JP2003260750A

JP2003260750A - ガスバリア性フィルムおよびこれを用いたディスプレイ

Info

Publication number: JP2003260750A
Application number: JP2002063263A
Authority: JP
Inventors: Yurie Ota; 友里恵太田; Toshio Yoshihara; 俊夫吉原
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-03-08
Filing date: 2002-03-08
Publication date: 2003-09-16

Abstract

(57)【要約】【課題】プラスチックフィルム上に、金属酸化物の薄
膜層を形成した従来品にくらべ、より高いガスバリア性
を有するガスバリア性フィルム、およびそのようなフィ
ルムを適用したディスプレイを提供することを課題とす
る。【解決手段】基材フィルム２上に、プライマー層３、
金属酸化物の薄膜層４、およびオーバーコート層５が順
に積層された積層構造からなるガスバリア性フィルム１
のオーバーコート層５を、層状無機化合物およびガスバ
リア性樹脂を含有する樹脂組成物を用いて形成し、課題
を解決することができた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスバリア性を有
する複合フィルムに関するもので、特に高度なガスバリ
ア性を要求される包装分野、もしくは各種のディスプレ
イの基板として用いたり、基板を被覆するのに適したガ
スバリア性フィルムに関するものである。また、本発明
は、このようなガスバリア性フィルムを用いたディスプ
レイに関するものでもある。

【０００２】

【従来の技術】現在、種々の方式のディスプレイが使用
され、また実用化が検討されている。ブラウン管タイプ
を除くと、いずれも薄型化を目指すものであり、さらに
は、フレキシブルなものも求められるようになってきて
いる。そこで、従来、ディスプレイを構成していたガラ
ス基板に代わって、合成樹脂シート、もしくは合成樹脂
フィルムを用いることが検討されている。あるいは、デ
ィスプレイの寿命を伸ばす目的で、外界からの酸素や水
蒸気を遮断するガスバリア性フィルムでディスプレイを
被覆することも検討されている。なお、用語のシート、
および合成樹脂シートは、一般的には厚みの厚いものを
指し、フィルム、および合成樹脂フィルムは、比較的厚
みの薄いものを指すが、ここでは、厚みの厚いもの、お
よび薄いものの両方の意味を含めて、フィルム、および
合成樹脂フィルムと言う。

【０００３】ところで、従来から、食品包装等の包装分
野では、食品の長期保存性の向上の目的で、プラスチッ
クフィルムに、シリカ、アルミナ等の金属酸化物の薄膜
層を形成して、気体や水分の透過性を抑制した（＝ガス
バリア性を付与した）種々のガスバリア性フィルムを使
用している。一例として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフ
タフタレート樹脂）フィルムをベースとするアルミナ蒸
着フィルム、もしくはシリカ蒸着フィルムが使用されて
いる。

【０００４】しかし、従来の包装分野で用いられるガス
バリア性フィルムをディスプレイの基板として、または
ディスプレイの被覆用や密封用として利用すると、ガス
バリア性が充分でないことが判明した。というのも、デ
ィスプレイ自体、長期間に渡って設置され、使用時には
電位や温度上昇の影響を受ける等、食品にくらべると曝
される条件が厳しく、しかも、ディスプレイの発光や光
の変調に関与する物質は、化学的に安定性が高いとは言
えないものであるからである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、プラスチックフィルム上に、シリカ、アルミナ等
の薄膜を形成した従来製品にくらべ、より高いガスバリ
ア性を有するガスバリア性フィルムを提供することを課
題とする。また、本発明においては、そのようなガスバ
リア性フィルムを適用したディスプレイを提供すること
も課題とする。

【０００６】

【課題を解決する手段】発明者の検討によれば、基本的
には、従来のガスバリア性フィルムにおいても使用され
ているアルミナやシリカ等の金属酸化物の薄膜層をプラ
スチックフィルムのガスバリア性付与手段として用い、
これら薄膜層が結晶の成長により形成されることにより
生じる不均一性がもたらす欠陥が、透気度、もしくは透
湿度を低下させていることに注目し、これら欠陥による
ガスバリア性の低下を補うため、好ましくは、これら薄
膜層との親和性の優れた素材からなるオーバーコート層
を形成して、薄膜層とオーバーコート層が複合されたガ
スバリア性層を、プラスチックフィルム上に積層するこ
とにより、課題を解決することができた。

【０００７】第１の発明は、基材フィルム上に、金属酸
化物の薄膜層、および無機層状化合物を含有する樹脂組
成物からなるオーバーコート層が順に積層された積層構
造からなるガスバリア性層が積層された複合フィルムか
らなることを特徴とするガスバリア性フィルムに関する
ものである。第２の発明は、第１の発明において、前記
金属酸化物の薄膜層が、蒸着法、スパッタリング法、も
しくはイオンプレーティング法の物理的気相法、化学的
気相法、または、めっき、もしくはゾル−ゲル法の液相
成長法により形成されたものであることを特徴とするガ
スバリア性フィルムに関するものである。第３の発明
は、基材フィルム上に、第１または第２の発明のガスバ
リア性層が二以上積層されていることを特徴とするガス
バリア性フィルムに関するものである。第４の発明は、
第１または第２の発明の複合フィルムが二以上積層され
ていることを特徴とするガスバリア性フィルムに関する
ものである。第５の発明は、第１〜第４いずれかの発明
のガスバリア性フィルムが、ディスプレイ素子の少なく
とも片側の表面に積層されていることを特徴とするディ
スプレイに関するものである。第６の発明は、第１〜第
４いずれかの発明のガスバリア性フィルムが、ディスプ
レイ素子の両側の表面に積層されていることを特徴とす
るディスプレイに関するものである。第７の発明は、第
１〜第４いずれかの発明のガスバリア性フィルムにより
ディスプレイ素子が密封されていることを特徴とするデ
ィスプレイに関するものである。第８の発明は、第１〜
第４いずれかの発明のガスバリア性フィルムが、ディス
プレイ素子の少なくとも観察側の基板であることを特徴
とするディスプレイに関するものである。第９の発明
は、第５〜第８いずれかの発明において、ディスプレイ
素子が液晶ディスプレイパネルであることを特徴とする
ディスプレイに関するものである。第１０の発明は、第
５〜第８いずれかの発明において、ディスプレイ素子が
有機ＥＬ素子であることを特徴とするディスプレイに関
するものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１に示すように、本発明のガス
バリア性フィルム１は、基本的には、基材フィルム２の
上に、金属酸化物の薄膜層４およびオーバーコート層５
とが順に積層された積層構造からなるガスバリア性層を
有するものであり、基材フィルム２と薄膜層４との間に
は、必要に応じ、プライマー層３が積層されていてもよ
い。後に述べるように、ガスバリア性フィルム１には、
以上に説明される基本的構造を利用した変形態様があり
得る。

