JP2003226676A - α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン、Ｎ−アルキル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンおよびＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】医薬および農薬の重要な中間体となる新規化合
物のα−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまた
はトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン、Ｎ−アル
キル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルま
たはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンおよびＮ
−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
を提供する。 【解決手段】フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリ
フルオロメトキシ置換フェニルアルキルケトンをベンジ
ルアミンと脱水縮合し、イミンに変換し、さらに該イミ
ンを水素添加と加水素分解することにより、α−アルキ
ル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロ
メトキシ置換ベンジルアミンを高い化学純度で、収率よ
く製造できる。Ｎ−アルキル−トリフルオロメトキシ置
換ベンジルアミンについても、同様の手段で効率よく製
造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬および農薬の
重要な中間体となる新規化合物のα−アルキル−フルオ
ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
換ベンジルアミン、Ｎ−アルキル−α−アルキル−フル
オロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ
置換ベンジルアミンおよびＮ−アルキル−トリフルオロ
メトキシ置換ベンジルアミンに関する。

【０００２】

【従来の技術】α−アルキル−フルオロ、トリフルオロ
メチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミ
ン、Ｎ−アルキル−α−アルキル−フルオロ、トリフル
オロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルア
ミンおよびＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベ
ンジルアミンは医薬および農薬の重要な中間体である。
例えば、α−メチル−３，５−ビス−トリフルオロメチ
ルベンジルアミン、Ｎ−メチル−α−メチル−３，５−
ビス−トリフルオロメチルベンジルアミンおよびＮ−メ
チル−α−シクロプロピル−３，５−ビス−トリフルオ
ロメチルベンジルアミンは、タキキニン拮抗剤の重要中
間体である（特許文献１）、（特許文献２）。α−メチ
ル−４−フルオロベンジルアミンは、抗HIV活性を示す
化合物の中間体である（特許文献３）。特許文献４に
は、α−メチル−２−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−メチル−３−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−メチル−４−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−メチル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベ
ンジルアミン、α−メチル−３−フルオロベンジルアミ
ンおよびα−メチル−４−フルオロベンジルアミンがヘ
ルペスウィルス抑制剤の中間体であることが報告されて
いる。また、特許文献５には、α−メチル−２−フルオ
ロベンジルアミン、α−メチル−３−フルオロベンジル
アミン、α−メチル−４−フルオロベンジルアミンおよ
びα−メチル−３，５−ジフルオロベンジルアミンが回
腸型胆汁酸トランスポーター阻害作用を有する化合物の
中間体であることが報告されている。特許文献６には、
α−メチル−３−トリフルオロメチルベンジルアミン、
α−エチル−４−フルオロベンジルアミンおよびα−メ
チル−４−トリフルオロメトキシベンジルアミンが有害
生物防除剤の中間体として使われている。α−メチル−
４−フルオロベンジルアミンおよびα−メチル−２−フ
ルオロベンジルアミンは体内寄生防除剤の中間体として
用いられている（特許文献７）。また、α−メチル−４
−トリフルオロメトキシベンジルアミンは殺菌剤の中間
体である（特許文献８）。α−エチル−４−フルオロベ
ンジルアミンは除草剤の中間体である（特許文献９）。
特許文献１０には抗高血圧剤の中間体としてα−シクロ
プロピル−３−トリフルオロメチルベンジルアミンおよ
びα−シクロプロピル−３，５−ビス−トリフルオロメ
チルベンジルアミンの製造方法が開示されている。α−
エチル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルア
ミンはタキキニン拮抗剤の中間体である（特許文献１
１）。Ｎ−メチル−α−メチル−３−トリフルオロメチ
ルベンジルアミンは脱離反応の速度論研究の原料として
使われている（非特許文献１）。Ｎ−メチル−α−メチ
ル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン
はノイロキン１受容体拮抗剤の中間体である（特許文献
１２）。α−メチル−４−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミンは植物病害防除剤の中間体である（特許文献１
３）。α−エチル−４−トリフルオロメトキシベンジル
アミンは殺菌剤の中間体である（特許文献１４）。

【０００３】

【特許文献１】米国特許第５５９４０２２号明細書

【特許文献２】国際公開第０１／２５２１９号パンフレ
ット

【特許文献３】国際公開第０１／９６２８３号パンフレ
ット

【特許文献４】国際公開第００／３４２６９号パンフレ
ット

【特許文献５】欧州特許出願公開第１０７０７０３号明
細書

【特許文献６】特開平５−２０１９９９号公報

【特許文献７】特開平５−２２１９９６号公報

【特許文献８】国際公開第０１／６４６４４号パンフレ
ット

【特許文献９】米国特許第４２０１５６９号明細書

【特許文献１０】特開昭５１−０１６６６２号公報

【特許文献１１】国際公開２００１／０８７８６６号パ
ンフレット

【特許文献１２】特開２０００−２４７９５７号公報

【特許文献１３】米国特許第４９４６８６７号明細書

【特許文献１４】欧州特許出願公開第３７０７０４号明
細書

【非特許文献１】J.Amer.Chem.Soc.，（米国），1989
年、第111巻，第6号、p.2252〜2257

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、医薬
および農薬の重要な中間体となる新規化合物のα−アル
キル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオ
ロメトキシ置換ベンジルアミン、Ｎ−アルキル−α−ア
ルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフル
オロメトキシ置換ベンジルアミンおよびＮ−アルキル−
トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンを提供するこ
とにある。

【０００５】特許文献１〜特許文献１4に示されるよう
に、α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまた
はトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン、Ｎ−アル
キル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルま
たはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンおよびＮ
−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
は、様々な医薬および農薬の中間体として利用されてい
るにもかかわらず、本発明で対象とする化合物に関して
は全く報告されていない。そのため、これまで、医薬お
よび農薬の開発において中間体として本発明で対象とす
る化合物を利用することができなかった。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、フルオロ、トリフル
オロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニルア
ルキルケトンをベンジルアミンと脱水縮合し、イミンに
変換し、さらに該イミンを水素添加と加水素分解するこ
とにより、本発明で対象とするα−アルキル−フルオ
ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
換ベンジルアミンを高い化学純度で、収率よく製造でき
ることを見出した。また、フルオロ、トリフルオロメチ
ルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニルアルキルケ
トンあるいはトリフルオロメトキシ置換ベンズアルデヒ
ドをアルキルアミンと縮合し、さらに反応系中にハイド
ライド還元剤を加えることにより、本発明で対象とする
Ｎ−アルキル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロ
メチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
あるいはＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベン
ジルアミンを高い化学純度で、収率よく製造できること
を見出した。

【０００７】本発明におけるα−アルキル−フルオロ、
トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベ
ンジルアミンの製造方法は、以下のスキーム１で示され
る。

