JP2003275647A - Discharge device for functional liquid droplet, and manufacturing method for liquid crystal display device using the same, organic el device, electron emission device, pdp device, electrophoretic display device, color filter and organic el, and forming method for spacer, metallic wiring, lens, resist and light diffusing body - Google Patents
Discharge device for functional liquid droplet, and manufacturing method for liquid crystal display device using the same, organic el device, electron emission device, pdp device, electrophoretic display device, color filter and organic el, and forming method for spacer, metallic wiring, lens, resist and light diffusing bodyInfo
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 242
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 115
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 111
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 25
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 title claims description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 124
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 84
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 117
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 92
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 14
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 10
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 8
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 160
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 51
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 36
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 20
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 20
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- -1 glycol ethers Chemical class 0.000 description 3
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrobenzofuran Chemical compound C1=CC=C2OCCC2=C1 HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000854908 Homo sapiens WD repeat-containing protein 11 Proteins 0.000 description 1
- 101100219325 Phaseolus vulgaris BA13 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 101000701286 Pseudomonas aeruginosa (strain ATCC 15692 / DSM 22644 / CIP 104116 / JCM 14847 / LMG 12228 / 1C / PRS 101 / PAO1) Alkanesulfonate monooxygenase Proteins 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000702105 Rattus norvegicus Sproutin Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000983349 Solanum commersonii Osmotin-like protein OSML13 Proteins 0.000 description 1
- 101001094026 Synechocystis sp. (strain PCC 6803 / Kazusa) Phasin PhaP Proteins 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100020705 WD repeat-containing protein 11 Human genes 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- VMTCKFAPVIWNOF-UHFFFAOYSA-N methane tetrahydrofluoride Chemical compound C.F.F.F.F VMTCKFAPVIWNOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N nile red Chemical compound C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=O)C2=C1 VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ビットマップ化さ
れたデータに基づき、ワークに機能液滴を選択的に吐出
する機能液滴吐出装置、並びにこれを用いた液晶表示装
置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置
の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置
の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製
造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ
形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a functional liquid droplet ejecting apparatus for selectively ejecting functional liquid droplets on a work based on bit-mapped data, and a method for manufacturing a liquid crystal display device using the functional liquid droplet ejecting apparatus. EL device manufacturing method, electron emission device manufacturing method, PDP device manufacturing method, electrophoretic display device manufacturing method, color filter manufacturing method, organic EL manufacturing method, spacer forming method, metal wiring forming method, lens forming The present invention relates to a method, a resist forming method, and a light diffuser forming method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、インクジェットプリンタなどの機
能液滴吐出装置は、ビットマップ化された描画パターン
データに基づき、機能液滴吐出ヘッドからワークに対し
て選択的に機能液滴を吐出することにより画像の形成を
行っている。一般的に、描画パターンデータは、パーソ
ナルコンピュータなどの外部装置によって生成され、こ
れをＦＦＣ（Flexible Flat Cable）を使用した有線に
より、機能液滴吐出ヘッドを駆動する駆動装置に伝送し
ている。2. Description of the Related Art Conventionally, a functional liquid droplet ejecting apparatus such as an ink jet printer discharges functional liquid droplets selectively from a functional liquid droplet ejecting head onto a work based on bit-mapped drawing pattern data. The image is being formed. Generally, drawing pattern data is generated by an external device such as a personal computer, and is transmitted to a driving device that drives a functional liquid droplet ejection head by wire using an FFC (Flexible Flat Cable).
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の機
能液滴吐出装置に用いられる機能液滴吐出ヘッドは、そ
のノズル列から微小な液滴を精度良く且つ選択的に吐出
することができるため、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装
置等のカラーフィルタの製造に応用可能であると共に、
各種の電子デバイスや光デバイス等の製造装置への応用
も期待されている。このような応用技術を考慮すると、
描画パターンデータの伝送経路におけるノイズの影響
を、極力小さく抑えることが望ましいが、ＦＦＣを使用
した伝送方式では、クロストークなどのノイズが発生
し、安定したデータ伝送が困難であった。特に、大型の
インクジェットプリンタなどでは、伝送距離が１０ｍ近
くになる場合もあり、このような場合は、伝送経路にお
けるノイズが、インクの吐出不良の原因となっていた。By the way, the functional liquid droplet ejection head used in this type of functional liquid droplet ejection device is capable of precisely and selectively ejecting minute liquid droplets from its nozzle row. It can be applied to the production of color filters for liquid crystal display devices, organic EL display devices, etc.
It is also expected to be applied to manufacturing devices for various electronic devices and optical devices. Considering such applied technology,
It is desirable to suppress the influence of noise on the transmission path of the drawing pattern data as small as possible, but in the transmission method using the FFC, noise such as crosstalk occurs and stable data transmission is difficult. In particular, in a large inkjet printer or the like, the transmission distance may be close to 10 m, and in such a case, noise in the transmission path has been a cause of ink ejection failure.
【０００４】本発明は、データ伝送のノイズを抑え、安
定したヘッド駆動が可能な機能液滴吐出装置、並びにこ
れを用いた液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製
造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方
法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製
造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属
配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法およ
び光拡散体形成方法を提供することをその課題としてい
る。The present invention is directed to a functional liquid droplet ejecting device capable of suppressing noise in data transmission and capable of stable head driving, a liquid crystal display device manufacturing method using the same, an organic EL device manufacturing method, and an electron emitting device. Manufacturing method, PDP device manufacturing method, electrophoretic display device manufacturing method, color filter manufacturing method, organic EL manufacturing method, spacer forming method, metal wiring forming method, lens forming method, resist forming method, and light diffuser forming method The challenge is to provide a method.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の機能液滴吐出装
置は、ビットマップ化されたデータに基づき、ワークに
機能液滴を選択的に吐出する機能液滴吐出装置であっ
て、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドと、機能
液滴吐出ヘッドを駆動する駆動手段と、データを記憶す
ると共に駆動手段を制御する制御手段と、光導波路によ
り構成され、制御手段から駆動手段にデータを伝送する
第１光伝送手段と、を備えていることを特徴とする。A functional liquid droplet ejecting apparatus of the present invention is a functional liquid droplet ejecting apparatus for selectively ejecting functional liquid droplets onto a work on the basis of bit-mapped data. A functional liquid droplet ejection head having a nozzle, a driving unit for driving the functional liquid droplet ejection head, a control unit for storing data and controlling the driving unit, and an optical waveguide. The control unit transmits data to the driving unit. And a first optical transmission means for transmitting.
【０００６】この構成によれば、データを記憶すると共
に駆動手段を制御する制御手段から機能液滴吐出ヘッド
を駆動する駆動手段にデータを伝送する第１光伝送手段
が、光導波路により構成されているため、クロストーク
などのノイズの発生を抑えることができる。また、装置
が大型の場合など伝送距離が長い場合であっても、デー
タ伝送が高速であるため、タクトタイムに影響を与える
ことがない。なお、光導波路には、光ファイバや光ケー
ブルなどフレキシブルに接続可能なものの他、ガラス管
等で固定的に接続可能なものも含まれる。According to this structure, the first optical transmission means for storing data and transmitting the data from the control means for controlling the driving means to the driving means for driving the functional liquid droplet ejection head is constituted by the optical waveguide. Therefore, the occurrence of noise such as crosstalk can be suppressed. Further, even if the transmission distance is long, such as when the device is large, the tact time is not affected because the data transmission is fast. The optical waveguide includes not only a flexible connection such as an optical fiber and an optical cable but also a fixed connection such as a glass tube.
【０００７】この場合、光導波路により構成され、駆動
手段から機能液滴吐出ヘッドにデータを伝送する第２光
伝送手段を、更に備えていることが好ましい。In this case, it is preferable to further include a second optical transmission means which is composed of an optical waveguide and which transmits data from the driving means to the functional liquid droplet ejection head.
【０００８】この構成によれば、駆動手段から機能液滴
吐出ヘッドにデータを伝送する第２光伝送手段が、第１
光伝送手段と同様、光導波路により構成されているた
め、クロストークなどのノイズの発生を抑えることがで
きると共に、データ伝送の高速化を計ることができる。According to this structure, the second optical transmission means for transmitting the data from the driving means to the functional liquid droplet ejection head includes the first optical transmission means.
Since it is composed of an optical waveguide as in the case of the optical transmission means, it is possible to suppress the occurrence of noise such as crosstalk and to speed up data transmission.
【０００９】これらの場合、光導波路は、その両端部に
光電変換器を有しており、光電変換器の発光側の素子は
面発光レーザにより構成され、受光側の素子はフォトト
ランジスタにより構成されていることが好ましい。In these cases, the optical waveguide has photoelectric converters at both ends thereof, the element on the light emitting side of the photoelectric converter is constituted by a surface emitting laser, and the element on the light receiving side is constituted by a phototransistor. Preferably.
【００１０】この構成によれば、光電変換器は、発光素
子として面発光レーザを使用しているため、光を収束さ
せて光導波路内に導くことができると共に光導波路との
微少な芯ずれを簡易な方法でカバーすることができる。
また、受光素子としてフォトトランジスタを使用してい
るため、反応速度が速く、駆動波形の鈍りを抑えること
ができる。According to this structure, since the photoelectric converter uses the surface emitting laser as the light emitting element, the light can be converged and guided into the optical waveguide, and a slight misalignment with the optical waveguide is generated. It can be covered in a simple way.
Further, since the phototransistor is used as the light receiving element, the reaction speed is fast, and the dullness of the drive waveform can be suppressed.
【００１１】この場合、光電変換器は、光導波路の端部
に設けられると共に位置合わせ用のピンを突設した固定
部と、一方の面に形成した凹部の開口側に光素子を配置
すると共に当該凹部形成面にピンを挿入可能な挿入孔を
有したプラットフォームと、により構成されることが好
ましい。In this case, the photoelectric converter has a fixing portion provided at an end portion of the optical waveguide and provided with a projecting pin for alignment, and an optical element disposed on the opening side of a concave portion formed on one surface. It is preferable that it is constituted by a platform having an insertion hole into which a pin can be inserted in the concave portion forming surface.
【００１２】この構成によれば、固定部のピンをプラッ
トフォームの挿入孔に挿入することによって、光導波路
を光素子に対して、その光軸を高い精度で位置合わせす
ることができる。また、ピンを挿入孔に挿入するため、
光導波路の取り扱いが容易となる。According to this structure, the optical axis of the optical waveguide can be aligned with the optical element with high accuracy by inserting the pin of the fixing portion into the insertion hole of the platform. Also, because the pin is inserted into the insertion hole,
The optical waveguide is easy to handle.
【００１３】この場合、光素子は、凹部の開口側に電極
を有し、プラットフォームには凹部を含む領域に配線層
が形成され、凹部の内側に形成された配線層と、電極と
がワイヤにより接続されていることが好ましい。In this case, the optical element has an electrode on the opening side of the recess, the wiring layer is formed on the platform in a region including the recess, and the wiring layer formed inside the recess and the electrode are formed by a wire. It is preferably connected.
【００１４】この構成によれば、光素子と配線層とを電
気的に接続させることができる。また、この場合、光素
子は凹部の開口側に電極を有し、凹部の内側に形成され
た配線層とワイヤにより接続されているため、低コスト
で構成することができると共に、ピンを挿入孔に挿入し
たときに、光導波路の端面がワイヤに接触することを防
ぐことができる。According to this structure, the optical element and the wiring layer can be electrically connected. Further, in this case, since the optical element has the electrode on the opening side of the recess and is connected to the wiring layer formed inside the recess by the wire, the optical element can be configured at low cost and the pin can be inserted into the insertion hole. It is possible to prevent the end face of the optical waveguide from coming into contact with the wire when it is inserted into.
【００１５】これらの場合、吐出装置本体は、雰囲気調
和用のチャンバ内に収容されており、第１光伝送手段
は、チャンバの壁体に気密に埋め込んだ光電変換器を介
して接続されることが好ましい。In these cases, the main body of the discharge device is housed in a chamber for conditioning the atmosphere, and the first light transmission means is connected via a photoelectric converter embedded in the wall of the chamber in an airtight manner. Is preferred.
【００１６】この構成によれば、吐出装置本体が、雰囲
気調和用のチャンバ内に収容されているため、温度等が
管理された安定な雰囲気の中で吐出処理を行うことがで
きる。また、第１光伝送手段は、チャンバの壁体に気密
に埋め込んだ光電変換器を介して接続されるため、チャ
ンバ内の雰囲気を逃がす（リーク）ことなく、容易に接
続することができる。According to this structure, since the main body of the discharge device is housed in the atmosphere-conditioning chamber, the discharge process can be performed in a stable atmosphere in which the temperature and the like are controlled. Moreover, since the first optical transmission means is connected via the photoelectric converter embedded in the wall of the chamber in an airtight manner, the first optical transmission means can be easily connected without letting the atmosphere inside the chamber escape (leak).
【００１７】これらの場合、駆動手段は、機能液滴吐出
ヘッドのエラーを検出し、第１光伝送手段は、機能液滴
吐出ヘッドのエラー信号を駆動手段から制御手段に伝送
することが好ましい。In these cases, it is preferable that the driving means detects an error of the functional liquid droplet ejection head, and the first optical transmission means transmits an error signal of the functional liquid droplet ejection head from the driving means to the control means.
【００１８】この構成によれば、駆動手段によって機能
液滴吐出ヘッドのエラーを検出し、その検出結果である
エラー信号を第１光伝送手段を介して制御手段に伝送す
ることができる。すなわち、第１光伝送手段により、制
御手段から駆動手段に、データを伝送できると共に、駆
動手段から制御手段にエラー信号を伝送することができ
る。According to this structure, it is possible to detect the error of the functional liquid droplet ejection head by the drive means and transmit the error signal as the detection result to the control means via the first optical transmission means. That is, the first optical transmission unit can transmit data from the control unit to the drive unit, and also can transmit an error signal from the drive unit to the control unit.
【００１９】この場合、第１光伝送手段は、２本の光導
波路により構成されていることが好ましい。In this case, it is preferable that the first optical transmission means is composed of two optical waveguides.
【００２０】この構成によれば、第１光伝送手段が、２
本の光導波路により構成されているため、それぞれ１本
ずつ、データ伝送用とエラー信号伝送用に使用すること
ができる。したがって、同時に、データとエラー信号を
伝送させることができる。According to this structure, the first optical transmission means is
Since one optical waveguide is used, one optical waveguide can be used for data transmission and one for error signal transmission. Therefore, the data and the error signal can be transmitted at the same time.
【００２１】これらの場合、駆動手段は、パワーアンプ
を有するヘッドドライバにより構成され、パワーアンプ
は、機能液滴吐出ヘッドの近傍に設けたサブ基板上に配
設されていることが好ましい。In these cases, it is preferable that the driving means is composed of a head driver having a power amplifier, and the power amplifier is arranged on a sub-board provided near the functional liquid droplet ejection head.
【００２２】この構成によれば、パワーアンプが、機能
液滴吐出ヘッドの近傍に設けたサブ基板上に配設されて
いるため、パワーアンプから機能液滴吐出ヘッドへのデ
ータの伝送距離を最大限短くすることができる。すなわ
ち、アナログ伝送による波形の鈍りやクロストークを最
小限に抑えることができる。According to this structure, since the power amplifier is arranged on the sub-board provided in the vicinity of the functional liquid droplet ejection head, the data transmission distance from the power amplifier to the functional liquid droplet ejection head is maximized. It can be shortened as much as possible. That is, it is possible to minimize the waveform blunting and crosstalk due to analog transmission.
