JP2003257336A - Color cathode ray tube, and method of forming metal thin film - Google Patents
Color cathode ray tube, and method of forming metal thin filmInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー陰極線管に
関し、特にカラー陰極線管内部の蛍光面上に形成される
金属薄膜の構造及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color cathode ray tube, and more particularly to a structure of a metal thin film formed on a phosphor screen inside the color cathode ray tube and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図７は、従来のカラー陰極線管の特にフ
ェースプレートパネル１の内部の要部構成を示す概略構
成図である。2. Description of the Related Art FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a main part of a conventional color cathode ray tube, particularly inside a face plate panel 1.
【０００３】同図中、カラー陰極線管１１は、フェース
プレートパネル１、じょうご形のファンネル部７、及び
ネック部８が連続的に形成されたガラス真空外囲器を有
し、このネック部８の内部には電子銃９が配設されてい
る。In FIG. 1, a color cathode ray tube 11 has a face plate panel 1, a funnel-shaped funnel portion 7 and a glass vacuum envelope in which a neck portion 8 is continuously formed. An electron gun 9 is arranged inside.
【０００４】フェースプレートパネル１の内部面には蛍
光面２が形成され、この蛍光面２の上層には金属反射膜
５が形成され、蛍光面２の近傍の所定位置には、色選別
電極３が配設されている。この色選別電極３は色選別電
極構体４によって保持され、更にこの色選別電極構体４
は、保持機構部６によって、フェースプレートパネル１
のスカート部に取付けられている。A fluorescent screen 2 is formed on the inner surface of the face plate panel 1, a metal reflection film 5 is formed on the fluorescent screen 2, and a color selection electrode 3 is provided at a predetermined position near the fluorescent screen 2. Is provided. The color selection electrode 3 is held by a color selection electrode assembly 4, and the color selection electrode assembly 4 is further held.
Holds the face plate panel 1 by the holding mechanism section 6.
It is attached to the skirt of.
【０００５】以上の構成において、電子銃９から発せら
れる電子ビームは、色選別電極３にて選別されて有効分
のみが蛍光面２に照射され、蛍光面２中の蛍光体を発光
させる。この時の蛍光体の発光は、フェースプレートパ
ネル１の前方方向のみでなく、色選別電極３の方向にも
発光する。この色選別電極３の方向への発光分は、金属
反射膜５によってフェースプレートパネル１の前方方向
に反射して有効利用され、カラー陰極線管１１の輝度を
向上させる。In the above-mentioned structure, the electron beam emitted from the electron gun 9 is selected by the color selection electrode 3 and only the effective portion is applied to the phosphor screen 2 to cause the phosphor in the phosphor screen 2 to emit light. At this time, the phosphor emits light not only in the front direction of the face plate panel 1 but also in the direction of the color selection electrode 3. The light emitted in the direction of the color selection electrode 3 is reflected by the metal reflection film 5 in the front direction of the face plate panel 1 and is effectively utilized, so that the brightness of the color cathode ray tube 11 is improved.
【０００６】一般に、電子ビームは、色選別電極３によ
り選別され、有効分は蛍光面２に到達して蛍光体を発光
させるが、無効部分は色選別電極３に衝突する。この衝
突エネルギーの熱変換によって色選別電極３は熱膨張
し、延いては色選別電極構体４も熱膨張する。In general, the electron beam is selected by the color selection electrode 3, and the effective component reaches the phosphor screen 2 to cause the phosphor to emit light, but the ineffective portion collides with the color selection electrode 3. Due to the heat conversion of the collision energy, the color selection electrode 3 thermally expands, and the color selection electrode assembly 4 also thermally expands.
【０００７】この熱膨張による色選別電極３の蛍光面２
との相対位置ずれにより、電子ビームの到達位置がずれ
てしまい、所望の蛍光体に到達せずに色ずれを生じてし
まうランディング経時熱変化の問題を生じる。The fluorescent surface 2 of the color selection electrode 3 due to this thermal expansion
Due to the relative positional deviation with respect to the electron beam, the arrival position of the electron beam is deviated, which causes a problem of thermal change with landing, which causes a color deviation without reaching a desired phosphor.
【０００８】この経時の熱膨張による色ずれを防ぐため
に、フェースプレートパネル１内で色選別電極構体４を
保持する保持機構部６において、この熱膨張による相対
位置ずれを吸収するように熱変形する係止機構を工夫
し、色選別電極３と蛍光面２との相対位置変化を最小に
留める方法が提案されている。In order to prevent the color shift due to the thermal expansion over time, the holding mechanism portion 6 for holding the color selection electrode assembly 4 in the face plate panel 1 is thermally deformed so as to absorb the relative positional shift due to the thermal expansion. A method has been proposed in which the locking mechanism is devised to keep the relative position change between the color selection electrode 3 and the fluorescent screen 2 to a minimum.