【０００８】

【化２７】

【０００９】［スキーム１中、Ｒ¹はフッ素原子、トリ
フルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基を表
し、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎ
は１から５の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をと
り、Ｐｈはフェニル基を表し、中央のイミンの波線はＥ
体、Ｚ体またはこれらの混合物を表し、右端のα−アル
キル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオ
ロメトキシ置換ベンジルアミンの波線はラセミ体を表
す］ すなわち、本発明は、一般式［１８］

【００１０】

【化２８】

【００１１】［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロ
メチル基またはトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は
炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５
の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をとる］で示され
るフルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメ
トキシ置換フェニルアルキルケトンを、式［１９］

【００１２】

【化２９】

【００１３】［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］で示さ
れるベンジルアミンと脱水縮合し、一般式［２０］

【００１４】

【化３０】

【００１５】［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロ
メチル基またはトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は
炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５
の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をとり、Ｐｈはフ
ェニル基を表し、波線はＥ体、Ｚ体またはこれらの混合
物を表す］で示されるイミンに変換し、さらに該イミン
を水素添加と加水素分解することにより、一般式［２
１］

【００１６】

【化３１】

【００１７】［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロ
メチル基またはトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は
炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５
の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をとり、波線はラ
セミ体を表す］で示される、本発明で対象とするα−ア
ルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフル
オロメトキシ置換ベンジルアミンを製造する手段を提供
する。また、新規化合物である、一般式［２１］で示さ
れる化合物を提供する。

【００１８】また、本発明におけるＮ−アルキル−α−
アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフ
ルオロメトキシ置換ベンジルアミンおよびＮ−アルキル
−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンの製造方法
は、以下のスキーム２で示される。

【００１９】

【化３２】

【００２０】［スキーム２中、Ｒ¹はフッ素原子、トリ
フルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基を表
し、Ｒ²は水素原子または炭素数１から６の低級アルキ
ル基を表し、Ｒ³は炭素数１から６の低級アルキル基を
表し、ｎは１から５の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位
置をとり、波線はラセミ体を表す］すなわち、本発明
は、一般式［１８］

【００２１】

【化３３】

【００２２】［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロ
メチル基またはトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は
炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５
の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をとる］で示され
るフルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメ
トキシ置換フェニルアルキルケトン、あるいは、一般式
［２２］

【００２３】

【化３４】

【００２４】［式中、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣ
Ｆ₃基は任意の置換位置をとる］で示されるトリフルオ
ロメトキシ置換ベンズアルデヒドを、一般式［２３］

【００２５】

【化３５】

【００２６】［式中、Ｒ³は炭素数１から６の低級アル
キル基を表す］で示されるアルキルアミンと縮合し、さ
らに反応系中にハイドライド還元剤を加えることによ
り、一般式［２４］

【００２７】

【化３６】

【００２８】［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロ
メチル基またはトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は
炭素数１から６の低級アルキル基を表し、Ｒ³は炭素数
１から６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５の整数
を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をとり、波線はラセミ体
を表す］で示される、本発明で対象とするＮ−アルキル
−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたは
トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン、あるいは、
一般式［２５］

【００２９】

【化３７】

【００３０】［式中、Ｒ³は炭素数１から６の低級アル
キル基を表し、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基
は任意の置換位置をとる］で示される、本発明で対象と
するＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジル
アミンを製造する手段を提供する。また、新規化合物で
ある、一般式［２４］、あるいは、一般式［２５］で示
される化合物を提供する。

【００３１】

【発明の実施形態】以下、本発明のα−アルキル−フル
オロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ
置換ベンジルアミン、Ｎ−アルキル−α−アルキル−フ
ルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキ
シ置換ベンジルアミンおよびＮ−アルキル−トリフルオ
ロメトキシ置換ベンジルアミンについて詳細に説明す
る。

【００３２】本発明の一般式［２１］で示されるα−ア
ルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフル
オロメトキシ置換ベンジルアミンは、一般式［１８］で
示されるフルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフル
オロメトキシ置換フェニルアルキルケトンを、式［１
９］で示されるベンジルアミンと脱水縮合し、一般式
［２０］で示されるイミンに変換し、さらに該イミンを
水素添加と加水素分解することにより、高い化学純度
で、収率よく製造できる。また、本発明の一般式［２
４］で示されるＮ−アルキル−α−アルキル−フルオ
ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
換ベンジルアミン、あるいは、一般式［２５］で示され
るＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルア
ミンは、一般式［１８］で示されるフルオロ、トリフル
オロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニルア
ルキルケトン、あるいは、一般式［２２］で示されるト
リフルオロメトキシ置換ベンズアルデヒドを、一般式
［２３］で示されるアルキルアミンと縮合し、さらに反
応系中にハイドライド還元剤を加えることにより、高い
化学純度で、収率よく製造できる。

【００３３】一般式［１８］で示されるフルオロ、トリ
フルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニ
ルアルキルケトンの(Ｒ¹)_nとしては、２−フルオロ、３
−フルオロ、４−フルオロ、２，３−ジフルオロ、２，
４−ジフルオロ、２，５−ジフルオロ、２，６−ジフル
オロ、３，４−ジフルオロ、３，５−ジフルオロ、２，
３，４−トリフルオロ、２，３，５−トリフルオロ、
２，３，６−トリフルオロ、２，４，５−トリフルオ
ロ、２，４，６−トリフルオロ、３，４，５−トリフル
オロ、２，３，４，５−テトラフルオロ、２，３，４，
６−テトラフルオロ、２，３，５，６−テトラフルオ
ロ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ、２−トリフ
ルオロメチル、３−トリフルオロメチル、４−トリフル
オロメチル、２，３−ビス−トリフルオロメチル、２，
４−ビス−トリフルオロメチル、２，５−ビス−トリフ
ルオロメチル、２，６−ビス−トリフルオロメチル、
３，４−ビス−トリフルオロメチル、３，５−ビス−ト
リフルオロメチル、２，３，４−トリス−トリフルオロ
メチル、２，３，５−トリス−トリフルオロメチル、
２，３，６−トリス−トリフルオロメチル、２，４，５
−トリス−トリフルオロメチル、２，４，６−トリス−
トリフルオロメチル、３，４，５−トリス−トリフルオ
ロメチル、２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロ
メチル、２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロメ
チル、２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメチ
ル、２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメ
チル、２−トリフルオロメトキシ、３−トリフルオロメ
トキシ、４−トリフルオロメトキシ、２，３−ビス−ト
リフルオロメトキシ、２，４−ビス−トリフルオロメト
キシ、２，５−ビス−トリフルオロメトキシ、２，６−
ビス−トリフルオロメトキシ、３，４−ビス−トリフル
オロメトキシ、３，５−ビス−トリフルオロメトキシ、
２，３，４−トリス−トリフルオロメトキシ、２，３，
５−トリス−トリフルオロメトキシ、２，３，６−トリ
ス−トリフルオロメトキシ、２，４，５−トリス−トリ
フルオロメトキシ、２，４，６−トリス−トリフルオロ
メトキシ、３，４，５−トリス−トリフルオロメトキ
シ、２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメトキ
シ、２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロメトキ
シ、２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメトキ
シ、２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメ
トキシが挙げられる。

