JP2003246643A - ガラス粉末、焼成体およびガラス粉末製造方法 - Google Patents
ガラス粉末、焼成体およびガラス粉末製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C12/00—Powdered glass; Bead compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
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- Glass Compositions (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】焼成時の収縮が小さいガラス粉末の提供。
【解決手段】質量百分率表示で、ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋
Ｂｉ２Ｏ３ ２０〜９８％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１８％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜７７
％、ＰｂＯ ０〜７５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ
０〜３０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２ ０〜１９％、Ｓｎ
Ｏ２＋ＣｅＯ２＋ＣｕＯ ０〜５％、から本質的になる
ガラス粉末であって、体積基準平均径Ｄ５０が１．５μ
ｍ以上、かつ気体吸着ＢＥＴ法による比表面積Θが６ｍ
２／ｇ以上であるガラス粉末。
Ｂｉ２Ｏ３ ２０〜９８％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１８％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜７７
％、ＰｂＯ ０〜７５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ
０〜３０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２ ０〜１９％、Ｓｎ
Ｏ２＋ＣｅＯ２＋ＣｕＯ ０〜５％、から本質的になる
ガラス粉末であって、体積基準平均径Ｄ５０が１．５μ
ｍ以上、かつ気体吸着ＢＥＴ法による比表面積Θが６ｍ
２／ｇ以上であるガラス粉末。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品の製造等
に好適なガラス粉末、および電子部品の絶縁層等に好適
な焼成体に関する。
に好適なガラス粉末、および電子部品の絶縁層等に好適
な焼成体に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス粉末はたとえば、電子部品の製造
において封着材料、被覆材料、結合材料、基板材料等と
して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または自
動車用窓ガラスの製造において被覆材料等として広く用
いられている。
において封着材料、被覆材料、結合材料、基板材料等と
して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または自
動車用窓ガラスの製造において被覆材料等として広く用
いられている。
【０００３】ガラス粉末を気密封着に用いる場合、たと
えばこれにバインダを加えて顆粒状にしたものを所望の
形状にプレス成形し、仮焼してバインダを分解後、封着
すべき部分にセットし焼成する。ガラス粉末は焼成され
て焼成体となり、当該封着すべき部分を気密に封着す
る。
えばこれにバインダを加えて顆粒状にしたものを所望の
形状にプレス成形し、仮焼してバインダを分解後、封着
すべき部分にセットし焼成する。ガラス粉末は焼成され
て焼成体となり、当該封着すべき部分を気密に封着す
る。
【０００４】ガラス粉末を被覆に用いる場合、たとえば
これをビヒクルと混錬してペーストとし、スクリーン印
刷法等によって被覆すべき部分に塗布し、焼成する。ガ
ラス粉末は焼成されて焼成体となり、当該被覆すべき部
分を被覆する。
これをビヒクルと混錬してペーストとし、スクリーン印
刷法等によって被覆すべき部分に塗布し、焼成する。ガ
ラス粉末は焼成されて焼成体となり、当該被覆すべき部
分を被覆する。
【０００５】ハイブリッドＩＣ（ＨＩＣ）等をグリーン
シート法によって製造する場合、グリーンシート上にス
クリーン印刷法等によって多層構造の電子回路パターン
が形成される。ＨＩＣのクロスオーバー層およびオーバ
ーコート層にはガラス粉末を焼成した焼成体が用いられ
るが、当該焼成体はガラス粉末にビヒクルを加えてペー
スト化し、これをスクリーン印刷法等によってグリーン
シート上に塗布したものを積層し、焼成して得られる。
このような用途に用いられるガラス粉末は従来、調合さ
れた原料を溶解して溶融ガラスとし、これを冷却後粉砕
する方法によって製造されている。
シート法によって製造する場合、グリーンシート上にス
クリーン印刷法等によって多層構造の電子回路パターン
が形成される。ＨＩＣのクロスオーバー層およびオーバ
ーコート層にはガラス粉末を焼成した焼成体が用いられ
るが、当該焼成体はガラス粉末にビヒクルを加えてペー
スト化し、これをスクリーン印刷法等によってグリーン
シート上に塗布したものを積層し、焼成して得られる。
このような用途に用いられるガラス粉末は従来、調合さ
れた原料を溶解して溶融ガラスとし、これを冷却後粉砕
する方法によって製造されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ガラスを粉砕して製造
されたガラス粉末には、焼成体に亀裂が入る、焼成体の
寸法精度が低い、焼成体表面に凹凸が発生しやすい、等
の問題が生じることがあった。本発明は上記問題を解決
できるガラス粉末の提供を目的とする。
されたガラス粉末には、焼成体に亀裂が入る、焼成体の
寸法精度が低い、焼成体表面に凹凸が発生しやすい、等
の問題が生じることがあった。本発明は上記問題を解決
できるガラス粉末の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記酸化物基
準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ｂｉ２Ｏ
