JP2003232920A - 光学フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温高湿での耐久性に優れ、カール及びヘイ
ズが少ない光学フィルム及びその製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 ６０℃の温水に浸漬したときの弾性率が
２８００〜４０００ＭＰａで、かつ、４０℃、９０％Ｒ
Ｈでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ²・２４ｈであるセ
ルロースエステルフィルム上に、直接または他の層を介
して金属酸化物層を有することを特徴とする光学フィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースエステ
ルフィルム上に金属酸化物層を有する光学フィルム及び
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ノートパソコン、携帯電話等のフ
ルカラー化あるいはディスプレイの高精細化等に伴って
反射防止機能、帯電防止機能等の付与された高機能の光
学フィルムが求められている。そのため、例えば、セル
ロースエステルフィルム上に直接あるいは他の層を介し
て金属酸化物等の機能層を設けた光学フィルムが開発さ
れている。本発明において光学フィルムとは、液晶ディ
スプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレ
イ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことで
あり、偏光板用保護フィルム、位相差板、反射板、視野
角拡大フィルム、光学補償フィルム、防眩フィルム、反
射防止フィルム、色補正フィルター、色分解フィルム、
紫外線または赤外線カットフィルム、帯電防止フィルム
あるいは導電性フィルム等を含む。

【０００３】これらの光学フィルムでは、保存中あるい
は経時変化でクラックが発生したり、層間の密着性が劣
化するといった問題がありその改善が求められていた。
この対策として、例えば、特開平１１−１９８２８５
号、特開２００１−５５４０２、特開２００１−１００
０３９では、弾性率が高いもしくは特定の範囲にあるセ
ルロースエステルフィルムを提案しているが、耐久性が
十分とは言えず、さらなる改善が求められていた。ま
た、プラズマＣＶＤでセルロースエステルフィルムを処
理した場合、フィルムに強いカールが発生し、その改善
が求められていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高温
高湿での耐久性に優れ、カール及びヘイズが少ない光学
フィルム及びその製造方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記手段により達成される。

【０００６】１．６０℃の温水に浸漬したときの弾性率
が２８００〜４０００ＭＰａで、かつ、４０℃、９０％
ＲＨでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ²・２４ｈである
セルロースエステルフィルム上に、直接または他の層を
介して金属酸化物層を有することを特徴とする光学フィ
ルム。

【０００７】２．セルロースエステルフィルムが、分子
内に芳香環またはシクロアルキル環を有する多価アルコ
ールエステル、または分子内に芳香環またはシクロアル
キル環を有するグリコレート系可塑剤を含有することを
特徴とする上記１に記載の光学フィルム。

【０００８】３．セルロースエステルフィルム上に紫外
線硬化樹脂層を有し、その上に直接または他の層を介し
て金属酸化物層を有することを特徴とする上記１または
２に記載の光学フィルム。

【０００９】４．紫外線硬化樹脂層がウレタンアクリレ
ート系樹脂を含有することを特徴とする上記３に記載の
光学フィルム。

【００１０】５．紫外線硬化樹脂層が微粒子を含有する
ことを特徴とする上記３または４に記載の光学フィル
ム。

【００１１】６．金属酸化物層がプラズマＣＶＤによっ
て形成されることを特徴とする上記１〜５項のいずれか
１項に記載の光学フィルム。

【００１２】７．上記１〜６のいずれか１項に記載の光
学フィルムを用いることを特徴とする反射防止フィル
ム。

【００１３】８．上記１〜６のいずれか１項に記載の光
学フィルムを用いることを特徴とする偏光板用保護フィ
ルム。

【００１４】９．上記１〜６のいずれか１項に記載の光
学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。

【００１５】１０．６０℃の温水に浸漬したときの弾性
率が２８００〜４０００ＭＰａで、かつ、４０℃、９０
％ＲＨでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ²・２４ｈであ
るセルロースエステルフィルム上に、直接または他の層
を介して、プラズマＣＶＤにより金属酸化物層を形成す
ることを特徴とする光学フィルムの製造方法。

【００１６】１１．セルロースエステルフィルム上に、
微粒子を含有するウレタンアクリレート系紫外線硬化樹
脂層を有し、その上に金属酸化物層を形成することを特
徴とする上記１０に記載の光学フィルムの製造方法。

【００１７】以下本発明について詳細に説明する。本発
明者は鋭意検討を重ねた結果、６０℃の温水に浸漬した
ときの弾性率が２８００〜４０００ＭＰａで、かつ、４
０℃、９０％ＲＨでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ²・
２４ｈであるセルロースエステルフィルムを用いて、こ
の上に直接または他の層を介して金属酸化物層を形成す
ることによって得られた光学フィルムは、金属酸化物層
のクラックが著しく低減され、密着性にも優れているこ
とを見出した。特に金属酸化物層を形成するときに生じ
ていた強いカールを減少させることができた。また、本
発明の光学フィルムはロール状での保管においても巻き
形状の劣化が著しく減少するという効果も確認された。
また、この光学フィルムを用いた偏光板は貼合の際に泡
等の巻き込みが減少し、歩留まりが改善された。

【００１８】特にセルロースエステルフィルム上に金属
酸化物微粒子または金属ハロゲン化物微粒子と有機物微
粒子等の微粒子を有するウレタンアクリレート系紫外線
硬化樹脂層を設け、更にこの上に金属酸化物層を形成し
たものは、カールが著しく低減された。更に偏光板作製
時の泡故障も著しく改善された。

【００１９】以上の問題は、特に膜厚６０μｍ以下の薄
膜光学フィルムで問題であったが、本発明によって著し
く改善することができた。

【００２０】本発明において、６０℃の温水に浸漬した
ときの弾性率（以下吸水弾性率とすることがある）と
は、フィルムを６０℃の温水に３０分浸漬して十分に吸
水させ、温水から取り出した後、１分以内に２３℃、５
５％ＲＨの環境下でＪＩＳ Ｋ７１２７に記載の方法に
従って測定した弾性率を指す。この時の試験片の形状は
１号形試験片で、試験速度は１００ｍｍ／分である。

【００２１】耐久性が要求される高温高湿の水を含んだ
状態ではフィルムは柔らかくなることが多く、通常、吸
水弾性率はドライの状態の弾性率（以下乾燥弾性率とす
ることがある）よりも小さい値になることが多い。

【００２２】また、常温常湿のドライの状態で測定した
乾燥弾性率は必ずしも吸水弾性率と相関しない。これ
は、吸水性の影響等が考えられる。例えば、一般的に吸
水性の大きなフィルムは乾燥時の弾性率は大きいが、水
に浸すと急激に弾性率が低下する現象が見られる。ま
た、同じ吸水率であっても吸水時の弾性率の低下に差が
出ることがあるが、これは水の配位の仕方等の影響であ
ると考えられる。このため、乾燥弾性率では高温高湿に
おけるフィルムの物性を表すことができず、これを制御
するだけでは十分な耐久性を得ることはできなかった。

【００２３】本発明の吸水弾性率は２８００〜４０００
ＭＰａであるが、２９００〜３８００ＭＰａであること
がより好ましい。

【００２４】吸水弾性率を目的の範囲にする方法は特に
限定されないが、例えば、セルロースエステルの分子量
をコントロールする方法、フィルムを架橋する方法、フ
ィルムの吸水率を制御する方法、フィルムの延伸倍率を
制御する方法、可塑剤の添加量を調節する方法、フィル
ム製膜時の乾燥温度を制御してフィルムの結晶化をコン
トロールする方法等が挙げられる。

【００２５】セルロースエステルフィルムの分子量が大
きいと吸水弾性率が大きくなるが、分子量を挙げすぎる
とセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなりすぎる
ため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は
数平均分子量（Ｍｎ）で７０，０００〜２００,０００
のものが好ましく、１００，０００〜２００，０００の
ものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースエ
ステルはＭｗ／Ｍｎ比が３．０未満であるが、好ましく
は１．４〜２．３である。

【００２６】セルロースエステルの平均分子量及び分子
量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定でき
るので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均
分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができ
る。

【００２７】測定条件は以下の通りである。 溶媒： メチレンクロライド カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８
０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した） カラム温度：２５℃ 試料濃度： ０．１質量％ 検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエン
ス社製） ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製） 流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ 校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒ
ｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００
００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用し
た。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好まし
い。