【０００９】基材フィルム２としては、原則的には、種
々のプラスチックフィルムを用いることができるが、薄
膜を形成する際および／またはオーバーコート層を形成
する際に、加熱されて昇温が避けられないこと、適用さ
れる用途によって、加熱を伴なうことがあり得ることか
ら、耐熱性を有するものであることが好ましい。また、
ガスバリア性フィルム１がディスプレイの基板用に、ま
たはディスプレイの被覆用もしくはや密封用等に用いら
れる場合には、ディスプレイの使用時に昇温が有り得
る。また、ディスプレイのタイプにもよるが、ディスプ
レイの観察側に適用する場合には、映像の視認性の確保
の意味から、透明性を有するものであることが好まし
い。

【００１０】従って、ほとんどの場合には、耐熱性およ
び透明性を有するプラスチックフィルムが基材フィルム
２として好ましい。具体的には、ポリプロピレン、ＡＢ
Ｓ、非結晶性ポリエステル樹脂、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）、環状ポリオレフィン共重合体であるポリノ
ルボルネン、環状ポリオレフィン樹脂、ポリシクロヘキ
セン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエ
チレンナフタレート（ＰＥＮ）、フッ素樹脂、ポリアリ
レート（ＰＡＲ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、も
しくはポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）等の樹
脂を素材とするフィルムである。これらのプラスチック
フィルムからなる基材フィルム２の厚みは、１〜２００
μｍ程度であり、用途により、適宜に選択するとよい。

【００１１】基材フィルム２としては、加熱や吸湿によ
る変形を極力回避する意味で、熱膨張係数、もしくは湿
度膨張係数の低いものを用いることが好ましく、熱膨張
係数が５０ｐｐｍ／℃以下であるか、または／および湿
度膨張係数が５ｐｐｍ／％ＲＨ以下であるものが好まし
い。熱膨張係数または／および湿度膨張係数が規定され
た上限値よりも小さい値であると、基材フィルムが加熱
されたり、もしくは吸湿した場合であっても、基材フィ
ルム２と薄膜層４との間のズレが生じにくく、薄膜層４
の構造が破壊されにくい。また、基材フィルム２は、熱
膨張係数および湿度膨張係数がいずれも低いものである
ことがより一層好ましく、この意味で基材フィルム２
は、熱膨張係数が５０ｐｐｍ／℃以下であり、かつ、湿
度膨張係数が５ｐｐｍ／％ＲＨ以下であるものがより好
ましい。熱膨張係数または／および湿度膨張係数の規定
に加えて、基材フィルム２を構成する樹脂のガラス転移
温度（Ｔｇ）が１５０℃以上であることが、加熱時の変
形を避ける意味で好ましく、やはり、薄膜層４の構造は
破壊されにくい。このように、薄膜層４の構造が破壊さ
れることが回避されると、ガスバリア性が維持される。

【００１２】熱膨張係数、湿度膨張係数、およびガラス
転移温度を考慮するとき、基材フィルム２を構成する素
材の合成樹脂としては、結晶性樹脂では、熱可塑性樹脂
であるポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリエチレンテレフタレート、もしくはシ
ンジオタクティック・ポリスチレン等、熱硬化性樹脂で
は、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテ
ルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、もしくはポリエ
ーテルニトリル等を挙げることができ、非結晶性樹脂で
は、熱可塑性樹脂であるポリカーボネート、もしくは変
性ポリフェニレンエーテル等、熱硬化性樹脂では、ポリ
サルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポ
リアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑
性ポリイミド等を挙げることができる。中でも、ポリカ
ーボネートは、吸水性が低いため、これを用いて構成さ
れた基材フィルム２は、湿度膨張係数が低く、特に好ま
しい。

【００１３】基材フィルム２は、ディスプレイの観察側
に適用する場合には、映像の視認性の確保の意味から、
透明性を有するものであることが望ましい。また、基材
フィルム２の厚みは、１〜２００μｍ程度であり、用途
により、適宜に選択するとよい。

【００１４】基材フィルム２は、最終製品の表面の平滑
性を高め、また、薄膜層４を均一に形成するためには、
表面の平滑性が高いものが好ましい。ガスバリア性フィ
ルム１上にＩＴＯ等の電極を形成する場合、断線が起こ
らないようにするためにも、平滑性が高いことが好まし
い。これらの観点から、基材フィルム２の表面の平滑性
としては、平均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であるものが
好ましい。下限は特にないが、実用上、０．０１ｎｍ以
上である。必要に応じて、基材フィルム２の両面、少な
くとも、薄膜層４を設ける側を研摩し、平滑性を向上さ
せておいてもよい。

【００１５】基材フィルム２の両面、少なくとも薄膜層
４を設ける側には、接着性向上のための公知の種々の処
理、コロナ放電処理、火炎処理、酸化処理、プラズマ処
理、もしくはプライマー層の積層等を、必要に応じて組
み合わせて行なうことができる。

【００１６】接着性向上のための処理のうち、プライマ
ー層３の積層は、薄膜層４の接着力を向上させて製品の
耐久性を向上させるのに加え、基材フィルム２の薄膜層
４を形成する側の表面の平滑性を向上させ、薄膜層４を
均一に形成するのに効果がある。プライマー層３として
は、具体的には、ポリエチレンイミン、ポリウレタン、
ポリエステル、もしくはアクリル等の樹脂を含むごく薄
い、０．１〜５μｍ程度の厚みの層として形成するとよ
く、通常は、溶剤溶液として、塗付し、乾燥することに
より形成できる。