【００３４】一般式［１８］で示されるフルオロ、トリ
フルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニ
ルアルキルケトンのＲ²としては、メチル、エチル、１
−プロピル、２−プロピル、シクロプロピル、１−ブチ
ル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル、ｔ−ブチ
ル、シクロブチル、１−ペンチル、２−ペンチル、３−
ペンチル、ネオペンチル、ｔ−アミル、シクロペンチ
ル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シク
ロヘキシル等が挙げられる。

【００３５】一般式［２１］で示されるα−アルキル−
フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメト
キシ置換ベンジルアミンとしては、α−エチル−２−フ
ルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−２−フルオ
ロベンジルアミン、α−シクロプロピル−２−フルオロ
ベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２−フルオロベンジ
ルアミン、α−エチル−３−フルオロベンジルアミン、
α−イソプロピル−３−フルオロベンジルアミン、α−
シクロプロピル−３−フルオロベンジルアミン、α−ｔ
−ブチル−３−フルオロベンジルアミン、α−イソプロ
ピル−４−フルオロベンジルアミン、α−シクロプロピ
ル−４−フルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−４
−フルオロベンジルアミン、α−エチル−２，３−ジフ
ルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３−ジ
フルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，３
−ジフルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３
−ジフルオロベンジルアミン、α−エチル−２，４−ジ
フルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−２，４−
ジフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
４−ジフルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，
４−ジフルオロベンジルアミン、α−エチル−２，５−
ジフルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−２，５
−ジフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−
２，５−ジフルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２，５−ジフルオロベンジルアミン、α−エチル−２，
６−ジフルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−
２，６−ジフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピ
ル−２，６−ジフルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブチ
ル−２，６−ジフルオロベンジルアミン、α−エチル−
３，４−ジフルオロベンジルアミン、α−イソプロピル
−３，４−ジフルオロベンジルアミン、α−シクロプロ
ピル−３，４−ジフルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブ
チル−３，４−ジフルオロベンジルアミン、α−エチル
−３，５−ジフルオロベンジルアミン、α−イソプロピ
ル−３，５−ジフルオロベンジルアミン、α−シクロプ
ロピル−３，５−ジフルオロベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−３，５−ジフルオロベンジルアミン、α−エチ
ル−２，３，４−トリフルオロベンジルアミン、α−イ
ソプロピル−２，３，４−トリフルオロベンジルアミ
ン、α−シクロプロピル−２，３，４−トリフルオロベ
ンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，４−トリフル
オロベンジルアミン、α−エチル−２，３，５−トリフ
ルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３，５
−トリフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−
２，３，５−トリフルオロベンジルアミン、α−ｔ−ブ
チル−２，３，５−トリフルオロベンジルアミン、α−
エチル−２，３，６−トリフルオロベンジルアミン、α
−イソプロピル−２，３，６−トリフルオロベンジルア
ミン、α−シクロプロピル−２，３，６−トリフルオロ
ベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，６−トリフ
ルオロベンジルアミン、α−エチル−２，４，５−トリ
フルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−２，４，
５−トリフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル
−２，４，５−トリフルオロベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−２，４，５−トリフルオロベンジルアミン、α
−エチル−２，４，６−トリフルオロベンジルアミン、
α−イソプロピル−２，４，６−トリフルオロベンジル
アミン、α−シクロプロピル−２，４，６−トリフルオ
ロベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，４，６−トリ
フルオロベンジルアミン、α−エチル−３，４，５−ト
リフルオロベンジルアミン、α−イソプロピル−３，
４，５−トリフルオロベンジルアミン、α−シクロプロ
ピル−３，４，５−トリフルオロベンジルアミン、α−
ｔ−ブチル−３，４，５−トリフルオロベンジルアミ
ン、α−エチル−２，３，４，５−テトラフルオロベン
ジルアミン、α−イソプロピル−２，３，４，５−テト
ラフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
３，４，５−テトラフルオロベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−２，３，４，５−テトラフルオロベンジルアミ
ン、α−エチル−２，３，４，６−テトラフルオロベン
ジルアミン、α−イソプロピル−２，３，４，６−テト
ラフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
３，４，６−テトラフルオロベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−２，３，４，６−テトラフルオロベンジルアミ
ン、α−エチル−２，３，５，６−テトラフルオロベン
ジルアミン、α−イソプロピル−２，３，５，６−テト
ラフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
３，５，６−テトラフルオロベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジルアミ
ン、α−エチル−２，３，４，５，６−ペンタフルオロ
ベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３，４，５，
６−ペンタフルオロベンジルアミン、α−シクロプロピ
ル−２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルアミ
ン、α−ｔ−ブチル−２，３，４，５，６−ペンタフル
オロベンジルアミン、α−エチル−２−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、α−イソプロピル−２−トリフル
オロメチルベンジルアミン、α−シクロプロピル−２−
トリフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル−
３−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−イソプロ
ピル−３−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ
−ブチル−３−トリフルオロメチルベンジルアミン、α
−エチル−４−トリフルオロメチルベンジルアミン、α
−イソプロピル−４−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−シクロプロピル−４−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、α−ｔ−ブチル−４−トリフルオロメチル
ベンジルアミン、α−エチル−２，３−ビス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３
−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−シク
ロプロピル−２，３−ビス−トリフルオロメチルベンジ
ルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３−ビス−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン、α−エチル−２，４−ビス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、α−イソプロピル
−２，４−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
α−シクロプロピル−２，４−ビス−トリフルオロメチ
ルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，４−ビス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル−２，５
−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−イソ
プロピル−２，５−ビス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、α−シクロプロピル−２，５−ビス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，５−
ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル
−２，６−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
α−イソプロピル−２，６−ビス−トリフルオロメチル
ベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，６−ビス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２，６−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α
−エチル−３，４−ビス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、α−イソプロピル−３，４−ビス−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン、α−シクロプロピル−３，４
−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−３，４−ビス−トリフルオロメチルベンジルア
ミン、α−イソプロピル−３，５−ビス−トリフルオロ
メチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−３，５−ビス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル−
２，３，４−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−イソプロピル−２，３，４−トリス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
３，４−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
α−ｔ−ブチル−２，３，４−トリス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、α−エチル−２，３，５−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−イソプロピ
ル−２，３，５−トリス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、α−シクロプロピル−２，３，５−トリス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２，３，５−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−エチル−２，３，６−トリス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３，６−
トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−シク
ロプロピル−２，３，６−トリス−トリフルオロメチル
ベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，６−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル−
２，４，５−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−イソプロピル−２，４，５−トリス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
４，５−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
α−ｔ−ブチル−２，４，５−トリス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、α−エチル−２，４，６−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−イソプロピ
ル−２，４，６−トリス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、α−シクロプロピル−２，４，６−トリス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２，４，６−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−エチル−３，４，５−トリス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、α−イソプロピル−３，４，５−
トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−シク
ロプロピル−３，４，５−トリス−トリフルオロメチル
ベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−３，４，５−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル−
２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、α−イソプロピル−２，３，４，５−テト
ラキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−シク
ロプロピル−２，３，４，５−テトラキス−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，
４，５−テトラキス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−エチル−２，３，４，６−テトラキス−トリフ
ルオロメチルベンジルアミン、α−イソプロピル−２，
３，４，６−テトラキス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、α−シクロプロピル−２，３，４，６−テトラ
キス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブ
チル−２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロメチ
ルベンジルアミン、α−エチル−２，３，５，６−テト
ラキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−イソ
プロピル−２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロ
メチルベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，３，
５，６−テトラキス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、α−ｔ−ブチル−２，３，５，６−テトラキス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、α−エチル−２，
３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、α−イソプロピル−２，３，４，５，６−
ペンタキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、α−
シクロプロピル−２，３，４，５，６−ペンタキス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメチル
ベンジルアミン、α−メチル−２−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、α−エチル−２−トリフルオロメト
キシベンジルアミン、α−イソプロピル−２−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−シクロプロピル−２
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−ｔ−ブチ
ル−２−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−メ
チル−３−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−
エチル−３−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α
−イソプロピル−３−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−シクロプロピル−３−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−３−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、α−イソプロピル−４−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、α−シクロプロピル−
４−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−ｔ−ブ
チル−４−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−
メチル−２，３−ビス−トリフルオロメトキシベンジル
アミン、α−エチル−２，３−ビス−トリフルオロメト
キシベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３−ビス
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−シクロプ
ロピル−２，３−ビス−トリフルオロメトキシベンジル
アミン、α−ｔ−ブチル−２，３−ビス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、α−メチル−２，４−ビス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−エチル−
２，４−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、
α−イソプロピル−２，４−ビス−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，４−ビス
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−ｔ−ブチ
ル−２，４−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、α−メチル−２，５−ビス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、α−エチル−２，５−ビス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−イソプロピル−２，
５−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−
シクロプロピル−２，５−ビス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，５−ビス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−メチル−２，６
−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−エ
チル−２，６−ビス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−イソプロピル−２，６−ビス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，６
−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−ｔ
−ブチル−２，６−ビス−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、α−メチル−３，４−ビス−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、α−エチル−３，４−ビス−ト
リフルオロメトキシベンジルアミン、α−イソプロピル
−３，４−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、α−シクロプロピル−３，４−ビス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−３，４−ビ
ス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−メチル
−３，５−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、α−エチル−３，５−ビス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、α−イソプロピル−３，５−ビス−ト
リフルオロメトキシベンジルアミン、α−シクロプロピ
ル−３，５−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、α−ｔ−ブチル−３，５−ビス−トリフルオロメト
キシベンジルアミン、α−メチル−２，３，４−トリス
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−エチル−
２，３，４−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−イソプロピル−２，３，４−トリス−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、α−シクロプロピル−
２，３，４−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−ｔ−ブチル−２，３，４−トリス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−メチル−２，３，５
−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−
エチル−２，３，５−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−イソプロピル−２，３，５−トリス
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−シクロプ
ロピル−２，３，５−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，５−トリス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−メチル−
２，３，６−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−エチル−２，３，６−トリス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、α−イソプロピル−２，３，
６−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α
−シクロプロピル−２，３，６−トリス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，６
−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−
メチル−２，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−エチル−２，４，５−トリス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−イソプロピル−
２，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−シクロプロピル−２，４，５−トリス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−ｔ−ブチル−
２，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−メチル−２，４，６−トリス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、α−エチル−２，４，６−ト
リス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−イソ
プロピル−２，４，６−トリス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，４，６−ト
リス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−ｔ−
ブチル−２，４，６−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−メチル−３，４，５−トリス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−エチル−３，
４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、α−イソプロピル−３，４，５−トリス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−シクロプロピル−
３，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−ｔ−ブチル−３，４，５−トリス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−メチル−２，３，
４，５−テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−エチル−２，３，４，５−テトラキス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−イソプロピル−
２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−シクロプロピル−２，３，４，５−
テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α
−ｔ−ブチル−２，３，４，５−テトラキス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−メチル−２，３，
４，６−テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−エチル−２，３，４，６−テトラキス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−イソプロピル−
２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−シクロプロピル−２，３，４，６−
テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α
−ｔ−ブチル−２，３，４，６−テトラキス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−メチル−２，３，
５，６−テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、α−エチル−２，３，５，６−テトラキス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、α−イソプロピル−
２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−シクロプロピル−２，３，５，６−
テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α
−ｔ−ブチル−２，３，５，６−テトラキス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、α−メチル−２，３，
４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、α−エチル−２，３，４，５，６−ペンタキ
ス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、α−イソプ
ロピル−２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオ
ロメトキシベンジルアミン、α−シクロプロピル−２，
３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、α−ｔ−ブチル−２，３，４，５，６−
ペンタキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン等が
挙げられる。