【０００９】また、色選別電極３の熱膨張を防ぐため
に、金属反射膜５上にカーボンブラックやグラファイト
膜を形成し、対面する色選別電極３からの放熱効果を増
す手段が講じられてきた。Further, in order to prevent thermal expansion of the color selection electrode 3, means for forming a carbon black or graphite film on the metal reflection film 5 to increase the heat radiation effect from the facing color selection electrode 3 has been taken.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、色選別
電極構体４を保持する保持機構６による改良は、その係
止機構も熱変形してはじめて効果を発揮するものであ
り、その時までの熱変形によるランディング変化の抑制
には効果はなく、また厳密な補正でないため高精細管に
対しては所望する効果が期待できなかった。However, the improvement by the holding mechanism 6 for holding the color selection electrode assembly 4 is effective only when the locking mechanism thereof is also thermally deformed, and the thermal deformation up to that time results. There is no effect in suppressing landing changes, and the desired effect could not be expected for a high-definition tube because it is not a strict correction.
【００１１】一方、前記した金属反射膜５の黒色化は、
スプレーによる黒鉛或いはグラファイトの噴霧塗布によ
って行われるため、個々の効果のばらつき、或いは黒色
化膜の落下が陰極線管製造時の懸念となるなどの問題が
あった。On the other hand, the blackening of the metal reflection film 5 is
Since it is performed by spraying graphite or spray coating of graphite, there is a problem that variations in individual effects or the fall of the blackening film becomes a concern during manufacturing of the cathode ray tube.
【００１２】更には、特開昭５４−７７５６８号公報に
開示されるように、この黒色化処理を、第１層の膜を蒸
着した後、その真空度を落して更に第２層目の膜として
黒色金属薄膜を形成する方法が開示されているが、この
ような方法では処理工程が長くなり、作業時間の延長及
び製造装置のコストアップにつながる問題があった。Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-77568, the blackening treatment is performed by vapor-depositing the film of the first layer and then reducing the degree of vacuum to further form the film of the second layer. Although a method of forming a black metal thin film is disclosed as such, there is a problem in that such a method lengthens the processing step and prolongs the working time and increases the cost of the manufacturing apparatus.
【００１３】本発明の目的は、上記の問題を解決し、輝
度特性の劣化、或いは製造コストの増加を抑止しつつ、
経時の熱的ランディング変化量を低減したカラー陰極線
管及びその製造方法を提供することを目的としている。An object of the present invention is to solve the above problems and prevent deterioration of luminance characteristics or increase in manufacturing cost.
An object of the present invention is to provide a color cathode ray tube and a method for manufacturing the same in which the amount of thermal landing change with time is reduced.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】請求項１のカラー陰極線
管は、フェースプレートパネル、ファンネル部、及びネ
ック部が一体となってガラス真空外囲器を形成するカラ
ー陰極線管において、前記フェースプレートパネルの内
部面に形成された蛍光面と、該蛍光面の上層に形成され
た金属薄膜と、前記ガラス真空外囲器内の、前記蛍光面
に近接する所定位置に配設された色選別電極とを有し、
前記金属薄膜を、その膜厚方向において、それぞれが反
射率の異なる少なくとも２種類の金属材料によって形成
された薄膜が重なる多層構成としたことを特徴とする。A color cathode ray tube according to claim 1, wherein a face plate panel, a funnel portion, and a neck portion are integrally formed to form a glass vacuum envelope. A phosphor screen formed on an inner surface of the phosphor, a metal thin film formed on an upper layer of the phosphor screen, and a color selection electrode disposed at a predetermined position in the glass vacuum envelope in the vicinity of the phosphor screen. Have
It is characterized in that the metal thin film has a multi-layered structure in which thin films formed of at least two kinds of metal materials having different reflectances overlap each other in the film thickness direction.
【００１５】請求項２のカラー陰極線管は、請求項１記
載のカラー陰極線管において、前記金属薄膜は、前記蛍
光面に接する面を高反射率の金属材料で形成した高反射
率膜と、前記色選別電極に対向する面を低反射率の金属
材料で形成した低反射率膜とを有する多層構造となって
いること特徴とする。また、請求項３のカラー陰極線管
は、請求項２記載のカラー陰極線管において、 前記高
反射率の金属材料をＡｌとし、前記低反射率の金属材料
をＦｅとしたことを特徴とする。A color cathode ray tube according to a second aspect of the present invention is the color cathode ray tube according to the first aspect, wherein the metal thin film has a high reflectance film in which a surface in contact with the phosphor screen is formed of a metal material having a high reflectance, and It is characterized in that it has a multi-layer structure having a low-reflectance film formed of a metal material having a low reflectance on the surface facing the color selection electrode. A color cathode ray tube according to a third aspect of the present invention is the color cathode ray tube according to the second aspect, wherein the high reflectance metal material is Al and the low reflectance metal material is Fe.