【００１７】薄膜層４としては、特に限定されることな
く、従来、ガスバリア性を付与する層として利用されて
いるものを用いることができる。薄膜層４は、ＳｉＯ₂
を主体とするＳｉＯ_x、Ａｌ₂Ｏ₃を初めとする金属酸化
物の薄膜で構成することが透明性の点で好ましい。これ
らも含め、薄膜層４は、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、
酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化セリウム、酸化
カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化金、酸化ク
ロム、酸化ケイ素、酸化コバルト、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケ
ル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸化マ
グネシウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナ
ジウムもしくは酸化バリウム等の酸化物で構成すること
ができる。透明性を必ずしも必要としない場合には、ア
ルミニウム、もしくはシリコン等、または上記の酸化物
を構成する金属等やＳｉＮ等で形成することもあり得
る。

【００１８】上記の材料からなる薄膜層４は、物理的気
相法（ＰＶＤ）、もしくは化学的気相法（ＣＶＤ）、あ
るいは、めっきやコーティング法、ゾル−ゲル法等によ
り形成することが可能であるが、中でも化学的気相法
（ＣＶＤ）により形成された薄膜層は、形成効率がよい
上に、薄膜層の形成の際に、基材フィルム２であるプラ
スチックフィルムに与えられる熱が物理的気相法よりも
小さく、従って、プラスチックフィルムの劣化を防ぐこ
とができ、好ましい。

【００１９】また、化学的気相法の中でも、原料ガスを
導入し、高周波を作用させて放電を起こさせ、プラズマ
状態とし、基材フィルム２の表面での化学反応を促進し
て薄膜を形成する、プラズマＣＶＤ法を利用すると、基
材フィルム２を構成するプラスチックフィルムに熱的ダ
メージが加わらない程度の低温（−１０℃〜２００℃程
度の低温であり、３０℃以下でも可能）で薄膜形成が行
なえ、また、以降に、酸化ケイ素の薄膜の例で述べるよ
うに、原料ガスの種類・流量、圧力、プラズマ状態を起
こさせるための電力等を制御することにより、形成され
る薄膜の組成、赤外吸収、もしくは光の屈折率等を制御
できる利点もあるため、特に好ましい。

【００２０】また、上記の素材のうちでも、酸化ケイ素
で構成された薄膜が好ましく、酸化ケイ素で構成された
薄膜のうちでも、化学的気相法（ＣＶＤ）により形成さ
れたものが、前段落に記載した理由で好ましい。

【００２１】薄膜層４を酸化ケイ素の薄膜で構成する際
には、酸化ケイ素の薄膜中におけるＳｉ、Ｏ、およびＣ
の各原子が、Ｓｉ原子数；１００に対し、Ｏ原子数；１
７０〜２００、およびＣ原子数；３０以下の割合であ
り、かつ、１０５５〜１０６５ｎｍ^-1の範囲にＳｉ−Ｏ
−Ｓｉ伸縮振動に基づく吸収を有していることがより好
ましく、従来の、シリカ、アルミナ等の薄膜層にくら
べ、ガスバリア性が向上する。また、このようなＳｉ、
Ｏ、およびＣの原子数比を持つ薄膜は、その屈折率は
１．４５〜１．４８となるよう形成することが、ガスバ
リア性の向上の点でより好ましい。

【００２２】酸化ケイ素の薄膜中に占めるＳｉ、Ｏ、お
よびＣの原子数比を上記のようにするには、有機ケイ素
化合物ガスと酸素ガスとの流量比や、有機ケイ素化合物
の単位流量当りの投入電力の大きさ等を調節することに
より、行なうことができる。特にＣの混入を抑制するよ
うに制御することが好ましく、具体的には、例えば、
「酸素ガスの流量／有機ケイ素化合物ガスの流量」の流
量比を、３〜５０程度の範囲で調整することによって、
ＳｉＯ₂ライクな薄膜として、Ｃの混入を抑制したり、
有機ケイ素化合物の単位流量当りの投入電力を大きくす
ることによって、Ｓｉ−Ｃ結合の切断を容易にして薄膜
中へのＣの混入を抑制することができる。なお、必要に
応じ、上記の流量比は５０を超えても差し支えない。

【００２３】酸化ケイ素の薄膜中に占めるＳｉ、Ｏ、お
よびＣの原子数比は、Ｓｉ、Ｏ、およびＣの各成分を定
量的に測定し得る装置であれば、どのような装置を用い
て測定してもよく、例えば、Ｘ線光電子分光機器（ＥＳ
ＣＡ）、ラザフォード後方散乱分析装置（ＲＢＳ）、も
しくはオージェ電子分光装置（ＡＵＧＥＲ）により、測
定することができる。

【００２４】上記した酸化ケイ素の薄膜中におけるＯ原
子数が、Ｓｉ原子数；１００に対し１７０未満である
と、これは、酸素ガスの投入量が相対的に少ないか、も
しくは有機ケイ素化合物ガスの単位流量当りの投入電力
が小さい場合にしばしば見られるが、結果的にＣの成分
割合が増加し、薄膜中に多くのＳｉ−Ｃ結合を有するこ
ととなって、ＳｉＯ₂ライクな薄膜でなくなり、酸素透
過率および水蒸気透過率が大きくなる。なお、酸化ケイ
素の薄膜中におけるＯ原子数は、化学量論的に２００を
超えにくい。

【００２５】また、上記した酸化ケイ素の薄膜中におけ
るＣ原子数が、Ｓｉ原子数；１００に対し３０を超える
と、これは、前段落におけるＳｉ原子数が１７０未満に
なるときと同様なケースにしばしば見られ、やはり薄膜
中に多くのＳｉ−Ｃ結合を有することとなるので好まし
くない。Ｃ原子数の下限は特に限定されないが、実際の
薄膜形成工程において、１０と規定することができる。
Ｃ原子数の下限を１０未満とすることは現実的には容易
ではないが、１０未満であることは、よりＳｉＯ₂ライ
クな薄膜を形成することが可能な点で好ましい。

【００２６】ガスバリア性層４としての酸化ケイ素の薄
膜は、薄膜中におけるＳｉ、Ｏ、およびＣの各原子数の
上記した比に加え、１０５５〜１０６５ｎｍ^-1の範囲に
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づく吸収を有していること
が好ましい。このような吸収特性を実現するためには、
やはり、「酸素ガスの流量／有機ケイ素化合物ガスの流
量」の流量比を、３〜５０程度の範囲、もしくは５０以
上で調整するか、より好ましくは３〜１０程度の範囲で
調整し、または、有機ケイ素化合物の単位流量当りの投
入電力を大きくすることにより、Ｓｉ−Ｃ結合の切断を
容易にすることによって、ＳｉＯ₂ライクな薄膜を形成
することにより実現することができる。