【００２８】セルロースエステルを架橋すると吸水弾性
率が大きくなるが、架橋しすぎるとセルロースエステル
が硬くなりすぎて脆くなる。セルロースエステルを架橋
する手段は特に限定されないが、イソシアネート系架橋
剤を好ましく用いることができる。好ましいイソシアネ
ート系架橋剤として例えば、２，４−トリレンジイソシ
アネート（ＴＤＩ）、４，４′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート
等の芳香環を有するイソシアネート、ｎ−ブチルジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪
族系のイソシアネート、水素添加ＴＤＩ、水素添加ＭＤ
Ｉ等の芳香環に水素添加したイソシアネート等を挙げる
ことができる。またこれらのイソシアネート化合物と活
性水素基含有化合物とを反応させたポリイソシアネート
を用いてもよい。ＴＤＩ、ＭＤＩ等の芳香環を有するイ
ソシアネートを用いると少量で吸水弾性率が向上し、ま
た透湿性も向上するが、添加量を増やすと耐光性が劣化
し、引裂強度が悪くなる。脂肪族系のイソシアネートや
芳香環に水素添加したイソシアネートを用いると芳香環
を有するイソシアネートに比べて耐光性が向上し、また
脂肪族系のイソシアネートでは引裂強度の低下も抑えら
れる。

【００２９】フィルムを延伸すると弾性率が大きくなる
が、フィルム単体の伸縮率が大きくなる。フィルムを延
伸する手段は特に制限はないが、例えば流延方向（以下
ＭＤ方向とする）に延伸する場合にはフィルムを加熱、
または溶剤を含ませた状態で流延方向に張力をかけて搬
送する方法や、フィルムをキャストしたベルトまたはド
ラムから剥離するときの張力を大きくする方法、周速の
異なるロールを用いて搬送し張力を付与する方法等が挙
げられる。幅方向（以下ＴＤ方向とする）に延伸する方
法としては、フィルムを加熱、または溶剤を含ませた状
態でＴＤ方向にテンターで延伸する方法が挙げられる。

【００３０】可塑剤の添加量を減らすと弾性率は大きく
なるが、透湿量が劣化する。フィルムが結晶化すると弾
性率が大きくなる。フィルムを結晶化させる方法として
は特に制限はないが、例えば、フィルムに結晶化温度以
上の熱をかける方法がある。フィルムが溶剤を含んでい
る状態では乾燥している状態よりも結晶化温度が低くな
っているため、より低い温度で結晶化させることができ
る。フィルムの結晶化温度は示差走査熱量計を用いて測
定することができる。結晶化が進みすぎると、フィルム
が硬くなり過ぎるため引裂強度が劣化する。

【００３１】結晶化度とは、Ｘ線回折測定で検出された
回折ピーク強度からブラッグ角２Θ＝１４°の回折強度
を引いた値の和である。走査範囲は２Θ＝５〜３５°で
測定する。結晶化度は２５００〜９０００が好ましく、
３０００〜８０００がより好ましく、３５００〜７５０
０が最も好ましい。

【００３２】本発明に用いられるセルロースエステル
は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ま
しい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂
肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例え
ば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネー
ト、セルロースブチレート等や、特開平１０−４５８０
４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１
９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセ
テートプロピオネート、セルロースアセテートブチレー
ト等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記
記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低
級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテート、セル
ロースアセテートプロピオネートである。これらのセル
ロースエステルは単独あるいは混合して用いることがで
きる。

【００３３】セルローストリアセテートの場合には、平
均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが
好ましく用いられ、更に好ましくは５８．０〜６２．５
％である。

【００３４】セルローストリアセテート以外で好ましい
セルロースエステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を
置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロ
ピオニル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び
（II）を同時に満たすセルロースエステルである。

【００３５】 式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０ 式（II） ０≦Ｘ≦２．５ 中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９のセル
ロースアセテートプロピオネートが好ましい。アシル基
で置換されていない部分は通常水酸基として存在してい
るものである。これらは公知の方法で合成することがで
きる。

【００３６】セルロースエステルは綿花リンター、木材
パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエ
ステルを単独あるいは混合して用いることができる。特
に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがあ
る）から合成されたセルロースエステルを単独あるいは
混合して用いることが好ましい。

【００３７】本発明に用いることのできる可塑剤として
は、例えば多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレ
ート系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エス
テル系可塑剤等を用いることができが、特に好ましくは
多価アルコール系可塑剤、グリコレート系可塑剤であ
る。また、リン酸エステル系可塑剤の添加量はフィルム
に対して６質量％以下とすることが好ましい。

【００３８】多価アルコールエステルは２価以上の脂肪
族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりな
り、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するこ
とが好ましい。

【００３９】本発明に用いられる多価アルコールは次の
一般式（１）で表される。 一般式（１） Ｒ₁−（ＯＨ）_n （ただし、Ｒ₁はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整
数、ＯＨ基はアルコール性、及び／またはフェノール性
水酸基を表す） 好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のよ
うなものをあげることができるが、本発明はこれらに限
定されるものではない。アドニトール、アラビトール、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−
プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロ
ピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２
−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−
ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−
ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチト
ール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５
−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロ
ールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等
を挙げることができる。特に、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメ
チロールプロパン、キシリトールが好ましい。

【００４０】本発明の多価アルコールエステルに用いら
れるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の
脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族
モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカ
ルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保
留性を向上させる点で好ましい。

【００４１】好ましいモノカルボン酸の例としては以下
のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに
限定されるものではない。

【００４２】脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１
〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用い
ることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好
ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含
有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好
ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いるこ
とも好ましい。

【００４３】好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナ
ント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−
エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン
酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パ
ルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカ
ン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチ
ン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラク
セル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、
ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等
の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

【００４４】好ましい脂環族モノカルボン酸の例として
は、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボ
ン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導
体を挙げることができる。

【００４５】好ましい芳香族モノカルボン酸の例として
は、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に
アルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナ
フタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼ
ン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそ
れらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好
ましい。

【００４６】多価アルコールエステルの分子量は特に制
限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、
３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大
きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロ
ースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。

【００４７】多価アルコールエステルに用いられるカル
ボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であっても
よい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステ
ル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよ
い。

【００４８】以下に、多価アルコールエステルの具体的
化合物を示す。

【００４９】

【化１】

【００５０】

【化２】

【００５１】

【化３】

【００５２】

【化４】

【００５３】グリコレート系可塑剤は特に限定されない
が、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するグ
リコレート系可塑剤を好ましく用いることができる。好
ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフ
タリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリ
コレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を用い
ることができる。

【００５４】リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニ
ルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジル
ジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェ
ート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチ
ルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸
エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキ
シエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチル
フタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキ
シルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を用い
ることができる。

【００５５】これらの可塑剤は単独あるいは２種以上混
合して用いることができる。可塑剤の使用量は、セルロ
ースエステルに対して４〜２０質量％が好ましく、６〜
１６質量％が更に好ましく、特に好ましくは８〜１３質
量％である。可塑剤の添加量が多すぎるとフィルムが柔
らかくなりすぎるため吸水弾性率が低下し、添加量が少
なすぎるとフィルムの透湿性が低下する。

【００５６】本発明に用いられるセルロースエステルフ
ィルムの透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで８５０ｇ／ｍ
²・２４ｈ以下であり、好ましくは２０〜８００ｇ／ｍ²
・２４ｈであり、２０〜７５０ｇ／ｍ²・２４ｈである
ことが特に好ましい。透湿度はＪＩＳ Ｚ ０２０８に
記載の方法に従い測定することができる。

【００５７】本発明のセルロースエステルフィルムに
は、必要に応じて紫外線吸収剤、染料、マット剤等の添
加剤を添加してもよい。

【００５８】紫外線吸収剤は液晶の劣化防止の観点か
ら、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ
良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可
視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明
においては、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以
下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更
に好ましくは２％以下である。

【００５９】本発明においては、分子内に芳香族環を２
つ以上有する紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

【００６０】本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限
定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、
ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化
合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系
化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、
無機粉体等が挙げられる。好ましく用いられる紫外線吸
収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ
効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベン
ゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がよ
り少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ま
しい。本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例とし
て、例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
のＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、ＴＩ
ＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶ
ＩＮ３２８等を好ましく用いることができるが、本発明
はこれらに限定されるものではない。

【００６１】紫外線吸収剤は単独で用いてもよいし、２
種以上の混合物であってもよい。また、紫外線吸収剤と
しては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることがで
き、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイ
プの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

【００６２】紫外線吸収剤の添加方法は、アルコールや
メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒に紫外
線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直
接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有
機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエス
テル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してか
らドープに添加する。