【００１６】請求項４の金属薄膜の形成方法は、請求項
２記載の前記金属薄膜の形成方法であって、前記高反射
率の金属材料と前記低反射率の金属材料とを含む蒸着材
料を真空蒸着法によって前記蛍光面上に蒸着させる際
に、前記蒸着材料に対して、先ず前記高反射率の金属材
料のみが蒸発して蒸着可能な温度となるようにヒーター
パワーを設定して所定の膜厚の前記高反射率膜を形成
し、その後、低反射率の金属材料が蒸発して蒸着可能な
温度となるようにヒーターパワーをアップさせることを
特徴とする。A method for forming a metal thin film according to a fourth aspect is the method for forming the metal thin film according to the second aspect, wherein a vapor deposition material containing the metal material having the high reflectance and the metal material having the low reflectance is used. When vapor-depositing on the phosphor screen by the vacuum vapor deposition method, the heater power is set to a predetermined value so that only the metal material having the high reflectance is vaporized to a temperature at which vapor deposition is possible with respect to the vapor deposition material. It is characterized in that the high-reflectance film having a film thickness is formed, and then the heater power is increased so that the low-reflectance metal material is vaporized to a temperature at which vapor deposition is possible.
【００１７】請求項５の金属薄膜の形成方法は、請求項
４記載の金属薄膜の形成方法において、前記蒸着材料が
前記高反射率の金属材料と前記低反射率の金属材料とか
ら形成され、前記低反射率の金属材料が１０ｗｔ％〜１
５ｗｔ％程度含まれることを特徴とする。また、請求項
６の金属薄膜の形成方法は、請求項５記載の金属薄膜の
形成方法において、前記高反射率の金属材料をＡｌと
し、前記低反射率の金属材料をＦｅとしたことを特徴と
する。A method of forming a metal thin film according to a fifth aspect is the method of forming a metal thin film according to the fourth aspect, wherein the vapor deposition material is formed of the high reflectance metal material and the low reflectance metal material. The low reflectance metal material is 10 wt% to 1
It is characterized in that the content is about 5 wt%. Further, the method of forming a metal thin film according to claim 6 is the method of forming a metal thin film according to claim 5, wherein the high reflectance metal material is Al and the low reflectance metal material is Fe. And
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は、本発明に
よるカラー陰極線管の金属薄膜１０の構成を示す実施の
形態１の部分拡大断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1. FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of a first embodiment showing the structure of a metal thin film 10 of a color cathode ray tube according to the present invention.
【００１９】本実施の形態のカラー陰極線管が前記した
図７のカラー陰極線管の構成に対して主に異なる点は、
フェースプレートパネル１の内面に形成された蛍光面２
の上層となる金属薄膜１０の構成であるため、図７に示
す従来のカラー陰極線管と同一、或いはそれに相当する
部分には同一符号を付して、或いは図面を省略して説明
を省略し、異なる点を重点的に説明する。The main difference between the color cathode ray tube of this embodiment and the structure of the color cathode ray tube of FIG. 7 is that
Fluorescent screen 2 formed on the inner surface of the face plate panel 1
Since it is the structure of the metal thin film 10 which is the upper layer, the same reference numerals as those in the conventional color cathode ray tube shown in FIG. Focus on the differences.
【００２０】同図中、１はフェースプレートパネル、２
はフェースプレートパネル１の内部側に形成された蛍光
面、１０は蛍光面２の色選別電極３（図７）に相対する
側に形成された金属薄膜である。この金属薄膜１０の蛍
光面２との対接面１０ａは例えばＡｌ薄膜等の高反射率
材料からなる高反射率表面とし、色選別電極３（図７）
に対向する表面１０ｂは、例えばＦｅ薄膜等の低反射率
材料から成る低反射率表面とする。In the figure, 1 is a face plate panel, 2 is
Is a phosphor surface formed on the inner side of the face plate panel 1, and 10 is a metal thin film formed on the side of the phosphor surface 2 facing the color selection electrode 3 (FIG. 7). The surface 10a of the metal thin film 10 that faces the phosphor screen 2 is a high reflectance surface made of a high reflectance material such as an Al thin film, and the color selection electrode 3 (FIG. 7).
The surface 10b opposed to is a low reflectance surface made of a low reflectance material such as Fe thin film.