【００２７】上記の領域に吸収がない場合は、「酸素ガ
スの流量／有機ケイ素化合物ガスの流量」の流量比が小
さいか、もしくは、有機ケイ素化合物の単位流量当りの
投入電力が小さい場合に見られ、結果的に、結果的にＣ
の成分割合が増加し、薄膜中に多くのＳｉ−Ｃ結合を有
することとなって、ＳｉＯ₂ライクな薄膜特有のＳｉ−
Ｏ結合が相対的に少なくなるからであり、やはり、酸素
透過率および水蒸気透過率が大きくなる。

【００２８】上記の吸収は、ＩＲ（近赤外域）測定用の
赤外分光光度計で測定し、好ましくは、赤外分光光度計
にＡＴＲ（多重反射）測定装置を取り付けて測定する。
プリズムにはゲルマニウム結晶を用い、入射角；４５度
で測定することが好ましい。

【００２９】また、このようなＳｉ、Ｏ、およびＣの原
子数比を持つ薄膜は、その屈折率は１．４５〜１．４８
となるよう形成することが、ガスバリア性の向上の点で
好ましい。この屈折率の範囲を実現するには、「酸素ガ
スの流量／有機ケイ素化合物ガスの流量」の流量比を３
〜５０、必要に応じ、それ以上とするか、もしくは有機
ケイ素化合物の単位流量当りの投入電力を調節すること
により行なう。

【００３０】屈折率が１．４５未満となる場合として
は、「酸素ガスの流量／有機ケイ素化合物ガスの流量」
の流量比が上記の範囲外となるか、もしくは、有機ケイ
素化合物の単位流量当りの投入電力が小さいことによ
り、低密度で疎な酸化ケイ素薄膜が得られるときにしば
しば見られ、薄膜が疎であるために、酸素透過率および
水蒸気透過率が大きくなる。また、屈折率が１．４８を
超える場合としては、「酸素ガスの流量／有機ケイ素化
合物ガスの流量」の流量比が上記の範囲外となるか、も
しくは、Ｃ（炭素）等の不純物が混入したときにしばし
ば見られ、形成された酸化ケイ素薄膜が疎になるため
に、酸素透過率および水蒸気透過率が大きくなる。

【００３１】上記の酸化ケイ素薄膜を形成するための有
機ケイ素化合物ガスとしては、ヘキサメチルジシロキサ
ン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、テト
ラメチルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リメチルシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチル
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエト
キシシラン、もしくはヘキサメチルジシラザン等を使用
することができる。

【００３２】上記の酸化ケイ素薄膜を形成するための有
機ケイ素化合物ガスとしては、分子内のＳｉ−Ｃ結合が
少ないか、もしくは無いものが、ＳｉＯ₂ライクな薄膜
を形成できる点でより好ましく、テトラメトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、もしくはメチルジエトキシシランを挙げることがで
きるが、中でも、分子内にＳｉ−Ｃ結合を有しないテト
ラメトキシシラン、もしくはテトラエトキシシランを用
いることが好ましい。

【００３３】また、上記の説明において、酸素ガスとし
て説明したガスとしては、酸素原子を含むガスを用いる
こともでき、具体的には、Ｎ₂Ｏ、ＣＯ、もしくはＣＯ₂
を用いることができる。

【００３４】本発明のガスバリア性フィルムにおける薄
膜層４の厚みは、５ｎｍ〜１０００ｎｍ、より好ましく
は、３００ｎｍ以下である。下限未満であると、基材フ
ィルム２の表面全面を確実に被覆できないことがある。
また上限を超えると、クラックが生じやすくなり、ま
た、外見上の透明性等が失われ、また、カールが生じや
すくなる。さらに、上限を超えるときは、薄膜層４の形
成速度が低下し、生産効率上好ましくない。

【００３５】上記の薄膜層４の厚みは、用途によって、
より好ましい範囲を採ることがある。食品、医薬品、も
しくは医療器具等を包装する包装分野等、本発明のガス
バリア性フィルムにフレキシビリティが要求される分野
においては、薄膜層４の厚みが５〜３０ｎｍとすること
がより好ましい。この厚みの範囲の薄膜層４を有するガ
スバリア性フィルムは、折り曲げたことによるクラック
の発生が起きにくい。

【００３６】また、ディスプレイの基板用、またはディ
スプレイの被覆用もしくは密封用等のディスプレイ用で
あって、必ずしもフレキシビリティが要求されない分野
においては、よりガスバリア性を高くする必要があるこ
とから、薄膜層４の厚みを、包装分野におけるよりも厚
い３０ｎｍ〜２００ｎｍとすることがより好ましい。こ
のディスプレイ用の特殊なものとしては、液晶ディスプ
レイをフィルム状に構成したフィルム状液晶ディスプレ
イに用いる高ガスバリア性フィルム、有機ＥＬディスプ
レイをフィルム状にしたフィルム状有機ＥＬディスプレ
イに用いる高ガスバリア性フィルム、また、ディスプレ
イ用ではないが、フィルム状太陽電池用ガスバリア性フ
ィルムがある。

【００３７】本発明において、ガスバリア性層は、薄膜
層４単独でも構成することができるが、薄膜層４上にオ
ーバーコート層５を積層して複合層とすることにより、
包装分野では得られていなかった高度なガスバリア性を
与えることができる。オーバーコート層５を伴なわない
薄膜層４は、その形成法による多少の程度の差はあれ、
表面に近いほど結晶が未成長な状態が生じ、結晶どうし
の間に密度の低い部分が生じやすいため、薄膜層４のみ
では、ガスバリア性の向上に限界がある。また、薄膜層
４を、形成する素材を複数使用して、素材の異なる複数
の薄膜層を積層しても、厚みが厚くなる分、ガスバリア
性の向上は見られるものの、ガスバリア性の格段の向上
には至らない。また、特にＡｌ₂Ｏ₃で構成された薄膜層
は、層自体が割れやすい欠点を有している。