【００６３】紫外線吸収剤の使用量は、化合物の種類、
使用条件等により一様ではないが、セルロースエステル
フィルムの乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、セル
ロースエステルフィルムに対して０．５〜４．０質量％
が好ましく、０．６ｇ〜２．０質量％がさらに好まし
い。

【００６４】本発明で用いられるセルロースエステルフ
ィルムには、色味調整のため染料を添加することもでき
る。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料
を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノ
ン系染料が挙げられる。

【００６５】アンスラキノン系染料は、アンスラキノン
の１位から８位迄の位置に任意の置換基を有することが
できる。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキ
シル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げら
れる。

【００６６】本発明には必要に応じてマット剤として酸
化けい素等の微粒子を加えてもよい。マット剤微粒子は
有機物によって表面処理されていることが、フィルムの
ヘイズを低下できるため好ましい。

【００６７】表面処理で好ましい有機物としては、ハロ
シラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン
等が挙げられる。微粒子の平均径が大きい方がマット効
果は大きく、平均径の小さい方は透明性に優れるため、
微粒子の一次粒子の平均径は５〜５０ｎｍが好ましく、
更に好ましくは７〜２０ｎｍである。

【００６８】酸化けい素の微粒子としては特に限定され
ないが、例えば日本アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩ
Ｌ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、
Ｒ９７２ＣＦ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８０５、Ｒ８１
２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等が挙げられ、好ましくはＡ
ＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２
Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８０５、Ｒ８１２等が挙げ
られる。

【００６９】各種添加剤はドープ液にバッチ添加しても
よいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加し
てもよい。特にマット剤は濾過材への負荷を減らすため
に、一部または全量をインライン添加することが好まし
い。

【００７０】添加剤溶解液をインライン添加する場合
は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロー
スエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロー
スエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０
質量部で、より好ましくは、３〜５質量部である。

【００７１】本発明においてインライン添加、混合を行
うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジ
ニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ
−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用
いられる。

【００７２】次に、本発明のセルロースエステルフィル
ムの製造方法について説明する。本発明のセルロースエ
ステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加
剤を溶剤に溶解させてドープ液を形成する工程、ドープ
液を支持体上に流延する工程、流延したドープ液を乾燥
する工程により行われる。

【００７３】ドープ液中のセルロースエステルの濃度
は、濃い方が支持体に流延した後の乾燥負荷が低減でき
て好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃すぎると
濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを
両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、
更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

【００７４】本発明のドープ液で用いられる溶剤は、単
独でも併用でもよいが、セルロースエステルの良溶剤と
貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好まし
く、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点
で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲
は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が３０〜
２質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロ
ースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨
潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義してい
る。そのため、セルロースエステルの平均酢化度によっ
ては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤
として用いるときには、セルロースエステルの酢酸エス
テル（結合酢酸量５５％）、セルロースアセテートプロ
ピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステ
ル（結合酢酸量６０％）では貧溶剤となる。

【００７５】本発明に用いられる良溶剤は特に限定され
ないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物や
ジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル等が挙げられ
る。

【００７６】また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限
定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−
ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好
ましく用いられる。ｎ−ブタノール、シクロヘキサノン
等沸点が８０℃以上の溶剤を用いると乾燥工程での搬送
によって吸水弾性率を上げやすくなるため好ましい。

【００７７】上記記載のドープ液を調製する時の、セル
ロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用
いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧に
おける沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上
でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しな
がら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶
解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロース
エステルを貧溶剤と混合して湿潤あるいは膨潤させた
後、さらに良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用
いられる。

【００７８】加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する
方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法に
よって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好まし
く、例えばジャケットタイプのものは温度コントロール
が容易で好ましい。

【００７９】溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセ
ルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱
温度が高すぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性
が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であ
り、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃
が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰し
ないように調整される。

【００８０】次に、このセルロースエステル溶液を濾紙
等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、
不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好
ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰ま
りが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過
精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１
〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜
０．００６ｍｍの濾材がさらに好ましい。

【００８１】濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材
を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン
（Ｒ）等のプラスチック製の濾材や、ステンレス等の金
属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。

【００８２】ドープ液の濾過は通常の方法で行うことが
できるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶
剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法
が、濾過材前後の差圧（以下、濾圧とすることがある）
の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２
０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５
℃であることが更に好ましい。

【００８３】濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６
ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下で
あることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であること
が更に好ましい。

【００８４】流延（キャスト）工程における支持体は表
面を鏡面仕挙げしたステンレスの無端ベルトもしくはド
ラムが好ましく用いられる。キャスト工程の支持体の表
面温度は０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方
が乾燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎ
ると発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好まし
い支持体温度は０〜４０℃であり、５〜３０℃がさらに
好ましい。支持体の温度を制御する方法は特に制限され
ないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水バッ
トを支持体に接触させる方法がある。温水バットを用い
る方が熱の伝達が効率的に行われるため、支持体の温度
が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる
場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う必要がある
場合がある。

【００８５】セルロースエステルフィルムが良好な平面
性を示すためには、支持体から剥離する際の残留溶媒量
は１０〜１２０％が好ましく、更に好ましくは２０〜４
０％または６０〜１２０％であり、特に好ましくは、２
０〜３０％または７０〜１１５％である。

【００８６】本発明においては、残留溶媒量は下記式で
定義される。 残留溶媒量＝（（加熱処理前質量−加熱処理後の質量）
／加熱処理後質量）×１００（％） 尚、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、フィルム
を１１５℃で１時間の加熱処理を行うことをいう。

【００８７】また、セルロースエステルフィルムの乾燥
工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾
燥し、残留溶媒量を１％以下にすることが好ましい、更
に好ましくは０．１％以下である。

【００８８】フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方
式か、テンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥する
方式が採られる。

【００８９】支持体より剥離した直後の残留溶剤量の多
いところで、テンター方式で幅保持または延伸を行うこ
とが、フィルムの平面性向上の点で好ましい。また、テ
ンターの延伸倍率を大きくすると幅方向の吸水弾性率が
大きくなる。好ましい延伸倍率は１．００〜１．１５倍
であり、１．０１〜１．１２倍が更に好ましい。延伸倍
率１．００とは幅保持のことであり、残留溶剤量が多い
所では乾燥により収縮するため延伸と同様の効果を得る
ことができる。

【００９０】フィルムを乾燥させる手段は特に制限な
く、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等
で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが
好ましい。

【００９１】乾燥温度は４０〜１５０℃で段階的に高く
していくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行う
ことが寸法安定性を良くするためさらに好ましい。ま
た、フィルムの軟化点±２０℃の範囲で１０〜４０分間
乾燥することが、吸水弾性率向上の点で好ましい。フィ
ルムの軟化点±２０℃の乾燥中に搬送張力を制御するこ
とで、流延方向の吸水弾性率をコントロールすることが
できる。好ましい搬送張力の範囲は１５０〜３５０Ｎ／
ｍであり、２００〜３００Ｎ／ｍが更に好ましい。

【００９２】セルロースエステルフィルムの膜厚は、特
に限定はされないが薄い方ができ上がった偏光板が薄く
なり、液晶ディスプレイの薄膜化が容易になるため好ま
しいが、薄すぎると透湿性や引き裂き強度等が劣化す
る。これらを両立するセルロースエステルフィルムの膜
厚は１０〜６５μｍが好ましく、２０〜６０μｍが更に
好ましく、３５〜５０μｍが特に好ましい。

【００９３】次に本発明に係る金属酸化物層について説
明する。本発明では、セルロースエステルフィルム上に
直接または紫外線硬化樹脂層等の他の層の上に金属酸化
物層を形成する。

【００９４】これらの金属酸化物層は、低屈折率層、中
屈折率層、高屈折率層等の反射防止層として有用であ
り、あるいは導電性層や帯電防止層等として好ましく用
いられる。

【００９５】金属酸化物層を形成する方法としては、塗
布により金属酸化物層を設けてもよいが、大気圧もしく
はその近傍の圧力下におけるプラズマＣＶＤが好ましく
用いられる。

【００９６】本発明に係る金属酸化物層の形成に用いら
れるプラズマＣＶＤ装置の一例を示すが、本発明はこれ
らに限定されない。

【００９７】図１は、本発明に用いられるプラズマＣＶ
Ｄ装置の一例を示す図である。回転電極１１０とそれに
対向して配置された複数の固定電極１１１を有し、図示
されていない元巻きロールまたは前工程からから搬送さ
れて来るフィルムＦがガイドロール１２０、ニップロー
ル１２２を経て回転電極１１０に導かれ、フィルムＦは
回転電極１１０に接した状態で回転電極１１０の回転と
同期しながら移送され、大気圧もしくはその近傍の圧力
下にある放電部１５０に反応ガス発生装置１３１で調製
された反応ガスＧが給気管１３０から供給され、固定電
極１１１に対向しているフィルム面に薄膜が形成され
る。ここで、図１では省略されているが、前記給気菅１
３０は前記固定電極１１１の各々の間に設けることが好
ましい。

