JP2003262714A - 電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器 - Google Patents
電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器Info
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- JP2003262714A JP2003262714A JP2002062571A JP2002062571A JP2003262714A JP 2003262714 A JP2003262714 A JP 2003262714A JP 2002062571 A JP2002062571 A JP 2002062571A JP 2002062571 A JP2002062571 A JP 2002062571A JP 2003262714 A JP2003262714 A JP 2003262714A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造プロセスの長時間化及び煩雑化を防止す
る。 【解決手段】 複数の領域に区切られた基板12上の領
域13に向けて所定方向に液滴を吐出する。領域13の
大きさに基づいて、液滴の飛行方向を制御した。
る。 【解決手段】 複数の領域に区切られた基板12上の領
域13に向けて所定方向に液滴を吐出する。領域13の
大きさに基づいて、液滴の飛行方向を制御した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ、
エレクトロルミネセンス素子マトリクス等の電気光学装
置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器に関する
ものである。
エレクトロルミネセンス素子マトリクス等の電気光学装
置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】カラーフィルタ等の電気光学装置部品の
製造方法としては、インクジェット法を応用した方法が
提案されている。この方法では、透明基板上に画素部に
対応するパターンでマトリクス状に仕切りを形成した
後、インクジェット方式の製膜装置を用いてインクジェ
ットヘッドからR、G、Bの各色素を含有する着色した
液滴(以下インク滴という)を仕切り内に吐出してい
る。そして、インク滴吐出時には基板上の仕切りより上
方に盛り上がる程度にインク滴を付与し、これを所定温
度でベークし乾燥及び硬化させると体積が減り、仕切り
内で平坦化させてCF層(カラーフィルタ層)を形成す
る。
製造方法としては、インクジェット法を応用した方法が
提案されている。この方法では、透明基板上に画素部に
対応するパターンでマトリクス状に仕切りを形成した
後、インクジェット方式の製膜装置を用いてインクジェ
ットヘッドからR、G、Bの各色素を含有する着色した
液滴(以下インク滴という)を仕切り内に吐出してい
る。そして、インク滴吐出時には基板上の仕切りより上
方に盛り上がる程度にインク滴を付与し、これを所定温
度でベークし乾燥及び硬化させると体積が減り、仕切り
内で平坦化させてCF層(カラーフィルタ層)を形成す
る。
【0003】この方法によればR、G、Bの各CF層の
形成を一度に行なうことができ、更に着色液の使用量に
も無駄が生じないため大幅な生産性の向上、コストダウ
ン等の効果を得ることができる。
形成を一度に行なうことができ、更に着色液の使用量に
も無駄が生じないため大幅な生産性の向上、コストダウ
ン等の効果を得ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来技術には、以下のような問題が存在する。
インク滴が基板上の仕切りより上方に盛り上がるので、
他の画素部へインク滴が溢れ出ないようにする必要があ
る。そのため、インク滴が画素部へ着弾したときの目標
位置からの誤差(着弾位置精度)を考慮すると、仕切り
を高くしたり、撥インク性を大きく持たせる必要があ
り、仕切り形成のためのプロセスが長時間になったり、
煩雑化するという問題があった。
たような従来技術には、以下のような問題が存在する。
インク滴が基板上の仕切りより上方に盛り上がるので、
他の画素部へインク滴が溢れ出ないようにする必要があ
る。そのため、インク滴が画素部へ着弾したときの目標
位置からの誤差(着弾位置精度)を考慮すると、仕切り
を高くしたり、撥インク性を大きく持たせる必要があ
り、仕切り形成のためのプロセスが長時間になったり、
煩雑化するという問題があった。
【0005】特に近年、ディスプレイ装置等の高解像度
化に伴い、電気光学装置の精細化が要請されている。例
えば、カラーフィルタに関していえば、1画素あたり1
14μm×75μm程度、仕切りの幅を除いた画素部の
大きさが76μm×53μm程度のものが生産されてい
る。また、近年では200PPI(Pixel Per Inch;1
インチ(約25.4mm)に200ピクセル(すなわち
RGBで600画素)が配列されたもの)や400PP
I(1インチ(約25.4mm)に400ピクセル(す
なわちRGBで1200画素)が配列されたもの)で画
素部が配置された液晶デバイスも検討されており、この
ように微細なマトリクスの中に各色のインクを吐出して
隣接する他の画素にインクが溢れてしまうと、他の画素
との混色を生じ、コントラストの高いカラーフィルタを
製造することができないという問題があった。
化に伴い、電気光学装置の精細化が要請されている。例
えば、カラーフィルタに関していえば、1画素あたり1
14μm×75μm程度、仕切りの幅を除いた画素部の
大きさが76μm×53μm程度のものが生産されてい
る。また、近年では200PPI(Pixel Per Inch;1
インチ(約25.4mm)に200ピクセル(すなわち
RGBで600画素)が配列されたもの)や400PP
I(1インチ(約25.4mm)に400ピクセル(す
なわちRGBで1200画素)が配列されたもの)で画
素部が配置された液晶デバイスも検討されており、この
ように微細なマトリクスの中に各色のインクを吐出して
隣接する他の画素にインクが溢れてしまうと、他の画素
との混色を生じ、コントラストの高いカラーフィルタを
製造することができないという問題があった。
【0006】例えば、インクジェットヘッドから基板へ
向けて吐出されたインクが所定経路からある角度ずれて
飛行する、いわゆる飛行曲がりが生じた場合、インクジ
ェットヘッドと基板との間の距離に応じて、インクの着
弾位置が目標位置に対してずれてしまうため、インクを
確実に画素部内に着弾させることが困難になってしま
う。
向けて吐出されたインクが所定経路からある角度ずれて
飛行する、いわゆる飛行曲がりが生じた場合、インクジ
ェットヘッドと基板との間の距離に応じて、インクの着
弾位置が目標位置に対してずれてしまうため、インクを
確実に画素部内に着弾させることが困難になってしま
う。
【0007】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、製造プロセスの長時間化及び煩雑化を防止
できる電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに
電子機器を提供することを目的とする。
れたもので、製造プロセスの長時間化及び煩雑化を防止
できる電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに
電子機器を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、以下の構成を採用している。本発明に係
る電気光学装置の製造方法は、複数の領域に区切られた
基板上の領域に向けて液滴を吐出する電気光学装置の製
造方法であって、領域の大きさに基づいて、液滴の飛行
方向を制御したことを特徴とするものである。
めに本発明は、以下の構成を採用している。本発明に係
る電気光学装置の製造方法は、複数の領域に区切られた
基板上の領域に向けて液滴を吐出する電気光学装置の製
造方法であって、領域の大きさに基づいて、液滴の飛行
方向を制御したことを特徴とするものである。
【0009】従って、本発明では、仕切りに乗り上げな
い領域(画素部)内の位置に液滴を着弾させることがで
