり、また、工具の被
加工物への切り込み量を大きくするなどして加工を行う
と、被加工物の回転を妨げようとする加工抵抗が大きく
なり、回転プレートと被加工物の間に必要以上の滑りを
生じ、加工を行うために必要な適切かつ安定した被加工
物の回転が得られなくなって、良好な品質のものが安定
して得られなくなると言う問題もある。Further, in order to perform machining in a short time, the work piece is rotated at a high speed, the pressing pressure of the tool (for example, a grindstone) against the work piece is increased, and the work piece is pressed by the tool. When machining is performed by increasing the depth of cut, the machining resistance that tries to obstruct the rotation of the work piece increases, causing more slip than necessary between the rotating plate and the work piece, and There is also a problem in that the proper and stable rotation of the work piece required for the above cannot be obtained, and stable and good quality cannot be obtained.

【００１６】特に、過大に滑りが生じてしまった場合に
おいては、被加工物に傷を付けてしまうのみならず、回
転プレート自体をも損傷させてしまい、回転プレートの
修正加工や再製作を必要とすることがある。In particular, when excessive slippage occurs, not only the work piece is scratched but also the rotary plate itself is damaged, so that the rotary plate needs to be corrected and remanufactured. May be.

【００１７】そこで、本発明の目的は、回転プレートに
取り付けられている超硬性チップに欠けや、亀裂、割れ
などが生じないようにしたセンタレス・ワーク支持加工
法用回転プレートを提供することである。Therefore, an object of the present invention is to provide a rotary plate for a centerless work supporting method in which a cemented carbide chip attached to the rotary plate is prevented from being chipped, cracked, or broken. .

【００１８】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明は請求項１に示さ
れた以下の構成により達成される。The present invention can be achieved by the following configuration shown in claim 1.

【００１９】被加工物と接触させて該被加工物を回転さ
せる回転プレートにおいて、前記回転プレートの前記被
加工物と接する面に設けられ、前記被加工物と直接接触
する接触部材と、前記接触部材の少なくとも周囲を覆
い、かつ、前記硬質部材の前記被加工物に接する面と同
一面となるように設けられた保護層と、を有することを
特徴とするセンタレス・ワーク支持用回転プレート。In a rotary plate for rotating a workpiece by bringing it into contact with a workpiece, a contact member provided on a surface of the rotary plate in contact with the workpiece and in direct contact with the workpiece; A centerless work supporting rotary plate, comprising: a protective layer that covers at least the periphery of the member and is provided so as to be flush with the surface of the hard member that contacts the workpiece.

【００２０】[0020]

【発明の効果】特許請求の範囲に記載の本発明は以下の
効果を奏する。The present invention described in the claims has the following effects.

【００２１】本発明によれば、被加工物と直接接触する
接触部材の周囲に保護層を設けたので、接触部材の縁部
分を保護することができ、回転中や被加工物の取り付け
取り外し時に生じる接触部材の欠けや、亀裂、割れなど
の発生を防止することができる。これにより被加工物と
直接接触する接触部材の欠けや、亀裂、割れなどの発生
による被加工物への傷を防止することができ、このよう
な傷による不良品をなくすことができる。According to the present invention, since the protective layer is provided around the contact member that comes into direct contact with the work piece, the edge portion of the contact member can be protected, and during rotation or when attaching or detaching the work piece. It is possible to prevent the occurrence of chipping, cracking, or cracking of the contact member that occurs. As a result, it is possible to prevent chipping of the contact member that is in direct contact with the work piece, and damage to the work piece due to the occurrence of cracks, cracks and the like, and it is possible to eliminate defective products due to such damage.

【００２２】また、これにより回転プレートの機能を長
く維持することができるので、頻繁なメンテナンス（機
能維持にための修正）の手間を省くことができる。Further, since the function of the rotary plate can be maintained for a long time, it is possible to save the trouble of frequent maintenance (correction for maintaining the function).

【００２３】また、加工により摩耗した接触部材を研削
などにより修正する場合においても、この接触部材の研
磨加工時における接触部材の欠けなども同様に防止する
ことができるため、容易に修正加工することができる。
これにより、当初の性能を簡単に復元することができ
る。Further, even when a contact member worn by machining is to be repaired by grinding or the like, chipping of the contact member during polishing of this contact member can be similarly prevented, so that repairing can be easily performed. You can
This makes it possible to easily restore the original performance.

【００２４】また、保護層に樹脂材料を用いることで、
被加工物と回転プレートとの間の摩擦力を大きくするこ
とができ、滑りによる回転不良を招かずに、安定して加
工することができる。Further, by using a resin material for the protective layer,
The frictional force between the workpiece and the rotating plate can be increased, and stable processing can be performed without causing rotation failure due to slippage.

【００２５】また、保護層に常温で硬化している樹脂材
料を用いたことで、たとえば長期間の使用により接触部
材が摩耗して修正加工が必要になった場合においても、
接触部材と一緒に保護層も研磨加工することができるの
で、容易に新品と同様の状態に復元することができる。Further, by using a resin material which is hardened at room temperature for the protective layer, for example, even when the contact member is worn due to long-term use and correction processing is required,
Since the protective layer as well as the contact member can be polished, it can be easily restored to a new state.

【００２６】また、保護層として用いる樹脂材料として
ホットメルトタイプの接着剤を用いることで、接触部材
を取り替える際に、加熱することにより容易に接触部材
を取り外して、新しい接触部材に取り替えて固定するこ
とができる。これにより、回転プレート全体を再製作せ
ずに済み、安価な維持管理ができる。Further, by using a hot-melt type adhesive as the resin material used as the protective layer, when the contact member is replaced, the contact member can be easily removed by heating and replaced with a new contact member to be fixed. be able to. As a result, it is not necessary to remanufacture the entire rotary plate, and inexpensive maintenance can be performed.