【００９８】回転電極１１０と固定電極には、プラズマ
放電を発生させるための電圧を印加できる電源１８０が
電力供給手段１８１、１８２を介して接続されている。
また、回転電極１１０、固定電極１１１、放電部１５０
はプラズマＣＶＤ容器１９０で覆われ、外界と遮断され
ている。処理された排ガスＧ′は処理室の下部にあるガ
ス排気口１４０から排出される。プラズマＣＶＤ処理さ
れたフィルムＦはニップロール１２３及びガイドロール
１２１を経て次工程または図示してない巻き取りロール
へ搬送される。フィルムＦがプラズマＣＶＤ容器の出入
り部分のニップロール１２２及び１２３のところに外界
との仕切板１２４及び１２５が設けられており、外界か
らニップロール１２２と共にフィルムＦに同伴して来る
空気を遮断し、また出口においては、反応ガスＧまたは
排ガスＧ′が外界に漏れないようになっている、なお、
図示してないが、必要に応じて、回転電極１１０及び固
定電極１１１は温度調節のための温度制御された媒体
（シリコンオイル等）を循環するようになっている。

【００９９】このように、本発明においては、薄膜が形
成されるフィルムは回転電極上で移送しながらプラズマ
ＣＶＤ処理されるのが好ましい。

【０１００】回転電極がフィルムと接する表面は高い平
滑性が求められ、回転電極の表面の表面粗さがＪＩＳ
Ｂ ０６０１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒｍａ
ｘ）が１０μｍ以下であることが好ましく、より好まし
くは８μｍ以下であり、特に好ましくは、７μｍ以下で
ある。また、ほこり等の付着をできるだけ少なくするこ
とが好ましい。

【０１０１】本発明に用いられる電極の表面は固体誘電
体で被覆されていることが望ましく、特に金属等の導電
性母材に対し固体誘電体で被覆されていることが望まし
い。固体誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレ
ン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスティック、
ガラス、二酸化けい素、酸化アルミニウム（Ａｌ
₂Ｏ₃）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化チタン
（ＴｉＯ₂）等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複
酸化物等を挙げることができる。特に好ましくは、セラ
ミックスを溶射後、無機材料を用いて封孔処理したセラ
ミック被覆処理誘電体であることが望ましい。ここで、
金属等の導電性母材としては、銀、白金、ステンレス、
アルミニウム、鉄、チタン等の金属等を挙げることがで
きるが、特にステンレスまたはチタンが好ましい。ま
た、ライニング材としては、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸
塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系ガラ
ス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バナジ
ン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中でもホ
ウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用いら
れる。

【０１０２】本発明において、電極は、その裏面側（内
側）から、必要に応じて、加熱あるいは冷却することが
できるようになっている。電極がベルトの場合には、そ
の裏面より気体で冷却することもできるが、ロールを用
いた回転電極では内部に媒体を供給して電極表面の温度
及び基材フィルムの温度を制御することが好ましい。媒
体としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用い
られる。フィルムの温度は処理条件によって異なるが、
室温〜２００℃以下が好ましく、より好ましくは室温〜
１２０℃以下である。基材フィルムの温度ムラが生じな
いようにすることが必要である。

【０１０３】本発明において、電極間隙は、固体誘電体
の厚さ、印加電圧や周波数、プラズマを利用する目的等
を考慮して決定される。上記電極の一方に固体誘電体を
設置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極
の双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の
距離としては、いずれの場合も均一な放電プラズマを発
生させるという観点から０．５〜２０ｍｍが好ましく、
特に好ましくは１±０．５ｍｍである。

【０１０４】本発明において、電極間隙の放電部には、
ガス発生装置で発生させた混合ガスを流量制御して、反
応ガス供給口よりプラズマ放電部に導入される。反応ガ
スの濃度や流量は適宜調整されるが、フィルムの搬送速
度に対して十分な速度で処理用ガスを電極間隙に供給す
ることが好ましい。放電部で供給した原料ガスのほとん
どが反応して薄膜形成に使われるように流量や放電条件
が設定するのが望ましい。

【０１０５】放電部に大気が混入したり、反応ガスが装
置外に漏れ出ることを防止するために、電極及び移送中
のフィルムは全体を囲んで外界から遮蔽することが好ま
しい。本発明において、放電部の気圧は大気圧もしくは
その近傍の圧力に維持される。ここで、大気圧近傍と
は、２０〜２００ｋＰａの圧力を表すが、本発明に記載
の効果を好ましく得るためには、９３〜１１０ｋＰａの
圧力が好ましい。

【０１０６】本発明に有用なプラズマＣＶＤ装置では、
一方の電極は電源に接続して電圧を印加し、もう一方の
電極はアースに接地し放電プラズマを発生させることが
安定したプラズマを発生させるために好ましい。

【０１０７】本発明で用いる高周波電源より電極に印加
する電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が０．
５〜１０ｋＶ程度で、印加する周波数は１ｋＨｚ〜１５
０ＭＨｚに調整し、波形はパルス波であってもサイン波
としてもよい。特に周波数を１００ｋＨｚを超えて５０
ＭＨｚ以下とすることが好ましい放電部（放電空間）が
得られるため好ましい。

【０１０８】放電部における放電密度は１Ｗ／ｃｍ²以
上であることが好ましく、特に１．２〜１００Ｗ／ｃｍ
²であることが望ましい。

【０１０９】プラズマＣＶＤ部はパイレックス（Ｒ）ガ
ラス製の処理容器等で適宜囲まれていることが望まし
く、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能
である。例えば、アルミまたは、ステンレスのフレーム
の内面にポリイミド樹脂等を張り付けても良く、該金属
フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよ
い。また、放電部や回転電極の側面部、フィルム搬送部
等の側面を囲むことによって、反応ガスや排ガスを適切
に放電部に供給したり排気することもできる。

【０１１０】本発明に係る薄膜の形成方法に用いられる
反応ガスについて説明する。本発明の光学フィルムの製
造方法において、金属酸化物層等の薄膜を形成するため
の反応ガスは、特に希ガスを含むことが好ましい。つま
り、反応ガスは希ガスと後述の反応性ガスの混合ガスで
あることが好ましい。ここで、希ガスとは、周期表の第
１８属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴ
ン、クリプトン、キセノン、ラドン等を挙げることがで
きるが、本発明においては、中でもヘリウム、アルゴン
を好ましく用いることができ、特にアルゴンが好まし
い。反応ガス中の希ガスの濃度は９０％以上であること
が安定したプラズマ放電を発生させるために好ましく、
９０〜９９．９９体積％であることが望ましい。

【０１１１】希ガスは安定したプラズマ放電を発生させ
るために用いられ、プラズマ中で反応性ガスはイオン化
あるいはラジカル化され、フィルム表面に堆積あるいは
付着する等して薄膜が形成される。

【０１１２】本発明に有用な反応ガスは、様々な物質の
反応性ガスを添加したものを用いることによって、様々
な機能を持った金属酸化物層をフィルム上に形成するこ
とができる。

【０１１３】本発明に有用な反応性ガスとしての有機金
属化合物としては、特に限定されないが、Ａｌ、Ａｇ、
Ａｓ、Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃ
ｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍ
ｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓ
ｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ等の金
属化合物を挙げることができる。

【０１１４】反射防止層の高屈折率層を形成するには、
チタン化合物が好ましく、テトラジメチルアミノチタン
等の有機アミノ金属化合物、モノチタン、ジチタン等の
金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化
チタン等の金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタ
ン等の金属アルコキシド等を用いることが好ましいが、
これらに限定されない。本発明において上記のけい素化
合物や有機金属化合物は、取り扱い上の観点から金属水
素化合物、金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害
ガスの発生がなく、工程上の汚れ等も少ないことから、
金属アルコキシドが好ましく用いられる。本発明におい
て、反応性ガスとして有機金属化合物を用いる場合、プ
ラズマＣＶＤ処理によりフィルム上に均一な薄膜を形成
する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしての有機金
属化合物の含有率は、０．０１〜１０体積％であること
が好ましいが、更に好ましくは、０．１〜５体積％であ
る。また、けい素化合物やチタン化合物を放電部へ導入
するには、両者は常温常圧で気体、液体または固体いず
れの状態であっても使用し得る。気体の場合は、そのま
ま放電部に導入できるが、液体や固体の場合は、加熱、
減圧、超音波照射等の気化手段により気化させて使用す
ることができる。けい素化合物やチタン化合物を加熱に
より気化して用いる場合、テトラエトキシシラン、テト
ライソプロポキシチタン等のように常温で液体で、且つ
沸点が２００℃以下である金属アルコキシドが本発明の
金属酸化物層の形成に好適である。上記金属アルコキシ
ドは、有機溶媒によって希釈して使用しても良く、有機
溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサン
等の有機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用するこ
とができる。更に、反応ガス中に水素または酸素を０．
１〜１０体積％含有させることにより薄膜の硬度を著し
く向上させることができる。