【００２３】この場合、ヘッドドライバは、サブ基板上
に配設されていることが好ましい。In this case, the head driver is preferably arranged on the sub-board.
【００２４】この構成によれば、ヘッドドライバが、サ
ブ基板上に配設されているため、第２光伝送手段による
伝送距離を最大限短くすることができる。すなわち、ア
ナログ伝送による波形の鈍りやクロストークを最小限に
抑えることができる。According to this structure, since the head driver is arranged on the sub-board, the transmission distance by the second optical transmission means can be minimized. That is, it is possible to minimize the waveform blunting and crosstalk due to analog transmission.
【００２５】本発明の他の機能液滴吐出装置は、ビット
マップ化されたデータに基づき、ワークに機能液滴を選
択的に吐出する機能液滴吐出装置であって、複数のノズ
ルを有する機能液滴吐出ヘッドと、機能液滴吐出ヘッド
を駆動する駆動手段と、データを記憶すると共に駆動手
段を制御する制御手段と、無線により構成され、制御手
段から駆動手段にデータを伝送する第１無線伝送手段
と、を備えていることを特徴とする。Another functional liquid droplet ejecting apparatus of the present invention is a functional liquid droplet ejecting apparatus which selectively ejects functional liquid droplets onto a work based on bit-mapped data, and has a plurality of nozzles. A first radio configured by a droplet discharge head, a driving unit that drives the functional droplet discharge head, a control unit that stores data and controls the driving unit, and that transmits data from the control unit to the driving unit. And a transmission means.
【００２６】この構成によれば、制御手段から駆動手段
にデータを伝送する第１光伝送手段が、無線（ワイヤレ
ス）により構成されているため、装置構成や配置の自由
度が高まると共にノイズの発生を抑えることができる。
なお、この場合、他のBluetoothや無線LAN等による電波
の影響が無い状況にて使用されることが好ましい。この
構成によれば、他の電波によるノイズの発生をなくすこ
とができる。According to this structure, since the first optical transmission means for transmitting data from the control means to the driving means is constructed by radio, the degree of freedom in the construction and arrangement of the device is increased and noise is generated. Can be suppressed.
In this case, it is preferably used in a situation where there is no influence of radio waves due to other Bluetooth or wireless LAN. With this configuration, it is possible to eliminate the generation of noise due to other radio waves.
【００２７】この場合、無線により構成され、駆動手段
から機能液滴吐出ヘッドにデータを伝送する第２無線伝
送手段を、更に備えていることが好ましい。In this case, it is preferable to further include a second wireless transmission means that is configured by radio and that transmits data from the driving means to the functional liquid droplet ejection head.
【００２８】この構成によれば、駆動手段から機能液滴
吐出ヘッドにデータを伝送する第２光伝送手段が、第１
光伝送手段と同様、無線により構成されているため、ノ
イズの発生を抑えることができる。According to this structure, the second optical transmission means for transmitting the data from the driving means to the functional liquid droplet ejection head is the first optical transmission means.
Like the optical transmission means, since it is configured by radio, it is possible to suppress the generation of noise.
【００２９】本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記
した機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上
に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の
製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の
フィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対
し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多
数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。A method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a large number of filter elements are formed on a substrate of a color filter by using the above-mentioned functional liquid droplet ejection device, and a plurality of functions It is characterized in that a filter material of each color is introduced into the droplet discharge head, the functional droplet discharge head is relatively scanned with respect to the substrate, and the filter material is selectively discharged to form a large number of filter elements.
【００３０】本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記
した機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピク
セルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製
造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発
光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対
的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発
光層を形成することを特徴とする。A method of manufacturing an organic EL device according to the present invention is a method of manufacturing an organic EL device in which an EL light emitting layer is formed on each of a large number of pixel pixels on a substrate by using the above-mentioned functional droplet discharge device. It is possible to introduce a luminescent material of each color into a plurality of functional liquid droplet ejection heads, scan the functional liquid droplet ejection head relative to a substrate, and selectively eject the luminescent material to form a large number of EL light emitting layers. Characterize.
【００３１】本発明の電子放出装置の製造方法は、上記
した機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を
形成する電子放出装置の製造方法であって、複数の機能
液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐
出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択
的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とす
る。A method of manufacturing an electron-emitting device according to the present invention is a method of manufacturing an electron-emitting device in which a large number of phosphors are formed on electrodes by using the above-described functional liquid droplet discharging device, and a plurality of functional liquid droplet discharging devices are discharged. The present invention is characterized in that a fluorescent material of each color is introduced into the head, the functional liquid droplet ejection head is scanned relative to the electrodes, and the fluorescent material is selectively ejected to form a large number of phosphors.
【００３２】本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記し
た機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部に
それぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であっ
て、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入
し、機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査
し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成す
ることを特徴とする。A method of manufacturing a PDP device according to the present invention is a method of manufacturing a PDP device in which a fluorescent substance is formed in each of a large number of recesses on a rear substrate by using the above-described functional liquid droplet ejection device. It is characterized in that fluorescent materials of respective colors are introduced into the droplet discharge head, the functional droplet discharge head is relatively scanned with respect to the rear substrate, and the fluorescent material is selectively discharged to form a large number of phosphors.
【００３３】本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、
上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部
に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であっ
て、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導
入し、機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査
し、泳動体材料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成
することを特徴とする。The method of manufacturing the electrophoretic display device of the present invention comprises:
A method of manufacturing an electrophoretic display device in which electrophoretic particles are formed in a large number of recesses on an electrode using the functional liquid droplet ejection device described above, wherein electrophoretic material of each color is introduced into a plurality of functional liquid droplet ejection heads, The functional liquid droplet ejection head is relatively scanned with respect to the electrodes to selectively eject the electrophoretic material to form a large number of electrophoretic materials.
【００３４】このように、上記の機能液滴吐出装置を、
液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminesc
ence）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤ
Ｐ（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気
泳動表示装置の製造方法に適用することにより、各装置
に求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置
に適切な量を選択的に供給することができる。なお、機
能液滴吐出ヘッドの走査は、一般的には主走査および副
走査となるが、いわゆる１ラインを単一の機能液滴吐出
ヘッドで構成する場合には、副走査のみとなる。また、
電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Dis
play）装置を含む概念である。As described above, the functional liquid droplet ejection apparatus described above is
Liquid crystal display manufacturing method, organic EL (Electro-Luminesc
ence) device manufacturing method, electron-emitting device manufacturing method, PD
By applying the method for manufacturing a P (Plasma Display Panel) device and the method for manufacturing an electrophoretic display device, a filter material, a light-emitting material, etc. required for each device are selectively supplied to an appropriate position in an appropriate amount. be able to. The scanning of the functional liquid droplet ejection head is generally a main scanning and a sub scanning, but when so-called one line is configured by a single functional liquid droplet ejection head, it is only a sub scanning. Also,
The electron emission device is a so-called FED (Field Emission Discharge).
play) is a concept including a device.
【００３５】本発明のカラーフィルタの製造方法は、上
記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィル
タエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造する
カラーフィルタの製造方法であって、複数の機能液滴吐
出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出
ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選
択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成するこ
とを特徴とする。この場合、多数のフィルタエレメント
を被覆するオーバーコート膜が形成されており、フィル
タエレメントを形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッ
ドに透光性のコーティング材料を導入し、機能液滴吐出
ヘッドを基板に対し相対的に走査し、コーティング材料
を選択的に吐出してオーバーコート膜を形成すること
が、好ましい。A method of manufacturing a color filter according to the present invention is a method of manufacturing a color filter in which a large number of filter elements are arranged on a substrate by using the above-mentioned functional liquid droplet ejection apparatus, Introducing a filter material of each color into the functional liquid droplet discharge head, scanning the functional liquid droplet discharge head relative to the substrate, and selectively discharging the filter material to form a large number of filter elements. To do. In this case, an overcoat film that covers a large number of filter elements is formed, and after forming the filter elements, a translucent coating material is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads to remove the functional liquid droplet ejection heads. It is preferable to scan relative to the substrate and selectively eject the coating material to form the overcoat film.
【００３６】本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した
機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の複数
の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造
方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光
材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的
に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光
層を形成することを特徴とする。この場合、多数のＥＬ
発光層と基板との間には、ＥＬ発光層に対応して多数の
画素電極が形成されており、複数の機能液滴吐出ヘッド
に液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に
対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して
多数の画素電極を形成することが、好ましい。この場
合、多数のＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成され
ており、ＥＬ発光層を形成した後に、複数の機能液滴吐
出ヘッドに液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッド
を基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に
吐出して対向電極を形成することが、好ましい。The method of manufacturing an organic EL of the present invention is a method of manufacturing an organic EL in which a large number of pixel pixels including an EL light emitting layer are arranged on a substrate by using the above-mentioned functional liquid droplet ejection apparatus. Then, the luminescent material of each color is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads, the functional liquid droplet ejection head is relatively scanned with respect to the substrate, and the luminescent material is selectively ejected to form a large number of EL light emitting layers. It is characterized by In this case, many ELs
A large number of pixel electrodes are formed between the light emitting layer and the substrate so as to correspond to the EL light emitting layer, and the liquid electrode material is introduced into a plurality of functional liquid droplet ejection heads so that the functional liquid droplet ejection heads are placed on the substrate. It is preferable to perform a relative scan and selectively eject the liquid electrode material to form a large number of pixel electrodes. In this case, the counter electrode is formed so as to cover a large number of EL light emitting layers, and after the EL light emitting layers are formed, the liquid electrode material is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads to form the functional liquid droplet ejection heads on the substrate. It is preferable that the counter electrode is formed by scanning relatively with respect to the liquid electrode material and selectively discharging the liquid electrode material.
【００３７】本発明のスペーサ形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャ
ップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するス
ペーサ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに
スペーサを構成する粒子材料を導入し、機能液滴吐出ヘ
ッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒
子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形成する
ことを特徴とする。The spacer forming method of the present invention is a spacer forming method in which a large number of particulate spacers are formed in order to form a minute cell gap between two substrates by using the above-mentioned functional liquid droplet discharging apparatus. Introducing a particle material forming a spacer into a plurality of functional liquid droplet ejection heads, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to at least one substrate, and selectively ejecting the particle material to form a spacer on the substrate. Is formed.
【００３８】本発明の金属配線形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金
属配線形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに
液状金属材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対
し相対的に走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金
属配線を形成することを特徴とする。The metal wiring forming method of the present invention is a method for forming a metal wiring on a substrate by using the above-mentioned functional liquid droplet ejecting apparatus, wherein a liquid metal material is applied to a plurality of functional liquid droplet ejecting heads. It is characterized in that the functional liquid droplet ejection head is scanned relative to the substrate and the liquid metal material is selectively ejected to form a metal wiring.
【００３９】本発明のレンズ形成方法は、上記した機能
液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを
形成するレンズ形成方法であって、複数の機能液滴吐出
ヘッドにレンズ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基
板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出し
て多数のマイクロレンズを形成することを特徴とする。The lens forming method of the present invention is a lens forming method in which a large number of microlenses are formed on a substrate by using the above-mentioned functional liquid droplet ejection apparatus, and a lens material is introduced into a plurality of functional liquid droplet ejection heads. Then, the functional liquid droplet ejection head is relatively scanned with respect to the substrate to selectively eject the lens material to form a large number of microlenses.
【００４０】本発明のレジスト形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを
形成するレジスト形成方法であって、複数の機能液滴吐
出ヘッドにレジスト材料を導入し、機能液滴吐出ヘッド
を基板に対し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に
吐出してレジストを形成することを特徴とする。The resist forming method of the present invention is a resist forming method for forming a resist having an arbitrary shape on a substrate by using the above-mentioned functional liquid droplet ejecting apparatus, wherein a resist material is introduced into a plurality of functional liquid droplet ejecting heads. Then, the functional liquid droplet ejection head is scanned relative to the substrate, and the resist material is selectively ejected to form a resist.
【００４１】本発明の光拡散体形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成
する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘ
ッドに光拡散材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板
に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して
多数の光拡散体を形成することを特徴とする。The light diffusing body forming method of the present invention is a method for forming a large number of light diffusing bodies on a substrate by using the above-mentioned functional liquid droplet ejecting apparatus. Introducing a light diffusing material into the substrate, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the substrate, and selectively ejecting the light diffusing material to form a large number of light diffusing bodies.
【００４２】このように、上記の機能液滴吐出装置を、
カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペ
ーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レ
ジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用すること
により、各電子デバイスや各光デバイスに求められるフ
ィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選
択的に供給することができる。As described above, the functional liquid droplet ejection apparatus described above is
By applying to a color filter manufacturing method, an organic EL manufacturing method, a spacer forming method, a metal wiring forming method, a lens forming method, a resist forming method and a light diffuser forming method, it is required for each electronic device and each optical device. It is possible to selectively supply an appropriate amount of a filter material, a light emitting material or the like to an appropriate position.
【００４３】[0043]
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本
発明の実施形態について説明する。インクジェットプリ
ンタ（機能液滴吐出装置）のインクジェットヘッド（機
能液滴吐出ヘッド）は、微小なインク滴（液滴）をドッ
ト状に精度良く吐出することができることから、機能液
（吐出対象液）に特殊なインクや感光性・発光性の樹脂
等を用いることにより、各種部品の製造分野への応用が
期待されている。また、本実施形態の機能液滴吐出装置
は、例えば液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の、いわゆる
フラットディスプレイの製造装置に適用され、その複数
の機能液滴吐出ヘッドからフィルタ材料や発光材料等の
機能液を吐出して（インクジェット方式）、液晶表示装
置におけるＲ．Ｇ．Ｂのフィルタエレメントや、有機Ｅ
Ｌ装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を
形成するものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The inkjet head (functional liquid droplet ejection head) of an inkjet printer (functional liquid droplet ejection device) is capable of precisely ejecting minute ink droplets (droplets) in a dot shape, and is therefore a functional liquid (ejection target liquid). It is expected to be applied to the manufacturing field of various parts by using special ink and photosensitive / luminescent resin. Further, the functional liquid droplet ejection apparatus of the present embodiment is applied to a so-called flat display manufacturing apparatus such as a liquid crystal display device or an organic EL device. The functional liquid is ejected (inkjet method), and R.I. G. B filter element and organic E
The EL emission layer and the hole injection layer of each pixel in the L device are formed.
【００４４】そこで、本実施形態では、有機ＥＬ装置の
製造装置に組み込まれる機能液滴吐出装置を備えた描画
装置を例に説明する。また、この機能液滴吐出装置を、
他のいわゆるフラットディスプレイの製造方法に適用し
た例についても説明する。Therefore, in this embodiment, a drawing apparatus provided with a functional liquid droplet ejection apparatus incorporated in a manufacturing apparatus of an organic EL device will be described as an example. In addition, this functional droplet discharge device
An example applied to another so-called flat display manufacturing method will also be described.
【００４５】図１および図２に示すように、描画装置１
は、機能液滴吐出装置１０とこれに併設した付帯装置１
１と、これらを制御する制御装置（ＰＣ）１２とを備え
ている。制御装置１２は、描画を行うための描画パター
ンデータを生成すると共に、これを内部のイメージバッ
ファ１１１内に記憶する。そして、記憶した描画パター
ンデータを光導波路により構成される第１光伝送手段１
８を介して、ヘッド駆動装置１７に伝送する。なお、描
画パターンデータを他の外部装置により生成し、これを
ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に格納したものを、制御装置
１２に読み込ませるようにしても良い。As shown in FIGS. 1 and 2, the drawing device 1
Is a functional liquid droplet ejection device 10 and an auxiliary device 1 attached to the functional liquid droplet ejection device 10.