【００２７】また、保護層を複数に分割されている接触
部材の間を埋めるようにすることで、保護層と被加工物
の接触面積を増大させ、被加工物と回転プレートとの滑
りを抑制しつつ、より大きな回転力を回転プレートから
被加工物に与えることができる。Further, by filling the space between the contact members which are divided into a plurality of protective layers, the contact area between the protective layer and the workpiece is increased, and slippage between the workpiece and the rotary plate is suppressed. At the same time, a larger rotating force can be applied to the workpiece from the rotating plate.

【００２８】また、保護層を分割された複数の接触部材
の周囲にのみ設けることで、保護層の使用量を少なくで
き、安価であると共に、保護層の研磨除去時に研磨工具
の目詰まりを抑制することができるため、接触部材の修
正加工などを容易にすることができる。Further, by providing the protective layer only around the plurality of divided contact members, the amount of the protective layer used can be reduced, the cost is low, and clogging of the polishing tool is suppressed when the protective layer is removed by polishing. Therefore, it is possible to facilitate the correction processing of the contact member.

【００２９】また、接触部材を環状または円盤状とする
ことで、被加工物の回転プレート接触させる面が凹凸で
あっても、接触部材と被加工部材との接触部分を確実に
確保し、回転プレートからの回転力を被加工物に与えて
回転させることができる。Further, by making the contact member annular or disc-shaped, even if the surface of the workpiece to be brought into contact with the rotary plate is uneven, the contact portion between the contact member and the workpiece is surely secured and rotated. The rotating force from the plate can be applied to the workpiece to rotate it.

【００３０】また、接触部材を回転プレートに保護層ご
と埋め込みこれらの表面を同一面とすることで、接触部
材が強固に保持され、接触部材が突出しないため、より
いっそう縁部分における欠けを防止することができる。
さらに、保護層が回転プレート表面および接触部材表面
と同一面にあるため、保護層が被加工物との摩擦により
はがれてしまうようなことも抑制でき、回転プレートの
持つ機能を安定して維持することができる。Further, by embedding the contact member together with the protective layer in the rotary plate so that their surfaces are flush with each other, the contact member is firmly held and the contact member does not project, so that chipping at the edge portion is prevented further. be able to.
Furthermore, since the protective layer is on the same surface as the surface of the rotating plate and the surface of the contact member, it is possible to prevent the protective layer from being peeled off due to friction with the work piece, so that the function of the rotating plate is stably maintained. be able to.

【００３１】また、接触部材として被加工物よりも硬い
材質、特に、超鋼、セラミックス、硬質クロムメッキ被
覆物質よりなる群から選択された少なくとも一つの材質
を用いることで、被加工物との接触による摩耗を少なく
すると共に、滑りが生じた場合における焼き付きを防止
することができる。Further, by using as the contact member a material harder than the work piece, in particular, at least one material selected from the group consisting of super steel, ceramics, and a hard chrome plating coating material, contact with the work piece is achieved. It is possible to reduce the abrasion due to, and to prevent the seizure in case of slippage.

【００３２】[0032]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【００３３】（第１の実施の形態）図１は、本発明を適
用した第１の実施の形態におけるセンタレス・ワーク支
持用回転プレートを示す図面で、図１Ａは断面図、図１
Ｂは被加工物取り付け方向から見た正面図である。(First Embodiment) FIG. 1 is a drawing showing a centerless work supporting rotary plate in a first embodiment to which the present invention is applied. FIG. 1A is a sectional view and FIG.
B is a front view seen from the mounting direction of the workpiece.

【００３４】第１の実施の形態におけるセンタレス・ワ
ーク支持用回転プレート１は、回転プレート本体１２に
設けられている超硬性チップ１６の周囲に保護層１１を
設けたものである。The centerless work supporting rotary plate 1 in the first embodiment has a protective layer 11 provided around a superhard chip 16 provided on the rotary plate body 12.

【００３５】保護層１１は、超硬性チップ１６の被加工
物１００と接する面と同一平面になるよう配置されてい
る。The protective layer 11 is arranged so as to be flush with the surface of the cemented carbide chip 16 in contact with the workpiece 100.

【００３６】この保護層１１は、回転プレート１の円周
方向には超硬性チップ１６の被加工物１００と接する面
と同一な面を形成し、回転プレート１の径方向には、被
加工物１００と接する面と同一な面を形成しつつ回転プ
レート本体１２の縁部において傾斜、もしくはなだらか
に回転プレート本体１２の面につながれている。The protective layer 11 forms the same surface in the circumferential direction of the rotary plate 1 as the surface of the cemented carbide chip 16 in contact with the workpiece 100, and in the radial direction of the rotary plate 1, the workpiece. The same surface as the surface in contact with 100 is formed, and the surface of the rotating plate body 12 is inclined or gently connected to the surface of the rotating plate body 12 at the edge of the rotating plate body 12.

【００３７】保護層１１としては、たとえばホットメル
トタイプの接着剤やゴムなどの樹脂材料が好ましい。特
に保護層として求められる性質としては、加工中におい
て供給される加工液（冷却液としての油分や水分、また
界面活性剤のような有機物を含んでいる）によって劣化
しない必要があり、ホットメルトタイプの接着剤やゴム
などはこの加工液による劣化もなく使いやすい。As the protective layer 11, for example, a hot melt type adhesive or a resin material such as rubber is preferable. In particular, the properties required for the protective layer must not be deteriorated by the working fluid supplied during processing (including oil and water as cooling fluid and organic substances such as surfactants). Adhesives, rubbers, etc. are easy to use without deterioration due to this processing liquid.