【０１１５】反応性ガスとして、フッ素含有有機化合
物、けい素化合物を用いて反射防止層の低屈折率層或い
は、防汚層を形成することもできる。またはＴｉ、Ｚ
ｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｓｉあるいはその他の金
属を含有する有機金属化合物等を用いて、金属酸化物層
または金属窒化物層等を形成することができ、これらは
反射防止層の中屈折率層や高屈折率層としたり、あるい
は導電層や帯電防止層とすることもできる。さらに、フ
ッ素含有有機化合物で防汚層や低屈折率層を形成するこ
ともでき、けい素化合物でガスバリア層や低屈折率層を
形成することもできる。本発明は、高屈折率層あるいは
中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積層して形成さ
れる反射防止層の形成に特に好ましく用いられる。

【０１１６】本発明で形成される薄膜の膜厚としては、
１〜１０００ｎｍの範囲のものが好ましく得られる。

【０１１７】本発明においては、上記記載のようなフィ
ルム面に対して本発明に係わる金属酸化物層を設ける場
合、平均膜厚に対する膜厚偏差を±８％になるように設
けることができ、より好ましくは±５％以内とすること
ができ、特に±１％以内の均一な薄膜とすることができ
る。また、中心線平均粗さＲａが０．１〜１０ｎｍ程度
の均一な薄膜を得ることができる。

【０１１８】本発明に有用な反応性ガスに用いるフッ素
含有有機化合物としては、フッ化炭素ガス、フッ化炭化
水素ガス等が好ましい。フッ素含有有機化合物として
は、四フッ化炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、
六フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化
炭素化合物；二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ
化プロピレン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブ
タン等のフッ化炭化水素化合物；更に、一塩化三フッ化
メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロ
ブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物やアル
コール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体を挙
げることができる。これらは単独でも混合して用いても
よい。上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メ
タン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化
プロピレン等を挙げることができる。更に、一塩化三フ
ッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シ
クロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物や
アルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体
を用いることができるがこれらに限定されない。また、
これらの化合物が分子内にエチレン性不飽和基を有して
いてもよい。また、上記の化合物は混合して用いてもよ
い。本発明に有用な反応性ガスにフッ素含有有機化合物
を用いる場合、プラズマＣＶＤによりフィルム上に均一
な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスと
してのフッ素含有有機化合物の含有率は、０．０１〜１
０体積％であることが好ましいが、更に好ましくは、
０．１〜５体積％である。

【０１１９】また、本発明に係わるフッ素含有有機化合
物が常温常圧で気体である場合は、反応性ガスの成分と
してそのまま使用できるので最も容易に本発明の方法を
遂行することができる。しかし、フッ素含有有機化合物
が常温常圧で液体または固体である場合には、気化手段
により、例えば加熱、減圧等により気化して使用すれば
よく、適切な有機溶媒に溶解して用いてもよい。また、
噴霧等により気化させてもよい。このようにして作製さ
れたフッ素を含む膜は、低屈折率層あるいは防眩層とし
て好ましく用いられる。

【０１２０】本発明に有用な反応性ガスとしてのけい素
化合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチ
ルシラン等の有機金属化合物、モノシラン、ジシラン等
の金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四フ
ッ化けい素等の金属ハロゲン化合物、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン等のアルコキシシラン、オルガノシラン等を用い
ることが好ましいがこれらに限定されない。また、これ
らは適宜組み合わせて用いることができる。あるいは別
の有機化合物を添加して膜の物性を変化あるいは制御す
ることもできる。本発明において、反応性ガスとしてけ
い素化合物を用いる場合、放電プラズマＣＶＤ処理によ
りフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガ
ス中の反応性ガスとしてのけい素化合物の含有率は、
０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好
ましくは、０．１〜５体積％である。

【０１２１】電極に印加される電圧の値は適宜決定され
るが、例えば、電圧が０．５〜１０ｋＶ程度で、電源周
波数は１ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚに調整される。ここで電
圧の印加法に関しては、連続モードと呼ばれる連続サイ
ン波状の連続発振モードとパルスモードと呼ばれるＯＮ
／ＯＦＦを断続的に行う断続サイン波状のパルス発振モ
ードのどちらを採用してもよいが連続モードの方がより
緻密で良質な膜が得られる。また、特に電源周波数は１
００ｋＨｚを超えて１５０ＭＨｚ以下とすることが緻密
な金属酸化物層を形成することができるため特に好まし
い。

【０１２２】本発明において、プラズマＣＶＤ装置を複
数設けることによってことによって、多層の薄膜を連続
的に設けることができ、金属酸化物層のピンホールの発
生も著しく低減され、均一な多層の積層体を形成するこ
とができる。

【０１２３】フィルム上に反射防止層を有する光学フィ
ルムを作製する場合、屈折率１．８〜２．４の高屈折率
層及び屈折率１．３〜１．５の低屈折率層をフィルム表
面に積層し、効率的に形成することができる。あるいは
屈折率１．６〜１．８程度の中屈折率層を有していても
よい。低屈折率層としては、含フッ素有機化合物を含む
ガスを用いたプラズマＣＶＤにより形成された含フッ素
化合物層、あるいはアルコキシシラン等の有機けい素化
合物を用いたプラズマＣＶＤにより形成された主に酸化
ケイ素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、有
機金属化合物を含むガスを用いたプラズマＣＶＤにより
形成された金属酸化物層、例えば酸化チタン、酸化ジル
コニウムのような層が好ましい。それぞれの薄膜につい
ては、これらに限定されるものではなく、層構成もこれ
らに限定されるものではない。例えば、最表面にフッ素
含有有機化合物ガス存在下で大気圧もしくはその近傍の
圧力下においてプラズマＣＶＤを用いることにより防汚
層または低屈折率層を設けてもよい。

【０１２４】本発明の方法により多層の薄膜を積層する
ことにより各層のムラもなく、均一な光学フィルムを得
ることができる。

【０１２５】このように、本発明においては様々な機能
を有する薄膜を形成した光学フィルムを提供することが
できる。

【０１２６】帯電防止層または導電性層として、別途金
属酸化物微粒子や架橋カチオンポリマーのような導電性
樹脂微粒子を塗設した膜厚０．１〜２μｍ程度の層を設
けてもよく、あるいは大気圧もしくはその近傍の圧力下
でのプラズマＣＶＤにより、主に酸化錫あるいは酸化亜
鉛等の金属酸化物を有する導電性物質の層を形成しても
よい。

【０１２７】本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フ
ィルムとして有用であり、これを用いて公知の方法で偏
光板を作製することができる。これらの光学フィルムは
薄膜の均一性が高いため、各種表示装置に好ましく用い
ることができ、優れた表示性能を得ることができる。

【０１２８】本発明の光学フィルムは、エチレン性不飽
和二重結合を有するモノマーを１種以上含む成分を重合
させて形成した層を有していることが好ましい。

【０１２９】エチレン性不飽和二重結合を有するモノマ
ーを含む成分を重合させて形成した樹脂層としては、活
性線硬化樹脂または熱硬化樹脂を硬化させて形成された
層が用いられるが、好ましく用いられるのは活性線硬化
樹脂層である。

【０１３０】ここで、活性線硬化樹脂層とは紫外線や電
子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化す
る樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂と
しては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的
なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化す
る樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例え
ば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線
硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型
エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオール
アクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂
等を挙げることができる。これらの内、紫外線硬化型ウ
レタンアクリレート系樹脂が好ましく用いられる。

【０１３１】紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂
としては、一般にポリエステルポリオールにイソシアネ
ートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得ら
れた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレー
トにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレー
トのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反
応させる容易に形成されるものを挙げることができ、特
開昭５９−１５１１１０号に記載のものを用いることが
できる。

【０１３２】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレ
ート系のモノマーを反応させる容易に形成されるものを
挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号に記載
のものを用いることができる。