1 and a control device (PC) 12 that controls them. The control device 12 generates drawing pattern data for drawing and stores the drawing pattern data in the internal image buffer 111. Then, the stored drawing pattern data is formed by the first optical transmission means 1 constituted by the optical waveguide.
8 to the head drive device 17. The drawing pattern data may be generated by another external device and stored in a recording medium such as a CD-ROM to be read by the control device 12.
【００４６】詳細については後述するが、第１光伝送手
段１８を構成する光導波路の両端部には、光電変換器２
０１が介設されており、光電変換器２０１の発光側は、
光素子２１０として面発光レーザを使用し、受光側はフ
ォトトランジスタを使用している。なお、光導波路とし
ては、光ファイバや光ケーブルなどフレキシブルに接続
可能なものが用いられることが好ましい。この構成によ
れば、装置構成や配置の自由度を損ねることがなく、取
り扱いが容易となる。Although details will be described later, the photoelectric converter 2 is provided at both ends of the optical waveguide forming the first optical transmission means 18.
01 is interposed, and the light emitting side of the photoelectric converter 201 is
A surface emitting laser is used as the optical element 210, and a phototransistor is used on the light receiving side. As the optical waveguide, a flexible connectable one such as an optical fiber or an optical cable is preferably used. According to this configuration, handling is facilitated without impairing the degree of freedom in the device configuration and arrangement.
【００４７】一方、付帯装置１１は、機能液滴吐出装置
１０に発光機能材料（発光材料：機能液）を供給すると
共に不要となった機能液を回収する機能液供給回収装置
１３、各構成部品への駆動・制御用等の圧縮エアーを供
給するエアー供給装置１４、エアーを吸引する真空吸引
装置１５および機能液滴吐出ヘッド７のメンテナンスに
供するメンテナンス装置１６等を有している。On the other hand, the accessory device 11 supplies the light-emitting functional material (light-emitting material: functional liquid) to the functional liquid droplet ejection device 10 and collects the functional liquid that is no longer needed. It has an air supply device 14 for supplying compressed air for driving / controlling, a vacuum suction device 15 for sucking air, and a maintenance device 16 for maintenance of the functional liquid droplet ejection head 7.
【００４８】そして、これら機能液滴吐出装置１０およ
び付帯装置１１は、クリーンルーム形式のチャンバ（チ
ャンバルーム）２０に収容されており、複数の機能液滴
吐出ヘッド７からの機能液の吐出動作を含む一連の製造
工程が、不活性ガス（窒素ガス）の雰囲気中で行われる
ようになっている。なお、この場合、第１光伝送手段１
８は、チャンバルーム２０内の雰囲気を逃がさないよう
にチャンバの壁体に埋め込んだ光電変換器２０１（発行
側）を介して接続されることが好ましい。この構成によ
れば、特別にコネクタ等を用いることなく、容易に接続
することができる。The functional liquid droplet ejection device 10 and the auxiliary device 11 are housed in a clean room type chamber (chamber room) 20, and include the operation of ejecting the functional liquid from a plurality of functional liquid droplet ejection heads 7. A series of manufacturing processes are performed in an atmosphere of an inert gas (nitrogen gas). In this case, the first optical transmission means 1
8 is preferably connected via a photoelectric converter 201 (issue side) embedded in the wall of the chamber so that the atmosphere in the chamber room 20 does not escape. According to this configuration, it is possible to easily connect without using a connector or the like.
【００４９】機能液滴吐出装置１０は、床上に設置した
架台２１と、架台２１上に設置したＸ軸テーブル２３お
よびこれに直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル
２４に吊設するように設けたメインキャリッジ２５と、
メインキャリッジ２５に搭載したヘッドユニット２６
と、ヘッドユニット２６を駆動するヘッド駆動装置１７
とを有している。ヘッドユニット２６には、サブキャリ
ッジ（キャリッジ）４１を介して、それぞれ２列のノズ
ル列３７を有する１２個の機能液滴吐出ヘッド７が搭載
されている。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に
対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基
板（ワーク）Ｗがセットされるようになっている。The functional liquid droplet ejection apparatus 10 is so constructed as to be suspended from the gantry 21 installed on the floor, the X-axis table 23 installed on the gantry 21 and the Y-axis table 24 orthogonal to this, and the Y-axis table 24. The main carriage 25 provided,
Head unit 26 mounted on the main carriage 25
And a head drive device 17 for driving the head unit 26.
And have. Twelve functional liquid droplet ejection heads 7 each having two nozzle rows 37 are mounted on the head unit 26 via a sub-carriage (carriage) 41. Further, the substrate (work) W is set on the suction table 28 of the X-axis table 23 corresponding to the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7.
【００５０】本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、機
能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に
同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘ
ッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方
向への往復の両動作により行われる。また、これに対応
して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能
液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われ
る。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復
動）動作のみで行うようにしてもよい。The functional liquid droplet ejection apparatus 10 of this embodiment has a structure in which the substrate W moves in synchronization with the driving of the functional liquid droplet ejection head 7 (selective ejection of functional liquid droplets). The so-called main scanning of 7 is performed by both reciprocating movements of the X-axis table 23 in the X-axis direction. Correspondingly, so-called sub-scanning is performed by the Y-axis table 24 by the forward movement operation of the functional liquid droplet ejection head 7 in the Y-axis direction. The main scanning may be performed only by the forward (or backward) movement in the X-axis direction.
【００５１】ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４
１と、サブキャリッジ４１の端部に立設した支持部材７
１と、支持部材７１の上端に固定した中継基板（サブ基
板）７２と、中間基板７２と１２個の機能液滴吐出ヘッ
ド７とを接続するＦＦＣ（Flexible Flat Cable；第２
光伝送手段）１９とを備えている。この第２光伝送手段
１９によって、制御装置１２により生成された描画パタ
ーンデータを各機能液滴吐出ヘッド７に伝送している。The head unit 26 includes the sub-carriage 4
1 and a supporting member 7 standing on the end of the sub-carriage 41
1, a relay substrate (sub-substrate) 72 fixed to the upper end of the support member 71, an intermediate substrate 72, and an FFC (Flexible Flat Cable; second) that connects the 12 functional liquid droplet ejection heads 7
Optical transmission means) 19. The second optical transmission means 19 transmits the drawing pattern data generated by the control device 12 to each functional liquid droplet ejection head 7.
【００５２】１組２本で構成されるＦＦＣ１９は、それ
ぞれ両端にヘッド側コネクタ７６および中継側コネクタ
７７を有しており、各ヘッド側コネクタ７６は、各機能
液滴吐出ヘッド７のヘッド基板８１に接続されている。
また、ＦＦＣ１９は、中継基板７２に形成したスリット
開口を貫通して中継基板７２の上側に延び且つ折り返
し、その各中継側コネクタ７７が、中継基板７２の受け
コネクタ８０にそれぞれ接続されている。なお、各ＦＦ
Ｃ１９は、電流容量を増加させるため線径を大きくする
と共に、各線間距離を大きくすることが好ましい。この
構成によれば、よりクロストーク等を防止することがで
きる。The FFC 19 composed of one set and two has a head side connector 76 and a relay side connector 77 at both ends, and each head side connector 76 is a head substrate 81 of each functional liquid droplet ejection head 7. It is connected to the.
Further, the FFC 19 penetrates through the slit opening formed in the relay board 72, extends to the upper side of the relay board 72 and is folded back, and each relay side connector 77 is connected to the receiving connector 80 of the relay board 72. In addition, each FF
In C19, it is preferable to increase the wire diameter in order to increase the current capacity and to increase the distance between the wires. With this configuration, crosstalk and the like can be further prevented.
【００５３】さらに、中継基板７２上には、ヘッドドラ
イバ、パワーアンプおよびバッファ回路等により構成さ
れるヘッド駆動装置１７が配設されている。このよう
に、ヘッド駆動装置１７から機能液滴吐出ヘッド７への
データの伝送距離を最大限短くすることで、アナログ伝
送による波形の鈍りやクロストーク等のノイズを最小限
に抑えることができる。なお、この場合パワーアンプの
みを中継基板７２上に配設するようにしても良い。この
構成によれば、比較的省スペースに配設可能であるた
め、他の回路の配置を妨げることがない。Further, on the relay board 72, a head driving device 17 including a head driver, a power amplifier, a buffer circuit and the like is arranged. In this way, by maximizing the data transmission distance from the head drive device 17 to the functional liquid droplet ejection head 7, it is possible to minimize noise such as waveform blunting and crosstalk due to analog transmission. In this case, only the power amplifier may be arranged on the relay board 72. According to this configuration, since it can be arranged in a relatively small space, it does not hinder the arrangement of other circuits.
【００５４】一方、メンテナンス装置１６は、機能液滴
吐出ヘッド７の定期的なフラッシング（全吐出ノズル３
８からの機能液の捨て吐出）を受けるフラッシングユニ
ット３３と、機能液滴吐出ヘッド７の機能液吸引および
保管を行うクリーニングユニット３４と、機能液滴吐出
ヘッド７のノズル形成面をワイピングするワイピングユ
ニット３５とを有している。On the other hand, the maintenance device 16 is configured to regularly flush the functional liquid droplet ejection head 7 (all ejection nozzles 3).
Flushing unit 33 that receives (discharging and discharging the functional liquid from 8), a cleaning unit 34 that sucks and stores the functional liquid of the functional liquid droplet ejection head 7, and a wiping unit that wipes the nozzle formation surface of the functional liquid droplet ejection head 7. And 35.
【００５５】ここで、図５の模式図を参照して、窒素ガ
スの雰囲気中で稼動する描画装置１の一連の動作を簡単
に説明する。先ず、準備段階として、作業に供する基板
用のヘッドユニット２６が機能液滴吐出装置１０に運び
込まれ、これがメインキャリッジ２５にセットされる。
ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットさ
れると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図
外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カ
メラによりヘッドユニット２６が位置認識される。ここ
で、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ
補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ
軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、
ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６はホーム
位置に戻る。Now, with reference to the schematic view of FIG. 5, a series of operations of the drawing apparatus 1 operating in the atmosphere of nitrogen gas will be briefly described. First, as a preparatory step, a head unit 26 for a substrate to be used for work is carried into the functional liquid droplet ejection apparatus 10 and set on the main carriage 25.
When the head unit 26 is set on the main carriage 25, the Y-axis table 24 moves the head unit 26 to the position of a head recognition camera (not shown), and the head recognition camera recognizes the position of the head unit 26. Here, based on this recognition result, the head unit 26 detects θ
Corrected and in the X-axis direction of the head unit 26 and Y
Axial position correction is performed on the data. After position correction,
The head unit (main carriage 25) 26 returns to the home position.
【００５６】一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２
８上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入
されると、この位置（受渡し位置）で図外の主基板認識
カメラが基板を位置認識する。ここで、この認識結果に
基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向
およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置
補正後、基板（吸着テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻
る。なお、Ｘ軸およびＹ軸テーブル２３，２４の初期調
整時（いわゆる通り出し）には、吸着テーブル２８上に
アライメントマスクを導入し、図外の副基板認識カメラ
により初期調整（位置認識）を行う。On the other hand, the suction table 2 of the X-axis table 23
When a substrate (in this case, each substrate to be introduced) W is introduced onto the substrate 8, a main substrate recognition camera (not shown) recognizes the substrate at this position (delivery position). Here, based on this recognition result, the substrate W is θ-corrected, and the position correction of the substrate W in the X-axis direction and the Y-axis direction is performed on the data. After the position correction, the substrate (suction table 28) W returns to the home position. At the time of initial adjustment of the X-axis and Y-axis tables 23 and 24 (so-called passing), an alignment mask is introduced on the suction table 28, and initial adjustment (position recognition) is performed by a sub-substrate recognition camera (not shown). .
【００５７】このようにして準備が完了すると、実際の
液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基
板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴
吐出ヘッド７を駆動して、制御装置１２により生成され
た描画パターンデータに基づき、機能液滴の基板Ｗへの
選択的な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、こ
んどはＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６
を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主
走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が
行われる。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗ
の端から端まで（全領域）液滴吐出が行われる。When the preparation is completed in this way, in the actual droplet discharge work, first, the X-axis table 23 is driven, the substrate W is reciprocated in the main scanning direction, and a plurality of functional droplet discharge heads 7 are driven. Then, based on the drawing pattern data generated by the controller 12, the selective discharge operation of the functional liquid droplets onto the substrate W is performed. After the substrate W returns, the Y-axis table 24 is driven and the head unit 26
Is moved in the sub-scanning direction by one pitch, and the substrate W is reciprocated in the main scanning direction and the functional liquid droplet ejection head 7 is driven again. Then, by repeating this several times, the substrate W
The liquid droplets are ejected from end to end (entire area).
【００５８】一方、上記の動作に並行し、機能液滴吐出
装置１０のヘッドユニット（機能液滴吐出ヘッド７）２
６には、エアー供給装置１４を圧力供給源として機能液
供給回収装置１３から機能液が連続的に供給され、また
吸着テーブル２８では、基板Ｗを吸着すべく、真空吸引
装置１５によりエアー吸引が行われる。また、液滴吐出
作業の直前には、ヘッドユニット２６がクリーニングユ
ニット３４およびワイピングユニット３５に臨んで、機
能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８からの機能液吸
引と、これに続くノズル形成面１３９の拭取りが行われ
る。液滴吐出作業中には、適宜ヘッドユニット２６がフ
ラッシングユニット３３に臨んで、フラッシングが行わ
れる。On the other hand, in parallel with the above operation, the head unit (functional liquid droplet ejection head 7) 2 of the functional liquid droplet ejecting apparatus 10 is operated.
6, the functional liquid is continuously supplied from the functional liquid supply / recovery device 13 using the air supply device 14 as a pressure supply source, and the suction table 28 sucks the substrate W by air suction by the vacuum suction device 15. Done. Immediately before the droplet discharge work, the head unit 26 faces the cleaning unit 34 and the wiping unit 35 to suck the functional liquid from all the discharge nozzles 38 of the functional droplet discharge head 7 and the nozzle formation surface subsequent thereto. 139 is wiped off. During the droplet discharge work, the head unit 26 appropriately faces the flushing unit 33 to perform flushing.
【００５９】なお、本実施形態では、ヘッドユニット２
６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向
（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユ
ニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよ
い。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主
走査方向および副走査方向に移動させる構成であっても
よい。In this embodiment, the head unit 2
6, the substrate W which is the ejection target is moved in the main scanning direction (X-axis direction), but the head unit 26 may be moved in the main scanning direction. Further, the head unit 26 may be fixed and the substrate W may be moved in the main scanning direction and the sub scanning direction.
【００６０】次に、図３のブロック図を参照し、描画装
置１における描画パターンデータのデータ伝送処理につ
いて説明する。描画装置１のデータ伝送処理は、生成さ
れた描画パターンデータを格納したイメージバッファ部
１１０と、機能液滴吐出ヘッド７および各制御回路を有
するヘッド部１２０と、ヘッド部１２０を駆動するヘッ
ド駆動部１３０と、イメージバッファ部１１０からヘッ
ド駆動部１３０に描画パターンデータを伝送する第１光
伝送手段１８と、ヘッド駆動部１３０からヘッド部１２
０に描画パターンデータを伝送する第２光伝送手段１９
と、により構成されている。Next, the data transmission processing of the drawing pattern data in the drawing apparatus 1 will be described with reference to the block diagram of FIG. In the data transmission process of the drawing apparatus 1, the image buffer unit 110 storing the generated drawing pattern data, the head unit 120 having the functional liquid droplet ejection head 7 and each control circuit, and the head drive unit driving the head unit 120. 130, the first optical transmission unit 18 for transmitting the drawing pattern data from the image buffer unit 110 to the head driving unit 130, and the head driving unit 130 to the head unit 12.