【００３８】ホットメルトタイプの接着剤としては、た
とえば、ポリエステル系やオレフィン系などのホットメ
ルト接着剤がある。またこの他に、たとえば、ゴム系接
着剤のシール剤、シーラント剤、合成ゴム系接着剤、エ
ポキシ樹脂系接着剤などをも使用することができる。Examples of hot-melt type adhesives include polyester-based and olefin-based hot-melt adhesives. Other than this, for example, a sealing agent of rubber adhesive, a sealant agent, a synthetic rubber adhesive, an epoxy resin adhesive, or the like can be used.

【００３９】ホットメルトタイプの接着剤は、熱を加え
ることで軟化し、常温においては硬化している。加工中
の回転プレートと被加工物の接触により発生する熱は、
正常の使用においては、約４０℃程度であるため、加工
中に軟化するような接着剤でなければ、特に問題となる
ことはない。The hot melt type adhesive is softened by applying heat and hardened at room temperature. The heat generated by the contact between the rotating plate and the workpiece during machining is
In normal use, since the temperature is about 40 ° C., there is no particular problem unless it is an adhesive that softens during processing.

【００４０】さらに、ホットメルトタイプの接着剤を用
いた場合には、従来からある回転プレートに対して、超
硬性チップ１６の周囲にホットメルトタイプの接着剤を
熱により溶かして塗り込むことで、簡単に本第１の実施
の形態のごとく保護層１１を形成することが可能とな
る。Further, when a hot-melt type adhesive is used, by applying a hot-melt type adhesive to the periphery of the cemented carbide chip 16 by heat and coating it on a conventional rotating plate, It becomes possible to easily form the protective layer 11 as in the first embodiment.

【００４１】一方、超硬性チップ１６は、被加工物と直
接接する部材であり、回転プレート本体１２に形成され
ている円周溝１０５により位置決めされていて、被加工
物１００と接触する部位（面）の大きさに合わせて、適
宜な大きさおよび数量で分割配置されている。On the other hand, the cemented carbide tip 16 is a member that directly contacts the workpiece, is positioned by the circumferential groove 105 formed in the rotary plate body 12, and contacts the workpiece 100 (surface). ) According to the size, it is divided and arranged in an appropriate size and quantity.

【００４２】超硬性チップ１６の回転プレート本体１２
への固定には、保護層１１として用いたホットメルトタ
イプの接着剤を用いたり、円周溝１０５に対して締まり
バメにより固定したり、別な接着剤を用いたり、また、
ロウ付けなどで接合し固定してもよい。Rotating plate body 12 of cemented carbide tip 16
For fixing to, the hot-melt type adhesive used as the protective layer 11 may be used, the circumferential groove 105 may be fixed with an interference fit, or another adhesive may be used.
They may be joined and fixed by brazing.

【００４３】超硬性チップ１６の材質としては、回転加
工中において被加工物１００と間で摩擦が生じた場合で
も摩耗が少なくなるような材料が好ましく、たとえば被
加工物よりも硬い材質が好ましい。このような硬質材と
しては、たとえば、超鋼、セラミックス、また、通常の
鋼などに硬質クロムメッキのような厚肉で耐磨耗性に優
れた被覆材を被覆したものなどが好ましい。The material of the superhard tip 16 is preferably a material which is less worn even when friction occurs between the workpiece 100 and the workpiece 100 during the rotary working. For example, a material harder than the workpiece is preferred. As such a hard material, for example, super steel, ceramics, or ordinary steel coated with a thick chrome-like coating material having excellent wear resistance such as hard chrome plating is preferable.

【００４４】特にこれらの硬質材がよい理由は、万一、
被加工物と回転プレートの間に滑りを生じてしまった場
合においても、これらの材料は焼き付きなどが発生しな
いため、万一の場合でも被加工物や回転プレート自体を
使用不可能にしてしまうことがないためである。In particular, the reason why these hard materials are good is
Even if slippage occurs between the work piece and the rotating plate, these materials will not cause seizure, so even in the unlikely event that the work piece or rotating plate itself becomes unusable. This is because there is no

【００４５】このように、超硬性チップ１６の周囲を保
護層１１により取り囲んで保護することで、被加工部材
の取り付け時や加工中において、超硬性チップ１６の縁
部分の欠けや、チップ自体の亀裂、割れなどの発生を防
止することができる。As described above, by surrounding and protecting the periphery of the superhard chip 16 by the protective layer 11, the edge portion of the superhard chip 16 is chipped or the chip itself is damaged during attachment or processing of the member to be processed. It is possible to prevent the occurrence of cracks and cracks.

【００４６】また、保護層１１は、複数に分割されてい
る超硬性チップ１６の間も埋めているため、摩擦抵抗が
大きな保護層１１と被加工物１００との接触面積が増大
することになり、被加工物１００と回転プレート１との
滑りを抑制しつつ、より大きな回転力を回転プレート１
から被加工物１００に与えることができる。Further, since the protective layer 11 also fills the spaces between the superhard chips 16 which are divided into a plurality of parts, the contact area between the protective layer 11 having a large frictional resistance and the workpiece 100 is increased. , While suppressing slippage between the workpiece 100 and the rotating plate 1, a larger rotating force is applied to the rotating plate 1.
Can be applied to the workpiece 100.

【００４７】なお、この回転プレート１により被加工物
１００を保持するには、従来と同様に、被加工物１００
の他端面に押し付けローラ１０７を押し付けることで保
持し、回転プレートの下方において、外周支持ローラ１
０８（図６参照）により被加工物１００が回転自在とな
るように保持する。以下、他の実施の形態についても同
じである。In order to hold the work piece 100 by the rotating plate 1, the work piece 100 can be held in the same manner as in the conventional case.
The pressing roller 107 is held by being pressed against the other end surface of the outer peripheral surface of
08 (see FIG. 6) holds the workpiece 100 rotatably. Hereinafter, the same applies to other embodiments.

【００４８】次に、本第１の実施の形態における実験例
を説明する。Next, an experimental example in the first embodiment will be described.