【００２１】図２は、金属薄膜１０の膜厚方向の各位置
における、ＡｌとＦｅの割合を示すグラフであり、横軸
に金属薄膜１０の厚み方向の内部位置を示し、縦軸に各
内部位置での組成割合を示す。FIG. 2 is a graph showing the ratio of Al and Fe at each position in the thickness direction of the metal thin film 10, where the horizontal axis represents the internal position in the thickness direction of the metal thin film 10 and the vertical axis represents each internal position. The composition ratio at the position is shown.
【００２２】同グラフから明らかなように、例えば金属
薄膜１０の内部成分を表面１０ｂ側から順にみていく
と、表面１０ｂから厚みの２０％程度の深さまで低反射
率材料のＦｅが１００ｗｔ％である。それ以後蛍光面２
との対接面１０ａ側に向かうにつれてＦｅの割合が低下
する代わりに高反射率材料であるＡｌの組成割合が上昇
する。そして中間部で略１：１の割合となった後Ａｌの
割合が大きくなり、対接面１０ａの１０％程度手前から
Ａｌの組成割合が１００ｗｔ％となっている。As is apparent from the graph, when the internal components of the metal thin film 10 are viewed in order from the surface 10b side, Fe of the low reflectance material is 100 wt% from the surface 10b to a depth of about 20% of the thickness. . After that fluorescent screen 2
As the ratio of Fe decreases toward the contact surface 10a side with Al, the composition ratio of Al, which is a high reflectance material, increases. Then, after the ratio becomes approximately 1: 1 in the middle portion, the ratio of Al becomes large, and the composition ratio of Al becomes 100 wt% from about 10% before the contact surface 10a.
【００２３】一般に、カラー陰極線管において、蛍光面
２の色選別電極３（図７）と相対する側を、低反射率表
面を有する金属薄膜で覆うと、相対する色選別電極３が
電子ビームの無効部分の照射を受けて温度上昇しても、
色選別電極３からの輻射熱をこの金属薄膜が吸収するた
め、色選別電極３の温度上昇、延いては熱膨張が抑制さ
れる。Generally, in a color cathode ray tube, when the side of the phosphor screen 2 facing the color selection electrode 3 (FIG. 7) is covered with a thin metal film having a low reflectance surface, the opposing color selection electrode 3 emits an electron beam. Even if the temperature rises due to irradiation of the invalid part,
Since the metal thin film absorbs the radiant heat from the color selection electrode 3, the temperature rise of the color selection electrode 3 and eventually the thermal expansion is suppressed.
【００２４】従って、以上のように構成された実施の形
態１の金属薄膜１０を有するカラー陰極線管によれば、
金属薄膜１０の蛍光面２側には従来通り高反射率のＡｌ
膜を形成し、色選別電極３（図７）と相対する側には低
反射率のＦｅ膜を形成している。このため、輝度特性を
劣化させることなく色選別電極の温度上昇を低反射膜が
熱吸収し、色選別電極の熱膨張による電子ビームの到達
位置ずれで生じるランディング経時変化を低減させるこ
とができる。Therefore, according to the color cathode ray tube having the metal thin film 10 of the first embodiment configured as described above,
On the side of the phosphor screen 2 of the metal thin film 10, Al having a high reflectance as in the past is used.
A film is formed, and a low reflectance Fe film is formed on the side facing the color selection electrode 3 (FIG. 7). For this reason, the low reflection film thermally absorbs the temperature rise of the color selection electrode without deteriorating the luminance characteristic, and it is possible to reduce the landing change with time caused by the displacement of the arrival position of the electron beam due to the thermal expansion of the color selection electrode.
【００２５】実施の形態２．図３は、本発明の金属薄膜
形成方法による実施の形態２の形成方法を説明するため
の蒸着装置の概略図である。Embodiment 2. FIG. 3 is a schematic diagram of a vapor deposition apparatus for explaining the forming method of the second embodiment by the metal thin film forming method of the present invention.
【００２６】蒸着装置１５は、その真空チャンバ１６の
上部に蛍光面２を形成し且つ色選別電極３（図７）を配
設する前のフェースプレートパネル１を装着し、図示し
ない真空ポンプによって、その空間を所定の真空状態に
保つ。このとき、真空チャンバ１６内の加熱蒸発部１７
には、図１に示す金属薄膜１０を形成するためのＡｌ、
Ｆｅの各材料を混ぜた複合蒸着材料１８がセットされて
いる。The vapor deposition device 15 is equipped with the face plate panel 1 on which the fluorescent screen 2 is formed and the color selection electrode 3 (FIG. 7) is provided on the upper part of the vacuum chamber 16, and a vacuum pump (not shown) The space is kept in a predetermined vacuum state. At this time, the heating evaporation unit 17 in the vacuum chamber 16
Includes Al for forming the metal thin film 10 shown in FIG.