Second optical transmission means 19 for transmitting drawing pattern data to 0
It consists of and.
【００６１】イメージバッファ部１１０は、イメージバ
ッファ１１１内にビットマップ化された描画パターンデ
ータを格納しており、１８０個のノズルにより構成され
るノズル列３７に対応するｍドット（例えば、１８０ド
ット）毎にデータを伝送する。The image buffer section 110 stores the drawing pattern data bit-mapped in the image buffer 111, and has m dots (for example, 180 dots) corresponding to the nozzle row 37 formed by 180 nozzles. Data is transmitted for each.
【００６２】ヘッド部１２０は、１の機能液滴吐出ヘッ
ド７上に列設される２つのノズル列３７を奇数ノズル列
３７ａと偶数ノズル列３７ｂとしたとき、それぞれのノ
ズル列３７ａ，３７ｂにより描画される描画パターンデ
ータを、シリアル−パラレル変換するシリアル−パラレ
ル変換回路１２１，１２２と、変換されたデータをそれ
ぞれのノズル列３７ａ，３７ｂに設定するラッチ回路１
２３，１２４と、奇数ノズル列３７ａおよび偶数ノズル
列３７ｂの２つのノズル列を列設した機能液滴吐出ヘッ
ド７と、を有している。When the two nozzle rows 37 arranged on one functional liquid droplet ejection head 7 are an odd nozzle row 37a and an even nozzle row 37b, the head section 120 draws with the respective nozzle rows 37a and 37b. Serial-parallel conversion circuits 121 and 122 that perform serial-parallel conversion of the drawn pattern data, and a latch circuit 1 that sets the converted data to the respective nozzle rows 37a and 37b.
23 and 124, and a functional liquid droplet ejection head 7 in which two nozzle rows, an odd nozzle row 37a and an even nozzle row 37b, are arranged.
【００６３】ヘッド駆動部１３０は、奇数ノズル列３７
ａと偶数ノズル列３７ｂを選択するための選択回路１３
１と、奇数ノズル列３７ａと偶数ノズル列３７ｂのいず
れか後に描画されるノズル列（ここでは、偶数ノズル列
３７ｂ）により描画される描画パターンデータを一時的
に格納するバッファ回路１３２とを有している。なお、
複数のノズル列３７に対応して複数のバッファ回路を設
けるようにしても良い。The head drive unit 130 has an odd number of nozzle rows 37.
Selection circuit 13 for selecting a and the even nozzle row 37b
1 and a buffer circuit 132 for temporarily storing drawing pattern data drawn by a nozzle row (here, even nozzle row 37b) drawn after either the odd nozzle row 37a or the even nozzle row 37b. ing. In addition,
A plurality of buffer circuits may be provided corresponding to the plurality of nozzle rows 37.
【００６４】第１光伝送手段１８は、光導波路で構成さ
れ、その両端に光電変換器２０１を介設すると共に、伝
送経路中に、パラレル−シリアル変換回路１８１を有し
ている。第２光伝送手段１９は、ＦＦＣにより構成さ
れ、奇数ノズル列３７ａまたは偶数ノズル列３７ｂとし
て選択された描画パターンデータをそれぞれヘッド部に
伝送する。The first optical transmission means 18 is composed of an optical waveguide, a photoelectric converter 201 is provided at both ends of the optical waveguide, and a parallel-serial conversion circuit 181 is provided in the transmission path. The second optical transmission unit 19 is composed of an FFC and transmits the drawing pattern data selected as the odd nozzle row 37a or the even nozzle row 37b to the head portion.
【００６５】上記の構成により、制御装置１２によって
生成された描画パターンデータは、まず、奇数ノズル列
ｎに対応するｍドットを、第１光伝送手段１８を介して
ヘッド駆動部１３０に伝送し、選択回路１３１によりシ
リアル−パラレル変換回路１２１に送る。パラレル変換
されたデータは、ラッチ回路１２３によって奇数ノズル
列３７ａに設定される。一方、偶数ノズル列ｎ＋１に対
応するｍドットを、第１光伝送手段１８を介してヘッド
駆動部１３０に伝送し、選択回路１３１により一旦バッ
ファ回路１３２に送って格納する。そして、偶数ノズル
列３７ｂが基板Ｗ上の所定の描画位置に移動したとき、
偶数ノズル列３７ｂにより描画されるデータは、シリア
ル−パラレル変換回路１２２およびラッチ回路１２４を
介して偶数ノズル列３７ｂに設定される。このように、
各ノズル列１７に対応するデータが順次伝送されること
により、基板Ｗ上に描画が行われる。With the above configuration, the drawing pattern data generated by the control device 12 first transmits m dots corresponding to the odd nozzle row n to the head drive section 130 via the first optical transmission means 18, It is sent to the serial-parallel conversion circuit 121 by the selection circuit 131. The parallel-converted data is set in the odd nozzle row 37a by the latch circuit 123. On the other hand, m dots corresponding to the even-numbered nozzle row n + 1 are transmitted to the head drive unit 130 via the first optical transmission unit 18, and once sent to the buffer circuit 132 by the selection circuit 131 to be stored. When the even-numbered nozzle row 37b moves to a predetermined drawing position on the substrate W,
The data drawn by the even nozzle row 37b is set in the even nozzle row 37b via the serial-parallel conversion circuit 122 and the latch circuit 124. in this way,
Drawing is performed on the substrate W by sequentially transmitting the data corresponding to each nozzle row 17.
【００６６】なお、描画パターンデータのデータ伝送に
は、ＴＭＤＳ（Transmission Minimized Differential
Signaling）、Panel Link；（いずれも、Silicon Image
社）およびＤＶＩ（Digital Visual Interface）；ＤＤ
ＷＧ（Digital Display Working Group）等のインター
フェースが用いられることが好ましい。For data transmission of drawing pattern data, TMDS (Transmission Minimized Differential) is used.
Signaling), Panel Link; (both are Silicon Image
Company) and DVI (Digital Visual Interface); DD
An interface such as WG (Digital Display Working Group) is preferably used.
【００６７】次に、光導波路（第１光伝送手段１８）の
両端部に介設される光電変換器２０１の構成について説
明する。図４ないし図６に示すように、光電変換器２０
１は、光素子２１０に対して光導波路（以下、「光ファ
イバ２４０」という）を位置決めするためのものであ
り、光ファイバ２４０の端部を固定する固定部２５２
と、光素子２１０を配置するプラットフォーム２２０と
により構成される。Next, the structure of the photoelectric converter 201 provided at both ends of the optical waveguide (first optical transmission means 18) will be described. As shown in FIGS. 4 to 6, the photoelectric converter 20
Reference numeral 1 is for positioning an optical waveguide (hereinafter referred to as “optical fiber 240”) with respect to the optical element 210, and a fixing portion 252 for fixing an end portion of the optical fiber 240.
And a platform 220 on which the optical element 210 is arranged.
【００６８】固定部２５２は、その中央部に光ファイバ
２４０が配置され、その周囲には位置合わせ用のピン２
５０が突設されている。光ファイバ２４０は、コア２４
２とこれを同心円状に囲むクラッド２４４とにより構成
され、コア２４２とグラッド２４４との境界で光が反射
されて、コア２４２内に光が閉じこめられることにより
伝搬するものである。光ファイバ２４０の端面２４６
は、固定部２５２の一方の面（底面）２５６と面一とな
るように形成され、プラットフォーム２２０の一方の面
（上面）２２９と当接している。すなわち、固定部２５
２は、光ファイバ２４０の端面２４６を後述する光素子
２１０の光学的部分２１２に非接触にするためのストッ
パとしての役割を有している。一方、ピン２５０は、光
ファイバ２４０の端面２４６よりも、光ファイバ２４０
の軸方向に突出しており、プラットフォーム２２０に形
成された挿入孔２２４に挿入される。The optical fiber 240 is arranged in the center of the fixing portion 252, and the positioning pin 2 is provided around the optical fiber 240.
50 is projected. The optical fiber 240 includes the core 24
2 and a clad 244 that surrounds the same concentrically, and the light is reflected at the boundary between the core 242 and the glad 244, and is propagated by being confined in the core 242. End face 246 of optical fiber 240
Are formed so as to be flush with one surface (bottom surface) 256 of the fixing portion 252, and are in contact with one surface (top surface) 229 of the platform 220. That is, the fixed portion 25
2 has a role as a stopper for making the end face 246 of the optical fiber 240 out of contact with the optical portion 212 of the optical element 210 described later. On the other hand, the pin 250 is more likely than the end face 246 of the optical fiber 240
Is projected in the axial direction and is inserted into an insertion hole 224 formed in the platform 220.
【００６９】プラットフォーム２２０は凹部２３０を有
するプラットフォーム本体２２１と、凹部２３０に配置
される光素子２１０とにより構成される。光素子２１０
は、凹部２３０の開口側に光学的部分２１２を有してお
り、光素子２１０が発光素子であるときは光学的部分は
発光部であり、光素子２１０が受光素子であるときは、
光学的部分は受光部である。なお、上述の通り、発光素
子としては、面発光レーザが用いられ、受光素子として
は、フォトトランジスタが用いられている。The platform 220 is composed of a platform body 221 having a recess 230 and an optical element 210 arranged in the recess 230. Optical element 210
Has an optical portion 212 on the opening side of the concave portion 230. When the optical element 210 is a light emitting element, the optical portion is a light emitting portion, and when the optical element 210 is a light receiving element,
The optical part is a light receiving part. As described above, the surface emitting laser is used as the light emitting element, and the phototransistor is used as the light receiving element.
【００７０】また、光素子２１０は、少なくとも１つの
電極２１４を有しており、プラットフォーム本体２２１
の凹部２３０および上面２２９に形成された配線層２２
２とワイヤ２２６により電気的に接続されている。この
とき、ワイヤ２２６は、配線層２２２のうち、凹部２３
０の内側に形成される部分にボンディングされており、
ワイヤ２２６のループの頂点は、凹部２３０の開口端部
が位置する面（プラットフォーム本体２２１の上面２２
９）よりも低くなるように配置されている。これによ
り、光ファイバ２４０（固定部２５２）をプラットフォ
ーム２２０に取り付けた場合に、ワイヤ２２６が断線す
ることがない。また、本実施形態の場合、光素子２１０
は、電極２１４の他に電極２１６を有しており、配線層
２２２と電気的に接続されている。この場合、電性接着
剤を用いて接続（接着）されることが好ましい。一方、
プラットフォーム本体２２１は、凹部２３０の周囲に位
置決め用の挿入孔２２４が形成されており、固定部２５
２に突設されたピン２５０が挿入可能となっている。す
なわち、光ファイバ２４０の端部に設けられたピン２５
０を用いて、光ファイバ２４０と光素子２１０とを位置
決めすることにより、光ファイバ２４０の取り扱いが容
易になり、ひいては、高い位置精度で位置合わせを行う
ことができる。The optical element 210 has at least one electrode 214, and the platform body 221
Wiring layer 22 formed on the recess 230 and the upper surface 229 of the
2 and a wire 226 for electrical connection. At this time, the wire 226 is formed in the concave portion 23 of the wiring layer 222.
It is bonded to the part formed inside 0,
The apex of the loop of the wire 226 is the surface on which the open end of the recess 230 is located (the upper surface 22 of the platform body 221).
It is arranged to be lower than 9). This prevents the wire 226 from breaking when the optical fiber 240 (fixing portion 252) is attached to the platform 220. In the case of this embodiment, the optical element 210
Has an electrode 216 in addition to the electrode 214 and is electrically connected to the wiring layer 222. In this case, it is preferable to connect (bond) with an electrically conductive adhesive. on the other hand,
In the platform body 221, a positioning insertion hole 224 is formed around the concave portion 230, and the fixing portion 25
The pin 250 projecting from No. 2 can be inserted. That is, the pin 25 provided at the end of the optical fiber 240
By using 0 to position the optical fiber 240 and the optical element 210, the optical fiber 240 can be easily handled, and thus, the alignment can be performed with high positional accuracy.
【００７１】以上の通り、本発明の機能液滴吐出装置１
０は、制御装置１２からヘッド駆動装置にデータを伝送
する第１光伝送手段が、光導波路により構成されている
ため、クロストークなどのノイズの発生を抑えることが
できる。また、装置が大型の場合など伝送距離が長い場
合であっても、データ伝送が高速であるため、タクトタ
イムに影響を与えることがない。As described above, the functional liquid droplet ejection apparatus 1 of the present invention
In the case of 0, the first optical transmission means for transmitting data from the control device 12 to the head drive device is constituted by an optical waveguide, so that generation of noise such as crosstalk can be suppressed. Further, even if the transmission distance is long, such as when the device is large, the tact time is not affected because the data transmission is fast.
【００７２】また、ヘッド駆動装置１７を、中継基板７
２上に配設しているため、第２光伝送手段１９による伝
送距離を最大限短くすることができ、波形の鈍りやクロ
ストークを最小限に抑えることができる。さらに、光電
変換器２０１を用いることで、光導波路（光ファイバ２
４０）を光素子２１０に対して、高い位置精度で位置合
わせすることができる。Further, the head driving device 17 is connected to the relay board 7
Since the second optical transmission unit 19 is disposed on the second transmission line, the transmission distance by the second optical transmission unit 19 can be shortened to the maximum, and the blunting of the waveform and the crosstalk can be suppressed to the minimum. Furthermore, by using the photoelectric converter 201, an optical waveguide (optical fiber 2
40) can be aligned with the optical element 210 with high positional accuracy.
【００７３】なお、光電変換器２０１の発光素子とし
て、面発光レーザに代えて半導体レーザを用いても良
い。この構成によれば、光を収束させて効率よく光ファ
イバ２４０内に導くことができる。As the light emitting element of the photoelectric converter 201, a semiconductor laser may be used instead of the surface emitting laser. With this configuration, light can be converged and efficiently guided into the optical fiber 240.
【００７４】また、上記の実施形態では、第２光伝送手
段１９はＦＦＣにより構成されるものとしたが、第１光
伝送手段１８と同様、光導波路（光ファイバ２４０）に
より構成されるようにしても良い。また、この場合に
も、光導波路の両端部には、光電変換器を介設し、光電
変換器の発光側は、光素子として面発光レーザを使用
し、受光側はフォトトランジスタを使用することが好ま
しい。この構成によれば、発光素子として面発光レーザ
を使用するため、光導波路との微少な芯ずれを簡易な方
法でカバーすることができると共に、受光素子としてフ
ォトトランジスタを使用するため、反応速度が速く、駆
動波形の鈍りを抑えることができる。また、この場合、
光導波路は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７にそれぞれ
１０本づつ、計１２０本で構成されることが好ましい。
さらに、この場合、光導波路として、光ファイバではな
く、ガラス管など固定的に接続可能なものを用いても良
い。In the above embodiment, the second optical transmission means 19 is composed of the FFC, but like the first optical transmission means 18, it is composed of the optical waveguide (optical fiber 240). May be. Also in this case, photoelectric converters should be provided at both ends of the optical waveguide, and a surface emitting laser should be used as the optical element on the light emitting side of the photoelectric converter and a phototransistor should be used on the light receiving side. Is preferred. According to this configuration, since the surface emitting laser is used as the light emitting element, it is possible to cover a slight misalignment with the optical waveguide by a simple method, and since the phototransistor is used as the light receiving element, the reaction speed is high. The dullness of the drive waveform can be suppressed quickly. Also in this case,
It is preferable that the number of the optical waveguides is 10 in each of the 12 functional liquid droplet ejection heads 7, that is, a total of 120 optical waveguides.