【０１３３】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−
１０５７３８号に記載のものを用いることができる。

【０１３４】これらの光反応開始剤としては、具体的に
は、ベンゾイン及び誘導体、アセトフェノン、ベンゾフ
ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケト
ン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び
これらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に
使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤としても
使用できる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤
の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることがで
きる。

【０１３５】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニ
ル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができ
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることができる。

【０１３６】本発明において使用し得る市販品として、
紫外線硬化樹脂としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹ
シリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５
０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭
電化（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ
−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５
０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０
２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ
２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）
製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ Ｘ
−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−
２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２０
０、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６０
０、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７
０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１
３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９
２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５
０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０
３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２
０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７
１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化
学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ
（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１（三洋化
成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７
（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・
ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−
８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）等を適宜
選択して利用できる。

【０１３７】また、具体例としては、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げる
ことができる。

【０１３８】これらの活性線硬化樹脂層は公知の方法で
塗設することができる。紫外線硬化性樹脂を光硬化反応
により硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外
線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例え
ば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれ
のランプによって異なるが、照射光量は２０〜１０００
０ｍＪ／ｃｍ²程度あればよく、好ましくは、５０〜２
０００ｍＪ／ｃｍ²である。近紫外線領域〜可視光線領
域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いる
ことによって効率よく形成することができる。

【０１３９】紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒
としては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の有機
溶媒の中から適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用
できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル
（アルキル基の炭素原子数として１〜４）またはプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（ア
ルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量％以
上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上記有
機溶媒を用いるのが好ましい。

【０１４０】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、前述のものを用いることができる。塗布量は
ウェット膜厚として０．１〜３０μｍが適当で、好まし
くは、０．５〜１５μｍである。

【０１４１】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中また
は後に、紫外線を照射するのがよく、照射時間としては
０．５秒〜５分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効
率または作業効率の観点から３秒〜２分がより好まし
い。

【０１４２】こうして得た硬化樹脂層に、ブロッキング
を防止するために、また対擦り傷性等を高めるために、
あるいは防眩性を持たせるため無機化合物あるいは有機
化合物の微粒子を加えることもでき、それらの種類とし
ては、前述のマット剤の微粒子とほぼ同様である。これ
らの微粒子粉末の平均粒径としては、０．００５μｍ〜
５μｍが好ましく０．０１〜１μｍであることが特に好
ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合
は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜３０質
量部となるように配合することが望ましい。

【０１４３】紫外線硬化樹脂層は、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１で規定される中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ〜
５０ｎｍのクリアハードコート層であっても、Ｒａが
０．１μｍ〜１μｍ程度の防眩層であってもよい。

【０１４４】本発明の光学フィルムは偏光板保護フィル
ムとして好ましく用いられる。また、本発明の偏光板
は、一般的な方法で作製することができる。例えば、ポ
リビニルアルコールフィルムを圧延配向し、ヨウ素また
は二色性染料を吸着させて偏光膜を作製し、偏光膜の両
面にアルカリ鹸化処理したセルロースエステルフィルム
を、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて
貼り合わせる方法がある。通常、偏光膜の延伸方向と偏
光板保護フィルムの流延方向（ＭＤ方向）が一致するよ
うに貼り合わせる。アルカリ鹸化処理とは、水系接着剤
の濡れを良くし、接着性を向上させるために、セルロー
スエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処
理のことをいう。

【０１４５】偏光膜は一軸方向（通常は長手方向）に延
伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと
延伸方向（通常は長手方向）は縮み、延伸と垂直方向
（通常は幅方向）には伸びる。偏光板保護フィルムの膜
厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏
光膜の延伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光膜の延伸
方向は偏光板保護フィルムの流延方向（ＭＤ方向）と貼
り合わせるため、偏光板保護フィルムを薄膜化する場合
は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。

【０１４６】本発明の光学フィルムは、高い透湿性、寸
法安定性等から偏光板用保護フィルム以外にも、位相差
板、反射板、視野角拡大フィルム、防眩フィルム、反射
防止フィルム、帯電防止フィルム等の液晶表示用部材に
使用することができる。

【０１４７】

【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されない。

【０１４８】 実施例１ 《セルロースエステルフィルムの作製》 （酸化けい素分散液の調製） アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均粒径１６ｎ ｍ） １ｋｇ エタノール ９ｋｇ 以上をディゾルバで４０分間撹拌混合した後、マントン
ゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行い、酸化けい
素分散液を調製した。

【０１４９】 （添加液Ａの調製） メチレンクロライド １００ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．９０、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３） ５ｋｇ ２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン ５ｋｇ ２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン ５ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液を撹拌しながら加えて、さらに５０分間撹拌した後、
濾過し、添加液Ａを調製した。

【０１５０】 （セルロースエステル溶液Ａの調製） メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．９０、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３） １００ｋｇ 化合物２１ ６ｋｇ エチルフタリルエチルグリコレート ６ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混
合した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱
泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶
液Ａを得た。

【０１５１】（ドープＡの調製）セルロースエステル溶
液Ａに添加液Ａを各々別の配管で送液し、１００ｋｇの
セルロースエステル溶液Ａに添加液Ａを２．５ｋｇの割
合で、インラインミキサー（東レ（株）製静止型管内混
合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過
し、ドープＡを調製した。

【０１５２】（セルロースエステルフィルム１の作製）
３３℃に温度調整したドープＡをダイスに送液して、ダ
イスリットからエンドレスステンレスベルト上に均一に
流延した。エンドレスステンレスベルトの流延部は裏面
から３５℃の温水で加熱した。流延後、支持体上のドー
プ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブということ
にする）に４４℃の温風をあてて乾燥させ、流延から９
０秒後に剥離残留溶媒量を８０質量％として剥離し、多
数のロールで搬送させながら乾燥させた。剥離部のエン
ドレスステンレスベルトの温度は１０℃とした。剥離さ
れたウェブは、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１
分間搬送させた後、第２乾燥ゾーン入り口にて８０℃と
してテンターでウェブ端部を把持し、９０℃で幅手方向
に１．１倍に延伸した。延伸後、その幅を維持したまま
数秒間保持した後、幅保持を解放し、更に１２５℃に設
定された第３乾燥ゾーンで２０分間搬送させて、乾燥を
行い、膜厚５０μｍのセルロースエステルフィルム１を
得た。

【０１５３】（セルロースエステルフィルム２〜１５の
作製）セルロースエステルフィルム１の作製において、
流延剥離時間（ｓｅｃ）、剥離残留溶媒量（質量％）、
テンターで延伸する際の温度（℃）、テンターで延伸す
る際の残留溶媒量（質量％）、ＴＤ（幅手）方向延伸倍
率、ＭＤ（長手）方向延伸倍率を表１に示すように換え
て、セルロースエステルフィルム２、３を作製した。同
様にして以下のようにドープＢ〜Ｅを調製し、これらを
用いてセルロースエステルフィルム４〜１５を作製し
た。

【０１５４】 （添加液Ｂの調製） メチレンクロライド １００ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．９０、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３） ５ｋｇ ５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール ７ｋｇ （２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル ）−４−メチルフェノール ７ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液を撹拌しながら加えて、さらに５０分間撹拌した後、
濾過し、添加液Ｂを調製した。

【０１５５】 （セルロースエステル溶液Ｂの調製） メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．９０、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３） １００ｋｇ 化合物１６ ６ｋｇ エチルフタリルエチルグリコレート ６ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混
合した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱
泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶
液Ｂを得た。

【０１５６】（ドープＢの調製）セルロースエステル溶
液Ｂに添加液Ｂを各々別の配管で送液し、１００ｋｇの
セルロースエステル溶液Ｂに添加液Ｂを２．５ｋｇの割
合で、インラインミキサー（東レ（株）製静止型管内混
合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過
し、ドープＢを調製した。

【０１５７】 （添加液Ｃの調製） メチレンクロライド １００ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．８８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８） ５ｋｇ ２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン ７ｋｇ ２，４−ジベンジルオキシベンゾフェノン ７ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液を撹拌しながら加えて、さらに５０分間撹拌した後、
濾過し、添加液Ｃを調製した。

【０１５８】 （セルロースエステル溶液Ｃの調製） メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．８８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８） １００ｋｇ 化合物１６ ５ｋｇ ジシクロヘキシルフタレート ５ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混
合した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱
泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶
液Ｃを得た。