【００３８】本発明におけるオーバーコート層５は、無
機層状化合物を含有する樹脂組成物からなるもので、オ
ーバーコート層５を構成する樹脂成分は、ガスバリア性
の高い樹脂であることがより好ましく、無機層状化合
物、樹脂成分を含有する塗料組成物を塗布して得られる
塗膜である。

【００３９】無機層状化合物とは、単位結晶層が重なっ
て層状構造を形成する無機化合物であり、溶媒中で膨
潤、劈開するものが好ましい。

【００４０】無機層状化合物としては、モンモリロナイ
ト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコ
ナイト、バーミキュライト、フッ素雲母、白雲母、パラ
ゴナイト、金雲母、黒雲母、レピドライト、マーガライ
ト、クリントナイト、アナンダイト、緑泥石、ドンバサ
イト、スドーアイト、クッケアイト、クリノクロア、シ
ャモサイト、ニマイト、テトラシリリックマイカ、タル
ク、パイロフィライト、ナクライト、カオリナイト、ハ
ロイサイト、クリソタイル、ナトリウムテニオライト、
ザンソフィライト、アンチゴライト、ディッカイト、も
しくはハイドロタルサイト等を挙げることができ、膨潤
性フッ素雲母やモンモリロナイトが特に好ましい。

【００４１】これらの無機層状化合物は、天然に産する
ものであっても、人工的に合成あるいは変性されたもの
でもよく、またそれらをオニウム塩などの有機物で処理
したものであってもよい。

【００４２】膨潤性フッ素雲母系鉱物は透明性に優れて
いる点で最も好ましく、次式で示されるものである。

【００４３】 α（ＭＦ）・β（ａＭｇＦ₂・ｂＭｇＯ）・γＳｉＯ₂ （式中、Ｍはナトリウム又はリチウムを表し、α、β、
γ、ａ及びｂは各々係数を表し、０．１≦α≦２、２≦
β≦３．５、３≦γ≦４、０≦ａ≦１、０≦ｂ≦１、ａ
＋ｂ＝１である。）

【００４４】このような膨潤性フッ素雲母系鉱物の製造
法としては、例えば、酸化珪素と酸化マグネシウムと各
種フッ化物とを混合し、その混合物を電気炉あるいはガ
ス炉中で１４００〜１５００℃の温度範囲で完全に溶融
し、その冷却過程で反応容器内にフッ素雲母系鉱物を結
晶成長させる、いわゆる溶融法がある。

【００４５】また、タルクを出発物質として用い、これ
にアルカリ金属イオンをインターカレーションして膨潤
性フッ素雲母系鉱物を得る方法がある（特開平２−１４
９４１５号公報）。この方法では、タルクに珪フッ化ア
ルカリあるいはフッ化アルカリを混合し、磁性ルツボ内
で約７００〜１２００℃で短時間加熱処理することによ
って膨潤性フッ素雲母系鉱物を得ることができる。

【００４６】この際、タルクと混合する珪フッ化アルカ
リあるいはフッ化アルカリの量は、混合物全体の１０〜
３５重量％の範囲とすることが好ましく、この範囲を外
れる場合には膨潤性フッ素雲母系鉱物の生成収率が低下
するので好ましくない。

【００４７】珪フッ化アルカリ又はフッ化アルカリのア
ルカリ金属は、ナトリウムあるいはリチウムが好まし
い。また、膨潤性フッ素雲母系鉱物を製造する工程にお
いて、アルミナを少量配合し、生成する膨潤性フッ素雲
母系鉱物の膨潤性を調整することも可能である。

【００４８】また、本発明において用いることができる
無機層状化合物の中で、モンモリロナイトは、次式で示
されるもので、天然に産出するものを精製することによ
り得ることができる。

【００４９】Ｍ_aＳｉ₄（Ａｌ_2-aＭｇ_a）Ｏ₁₀（ＯＨ）₂・ｎＨ₂Ｏ（式中、Ｍはナトリウムのカチオンを表し、ａは０．２
５〜０．６０である。また、層間のイオン交換性カチオ
ンと結合している水分子の数は、カチオン種や湿度等の
条件に応じて変わりうるので、式中ではｎＨ₂Ｏで表
す。）

【００５０】またモンモリロナイトには次式群で表され
る、マグネシアンモンモリロナイト、鉄モンモリロナイ
ト、鉄マグネシアンモンモリロナイトの同型イオン置換
体も存在し、これらを用いてもよい。

【００５１】Ｍ_aＳｉ₄（Ａｌ_1.67-aＭｇ_0.5+a）Ｏ₁₀（ＯＨ）₂・ｎＨ₂ＯＭ_aＳｉ₄（Ｆｅ_2-a ³⁺Ｍｇ_a）Ｏ₁₀（ＯＨ）₂・ｎＨ₂ＯＭ_aＳｉ₄（Ｆｅ_1.67-a ³⁺Ｍｇ_0.5+a）Ｏ₁₀（ＯＨ）₂・ｎＨ₂Ｏ（式中、Ｍはナトリウムのカチオンを表し、ａは０．２
５〜０．６０である。）

【００５２】通常、モンモリロナイトは、その層間にナ
トリウムやカルシウム等のイオン交換性カチオンを有す
るが、その含有比率は産地によって異なる。本発明にお
いては、イオン交換処理等によって層間のイオン交換性
カチオンがナトリウムに置換されていることが好まし
い。また水ひ処理により精製したモンモリロナイトを用
いることが好ましい。

【００５３】オーバーコート層５を構成する樹脂成分
は、ガスバリア性の高い樹脂であることがより好まし
く、例えば、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリビニル
アルコール、ナイロン、特にメタキシレンジアミンとア
ジピン酸の重縮合物（ナイロンＭＤＸ６）、もしくはポ
リエステル、特に２種類のジオール成分（エチレングリ
コールおよび１，４−シクロヘキサンジメタノール）と
テレフタル酸から作られた非結晶ポリエステル（ＰＥＴ
Ｇ）等を挙げることができる。

【００５４】よりガスバリア性の高いものとして、上記
のうちのポリビニルアルコール樹脂とメチルビニルエー
テル−マレイン酸共重合体、もしくはエチレン−マレイ
ン酸共重合体の併用、ポリビニルアルコール樹脂とポリ
アクリル酸樹脂を併用し、さらに架橋剤を配合したも
の、ポリアクリル酸樹脂に架橋剤を配合したものを用い
ることができる。