Further, in this case, as the optical waveguide, a fixedly connectable one such as a glass tube may be used instead of the optical fiber.
【００７５】また、第１光伝送手段１８を用いて、機能
液滴吐出ヘッド７のエラー信号を制御装置１２に伝送す
るようにしても良い。すなわち、ヘッド駆動装置１７に
よって各機能液滴吐出ヘッド７のエラーを検出し、その
検出結果を第１光伝送手段１８を介して制御装置１２に
伝送することで、ノズル３８の目詰まりによる吐出不良
が検出されたときにフラッシングやクリーニングを行う
等のエラー処理を行うことができる。The first optical transmission means 18 may be used to transmit the error signal of the functional liquid droplet ejection head 7 to the control device 12. That is, the head drive device 17 detects an error in each functional liquid droplet ejection head 7, and the detection result is transmitted to the control device 12 via the first optical transmission means 18, whereby the ejection failure due to clogging of the nozzle 38 is caused. When is detected, error processing such as flushing and cleaning can be performed.
【００７６】さらに、この場合、第１光伝送手段１８
を、２本の光導波路により構成するようにしても良い。
この構成によれば、それぞれ１本ずつ、描画パターンデ
ータのデータ伝送用とエラー信号伝送用に使用すること
ができる。したがって、同時に、データとエラー信号を
伝送させることができる。Further, in this case, the first optical transmission means 18
May be composed of two optical waveguides.
According to this configuration, one each can be used for the data transmission of the drawing pattern data and the error signal transmission. Therefore, the data and the error signal can be transmitted at the same time.
【００７７】また、第１光伝送手段および／または第２
光伝送手段を、光導波路ではなく、電波を用いた無線伝
送により構成するようにしても良い。この構成によれ
ば、装置構成や配置の自由度が高まると共に、ノイズの
発生を抑えることができる。なお、この場合、他のBlue
toothや無線LAN等による電波の影響が無い状況にて使用
されることが好ましい。この構成によれば、他の電波に
よるノイズの発生を無くすことができる。The first optical transmission means and / or the second optical transmission means
The optical transmission means may be configured by radio transmission using radio waves instead of the optical waveguide. With this configuration, it is possible to increase the degree of freedom in the configuration and arrangement of the device and suppress the generation of noise. In this case, other Blue
It is preferably used in a situation where there is no influence of radio waves due to teeth or wireless LAN. With this configuration, it is possible to eliminate the generation of noise due to other radio waves.
【００７８】ところで、本発明の描画装置１（機能液滴
吐出装置１０）は、前述の通り、各種フラットディスプ
レイの製造方法や、各種の電子デバイスおよび光デバイ
スの製造方法等にも適用可能である。そこで、この描画
装置１を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法お
よび有機ＥＬ装置の製造方法を例に、説明する。By the way, the drawing apparatus 1 (functional liquid droplet ejection apparatus 10) of the present invention can be applied to various flat display manufacturing methods, various electronic device and optical device manufacturing methods, and the like, as described above. . Therefore, a manufacturing method using the drawing apparatus 1 will be described by taking a manufacturing method of a liquid crystal display device and a manufacturing method of an organic EL device as examples.
【００７９】図７は、液晶表示装置のカラーフィルタの
部分拡大図である。図７（ａ）は平面図であり、図７
（ｂ）は図７（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。断面図
各部のハッチングは一部省略している。FIG. 7 is a partially enlarged view of the color filter of the liquid crystal display device. FIG. 7A is a plan view.
7B is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG. The hatching of each part of the cross-sectional view is partially omitted.
【００８０】図７（ａ）に示されるように、カラーフィ
ルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタエ
レメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切り
４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１つ
には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのイン
ク（フィルタ材料）が導入されている。この例では赤、
緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、ストライ
プ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わな
い。As shown in FIG. 7A, the color filter 400 comprises pixels (filter elements) 412 arranged in a matrix, and the boundaries between pixels are separated by partitions 413. Ink (filter material) of any one of red (R), green (G), and blue (B) is introduced into each of the pixels 412. Red in this example,
The green and blue arrangements are so-called delta arrangements, but other arrangements such as stripe arrangements and mosaic arrangements may be used.
【００８１】図７（ｂ）に示されるように、カラーフィ
ルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切り
４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されていな
い（除去された）部分は、上記画素４１２を構成する。
この画素４１２に導入された各色のインクは着色層４２
１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上面に
は、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形成さ
れている。As shown in FIG. 7B, the color filter 400 includes a light-transmissive substrate 411 and a light-shielding partition 413. The portion where the partition 413 is not formed (removed) constitutes the pixel 412.
The ink of each color introduced into the pixel 412 is the colored layer 42.
Make up 1. An overcoat layer 422 and an electrode layer 423 are formed on the upper surfaces of the partition 413 and the coloring layer 421.
【００８２】図８は、本発明の実施形態によるカラーフ
ィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。断
面図各部のハッチングは一部省略している。FIG. 8 is a manufacturing process sectional view illustrating a method of manufacturing a color filter according to an embodiment of the present invention. The hatching of each part of the cross-sectional view is partially omitted.
【００８３】膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃ
ｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面
を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液
で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄
表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を
平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る
（図８：Ｓ１）。Thickness 0.7 mm, height 38 cm, width 30 c
The surface of the transparent substrate 411 made of non-alkali glass of m is washed with a cleaning liquid containing 1% by weight of hydrogen peroxide in hot concentrated sulfuric acid, rinsed with pure water, and then air-dried to obtain a cleaned surface. On this surface, a chromium film is formed with an average film thickness of 0.2 μm by a sputtering method to obtain a metal layer 414 ′ (FIG. 8: S1).
【００８４】この基板をホットプレート上で、８０℃で
５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピン
コートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成す
る。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を
描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をお
こなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割
合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフ
ォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングす
る。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエ
ッチング液でエッチング除去する。このようにして所定
のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリ
クス）４１４を得ることができる（図８：Ｓ２）。遮光
層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、遮
光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。After drying this substrate on a hot plate at 80 ° C. for 5 minutes, a photoresist layer (not shown) is formed on the surface of the metal layer 414 'by spin coating. A mask film on which a desired matrix pattern shape is drawn is brought into close contact with the surface of the substrate and exposed with ultraviolet rays. Next, this is immersed in an alkali developing solution containing potassium hydroxide in a proportion of 8% by weight to remove the photoresist in the unexposed portion and pattern the resist layer. Subsequently, the exposed metal layer is removed by etching with an etching solution containing hydrochloric acid as a main component. In this way, the light shielding layer (black matrix) 414 having a predetermined matrix pattern can be obtained (FIG. 8: S2). The thickness of the light shielding layer 414 is approximately 0.2 μm. The width of the light shielding layer 414 is about 22 μm.
【００８５】この基板上に、さらにネガ型の透明アクリ
ル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート
法で塗布する（図８：Ｓ３）。これを１００℃で２０分
間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状を
描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行なう。
未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で現像
し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥とし
てのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹脂部
を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形成さ
れ、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切り４
１３が形成される（図８：Ｓ４）。このバンク層４１５
の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バンク層４
１５の幅は、およそ１４μｍである。On this substrate, a negative type transparent acrylic photosensitive resin composition 415 'is further applied by the spin coating method (FIG. 8: S3). This is prebaked at 100 ° C. for 20 minutes and then exposed to ultraviolet rays using a mask film having a predetermined matrix pattern shape drawn thereon.
The resin in the unexposed portion is also developed with an alkaline developer, rinsed with pure water, and then spin-dried. After-baking as final drying is performed at 200 ° C. for 30 minutes to sufficiently cure the resin portion, whereby the bank layer 415 is formed, and the partition 4 including the light shielding layer 414 and the bank layer 415 is formed.
13 is formed (FIG. 8: S4). This bank layer 415
Has an average film thickness of 2.7 μm. Also, bank layer 4
The width of 15 is approximately 14 μm.
【００８６】得られた遮光層４１４およびバンク層４１
５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１
の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッ
チング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、
ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基
板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチン
グする。The light shielding layer 414 and the bank layer 41 thus obtained
The colored layer formation region divided by 5 (especially the glass substrate 411
In order to improve the ink wettability of the exposed surface), dry etching, that is, plasma treatment is performed. In particular,
A high voltage is applied to a mixed gas of helium and 20% oxygen to form an etching spot in a plasma atmosphere, and the substrate is etched by passing under the etching spot.
【００８７】次に、仕切り４１３で区切られて形成され
た画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインク
ジェット方式により導入する（図８：Ｓ５）。機能液滴
吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ圧
電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴を
着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周波
数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間隔
は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの距
離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲットで
ある着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテラ
イトと称される***迷走滴の発生防止のためには、イン
クの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子を駆動する波形
（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条件
設定された波形をプログラムして、インク滴を赤、緑、
青の３色を同時に塗布して所定の配色パターンにインク
を塗布する。Next, the R, G, and B inks are introduced by an ink jet method into the pixels 412 formed by being partitioned by the partition 413 (FIG. 8: S5). As the functional liquid droplet ejection head 7 (inkjet head), a precision head applying a piezoelectric effect is used, and 10 minute ink droplets are selectively ejected for each colored layer forming region. The drive frequency is set to 14.4 kHz, that is, the ejection interval of each ink droplet is set to 69.5 μsec. The distance between the head and the target is set to 0.3 mm. In order to prevent the flying velocity from the head to the target colored layer formation area, flight bending, and the generation of split stray droplets called satellites, in addition to the physical properties of the ink, the waveform that drives the piezoelectric element of the head (including voltage )is important. Therefore, you can program a preconditioned waveform to drop ink drops in red, green,
The three colors of blue are simultaneously applied and the ink is applied in a predetermined color arrangement pattern.
【００８８】インク（フィルタ材料）としては、例えば
ポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた
後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチ
ルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテート
を加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を
分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたも
のを用いる。As the ink (filter material), for example, an inorganic pigment is dispersed in a polyurethane resin oligomer, cyclohexanone and butyl acetate are added as a low boiling point solvent, butyl carbitol acetate is added as a high boiling point solvent, and a nonionic interface is added. 0.01% by weight of an activator is added as a dispersant to give a viscosity of 6 to 8 centipoise.
【００８９】次に、塗布したインクを乾燥させる。ま
ず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセ
ッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４
０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間
加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４
２１が得られる（図８：Ｓ６）。Next, the applied ink is dried. First, the ink layer 416 is set by leaving it in a natural atmosphere for 3 hours, and then the ink layer 416 is set on a hot plate at 80 ° C.
The ink layer 416 is heated for 0 minutes, and finally in an oven at 200 ° C. for 30 minutes to cure the ink layer 416.
21 is obtained (FIG. 8: S6).
【００９０】上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピ
ンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を
形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、
カラーフィルタ４００とする（図８：Ｓ７）。なお、こ
のオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７
（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式
で、形成するようにしてもよい。A transparent acrylic resin paint is spin-coated on the substrate to form an overcoat layer 422 having a smooth surface. In addition, ITO (Indium Tin Oxi
de) to form an electrode layer 423 of a required pattern,
The color filter 400 is used (FIG. 8: S7). The overcoat layer 422 is formed on the functional liquid droplet ejection head 7
It may be formed by an inkjet method using an (inkjet head).
【００９１】図９は、本発明の製造方法により製造され
る電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例である
カラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハッ
チングは一部省略している。FIG. 9 is a sectional view of a color liquid crystal display device which is an example of an electro-optical device (flat display) manufactured by the manufacturing method of the present invention. The hatching of each part of the cross-sectional view is partially omitted.
【００９２】このカラー液晶表示装置４５０は、カラー
フィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者
の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造され
る。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面
には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と
画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。ま
た、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する
位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラ
ーフィルタ４００が設置されている。The color liquid crystal display device 450 is manufactured by combining the color filter 400 and the counter substrate 466 and enclosing the liquid crystal composition 465 between them. TFT (thin film transistor) elements (not shown) and pixel electrodes 463 are formed in a matrix on the inner surface of one substrate 466 of the liquid crystal display device 450. In addition, as the other substrate, the color filter 400 is installed such that the red, green, and blue colored layers 421 are arranged at positions facing the pixel electrodes 463.
【００９３】基板４６６とカラーフィルタ４００の対向
するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成さ
れている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処
理されており、液晶分子を一定方向に配列させることが
できる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００
の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着
されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示
せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、
液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させ
る光シャッターとして機能させることにより表示を行
う。Alignment films 461 and 464 are formed on the respective surfaces of the substrate 466 and the color filter 400 which face each other. The alignment films 461 and 464 are subjected to rubbing treatment, and liquid crystal molecules can be aligned in a fixed direction. In addition, the substrate 466 and the color filter 400
Polarizing plates 462 and 467 are adhered to the outer surface of each. A combination of a fluorescent lamp (not shown) and a scattering plate is generally used as the backlight.
Display is performed by causing the liquid crystal composition 465 to function as an optical shutter that changes the transmittance of backlight light.
【００９４】なお、電気光学装置は、本発明では上記の
カラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウ
ン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、
ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプ
レイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種
々の電気光学手段を用いることができる。The electro-optical device is not limited to the color liquid crystal display device described above in the present invention. For example, a thin television using a thin cathode ray tube or a liquid crystal shutter,
Various electro-optical means such as an EL display device, a plasma display, a CRT display, and an FED (Field Emission Display) panel can be used.
【００９５】次に、図１０ないし図２２を参照して、有
機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明
する。Next, an organic EL device (organic EL display device) and its manufacturing method will be described with reference to FIGS.
【００９６】図１０ないし図２２は、有機ＥＬ素子を含
む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表して
いる。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラ
ズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層
形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工
程と、封止工程とを具備して構成されている。10 to 22 show a manufacturing process of an organic EL device including an organic EL element and its structure. This manufacturing process includes a bank portion forming step, a plasma processing step, a light emitting element forming step including a hole injecting / transporting layer forming step and a light emitting layer forming step, a counter electrode forming step, and a sealing step. Is configured.
【００９７】バンク部形成工程では、基板５０１に予め
形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極
ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａ
と有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口
部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このよ
うに、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無
機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク
層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含ま
れる。In the bank portion forming step, the inorganic bank layer 512a is formed at a predetermined position on the circuit element portion 502 and the electrode 511 (also referred to as a pixel electrode) previously formed on the substrate 501.
By stacking the organic material bank layer 512b with the organic material bank layer 512b, a bank portion 512 having an opening 512g is formed. As described above, the bank portion forming step includes a step of forming the inorganic bank layer 512a on a part of the electrode 511 and a step of forming the organic bank layer 512b on the inorganic bank layer.
【００９８】まず無機物バンク層５１２ａを形成する工
程では、図１０に示すように、回路素子部５０２の第２
層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物
バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａ
を、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等
によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の
全面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。First, in the step of forming the inorganic bank layer 512a, as shown in FIG.
An inorganic bank layer 512a is formed on the interlayer insulating film 544b and the pixel electrode 511. Inorganic bank layer 512a
Then, an inorganic film such as SiO 2 or TiO 2 is formed on the entire surfaces of the second interlayer insulating film 544b and the pixel electrode 511 by, for example, the CVD method, the coating method, the sputtering method, the vapor deposition method or the like.