A composite vapor deposition material 18 in which each material of Fe is mixed is set.
【００２７】図４は、この状態で、Ａｌ及びＦｅを混合
した複合蒸着材料１８を、図１に示す蛍光面２に蒸着さ
せて金属薄膜１０を形成すべく複合蒸着材料１８を加熱
するために、加熱蒸着部１７からこの複合蒸着材料１８
に印加するヒーターパワーの制御過程を示すグラフであ
る。In order to heat the composite vapor deposition material 18 in order to form the metal thin film 10 by vapor-depositing the composite vapor deposition material 18 mixed with Al and Fe in this state on the phosphor screen 2 shown in FIG. From the heating vapor deposition unit 17 to the composite vapor deposition material 18
7 is a graph showing a process of controlling the heater power applied to the heater.
【００２８】同図に示すように、先ず複合蒸着材料１８
の内、Ａｌのみが蒸発して蒸着可能な温度となるように
加熱蒸着部１７のヒーターパワーを設定し、Ａｌの蒸着
によって蛍光面３上に所定の膜厚の純Ａｌ膜を形成す
る。従って、この純Ａｌ膜の厚みは、複合蒸着材料１８
のＡｌ含有量で決まる。As shown in the figure, first, the composite vapor deposition material 18 is formed.
Among these, the heater power of the heating vapor deposition unit 17 is set so that only Al is vaporized to a temperature at which vapor deposition is possible, and a pure Al film having a predetermined thickness is formed on the phosphor screen 3 by vapor deposition of Al. Therefore, the thickness of this pure Al film is 18
Of Al content.
【００２９】次に、このＡｌの蒸着が終了するのに前後
してヒーターパワーを上げ、複合蒸着材料１８のＦｅが
蒸発して蒸着出来るように設定する。図５は、このヒー
ターパワーの変化に伴なって、蛍光面３上に形成される
金属薄膜１０の内部成分の変化の様子を示している。
尚、図５のグラフの各軸の設定は前記した図２のグラフ
の各軸と同じに設定されている。Then, the heater power is increased before and after the completion of the vapor deposition of Al so that Fe of the composite vapor deposition material 18 is vaporized and vapor deposited. FIG. 5 shows how the internal components of the metal thin film 10 formed on the phosphor screen 3 change as the heater power changes.
The axes of the graph of FIG. 5 are set to be the same as the axes of the graph of FIG.
【００３０】金属薄膜１０の純Ａｌ膜の領域は、複合蒸
着材料１８に含まれるＡｌの含有量によって自由に設定
できるため、例えば図５に示すように、純Ａｌ膜の厚み
を適度に厚く設定することによって、その後の陰極線管
製造工程によって実施される熱処理工程で、ＦｅのＡｌ
領域への拡散が生じても対接面１０ａ側に至ることはな
く、蛍光面３と接する対接面１０ａの高反射率を維持で
きる。The area of the pure Al film of the metal thin film 10 can be freely set depending on the content of Al contained in the composite vapor deposition material 18. Therefore, as shown in FIG. 5, for example, the thickness of the pure Al film is appropriately set. In the subsequent heat treatment process performed by the cathode ray tube manufacturing process,
Even if the diffusion to the region occurs, it does not reach the contact surface 10a side, and the high reflectance of the contact surface 10a in contact with the phosphor screen 3 can be maintained.
【００３１】尚、この場合のＡｌと組み合わせる複合材
料としては、クロム、コバルト、モリブデン、ニオブ、
タンタル、タングステン、ベリリウム、ニッケル、ス
ズ、鉄、鉛、シリコン、チタン、バナジウム、白金、カ
ーボンから選択するのが好ましい。In this case, as the composite material to be combined with Al, chromium, cobalt, molybdenum, niobium,
It is preferably selected from tantalum, tungsten, beryllium, nickel, tin, iron, lead, silicon, titanium, vanadium, platinum and carbon.
【００３２】以上のように、実施の形態２の金属薄膜形
成方法によれば、１の真空蒸着工程で、高反射率材料と
低反射率材料による２つの薄膜層を有する金属薄膜を形
成することができるため、装置或いは製造コストを新た
に見込むことなく、所望の蒸着材料による２層の金属薄
膜を形成することができる。As described above, according to the metal thin film forming method of the second embodiment, a metal thin film having two thin film layers of a high reflectance material and a low reflectance material is formed in one vacuum deposition step. Therefore, it is possible to form a two-layer metal thin film of a desired vapor deposition material without newly considering the apparatus or the manufacturing cost.