【００５５】上記の無機層状化合物は、樹脂成分１００
に対し、１〜２０％（質量基準、以降においても同様）
程度の範囲で配合して、必要に応じ、溶剤または／およ
び希釈剤を配合して塗料組成物とすることができる。

【００５６】このほか塗料組成物には、上記の無機層状
化合物、樹脂成分以外に、溶媒、硬化触媒、濡れ性改良
剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤等の無機、有機系の各種添
加剤を必要に応じて添加することができる。

【００５７】上記の塗料組成物の塗布は、公知の塗布手
段、例えば、バーコート、スピンコート、ディップコー
ト、グラビアコート、ロールコート、ダイコート、もし
くはコンマコート等により行なうことができ、０．１〜
１０μｍ（乾燥時）程度の膜厚とし、塗布後、加熱乾燥
することにより、オーバーコート層５を得ることができ
る。

【００５８】薄膜層４上にオーバーコート層５を積層す
ると、薄膜層の表面の密度の低い部分にオーバーコート
層５が浸透して、ガスバリア性を低下させている欠陥部
分を補うため、ガスバリア性が向上するものと考えられ
る。

【００５９】本発明のガスバリア性フィルム１は、図１
を引用して説明した積層構造を有する複合フィルムを一
枚使用することにより、ガスバリア性を発揮し得るが、
これらの複合フィルムを二枚以上、互いに積層して、よ
り一層、ガスバリア性を高めたものとすることもでき
る。二枚以上の複合フィルムの間の積層には、接着剤を
用いるとよい。二枚以上のガスバリア性フィルム１を積
層する際には、表裏が同じ向きのものどうしを重ねて積
層する場合と、逆向きの場合とがある。図１を引用して
説明した積層構造のガスバリア性フィルム１を二枚積層
する場合であれば、前者は、例えば、基材フィルム／プ
ライマー層／薄膜層／オーバーコート層／接着剤層／基
材フィルム／プライマー層／薄膜層／オーバーコート層
の積層構造であり、後者は、例えば、基材フィルム／プ
ライマー層／薄膜層／オーバーコート層／接着剤層／オ
ーバーコート層／薄膜層／プライマー層／基材フィルム
の積層構造である。前者の場合、接着剤層と接するオー
バーコート層を省略することができ、後者の場合、二つ
のオーバーコート層のいずれか、もしくは両方を省略す
ることができる。

【００６０】また、本発明のガスバリア性フィルム１に
おいては、薄膜層４およびオーバーコート層５の積層構
造がガスバリア性層を構成しているが、このガスバリア
性層を二重、もしくはそれ以上に積層してもよく、例え
ば、二重に積層した場合、基材フィルム／プライマー層
／薄膜層／オーバーコート層／薄膜層／オーバーコート
層の積層構造をとることができる。

【００６１】ガスバリア性フィルムを二枚以上積層する
場合、およびガスバリア性層を二重もしくはそれ以上に
積層する場合、積層した結果物には、薄膜層が二層以上
存在し、オーバーコート層も二層以上存在し得るが、こ
れらの場合、異なる素材からなる二層以上の薄膜層であ
ってもよいし、異なる素材からなる二層以上のオーバー
コート層であってもよい

【００６２】ガスバリア性フィルムどうしの積層は、被
接着面の素材どうし、もしくは片方の素材を利用して熱
融着させる等により積層することができるが、より確実
なのは、上記のように、接着剤層を介して積層すること
である。接着剤層は、公知の素材を用いて構成すること
ができ、具体的には、ポリウレタン系の接着剤を使用し
て形成することができ、より好ましくは、エポキシ基、
アミノ基、ＯＨ基等の官能基を有したものを用いる。先
にも述べたように、ガスバリア性フィルムの一方がオー
バーコート層を欠いており、接着剤層がオーバーコート
層の代わりの役目をになうときは、接着剤層をまず、オ
ーバーコート層を有しない方のガスバリア性フィルムの
薄膜層上に直接形成し、その後、他方のガスバリア性フ
ィルムと貼り合せることが、薄膜層の表面の密度の低い
部分へのオーバーコート層の浸透の点で好ましい。

【００６３】本発明のガスバリア性フィルム１は、上記
したような積層構造を有し、もしくは製造方法を経て得
られるものであるので、高度なガスバリア性を有してお
り、種々のディスプレイ（＝ディスプレイ素子）に適用
することができる。

【００６４】図２は、ディスプレイ６に対し、ガスバリ
ア性フィルム１を適用した断面の構造を示す図で、図２
（ａ）に示すように、ディスプレイ６の片面にガスバリ
ア性フィルム１を積層してもよいし、図２（ｂ）に示す
ように、ディスプレイ６の両面にガスバリア性フィルム
１および１’をそれぞれ積層してもよいし、もしくは図
２（ｃ）に示すように、ディスプレイ６が二枚のガスバ
リア性フィルム１および１’の間に介在しており、二枚
のガスバリア性フィルム１および１’は周囲、好ましく
は全周が、シール部７を有してシールされていてもよ
い。図２（ｃ）に示すような構造において、ガスバリア
性フィルム１および／または１’とディスプレイ６とは
接着していてもよいし、あるいは接着していなくてもよ
い。

【００６５】図２に示すように、ディスプレイ６にガス
バリア性フィルムを適用する場合、ガスバリア性フィル
ムの基材フィルム２側もしくは薄膜層４を有する側の最
外層（オーバーコート層５である場合と、オーバーコー
ト層を欠くために薄膜層４である場合とがある。）のい
ずれがディスプレイ６側であってもよい。図２（ｂ）お
よび（ｃ）に示すように、二枚のガスバリア性フィルム
を適用する場合、いずれか一方のガスバリア性フィルム
の基材フィルム側がディスプレイ６側であり、他方のガ
スバリア性フィルムの薄膜層を有する側がディスプレイ
６側であってもよい。