【００９９】次にこの無機物膜をエッチング等によりパ
ターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位
置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、
無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なる
ように形成しておく必要がある。このように、電極５１
１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重な
るように無機物バンク層５１２ａを形成することによ
り、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができ
る。Next, this inorganic film is patterned by etching or the like to form a lower opening portion 512c corresponding to the formation position of the electrode surface 511a of the electrode 511. At this time,
It is necessary to form the inorganic bank layer 512a so as to overlap the peripheral portion of the electrode 511. Thus, the electrode 51
By forming the inorganic bank layer 512a so that the peripheral portion (part) of No. 1 and the inorganic bank layer 512a overlap, the light emitting region of the light emitting layer 510b can be controlled.
【０１００】次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工
程では、図１１に示すように、無機物バンク層５１２ａ
上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク
層５１２ｂをフォトリソグラフィー技術等によりエッチ
ングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２
ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ
及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。Next, in the step of forming the organic bank layer 512b, as shown in FIG. 11, the inorganic bank layer 512a is formed.
An organic bank layer 512b is formed on top. The organic bank layer 512b is etched by a photolithography technique or the like to form an upper opening 512 of the organic bank layer 512b.
to form d. The upper opening portion 512d has an electrode surface 511a.
And a position corresponding to the lower opening 512c.
【０１０１】上部開口部５１２ｄは、図１１に示すよう
に、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより
狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バン
ク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５
１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の
中央側に延出された形になる。このようにして、上部開
口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることに
より、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１
２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。As shown in FIG. 11, the upper opening 512d is preferably formed wider than the lower opening 512c and narrower than the electrode surface 511a. Accordingly, the first stacked unit 5 surrounding the lower opening 512c of the inorganic bank layer 512a.
12e is extended to the center side of the electrode 511 with respect to the organic bank layer 512b. By connecting the upper opening 512d and the lower opening 512c in this manner, the inorganic bank layer 512a and the organic bank layer 51 are formed.
An opening 512g penetrating 2b is formed.
【０１０２】次にプラズマ処理工程では、バンク部５１
２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示
す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラ
ズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上
面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電
極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように
加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの
上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥イン
ク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工
程とに大別される。Next, in the plasma processing step, the bank portion 51
A region showing ink affinity and a region showing ink repellency are formed on the second surface and the surface 511a of the pixel electrode. This plasma treatment step includes a preliminary heating step, an ink-philic step of processing the upper surface (512f) of the bank portion 512 and the wall surface of the opening 512g, and the electrode surface 511a of the pixel electrode 511 to have an ink-philic property, and an organic substance. The upper surface 512f of the bank layer 512b and the wall surface of the upper opening 512d are roughly classified into an ink repellent step of processing to have ink repellency and a cooling step.
【０１０３】まず、予備加熱工程では、バンク部５１２
を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、
例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付
け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱す
ることにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱
温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好まし
い。First, in the preheating step, the bank portion 512
Substrate 501 containing is heated to a predetermined temperature. Heating
For example, a heater is attached to a stage on which the substrate 501 is placed, and the heater is used to heat the substrate 501 together with the stage. Specifically, it is preferable to set the preheating temperature of the substrate 501 in the range of 70 to 80 ° C., for example.
【０１０４】次に、親インク化工程では、大気雰囲気中
で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処
理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図１２に示
すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バ
ンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク
層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５
１２ｆが親インク処理される。この親インク処理によ
り、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付
与される。図１２では、親インク処理された部分を二点
鎖線で示している。Next, in the ink-philic step, plasma treatment (O 2 plasma treatment) using oxygen as a treatment gas is performed in the atmosphere. As a result of this O 2 plasma treatment, as shown in FIG. 12, the electrode surface 511a of the pixel electrode 511, the first stacked portion 512e of the inorganic bank layer 512a and the upper opening 512d of the organic bank layer 512b, and the upper surface 5 are formed.
12f is subjected to ink-philic treatment. By this lyophilic treatment, hydroxyl groups are introduced into each of these surfaces to impart lyophilicity. In FIG. 12, the portion subjected to the ink-philic treatment is indicated by a chain double-dashed line.
【０１０５】次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中
で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ
4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、図
１３に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物
バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥
インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入され
て撥インク性が付与される。図１３では、撥インク性を
示す領域を二点鎖線で示している。Next, in the ink repellent process, a plasma treatment (CF) using methane tetrafluoride as a treatment gas is performed in the air atmosphere.
4 Plasma treatment). By CF 4 plasma treatment, as shown in FIG. 13, the ink repellent treatment is applied to the wall surface of the upper opening 512d and the upper surface 512f of the organic bank layer. By this ink repellent treatment, a fluorine group is introduced into each of these surfaces to impart ink repellency. In FIG. 13, the area showing the ink repellency is indicated by a two-dot chain line.
【０１０６】次に、冷却工程では、プラズマ処理のため
に加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット
工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プ
ラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度
（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却
することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定
の温度で行うことができる。Next, in the cooling step, the substrate 501 heated for the plasma processing is cooled to room temperature or the control temperature of the inkjet step (functional droplet discharging step). By cooling the substrate 501 after the plasma treatment to room temperature or a predetermined temperature (for example, a control temperature at which the inkjet process is performed), the next hole injection / transport layer forming process can be performed at a constant temperature.
【０１０７】次に、発光素子形成工程では、画素電極５
１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することに
より発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つ
の工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成する
ための第１組成物を各画素電極上に吐出する第１機能液
滴吐出工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて画素
電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層
形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を正孔
注入／輸送層の上に吐出する第２機能液滴吐出工程と、
吐出された第２組成物を乾燥させて正孔注入／輸送層上
に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。Next, in the light emitting element forming step, the pixel electrode 5 is formed.
A light emitting element is formed by forming a hole injection / transport layer and a light emitting layer on 11. The light emitting element forming step includes four steps. That is, a first functional liquid droplet discharging step of discharging a first composition for forming a hole injecting / transporting layer onto each pixel electrode, and drying the discharged first composition onto the pixel electrode. A hole injecting / transporting layer forming step of forming a hole injecting / transporting layer, and a second functional liquid droplet ejecting step of ejecting a second composition for forming a light emitting layer onto the hole injecting / transporting layer,
And a step of drying the discharged second composition to form a light emitting layer on the hole injecting / transporting layer.
【０１０８】まず、第１機能液滴吐出工程では、インク
ジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送
層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出
する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸
素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ
正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に
隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）First, in the first functional liquid droplet discharging step, the first composition containing the hole injecting / transporting layer forming material is discharged onto the electrode surface 511a by the ink jet method (functional liquid droplet discharging method). After the first functional liquid droplet discharging step, it is preferable to carry out in an inert gas atmosphere such as water, an oxygen-free nitrogen atmosphere, or an argon atmosphere. (Note that when the hole injection / transport layer is formed only on the pixel electrode, the hole injection / transport layer formed adjacent to the organic bank layer is not formed.)
【０１０９】図１４に示すように、インクジェットヘッ
ド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成
材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッド
Ｈの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極
面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板
５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当
たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面
５１１ａ上に吐出する。As shown in FIG. 14, the ink jet head (functional liquid droplet ejection head 7) H was filled with the first composition containing the hole injection / transport layer forming material, and the ejection nozzle of the ink jet head H was opened at the lower opening. While the inkjet head H and the substrate 501 are relatively moved while facing the electrode surface 511a located inside the 512c, the first composition droplet 510c in which the amount of liquid per droplet is controlled from the discharge nozzle is placed on the electrode surface 511a. Discharge.
【０１１０】ここで用いる第１組成物としては、例え
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正
孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１
０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変え
ても良い。As the first composition used here, for example, a composition prepared by dissolving a mixture of a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene (PEDOT) and polystyrene sulfonic acid (PSS) in a polar solvent is used. it can. Examples of the polar solvent include isopropyl alcohol (IPA), normal butanol, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone (NMP), 1,3-dimethyl-
Examples thereof include 2-imidazolidinone (DMI) and its derivatives, glycol ethers such as carbitol acetate and butyl carbitol acetate. The material for forming the hole injecting / transporting layer is the light emitting layer 51 of each of R, G, and B.
The same material may be used for 0b and may be changed for each light emitting layer.
【０１１１】図１４に示すように、吐出された第１組成
物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及
び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５
１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に
吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、
５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層
の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃
度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは
１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上
に吐出しても良い。As shown in FIG. 14, the ejected first composition droplets 510c spread on the ink-philic treated electrode surface 511a and the first laminated portion 512e, and the lower and upper openings 5 are formed.
12c and 512d are filled. The amount of the first composition discharged onto the electrode surface 511a is as follows.
It is determined by the size of 512d, the thickness of the hole injection / transport layer to be formed, the concentration of the hole injection / transport layer forming material in the first composition, and the like. Further, the first composition droplets 510c may be discharged not only once but also several times onto the same electrode surface 511a.
【０１１２】次に正孔注入／輸送層形成工程では、図１
５に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱
処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させるこ
とにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０
ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０
ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５
１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起
き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料
が濃縮されて析出する。Next, in the hole injecting / transporting layer forming step, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the hole injecting / transporting layer 510 is formed on the electrode surface 511 a by drying and heat treating the discharged first composition to evaporate the polar solvent contained in the first composition.
a is formed. The first composition drops 510 when dried.
The evaporation of the polar solvent contained in c is mainly caused by the inorganic bank layer 5
It occurs near 12a and the organic bank layer 512b, and the hole injection / transport layer forming material is concentrated and deposited along with the evaporation of the polar solvent.
【０１１３】これにより図１５に示すように、乾燥処理
によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、
これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材
料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１
ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正
孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に
濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形
成される。As a result, as shown in FIG. 15, the polar solvent evaporates even on the electrode surface 511a due to the drying treatment.
As a result, the flat portion 510a made of the hole injection / transport layer forming material is formed on the electrode surface 511a. Electrode surface 511
Since the evaporation rate of the polar solvent is substantially uniform on a, the material for forming the hole injecting / transporting layer is uniformly concentrated on the electrode surface 511a, thereby forming the flat portion 510a having a uniform thickness.
【０１１４】次に第２機能液滴吐出工程では、インクジ
ェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を
含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出す
る。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層
５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に
用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１
０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。Next, in the second functional liquid droplet discharging step, the second composition containing the light emitting layer forming material is discharged onto the hole injecting / transporting layer 510a by the ink jet method (functional liquid droplet discharging method). In the second functional liquid droplet discharging step, the hole injecting / transporting layer 51 is used as a solvent of the second composition used in forming the light emitting layer in order to prevent the hole injecting / transporting layer 510a from being redissolved.
A non-polar solvent insoluble in 0a is used.
【０１１５】しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０
ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶
媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐
出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂ
とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層
５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、
非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／
輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層
を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。On the other hand, however, the hole injection / transport layer 510
Since a has a low affinity for the nonpolar solvent, even if the second composition containing the nonpolar solvent is ejected onto the hole injecting / transporting layer 510a, the hole injecting / transporting layer 510a and the light emitting layer 510b.
May not be able to be adhered to each other, or the light emitting layer 510b may not be uniformly applied. Therefore,
Hole injection into non-polar solvent and light emitting layer forming material /
In order to increase the affinity of the surface of the transport layer 510a, it is preferable to perform a surface modification step before forming the light emitting layer.
【０１１６】そこでまず、表面改質工程について説明す
る。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成
物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒であ
る表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出
法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入
／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより
行う。Therefore, first, the surface modification step will be described. In the surface modification step, a surface modification solvent, which is the same solvent as the nonpolar solvent of the first composition used for forming the light emitting layer or a solvent similar thereto, is subjected to inkjet method (functional droplet discharge method) and spin coating. Method or dip method is applied on the hole injection / transport layer 510a and then dried.
【０１１７】例えば、インクジェット法による塗布は、
図１６に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面
改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノ
ズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形
成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと
基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから
表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上
に吐出することにより行う。そして、図１７に示すよう
に、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。For example, coating by the ink jet method
As shown in FIG. 16, the inkjet head H is filled with a surface-modifying solvent, the ejection nozzle of the inkjet head H is opposed to the substrate (that is, the substrate on which the hole injection / transport layer 510a is formed), and the inkjet is performed. This is performed by ejecting the surface modification solvent 510d from the ejection nozzle H onto the hole injection / transport layer 510a while moving the head H and the substrate 501 relative to each other. Then, as shown in FIG. 17, the surface modifying solvent 510d is dried.
【０１１８】次に第２機能液滴吐出工程では、インクジ
ェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を
含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出す
る。図１８に示すように、インクジェットヘッドＨに、
青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填
し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部
開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送
層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板
５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当
たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐
出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５
１０ａ上に吐出する。Next, in the second functional liquid droplet discharging step, the second composition containing the light emitting layer forming material is discharged onto the hole injecting / transporting layer 510a by the ink jet method (functional liquid droplet discharging method). As shown in FIG. 18, the inkjet head H is
The second composition containing the blue (B) light emitting layer forming material is filled, and the ejection nozzle of the inkjet head H is made to face the hole injection / transport layer 510a located in the lower and upper openings 512c and 512d. While the head H and the substrate 501 are moved relative to each other, they are ejected from the ejection nozzle as a second composition droplet 510e in which the liquid amount per droplet is controlled, and the second composition droplet 510e is ejected.
It discharges on 10a.
【０１１９】発光層形成材料としては、ポリフルオレン
系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘
導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機
ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブ
レン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン
６、キナクリドン等をドープすることにより用いること
ができる。As the material for forming the light emitting layer, a polyfluorene polymer derivative, a (poly) paraphenylene vinylene derivative, a polyphenylene derivative, polyvinylcarbazole, a polythiophene derivative, a perylene dye, a coumarin dye, a rhodamine dye, or the above It is possible to use by doping the molecule with an organic EL material. For example, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene,
It can be used by doping with tetraphenyl butadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone and the like.
【０１２０】非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５
１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロ
へキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることがで
きる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組
成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを
再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。As the non-polar solvent, the hole injecting / transporting layer 5 is used.
Those which are insoluble in 10a are preferable, and for example, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene and the like can be used. By using such a non-polar solvent for the second composition of the light emitting layer 510b, the second composition can be applied without redissolving the hole injection / transport layer 510a.
【０１２１】図１８に示すように、吐出された第２組成
物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって
下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。
第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同
一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。こ
の場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、
各回毎に第２組成物量を変えても良い。As shown in FIG. 18, the discharged second composition 510e spreads over the hole injecting / transporting layer 510a and is filled in the lower and upper openings 512c, 512d.
The second composition 510e may be discharged onto the same hole injecting / transporting layer 510a not only once but also several times. In this case, the amount of the second composition in each time may be the same,
The amount of the second composition may be changed each time.
【０１２２】次に発光層形成工程では、第２組成物を吐
出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸
送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理
は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２
組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図１９に示す
ような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。Next, in the light emitting layer forming step, after the second composition is discharged, a drying process and a heat treatment are performed to form a light emitting layer 510b on the hole injecting / transporting layer 510a. The drying treatment is performed by subjecting the second composition after being discharged to the second treatment.
The non-polar solvent contained in the composition is evaporated to form a blue (B) light emitting layer 510b as shown in FIG.
【０１２３】続けて、図２０に示すように、青色（Ｂ）
発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層
５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを
形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の
順序に限られるものではなく、どのような順番で形成し
ても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順
番を決める事も可能である。Continuing, as shown in FIG. 20, blue (B)
Similar to the case of the light emitting layer 510b, the red (R) light emitting layer 510b is formed, and finally the green (G) light emitting layer 510b is formed. The order of forming the light emitting layer 510b is not limited to the order described above, and may be formed in any order. For example, it is possible to determine the order of formation according to the light emitting layer forming material.