【００３６】一般式［２２］で示されるトリフルオロメ
トキシ置換ベンズアルデヒドとしては、２−トリフルオ
ロメトキシベンズアルデヒド、３−トリフルオロメトキ
シベンズアルデヒド、４−トリフルオロメトキシベンズ
アルデヒド、２，３−ビス−トリフルオロメトキシベン
ズアルデヒド、２，４−ビス−トリフルオロメトキシベ
ンズアルデヒド、２，５−ビス−トリフルオロメトキシ
ベンズアルデヒド、２，６−ビス−トリフルオロメトキ
シベンズアルデヒド、３，４−ビス−トリフルオロメト
キシベンズアルデヒド、３，５−ビス−トリフルオロメ
トキシベンズアルデヒド、２，３，４−トリス−トリフ
ルオロメトキシベンズアルデヒド、２，３，５−トリス
−トリフルオロメトキシベンズアルデヒド、２，３，６
−トリス−トリフルオロメトキシベンズアルデヒド、
２，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンズアル
デヒド、２，４，６−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンズアルデヒド、３，４，５−トリス−トリフルオロメ
トキシベンズアルデヒド、２，３，４，５−テトラキス
−トリフルオロメトキシベンズアルデヒド、２，３，
４，６−テトラキス−トリフルオロメトキシベンズアル
デヒド、２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメ
トキシベンズアルデヒド、２，３，４，５、６−ペンタ
キス−トリフルオロメトキシベンズアルデヒドが挙げら
れる。

【００３７】一般式［２３］で示されるアルキルアミン
のＲ³としては、メチル、エチル、１−プロピル、２−
プロピル、シクロプロピル、１−ブチル、２−ブチル、
２−メチル−１−プロピル、ｔ−ブチル、シクロブチ
ル、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、ネオ
ペンチル、ｔ−アミル、シクロペンチル、１−ヘキシ
ル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル等が
挙げられる。