きるため、仕切りを高くしたり、高度に撥インク性を持
たせる必要がなくなり、仕切りを形成するためのフォト
リソグラフ工程等、電気光学装置の製造に係るプロセス
の長時間化および煩雑化を防止することができる。
い領域(画素部)内の位置に液滴を着弾させることがで
きるため、仕切りを高くしたり、高度に撥インク性を持
たせる必要がなくなり、仕切りを形成するためのフォト
リソグラフ工程等、電気光学装置の製造に係るプロセス
の長時間化および煩雑化を防止することができる。
【0010】また、本発明は、領域の大きさに応じて飛
行方向に関して許容される基板上の位置誤差をA、液滴
が吐出される位置と基板との間の距離をL、角度をθと
すると、θ≦tan-1(T/L)とすることが好まし
い。
行方向に関して許容される基板上の位置誤差をA、液滴
が吐出される位置と基板との間の距離をL、角度をθと
すると、θ≦tan-1(T/L)とすることが好まし
い。
【0011】θがtan-1(T/L)を超えると液滴が
他の画素部へ溢れ出る可能性があるが、本発明では、画
素部の幅方向中心を目標として液滴を着弾させた際に、
画素部の許容範囲内に着弾させることで液滴が仕切りを
越えて他の画素部の液滴と混色することを防止できる。
他の画素部へ溢れ出る可能性があるが、本発明では、画
素部の幅方向中心を目標として液滴を着弾させた際に、
画素部の許容範囲内に着弾させることで液滴が仕切りを
越えて他の画素部の液滴と混色することを防止できる。
【0012】また、本発明は、角度精度を1°以下とす
ることが好ましい。
ることが好ましい。
【0013】例えばデバイスが200PPIの場合、画
素部は約42.3μmピッチで配列されるが、このとき
液滴を吐出するヘッドの加工精度、ヘッド及び基板の位
置決め(アライメント)精度等を考慮すると、液滴の飛
行方向に関して許容される基板上の位置誤差は5.3μ
m程度である。また、静電気による悪影響が及ばないヘ
ッドと基板との最短距離は300μm程度である。従っ
て、液滴の飛行方向に関する角度精度を1°以下とする
ことで、200PPIのデバイスを製造する際にも、液
滴が仕切りを越えて他の画素部の液滴と混色することを
防止できる。
素部は約42.3μmピッチで配列されるが、このとき
液滴を吐出するヘッドの加工精度、ヘッド及び基板の位
置決め(アライメント)精度等を考慮すると、液滴の飛
行方向に関して許容される基板上の位置誤差は5.3μ
m程度である。また、静電気による悪影響が及ばないヘ
ッドと基板との最短距離は300μm程度である。従っ
て、液滴の飛行方向に関する角度精度を1°以下とする
ことで、200PPIのデバイスを製造する際にも、液
滴が仕切りを越えて他の画素部の液滴と混色することを
防止できる。
【0014】さらに、本発明は、角度精度を0.5°以
下とすることが好ましい。
下とすることが好ましい。
【0015】例えば、デバイスが400PPIの場合、
画素部は約21.2μmピッチで配列され、液滴の飛行
方向に関して許容される基板上の位置誤差は2.6μm
程度である。従って、液滴の飛行方向に関する角度精度
を0.5°以下とすることで、400PPIのデバイス
を製造する際にも、液滴が仕切りを越えて他の画素部の
液滴と混色することを防止できる。
画素部は約21.2μmピッチで配列され、液滴の飛行
方向に関して許容される基板上の位置誤差は2.6μm
程度である。従って、液滴の飛行方向に関する角度精度
を0.5°以下とすることで、400PPIのデバイス
を製造する際にも、液滴が仕切りを越えて他の画素部の
液滴と混色することを防止できる。
【0016】一方、本発明に係る電気光学装置は、複数
の領域に区切られた基板上の領域に向けて液滴を吐出し
て製造された電気光学装置であって、領域の大きさに基
づいて、液滴の飛行方向を制御したことを特徴としてい
る。
の領域に区切られた基板上の領域に向けて液滴を吐出し
て製造された電気光学装置であって、領域の大きさに基
づいて、液滴の飛行方向を制御したことを特徴としてい
る。
【0017】従って、本発明では、仕切りに乗り上げな
い領域(画素部)内の位置に液滴を着弾させることがで
きるため、仕切りを高くしたり、高度に撥インク性を持
たせる必要がなくなり、仕切りを形成するためのフォト
リソグラフ工程等、電気光学装置の製造に係るプロセス
の長時間化および煩雑化を防止することができる。
い領域(画素部)内の位置に液滴を着弾させることがで
きるため、仕切りを高くしたり、高度に撥インク性を持
たせる必要がなくなり、仕切りを形成するためのフォト
リソグラフ工程等、電気光学装置の製造に係るプロセス
の長時間化および煩雑化を防止することができる。
【0018】そして、本発明の電子機器は、上記の電気
光学装置を備えたことを特徴としている。
光学装置を備えたことを特徴としている。
【0019】従って、本発明では、製造に係るプロセス
の長時間化および煩雑化を防止することができる。
の長時間化および煩雑化を防止することができる。
【0020】また、本発明の製膜装置は、複数の領域に
区切られた基板上の領域に向けて液滴を吐出する製膜装
置であって、領域の大きさに基づいて液滴の飛行方向を
制御する制御手段を有することを特徴としている。
区切られた基板上の領域に向けて液滴を吐出する製膜装
置であって、領域の大きさに基づいて液滴の飛行方向を
制御する制御手段を有することを特徴としている。
【0021】従って、本発明では、仕切りに乗り上げな
い領域(画素部)内の位置に液滴を着弾させることがで
きるため、領域が精細に区切られた電気光学装置でも製
造することが可能になる。また、仕切りを高くしたり、
高度に撥インク性を持たせる必要がなくなり、仕切りを
形成するためのフォトリソグラフ工程等、電気光学装置
の製造に係るプロセスの長時間化および煩雑化も防止す
ることができる。
い領域(画素部)内の位置に液滴を着弾させることがで
きるため、領域が精細に区切られた電気光学装置でも製
造することが可能になる。また、仕切りを高くしたり、
高度に撥インク性を持たせる必要がなくなり、仕切りを
形成するためのフォトリソグラフ工程等、電気光学装置
の製造に係るプロセスの長時間化および煩雑化も防止す
ることができる。
【0022】また、本発明の製膜装置は、領域の大きさ
に応じて飛行方向に関して許容される基板上の位置誤差
をA、液滴が吐出される位置と基板との間の距離をL、
角度をθとすると、θ≦tan-1(T/L)とすること
が好ましい。
に応じて飛行方向に関して許容される基板上の位置誤差
をA、液滴が吐出される位置と基板との間の距離をL、
角度をθとすると、θ≦tan-1(T/L)とすること
が好ましい。
【0023】θがtan-1(T/L)を超えると液滴が
他の画素部へ溢れ出る可能性があるが、本発明では、画
素部の幅方向中心を目標として液滴を着弾させた際に、
画素部の許容範囲内に着弾させることで液滴が仕切りを
越えて他の画素部の液滴と混色することを防止できる。
他の画素部へ溢れ出る可能性があるが、本発明では、画
素部の幅方向中心を目標として液滴を着弾させた際に、
画素部の許容範囲内に着弾させることで液滴が仕切りを
越えて他の画素部の液滴と混色することを防止できる。
【0024】また、本発明の製膜装置は、角度精度を1
°以下とすることが好ましい。
°以下とすることが好ましい。
【0025】例えばデバイスが200PPIの場合、画
素部は約42.3μmピッチで配列されるが、このとき
液滴を吐出するヘッドの加工精度、ヘッド及び基板の位
置決め(アライメント)精度等を考慮すると、液滴の飛
行方向に関して許容される基板上の位置誤差は5.3μ
m程度である。また、静電気による悪影響が及ばないヘ
ッドと基板との最短距離は300μm程度である。従っ
て、液滴の飛行方向に関する角度精度を1°以下とする
ことで、200PPIのデバイスを製造する際にも、液
滴が仕切りを越えて他の画素部の液滴と混色することを
防止できる。
素部は約42.3μmピッチで配列されるが、このとき
液滴を吐出するヘッドの加工精度、ヘッド及び基板の位
置決め(アライメント)精度等を考慮すると、液滴の飛
行方向に関して許容される基板上の位置誤差は5.3μ
m程度である。また、静電気による悪影響が及ばないヘ
ッドと基板との最短距離は300μm程度である。従っ
て、液滴の飛行方向に関する角度精度を1°以下とする
ことで、200PPIのデバイスを製造する際にも、液