【００６６】図２に示すように、ガスバリア性フィルム
１をディスプレイ６に適用する際には、接着剤、好まし
くは粘着剤を用いて行なうが、図２（ｃ）に示すような
シールを伴なう場合には、シール部７のシールされる内
側どうしに、熱融着性の接着剤層を積層しておいて、熱
融着性の接着剤層どうしの熱融着によってシールされて
いるのみでもよく、もちろん、ディスプレイ６と接する
部分では、接着剤、好ましくは粘着剤によりディスプレ
イ６とガスバリア性フィルムとが積層されていてもよ
い。

【００６７】図２に示した例では、ディスプレイ６の片
面もしくは両面にガスバリア性フィルムを適用したが、
本発明のガスバリア性フィルム１は、ディスプレイその
ものを構成する基板として使用することもでき、ディス
プレイが二枚の基板で構成されていれば、一方もしくは
両方の基板を、本発明のガスバリア性フィルムで置き換
えることができる。

【００６８】本発明のガスバリア性フィルム１をディス
プレイの基板として用いる場合には、各々のディスプレ
イの方式において必要な層を、ガスバリア性フィルム１
の表裏のいずれかに積層することもでき、場合によって
は、基材フィルム２とガスバリア性層の間に、それらの
層を積層することもあり得るので、本発明のガスバリア
性フィルム１は、基材フィルム２と薄膜層４との間に、
ディスプレイの機能を持たせるための層が介在するもの
も含むものとする。

【００６９】本発明のガスバリア性フィルム１を適用す
るディスプレイとしては、種々のものがあるが、代表的
なものとして、液晶ディスプレイおよび有機ＥＬ素子が
あり得る。

【００７０】液晶ディスプレイは、二枚のガラス基板
に、いずれも内側に透明電極を配置し、配向層等を伴な
った間に液晶が挟まれ、周囲がシールされたものであ
り、通常は、映像をカラー化するためのカラーフィルタ
ーを伴なう。このような液晶ディスプレイのガラス基板
の外側に、本発明のガスバリア性フィルムを適用する
か、もしくは、本発明のガスバリア性フィルム１をガラ
ス基板の代りに用いることもできる。特に、二枚のガラ
ス基板を、いずれも、本発明のガスバリア性フィルムで
置き換えれば、全体がフレキシブルなディスプレイとす
ることができる。

【００７１】有機ＥＬディスプレイは、やはり、二枚の
ガラス基板に、いずれも内側に透明電極を配置し、二枚
の基板間に、例えば、（ａ）注入機能、（ｂ）輸送機
能、および（ｃ）発光機能の各機能を持つ層を積層した
複合層等からなる有機ＥＬ素子層が挟まれ、周囲がシー
ルされたものであり、映像をカラー化するためのカラー
フィルターもしくはそのほかの手段を伴なうことがあ
る。液晶ディスプレイにおけるのと同様、ガラス基板の
外側に、本発明のガスバリア性フィルムを適用するか、
もしくは、本発明のガスバリア性フィルム１をガラス基
板の代りに用いることもできる。二枚のガラス基板を、
いずれも本発明のガスバリア性フィルムで置き換えれ
ば、全体がフレキシブルなディスプレイとすることがで
きる。有機ＥＬ素子は、使用する蛍光物質が不安定で、
湿気に極度に弱いため、製品となった後の高度な水蒸気
バリア性が望まれるので、ガスバリア性フィルムの適用
は、非常に有効である。

【００７２】

【実施例】（実施例１）基材フィルムとして、ポリカー
ボネートフィルム（バイエル（株）製、商品名；「バイ
ホールＬＰ２０２」、厚み；２００μｍ）を用い、片面
にポリシラザン分散液（クラリアントジャパン（株）
製、「ＮＬ−１１０」の３％溶液）をグラビア印刷法に
より塗工し、１２０℃の温度で熱風乾燥を行ない、膜厚
が０．１μｍのプライマー層を形成した。次に、巻き取
り式の真空蒸着装置を用い、チャンバーの到達真空度が
３．０×１０^-5ｔｏｒｒ（４．０×１０^-3Ｐａ）になる
まで排気した後、酸素ガスをコーティングドラムの近傍
に、チャンバー内の圧力が３．０×１０^-4ｔｏｒｒ
（４．０×１０^-2Ｐａ）に保って導入し、蒸発源の一酸
化ケイ素をピアス型電子銃により、約１０ｋｗの電力で
加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を１２０ｍ／
ｍｉｎの速度で走行するポリカーボネートフィルムのプ
ライマー層上に、厚みが５００Åの酸化ケイ素の薄膜層
を形成した。

【００７３】ポリマー（Ａ）として、ユニチカケミカル
社製ポリビニルアルコールＵＦ０４０Ｇ（ケン化度９９
％、平均重合度４００）を純水に溶解し、２０％の水溶
液を得た。ポリマー（Ｂ）としてメチルビニルエーテル
−マレイン酸の等モル共重合体（インターナショナル・
スペシャリティ・プロダクツ社製、商品名；ガントレツ
（ＧＡＮＴＲＥＺ）ＡＮ１１９）をカルボキシル基に対
して２モル％の水酸化ナトリウムを含む水溶液に溶解し
２０％溶液とした。ポリマー（Ａ）とポリマー（Ｂ）の
質量比が７０／３０となるように両水溶液を混合し、続
いて、モンモリロナイト（クニミネ工業（株）製、商品
名；クニピアＦ）を、（Ａ）と（Ｂ）の固形分の合計量
に対して１０％になるように添加し、攪拌してコート液
を調製した。このコート液を上記の薄膜層上に、乾燥後
の塗膜厚みが約２μｍになるようにバーコーティング
し、１００℃で２分間乾燥した後、２００℃で１５秒間
熱処理してオーバーコート層を形成し、ガスバリア性フ
ィルムとした。

【００７４】得られたガスバリア性フィルムの特性を評
価した結果は次の通りである。全光線透過率；８８％酸素透過率；０．２３ｃｃ／ｍ²・ｄａｙ水蒸気透過率；０．１ｇ／ｍ²・ｄａｙ表面平滑性；５ｎｍなお、酸素透過率は、酸素ガス透過率測定装置（モダン
コントロール（株）製、ＯＸＴＲＡＮ２／２０）を用
いて行ない、水蒸気透過率は、水蒸気ガス透過率測定装
置（モダンコントロール（株）製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ
−Ｗ３／３１）を用いて行なった。