【００３８】一般式［２４］で示されるＮ−アルキル−
α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはト
リフルオロメトキシ置換ベンジルアミンとしては、N−
メチル−α−メチル−２−フルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２−フルオロベンジルアミン、
N−メチル−α−イソプロピル−２−フルオロベンジル
アミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２−フルオ
ロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２−
フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−３
−フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−
３−フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−イソプ
ロピル−３−フルオロベンジルアミン、N−メチル−α
−シクロプロピル−３−フルオロベンジルアミン、N−
メチル−α−ｔ−ブチル−３−フルオロベンジルアミ
ン、N−メチル−α−メチル−４−フルオロベンジルア
ミン、N−メチル−α−エチル−４−フルオロベンジル
アミン、N−メチル−α−イソプロピル−４−フルオロ
ベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−４
−フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチ
ル−４−フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−メ
チル−２，３−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル
−α−エチル−２，３−ジフルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−イソプロピル−２，３−ジフルオロベン
ジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３
−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブ
チル−２，３−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル
−α−メチル−２，４−ジフルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２，４−ジフルオロベンジルア
ミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，４−ジフル
オロベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル
−２，４−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α
−ｔ−ブチル−２，４−ジフルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−メチル−２，５−ジフルオロベンジルア
ミン、N−メチル−α−エチル−２，５−ジフルオロベ
ンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，５
−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−シクロ
プロピル−２，５−ジフルオロベンジルアミン、N−メ
チル−α−ｔ−ブチル−２，５−ジフルオロベンジルア
ミン、N−メチル−α−メチル−２，６−ジフルオロベ
ンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，６−ジフ
ルオロベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル
−２，６−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α
−シクロプロピル−２，６−ジフルオロベンジルアミ
ン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，６−ジフルオロ
ベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−３，４−ジ
フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−
３，４−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−３，４−ジフルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−シクロプロピル−３，４−ジフルオロベ
ンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−３，４−
ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
３，５−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−
エチル−３，５−ジフルオロベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−３，５−ジフルオロベンジルア
ミン、N−メチル−α−シクロプロピル−３，５−ジフ
ルオロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
３，５−ジフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−
メチル−２，３，４−トリフルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２，３，４−トリフルオロベン
ジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，３，
４−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−シ
クロプロピル−２，３，４−トリフルオロベンジルアミ
ン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，３，４−トリフ
ルオロベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，
３，５−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル−α
−エチル−２，３，５−トリフルオロベンジルアミン、
N−メチル−α−イソプロピル−２，３，５−トリフル
オロベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル
−２，３，５−トリフルオロベンジルアミン、N−メチ
ル−α−ｔ−ブチル−２，３，５−トリフルオロベンジ
ルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，６−トリ
フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−
２，３，６−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル
−α−イソプロピル−２，３，６−トリフルオロベンジ
ルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３，
６−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ
−ブチル−２，３，６−トリフルオロベンジルアミン、
N−メチル−α−メチル−２，４，５−トリフルオロベ
ンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，４，５−
トリフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−イソプ
ロピル−２，４，５−トリフルオロベンジルアミン、N
−メチル−α−シクロプロピル−２，４，５−トリフル
オロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，４，５−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル
−α−メチル−２，４，６−トリフルオロベンジルアミ
ン、N−メチル−α−エチル−２，４，６−トリフルオ
ロベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−
２，４，６−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル
−α−シクロプロピル−２，４，６−トリフルオロベン
ジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，４，６
−トリフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−メチ
ル−３，４，５−トリフルオロベンジルアミン、N−メ
チル−α−エチル−３，４，５−トリフルオロベンジル
アミン、N−メチル−α−イソプロピル−３，４，５−
トリフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−シクロ
プロピル−３，４，５−トリフルオロベンジルアミン、
N−メチル−α−ｔ−ブチル−３，４，５−トリフルオ
ロベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，
４，５−テトラフルオロベンジルアミン、N−メチル−
α−エチル−２，３，４，５−テトラフルオロベンジル
アミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，３，４，
５−テトラフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−
シクロプロピル−２，３，４，５−テトラフルオロベン
ジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，３，
４，５−テトラフルオロベンジルアミン、N−メチル−
α−メチル−２，３，４，６−テトラフルオロベンジル
アミン、N−メチル−α−エチル−２，３，４，６−テ
トラフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−イソプ
ロピル−２，３，４，６−テトラフルオロベンジルアミ
ン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３，４，６
−テトラフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ
−ブチル−２，３，４，６−テトラフルオロベンジルア
ミン、N−メチル−α−メチル−２，３，５，６−テト
ラフルオロベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−
２，３，５，６−テトラフルオロベンジルアミン、N−
メチル−α−イソプロピル−２，３，５，６−テトラフ
ルオロベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピ
ル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジルアミン、
N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，３，５，６−テトラ
フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルアミン、
N−メチル−α−エチル−２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピ
ル−２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルアミ
ン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３，４，
５，６−ペンタフルオロベンジルアミン、N−メチル−
α−ｔ−ブチル−２，３，４，５，６−ペンタフルオロ
ベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２−トリフ
ルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−エチル
−２−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル
−α−イソプロピル−２−トリフルオロメチルベンジル
アミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２−トリフ
ルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブ
チル−２−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メ
チル−α−エチル−３−トリフルオロメチルベンジルア
ミン、N−メチル−α−イソプロピル−３−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロ
ピル−３−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メ
チル−α−ｔ−ブチル−３−トリフルオロメチルベンジ
ルアミン、N−メチル−α−メチル−４−トリフルオロ
メチルベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−４−
トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−４−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−シクロプロピル−４−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル
−４−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル
−α−メチル−２，３−ビス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，３−ビス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−２，３−ビス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３
−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチ
ル−α−ｔ−ブチル−２，３−ビス−トリフルオロメチ
ルベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，４−
ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル
−α−エチル−２，４−ビス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，４−
ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル
−α−シクロプロピル−２，４−ビス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，４−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−メチル−２，５−ビス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，５
−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−２，５−ビス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル
−２，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，５−ビス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
２，６−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２，６−ビス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−
２，６−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−シクロプロピル−２，６−ビス−トリフ
ルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブ
チル−２，６−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−メチル−３，４−ビス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−
３，４−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−イソプロピル−３，４−ビス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプ
ロピル−３，４−ビス−トリフルオロメチルベンジルア
ミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−３，４−ビス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−エ
チル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−イソプロピル−３，５−ビス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ
−ブチル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、N−メチル−α−メチル−２，３，４−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α
−エチル−２，３，４−トリス−トリフルオロメチルベ
ンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，
３，４−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
N−メチル−α−シクロプロピル−２，３，４−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α
−ｔ−ブチル−２，３，４−トリス−トリフルオロメチ
ルベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，
５−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−
メチル−α−エチル−２，３，５−トリス−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピ
ル−２，３，５−トリス−トリフルオロメチルベンジル
アミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３，５
−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メ
チル−α−ｔ−ブチル−２，３，５−トリス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
２，３，６−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−エチル−２，３，６−トリス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−イ
ソプロピル−２，３，６−トリス−トリフルオロメチル
ベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−
２，３，６−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，３，６−トリス
−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α
−メチル−２，４，５−トリス−トリフルオロメチルベ
ンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，４，５−
トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−２，４，５−トリス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプ
ロピル−２，４，５−トリス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，４，５
−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メ
チル−α−メチル−２，４，６−トリス−トリフルオロ
メチルベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，
４，６−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、
N−メチル−α−イソプロピル−２，４，６−トリス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−
シクロプロピル−２，４，６−トリス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，４，６−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−メチル−３，４，５−トリス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−エ
チル−３，４，５−トリス−トリフルオロメチルベンジ
ルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−３，４，５
−トリス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メ
チル−α−シクロプロピル−３，４，５−トリス−トリ
フルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−
ブチル−３，４，５−トリス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，４，５
−テトラキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２，３，４，５−テトラキス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−２，３，４，５−テトラキス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプ
ロピル−２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，４，６
−テトラキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２，３，４，６−テトラキス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−２，３，４，６−テトラキス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプ
ロピル−２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，５，６
−テトラキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N
−メチル−α−エチル−２，３，５，６−テトラキス−
トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−２，３，５，６−テトラキス−トリフル
オロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプ
ロピル−２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメ
チルベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメチルベン
ジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，４，
５，６−ペンタキス−トリフルオロメチルベンジルアミ
ン、N−メチル−α−エチル−２，３，４，５，６−ペ
ンタキス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メ
チル−α−イソプロピル−２，３，４，５，６−ペンタ
キス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル
−α−シクロプロピル−２，３，４，５，６−ペンタキ
ス−トリフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−
α−ｔ−ブチル−２，３，４，５，６−ペンタキス−ト
リフルオロメチルベンジルアミン、N−メチル−α−メ
チル−２−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−
メチル−α−エチル−２−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−シク
ロプロピル−２−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−３−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α
−エチル−３−トリフルオロメトキシベンジルアミン、
N−メチル−α−イソプロピル−３−トリフルオロメト
キシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル
−３−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−ｔ−ブチル−３−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、N−メチル−α−メチル−４−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−４
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−
α−イソプロピル−４−トリフルオロメトキシベンジル
アミン、N−メチル−α−シクロプロピル−４−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−
ブチル−４−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N
−メチル−α−メチル−２，３−ビス−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，
３−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−
メチル−α−イソプロピル−２，３−ビス−トリフルオ
ロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプ
ロピル−２，３−ビス−トリフルオロメトキシベンジル
アミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，３−ビス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α
−メチル−２，４−ビス−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、N−メチル−α−エチル−２，４−ビス−ト
リフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−
イソプロピル−２，４−ビス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，
４−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−
メチル−α−ｔ−ブチル−２，４−ビス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
２，５−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、
N−メチル−α−エチル−２，５−ビス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピ
ル−２，５−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，５−ビス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α
−ｔ−ブチル−２，５−ビス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，６−ビス
−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−
α−エチル−２，６−ビス−トリフルオロメトキシベン
ジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，６−
ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−シクロプロピル−２，６−ビス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル
−２，６−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−メチル−３，４−ビス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−エチル
−３，４−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−イソプロピル−３，４−ビス−ト
リフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−
シクロプロピル−３，４−ビス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−３，４
−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メ
チル−α−メチル−３，５−ビス−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−３，５−
ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−３，５−ビス−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピ
ル−３，５−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−３，５−ビス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−メ
チル−２，３，４−トリス−トリフルオロメトキシベン
ジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，３，４−ト
リス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−２，３，４−トリス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロ
プロピル−２，３，４−トリス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，
３，４−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−メチル−２，３，５−トリス−ト
リフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−
エチル−２，３，５−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，
３，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，３，５−ト
リス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−ｔ−ブチル−２，３，５−トリス−トリフルオ
ロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
２，３，６−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、N−メチル−α−エチル−２，３，６−トリス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α
−イソプロピル−２，３，６−トリス−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピ
ル−２，３，６−トリス−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，３，６−
トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メ
チル−α−メチル−２，４，５−トリス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−エチル−
２，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、N−メチル−α−イソプロピル−２，４，５−ト
リス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−シクロプロピル−２，４，５−トリス−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−
ブチル−２，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，４，６−
トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メ
チル−α−エチル−２，４，６−トリス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピ
ル−２，４，６−トリス−トリフルオロメトキシベンジ
ルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−２，４，
６−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N
−メチル−α−ｔ−ブチル−２，４，６−トリス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−メ
チル−３，４，５−トリス−トリフルオロメトキシベン
ジルアミン、N−メチル−α−エチル−３，４，５−ト
リス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−３，４，５−トリス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロ
プロピル−３，４，５−トリス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−３，
４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−メチル−２，３，４，５−テトラ
キス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−エチル−２，３，４，５−テトラキス−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−イソ
プロピル−２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロ
ピル−２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメト
キシベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−
２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−α−メチル−２，３，４，
６−テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−エチル−２，３，４，６−テトラ
キス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−α−イソプロピル−２，３，４，６−テトラキス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α
−シクロプロピル−２，３，４，６−テトラキス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ
−ブチル−２，３，４，６−テトラキス−トリフルオロ
メトキシベンジルアミン、N−メチル−α−メチル−
２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−α−エチル−２，３，５，
６−テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−α−イソプロピル−２，３，５，６−
テトラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N
−メチル−α−シクロプロピル−２，３，５，６−テト
ラキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メ
チル−α−ｔ−ブチル−２，３，５，６−テトラキス−
トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α
−メチル−２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、N−メチル−α−エチル
−２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメト
キシベンジルアミン、N−メチル−α−イソプロピル−
２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、N−メチル−α−シクロプロピル−
２，３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、N−メチル−α−ｔ−ブチル−２，
３，４，５，６−ペンタキス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン等が挙げられる。