滴が仕切りを越えて他の画素部の液滴と混色することを
防止できる。
【0026】さらに、本発明の製膜装置は、角度精度を
0.5°以下とすることが好ましい。
0.5°以下とすることが好ましい。
【0027】例えば、デバイスが400PPIの場合、
画素部は約21.2μmピッチで配列され、液滴の飛行
方向に関して許容される基板上の位置誤差は2.6μm
程度である。従って、液滴の飛行方向に関する角度精度
を0.5°以下とすることで、400PPIのデバイス
を製造する際にも、液滴が仕切りを越えて他の画素部の
液滴と混色することを防止できる。
画素部は約21.2μmピッチで配列され、液滴の飛行
方向に関して許容される基板上の位置誤差は2.6μm
程度である。従って、液滴の飛行方向に関する角度精度
を0.5°以下とすることで、400PPIのデバイス
を製造する際にも、液滴が仕切りを越えて他の画素部の
液滴と混色することを防止できる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明の電気光学装置とそ
の製造方法及び製膜装置並びに電子機器の実施の形態
を、図1ないし図8を参照して説明する。ここでは、製
膜装置を用いて、例えば電気光学装置の部品としてカラ
ーフィルタを製造する場合の例を用いて説明する。
の製造方法及び製膜装置並びに電子機器の実施の形態
を、図1ないし図8を参照して説明する。ここでは、製
膜装置を用いて、例えば電気光学装置の部品としてカラ
ーフィルタを製造する場合の例を用いて説明する。
【0029】図1は、製膜装置(インクジェット装置)
10の概略的な外観斜視図である。このフィルタ製造装
置は、ほぼ同様の構造を有する3基の製膜装置10を備
えており、各製膜装置10は、それぞれR(赤)、G
(緑)、B(青)の各色のインクをフィルタ基板に吐出
する構成になっている。
10の概略的な外観斜視図である。このフィルタ製造装
置は、ほぼ同様の構造を有する3基の製膜装置10を備
えており、各製膜装置10は、それぞれR(赤)、G
(緑)、B(青)の各色のインクをフィルタ基板に吐出
する構成になっている。
【0030】製膜装置10は、ベース2、第1移動手段
4、第2移動手段6、図示しない電子天秤(重量測定手
段)、ヘッドとしてのインクジェットヘッド20、キャ
ッピングユニット22、クリーニングユニット24等を
有している。ベース2の上には、第1移動手段4、電子
天秤、キャッピングユニット22、クリーニングユニッ
ト24および第2移動手段6が設置されている。
4、第2移動手段6、図示しない電子天秤(重量測定手
段)、ヘッドとしてのインクジェットヘッド20、キャ
ッピングユニット22、クリーニングユニット24等を
有している。ベース2の上には、第1移動手段4、電子
天秤、キャッピングユニット22、クリーニングユニッ
ト24および第2移動手段6が設置されている。
【0031】第1移動手段4は、好ましくはベース2の
上に直接設置されており、しかもこの第1移動手段4
は、Y軸方向に沿って位置決めされている。これに対し
て第2移動手段6は、支柱6A、6Aを用いて、ベース
2に対して立てて取り付けられており、しかも第2移動
手段6は、ベース2の後部2Aにおいて取り付けられて
いる。第2移動手段6のX軸方向は、第1移動手段4の
Y軸方向とは直交する方向である。Y軸はベース2の前
部2Bと後部2A方向に沿った軸である。これに対して
X軸はベース2の左右方向に沿った軸であり、各々水平
である
上に直接設置されており、しかもこの第1移動手段4
は、Y軸方向に沿って位置決めされている。これに対し
て第2移動手段6は、支柱6A、6Aを用いて、ベース
2に対して立てて取り付けられており、しかも第2移動
手段6は、ベース2の後部2Aにおいて取り付けられて
いる。第2移動手段6のX軸方向は、第1移動手段4の
Y軸方向とは直交する方向である。Y軸はベース2の前
部2Bと後部2A方向に沿った軸である。これに対して
X軸はベース2の左右方向に沿った軸であり、各々水平
である
【0032】第1移動手段4は、ガイドレール40、4
0を有しており、第1移動手段4は、例えば、リニアモ
ータを採用することができる。このリニアモータ形式の
第1移動手段4のスライダー42は、ガイドレール40
に沿って、Y軸方向に移動して位置決め可能である。
0を有しており、第1移動手段4は、例えば、リニアモ
ータを採用することができる。このリニアモータ形式の
第1移動手段4のスライダー42は、ガイドレール40
に沿って、Y軸方向に移動して位置決め可能である。
【0033】スライダー42は、θ軸用のモータ44を
備えている。このモータ44は、例えばダイレクトドラ
イブモータであり、モータ44のロータはテーブル46
に固定されている。これにより、モータ44に通電する
ことでロータとテーブル46は、θ方向に沿って回転し
てテーブル46をインデックス(回転割り出し)するこ
とができる。
備えている。このモータ44は、例えばダイレクトドラ
イブモータであり、モータ44のロータはテーブル46
に固定されている。これにより、モータ44に通電する
ことでロータとテーブル46は、θ方向に沿って回転し
てテーブル46をインデックス(回転割り出し)するこ
とができる。
【0034】テーブル46は、基板12を位置決めし
て、しかも保持するものである。また、テーブル46
は、吸着保持手段50を有しており、吸着保持手段50
が作動することにより、テーブル46の穴46Aを通し
て、基板12をテーブル46の上に吸着して保持するこ
とができる。テーブル46には、インクジェットヘッド
20がインクを捨打ち或いは試し打ち(予備吐出)する
ための予備吐出エリア52が設けられている。
て、しかも保持するものである。また、テーブル46
は、吸着保持手段50を有しており、吸着保持手段50
が作動することにより、テーブル46の穴46Aを通し
て、基板12をテーブル46の上に吸着して保持するこ
とができる。テーブル46には、インクジェットヘッド
20がインクを捨打ち或いは試し打ち(予備吐出)する
ための予備吐出エリア52が設けられている。
【0035】第2移動手段6は、支柱6A,6Aに固定
されたコラム6Bを有しており、このコラム6Bは、リ
ニアモータ形式の第2移動手段6を有している。スライ
ダー60は、ガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移
動して位置決め可能であり、スライダー60は、インク
吐出手段としてのインクジェットヘッド20を備えてい
る。
されたコラム6Bを有しており、このコラム6Bは、リ
ニアモータ形式の第2移動手段6を有している。スライ
ダー60は、ガイドレール62Aに沿ってX軸方向に移
動して位置決め可能であり、スライダー60は、インク
吐出手段としてのインクジェットヘッド20を備えてい
る。
【0036】インクジェットヘッド20は、揺動位置決
め手段としてのモータ62,64,66,68を有して
いる。モータ62を作動すれば、インクジェットヘッド
20は、Z軸に沿って上下動して位置決め可能である。
このZ軸はX軸とY軸に対して各々直交する方向(上下
方向)である。モータ64を作動すると、インクジェッ
トヘッド20は、Y軸回りのβ方向に沿って揺動して位
置決め可能である。モータ66を作動すると、インクジ
ェットヘッド20は、X軸回りのγ方向に揺動して位置
決め可能である。モータ68を作動すると、インクジェ
ットヘッド20は、Z軸回りのα方向に揺動して位置決
め可能である。
め手段としてのモータ62,64,66,68を有して
いる。モータ62を作動すれば、インクジェットヘッド
20は、Z軸に沿って上下動して位置決め可能である。
このZ軸はX軸とY軸に対して各々直交する方向(上下
方向)である。モータ64を作動すると、インクジェッ
トヘッド20は、Y軸回りのβ方向に沿って揺動して位
置決め可能である。モータ66を作動すると、インクジ
ェットヘッド20は、X軸回りのγ方向に揺動して位置
決め可能である。モータ68を作動すると、インクジェ
ットヘッド20は、Z軸回りのα方向に揺動して位置決
め可能である。
【0037】このように、図1のインクジェットヘッド
20は、スライダー60において、Z軸方向に直線移動
して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置