３ ２０〜９８％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１８％、ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜７７％、ＰｂＯ
０〜７５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ０〜３０
％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２ ０〜１９％、ＳｎＯ２＋Ｃｅ
Ｏ２＋ＣｕＯ０〜５％、から本質的になるガラス粉末で
あって、体積基準平均径Ｄ５０が１．５μｍ以上、かつ
気体吸着ＢＥＴ法による比表面積Θが６ｍ２／ｇ以上で
あることを特徴とするガラス粉末を提供する。
準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ｂｉ２Ｏ
３ ２０〜９８％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１８％、ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜７７％、ＰｂＯ
０〜７５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ０〜３０
％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２ ０〜１９％、ＳｎＯ２＋Ｃｅ
Ｏ２＋ＣｕＯ０〜５％、から本質的になるガラス粉末で
あって、体積基準平均径Ｄ５０が１．５μｍ以上、かつ
気体吸着ＢＥＴ法による比表面積Θが６ｍ２／ｇ以上で
あることを特徴とするガラス粉末を提供する。
【０００８】また、前記ガラス粉末を含有する無機物粉
末を焼成して得られる焼成体を提供する。また、前記ガ
ラス粉末を製造する方法であって、原料粉末を可燃性液
体に分散させてスラリーとし、該スラリーを液滴状にし
て燃焼させ、前記原料粉末を溶解することを特徴とする
ガラス粉末製造方法を提供する。本発明者は前記問題が
ガラス粉末焼成時の収縮が大きいために起こると考え、
本発明に至った。
末を焼成して得られる焼成体を提供する。また、前記ガ
ラス粉末を製造する方法であって、原料粉末を可燃性液
体に分散させてスラリーとし、該スラリーを液滴状にし
て燃焼させ、前記原料粉末を溶解することを特徴とする
ガラス粉末製造方法を提供する。本発明者は前記問題が
ガラス粉末焼成時の収縮が大きいために起こると考え、
本発明に至った。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明のガラス粉末は通常、次の
ような処理を経た後に焼成して使用される。すなわち、
ガラス粉末をプレス成形してプレス成型体とする、ガラ
ス粉末をペースト化またはスラリー化しこれを基体、グ
リーンシート等に塗布する、等の処理を経た後に焼成さ
れ、焼成体とされる。
ような処理を経た後に焼成して使用される。すなわち、
ガラス粉末をプレス成形してプレス成型体とする、ガラ
ス粉末をペースト化またはスラリー化しこれを基体、グ
リーンシート等に塗布する、等の処理を経た後に焼成さ
れ、焼成体とされる。
【００１０】前記焼成されるものはガラス粉末を必須成
分として含有するが、必要に応じてガラス粉末以外の無
機物の粉末を含有してもよい。このような無機物の粉末
としてはセラミックスフィラー、耐熱無機顔料等が例示
される。
分として含有するが、必要に応じてガラス粉末以外の無
機物の粉末を含有してもよい。このような無機物の粉末
としてはセラミックスフィラー、耐熱無機顔料等が例示
される。
【００１１】本発明のガラス粉末は、そのガラス転移点
をＴＧとしたときに、下記方法によって測定された温度
ＴＢにおける焼成収縮率ＳがＴＢ＝ＴＧ＋３２０℃また
はＴ Ｂ＝ＴＧ＋３５０℃において８％以下であることが
好ましい。
をＴＧとしたときに、下記方法によって測定された温度
ＴＢにおける焼成収縮率ＳがＴＢ＝ＴＧ＋３２０℃また
はＴ Ｂ＝ＴＧ＋３５０℃において８％以下であることが
好ましい。
【００１２】（方法）
（１）内径が１５ｍｍである円筒状プレス金型にガラス
粉末１．５ｇを入れ、２５０ｋＰａでプレスして直径１
５ｍｍの円柱状ガラス粉末プレス体を作製する。 （２）前記プレス体を速度１０℃／分で昇温し、ＴＢに
１０分間保持後、速度１０℃／分で降温し焼成体を作製
する。 （３）前記焼成体の直径Ｘ（ｍｍ）を測定し、Ｓ＝（１
５−Ｘ）×１００／１５を算出する。
粉末１．５ｇを入れ、２５０ｋＰａでプレスして直径１
５ｍｍの円柱状ガラス粉末プレス体を作製する。 （２）前記プレス体を速度１０℃／分で昇温し、ＴＢに
１０分間保持後、速度１０℃／分で降温し焼成体を作製
する。 （３）前記焼成体の直径Ｘ（ｍｍ）を測定し、Ｓ＝（１
５−Ｘ）×１００／１５を算出する。
【００１３】ＴＢ＝ＴＧ＋３２０℃またはＴＢ＝ＴＧ＋
３５０℃におけるＳが８％超では、（ＴＧ＋１５０℃）
〜（ＴＧ＋４００℃）、特に（ＴＧ＋３００℃）〜（Ｔ
Ｇ＋３５０℃）の範囲の温度で焼成したときに焼成体に
亀裂が入る等の問題が起こるおそれがある。より好まし
くは６％以下、特に好ましくは４％以下である。前記Ｔ
Ｇ は示差熱分析（ＤＴＡ）によって測定され、典型的に
は４００〜７５０℃である。ＤＴＡにおける昇温速度は
１０℃／分である。
３５０℃におけるＳが８％超では、（ＴＧ＋１５０℃）
〜（ＴＧ＋４００℃）、特に（ＴＧ＋３００℃）〜（Ｔ
Ｇ＋３５０℃）の範囲の温度で焼成したときに焼成体に
亀裂が入る等の問題が起こるおそれがある。より好まし
くは６％以下、特に好ましくは４％以下である。前記Ｔ
Ｇ は示差熱分析（ＤＴＡ）によって測定され、典型的に
は４００〜７５０℃である。ＤＴＡにおける昇温速度は
１０℃／分である。
【００１４】本発明のガラス粉末を焼成する温度は通
常、（ＴＧ＋１５０℃）〜（ＴＧ＋４００℃）である。
（ＴＧ＋１５０℃）未満では焼成体の焼結性が低下する
おそれがある。より典型的には（ＴＧ＋２００℃）以上
である。（ＴＧ＋４００℃）超では焼成時の軟化流動が
大きくなるおそれがある。より典型的には（ＴＧ＋３５
０℃）以下である。
常、（ＴＧ＋１５０℃）〜（ＴＧ＋４００℃）である。
（ＴＧ＋１５０℃）未満では焼成体の焼結性が低下する
おそれがある。より典型的には（ＴＧ＋２００℃）以上
である。（ＴＧ＋４００℃）超では焼成時の軟化流動が
大きくなるおそれがある。より典型的には（ＴＧ＋３５
０℃）以下である。
【００１５】本発明のガラス粉末の体積基準平均径Ｄ
５０は１．５μｍ以上である。１．５μｍ未満では焼成