【００３９】一般式［２５］で示されるＮ−アルキル−
トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンとしては、N
−メチル−２−トリフルオロメトキシベンジルアミン、
N−メチル−３−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−４−トリフルオロメトキシベンジルア
ミン、N−メチル−２，３−ビス−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、N−メチル−２，４−ビス−トリフ
ルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−２，５−
ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−２，６−ビス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−３，４−ビス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、N−メチル−３，５−ビス−トリフル
オロメトキシベンジルアミン、N−メチル−２，３，４
−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−
メチル−２，３，５−トリス−トリフルオロメトキシベ
ンジルアミン、N−メチル−２，３，６−トリス−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル−２，
４，５−トリス−トリフルオロメトキシベンジルアミ
ン、N−メチル−２，４，６−トリス−トリフルオロメ
トキシベンジルアミン、N−メチル−３，４，５−トリ
ス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチル
−２，３，４，５−テトラキス−トリフルオロメトキシ
ベンジルアミン、N−メチル−２，３，４，６−テトラ
キス−トリフルオロメトキシベンジルアミン、N−メチ
ル−２，３，５，６−テトラキス−トリフルオロメトキ
シベンジルアミン、N−メチル−２，３，４，５，６−
ペンタキス−トリフルオロメトキシベンジルアミン等が
挙げられる。