決め可能であり、インクジェットヘッド20のインク吐
出面20Pは、テーブル46側の基板12に対して正確
に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。
なお、インクジェットヘッド20のインク吐出面20P
には、それぞれがインクを吐出する複数(例えば120
個)の開口部としてのノズルが設けられている。
20は、スライダー60において、Z軸方向に直線移動
して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置
決め可能であり、インクジェットヘッド20のインク吐
出面20Pは、テーブル46側の基板12に対して正確
に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。
なお、インクジェットヘッド20のインク吐出面20P
には、それぞれがインクを吐出する複数(例えば120
個)の開口部としてのノズルが設けられている。
【0038】電子天秤は、インクジェットヘッド20の
ノズルから吐出されたインク滴の1滴の重量を測定して
管理するために、例えば、インクジェットヘッド20の
ノズルから、5000滴分のインク滴を受ける。電子天
秤は、この5000滴のインク滴の重量を5000で割
ることにより、インク滴1滴の重量をほぼ正確に測定す
ることができる。このインク滴の測定量に基づいて、イ
ンクジェットヘッド20から吐出するインク滴の量を最
適にコントロールすることができる。
ノズルから吐出されたインク滴の1滴の重量を測定して
管理するために、例えば、インクジェットヘッド20の
ノズルから、5000滴分のインク滴を受ける。電子天
秤は、この5000滴のインク滴の重量を5000で割
ることにより、インク滴1滴の重量をほぼ正確に測定す
ることができる。このインク滴の測定量に基づいて、イ
ンクジェットヘッド20から吐出するインク滴の量を最
適にコントロールすることができる。
【0039】クリーニングユニット24は、インクジェ
ットヘッド20のノズル等のクリーニングをフィルタ製
造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことが
できる。キャッピングユニット22は、インクジェット
ヘッド20のノズル内のインクが乾燥しないようにする
ために、フィルタを製造しない待機時にこのインク吐出
面20Pを外気に触れさせないようにするものである。
ットヘッド20のノズル等のクリーニングをフィルタ製
造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことが
できる。キャッピングユニット22は、インクジェット
ヘッド20のノズル内のインクが乾燥しないようにする
ために、フィルタを製造しない待機時にこのインク吐出
面20Pを外気に触れさせないようにするものである。
【0040】続いて、製膜処理工程について説明する。
作業者がテーブル46の前端側から基板12を第1移動
手段4のテーブル46の上に給材すると、この基板12
はテーブル46に対して吸着保持されて位置決めされ
る。そして、モータ44が作動して、基板12の端面が
Y軸方向に並行になるように設定される。
作業者がテーブル46の前端側から基板12を第1移動
手段4のテーブル46の上に給材すると、この基板12
はテーブル46に対して吸着保持されて位置決めされ
る。そして、モータ44が作動して、基板12の端面が
Y軸方向に並行になるように設定される。
【0041】次に、インクジェットヘッド20がX軸方
向に沿って移動して、電子天秤の上部に位置決めされ
る。そして、指定滴数(指定のインク滴の数)の吐出を
行う。これにより、電子天秤は、たとえば5000滴の
インクの重量を計測して、インク滴1滴当たりの重量を
計算する。そして、インク滴の1滴当たりの重量が予め
定められている適正範囲に入っているかどうかを判断
し、適正範囲外であれば圧電素子30に対する印加電圧
の調整等を行って、インク滴の1滴当たりの重量を適正
に収める。
向に沿って移動して、電子天秤の上部に位置決めされ
る。そして、指定滴数(指定のインク滴の数)の吐出を
行う。これにより、電子天秤は、たとえば5000滴の
インクの重量を計測して、インク滴1滴当たりの重量を
計算する。そして、インク滴の1滴当たりの重量が予め
定められている適正範囲に入っているかどうかを判断
し、適正範囲外であれば圧電素子30に対する印加電圧
の調整等を行って、インク滴の1滴当たりの重量を適正
に収める。
【0042】インク滴の1滴当たりの重量が適正な場合
には、基板12が第1移動手段4よりY軸方向に適宜に
移動して位置決めされるとともに、インクジェットヘッ
ド20が第2移動手段6によりX軸方向に適宜移動して
位置決めされる。そして、インクジェットヘッド20
は、予備吐出エリア52(吸収材54)に対して全ノズ
ルからインクを予備吐出した後に、基板12に対してY
軸方向に相対移動して(実際には、基板12がインクジ
ェットヘッド20に対してY方向に移動する)、基板1
2上の所定領域に対して所定のノズルから所定幅でイン
クを吐出する。インクジェットヘッド20と基板12と
の一回の相対移動が終了すると、インクジェットヘッド
20が基板12に対してX軸方向に所定量ステップ移動
し、その後、基板12がインクジェットヘッド20に対
して移動する間にインクを吐出する。そして、この動作
を複数回繰り返すことにより、製膜領域全体にインクを
吐出して製膜することができる。
には、基板12が第1移動手段4よりY軸方向に適宜に
移動して位置決めされるとともに、インクジェットヘッ
ド20が第2移動手段6によりX軸方向に適宜移動して
位置決めされる。そして、インクジェットヘッド20
は、予備吐出エリア52(吸収材54)に対して全ノズ
ルからインクを予備吐出した後に、基板12に対してY
軸方向に相対移動して(実際には、基板12がインクジ
ェットヘッド20に対してY方向に移動する)、基板1
2上の所定領域に対して所定のノズルから所定幅でイン
クを吐出する。インクジェットヘッド20と基板12と
の一回の相対移動が終了すると、インクジェットヘッド
20が基板12に対してX軸方向に所定量ステップ移動
し、その後、基板12がインクジェットヘッド20に対
して移動する間にインクを吐出する。そして、この動作
を複数回繰り返すことにより、製膜領域全体にインクを
吐出して製膜することができる。
【0043】図2は、この実施形態でカラーフィルタを
製造する際に用いられるカラーフィルタ基板の平面形状
を示す平面図である。図3は、図2の符号Aで示す円内
の拡大図である。
製造する際に用いられるカラーフィルタ基板の平面形状
を示す平面図である。図3は、図2の符号Aで示す円内
の拡大図である。
【0044】図2に示されるように、カラーフィルタ基
板(基板)12は、1枚のカラーフィルタとなるパネル
チップ11が、平面上に複数並べられた状態となってい
る。この実施形態では、1枚のカラーフィルタ基板12
は、約100枚のパネルチップ11から構成されてい
る。カラーフィルタの製造時には、これら複数のパネル
チップ11に対してまとめてインクの吐出及び乾燥の処
理を行い、その後、パネルチップ単位に切り離してカラ
ーフィルタとする。
板(基板)12は、1枚のカラーフィルタとなるパネル
チップ11が、平面上に複数並べられた状態となってい
る。この実施形態では、1枚のカラーフィルタ基板12
は、約100枚のパネルチップ11から構成されてい
る。カラーフィルタの製造時には、これら複数のパネル
チップ11に対してまとめてインクの吐出及び乾燥の処
理を行い、その後、パネルチップ単位に切り離してカラ
ーフィルタとする。
【0045】図3に示されるように、パネルチップ11
は、マトリクス状に並んだ複数の画素部(領域)13を
備え、画素部と画素部の境目は、仕切り(ブラックマト
リクス)14によって区切られている。カラーフィルタ
の製造の際には、上記画素部13の1つ1つに、赤、
緑、青のいずれかのインク(液滴)を数滴ずつ吐出す
る。図3の例では赤、緑、青の配置をいわゆるモザイク
型としたが、3色が均等に配置されていれば、ストライ
プ型など、その他の配置でも構わない。
は、マトリクス状に並んだ複数の画素部(領域)13を
備え、画素部と画素部の境目は、仕切り(ブラックマト
リクス)14によって区切られている。カラーフィルタ