体中の残存泡が増加し、焼成体の強度が低下する、焼成
体の電気絶縁性が低下する等の問題が起こるおそれがあ
る。好ましくは２μｍ以上である。また、Ｄ５０は４μ
ｍ以下であることが好ましい。４μｍ超では、焼結性が
低下し、かえって焼成体の強度が低下する、焼成体の電
気絶縁性が低下する等の問題が起こるおそれがある。よ
り好ましくは３μｍ以下である。
５０は１．５μｍ以上である。１．５μｍ未満では焼成
体中の残存泡が増加し、焼成体の強度が低下する、焼成
体の電気絶縁性が低下する等の問題が起こるおそれがあ
る。好ましくは２μｍ以上である。また、Ｄ５０は４μ
ｍ以下であることが好ましい。４μｍ超では、焼結性が
低下し、かえって焼成体の強度が低下する、焼成体の電
気絶縁性が低下する等の問題が起こるおそれがある。よ
り好ましくは３μｍ以下である。
【００１６】体積基準で、積算ふるい下１０％径Ｄ１０
は１μｍ以上であることが好ましい。１μｍ未満では焼
成体中の残存泡が増加するおそれがある。より好ましく
は１．４μｍ以上である。また、積算ふるい下９０％径
Ｄ９０は５μｍ以下であることが好ましい。５μｍ超で
は焼結性が低下するおそれがある。より好ましくは４．
５μｍ以下である。Ｄ１０が１μｍ以上かつＤ９０が５
μｍ以下であることがより好ましい。なお、Ｄ１０、Ｄ
５０およびＤ９０は、たとえばレーザー散乱式粒度測定
装置によって測定した粒度分布から求められる。
は１μｍ以上であることが好ましい。１μｍ未満では焼
成体中の残存泡が増加するおそれがある。より好ましく
は１．４μｍ以上である。また、積算ふるい下９０％径
Ｄ９０は５μｍ以下であることが好ましい。５μｍ超で
は焼結性が低下するおそれがある。より好ましくは４．
５μｍ以下である。Ｄ１０が１μｍ以上かつＤ９０が５
μｍ以下であることがより好ましい。なお、Ｄ１０、Ｄ
５０およびＤ９０は、たとえばレーザー散乱式粒度測定
装置によって測定した粒度分布から求められる。
【００１７】本発明のガラス粉末の気体吸着ＢＥＴ法に
よる比表面積Θは６ｍ２／ｇ以上である。６ｍ２／ｇ未
満では前記Ｓが大きくなる。好ましくは７ｍ２／ｇ以上
である。また、Θは典型的には１５ｍ２／ｇ以下であ
る。なお、Θはたとえば周知のＢＥＴ式比表面積測定１
点法によって測定される。
よる比表面積Θは６ｍ２／ｇ以上である。６ｍ２／ｇ未
満では前記Ｓが大きくなる。好ましくは７ｍ２／ｇ以上
である。また、Θは典型的には１５ｍ２／ｇ以下であ
る。なお、Θはたとえば周知のＢＥＴ式比表面積測定１
点法によって測定される。
【００１８】本発明のガラス粉末において、最大径が２
〜４μｍであるガラス粒子のＷａｄｅｌｌの実用球形度
Ψは０．８５以上であることが好ましい。０．８５未満
では前記Ｓが大きくなるおそれがある。より好ましくは
０．９０以上である。
〜４μｍであるガラス粒子のＷａｄｅｌｌの実用球形度
Ψは０．８５以上であることが好ましい。０．８５未満
では前記Ｓが大きくなるおそれがある。より好ましくは
０．９０以上である。
【００１９】Ψは、最大径が２〜４μｍであるガラス粒
子５個以上についてレーザー顕微鏡（倍率：１０００
倍）を用いて求めた各ガラス粒子の投影面積に等しい面
積を有する円の直径ｄと当該ガラス粒子の投影像に外接
する最小円の直径Ｄとから算出される各ガラス粒子のｄ
／Ｄの平均である。なお、Ｄは前記最大径に相当する。
子５個以上についてレーザー顕微鏡（倍率：１０００
倍）を用いて求めた各ガラス粒子の投影面積に等しい面
積を有する円の直径ｄと当該ガラス粒子の投影像に外接
する最小円の直径Ｄとから算出される各ガラス粒子のｄ
／Ｄの平均である。なお、Ｄは前記最大径に相当する。
【００２０】本発明のガラス粉末は、先に述べたよう
に、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｍ
ｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｌｉ
２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ
２、ＣｅＯ２およびＣｕＯから本質的になるが、その他
の成分をガラス粉末使用目的を損なわない範囲で含有し
てもよい。当該その他成分の質量百分率表示の含有量の
合計は１０％以下であることが好ましい。なお、ＰｂＯ
は環境に負荷をかけるおそれがあるので、含有しないこ
とが好ましい。
に、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｍ
ｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｌｉ
２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ
２、ＣｅＯ２およびＣｕＯから本質的になるが、その他
の成分をガラス粉末使用目的を損なわない範囲で含有し
てもよい。当該その他成分の質量百分率表示の含有量の
合計は１０％以下であることが好ましい。なお、ＰｂＯ
は環境に負荷をかけるおそれがあるので、含有しないこ
とが好ましい。
【００２１】以下、ガラス粉末の各成分の含有量は質量
百分率表示で示す。また、たとえば「Ａｌ２Ｏ３ ０〜
１８％」は、Ａｌ２Ｏ３を含有しない、またはＡｌ２Ｏ
３を含有する場合その含有量は１８％以下であることを
意味する。
百分率表示で示す。また、たとえば「Ａｌ２Ｏ３ ０〜
１８％」は、Ａｌ２Ｏ３を含有しない、またはＡｌ２Ｏ
３を含有する場合その含有量は１８％以下であることを
意味する。
【００２２】本発明のガラス粉末をＨＩＣ・クロスオー
バーガラスペースト、ＨＩＣ・多層絶縁ガラスペース
ト、プリントヘッド用オーバーコートペースト等に用い
る場合、ＳｉＯ２ ２０〜４５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１６
％、Ａｌ２Ｏ３ ３〜１８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ
＋ＢａＯ １８〜５０％、ＺｎＯ ５〜３０％、ＴｉＯ
２ ０〜１５％、ＺｒＯ２ ０〜４％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ
２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜２％、ＳｎＯ２ ０〜２％、から本
質的になることが好ましい。
バーガラスペースト、ＨＩＣ・多層絶縁ガラスペース
ト、プリントヘッド用オーバーコートペースト等に用い