【００４０】一般式［１８］で示されるフルオロ、トリ
フルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニ
ルアルキルケトンの多くは公知化合物である。新規化合
物の場合は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．、N
o.５３、４６４７頁、１９７０年に記載の方法等により
容易に合成することができる。つまり、一般式［２６］

【００４１】

【化３８】

【００４２】［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロ
メチル基またはトリフルオロメトキシ基を表し、ｎは１
から５の整数を表し、Ｒ¹は任意の置換位置をとり、Ｘ
はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのハロゲンを表す］で示されるフ
ルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキ
シ置換ベンゾイルハライドをアルキルリチウムとヨウ化
銅から調製される、一般式［２７］

【００４３】

【化３９】

【００４４】［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アル
キル基を表し、例えば、メチル、エチル、１−プロピ
ル、２−プロピル、シクロプロピル、１−ブチル、２−
ブチル、２−メチル−１−プロピル、ｔ−ブチル、シク
ロブチル、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチ
ル、ネオペンチル、ｔ−アミル、シクロペンチル、１−
ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシ
ル等が挙げられる］で示される有機銅試薬を窒素雰囲気
下、低温で反応させることにより容易に合成できる。

【００４５】一般式［２２］で示されるトリフルオロメ
トキシ置換ベンズアルデヒドの幾つかは公知化合物であ
る。新規化合物の場合は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．、Ｖｏｌ．９６、７７６１頁、１９７４年に記載の
方法等により容易に合成することができる。つまり、一
般式［２８］

【００４６】

【化４０】

【００４７】［式中、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣ
Ｆ₃基は任意の置換位置をとり、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉの
ハロゲンを表す］で示されるハロゲン化トリフルオロメ
トキシ置換ベンゼンを、一般式［２９］

【００４８】

【化４１】

【００４９】［式中、Ｒ¹は独立して炭素数１から６の
低級アルキル基を表し、例えば、メチル、エチル、１−
プロピル、２−プロピル、シクロプロピル、１−ブチ
ル、２−ブチル、２−メチル−１−プロピル、ｔ−ブチ
ル、シクロブチル、１−ペンチル、２−ペンチル、３−
ペンチル、ネオペンチル、ｔ−アミル、シクロペンチ
ル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シク
ロヘキシル等が挙げられる］で示されるトリアルキルア
ミンの存在下、一般式［３０］

【００５０】

【化４２】

【００５１】［式中、Ｐｈはフェニル基を表し、ＸはＣ
ｌ、Ｂｒ、Ｉのハロゲンを表す］で示されるＰｄ触媒を
用いて、水素および一酸化炭素と反応させることにより
容易に合成できる。

【００５２】本発明の一般式［２１］で示されるα−ア
ルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフル
オロメトキシ置換ベンジルアミンの製造工程は以下に示
す二段階の工程（第一工程；脱水縮合、第二工程；水素
添加と加水素分解）から構成される。 （第一工程；脱水縮合）本工程は、一般式［１８］で示
されるフルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオ
ロメトキシ置換フェニルアルキルケトンと式［１９］で
示されるベンジルアミンの脱水縮合であるため、酸性条
件下、副生する水を除きながら反応を行う。好ましく
は、水と混和せず、水よりも比重が小さく、水と共沸す
る反応溶媒を使用して、還流条件下、ディーン・スター
ク管で副生する水を除く。

【００５３】ベンジルアミンの使用量としては、フルオ
ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
換フェニルアルキルケトンに対して、１モル当量以上使
用すればよく、通常は１〜１０モル当量が好ましく、特
に１〜５モル当量がより好ましい。

【００５４】酸触媒としては、ベンゼンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸等
の有機酸、塩酸、硫酸、リン酸、塩化亜鉛、四塩化チタ
ン等の無機酸が挙げられる。その中でもｐ−トルエンス
ルホン酸、硫酸および塩化亜鉛が好ましく、特にｐ−ト
ルエンスルホン酸および塩化亜鉛がより好ましい。

【００５５】酸触媒の使用量としては、フルオロ、トリ
フルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニ
ルアルキルケトンに対して、触媒量使用すればよく、通
常は０．００１〜０．９モル当量が好ましく、特に０．
００５〜０．５モル当量がより好ましい。

【００５６】反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化
水素系が好ましく、特にトルエンがより好ましい。これ
らの反応溶媒は、単独または組み合わせて使用すること
ができる。

【００５７】反応溶媒の使用量としては、理論的に副生
する水の量を共沸除去できるだけの反応溶媒量を必要と
するが、ディーン・スターク管を用いることにより使用
量を極端に減らすことができる。

【００５８】温度条件としては、使用する反応溶媒と水
の共沸温度から反応溶媒の沸点までの範囲で行うことが
でき、特に使用する反応溶媒の沸点付近がより好まし
い。

【００５９】反応時間としては、７２時間以内に終了す
るが、通常は採用した反応基質および反応条件により異
なるため、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマトグラ
フィー、ＨＰＬＣ、ＮＭＲ等の分析手段で反応の進行状
況を追跡し、原料がほぼ消失した時点で反応を終了する
ことが好ましい。

【００６０】後処理としては、反応終了後、通常の後処
理操作を行うことにより粗生成物を得ることができる。
特に過剰に使用したベンジルアミンは、イミンを含む有
機層を塩化アンモニウムの水溶液で洗浄することにより
選択的に除去できる。粗生成物は、必要に応じて、活性
炭、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製
操作を行うことにより、目的の一般式［２０］で示され
るイミンを高い化学純度で得ることができる。