の製造の際には、上記画素部13の1つ1つに、赤、
緑、青のいずれかのインク(液滴)を数滴ずつ吐出す
る。図3の例では赤、緑、青の配置をいわゆるモザイク
型としたが、3色が均等に配置されていれば、ストライ
プ型など、その他の配置でも構わない。
【0046】図4は、図3のB−B線視断面図である。
カラーフィルタ基板を構成するパネルチップ11は、透
光層15と、遮光層である仕切り14とを備えている。
仕切り14が形成されていない(除去された)部分は、
上記画素部13を形成する。この画素部13に各色の液
状インクを吐出し、乾燥および固化させることにより、
カラーフィルタとなる。
カラーフィルタ基板を構成するパネルチップ11は、透
光層15と、遮光層である仕切り14とを備えている。
仕切り14が形成されていない(除去された)部分は、
上記画素部13を形成する。この画素部13に各色の液
状インクを吐出し、乾燥および固化させることにより、
カラーフィルタとなる。
【0047】以下、本実施形態の製造方法によるカラー
フィルタの製造工程について、更に詳細に説明する。
フィルタの製造工程について、更に詳細に説明する。
【0048】例えば、膜厚0.7mm、縦470mm、
横370mmの無アルカリガラスからなる透明基板の表
面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を1重量%添加した洗浄
液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清
浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜
を平均0.2μmの膜厚で形成し、金属層を得た。この
金属層の表面に、フォトレジストをスピンコートした。
基板はホットプレート上で、80℃で5分間乾燥し、フ
ォトレジスト層を形成した。
横370mmの無アルカリガラスからなる透明基板の表
面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を1重量%添加した洗浄
液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清
浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜
を平均0.2μmの膜厚で形成し、金属層を得た。この
金属層の表面に、フォトレジストをスピンコートした。
基板はホットプレート上で、80℃で5分間乾燥し、フ
ォトレジスト層を形成した。
【0049】この基板表面に、所要のマトリクスパター
ン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で
露光をおこなった。次に、これを、水酸化カリウムを8
重量%の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光
の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパター
ニングした。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分
とするエッチング液でエッチング除去した。このように
して所定のマトリクスパターンを有する遮光層(ブラッ
クマトリクス)を得た。
ン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で
露光をおこなった。次に、これを、水酸化カリウムを8
重量%の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光
の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパター
ニングした。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分
とするエッチング液でエッチング除去した。このように
して所定のマトリクスパターンを有する遮光層(ブラッ
クマトリクス)を得た。
【0050】この基板上に、さらにネガ型の透明アクリ
ル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗布
した。100℃で20分間プレベークした後、所定のマ
トリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用い
て紫外線露光を行った。未露光部分の樹脂を、やはりア
ルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン
乾燥した。最終乾燥としてのアフターベークを200℃
で30分間行い、樹脂部を十分硬化させ、バンク層を形
成した。
ル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗布
した。100℃で20分間プレベークした後、所定のマ
トリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用い
て紫外線露光を行った。未露光部分の樹脂を、やはりア
ルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン
乾燥した。最終乾燥としてのアフターベークを200℃
で30分間行い、樹脂部を十分硬化させ、バンク層を形
成した。
【0051】得られた遮光層およびバンク層で区画され
たCF層形成領域のインク濡れ性を改善するため、ドラ
イエッチング、すなわち大気圧プラズマ処理を行った。
ヘリウムに酸素を20%加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気を大気圧内でエッチングスポットに
形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させ
てエッチングし、バンク層とともにCF層形成領域(ガ
ラス基板の露出面)の活性化処理を行った。
たCF層形成領域のインク濡れ性を改善するため、ドラ
イエッチング、すなわち大気圧プラズマ処理を行った。
ヘリウムに酸素を20%加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気を大気圧内でエッチングスポットに
形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させ
てエッチングし、バンク層とともにCF層形成領域(ガ
ラス基板の露出面)の活性化処理を行った。
【0052】このCF層形成領域に、上記製膜装置10
を用いてインクジェットヘッド20から色材であるイン
クを制御手段により高精度で制御しつつ吐出し、インク
を塗布した。インクジェットプリンティングヘッドに
は、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微
小インク滴を着色形成領域(画素部13)毎に、例えば
8滴(約10pl/滴)、選択的に飛ばした。ヘッドよ
りターゲットであるCF層形成領域への飛翔速度、飛行
曲がり、サテライトと称される***迷走滴の発生防止の
ためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子
を駆動する電圧と、その波形が重要である。従って、あ
らかじめ条件設定された波形をプログラムして、インク
滴を赤、緑、青の3色を塗布して所定の配色パターンの
CF層を形成した。
を用いてインクジェットヘッド20から色材であるイン
クを制御手段により高精度で制御しつつ吐出し、インク
を塗布した。インクジェットプリンティングヘッドに
は、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微
小インク滴を着色形成領域(画素部13)毎に、例えば
8滴(約10pl/滴)、選択的に飛ばした。ヘッドよ
りターゲットであるCF層形成領域への飛翔速度、飛行
曲がり、サテライトと称される***迷走滴の発生防止の
ためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子
を駆動する電圧と、その波形が重要である。従って、あ
らかじめ条件設定された波形をプログラムして、インク
滴を赤、緑、青の3色を塗布して所定の配色パターンの
CF層を形成した。
【0053】なお、インクの組成例としては、熱硬化性