【０１５９】（ドープＣの調製）セルロースエステル溶
液Ｃに添加液Ｃを各々別の配管で送液し、１００ｋｇの
セルロースエステル溶液Ｃに添加液Ｃを２．５ｋｇの割
合で、インラインミキサー（東レ（株）製静止型管内混
合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過
し、ドープＣを調製した。

【０１６０】 （添加液Ｄの調製） メチレンクロライド １００ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．８８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８） ５ｋｇ ５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール ７ｋｇ （２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル ）−４−メチルフェノール ７ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液を撹拌しながら加えて、さらに５０分間撹拌した後、
濾過し、添加液Ｄを調製した。

【０１６１】 （セルロースエステル溶液Ｄの調製） メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．８８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８） １００ｋｇ 化合物２１ １２ｋｇ ジシクロヘキシルフタレート ５ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混
合した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱
泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶
液Ｄを得た。

【０１６２】（ドープＤの調製）セルロースエステル溶
液Ｄに添加液Ｄを各々別の配管で送液し、１００ｋｇの
セルロースエステル溶液Ｄに添加液Ｄを２．５ｋｇの割
合で、インラインミキサー（東レ（株）製静止型管内混
合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過
し、ドープＤを調製した。

【０１６３】 （添加液Ｅの調製） メチレンクロライド １００ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．８８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８） ５ｋｇ ２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン ５ｋｇ ２，４−ジベンジルオキシベンゾフェノン ５ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液を撹拌しながら加えて、さらに５０分間撹拌した後、
濾過し、添加液Ｅを調製した。

【０１６４】 （セルロースエステル溶液Ｅの調製） メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルロースアセテート（アセチル置換度２．８８、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８） １００ｋｇ トリフェニルホスフェート １２ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混
合した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱
泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶
液Ｅを得た。

【０１６５】（ドープＥの調製）セルロースエステル溶
液Ｅに添加液Ｅを各々別の配管で送液し、１００ｋｇの
セルロースエステル溶液Ｅに添加液Ｅを２．５ｋｇの割
合で、インラインミキサー（東レ（株）製静止型管内混
合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過
し、ドープＥを調製した。

【０１６６】（セルロースエステルフィルムの測定）得
られたセルロースエステルフィルム１〜１５について下
記の測定を行った。その結果を表１に示す。

【０１６７】（剥離残留溶媒量） 剥離残留溶媒量（％）＝（Ｍ１−Ｎ１）／Ｎ１×１００ ここで、Ｍ１はウェブの剥離時点での質量、Ｎ１はＭ１
を１１５℃で１時間乾燥させた後の質量である。

【０１６８】（残留溶媒量） 残留溶媒量（％）＝（Ｍ２−Ｎ２）／Ｎ２×１００ ここで、Ｍ２はウェブの任意の時点での質量、Ｎ２はＭ
２を１１５℃で１時間乾燥させた後の質量である。Ｍ２
がテンターで延伸される際のウエブであれば、テンター
延伸の際の残留溶媒量（％）が求められる。

【０１６９】（吸水弾性率）フィルムを６０℃の温水に
３０分間浸漬して十分に吸水させ、温水から取り出した
後、乾燥させないようにしながら１分以内にＪＩＳ Ｋ
７１２７に記載の方法に準じて吸水時の弾性率（吸水
弾性率）を測定した。

【０１７０】引っ張り試験器はオリエンテック（株）社
製テンシロンＲＴＡ−１００を使用し、試験片の形状は
１号形試験片で、試験速度は１００ｍｍ／分で行った。
また、弾性率解析開始点は２ＭＰａ、弾性率解析終了点
は６０ＭＰａで弾性率を計算した。

【０１７１】（透湿度）４０℃、９０％ＲＨでＪＩＳ
Ｚ ０２０８に記載の方法により測定し、面積１ｍ²当
たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求めた。

【０１７２】

【表１】

【０１７３】《光学フィルムの作製》得られたセルロー
スエステルフィルム１〜１５に下記プラズマＣＶＤ処理
して酸化錫層を形成し、それぞれ光学フィルム１〜１５
を作製した。

【０１７４】（プラズマＣＶＤ処理）プラズマＣＶＤ装
置のロール電極には、冷却水による冷却機能を有するス
テンレス製ジャケットロール母材を用いた。これにセラ
ミック溶射によりアルミナを１ｍｍ被覆し、その上にテ
トラメトキシシランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布
乾燥後、紫外線照射により硬化させて封孔処理を行い、
Ｒｍａｘが１μｍの誘電体を有するロール電極を製作し
アース（接地）した。一方、対向電極としては、中空の
ステンレスパイプに対し、上記同様の誘電体を同条件に
て被覆し、相対する電極群とし、必要な膜厚が各々得ら
れるように調整した。また、プラズマＣＶＤ装置の電源
は、日本電子製高周波電源を使用し、連続周波数を１
３．５６ＭＨｚとし、３Ｗ／ｃｍ²の電力を供給した。
但し、ロール電極は、ドライブを用いてフィルムの搬送
に同期して回転させた。なお、電極間隙は１．０ｍｍ、
反応ガスの圧力を１０２ｋＰａとして行った。

【０１７５】プラズマＣＶＤに用いた反応ガスの組成を
以下に記す。 （酸化錫層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラブチル錫蒸気） ０．３体積％ 酸化錫層は膜厚５０ｎｍであった。

【０１７６】《評価》得られた光学フィルムについて下
記の評価を行った。その結果を表２に示す。

【０１７７】（白濁）光学フィルム試料を８０℃、９０
％ＲＨの高温高湿雰囲気下で６時間処理した後、２３
℃、５５％ＲＨ雰囲気に１８時間放置した。これを合計
３０回繰り返して処理した後、金属酸化物層側を目視に
よって白濁の状態を観察した。評価は、白濁が全く認め
られないものを１とし、著しい白濁を起こしているもの
を５とし、その間のランクの状態を２〜４とした５段階
評価を行った。

【０１７８】（巻き形状）光学フィルム試料を埃付着防
止のためポリエチレンシートで包んだ後、３５℃、８０
％ＲＨの倉庫で１ヶ月間保管し、１ヶ月経過後の巻きの
状態を目視で観察し、下記のようにランク評価した。

【０１７９】 ◎：ロールの表面に皺、変形等の変化は認められない ○：ロールの表面に僅かに皺が認められるが、変形は認
められない △：ロールの表面に弱い皺が認められ、一部に変形も認
められる ×：ロールの表面〜内部に強い皺、表面に強い変形が有
り、内部まで変形有り上記のランクについての実用性判
断は下記の通りである。

【０１８０】 ◎：切除することなく使用できる ○：数ｍ切除して使用できる △：表面から数巻き分（数ｍ〜数１０ｍ程度）を切除す
ることによって使用できる ×：は巻きの変形が認められなくなるまで、内部（１０
０ｍ以上）まで切除しなければ使用できない。

【０１８１】（密着性）上記クラック評価と同じ高温高
湿処理後の光学フィルム試料について、ＪＩＳＫ ５４
００に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には塗布面
上に１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍ
ｍ角の碁盤目を１００個作った。この上にセロテープ
（Ｒ）を貼り付け、９０度で素早く剥がし、剥がれずに
残った碁盤目の数をｍとし、ｍ／１００として表した。

【０１８２】（カール）光学フィルム試料を巾手方向３
５ｍｍ、長手方向１ｍｍに裁断し、２５℃、５５％ＲＨ
雰囲気下で３日間放置し、ＪＩＳ−Ｋ７６１９−１９８
８のＡ法に準じてカール度の測定を行った。数値は曲率
半径（１／ｍ）で示し、金属酸化物層形成面が内側とな
るようにカールしたものを＋カールとして＋を付けて表
示した。

【０１８３】（クラック）光学フィルム試料を２３±２
℃、５５±５％ＲＨの環境下で１２時間放置した後、８
０±３℃、９０±２％ＲＨの条件に１２時間放置し、再
び２３±２℃、５５±５％ＲＨで１２時間放置、８０±
３℃、９０±２％ＲＨで１２時間放置と交互に繰り返し
１０回行い、最後に２３±２℃、５５±５％ＲＨの環境
下で１２時間放置した後、試料を光学顕微鏡でクラック
の状態を観察し、下記の基準で評価した。

【０１８４】 Ａ：クラックがほとんど認められない Ｂ：短いクラックが求められる Ｃ：全面に短いクラックが多数発生している Ｄ：全面に無数のクラックが認められる Ｃ、Ｄは実用に適さない。