【００４９】この実験例は、本第１の実施の形態による
回転プレート１として超硬性チップ１６にセラミック
（窒化珪素）を用い、その周囲にホットメルトタイプの
接着剤（日化精工株式会社製アドフィックスＡ）を用い
て保護層１１を形成したものである。また、超硬性チッ
プ１６はこの保護層１１とした接着剤により固定した。In this experimental example, a ceramic (silicon nitride) is used for the cemented carbide chip 16 as the rotary plate 1 according to the first embodiment, and a hot-melt type adhesive (adhesive manufactured by Nika Seiko Co., Ltd.) is used around the ceramic. The protective layer 11 is formed using Fix A). The cemented carbide chip 16 was fixed by the adhesive used as the protective layer 11.

【００５０】実験は、この回転プレート１を用いて、下
記表１に示す条件により、従来技術として説明したトロ
イダル形無段変速機のディスクの転動面を加工したもの
である。なお、比較のために、同じ加工条件により従来
の回転プレートの用いた加工（比較例１）も行ってい
る。In the experiment, the rolling surface of the disk of the toroidal-type continuously variable transmission described as the prior art was machined using the rotating plate 1 under the conditions shown in Table 1 below. For comparison, processing using a conventional rotary plate (Comparative Example 1) is also performed under the same processing conditions.

【００５１】[0051]

【表１】 [Table 1]

【００５２】実験の結果を下記表２に示す。なお、以下
の表においては、本第１の実施の形態における加工を実
験例１と称し、従来の回転プレートの用いた加工を比較
例と称する。The results of the experiment are shown in Table 2 below. In the table below, the processing in the first embodiment will be referred to as Experimental Example 1, and the processing using the conventional rotary plate will be referred to as Comparative Example.

【００５３】[0053]

【表２】 [Table 2]

【００５４】表２からわかるように、本発明を適用した
実験例１においては、転動体のチップが接触していた面
に一切傷を生じることなく、良好な品質が保たれてい
る。As can be seen from Table 2, in Experimental Example 1 to which the present invention was applied, good quality was maintained without any damage on the surface of the rolling element that was in contact with the tip.

【００５５】一方、比較例においては、転動体のチップ
が接触していた面に、加工数１４個中４個に傷が確認で
きた。この傷を生じたもの全てに、取り付け時に生じた
打痕傷と、加工中に生じた線状の傷が確認された。On the other hand, in the comparative example, on the surface of the rolling element where the chips were in contact, scratches could be confirmed in 4 out of 14 processed parts. All of the scratches were found to have dent scratches during mounting and linear scratches during processing.

【００５６】このような実験結果は、本第１の実施の形
態によって、超硬性チップ１６の周囲を保護層１１によ
り保護したことで、被加工部材１０の取り付け時や加工
中において、超硬性チップ１６の縁部分に欠けが生じた
り、また、チップ自体に亀裂や、割れなどが発生しなか
ったことを示すものである。The results of such an experiment show that the protection layer 11 protects the periphery of the cemented carbide chip 16 according to the first embodiment, so that the cemented carbide chip 16 can be attached to the workpiece 10 or during processing. This means that the edge of 16 did not have a chip, and the chip itself did not have cracks or cracks.

【００５７】なお、加工した部分においては、実験例１
も比較例も共に同じ用に加工することが可能であった。
したがって、本第１の実施の形態においても、従来の加
工方法をそのまま適用することが可能であることがわか
る。これは、従来と同様に研削加工などにより行うこと
ができるということであり、同様に、メンテナンス性に
おいても優れているものである。In the processed portion, Experimental Example 1
Both the comparative example and the comparative example could be processed for the same purpose.
Therefore, it is understood that the conventional processing method can be applied to the first embodiment as it is. This means that it can be performed by grinding or the like as in the conventional case, and similarly, it is also excellent in maintainability.

【００５８】（第２の実施の形態）図２は、本発明を適
用した第２の実施の形態におけるセンタレス・ワーク支
持用回転プレートを示す図面でで、図２Ａは断面図、図
２Ｂは被加工物取り付け方向から見た正面図である。(Second Embodiment) FIG. 2 is a drawing showing a centerless work supporting rotary plate in a second embodiment to which the present invention is applied. FIG. 2A is a sectional view and FIG. It is the front view seen from the workpiece attachment direction.

【００５９】第２の実施の形態においるセンタレス・ワ
ーク支持用回転プレート２は、回転プレート２の円周方
向分割されて複数設けられている超硬性チップ１６の周
囲にのみ保護層２１を設けたものである。In the centerless work supporting rotary plate 2 of the second embodiment, a protective layer 21 is provided only around a plurality of superhard chips 16 which are circumferentially divided from the rotary plate 2. It is a thing.

【００６０】したがって、本第２の実施の形態において
は、被加工物１００の面と超硬性チップ１６とが接する
円周上において、超硬性チップ１６および保護層２１の
いずれもない部分が存在する。なお、その他の構成や、
保護層２１および超硬性チップ１６の材質などは前述し
た第１の実施の形態と同様である。Therefore, in the second embodiment, there is a portion where neither the superhard chip 16 nor the protective layer 21 exists on the circumference where the surface of the workpiece 100 and the superhard chip 16 are in contact with each other. . In addition, other configurations,
The materials of the protective layer 21 and the cemented carbide chip 16 are the same as those of the first embodiment described above.

【００６１】このように保護層２１を超硬性チップ１６
の周囲にのみ設けることで、たとえば保護層２１とし
て、ホットメルトタイプの接着剤を用いた場合、回転プ
レート本体２２の円周上全体に塗り込む必要がなくなる
ので、一つひとつの超硬性チップ１６の周囲を順次接着
させていくことで保護層２１を形成することができるよ
うになる。In this way, the protective layer 21 is formed on the cemented carbide chip 16
By providing only around the periphery of the super hard chip 16, for example, when a hot-melt type adhesive is used as the protective layer 21, it is not necessary to coat the entire circumference of the rotary plate body 22. The protective layer 21 can be formed by sequentially adhering the two.