【００３３】実施の形態３．本実施の形態は、本発明に
よる金属薄膜形成方法による、複合蒸着材料の混合比率
を特定する方法を説明するものである。Embodiment 3. The present embodiment describes a method of specifying the mixing ratio of the composite vapor deposition material by the metal thin film forming method according to the present invention.
【００３４】前記した実施の形態２の金属薄膜形成方法
では、図３の蒸着装置１５の加熱蒸発部１７に、それぞ
れが所定の膜厚を形成する量のＡｌ及びＦｅを混ぜた複
合蒸着材料１８をセットしたが、本実施の形態では、こ
の２種類の金属材料を所定の混合比（質量）で混ぜたＡ
ｌ−Ｆｅ複合蒸着材１９を加熱蒸発部１７にセットす
る。In the metal thin film forming method according to the second embodiment described above, the heating / evaporating section 17 of the vapor deposition apparatus 15 shown in FIG. 3 is mixed with Al and Fe in a predetermined amount to form a composite vapor deposition material 18. In the present embodiment, the two types of metal materials are mixed at a predetermined mixing ratio (mass).
The 1-Fe composite vapor deposition material 19 is set in the heating / evaporating section 17.
【００３５】そして、実施の形態２と同様に、複合蒸着
材１９のうち、先ずＡｌのみが蒸発して蒸着可能な温度
となるように加熱蒸着部１７のヒーターパワーを設定
し、Ａｌの蒸着によって図１に示す蛍光面３上に所定の
膜厚の純Ａｌ膜を形成し、次に、このＡｌの蒸着が終了
するのに前後してヒーターパワーを上げ、複合蒸着材料
１９のＦｅが蒸発して蒸着出来るように設定する。Then, as in the second embodiment, the heater power of the heating vapor deposition section 17 is first set so that only Al in the composite vapor deposition material 19 is vaporized to a temperature at which vapor deposition is possible. A pure Al film having a predetermined film thickness is formed on the phosphor screen 3 shown in FIG. 1. Next, the heater power is increased before and after the completion of the evaporation of Al, and Fe of the composite evaporation material 19 is evaporated. Set so that vapor deposition can be performed.
【００３６】従って、蛍光面３上に形成される金属薄膜
１０の各層の重量比率は、略Ａｌ−Ｆｅ複合蒸着材１９
の混合比に一致する。Therefore, the weight ratio of each layer of the metal thin film 10 formed on the phosphor screen 3 is approximately Al-Fe composite vapor deposition material 19.
It matches the mixing ratio of.
【００３７】図６は、Ａｌ−Ｆｅ複合蒸着材１９におけ
るＦｅの含有割合（質量）を種々に設定して金属薄膜１
０を形成したときの輝度劣化割合及びランディング経時
変化量割合の変化を示すグラフである。尚、同グラフに
おいて、輝度特性の場合は、実験結果での最良の指標値
を１００とし、ランディング変化量の場合は、実験結果
での最も変化した際の指標値を１００としている。FIG. 6 shows the metal thin film 1 with various proportions (mass) of Fe contained in the Al—Fe composite vapor deposition material 19.
9 is a graph showing changes in the luminance deterioration rate and the landing temporal change amount rate when 0 is formed. In the graph, the best index value in the experiment result is 100 for the luminance characteristic, and the best index value in the experiment result is 100 for the landing change amount.
【００３８】同図に示すように、輝度特性は、Ｆｅの含
有量が１５ｗｔ％以下では殆ど変化せず、１５ｗｔ％を
越えた段階で、Ｆｅの含有量の増加に伴なって劣化する
特性を示す。一方ランディング変化量は、Ｆｅの含有量
が０から１０ｗｔ％に至る間、その増加と共に改善さ
れ、Ｆｅの含有量が１０ｗｔ％を越えると殆どその改善
量は変化しない。As shown in the same figure, the brightness characteristics show that the Fe content hardly changes when the Fe content is 15 wt% or less, and deteriorates as the Fe content increases when the Fe content exceeds 15 wt%. Show. On the other hand, the landing change amount is improved with the increase of the Fe content from 0 to 10 wt%, and the improvement amount is hardly changed when the Fe content exceeds 10 wt%.
【００３９】従って、Ｆｅの含有量を１０ｗｔ％〜１５
ｗｔ％程度に設定することによって、輝度特性及びラン
ディング変化量の両方に対して、最も効果的な改善を導
くことができる。Therefore, the content of Fe is 10 wt% to 15%.
By setting it to about wt%, the most effective improvement can be led to both the brightness characteristic and the landing change amount.
【００４０】以上のように、実施の形態３の金属薄膜形
成方法によれば、ＡｌとＦｅとを所定の割合で混合した
混合蒸着材料を所定のヒーターパワーで蒸着することに
より、輝度特性及びランディング変化量の両方に対して
最も効果的な改善を導くことができる。As described above, according to the method for forming a metal thin film of the third embodiment, the mixed vapor deposition material in which Al and Fe are mixed in a predetermined ratio is vapor-deposited with a predetermined heater power to obtain the brightness characteristic and the landing. The most effective improvement can be derived for both of the changes.