【００７５】（実施例２）基材フィルムとして、厚みが
２００μｍのポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）樹脂フィ
ルム（住友ベークライト（株）製）を使用し、また、酸
化ケイ素の薄膜層の形成をプラズマＣＶＤ装置を用いて
行なった。チャンバーの到達真空度が３．０×１０^-5ｔ
ｏｒｒ（４．０×１０^-3Ｐａ）になるまで排気した後、
高周波を印可し、テトラメトキシシラン、酸素、および
ヘリウムの三種類のガスを１：１：３の流量で導入し、
成膜チャンバー内の圧力を０．２５ｔｏｒｒに保って、
厚みが５００Åの酸化ケイ素の薄膜層を形成した。酸化
ケイ素の薄膜層の形成以外は、実施例１と同様に行な
い、ガスバリア性フィルムを作成した。得られたガスバ
リア性フィルムの特性を評価した結果は次の通りであ
る。全光線透過率；８６％酸素透過率；０．３ｃｃ／ｍ²・ｄａｙ水蒸気透過率；０．２ｇ／ｍ²・ｄａｙ表面平滑性；４ｎｍ

【００７６】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、金属酸化物の
薄膜層が有する微細孔に由来する欠点を、無機層状化合
物を含有する樹脂組成物のオーバーコート層で被覆する
ことにより解消し、従来、到達が困難であった高度なガ
スバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供するこ
とができる。請求項２の発明によれば、請求項１の発明
の効果に加え、薄膜層の厚みが薄く均一なガスバリア性
フィルムを提供することができる。請求項３の発明によ
れば、請求項１または請求項２の発明におけるガスバリ
ア性層が二以上積層されたことにより、ガスバリア機能
が重畳したことによる高いガスバリア性を有するガスバ
リア性フィルムを提供することができる。請求項４の発
明によれば、請求項１または請求項２の発明のガスバリ
ア性フィルムが二以上積層されたことにより、請求項３
の発明におけるのと同様、ガスバリア機能が重畳したこ
とによる高いガスバリア性を有するガスバリア性フィル
ムを提供することができる。請求項５の発明によれば、
請求項１〜請求項４いずれかの発明のガスバリア性フィ
ルムをディスプレイの片側に適用したことにより、ディ
スプレイのガスバリア性フィルムが適用された側のガス
バリア性が向上したディスプレイを提供することができ
る。請求項６の発明によれば、請求項１〜請求項４いず
れかの発明のガスバリア性フィルムをディスプレイの両
側に適用したことにより、ディスプレイの両面のガスバ
リア性が向上したディスプレイを提供することができ
る。請求項７の発明によれば、請求項１〜請求項４いず
れかの発明のガスバリア性フィルムでディスプレイを密
封したことにより、ガスバリア性を高度に保つことが可
能なディスプレイを提供することができる。請求項８の
発明によれば、請求項１〜請求項４いずれかの発明のガ
スバリア性フィルムを、ディスプレイ素子の少なくとも
観察側の基板としたので、ガスバリア性を発揮させるた
めの層が増えるものの、実質的な厚みの増加を伴なうこ
となく、ガスバリア性を高度に保つことが可能なディス
プレイを提供することができる。請求項９の発明によれ
ば、請求項５〜請求項８いずれかの発明の効果に加え、
液晶ディスプレイの特性を長期間安定に保持し得るディ
スプレイ素子を提供することができる。請求項１０の発
明によれば、請求項５〜請求項８いずれかの発明の効果
に加え、有機ＥＬ素子の特性を長期間安定に保持でき、
ダークスポットの発生、成長を抑制可能なディスプレイ
を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のガスバリア性フィルムの積層構造を示
す断面図である。

【図２】本発明のガスバリア性フィルムの適用例を示す
断面図である。

【符号の説明】

１ガスバリア性フィルム（超高ガスバリア性フィ
ルム）２基材フィルム３プライマー層４薄膜層５オーバーコート層６ディスプレイ７シール部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H090 HA07 HD01 JB03 JC07 JD11 4F100 AA01C AA17B AA17D AA20 AC03 AK01A AK01C AK21 AK45 AL05 AL05C BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C CA23 CC00 DE02C EH66B EH66D GB41 JD02 JM02B JM02D 4K029 AA11 AA25 BA46 BC00 BD00 CA04 GA03 4K030 AA06 AA09 AA14 BA44 CA07 CA12 FA01 JA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材フィルム上に、金属酸化物の薄膜
層、および無機層状化合物を含有する樹脂組成物からな
るオーバーコート層が順に積層された積層構造からなる
ガスバリア性層が積層された複合フィルムからなること
を特徴とするガスバリア性フィルム。
【請求項２】前記金属酸化物の薄膜層が、蒸着法、ス
パッタリング法、もしくはイオンプレーティング法の物
理的気相法、化学的気相法、または、めっき、もしくは
ゾル−ゲル法の液相成長法により形成されたものである
ことを特徴とする請求項１記載のガスバリア性フィル
ム。
【請求項３】基材フィルム上に、請求項１または請求
項２記載のガスバリア性層が二以上積層されていること
を特徴とするガスバリア性フィルム。
【請求項４】請求項１または請求項２記載の複合フィ
ルムが二以上積層されていることを特徴とするガスバリ
ア性フィルム。
【請求項５】請求項１〜請求項４いずれか記載のガス
バリア性フィルムが、ディスプレイ素子の少なくとも片
側の表面に積層されていることを特徴とするディスプレ
イ。
【請求項６】請求項１〜請求項４いずれか記載のガス
バリア性フィルムが、ディスプレイ素子の両側の表面に
積層されていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項７】請求項１〜請求項４いずれか記載のガス
バリア性フィルムによりディスプレイ素子が密封されて
いることを特徴とするディスプレイ。
【請求項８】請求項１〜請求項４いずれか記載のガス
バリア性フィルムが、ディスプレイ素子の少なくとも観
察側の基板であることを特徴とするディスプレイ。
【請求項９】ディスプレイ素子が液晶ディスプレイパ
ネルであることを特徴とする請求項５〜請求項８いずれ
か記載のディスプレイ。
【請求項１０】ディスプレイ素子が有機ＥＬ素子であ
ることを特徴とする請求項５〜請求項８いずれか記載の
ディスプレイ。