る場合、ＳｉＯ２ ２０〜４５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１６
％、Ａｌ２Ｏ３ ３〜１８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ
＋ＢａＯ １８〜５０％、ＺｎＯ ５〜３０％、ＴｉＯ
２ ０〜１５％、ＺｒＯ２ ０〜４％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ
２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜２％、ＳｎＯ２ ０〜２％、から本
質的になることが好ましい。
【００２３】本発明のガラス粉末をＨＩＣ・オーバーコ
ートペースト等に用いる場合、ＳｉＯ２ ０〜３５％、
Ｂ２Ｏ３ ０〜２５％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜２％、Ｂｉ２
Ｏ３２０〜９０％、ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜５０％、Ｔｉ
Ｏ２ ０〜１０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜
１２％、ＳｎＯ２ ０〜１％、ＣｅＯ２ ０〜２％、か
ら本質的になることが好ましい。
ートペースト等に用いる場合、ＳｉＯ２ ０〜３５％、
Ｂ２Ｏ３ ０〜２５％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜２％、Ｂｉ２
Ｏ３２０〜９０％、ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜５０％、Ｔｉ
Ｏ２ ０〜１０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜
１２％、ＳｎＯ２ ０〜１％、ＣｅＯ２ ０〜２％、か
ら本質的になることが好ましい。
【００２４】本発明のガラス粉末を電子部品用抵抗ペー
スト、センサー気密封着用フリット、金属、セラミック
ス等の封着または接着に用いるフリット、等に用いる場
合、ＳｉＯ２ ５〜３５％、Ｂ２Ｏ３ １５〜３５％、
Ａｌ２Ｏ３ １〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂ
ａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６６％、ＴｉＯ２０〜５％、Ｚｒ
Ｏ２ ０〜５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜３
０％、ＳｎＯ２ ０〜２％、ＣｅＯ２ ０〜２％、から
本質的になることが好ましい。
スト、センサー気密封着用フリット、金属、セラミック
ス等の封着または接着に用いるフリット、等に用いる場
合、ＳｉＯ２ ５〜３５％、Ｂ２Ｏ３ １５〜３５％、
Ａｌ２Ｏ３ １〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂ
ａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６６％、ＴｉＯ２０〜５％、Ｚｒ
Ｏ２ ０〜５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜３
０％、ＳｎＯ２ ０〜２％、ＣｅＯ２ ０〜２％、から
本質的になることが好ましい。
【００２５】本発明のガラス粉末をガラスセラミックス
多層基板製造等に用いる場合、ＳｉＯ２ ６０〜８０
％、Ｂ２Ｏ３ １７〜３０％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１０
％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、Ｌｉ
２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜３％、から本質的になる
ことが好ましい。
多層基板製造等に用いる場合、ＳｉＯ２ ６０〜８０
％、Ｂ２Ｏ３ １７〜３０％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１０
％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、Ｌｉ
２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜３％、から本質的になる
ことが好ましい。
【００２６】本発明のガラス粉末をＰＤＰ用絶縁ガラス
ペースト等に用いる場合、ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３ ２０〜
４０％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１０％、ＰｂＯ ３５〜７５
％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜２
０％、ＴｉＯ２ ０〜５％、ＳｎＯ２ ０〜２％、Ｃｅ
Ｏ２ ０〜２％、ＣｕＯ ０〜１％、から本質的になる
ことが好ましい。また、ＳｉＯ２ ５〜３５％、Ｂ２Ｏ
３ １５〜３５％、Ａｌ２Ｏ３ １〜１０％、ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６６％、Ｔｉ
Ｏ２ ０〜５％、ＺｒＯ２ ０〜５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ
２Ｏ＋Ｋ２Ｏ０〜３０％、ＳｎＯ２ ０〜２％、ＣｅＯ
２ ０〜２％、から本質的になることも好ましい。
ペースト等に用いる場合、ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３ ２０〜
４０％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１０％、ＰｂＯ ３５〜７５
％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜２
０％、ＴｉＯ２ ０〜５％、ＳｎＯ２ ０〜２％、Ｃｅ
Ｏ２ ０〜２％、ＣｕＯ ０〜１％、から本質的になる
ことが好ましい。また、ＳｉＯ２ ５〜３５％、Ｂ２Ｏ
３ １５〜３５％、Ａｌ２Ｏ３ １〜１０％、ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６６％、Ｔｉ
Ｏ２ ０〜５％、ＺｒＯ２ ０〜５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ
２Ｏ＋Ｋ２Ｏ０〜３０％、ＳｎＯ２ ０〜２％、ＣｅＯ
２ ０〜２％、から本質的になることも好ましい。
【００２７】本発明のガラス粉末を自動車窓ガラス用セ
ラミックカラーペースト等に用いる場合、ＳｉＯ２ １
０〜３５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜２５％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜
２％、Ｂｉ２Ｏ３ ２０〜７０％、ＢａＯ＋ＺｎＯ ０
〜５０％、ＴｉＯ２ ０〜１０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ
＋Ｋ２Ｏ ０〜１２％、ＣｅＯ２ ０〜２％、から本質
的になることが好ましい。
ラミックカラーペースト等に用いる場合、ＳｉＯ２ １
０〜３５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜２５％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜
２％、Ｂｉ２Ｏ３ ２０〜７０％、ＢａＯ＋ＺｎＯ ０
〜５０％、ＴｉＯ２ ０〜１０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ
＋Ｋ２Ｏ ０〜１２％、ＣｅＯ２ ０〜２％、から本質
的になることが好ましい。
【００２８】本発明のガラス粉末は本質的にガラスの粉
末からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で結晶の
粉末を含有してもよい。なお、通常は結晶の粉末を含有
しないことが好ましい。本発明において、ガラス粉末が
結晶の粉末を含有するか否かは、ガラス粉末のＸ線回折
パターンに回折ピークが認められるか否かによる。すな
わち、ガラス粉末のＸ線回折パターンに回折ピークが認
められる場合にガラス粉末が結晶の粉末を含有するとい
う。
末からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で結晶の
粉末を含有してもよい。なお、通常は結晶の粉末を含有
しないことが好ましい。本発明において、ガラス粉末が
結晶の粉末を含有するか否かは、ガラス粉末のＸ線回折
パターンに回折ピークが認められるか否かによる。すな
わち、ガラス粉末のＸ線回折パターンに回折ピークが認
められる場合にガラス粉末が結晶の粉末を含有するとい
う。
【００２９】本発明のガラス粉末が結晶の粉末を含有す
る場合、Ｘ線回折パターンの第１のブロードピークの面
積をｓ、回折ピークの面積をｓ’として、ｓ’／ｓは
０．０５以下である。好ましくは０．０３以下、より好
ましくは０．０２以下、特に好ましくは０．０１以下で
ある。ｓは第１のブロードピークからバックグラウンド
部分を除いた部分の面積である。また、ｓ’はブロード
パターン（ブロードピーク等）部分を含まない部分の回
折ピークの面積であり、回折ピークが複数存在する場合
はそれらの和である。
る場合、Ｘ線回折パターンの第１のブロードピークの面
積をｓ、回折ピークの面積をｓ’として、ｓ’／ｓは
０．０５以下である。好ましくは０．０３以下、より好
ましくは０．０２以下、特に好ましくは０．０１以下で
ある。ｓは第１のブロードピークからバックグラウンド
部分を除いた部分の面積である。また、ｓ’はブロード
パターン（ブロードピーク等）部分を含まない部分の回
折ピークの面積であり、回折ピークが複数存在する場合
はそれらの和である。
【００３０】本発明の焼成体は、本発明のガラス粉末を
含有する無機物粉末を焼成して得られるものであるが、
当該無機物粉末は本発明のガラス粉末のみからなるもの
であってもよいし、ガラス粉末以外の無機物の粉末を含
有してもよい。当該無機物の粉末としてはセラミックス
フィラー、耐熱無機顔料等が例示される。
含有する無機物粉末を焼成して得られるものであるが、
当該無機物粉末は本発明のガラス粉末のみからなるもの
であってもよいし、ガラス粉末以外の無機物の粉末を含
有してもよい。当該無機物の粉末としてはセラミックス
フィラー、耐熱無機顔料等が例示される。
【００３１】本発明のガラス粉末は、本発明のガラス粉
末製造方法（以下本発明の製造方法という。）によって
製造されることが好ましい。次に、本発明の製造方法に
ついて説明する。
末製造方法（以下本発明の製造方法という。）によって
製造されることが好ましい。次に、本発明の製造方法に
ついて説明する。
【００３２】まず、所望の組成のガラス粉末を得られる
ように原料を調合、混合して原料粉末とする。なお、原
料粉末から計算によって求めた組成は必ずしも前記所望
の組成と一致しない。前記原料は酸化物または炭酸塩で
あることが好ましい。また、硫酸塩ではないことが好ま
しい。原料が硫酸塩であると本発明の製造方法によって
製造されたガラス粉末が中空状になるおそれがある。
ように原料を調合、混合して原料粉末とする。なお、原
料粉末から計算によって求めた組成は必ずしも前記所望
の組成と一致しない。前記原料は酸化物または炭酸塩で
あることが好ましい。また、硫酸塩ではないことが好ま
しい。原料が硫酸塩であると本発明の製造方法によって
製造されたガラス粉末が中空状になるおそれがある。
【００３３】前記原料粉末は可燃性液体中に入れて混合
され、当該可燃性液体中に前記原料粉末が分散している
スラリーとされる。この混合の際には、得られるガラス
粉末をより均一なものとするために粉砕することが好ま
しい。前記スラリー中の原料粉末の体積基準平均径は２
μｍ以下であることが好ましい。２μｍ超では後述する
燃焼において原料粉末を溶解してガラス化することが困
難になる。より好ましくは１μｍ以下である。前記可燃
性液体は、取り扱いやすく、燃焼しやすく、さらに好ま
しくは安価なものであれば特に限定されないが、灯油、
重油、アルコール等が例示される。
され、当該可燃性液体中に前記原料粉末が分散している
スラリーとされる。この混合の際には、得られるガラス
粉末をより均一なものとするために粉砕することが好ま
しい。前記スラリー中の原料粉末の体積基準平均径は２
μｍ以下であることが好ましい。２μｍ超では後述する
燃焼において原料粉末を溶解してガラス化することが困
難になる。より好ましくは１μｍ以下である。前記可燃
性液体は、取り扱いやすく、燃焼しやすく、さらに好ま
しくは安価なものであれば特に限定されないが、灯油、
重油、アルコール等が例示される。
【００３４】次に、前記スラリーは二流体ノズル等を用
いて液滴とされ、当該液滴を別途用意された火炎に近づ