【００４１】尚、前記した実施の形態では、金属薄膜を
形成する蒸着材料としてＡｌとＦｅを用いたが、これに
限定されるものではなく、同様の効果が得られるもので
あれば、種々の材料を採用してもよいなど、種々の態様
をとり得るものである。In the above-described embodiment, Al and Fe are used as the vapor deposition material for forming the metal thin film, but the present invention is not limited to this, and various other materials can be used as long as the same effect can be obtained. It may take various forms, such as materials may be adopted.
【００４２】[0042]
【発明の効果】請求項１のカラー陰極線管によれば、色
選別電極の保持機構部に頼らずに、色選別電極の温度上
昇を抑制して色選別電極の熱膨張による電子ビームの到
達位置ずれによって生じるランディング経時変化を低減
させることが可能となる。According to the color cathode ray tube of the first aspect, the arrival position of the electron beam due to the thermal expansion of the color selection electrode is suppressed by suppressing the temperature rise of the color selection electrode without depending on the holding mechanism of the color selection electrode. It is possible to reduce the landing change with time caused by the shift.
【００４３】請求項２のカラー陰極線管によれば、高反
射率膜で蛍光面の発光を反射して陰極線管の輝度を上
げ、低反射率膜で色選別電極の熱を奪ってランディング
経時変化を抑制することができる。According to the color cathode ray tube of claim 2, the high reflectance film reflects the light emitted from the phosphor screen to increase the brightness of the cathode ray tube, and the low reflectance film absorbs heat from the color selection electrode to change the landing with time. Can be suppressed.
【００４４】請求項３のカラー陰極線管によれば、容易
に入手可能な材料を使用することによって、材料費のコ
ストアップを抑制することができる。According to the color cathode ray tube of the third aspect, by using a material that is easily available, it is possible to suppress an increase in material cost.
【００４５】請求項４の金属膜の形成方法によれば、１
つの蒸着工程で、蛍光面の上層に反射率の異なる２つの
薄膜層を形成することができるため、本発明を実施する
際に特別の装置或いは製造コストを新たに見込む必要が
ない。According to the method for forming a metal film of claim 4, 1
Since two thin film layers having different reflectances can be formed on the upper surface of the phosphor screen in one vapor deposition step, it is not necessary to newly estimate a special device or manufacturing cost when implementing the present invention.
【００４６】請求項５、６の金属膜の形成方法によれ
ば、実験結果に基づいて成分比率を設定するため、輝度
特性及びランディング変化量の両方に対して最も効果的
な改善を導くことができる。According to the metal film forming method of the fifth and sixth aspects, since the component ratio is set based on the experimental result, the most effective improvement can be brought about both the luminance characteristic and the landing change amount. it can.
【図１】 本発明によるカラー陰極線管の金属薄膜１０
の構成を示す実施の形態１の部分拡大断面図である。FIG. 1 is a metal thin film 10 of a color cathode ray tube according to the present invention.
3 is a partially enlarged cross-sectional view of the first embodiment showing the configuration of FIG.
【図２】 金属薄膜１０の膜厚方向の各位置における、
ＡｌとＦｅの割合を示すグラフである。FIG. 2 is a diagram showing the positions of the metal thin film 10 in the film thickness direction,
It is a graph which shows the ratio of Al and Fe.
【図３】 本発明の金属薄膜形成方法による実施の形態
２の形成方法を説明するための蒸着装置の概略図であ
る。FIG. 3 is a schematic diagram of a vapor deposition apparatus for explaining the forming method of the second embodiment according to the metal thin film forming method of the present invention.
【図４】 加熱蒸着部１７から複合蒸着材料１８に印加
するヒーターパワーの制御過程を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a control process of heater power applied to the composite vapor deposition material 18 from the heating vapor deposition unit 17.
【図５】 ヒーターパワーの変化に伴なって、蛍光面３
上に形成される金属薄膜１０の内部成分の変化の様子を
示す。FIG. 5: As the heater power changes, the fluorescent screen 3
The state of changes in the internal components of the metal thin film 10 formed above is shown.
【図６】 Ｆｅの含有割合（質量）を種々に設定して金
属薄膜１０を形成したときの輝度劣化割合及びランディ
ング経時変化量割合の変化を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing changes in the luminance deterioration rate and the landing aging change rate when the metal thin film 10 is formed by variously setting the Fe content ratio (mass).