【０１８５】

【表２】

【０１８６】実施例２ 実施例１で作製したセルロースエステルフィルム１〜
３、５、８、１１、１４に、ワイヤーバーコータを用い
て下記の防眩層組成物１または防眩層組成物２を塗布
し、乾燥し、更にその上にプラズマＣＶＤ処理で金属酸
化物層を含む反射防止層１または反射防止層２を形成
し、表３に示すように光学フィルム２１〜４８を得た。

【０１８７】（防眩層組成物１）平均粒径０．５μｍの
合成シリカ微粒子１５部（質量部、以下同じ）、平均粒
径１．４μｍの合成シリカ微粒子１０部、紫外線硬化型
ウレタンアクリレート系樹脂（ユニディック１７−８０
６、大日本インキ（株）製）１００部、コロネートＬ
（ポリイソシアネート化合物、日本ポリウレタン（株）
製）１部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガ
イギー社製）３部を溶剤（酢酸エチル）にてホモジナイ
ザーにより混合して揮発分濃度５０％の均質な分散液を
調製した。

【０１８８】 （防眩層組成物２） 合成シリカ粒子（平均粒径０．０１６μｍ） ５質量部 合成シリカ粒子（平均粒径１．８μｍ） ３質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １００質量部 ベンゾフェノン（光開始剤） ３質量部 上記記載の材料を酢酸エチル中で高速撹拌して固形分５
０質量％の混合分散液を調製した。

【０１８９】（プラズマＣＶＤ処理）実施例１に用いた
プラズマＣＶＤ処理装置を３または４基連続して設置し
てプラズマＣＶＤ処理を行い、下記構成の反射防止層１
または反射防止層２を形成した。

【０１９０】（反射防止層１の構成）酸化チタン層（屈
折率２．１５、１５ｎｍ）／酸化けい素層（屈折率１．
４６、３３ｎｍ）／酸化チタン層（屈折率２．１５、１
１９ｎｍ）／酸化けい素層（屈折率１．４６、８６ｎ
ｍ） （反射防止層２の構成）酸化錫層（屈折率１．８０、６
０ｎｍ）／酸化チタン層（屈折率２．１５、９０ｎｍ）
／有機フッ素層（屈折率１．４２、９０ｎｍ） プラズマＣＶＤ処理に用いた反応ガスの組成を以下に記
す。

【０１９１】 （酸化チタン層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトライソプロポキシチタン蒸気） ０．３体積％ （酸化けい素層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラエトキシシラン蒸気） ０．３体積％ （酸化錫層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラブチル錫蒸気） ０．３体積％ （有機フッ素層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（水素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（６フッ化メタン） ０．３体積％ 得られた光学フィルム２１〜４８について実施例１と同
様に評価を行った。さらに下記のようにして反射率及び
反射光むらを測定した。その結果を表３に示す。

【０１９２】（反射率）分光光度計（日立製作所製Ｕ−
４０００型）を用い、光学フィルム試料の反射防止層の
裏面を粗面化した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処
理を行い、裏面での光の反射を防止して５度の正反射の
条件にて４５０〜６５０ｎｍにおける各反射率を測定
し、その平均反射率を求めた。

【０１９３】（反射光むら）光学フィルム試料を用い
て、偏光板、液晶表示装置を以下のように作製し、目視
で反射光むらを評価した。

【０１９４】〔偏光板の作製〕 〈偏光膜の作製〉厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコ
ールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５
倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム
５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次
いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇ
からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥
し偏光膜を得た。

【０１９５】次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と
光学フィルム、セルロースエステルフィルムを貼り合わ
せて偏光板を作製した。セルロースエステルフィルムは
各々の光学フィルムの支持体として使用されているもの
を用いてそれぞれ偏光板とした。

【０１９６】〈偏光板の作製〉 工程１：光学フィルムに用いられているセルロースエス
テルフィルム（反射防止層及び防眩層なし）を、６０℃
の２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬
し、次いで水洗し乾燥して鹸化したセルロースエステル
フィルムを得た。

【０１９７】一方、光学フィルムの反射防止層の面を剥
離性のポリエステルフィルムを貼り付けてアルカリから
保護しながら上記鹸化処理を行った。

【０１９８】工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポ
リビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。

【０１９９】工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の
接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したセルロ
ースエステルフィルムの上にのせて、更に光学フィルム
の反射防止層が外側になるように積層し、配置した。

【０２００】工程４：ハンドローラーで工程３で積層し
た光学フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム
試料との積層物の端から過剰の接着剤及び気泡を取り除
き貼り合わせた。ハンドローラーの圧力は２０〜３０Ｎ
／ｃｍ²、ローラースピードは約２ｍ／分とした。

【０２０１】工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製
した偏光膜とセルロースエステルフィルムと光学フィル
ムとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板を作製
した。

【０２０２】〈液晶パネルの作製及び目視評価〉１８．
１型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレーＬＬ−Ｔ１８１１
Ｗ（シャープ（株）製）の偏光板を剥がし、液晶セルを
挟むようにして、作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸
がもとと変わらない様に互いに直交するように貼りつ
け、１８．１型ＴＦＴカラー液晶ディスプレーを作製し
た。画面を黒表示として、表面の反射光むらを目視で評
価した。

【０２０３】 ◎：反射光の色むらはわからず、黒がしまって見える ○：わずかに反射光の色むらが認識される △：反射光の色むらが認識されるが実用上問題ないレベ
ル ×：反射光の色むらがかなり気になる。

【０２０４】

【表３】

【０２０５】

【発明の効果】本発明により、高温高湿での耐久性に優
れ、カール及びヘイズが少ない光学フィルム及びその製
造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に用いられるプラズマＣＶＤ装置の一例
を示す図である。

【符号の説明】

Ｆ 基材フィルム Ｇ 反応ガス Ｇ′ 排ガス １１０ 回転電極 １１１ 固定電極 １４０ ガス排気口 １５０ 放電部 １８０ 電源 １８１、１８２ 電力供給手段 １２０、１２１ ガイドロール １２２、１２３ ニップロール １２４、１２５ 仕切板 １３０ 給気管 １３１ 反応ガス発生装置 １９０ プラズマ放電処理容器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ 5/02 ５１０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ ５１０ Ｚ Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA13 BA15 BA20 2H049 BA02 BA25 BA27 BB17 BB33 BB43 BC10 2H091 FA08X FA08Z FA37X FB02 FB06 FB12 GA16 LA02 LA04 LA12 2K009 AA02 BB28 CC03 DD04 EE03 4F100 AA17B AJ06A AK25C AK51C AL06C AT00A BA03 BA07 CA23C EJ61B GB41 JB07 JB14C JJ03 JL04 JN06

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ６０℃の温水に浸漬したときの弾性率が
   ２８００〜４０００ＭＰａで、かつ、４０℃、９０％Ｒ
   Ｈでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ²・２４ｈであるセ
   ルロースエステルフィルム上に、直接または他の層を介
   して金属酸化物層を有することを特徴とする光学フィル
   ム。
2. 【請求項２】 セルロースエステルフィルムが、分子内
   に芳香環またはシクロアルキル環を有する多価アルコー
   ルエステル、または分子内に芳香環またはシクロアルキ
   ル環を有するグリコレート系可塑剤を含有することを特
   徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 【請求項３】 セルロースエステルフィルム上に紫外線
   硬化樹脂層を有し、その上に直接または他の層を介して
   金属酸化物層を有することを特徴とする請求項１または
   ２に記載の光学フィルム。
4. 【請求項４】 紫外線硬化樹脂層がウレタンアクリレー
   ト系樹脂を含有することを特徴とする請求項３に記載の
   光学フィルム。
5. 【請求項５】 紫外線硬化樹脂層が微粒子を含有するこ
   とを特徴とする請求項３または４に記載の光学フィル
   ム。
6. 【請求項６】 金属酸化物層がプラズマＣＶＤによって
   形成されることを特徴とする請求項１〜５項のいずれか
   １項に記載の光学フィルム。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光
   学フィルムを用いることを特徴とする反射防止フィル
   ム。
8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光
   学フィルムを用いることを特徴とする偏光板用保護フィ
   ルム。
9. 【請求項９】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光
   学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。
10. 【請求項１０】 ６０℃の温水に浸漬したときの弾性率
    が２８００〜４０００ＭＰａで、かつ、４０℃、９０％
    ＲＨでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ²・２４ｈである
    セルロースエステルフィルム上に、直接または他の層を
    介して、プラズマＣＶＤにより金属酸化物層を形成する
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
11. 【請求項１１】 セルロースエステルフィルム上に、微
    粒子を含有するウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂
    層を有し、その上に金属酸化物層を形成することを特徴
    とする請求項１０に記載の光学フィルムの製造方法。