【０１２４】次に対向電極形成工程では、図２１に示す
ように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの
全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極
５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例え
ば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成す
ることが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが
可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く
形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）
には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これ
らの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ
法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法
で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防
止できる点で好ましい。Next, in the counter electrode forming step, as shown in FIG. 21, a cathode 503 (counter electrode) is formed on the entire surface of the light emitting layer 510b and the organic bank layer 512b. Note that the cathode 503 may be formed by stacking a plurality of materials. For example, it is preferable to form a material having a small work function on the side close to the light emitting layer, and for example, Ca, Ba or the like can be used, and depending on the material, it is better to form LiF or the like thinly in the lower layer. There is also. Also, the upper side (sealing side)
Is preferable to have a higher work function than the lower side. The cathode (cathode layer) 503 is preferably formed by, for example, a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like, and particularly preferably formed by a vapor deposition method in terms of preventing damage to the light emitting layer 510b due to heat.
【０１２５】また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ
上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０
ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）
発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、
ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとな
る。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いること
が好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のために
ＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。Further, lithium fluoride is used as the light emitting layer 510b.
The blue (B) light emitting layer 510 may be formed only on the top.
It may be formed only on b. In this case, the other red (R)
The light emitting layers and the green (G) light emitting layers 510b and 510b include
The upper cathode layer 503b made of LiF is in contact with it. In addition, a vapor deposition method, a sputtering method, a C
It is preferable to use an Al film, an Ag film, or the like formed by the VD method or the like. Further, a protective layer such as SiO 2 or SiN may be provided on the cathode 503 to prevent oxidation.
【０１２６】最後に、図２２に示す封止工程では、窒
素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有
機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封
止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０
３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部
分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が
酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後
に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続すると
ともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続する
ことにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られ
る。Finally, in the sealing step shown in FIG. 22, a sealing substrate 505 is laminated on the organic EL element 504 in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, argon or helium. The sealing step is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon or helium. When performed in air, the cathode 50
When a defect such as a pinhole is generated in No. 3, water, oxygen or the like may enter the cathode 503 from this defective portion and the cathode 503 may be oxidized, which is not preferable. Finally, by connecting the cathode 503 to the wiring of the flexible substrate and connecting the wiring of the circuit element section 502 to the drive IC, the organic EL device 500 of this embodiment is obtained.
【０１２７】なお、画素電極５１１および陰極（対向電
極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨに
よるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、
液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導
入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画
素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾
燥工程を含む）。In forming the pixel electrode 511 and the cathode (counter electrode) 503, an ink jet method using an ink jet head H may be adopted. That is,
Liquid electrode materials are introduced into the inkjet heads H, and the inkjet heads H are ejected to form the pixel electrodes 511 and the cathodes 503 (including a drying step).
【０１２８】同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１
０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法
および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用すること
ができる。Similarly, the functional liquid droplet ejection apparatus 1 of the present embodiment
0 can be applied to a method of manufacturing an electron emission device, a method of manufacturing a PDP device, a method of manufacturing an electrophoretic display device, and the like.
【０１２９】電子放出装置の製造方法では、複数の機能
液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入
し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査
し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光
体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電界放
出ディスプレイ）を含む上位の概念である。In the method of manufacturing the electron emitting device, fluorescent materials of R, G, and B colors are introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7, and the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 are subjected to main scanning and sub-scanning to produce fluorescent light. The material is selectively discharged to form a large number of phosphors on the electrodes. The electron emission device is a higher-level concept including an FED (field emission display).
【０１３０】ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液
滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入し、
複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、
蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部
にそれぞれ蛍光体を形成する。In the method of manufacturing the PDP device, fluorescent materials of R, G, and B colors are introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7,
Main scanning and sub-scanning a plurality of functional liquid droplet ejection heads 7,
The fluorescent material is selectively discharged to form the fluorescent material in each of the large number of recesses on the rear substrate.
【０１３１】電気泳動表示装置の製造方法では、複数の
機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複
数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、イ
ンク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそ
れぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから
成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていること
が、好ましい。In the method of manufacturing the electrophoretic display device, the electrophoretic material of each color is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 and the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 are main-scanned and sub-scanned to select the ink material. Are ejected to form electrophoretic particles in a large number of recesses on the electrodes. In addition, it is preferable that the electrophoretic body composed of the charged particles and the dye is enclosed in a microcapsule.
【０１３２】一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０
は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成
方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等に
も、適用可能である。On the other hand, the functional liquid droplet ejection apparatus 10 of the present embodiment.
Can be applied to a spacer forming method, a metal wiring forming method, a lens forming method, a resist forming method, a light diffuser forming method, and the like.
【０１３３】スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小
なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを
形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にス
ペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的
に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成す
る。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置に
おける２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有
用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする
半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。The spacer forming method is to form a large number of particle-shaped spacers so as to form a minute cell gap between two substrates. Is introduced, the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 are main-scanned and sub-scanned to selectively eject the particulate material to form spacers on at least one substrate. For example, it is useful when forming a cell gap between two substrates in the above-mentioned liquid crystal display device or electrophoretic display device, and it can be applied to a semiconductor manufacturing technique that requires such a small gap. Nor.
【０１３４】金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選
択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例え
ば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを
接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦ
Ｔ等と各電極とを接続する金属配線に適用することがで
きる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般
的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもな
い。In the metal wiring forming method, a liquid metal material is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 and the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 are main-scanned and sub-scanned to selectively eject the liquid metal material. Then, metal wiring is formed on the substrate. For example, metal wiring connecting the driver and each electrode in the above liquid crystal display device, and TF in the above organic EL device.
It can be applied to a metal wiring that connects T and the like to each electrode. Needless to say, the present invention can be applied to general semiconductor manufacturing technology in addition to this type of flat display.
【０１３５】レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出
ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に
吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成す
る。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用の
デバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイ
スに適用可能であることはいうまでもない。In the lens forming method, the lens material is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7, the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 are main-scanned and sub-scanned, the lens material is selectively ejected, and the transparent A large number of microlenses are formed on the substrate. For example, it can be applied as a beam converging device in the above FED apparatus. Needless to say, it can be applied to various optical devices.
【０１３６】レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出
ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択
的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形
成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形
成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグ
ラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用
可能である。In the resist forming method, a resist material is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 and the plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 are main-scanned and sub-scanned to selectively eject the resist material, and the resist material is ejected onto the substrate. A photoresist having an arbitrary shape is formed on. For example, the formation of banks in the above-described various display devices is widely applicable to the application of photoresist in the photolithography method, which is the main component of semiconductor manufacturing technology.
【０１３７】光拡散体形成方法では、基板上に多数の光
拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機
能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能
液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料
を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場
合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうま
でもない。The light diffuser forming method is a method of forming a large number of light diffusers on a substrate, and a light diffusing material is introduced into a plurality of functional liquid droplet ejection heads 7 to form a plurality of functional liquids. The droplet discharge head 7 is main-scanned and sub-scanned to selectively discharge the light diffusion material to form a large number of light diffusers. Needless to say, this case is also applicable to various optical devices.
【０１３８】[0138]
【発明の効果】以上のように、本発明の機能液滴吐出装
置によれば、データを記憶すると共に駆動手段を制御す
る制御手段から機能液滴吐出ヘッドを駆動する駆動手段
にデータを伝送する第１光伝送手段が、光導波路により
構成されているため、クロストークなどのノイズの発生
を抑えることができ、ひいては安定したヘッド駆動を行
うことができるなどの効果を奏する。As described above, according to the functional liquid droplet ejection apparatus of the present invention, the data is stored and the data is transmitted from the control device for controlling the driving device to the driving device for driving the functional liquid droplet ejection head. Since the first optical transmission unit is configured by the optical waveguide, it is possible to suppress the generation of noise such as crosstalk, and to achieve stable head drive.
【０１３９】一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、
有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、Ｐ
ＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法
によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に
適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができ
るため、製造効率を向上させることができる。On the other hand, the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention,
Organic EL device manufacturing method, electron-emitting device manufacturing method, P
According to the method for manufacturing the DP device and the method for manufacturing the electrophoretic display device, it is possible to easily introduce a functional liquid droplet ejection head suitable for a filter material, a light emitting material, or the like in each device, thus improving manufacturing efficiency. You can
【０１４０】また、本発明のカラーフィルタの製造方
法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線
形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光
拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイ
スにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴
吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率
を向上させることができる。According to the color filter manufacturing method, organic EL manufacturing method, spacer forming method, metal wiring forming method, lens forming method, resist forming method, and light diffuser forming method of the present invention, each electronic device or Since it is possible to easily introduce a functional liquid droplet ejection head suitable for a filter material, a light emitting material, or the like in each optical device, it is possible to improve manufacturing efficiency.
【図１】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の模式図で
ある。FIG. 1 is a schematic diagram of a functional liquid droplet ejection apparatus according to an embodiment.
【図２】 実施形態に係るヘッドユニット周りの模式図
である。FIG. 2 is a schematic view around a head unit according to the embodiment.
【図３】 実施形態に係るデータ伝送処理を示すブロッ
ク図である。FIG. 3 is a block diagram showing a data transmission process according to the embodiment.
【図４】 実施形態に係る光電変換器の製造方法を示す
図である。FIG. 4 is a diagram showing a method for manufacturing the photoelectric converter according to the embodiment.
【図５】 図４に続く光電変換器の製造方法を示す図で
ある。5 is a diagram showing a method of manufacturing the photoelectric converter following FIG.
【図６】 実施形態に係る光電変換器を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a photoelectric converter according to an embodiment.
【図７】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により
製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。FIG. 7 is a partial enlarged view of a color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter according to the embodiment.
【図８】 実施形態のカラーフィルタの製造方法を模式
的に示す製造工程断面図である。FIG. 8 is a manufacturing step sectional view schematically showing the method for manufacturing the color filter of the embodiment.
【図９】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により
製造される液晶表示装置の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device manufactured by the color filter manufacturing method according to the embodiment.
【図１０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図であ
る。FIG. 10 is a cross-sectional view of a bank portion forming step (inorganic bank) in the method of manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図１１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図であ
る。FIG. 11 is a cross-sectional view of a bank portion forming step (organic bank) in the method of manufacturing an organic EL device according to the embodiment.
【図１２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図であ
る。FIG. 12 is a cross-sectional view of a plasma treatment step (hydrophilization treatment) in the method for manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図１３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図であ
る。FIG. 13 is a cross-sectional view of a plasma treatment step (water repellent treatment) in the method for manufacturing an organic EL device according to the embodiment.
【図１４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図で
ある。FIG. 14 is a cross-sectional view of the hole injection layer forming step (functional liquid droplet ejection) in the method of manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図１５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view of the hole injection layer forming step (drying) in the method for manufacturing an organic EL device according to the embodiment.
【図１６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view of a surface modification process (functional liquid droplet ejection) in the method of manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図１７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける表面改質工程（乾燥）の断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view of the surface modification step (drying) in the method of manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図１８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図であ
る。FIG. 18 is a cross-sectional view of a B light emitting layer forming step (functional liquid droplet ejection) in the method of manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図１９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view of a B light emitting layer forming step (drying) in the method for manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図２０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view of an R, G, B light emitting layer forming step in the method for manufacturing an organic EL device according to the embodiment.
【図２１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける対向電極形成工程の断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view of a counter electrode forming step in the method of manufacturing the organic EL device according to the embodiment.
【図２２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける封止工程の断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view of a sealing step in the method of manufacturing an organic EL device according to the embodiment.
１ 描画装置 ７ 機能液滴
吐出ヘッド
１０ 機能液滴吐出装置 １２ 制御装
置
１７ ヘッド駆動装置 １８ 第１光
伝送手段
１９ 第２光伝送手段 ２０ チャン
バ
２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テ
ーブル
２５ メインキャリッジ ２６ ヘッド
ユニット
２８ 吸着テーブル ４１ サブキ
ャリッジ
７２ 中間基板 １１０ イメー
ジバッファ部
１２０ ヘッド駆動部 １３０ ヘッ
ド部
２０１ 光電変換器 ２１０ 光素
子
２１２ 光学的部分 ２２０ プラ
ットフォーム
２２２ 配線層 ２２４ 挿入
孔
２２６ ワイヤ ２３０ 凹部
２４０ 光ファイバ ２５０ ピン
２５２ 固定部 ４００ カラ
ーフィルタ
４１２ 画素 ４１５ バン
ク層
４１６ インク層 ４２２ オー
バーコート層
４６６ 基板 ５００ 有機
ＥＬ装置
５０１ 基板 ５０２ 回路
素子部
５０４ 有機ＥＬ素子 ５１０ａ 正孔
注入／輸送層
５１０ｂ 発光層
Ｗ 基板1 Drawing Device 7 Functional Droplet Ejection Head 10 Functional Droplet Ejection Device 12 Control Device 17 Head Driving Device 18 First Optical Transmission Means 19 Second Optical Transmission Means 20 Chamber 23 X Axis Table 24 Y Axis Table 25 Main Carriage 26 Head Unit 28 Adsorption table 41 Sub-carriage 72 Intermediate substrate 110 Image buffer unit 120 Head drive unit 130 Head unit 201 Photoelectric converter 210 Optical element 212 Optical part 220 Platform 222 Wiring layer 224 Insertion hole 226 Wire 230 Recess 240 Optical fiber 250 Pin 252 Fixed Part 400 Color filter 412 Pixel 415 Bank layer 416 Ink layer 422 Overcoat layer 466 Substrate 500 Organic EL device 501 Substrate 502 Circuit element part 504 Organic EL element 510a Hole injection / transport layer 10b emitting layer W substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/1343 ２Ｈ０９２ 1/1339 ５００ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２Ｚ ３Ｋ００７ 1/1343 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｅ ４Ｆ０４１ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２ Ｚ ５Ｃ０２８ Ｈ０１Ｊ 9/227 11/02 Ｂ ５Ｃ０４０ Ｈ０５Ｂ 33/10 ５Ｇ４３５ 11/02 33/14 Ａ Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ 33/14 29/00 Ｅ (72)発明者 臼田 秀範 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 FA10 FB01 HA22 HA37 HA51 HA60 2C061 AQ05 CG03 CG15 2H088 FA02 FA21 FA30 HA01 HA02 HA06 HA08 HA10 HA12 HA24 HA28 HA30 MA20 2H089 KA01 KA17 NA01 NA37 NA39 NA42 NA44 NA45 NA60 QA16 TA01 TA02 TA05 TA09 TA11 TA12 TA16 TA18 TA20 2H091 FA02Y FA24X FA24Z FA26X FA26Z FA31X FA31Z FA41Z FC01 FC22 FC23 FC24 FC26 FC27 FC29 FC30 GA01 GA02 GA07 GA08 GA13 LA17 LA30 2H092 MA02 MA04 MA05 MA07 MA08 MA15 MA17 MA35 NA25 PA01 PA03 PA04 PA05 PA07 PA08 PA13 3K007 AB18 DB03 FA01 4F041 AA02 AA05 AB02 BA13 5C028 FF16 HH04 HH14 5C040 FA10 GG09 JA13 MA26 5G435 AA17 BB05 BB06 BB12 GG12 KK05 KK07 (54)【発明の名称】 機能液滴吐出装置、並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電 子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタ の製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レ ジスト形成方法および光拡散体形成方法─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1335 505 G02F 1/1343 2H091 1/1339 500 G09F 9/00 342Z 3K007 1/1343 H01J 9/227 E 4F041 G09F 9/00 342 Z 5C028 H01J 9/227 11/02 B 5C040 H05B 33/10 5G435 11/02 33/14 A H05B 33/10 B41J 3/04 101Z 33/14 29/00 E (72) Invention Employees Hidenori Usuda 3-3-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko Epson Co., Ltd. F-term (reference) 2C056 FA10 FB01 HA22 HA37 HA51 HA60 2C061 AQ05 CG03 CG15 2H088 FA02 FA21 FA30 HA01 HA02 HA06 HA08 HA10 HA12 HA24 HA28 HA20 HA24 HA28 HA0 KA01 KA17 NA01 NA37 NA39 NA42 NA44 NA45 NA60 QA16 TA01 TA02 TA05 TA09 TA11 TA12 TA16 TA 18 TA20 2H091 FA02Y FA24X FA24Z FA26X FA26Z FA31X FA31Z FA41Z FC01 FC22 FC23 FC24 FC26 FC27 FC29 FC30 GA01 GA02 GA07 GA08 GA13 LA17 LA30 2H092 MA02 MA04 MA05 MA07 MA08 MA15 MA01 MA02 MA04 MA01 MA02 MA02 MA04 MA01 FA02 PA02 PA01 PA02 PA04 PA05 PA07 PA08 PA13 AB02 BA13 5C028 FF16 HH04 HH14 5C040 FA10 GG09 JA13 MA26 5G435 AA17 BB05 BB06 BB12 GG12 KK05 KK07 (54) [Title of Invention] Functional droplet discharge device, liquid crystal display manufacturing method using the same, manufacturing of organic EL device Method, electron-emitting device manufacturing method, PDP device manufacturing method, electrophoretic display device manufacturing method, color filter manufacturing method, organic EL manufacturing method, spacer forming method, metal wiring forming method, lens forming method, lens Gist forming method and light diffuser forming method
Claims (27)
ワークに機能液滴を選択的に吐出する機能液滴吐出装置
であって、 複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドと、 前記機能液滴吐出ヘッドを駆動する駆動手段と、 前記データを記憶すると共に前記駆動手段を制御する制
御手段と、 光導波路により構成され、前記制御手段から前記駆動手
段にデータを伝送する第１光伝送手段と、を備えている
ことを特徴とする機能液滴吐出装置。1. Based on bit-mapped data,
A functional liquid droplet ejection device for selectively ejecting functional liquid droplets onto a work, comprising a functional liquid droplet ejection head having a plurality of nozzles, a drive unit for driving the functional liquid droplet ejection head, and storing the data. A functional liquid droplet ejecting apparatus further comprising: a control unit for controlling the drive unit; and a first optical transmission unit configured by an optical waveguide and transmitting data from the control unit to the drive unit. .