【図７】 従来のカラー陰極線管の特にフェースプレー
トパネル１の内部の要部構成を示す概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a main configuration of a conventional color cathode ray tube, particularly inside a face plate panel 1.
１ フェースプレートパネル、 ２ 蛍光面、 ３ 色
選別電極、 ４ 色選別電極構体、 ５ 金属反射膜、
６ 保持機構部、 ７ ファンネル部、 ８ネック
部、 ９ 電子銃、 １０ 金属薄膜、 １０ａ 対接
面、 １０ｂ表面、 １１ カラー陰極線管、 １５
蒸着装置、 １６ 真空チャンバ、１７ 加熱蒸発部、
１８，１９ 混合蒸着材料。1 face plate panel, 2 fluorescent screen, 3 color selection electrode, 4 color selection electrode structure, 5 metal reflective film,
6 holding mechanism part, 7 funnel part, 8 neck part, 9 electron gun, 10 metal thin film, 10a contact surface, 10b surface, 11 color cathode ray tube, 15
Vapor deposition equipment, 16 vacuum chambers, 17 heating / evaporating section,
18,19 Mixed evaporation material.
Claims (6)
部、及びネック部が一体となってガラス真空外囲器を形
成するカラー陰極線管において、 前記フェースプレートパネルの内部面に形成された蛍光
面と、 該蛍光面の上層に形成された金属薄膜と、 前記ガラス真空外囲器内の、前記蛍光面に近接する所定
位置に配設された色選別電極とを有し、 前記金属薄膜を、その膜厚方向において、それぞれが反
射率の異なる少なくとも２種類の金属材料によって形成
された薄膜が重なる多層構成としたことを特徴とするカ
ラー陰極線管。1. A color cathode ray tube in which a face plate panel, a funnel portion, and a neck portion are integrally formed to form a glass vacuum envelope, wherein a fluorescent screen formed on an inner surface of the face plate panel, A metal thin film formed in the upper layer of the surface, and a color selection electrode disposed at a predetermined position in the glass vacuum envelope in the vicinity of the fluorescent screen, the metal thin film in the film thickness direction 2. A color cathode ray tube according to claim 1, which has a multilayer structure in which thin films formed of at least two kinds of metal materials having different reflectances overlap each other.
を高反射率の金属材料で形成した高反射率膜と、前記色
選別電極に対向する面を低反射率の金属材料で形成した
低反射率膜とを有する多層構造となっていること特徴と
する請求項１記載のカラー陰極線管。2. The metal thin film has a high-reflectance film in which a surface in contact with the phosphor screen is made of a metal material having a high reflectance, and a surface facing the color selection electrode is made of a metal material in a low reflectance. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the color cathode ray tube has a multi-layered structure having a low reflectance film.
記低反射率の金属材料をＦｅとしたことを特徴とする請
求項２記載のカラー陰極線管。3. The color cathode ray tube according to claim 2, wherein the metallic material having a high reflectance is Al and the metallic material having a low reflectance is Fe.
であって、 前記高反射率の金属材料と前記低反射率の金属材料とを
含む蒸着材料を真空蒸着法によって前記蛍光面上に蒸着
させる際に、 前記蒸着材料に対して、先ず前記高反射率の金属材料の
みが蒸発して蒸着可能な温度となるようにヒーターパワ
ーを設定して所定の膜厚の前記高反射率膜を形成し、そ
の後、低反射率の金属材料が蒸発して蒸着可能な温度と
なるようにヒーターパワーをアップさせることを特徴と
する金属薄膜の形成方法。4. The method for forming the metal thin film according to claim 2, wherein a vapor deposition material including the metal material having high reflectance and the metal material having low reflectance is vacuum-deposited on the phosphor screen. At the time of vapor deposition, the heater power is set so that only the metal material having high reflectance is vaporized to a temperature at which vapor deposition is possible with respect to the vapor deposition material to form the high reflectance film having a predetermined thickness. A method for forming a metal thin film, which comprises forming and then increasing a heater power so that a metal material having a low reflectance is vaporized to a temperature at which vapor deposition is possible.
と前記低反射率の金属材料とから形成され、前記低反射
率の金属材料が１０ｗｔ％〜１５ｗｔ％程度含まれるこ
とを特徴とする請求項４記載の金属薄膜の形成方法。5. The vapor deposition material is formed of the high reflectance metal material and the low reflectance metal material, and the low reflectance metal material is contained in an amount of about 10 wt% to 15 wt%. The method for forming a metal thin film according to claim 4.
記低反射率の金属材料をＦｅとしたことを特徴とする請
求項５記載の金属薄膜の形成方法。6. The method for forming a metal thin film according to claim 5, wherein the metal material having a high reflectance is Al and the metal material having a low reflectance is Fe.
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