アクリル樹脂を20重量%、有機顔料を10重量%、ジ
エチレングリコールブチルエーテル誘導体等の溶剤を7
0重量%としたものを用いた。
アクリル樹脂を20重量%、有機顔料を10重量%、ジ
エチレングリコールブチルエーテル誘導体等の溶剤を7
0重量%としたものを用いた。
【0054】ここで、画素部13は、図5に示されるよ
うに、短手方向(最小幅)が幅Wの平面視矩形に形成さ
れており、インク滴(液滴)16は幅Wの中心に向けて
吐出される。具体的には、インク滴16は、図6に示す
ように、インクジェットヘッド20から基板12に向け
て、基板12と直交する法線方向(所定方向;実線で示
す)に沿って吐出される。このとき、インク滴16は、
吐出面の表面状態や飛行中の空気抵抗等により、図中二
点鎖線で示すように、法線方向に対して角度θずれた経
路で飛行する、いわゆる飛行曲がりが生じた状態で飛行
し基板12に着弾する。
うに、短手方向(最小幅)が幅Wの平面視矩形に形成さ
れており、インク滴(液滴)16は幅Wの中心に向けて
吐出される。具体的には、インク滴16は、図6に示す
ように、インクジェットヘッド20から基板12に向け
て、基板12と直交する法線方向(所定方向;実線で示
す)に沿って吐出される。このとき、インク滴16は、
吐出面の表面状態や飛行中の空気抵抗等により、図中二
点鎖線で示すように、法線方向に対して角度θずれた経
路で飛行する、いわゆる飛行曲がりが生じた状態で飛行
し基板12に着弾する。
【0055】この着弾位置精度は、インクジェットヘッ
ド20におけるノズル加工精度(位置、形状等)、ヘッ
ドの組立精度、カラーフィルタ製造装置における軸精度
(基板移動軸及びヘッド移動軸)や基板12に対するア
ライメント精度、補正精度を管理・調整するとともに、
基板12におけるアライメントマークに対するバンク、
ブラックマトリックスの位置ずれ、インク滴の飛行曲が
り等に依存するが、200PPIのデバイスを製造する
場合、画素部13は約42.3μmピッチで基板12上
に配列され、ヘッドの加工精度、ヘッド及び基板の位置
決め(アライメント)精度等を考慮すると、液滴の飛行
方向に関して許容される基板上の位置誤差は5.3μm
程度である。そして、インクジェットヘッド20と基板
12とは、互いに対向した状態で面方向に沿って相対移
動するが、相対移動に伴う静電気による悪影響が及ばな
いヘッド20と基板12との最短の距離Lは300μm
程度であるため、インク飛行曲がりの角度精度θは、基
板12上の許容位置誤差をT、ヘッド20と基板12と
の間の距離をLとすると、 θ≦tan-1(T/L) …(1) となり、本実施の形態では、式(1)を満足するよう
に、飛行曲がりの角度誤差θを1°以下に制御した。こ
れにより、図7に示すように、基板12上における着弾
位置精度(位置バラツキ)を15μm程度に抑えること
ができた。
ド20におけるノズル加工精度(位置、形状等)、ヘッ
ドの組立精度、カラーフィルタ製造装置における軸精度
(基板移動軸及びヘッド移動軸)や基板12に対するア
ライメント精度、補正精度を管理・調整するとともに、
基板12におけるアライメントマークに対するバンク、
ブラックマトリックスの位置ずれ、インク滴の飛行曲が
り等に依存するが、200PPIのデバイスを製造する
場合、画素部13は約42.3μmピッチで基板12上
に配列され、ヘッドの加工精度、ヘッド及び基板の位置
決め(アライメント)精度等を考慮すると、液滴の飛行
方向に関して許容される基板上の位置誤差は5.3μm
程度である。そして、インクジェットヘッド20と基板
12とは、互いに対向した状態で面方向に沿って相対移
動するが、相対移動に伴う静電気による悪影響が及ばな
いヘッド20と基板12との最短の距離Lは300μm
程度であるため、インク飛行曲がりの角度精度θは、基
板12上の許容位置誤差をT、ヘッド20と基板12と
の間の距離をLとすると、 θ≦tan-1(T/L) …(1) となり、本実施の形態では、式(1)を満足するよう
に、飛行曲がりの角度誤差θを1°以下に制御した。こ
れにより、図7に示すように、基板12上における着弾
位置精度(位置バラツキ)を15μm程度に抑えること
ができた。
【0056】なお、図7に示されるように、インク滴の
着弾位置のバラツキがX方向、Y方向に約15μmであ
り、着弾位置が目標位置(X=0、Y=0)に対して各
方向に所定量(図では+X方向に約2.5μm、+Y方
向に約2.5μm)ずれる傾向があれば、目標位置をず
れ量分だけ補正すればよい。
着弾位置のバラツキがX方向、Y方向に約15μmであ
り、着弾位置が目標位置(X=0、Y=0)に対して各
方向に所定量(図では+X方向に約2.5μm、+Y方
向に約2.5μm)ずれる傾向があれば、目標位置をず
れ量分だけ補正すればよい。
【0057】ここで、画素部13に着弾したときのイン
ク滴16の直径Dは、種々制御可能であるが、図5に示
すように、例えば吐出時にインク滴径Dが画素部13に
着弾した直後に大きくなった場合、インク滴16が目標
位置に対して画素部13の最小幅方向にずれて着弾する
と、この方向でインク滴16は端部において仕切り14
に乗り上げることになるが、半球状の端部は体積として
は微小であるため、仕切り14に僅かな撥インク性を持
たせることで、他の画素部に着弾したインク滴との混色
を回避することができる。
ク滴16の直径Dは、種々制御可能であるが、図5に示
すように、例えば吐出時にインク滴径Dが画素部13に
着弾した直後に大きくなった場合、インク滴16が目標
位置に対して画素部13の最小幅方向にずれて着弾する
と、この方向でインク滴16は端部において仕切り14
に乗り上げることになるが、半球状の端部は体積として
は微小であるため、仕切り14に僅かな撥インク性を持
たせることで、他の画素部に着弾したインク滴との混色
を回避することができる。
【0058】そして、画素部13(フィルタ基板12)
へのインク滴塗布後の乾燥は、自然雰囲気中で3時間放
置してインク層のセッティングを行った後、例えば80
℃のホットプレート上で40分間加熱(プレベーク)
し、最後にオーブン中で200℃で30分間加熱(ポス
トベーク)してインク層の硬化処理を行って、CF層を
得た。この乾燥により、画素部13におけるインクは、
加熱により溶剤が蒸発し体積が減ることで、最終的にイ
ンクの固形分のみが残留して膜化する。
へのインク滴塗布後の乾燥は、自然雰囲気中で3時間放
置してインク層のセッティングを行った後、例えば80
℃のホットプレート上で40分間加熱(プレベーク)
し、最後にオーブン中で200℃で30分間加熱(ポス
トベーク)してインク層の硬化処理を行って、CF層を
得た。この乾燥により、画素部13におけるインクは、
加熱により溶剤が蒸発し体積が減ることで、最終的にイ
ンクの固形分のみが残留して膜化する。
【0059】そして、このように製造されたカラーフィ
ルタ基板に透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平
滑面を有するオーバーコート層を得た。さらに、この上
面にITOからなる電極層を所要パターンで形成して、
カラーフィルタとした。得られたカラーフィルタは、熱
サイクル耐久試験、紫外線照射試験、加湿試験等の耐久
試験に合格し、液晶表示装置などの要素基板として十分
用い得ることを確認した。
ルタ基板に透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平
滑面を有するオーバーコート層を得た。さらに、この上
面にITOからなる電極層を所要パターンで形成して、
カラーフィルタとした。得られたカラーフィルタは、熱
サイクル耐久試験、紫外線照射試験、加湿試験等の耐久
試験に合格し、液晶表示装置などの要素基板として十分
用い得ることを確認した。
【0060】このように、本実施の形態では、画素部1
3の大きさに基づいてインク滴16の飛行曲がりの角度
精度を規定したので、他の画素部へインク滴が溢れ出る
ことを考慮して仕切り14を高くしたり、大きな撥イン
ク性を持たせる必要がなくなる。そのため、仕切り形成
プロセスに要する時間を短くすることができるととも
に、撥インク性を形成するための作業を簡素化すること
ができる。また、本実施の形態では、他の画素部へイン
ク滴が溢れ出て混色を生じることがないので、コントラ
ストが大きい高品質のカラーフィルタを製造できるとと