【００６２】また、超硬性チップ１６の縁部分と接着剤
を同一の平面にそろえるために、硬化後の接着材を研削
加工により除去するにおいても、多くの接着材を除去し
なくてもすむようになり、研削砥石などの研磨工具の目
詰まりを抑制でき、作業効率を上げることができる。Further, since the edge portion of the cemented carbide chip 16 and the adhesive are aligned on the same plane, even when the adhesive after curing is removed by grinding, it is not necessary to remove much adhesive. As a result, clogging of polishing tools such as grinding wheels can be suppressed, and work efficiency can be improved.

【００６３】さらに用いる接着剤の量自体も少ないた
め、回転プレートを安価に製作することができる。Further, since the amount of adhesive used itself is small, the rotary plate can be manufactured at low cost.

【００６４】そして本第２の実施の形態においても、超
硬性チップ１６の周囲が保護層２１により囲まれて保護
されているために、超硬性チップ１６の欠けや亀裂、割
れなどの発生を防止することができる。Also in the second embodiment, since the periphery of the superhard chip 16 is surrounded and protected by the protective layer 21, the occurrence of chips, cracks, cracks or the like of the superhard chip 16 is prevented. can do.

【００６５】（第３の実施の形態）図３は、本発明を適
用した第３の実施の形態におけるセンタレス・ワーク支
持用回転プレートを示す図面でで、図３Ａは断面図、図
３Ｂは被加工物取り付け方向から見た正面図である。(Third Embodiment) FIGS. 3A and 3B are drawings showing a centerless work supporting rotary plate according to a third embodiment of the present invention. FIG. 3A is a sectional view and FIG. It is the front view seen from the workpiece attachment direction.

【００６６】第３の実施の形態におけるセンタレス・ワ
ーク支持用回転プレート３は、回転プレート本体３２に
設けられている超硬性チップ３６が分割されていない環
形状で一体形のものである。そして、この環形状の超硬
性チップ３６の外周側縁部と内周側縁部に保護層３１を
設けている。The centerless work supporting rotary plate 3 according to the third embodiment is a ring-shaped and integral type in which the superhard chip 36 provided on the rotary plate body 32 is not divided. The protective layer 31 is provided on the outer peripheral side edge and the inner peripheral side edge of the ring-shaped cemented carbide chip 36.

【００６７】この保護層３１は、回転プレート３の径方
向において、超硬性チップ３６の被加工物１２０と接す
る面と同一な面を形成しつつ、回転プレート３２の縁部
において傾斜、もしくはなだらかに回転プレート本体３
２の面につながれている。The protective layer 31 forms a surface in the radial direction of the rotary plate 3 that is in contact with the workpiece 120 of the cemented carbide tip 36, and is inclined or gentle at the edge of the rotary plate 32. Rotating plate body 3
It is connected to the second side.

【００６８】このように超硬性チップ３６として環形状
で一体形のものを使用する理由は、被加工物１２０とし
て回転プレート３と接する面に凹凸がある場合に対処す
るためである。The reason why the ring-shaped and integral type of the cemented carbide tip 36 is used is to cope with the case where the surface of the workpiece 120 in contact with the rotary plate 3 is uneven.

【００６９】たとえば図４に示すように、回転プレート
３と接する面に凹凸がある被加工物１２０としては、回
転プレート３と接する面が９０度ごとに狭い幅で放射状
に突出した突起部１２１を持つような転動体がある。For example, as shown in FIG. 4, as a work piece 120 having a concavo-convex surface in contact with the rotary plate 3, the surface in contact with the rotary plate 3 has projections 121 radially protruding at narrow intervals every 90 degrees. There is a rolling element that you have.

【００７０】このような転動体を加工するに場合は、分
割された超硬性チップを持つ回転プレートでは、分割さ
れた超硬性チップの配置位置と被加工物の突出部との位
置が同じでなければ被加工物を適切に支持することがで
きないため、本第３の実施の形態では、超硬性チップ３
６を回転プレートの円周方向に一体形状としたものであ
る。In the case of processing such a rolling element, in the rotary plate having the divided cemented carbide chips, the arrangement position of the divided cemented carbide chips and the position of the protrusion of the workpiece must be the same. For example, since the workpiece cannot be properly supported, in the third embodiment, the cemented carbide tip 3 is used.
6 is an integral shape in the circumferential direction of the rotary plate.

【００７１】そして、本第３の実施の形態では、超硬性
チップ３６の外周側縁部と内周側縁部に保護層３１を設
けて同一面にすることで、常に保護層３１にも被加工物
が接するため、摩擦力が小さくなりがちなこのような凹
凸のある被加工物２０をも適切に回転させることができ
る。In the third embodiment, the protective layer 31 is provided on the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion of the cemented carbide tip 36 so that they are flush with each other, so that the protective layer 31 is always covered. Since the workpieces come into contact with each other, it is possible to appropriately rotate the workpiece 20 having such unevenness, which tends to have a small frictional force.

【００７２】なお、保護層３１としては、前述した第１
の実施の形態同様に、ホットメルトタイプの接着剤また
はゴムなど樹脂材料が好ましい。As the protective layer 31, the first layer described above is used.
Similar to the embodiment described above, a resin material such as a hot melt type adhesive or rubber is preferable.

【００７３】ここで、本第３の実施の形態における回転
プレート３を用いた実験例を説明する。Here, an experimental example using the rotating plate 3 in the third embodiment will be described.