け燃焼させる。スラリーを液滴状にして燃焼させる温
度、すなわち前記液滴を燃焼させる温度は（ＴＧ＋１４
００℃）以上であることが好ましい。（ＴＧ＋１４００
℃）未満では原料粉末を溶解してガラス化することが困
難になる。より好ましくは（ＴＧ＋１５００℃）以上、
特に好ましくは（ＴＧ＋１６００℃）以上である。
いて液滴とされ、当該液滴を別途用意された火炎に近づ
け燃焼させる。スラリーを液滴状にして燃焼させる温
度、すなわち前記液滴を燃焼させる温度は（ＴＧ＋１４
００℃）以上であることが好ましい。（ＴＧ＋１４００
℃）未満では原料粉末を溶解してガラス化することが困
難になる。より好ましくは（ＴＧ＋１５００℃）以上、
特に好ましくは（ＴＧ＋１６００℃）以上である。
【００３５】
【実施例】（例１）原料として、珪砂６９ｇ、無水ホウ
酸１６０．５ｇ、アルミナ１３．５ｇ、炭酸カルシウム
３７．５ｇ、炭酸バリウム４５ｇ、酸化亜鉛３４０．５
ｇ、炭酸ナトリウム３６ｇ、炭酸カリウム４０．５ｇ、
酸化第二錫７．５ｇを用意し、これらを十分混合して７
５０ｇの原料粉末を得た。この原料粉末７５０ｇと分散
剤（花王社製ホモゲノールＬ−１８２０）７５ｇとを８
００ｇの灯油に添加し、ボールミルを使用して撹拌回転
数８０ｒｐｍの条件で７時間粉砕した。ボールミルとし
ては、ポットがアルミナ製で内容積は５０００ｍｌ、ボ
ールがアルミナ製で外径１５ｍｍであるものを使用し
た。
酸１６０．５ｇ、アルミナ１３．５ｇ、炭酸カルシウム
３７．５ｇ、炭酸バリウム４５ｇ、酸化亜鉛３４０．５
ｇ、炭酸ナトリウム３６ｇ、炭酸カリウム４０．５ｇ、
酸化第二錫７．５ｇを用意し、これらを十分混合して７
５０ｇの原料粉末を得た。この原料粉末７５０ｇと分散
剤（花王社製ホモゲノールＬ−１８２０）７５ｇとを８
００ｇの灯油に添加し、ボールミルを使用して撹拌回転
数８０ｒｐｍの条件で７時間粉砕した。ボールミルとし
ては、ポットがアルミナ製で内容積は５０００ｍｌ、ボ
ールがアルミナ製で外径１５ｍｍであるものを使用し
た。
【００３６】ボールミル粉砕後、灯油を１７８４ｇ加
え、媒体撹拌ミルを使用して撹拌回転数２５００ｒｐｍ
の条件で２時間湿式粉砕し、灯油中に前記原料粉末が分
散しているスラリーを得た。媒体撹拌ミルとしては、チ
ャンバがジルコニア製でその内容積が１４００ｍｌであ
り、そのチャンバに入れるビーズがジルコニア製でその
平均径が０．５０ｍｍ、その総量が１１２０ｍｌである
ものを使用した。
え、媒体撹拌ミルを使用して撹拌回転数２５００ｒｐｍ
の条件で２時間湿式粉砕し、灯油中に前記原料粉末が分
散しているスラリーを得た。媒体撹拌ミルとしては、チ
ャンバがジルコニア製でその内容積が１４００ｍｌであ
り、そのチャンバに入れるビーズがジルコニア製でその
平均径が０．５０ｍｍ、その総量が１１２０ｍｌである
ものを使用した。
【００３７】前記スラリーから固体粒子を回収しレーザ
ー散乱式粒度測定装置（日機社製、マイクロトラックＨ
ＲＡモデル９３２０−Ｘ１００）を用いて体積基準平均
径を測定したところ０．８μｍであった。
ー散乱式粒度測定装置（日機社製、マイクロトラックＨ
ＲＡモデル９３２０−Ｘ１００）を用いて体積基準平均
径を測定したところ０．８μｍであった。
【００３８】次に前記スラリーを二流体ノズル（アトマ
ックス社製、ＡＭＨ４５Ｓ−ＯＳ型）を用いて液滴と
し、これを火炎に近づけ燃焼させた。燃焼温度は２０７
０℃であった。二流体ノズルに使用する噴霧ガスとして
は圧力が０．３ＭＰａの空気を使用した。また、前記火
炎はたとえばＬＰＧ（液化石油ガス）を使用してパイロ
ットバーナに点火して生成される。
ックス社製、ＡＭＨ４５Ｓ−ＯＳ型）を用いて液滴と
し、これを火炎に近づけ燃焼させた。燃焼温度は２０７
０℃であった。二流体ノズルに使用する噴霧ガスとして
は圧力が０．３ＭＰａの空気を使用した。また、前記火
炎はたとえばＬＰＧ（液化石油ガス）を使用してパイロ
ットバーナに点火して生成される。
【００３９】前記燃焼によって得られた粉末をバグフィ
ルタを用いて回収し、Ｘ線回折測定を行なったところ回
折ピークは認められなかった。すなわち、前記回収され
た粉末はガラス粉末であった。なお、Ｘ線回折測定は、
線源としてＣｕを使用し、管電圧４０ｋＶ、管電流３５
ｍＡの条件で行なった。
ルタを用いて回収し、Ｘ線回折測定を行なったところ回
折ピークは認められなかった。すなわち、前記回収され
た粉末はガラス粉末であった。なお、Ｘ線回折測定は、
線源としてＣｕを使用し、管電圧４０ｋＶ、管電流３５
ｍＡの条件で行なった。
【００４０】このようにして得られたガラス粉末につい
て蛍光Ｘ線法を用いて求めた質量百分率表示組成（単
位：％）を、表１の例１のＳｉＯ２〜ＣｅＯ２の欄に示
す。また、ＤＴＡを用いてＴＧ（単位：℃）を、前記レ
ーザー散乱式粒度測定装置を用いてＤ５０、Ｄ１０、Ｄ
９０（単位：％）を、島津製作所社製比表面積測定装置
（フロソーブ２ ２３００）を用いてΘ（単位：ｍ２／
ｇ）を、最大径が２〜４μｍであるガラス粒子５個を対
象にしてΨを、それぞれ測定した。さらに、８００℃に
おけるＳ（単位：％）を測定した。結果を表１の例１の
各該当欄に示す。
て蛍光Ｘ線法を用いて求めた質量百分率表示組成（単
位：％）を、表１の例１のＳｉＯ２〜ＣｅＯ２の欄に示
す。また、ＤＴＡを用いてＴＧ（単位：℃）を、前記レ
ーザー散乱式粒度測定装置を用いてＤ５０、Ｄ１０、Ｄ
９０（単位：％）を、島津製作所社製比表面積測定装置
（フロソーブ２ ２３００）を用いてΘ（単位：ｍ２／
ｇ）を、最大径が２〜４μｍであるガラス粒子５個を対
象にしてΨを、それぞれ測定した。さらに、８００℃に
おけるＳ（単位：％）を測定した。結果を表１の例１の
各該当欄に示す。
【００４１】（例２）原料として、珪砂１２３ｇ、無水
ホウ酸１７１ｇ、アルミナ２７ｇ、酸化亜鉛２９４ｇ、
炭酸リチウム７６ｇ、炭酸カリウム４５ｇ、酸化第二錫
７ｇ、酸化セリウム７ｇを用意し、これらを十分混合し
て７５０ｇの原料粉末を得た。この原料粉末７５０ｇ
と、例１と同じ分散剤７５ｇとを８００ｇの灯油に添加
し、例１と同じボールミルを使用して撹拌回転数８０ｒ
ｐｍの条件で２４時間粉砕した。
ホウ酸１７１ｇ、アルミナ２７ｇ、酸化亜鉛２９４ｇ、
炭酸リチウム７６ｇ、炭酸カリウム４５ｇ、酸化第二錫
７ｇ、酸化セリウム７ｇを用意し、これらを十分混合し
て７５０ｇの原料粉末を得た。この原料粉末７５０ｇ
と、例１と同じ分散剤７５ｇとを８００ｇの灯油に添加
し、例１と同じボールミルを使用して撹拌回転数８０ｒ
ｐｍの条件で２４時間粉砕した。
【００４２】ボールミル粉砕後、例１と同様にして媒体
撹拌ミルを使用して湿式粉砕し、灯油中に前記原料粉末