もに、従来では困難であった3色のインク滴を同時に吐
出することも実現可能となり、スループットの向上も実
現する。
3の大きさに基づいてインク滴16の飛行曲がりの角度
精度を規定したので、他の画素部へインク滴が溢れ出る
ことを考慮して仕切り14を高くしたり、大きな撥イン
ク性を持たせる必要がなくなる。そのため、仕切り形成
プロセスに要する時間を短くすることができるととも
に、撥インク性を形成するための作業を簡素化すること
ができる。また、本実施の形態では、他の画素部へイン
ク滴が溢れ出て混色を生じることがないので、コントラ
ストが大きい高品質のカラーフィルタを製造できるとと
もに、従来では困難であった3色のインク滴を同時に吐
出することも実現可能となり、スループットの向上も実
現する。
【0061】特に、画素部13が200PPIで配列さ
れる場合であれば、角度精度を1°以下とすることで、
仕切り形成プロセスに要する時間を短くすることができ
るとともに、撥インク性を形成するための作業を簡素化
することができる。
れる場合であれば、角度精度を1°以下とすることで、
仕切り形成プロセスに要する時間を短くすることができ
るとともに、撥インク性を形成するための作業を簡素化
することができる。
【0062】次に、電気光学装置として上記のカラーフ
ィルタを備えた電子機器の例について説明する。図8
(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図8
(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、
符号1001は上記のカラーフィルタを用いた表示部を
示している。
ィルタを備えた電子機器の例について説明する。図8
(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図8
(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、
符号1001は上記のカラーフィルタを用いた表示部を
示している。
【0063】図8(b)は、腕時計型電子機器の一例を
示した斜視図である。図8(b)において、符号110
0は時計本体を示し、符号1101は上記のカラーフィ
ルタを用いた表示部を示している。
示した斜視図である。図8(b)において、符号110
0は時計本体を示し、符号1101は上記のカラーフィ
ルタを用いた表示部を示している。
【0064】図8(c)は、ワープロ、パソコンなどの
携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8
(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1
202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報
処理装置本体、符号1206は上記のカラーフィルタを
用いた表示部を示している。
携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8
(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1
202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報
処理装置本体、符号1206は上記のカラーフィルタを
用いた表示部を示している。
【0065】図8(a)〜(c)に示す電子機器は、上
記実施形態のカラーフィルタを備えているので、高品
質、且つ高スループットで製造可能なカラーフィルタを
備えた電子機器を実現することができる。
記実施形態のカラーフィルタを備えているので、高品
質、且つ高スループットで製造可能なカラーフィルタを
備えた電子機器を実現することができる。
【0066】なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施の形態では、画素部13が200PP
Iで配列されるものとして説明したが、これに限定され
るものではなく、インク滴の飛行曲がり角度がtan-1
(T/L)であれば上記と同様に、仕切りから溢れ出て
混色してしまうことを防止できる。例えば、θを0.5
°以下とすれば、画素部13が約21.2μmピッチで
配列され、インク滴の飛行方向に関して許容される基板
12上の位置誤差が2.6μm程度の400PPIのデ
バイスにも対応可能である。また、図7で示したよう
に、インク滴の着弾位置から着弾精度及び飛行曲がり角
度を求める以外にもストロボ写真を用いてインク滴の飛
行曲がり角度を求める方法も採用可能である。
態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施の形態では、画素部13が200PP
Iで配列されるものとして説明したが、これに限定され
るものではなく、インク滴の飛行曲がり角度がtan-1
(T/L)であれば上記と同様に、仕切りから溢れ出て
混色してしまうことを防止できる。例えば、θを0.5
°以下とすれば、画素部13が約21.2μmピッチで
配列され、インク滴の飛行方向に関して許容される基板
12上の位置誤差が2.6μm程度の400PPIのデ
バイスにも対応可能である。また、図7で示したよう
に、インク滴の着弾位置から着弾精度及び飛行曲がり角
度を求める以外にもストロボ写真を用いてインク滴の飛
行曲がり角度を求める方法も採用可能である。
【0067】また、本発明の電気光学装置は、たとえば
液晶表示デバイス用のカラーフィルタに限定されるもの
ではなく、たとえば、MLA(マイクロレンズアレイ)
やEL(エレクトロルミネッセンス)表示デバイスに応
用が可能である。EL表示デバイスは、蛍光性の無機お
よび有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構
成を有し、前記薄膜に電子および正孔(ホール)を注入
して再結合させることにより励起子(エキシトン)を生
成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光
・燐光)を利用して発光させる素子である。こうしたE
L表示素子に用いられる蛍光性材料のうち、赤、緑およ
び青色の各発光色を呈する材料すなわち発光層形成材料
及び正孔注入/電子輸送層を形成する材料をインクと
し、各々を本発明の製膜装置を用いて、TFT(Thi
n Film Transistor)やTFD(Thi
n Film Diode)等の素子基板上にパターニン
グすることで、自発光フルカラーELデバイスを製造す
ることができる。本発明における電気光学装置の範囲に
はこのようなELデバイスをも含むものである。
液晶表示デバイス用のカラーフィルタに限定されるもの
ではなく、たとえば、MLA(マイクロレンズアレイ)
やEL(エレクトロルミネッセンス)表示デバイスに応
用が可能である。EL表示デバイスは、蛍光性の無機お
よび有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構
成を有し、前記薄膜に電子および正孔(ホール)を注入
して再結合させることにより励起子(エキシトン)を生
成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光
・燐光)を利用して発光させる素子である。こうしたE
L表示素子に用いられる蛍光性材料のうち、赤、緑およ
び青色の各発光色を呈する材料すなわち発光層形成材料
及び正孔注入/電子輸送層を形成する材料をインクと
し、各々を本発明の製膜装置を用いて、TFT(Thi
n Film Transistor)やTFD(Thi
n Film Diode)等の素子基板上にパターニン
グすることで、自発光フルカラーELデバイスを製造す
ることができる。本発明における電気光学装置の範囲に
はこのようなELデバイスをも含むものである。
【0068】なお、上記の実施形態では、便宜的に「イ
ンクジェット装置」ならびに「インクジェットヘッド」
と呼称し、吐出される吐出物を「インク」として説明し
たが、このインクジェットヘッドから吐出される吐出物
は所謂インクには限定されず、ヘッドから液滴として吐
出可能に調整されたものであればよく、例えば、前述の
ELデバイスの材料、金属材料、絶縁材料、又は半導体