【００７４】実験は、図３に示した回転プレート３に被
加工物１２０を押し付けローラ１０７により押し付けて
保持し、１５００ｒｐｍで回転さたときに、被加工部材
の回転状況を見たものである。なお、比較のために、図
８に示した従来の回転プレートにより同様の実験を行っ
た結果（比較例２）を合わせて示す。In the experiment, the workpiece 120 was pressed against the rotary plate 3 shown in FIG. 3 by the pressing roller 107 and held, and the rotating state of the workpiece was observed when the workpiece was rotated at 1500 rpm. For comparison, the results (Comparative Example 2) of the same experiment performed using the conventional rotary plate shown in FIG. 8 are also shown.

【００７５】結果を表３に示す。The results are shown in Table 3.

【００７６】[0076]

【表３】 [Table 3]

【００７７】なお、ここで言う滑りとは、回転プレート
の回転に対して、被加工物である転動体の回転が約半分
以下（ほとんど回転できない場合まで含む）のような状
況を言う。The term "slip" as used herein refers to a situation in which the rotation of the rolling element, which is the object to be processed, is about half or less (including almost no rotation) with respect to the rotation of the rotary plate.

【００７８】表３に示す実験の結果からわかるように、
本発明を適用した回転プレート３においては、被加工物
に滑りが生じることなく、加工を行うことが可能である
のに対して、従来の回転プレートでは、より強い押し付
け力を加えなければ被加工物が滑って加工できない。As can be seen from the results of the experiment shown in Table 3,
In the rotating plate 3 to which the present invention is applied, the workpiece can be processed without slippage, whereas in the conventional rotating plate, the workpiece can be processed unless a stronger pressing force is applied. The object slips and cannot be processed.

【００７９】したがって、本発明を適用することで、被
加工物の回転プレートと接触する面に凹凸がある場合で
も、大きな押し付け力を加えることなく良好な加工を行
うことを示すもので、これは、被加工物との接触部分に
回転プレートの円周方向にわたり保護層を設けたこと
で、接触抵抗（摩擦抵抗）が大きくなり、回転プレート
と被加工物との摩擦が大きくなって滑りが生じないよう
になったものである。Therefore, by applying the present invention, it is shown that good processing can be performed without applying a large pressing force even when the surface of the workpiece that comes into contact with the rotating plate has irregularities. , By providing a protective layer in the contact area with the work piece in the circumferential direction of the rotating plate, the contact resistance (friction resistance) increases and the friction between the rotating plate and the work piece increases, causing slippage. It is something that has come to be gone.

【００８０】このため、従来の回転プレートを用いた場
合よりも少ない押し付け圧力で加工を行うことができる
ようになり、装置寿命を長くすることができる。For this reason, it becomes possible to carry out processing with a smaller pressing pressure than in the case of using the conventional rotary plate, and it is possible to prolong the life of the apparatus.

【００８１】また、環形状の超硬性チップ３６の縁部分
は保護層３１により保護されているため、超硬性チップ
３６の欠けや、亀裂、割れなどの発生を防止することが
できる。Further, since the edge portion of the ring-shaped cemented carbide chip 36 is protected by the protective layer 31, it is possible to prevent the cemented carbide chip 36 from being chipped, cracked, or broken.

【００８２】なお、本第３の実施の形態では、超硬性チ
ップを環形状としてが、これに代えて円盤状（中央部分
に空間のないもの）としてもよい。超硬性チップを円盤
状とした場合には、この円盤状の超硬性チップの外周縁
部分の周囲に保護層を形成することになる。In the third embodiment, the cemented carbide chip has a ring shape, but it may have a disk shape (having no space in the central portion) instead. When the superhard chip has a disc shape, a protective layer is formed around the outer peripheral edge portion of the disc-shaped superhard chip.

【００８３】（第４の実施の形態）図５は、本発明を適
用した第４の実施の形態におけるセンタレス・ワーク支
持用回転プレートを示す図面で、図５Ａは断面図、図５
Ｂは被加工物取り付け方向から見た正面図である。(Fourth Embodiment) FIG. 5 is a view showing a centerless work supporting rotary plate according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 5A is a sectional view and FIG.
B is a front view seen from the mounting direction of the workpiece.

【００８４】第４の実施の形態におけるセンタレス・ワ
ーク支持用回転プレート４は、超硬性チップ４６を、回
転プレート本体４２に設けられている溝４５内に回転プ
レート本体表面４３と同一面になるように埋め込み、さ
らにこの超硬性チップ４６の周囲に回転プレート本体表
面４３および超硬性チップ４６の表面と同一面となるよ
うに保護層４１を埋め込んだものである。In the centerless work supporting rotary plate 4 of the fourth embodiment, the cemented carbide chip 46 is placed in the groove 45 provided in the rotary plate body 42 so as to be flush with the rotary plate body surface 43. Then, a protective layer 41 is embedded around the superhard chip 46 so as to be flush with the surface 43 of the rotary plate body and the surface of the superhard chip 46.

【００８５】このため、溝４５は、回転プレート４の径
方向の長さＭが超硬性チップ４６の径方向の長さＮより
大きく形成されている。Therefore, the groove 45 is formed so that the radial length M of the rotary plate 4 is larger than the radial length N of the cemented carbide tip 46.

【００８６】超硬性チップ４６は、この溝４５の中に配
置した状態でできた空間に保護層４１を埋め込むことで
固定されている。The superhard chip 46 is fixed by embedding the protective layer 41 in the space formed in the groove 45.