が分散しているスラリーを得た。また、当該スラリーか
ら回収した固体粒子の体積基準平均径を例１と同様にし
て測定したところ０．５μｍであった。
撹拌ミルを使用して湿式粉砕し、灯油中に前記原料粉末
が分散しているスラリーを得た。また、当該スラリーか
ら回収した固体粒子の体積基準平均径を例１と同様にし
て測定したところ０．５μｍであった。
【００４３】次に、例１と同様にして前記スラリーを燃
焼させ、得られた粉末をバグフィルタを用いて回収し
た。この回収された粉末は、Ｘ線回折測定の結果ガラス
粉末であった。このようにして得られたガラス粉末につ
いて蛍光Ｘ線法を用いて求めた質量百分率表示組成、Ｔ
Ｇ、Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０、Θ、Ψ、８００℃におけ
るＳを表１の例２の各該当欄に示す。
焼させ、得られた粉末をバグフィルタを用いて回収し
た。この回収された粉末は、Ｘ線回折測定の結果ガラス
粉末であった。このようにして得られたガラス粉末につ
いて蛍光Ｘ線法を用いて求めた質量百分率表示組成、Ｔ
Ｇ、Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０、Θ、Ψ、８００℃におけ
るＳを表１の例２の各該当欄に示す。
【００４４】なお、Ｌｉ２Ｏ含有量は蛍光Ｘ線法によっ
ては測定できないので、ガラス粉末のＬｉ２Ｏ含有量を
前記原料粉末中のＬｉ２Ｏ含有量に等しいとし、その他
の成分の含有量は蛍光Ｘ線法によって得られたデータ、
すなわちＬｉ２Ｏ含有量を０％とみなして得られた含有
量をもとにして算出し、これらから前記質量百分率表示
組成を求めた。下記例４の質量百分率表示組成も同様で
ある。
ては測定できないので、ガラス粉末のＬｉ２Ｏ含有量を
前記原料粉末中のＬｉ２Ｏ含有量に等しいとし、その他
の成分の含有量は蛍光Ｘ線法によって得られたデータ、
すなわちＬｉ２Ｏ含有量を０％とみなして得られた含有
量をもとにして算出し、これらから前記質量百分率表示
組成を求めた。下記例４の質量百分率表示組成も同様で
ある。
【００４５】例１、例２のガラス粉末は、電子部品用抵
抗ペースト、センサー気密封着用フリット、ＰＤＰ用絶
縁ガラスペースト等に好適である。
抗ペースト、センサー気密封着用フリット、ＰＤＰ用絶
縁ガラスペースト等に好適である。
【００４６】（例３、例４）原料として、珪砂４６ｇ、
無水ホウ酸１０７ｇ、アルミナ９ｇ、炭酸カルシウム２
５ｇ、炭酸バリウム３０ｇ、酸化亜鉛２２７ｇ、炭酸ナ
トリウム２４ｇ、炭酸カリウム２７ｇ、酸化第二錫５ｇ
を用意し、これらを十分混合して５００ｇの原料粉末を
得た。
無水ホウ酸１０７ｇ、アルミナ９ｇ、炭酸カルシウム２
５ｇ、炭酸バリウム３０ｇ、酸化亜鉛２２７ｇ、炭酸ナ
トリウム２４ｇ、炭酸カリウム２７ｇ、酸化第二錫５ｇ
を用意し、これらを十分混合して５００ｇの原料粉末を
得た。
【００４７】この原料粉末を白金るつぼに入れて１４０
０℃で溶解し、溶融ガラスを作製した。この溶融ガラス
を冷却ロールで急冷後溶媒として水を使用してボールミ
ルで湿式粉砕した。水を脱水ろ過後、１２０℃で乾燥し
てガラス粉末を得た（例３）。
０℃で溶解し、溶融ガラスを作製した。この溶融ガラス
を冷却ロールで急冷後溶媒として水を使用してボールミ
ルで湿式粉砕した。水を脱水ろ過後、１２０℃で乾燥し
てガラス粉末を得た（例３）。
【００４８】また、例２と同じ原料粉末を用意し、例３
と同様にしてガラス粉末を得た（例４）。例３および例
４はいずれも比較例である。このようにして得られたガ
ラス粉末の、例１、例２と同様にして求めた質量百分率
表示組成、ＴＧ、Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０、Θ、Ψ、８
００℃におけるＳを表１の例３、４の各該当欄に示す。
と同様にしてガラス粉末を得た（例４）。例３および例
４はいずれも比較例である。このようにして得られたガ
ラス粉末の、例１、例２と同様にして求めた質量百分率
表示組成、ＴＧ、Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０、Θ、Ψ、８
００℃におけるＳを表１の例３、４の各該当欄に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【発明の効果】本発明によれば、焼成時の収縮が小さい
ガラス粉末が得られる。
ガラス粉末が得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 田中 正治
千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式
会社内
Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 BB01 CC08 DA01
DA02 DA03 DA04 DA05 DA06
DA07 DA08 DA10 DB01 DB02
DB03 DB04 DC01 DC02 DC03
DC04 DC05 DC06 DC07 DC08
DD01 DE01 DE02 DE03 DE04
DE05 DE06 DE07 DF01 DF02
DF03 DF04 DF05 DF06 DF07
EA01 EA02 EA03 EA04 EA10
EB01 EB02 EB03 EB04 EC01
EC02 EC03 EC04 ED01 ED02
ED03 ED04 ED05 ED06 ED07
EE01 EE02 EE03 EE04 EE05
EE06 EE07 EF01 EF02 EF03
EF04 EF05 EF06 EF07 EG01
EG02 EG03 EG04 EG05 EG06
EG07 FA01 FA10 FB01 FB02
FB03 FB04 FC01 FC02 FC03
FC04 FD01 FE01 FE02 FE03
FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01
FL01 FL02 FL03 GA01 GA02
GA03 GA04 GA05 GA06 GA07
GA08 GA10 GB01 GC01 GD01
GE01 HH01 HH03 HH04 HH05
HH07 HH09 HH11 HH13 HH15
HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05
JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05