材料等様々な材料が含まれることはいうまでもない。例
えば、本発明の製膜装置に金属材料や絶縁材料を供すれ
ば、金属配線や絶縁膜等のダイレクトな微細パターニン
グが可能となり、新規な高機能デバイスの作製にも応用
できる。
ンクジェット装置」ならびに「インクジェットヘッド」
と呼称し、吐出される吐出物を「インク」として説明し
たが、このインクジェットヘッドから吐出される吐出物
は所謂インクには限定されず、ヘッドから液滴として吐
出可能に調整されたものであればよく、例えば、前述の
ELデバイスの材料、金属材料、絶縁材料、又は半導体
材料等様々な材料が含まれることはいうまでもない。例
えば、本発明の製膜装置に金属材料や絶縁材料を供すれ
ば、金属配線や絶縁膜等のダイレクトな微細パターニン
グが可能となり、新規な高機能デバイスの作製にも応用
できる。
【0069】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、製造
プロセスの長時間化及び煩雑化を防止できるという効果
が得られる。また、本発明では、高品質のカラーフィル
タを製造できるとともに、スループットの向上も実現す
るという効果を奏する。
プロセスの長時間化及び煩雑化を防止できるという効果
が得られる。また、本発明では、高品質のカラーフィル
タを製造できるとともに、スループットの向上も実現す
るという効果を奏する。
【図1】 本発明の製膜装置の概略的な外観斜視図で
ある。
ある。
【図2】 カラーフィルタを製造する際に用いられる
カラーフィルタ基板の平面図である。
カラーフィルタ基板の平面図である。
【図3】 図2中、符号Aで示す円内の拡大図であ
る。
る。
【図4】 図3におけるB−B線視断面図である。
【図5】 画素部におけるインク滴の着弾位置関係を
示す図である。
示す図である。
【図6】 インク滴の飛行経路を示す図である。
【図7】 目標位置に対するインク滴の着弾位置分布
を示す図である。
を示す図である。
【図8】 電気光学装置を備えた電子機器の一例を示
す図であり、(a)は携帯電話、(b)は腕時計型電子
機器、(c)は携帯型情報処理装置のそれぞれ斜視図で
ある。
す図であり、(a)は携帯電話、(b)は腕時計型電子
機器、(c)は携帯型情報処理装置のそれぞれ斜視図で
ある。
12 カラーフィルタ基板(基板)
13 画素部(領域)
16 インク滴(液滴)
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
H05B 33/14 B41J 3/04 101Z
Fターム(参考) 2C056 EA04 EA24 FB01
2H048 BA02 BA11 BA55 BA64 BB02
BB41 BB42 BB46
3K007 AB18 DB03 FA01
5C094 AA42 AA43 BA03 BA12 BA27
BA43 CA19 CA24 DA11 ED02
HA08 JA09
5G435 AA17 BB05 BB12 CC09 GG12
KK05 KK07 KK10 LL07 LL08
Claims (10)
- 【請求項1】 複数の領域に区切られた基板上の前記
領域に向けて液滴を吐出する電気光学装置の製造方法で
あって、 前記領域の大きさに基づいて、前記液滴の飛行方向を制
御したことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の電気光学装置の製造方
法において、 前記領域の大きさに応じて前記飛行方向に関して許容さ
れる前記基板上の位置誤差をT、前記液滴が吐出される
位置と前記基板との間の距離をL、前記角度をθとする
と、 θ≦tan-1(T/L) であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の電気光学装置
の製造方法において、 前記角度精度を1°以下とすることを特徴とする電気光
学装置の製造方法。 - 【請求項4】 請求項3記載の電気光学装置の製造方
法において、 前記角度精度を0.5°以下とすることを特徴とする電
気光学装置の製造方法。 - 【請求項5】 複数の領域に区切られた基板上の前記
領域に向けて液滴を吐出して製造された電気光学装置で
あって、 前記領域の大きさに基づいて、前記液滴の飛行方向を制
御したことを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項6】 請求項5に記載の電気光学装置を備え
たことを特徴とする電子機器。 - 【請求項7】 複数の領域に区切られた基板上の前記
領域に向けて液滴を吐出する製膜装置であって、 前記領域の大きさに基づいて、前記液滴の飛行方向を制
御する制御手段を有することを特徴とする製膜装置。 - 【請求項8】 請求項7記載の製膜装置において、 前記領域の大きさに応じて前記飛行方向に関して許容さ
れる前記基板上の位置誤差をT、前記液滴が吐出される
位置と前記基板との間の距離をL、前記角度をθとする
と、 θ≦tan-1(T/L) であることを特徴とする製膜装置。 - 【請求項9】 請求項7または8記載の製膜装置にお
いて、 前記角度精度を1°以下とすることを特徴とする製膜装
置。 - 【請求項10】 請求項9記載の製膜装置において、 前記角度精度を0.5°以下とすることを特徴とする製
膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002062571A JP2003262714A (ja) | 2002-03-07 | 2002-03-07 | 電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002062571A JP2003262714A (ja) | 2002-03-07 | 2002-03-07 | 電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003262714A true JP2003262714A (ja) | 2003-09-19 |
Family
ID=29196281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002062571A Withdrawn JP2003262714A (ja) | 2002-03-07 | 2002-03-07 | 電気光学装置とその製造方法及び製膜装置並びに電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003262714A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7150898B2 (en) | 2003-10-29 | 2006-12-19 | Seiko Epson Corporation | Droplet applying method and droplet applying device, and device and electronic equipment |
JP2014215379A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-11-17 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタおよび液晶表示装置 |
-
2002
- 2002-03-07 JP JP2002062571A patent/JP2003262714A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7150898B2 (en) | 2003-10-29 | 2006-12-19 | Seiko Epson Corporation | Droplet applying method and droplet applying device, and device and electronic equipment |
JP2014215379A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-11-17 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタおよび液晶表示装置 |
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