【００８７】これはたとえば、保護層４１としてホット
メルトタイプの接着剤を用いた場合には、溝４５内にあ
らかじめ溶融した状態のホットメルトタイプの接着剤を
充填し、その上から超硬性チップ４６を、その表面が回
転プレート本体表面４３と同一になるように入れて、そ
の状態で接着剤の硬化を待ち、接着剤が硬化した後、表
面から出ている接着剤を研削砥石（研磨工具）などによ
り除去し、回転プレート本体表面４３、超硬性チップ４
６、および接着剤表面が均一な面となるように研磨加工
するとよい。For example, when a hot-melt type adhesive is used as the protective layer 41, the groove 45 is filled with the hot-melt type adhesive in a pre-melted state, and the cemented carbide chip 46 is placed thereon. Are put so that the surface thereof is the same as the surface 43 of the rotary plate body, and in that state, the adhesive is hardened, and after the adhesive is hardened, the adhesive sticking out from the surface is ground with a grinding wheel (polishing tool). Etc., and the rotating plate body surface 43, carbide tip 4
6 and the surface of the adhesive may be polished so as to form a uniform surface.

【００８８】これにより超硬性チップ４６の縁部分は保
護層４１により保護されているため、超硬性チップ４６
の欠けや、亀裂、割れなどの発生を防止することができ
る。Since the edge portion of the superhard tip 46 is protected by the protective layer 41, the superhard tip 46 is thus protected.
It is possible to prevent the occurrence of chipping, cracks, cracks and the like.

【００８９】特に、本第４の実施の形態では、超硬性チ
ップ４６が回転プレート本体４２に保護層４１ごと埋め
込まれているため、超硬性チップ４６が強固に保持さ
れ、さらに超硬性チップ４６の縁部分における欠けを防
止する効果が高い。In particular, in the fourth embodiment, since the superhard chip 46 is embedded in the rotary plate body 42 together with the protective layer 41, the superhard chip 46 is firmly held, and further the superhard chip 46 is It is highly effective in preventing chipping at the edges.

【００９０】また、保護層４１も回転プレート本体表面
４３および超硬性チップ４６表面と同一面にあるため、
保護層４１が被加工物１００との摩擦によりはがれてし
まうようなことも抑制でき、回転プレート４の持つ機能
を安定して維持することができる。Since the protective layer 41 is also flush with the surface 43 of the rotary plate body and the surface of the cemented carbide chip 46,
It is also possible to prevent the protective layer 41 from peeling off due to friction with the workpiece 100, and it is possible to stably maintain the function of the rotary plate 4.

【００９１】以上本発明を適用した実施の形態を説明し
たが、本発明は、これら実施の形態に限定されるもので
はなく、たとえば、上述した各実施の形態における特徴
点を組み合わせて実施するなど、様々な変形形態が実施
可能である。Although the embodiments to which the present invention is applied have been described above, the present invention is not limited to these embodiments. For example, the feature points in each of the above-described embodiments are combined and implemented. Various modifications are possible.

【００９２】また、被加工物としては、上述した実施の
形態では、トロイダル形無段変速機のディスクを例に説
明したが、これ以外にも様々な被加工物への適用が可能
であることは言うまでもない。たとえば、トロイダル形
無段変速機のパワーローラなども好適に加工を行うこと
ができるし、その他回転させながらの研削加工や超仕上
げ加工に好適に用いることができる。そして、被加工物
の回転プレートと接する面は、必ずしも十分な平面では
なくてもよい。Further, in the above-mentioned embodiment, the disk of the toroidal type continuously variable transmission has been described as an example of the workpiece, but the invention can be applied to various workpieces other than this. Needless to say. For example, a power roller of a toroidal type continuously variable transmission can be suitably processed, and it can be suitably used for grinding and superfinishing while rotating. The surface of the workpiece that contacts the rotating plate does not necessarily have to be a sufficiently flat surface.

【００９３】さらに、上述した実施の形態においては、
被加工物を回転プレートに押し付けローラにより押し付
けることで保持していたが、このような押し付け力によ
り被加工物を保持するものに限らず、たとえば、回転プ
レート側に電磁磁石や永久磁石を設けて磁力により被加
工物を吸着保持する装置、同様に回転プレート側に静電
吸着装置を設けて被加工物を静電吸着して保持する装
置、また同様に回転プレート側に真空吸引装置を設けて
被加工物を吸引して保持する装置などにおいても本発明
を適用することができる。Further, in the above-mentioned embodiment,
The workpiece was held by pressing it against the rotating plate with a pressing roller, but it is not limited to holding the workpiece by such pressing force.For example, an electromagnetic magnet or a permanent magnet may be provided on the rotating plate side. A device that attracts and holds the workpiece by magnetic force, a device that similarly installs an electrostatic attraction device on the rotating plate side to electrostatically attract and holds the workpiece, and a vacuum suction device that similarly installs on the rotating plate side. The present invention can also be applied to a device that sucks and holds a workpiece.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 本発明を適用した第１の実施の形態における
センタレス・ワーク支持用回転プレートを示す図面で、
図１Ａは断面図、図１Ｂは被加工物取り付け方向から見
た正面図である。FIG. 1 is a view showing a centerless work supporting rotary plate according to a first embodiment of the present invention,
1A is a cross-sectional view, and FIG. 1B is a front view as seen from the workpiece mounting direction.

【図２】 本発明を適用した第２の実施の形態における
センタレス・ワーク支持用回転プレートを示す図面で、
図２Ａは断面図、図２Ｂは被加工物取り付け方向から見
た正面図である。FIG. 2 is a view showing a centerless work supporting rotary plate according to a second embodiment of the present invention,
FIG. 2A is a sectional view, and FIG. 2B is a front view seen from the workpiece mounting direction.

【図３】 本発明を適用した第３の実施の形態における
センタレス・ワーク支持用回転プレートを示す図面で、
図３Ａは断面図、図３Ｂは被加工物取り付け方向から見
た正面図である。FIG. 3 is a drawing showing a centerless work supporting rotary plate according to a third embodiment of the present invention,
FIG. 3A is a sectional view, and FIG. 3B is a front view as seen from the workpiece mounting direction.