KK07 KK10 MM07 MM13 NN30
5G303 AA07 AB12 AB20 BA04 CA02
CB02 CB05 CB25 CB30
Claims (9)
- 【請求項１】下記酸化物基準の質量百分率表示で、Ｓｉ
Ｏ２＋Ｂ２Ｏ３＋Ｂｉ２Ｏ３ ２０〜９８％、Ａｌ２Ｏ
３ ０〜１８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｚ
ｎＯ０〜７７％、ＰｂＯ ０〜７５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ
２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ０〜３０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２ ０〜
１９％、ＳｎＯ２＋ＣｅＯ２＋ＣｕＯ ０〜５％、から
本質的になるガラス粉末であって、体積基準平均径Ｄ
５０が１．５μｍ以上、かつ気体吸着ＢＥＴ法による比
表面積Θが６ｍ２／ｇ以上であることを特徴とするガラ
ス粉末。 - 【請求項２】ＰｂＯを含有しないことを特徴とする請求
項１に記載のガラス粉末。 - 【請求項３】Ｄ５０が２μｍ以上、かつΘが７ｍ２／ｇ
以上である請求項１または２に記載のガラス粉末。 - 【請求項４】請求項１、２または３に記載のガラス粉末
であって、そのガラス転移点をＴＧとしたときに、下記
方法によって測定された温度ＴＢにおける焼成収縮率Ｓ
がＴ Ｂ＝ＴＧ＋３２０℃またはＴＢ＝ＴＧ＋３５０℃に
おいて８％以下であるガラス粉末。 （方法） （１）内径が１５ｍｍである円筒状プレス金型にガラス
粉末１．５ｇを入れ、２５０ｋＰａでプレスして直径１
５ｍｍの円柱状ガラス粉末プレス体を作製する。 （２）前記プレス体を速度１０℃／分で昇温し、ＴＢに
１０分間保持後、速度１０℃／分で降温し焼成体を作製
する。 （３）前記焼成体の直径Ｘ（ｍｍ）を測定し、Ｓ＝（１
５−Ｘ）×１００／１５を算出する。 - 【請求項５】体積基準で、積算ふるい下１０％径Ｄ１０
が１μｍ以上、積算ふるい下９０％径Ｄ９０が５μｍ以
下である請求項１、２、３または４に記載のガラス粉
末。 - 【請求項６】最大径が２〜４μｍである粒子のＷａｄｅ
ｌｌの実用球形度が０．８５以上である請求項１、２、
３、４または５に記載のガラス粉末。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載のガラス粉
末を含有する無機物粉末を焼成して得られる焼成体。 - 【請求項８】請求項１〜６のいずれかに記載のガラス粉
末を製造する方法であって、原料粉末を可燃性液体に分
散させてスラリーとし、該スラリーを液滴状にして燃焼
させ、前記原料粉末を溶解することを特徴とするガラス
粉末製造方法。 - 【請求項９】前記スラリーを液滴状にして燃焼させる温
度が（ＴＧ＋１４００℃）以上であることを特徴とする
請求項８に記載のガラス粉末製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002051387A JP2003246643A (ja) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | ガラス粉末、焼成体およびガラス粉末製造方法 |
| PCT/JP2003/002043 WO2003072519A1 (fr) | 2002-02-27 | 2003-02-25 | Poudre de verre, produit cuit et procede de fabrication de poudre de verre |
| AU2003207111A AU2003207111A1 (en) | 2002-02-27 | 2003-02-25 | Glass powder, fired product and method for producing glass powder |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002051387A JP2003246643A (ja) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | ガラス粉末、焼成体およびガラス粉末製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003246643A true JP2003246643A (ja) | 2003-09-02 |
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ID=27764307
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|---|---|---|---|
| JP2002051387A Pending JP2003246643A (ja) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | ガラス粉末、焼成体およびガラス粉末製造方法 |
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|---|---|
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| AU (1) | AU2003207111A1 (ja) |
| WO (1) | WO2003072519A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2008120655A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Tohoku Univ | ガラス、結晶化ガラス、結晶化ガラスの製造方法及び光触媒部材 |
| JP2009227504A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Admatechs Co Ltd | 球状低融点ガラス組成物粉体及びその製造方法並びに低融点ガラス組成物 |
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| JP2015229628A (ja) * | 2014-06-06 | 2015-12-21 | 旭硝子株式会社 | ガラス粉末、ガラススラリー、および積層型電子部品 |
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