から前記機能液滴吐出ヘッドにデータを伝送する第２光
伝送手段を、更に備えていることを特徴とする請求項１
に記載の機能液滴吐出装置。2. A second optical transmission unit configured by an optical waveguide and transmitting data from the driving unit to the functional liquid droplet ejection head is further provided.
The functional liquid droplet ejection device as described in.
器を有しており、 前記光電変換器の発光側の素子は面発光レーザにより構
成され、受光側の素子はフォトトランジスタにより構成
されていることを特徴とする請求項１または２に記載の
機能液滴吐出装置。3. The optical waveguide has photoelectric converters at both ends thereof, a light emitting side element of the photoelectric converter is constituted by a surface emitting laser, and a light receiving side element is constituted by a phototransistor. The functional liquid droplet ejection device according to claim 1, wherein
に設けられると共に位置合わせ用のピンを突設した固定
部と、一方の面に形成した凹部の開口側に光素子を配置
すると共に当該凹部形成面に前記ピンを挿入可能な挿入
孔を有したプラットフォームと、により構成されること
を特徴とする請求項３に記載の機能液滴吐出装置。4. The photoelectric converter has a fixing portion provided at an end portion of the optical waveguide and protruding from a positioning pin, and an optical element disposed on an opening side of a recess formed on one surface. 5. The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 3, further comprising: a platform having an insertion hole into which the pin can be inserted, on the concave portion forming surface.
を有し、 前記プラットフォームには前記凹部を含む領域に配線層
が形成され、 前記凹部の内側に形成された前記配線層と、前記電極と
がワイヤにより接続されていることを特徴とする請求項
４に記載の機能液滴吐出装置。5. The optical element has an electrode on an opening side of the recess, a wiring layer is formed in a region including the recess on the platform, and the wiring layer is formed inside the recess, The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 4, wherein the electrode is connected to the electrode by a wire.
バ内に収容されており、 前記第１光伝送手段は、前記チャンバの壁体に気密に埋
め込んだ前記光電変換器を介して接続されることを特徴
とする請求項３、４または５に記載の機能液滴吐出装
置。6. The main body of the discharge device is housed in a chamber for atmosphere adjustment, and the first light transmission means is connected via the photoelectric converter embedded in a wall of the chamber in an airtight manner. The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 3, 4, or 5.
ドのエラーを検出し、 前記第１光伝送手段は、前記機能液滴吐出ヘッドのエラ
ー信号を前記駆動手段から前記制御手段に伝送すること
を特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の機能
液滴吐出装置。7. The driving unit detects an error of the functional liquid droplet ejection head, and the first optical transmission unit transmits an error signal of the functional liquid droplet ejection head from the driving unit to the control unit. 7. The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein
により構成されていることを特徴とする請求項７に記載
の機能液滴吐出装置。8. The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 7, wherein the first optical transmission means is composed of two optical waveguides.
ヘッドドライバにより構成され、 前記パワーアンプは、前記機能液滴吐出ヘッドの近傍に
設けたサブ基板上に配設されていることを特徴とする請
求項１ないし８のいずれかに記載の機能液滴吐出装置。9. The driving means is composed of a head driver having a power amplifier, and the power amplifier is arranged on a sub-board provided in the vicinity of the functional liquid droplet ejection head. The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1.
上に配設されていることを特徴とする請求項９に記載の
機能液滴吐出装置。10. The functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 9, wherein the head driver is provided on the sub substrate.
き、ワークに機能液滴を選択的に吐出する機能液滴吐出
装置であって、 複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドと、 前記機能液滴吐出ヘッドを駆動する駆動手段と、 前記データを記憶すると共に前記駆動手段を制御する制
御手段と、 無線により構成され、前記制御手段から前記駆動手段に
データを伝送する第１無線伝送手段と、を備えているこ
とを特徴とする機能液滴吐出装置。11. A functional liquid droplet ejection apparatus for selectively ejecting functional liquid droplets onto a work based on bit-mapped data, the functional liquid droplet ejection head having a plurality of nozzles, and the functional liquid droplets. Drive means for driving the ejection head; control means for storing the data and controlling the drive means; and first wireless transmission means configured by radio for transmitting data from the control means to the drive means. A functional liquid droplet ejecting apparatus characterized by being provided.
ら前記機能液滴吐出ヘッドにデータを伝送する第２無線
伝送手段を、更に備えていることを特徴とする請求項１
１に記載の機能液滴吐出装置。12. The apparatus according to claim 1, further comprising a second wireless transmission unit configured by wireless and transmitting data from the driving unit to the functional liquid droplet ejection head.
1. The functional liquid droplet discharge device according to 1.
の機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上に
多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製
造方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を
導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フ
ィルタエレメントを形成することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。13. A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein a plurality of filter elements are formed on a substrate of a color filter by using the functional liquid droplet discharge device according to any one of claims 1 to 12. Introducing a filter material of each color into the functional liquid droplet ejection head, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the substrate, and selectively ejecting the filter material to form a large number of the filter elements. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
の機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピクセ
ルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造
方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発
光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方
法。14. A method of manufacturing an organic EL device, wherein an EL light emitting layer is formed on each of a large number of pixel pixels on a substrate by using the functional liquid droplet discharge device according to claim 1. A large number of EL light emitting layers are formed by introducing light emitting materials of respective colors into the plurality of functional liquid droplet ejection heads, scanning the functional liquid droplet ejection heads relative to the substrate, and selectively ejecting the light emitting material. A method for manufacturing an organic EL device, comprising:
の機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を形
成する電子放出装置の製造方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査
し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍光体
を形成することを特徴とする電子放出装置の製造方法。15. A method of manufacturing an electron-emitting device, wherein a plurality of phosphors are formed on an electrode by using the functional liquid droplet ejection device according to claim 1, wherein a plurality of the functional liquid droplets are provided. The fluorescent material of each color is introduced into the discharge head, the functional liquid droplet discharge head is relatively scanned with respect to the electrodes, and the fluorescent material is selectively discharged to form a large number of the phosphors. Of manufacturing electron emission device.
の機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部に
それぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であっ
て、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記背面基板に対し相対的に
走査し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍
光体を形成することを特徴とするＰＤＰ装置の製造方
法。16. A method of manufacturing a PDP device, which comprises using the functional liquid droplet discharge device according to claim 1 to form phosphors in a large number of recesses on a back substrate, respectively. A fluorescent material of each color is introduced into the functional liquid droplet ejection head, the functional liquid droplet ejection head is scanned relative to the back substrate, and the fluorescent material is selectively ejected to form a large number of phosphors. A method of manufacturing a PDP device, comprising:
の機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部に泳動
体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導
入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査
し、前記泳動体材料を選択的に吐出して多数の前記泳動
体を形成することを特徴とする電気泳動表示装置の製造
方法。17. A method for manufacturing an electrophoretic display device, which comprises using the functional liquid droplet ejection device according to claim 1 to form electrophoretic bodies in a large number of recesses on an electrode, wherein a plurality of the electrophoretic display devices are provided. Introducing electrophoretic material of each color into the functional liquid droplet ejection head, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the electrodes, and selectively ejecting the electrophoretic material to form a large number of electrophoretic materials. A method for manufacturing an electrophoretic display device, comprising:
の機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィルタエ
レメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラ
ーフィルタの製造方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を
導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フ
ィルタエレメントを形成することを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法。18. A method for producing a color filter, which comprises using the functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1 to produce a color filter having a large number of filter elements arranged on a substrate, A filter material of each color is introduced into a plurality of the functional liquid droplet ejection heads, the functional liquid droplet ejection heads are relatively scanned with respect to the substrate, and the filter material is selectively ejected to form a large number of the filter elements. A method for manufacturing a color filter, which comprises forming the color filter.
するオーバーコート膜が形成されており、 前記フィルタエレメントを形成した後に、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング
材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記コーティング材料を選択的に吐出して前記オー
バーコート膜を形成することを特徴とする請求項１８に
記載のカラーフィルタの製造方法。19. An overcoat film is formed to cover the plurality of filter elements, and after forming the filter elements, a translucent coating material is introduced into a plurality of the functional liquid droplet ejection heads, The method of manufacturing a color filter according to claim 18, wherein the functional liquid droplet ejection head is relatively scanned with respect to the substrate, and the coating material is selectively ejected to form the overcoat film.
の機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵
素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法
であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発
光層を形成することを特徴とする有機ＥＬの製造方法。20. A method of manufacturing an organic EL, comprising a large number of pixel pixels including an EL light emitting layer arranged on a substrate, using the functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1. Introducing a luminescent material of each color into a plurality of the functional liquid droplet ejection heads, scanning the functional liquid droplet ejection heads relative to the substrate, selectively ejecting the luminescent material, and emitting a large number of the EL light. A method of manufacturing an organic EL, comprising forming a layer.
間には、前記ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形
成されており、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記液状電極材料を選択的に吐出して多数の前記画
素電極を形成することを特徴とする請求項２０に記載の
有機ＥＬの製造方法。21. A large number of pixel electrodes corresponding to the EL light emitting layers are formed between a large number of the EL light emitting layers and the substrate, and a liquid electrode material is formed in the plurality of functional liquid droplet ejection heads. 21. A plurality of the pixel electrodes are formed by selectively introducing the liquid electrode material and scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the substrate, thereby forming a large number of the pixel electrodes. The method for manufacturing an organic EL device.
向電極が形成されており、 前記ＥＬ発光層を形成した後に、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記液状電極材料を選択的に吐出して前記対向電極
を形成することを特徴とする請求項２１に記載の有機Ｅ
Ｌの製造方法。22. A counter electrode is formed so as to cover a large number of the EL light emitting layers, and after forming the EL light emitting layers, a liquid electrode material is introduced into a plurality of the functional liquid droplet ejection heads, 22. The organic E according to claim 21, wherein a droplet discharge head is scanned relative to the substrate to selectively discharge the liquid electrode material to form the counter electrode.
Manufacturing method of L.
の機能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセル
ギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成す
るスペーサ形成方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒
子材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の前記基板に
対し相対的に走査し、前記粒子材料を選択的に吐出して
前記基板上に前記スペーサを形成することを特徴とする
スペーサ形成方法。23. A spacer forming method for forming a large number of particulate spacers to form a minute cell gap between two substrates by using the functional liquid droplet discharge apparatus according to claim 1. Description: The particulate material forming the spacer is introduced into the plurality of functional liquid droplet ejection heads, and the functional liquid droplet ejection heads are relatively scanned with respect to at least one of the substrates to selectively select the particulate material. A method for forming a spacer, characterized in that the spacer is discharged to form the spacer on the substrate.
の機能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成す
る金属配線形成方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記液状金属材料を選択的に吐出して前記金属配線
を形成することを特徴とする金属配線形成方法。24. A metal wiring forming method for forming a metal wiring on a substrate by using the functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein the plurality of the functional liquid droplet ejection heads are liquid. A method for forming a metal wiring, wherein a metal material is introduced, the functional liquid droplet ejection head is scanned relative to the substrate, and the liquid metal material is selectively ejected to form the metal wiring.
の機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレ
ンズを形成するレンズ形成方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記レンズ材料を選択的に吐出して多数の前記マイ
クロレンズを形成することを特徴とするレンズ形成方
法。25. A lens forming method for forming a large number of microlenses on a substrate using the functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the functional liquid droplet ejection heads are provided. A lens forming method comprising introducing a lens material, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the substrate, and selectively ejecting the lens material to form a large number of the microlenses.
の機能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジス
トを形成するレジスト形成方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入
し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記レジスト材料を選択的に吐出して前記レジスト
を形成することを特徴とするレジスト形成方法。26. A resist forming method for forming a resist of an arbitrary shape on a substrate by using the functional liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the functional liquid droplet ejection heads are provided. A resist forming method comprising: introducing a resist material, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the substrate, and selectively ejecting the resist material to form the resist.
の機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を
形成する光拡散体形成方法であって、 複数の前記機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記光拡散材料を選択的に吐出して多数の前記光拡
散体を形成することを特徴とする光拡散体形成方法。27. A light diffuser forming method for forming a large number of light diffusers on a substrate by using the functional liquid droplet ejecting apparatus according to claim 1, wherein the plurality of functional liquid drops are provided. Introducing a light diffusing material into the ejection head, scanning the functional liquid droplet ejection head relative to the substrate, and selectively ejecting the light diffusing material to form a large number of the light diffusing bodies. And a method for forming a light diffuser.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002078722A JP2003275647A (en) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | Discharge device for functional liquid droplet, and manufacturing method for liquid crystal display device using the same, organic el device, electron emission device, pdp device, electrophoretic display device, color filter and organic el, and forming method for spacer, metallic wiring, lens, resist and light diffusing body |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003275647A true JP2003275647A (en) | 2003-09-30 |
Family
ID=29206125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002078722A Withdrawn JP2003275647A (en) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | Discharge device for functional liquid droplet, and manufacturing method for liquid crystal display device using the same, organic el device, electron emission device, pdp device, electrophoretic display device, color filter and organic el, and forming method for spacer, metallic wiring, lens, resist and light diffusing body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003275647A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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|
| A977 | Report on retrieval |
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