【図４】 回転プレートと接する面に凹凸のある被加工
物の一例を示す図面である。FIG. 4 is a view showing an example of a work piece having an uneven surface on a surface in contact with a rotating plate.

【図５】 本発明を適用した第４の実施の形態における
センタレス・ワーク支持用回転プレートを示す図面で、
図５Ａは断面図、図５Ｂは被加工物取り付け方向から見
た正面図である。FIG. 5 is a view showing a centerless work supporting rotary plate according to a fourth embodiment of the present invention,
5A is a sectional view, and FIG. 5B is a front view as seen from the workpiece mounting direction.

【図６】 センタレス・ワーク支持加工方法による工具
と加工方法の概略を示す図面である。FIG. 6 is a drawing showing an outline of a tool and a machining method according to a centerless work supporting and machining method.

【図７】 センタレス・ワーク支持加工方法による被加
工物の支持メカニズムを示す図面である。FIG. 7 is a view showing a support mechanism of a work piece by the centerless work support processing method.

【図８】 従来の超硬性チップ付回転プレートを示す図
面である。FIG. 8 is a view showing a conventional rotary plate with a cemented carbide tip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１、２、３、４…回転プレート １１、２１、３１、４１…保護層 １２、２２、３２、４２…回転プレート本体 １６、３６、４６…超硬性チップ １００、１２０…被加工物 １２１…突起部 1, 2, 3, 4 ... Rotating plate 11, 21, 31, 41 ... Protective layer 12, 22, 32, 42 ... Rotating plate body 16, 36, 46 ... Carbide chip 100, 120 ... Workpiece 121 ... Projection

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3C034 AA13 AA19 BB79 3C049 AA02 AA11 AB04 CA02 CB02 CB03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 3C034 AA13 AA19 BB79                 3C049 AA02 AA11 AB04 CA02 CB02                       CB03

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 被加工物と接触させて該被加工物を回転
させる回転プレートにおいて、 前記回転プレートの前記被加工物と接する面に設けら
れ、前記被加工物と直接接触する接触部材と、 前記接触部材の少なくとも周囲を覆い、かつ、前記硬質
部材の前記被加工物に接する面と同一面となるように設
けられた保護層と、 を有することを特徴とするセンタレス・ワーク支持用回
転プレート。1. A rotating plate for rotating a workpiece by bringing the workpiece into contact with a workpiece, a contact member provided on a surface of the rotating plate in contact with the workpiece, the contact member being in direct contact with the workpiece. A centerless work supporting rotary plate, comprising: a protective layer that covers at least the periphery of the contact member and is provided on the same surface as the surface of the hard member that contacts the workpiece. . 【請求項２】 前記保護層は、樹脂材料であることを特
徴とする請求項１記載のセンタレス・ワーク支持用回転
プレート。2. The centerless work supporting rotary plate according to claim 1, wherein the protective layer is made of a resin material. 【請求項３】 前記樹脂材料は、常温で軟化せず、かつ
耐油性および耐水性を有することを特徴とする請求項２
記載のセンタレス・ワーク支持用回転プレート。3. The resin material does not soften at room temperature and has oil resistance and water resistance.
Rotating plate for centerless work support described. 【請求項４】 前記樹脂材料は、ホットメルトタイプの
接着剤であることを特徴とする請求項２または３記載の
センタレス・ワーク支持用回転プレート。4. The rotating plate for supporting a centerless work according to claim 2, wherein the resin material is a hot melt type adhesive. 【請求項５】 前記接触部材は、分割されて複数個配設
されており、 前記保護層は、当該分割されている複数の接触部材の周
囲と、複数の接触部材の間に設けられていることを特徴
とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のセンタレス
・ワーク支持用回転プレート。5. The plurality of contact members are divided and arranged, and the protective layer is provided around the plurality of divided contact members and between the plurality of contact members. The centerless work supporting rotary plate according to any one of claims 1 to 4, wherein: 【請求項６】 前記接触部材は、分割されて複数個配設
されており、 前記保護層は、当該分割されている複数の接触部材の周
囲にのみ設けられていることを特徴とする請求項１〜４
のいずれか一つに記載のセンタレス・ワーク支持用回転
プレート。6. The contact member is divided into a plurality of the contact members, and the protective layer is provided only around the divided contact members. 1-4
The centerless work supporting rotary plate described in any one of 1. 【請求項７】 前記接触部材は、環状または円盤状であ
り、 前記保護層は、当該環状または円盤状の接触部材の周囲
に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいず
れか一つに記載のセンタレス・ワーク支持用回転プレー
ト。7. The contact member is annular or disc-shaped, and the protective layer is provided around the annular or disc-shaped contact member. Rotating plate for centerless work support described in one. 【請求項８】 前記回転プレートの本体表面、前記接触
部材の表面、および前記保護層の表面が同一平面内にあ
ることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一つに記載
のセンタレス・ワーク支持用回転プレート。8. The centerless device according to claim 1, wherein the surface of the main body of the rotary plate, the surface of the contact member, and the surface of the protective layer are in the same plane. Rotating plate for supporting work. 【請求項９】 前記接触部材は、少なくとも前記被加工
物よりも硬い材質よりなることを特徴とする請求項１〜
８のいずれか一つに記載のセンタレス・ワーク支持用回
転プレート。9. The contact member is made of a material that is harder than at least the workpiece.
8. The centerless work supporting rotary plate described in any one of 8. 【請求項１０】 前記硬い材質は、超鋼、セラミック
ス、硬質クロムメッキ被覆材よりなる群から選択された
少なくとも一つの材質よりなることを特徴とする請求項
９記載のセンタレス・ワーク支持用回転プレート。10. The rotary plate for supporting a centerless work according to claim 9, wherein the hard material is at least one material selected from the group consisting of super steel, ceramics, and hard chrome plating coating material. .