【００６１】（第二工程；水素添加と加水素分解）第一
工程で得られたイミンの水素添加と加水素分解を水素雰
囲気下、金属触媒を用いることにより行う。

【００６２】本工程は、遷移金属触媒を用いる接触還元
により良好に進行する。

【００６３】遷移金属触媒としては、酸化白金、白金／
活性炭、白金黒等の白金触媒、還元ニッケル、ラネーニ
ッケル、白金付きラネーニッケル等のニッケル触媒、ラ
ネーコバルト等のコバルト触媒、還元銅、銅−クロム酸
化物等の銅触媒、亜鉛−クロム酸化物等の亜鉛触媒、酸
化ルテニウム、ルテニウム／活性炭等のルテニウム触
媒、ロジウム／活性炭、ロジウム／アルミナ、ロジウム
−酸化白金等のロジウム触媒、イリジウム黒等のイリジ
ウム触媒、酸化レニウム等のレニウム触媒、パラジウム
／活性炭、水酸化パラジウム、パラジウム黒、パラジウ
ム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸ストロンチウム、
パラジウム／炭酸カルシウム、パラジウム／炭酸カルシ
ウム−二酢酸鉛、パラジウム／硫酸バリウム−キノリ
ン、パラジウム／アルミナ、パラジウムスポンジ、塩化
パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセ
トナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム、ジクロロ［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラ
ジウム、ジクロロ［ビス（ジフェニルホスフィノ）メタ
ン］パラジウム、ジクロロ［ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１，３−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ
［１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラ
ジウム、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）パラ
ジウム、ジクロロ［ビス（ベンゾニトリル）］パラジウ
ム、ジクロロ［ビス（アセトニトリル）］パラジウム、
酢酸［ビス（トリフェニルホスフィン）］パラジウム等
のパラジウム触媒等が挙げられる。その中でも白金触
媒、ロジウム触媒およびパラジウム触媒が好ましく、特
に白金／活性炭、ロジウム／活性炭およびパラジウム／
活性炭がより好ましい。これらの遷移金属触媒は、単独
または組み合わせて用いることができる。金属を担体に
担持させた触媒を用いる場合、その担持量は、０．１〜
５０重量％であり、０．５〜３０重量％が好ましく、特
に１〜２０重量％がより好ましい。また、取り扱いの安
全性を高めるために、または、金属表面の酸化を防ぐた
めに、水、鉱油中で保存したものを使うこともできる。

【００６４】遷移金属触媒の使用量としては、イミンに
対して、金属換算で０．０００５〜２．５重量％であ
り、通常は０．００５〜１．５重量％が好ましく、特に
０．０１〜１．０重量％がより好ましい。

【００６５】水素の使用量としては、イミンに対して、
２モル当量以上使用すればよく、通常は反応系を水素雰
囲気下で行うため大過剰使用する。

【００６６】水素圧としては、０．０１〜１０ＭＰａで
あり、通常は０．０５〜５．０ＭＰａが好ましく、特に
０．１〜２．０ＭＰａがより好ましい。

【００６７】水素源としては、分子状水素以外に、ギ
酸、ギ酸アンモニウム、ヒドラジン等を用いることもで
きる。

【００６８】温度条件としては、−５０〜＋１５０℃で
あり、通常は−２５〜＋１２０℃が好ましく、特に０〜
＋１００℃がより好ましい。

【００６９】反応時間としては、７２時間以内に終了す
るが、通常は採用した反応基質および反応条件により異
なるため、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマトグラ
フィー、ＨＰＬＣ、ＮＭＲ等の分析手段で反応の進行状
況を追跡し、原料がほぼ消失した時点で反応を終了する
ことが好ましい。

【００７０】本反応は、添加剤として酸またはアンモニ
アを加えることにより円滑に進行する場合がある。

【００７１】添加剤の酸としては、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファー
スルホン酸等の有機酸、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸等の無機酸が挙げられる。その中でも
酢酸、プロピオン酸、塩酸、硫酸および臭化水素酸が好
ましく、特に酢酸、塩酸および硫酸がより好ましい。

【００７２】添加剤のアンモニアとしては、アンモニア
ガス、あるいは、アンモニアガスをメタノ−ルまたはｉ
−プロパノールに溶解させた市販のアルコール溶液を用
いることもできる。

【００７３】添加剤の使用量としては、一般式［２０］
で示されるイミンに対して、０．１モル当量以上使用す
ればよく、通常は０．１〜１００モル当量が好ましく、
特に０．１〜５０モル当量がより好ましい。

【００７４】反応溶媒としては、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化
水素系、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等
の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、クロロホルム、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチ
ルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル系、酢酸
エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、メタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等の
アルコール系等が挙げられる。その中でもトルエン、酢
酸エチル、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール
が好ましく、特にメタノール、エタノール、ｉ−プロパ
ノールがより好ましい。これらの反応溶媒は、単独また
は組み合わせて用いることができる。

【００７５】後処理としては、反応終了後、通常の後処
理操作を行うことにより粗生成物を得ることができる。
粗生成物は、必要に応じて、活性炭、蒸留、再結晶、有
機酸または無機酸の塩の再結晶、カラムクロマトグラフ
ィー等の精製操作を行うことにより、目的の一般式［２
１］で示されるα−アルキル−フルオロ、トリフルオロ
メチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
を高い化学純度で得ることができる。

【００７６】本発明の一般式［２４］で示されるＮ−ア
ルキル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチル
またはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン、ある
いは、一般式［２５］で示されるＮ−アルキル−トリフ
ルオロメトキシ置換ベンジルアミンは、一般式［１８］
で示されるフルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフ
ルオロメトキシ置換フェニルアルキルケトン、あるい
は、一般式［２２］で示されるトリフルオロメトキシ置
換ベンズアルデヒドを、一般式［２３］で示されるアル
キルアミンと縮合し、さらに反応系中にハイドライド還
元剤を加えることにより、高い化学純度で、収率よく製
造できる。

【００７７】アルキルアミンとしては、室温で気体の化
合物も含めてニートで用いるが、市販のメタノールまた
はテトラヒドロフラン等のアルキルアミン溶液を用いる
こともできる。

【００７８】アルキルアミンの使用量としては、フルオ
ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
換フェニルアルキルケトンあるいはトリフルオロメトキ
シ置換ベンズアルデヒドに対して、１モル当量以上使用
すればよく、通常は１〜２０モル当量が好ましく、特に
１〜１０モル当量がより好ましい。

【００７９】縮合の温度条件としては、−１００〜＋１
５０℃であり、通常は−４０〜＋１００℃が好ましい。

【００８０】縮合の反応時間としては、７２時間以内に
終了するが、通常は採用した反応基質および反応条件に
より異なるため、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマ
トグラフィー、ＨＰＬＣ、ＮＭＲ等の分析手段で反応の
進行状況を追跡し、原料がほぼ消失した時点でハイドラ
イド還元剤を反応系中に添加する。

【００８１】ハイドライド還元剤としては、（ｉ−Ｂ
ｕ）₂ＡｌＨ、（ｉ−Ｂｕ）₃Ａｌ、［２，６−（ｔ−Ｂ
ｕ）₂−４−ＭｅＰｈ］Ａｌ（ｉ−Ｂｕ）₂、ＬｉＡｌＨ
₄、ＬｉＡｌＨ（ＯＭｅ）₃、ＬｉＡｌＨ（Ｏ−ｔ−Ｂ
ｕ）₃、ＮａＡｌＨ₂（ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂等のアル
ミニウムハイドライド系、ジボラン、ＢＨ₃・ＴＨＦ、
ＢＨ₃・ＳＭｅ₂、ＢＨ₃・ＮＭｅ₃、９−ＢＢＮ、ＮａＢ
Ｈ₄、ＮａＢＨ₄−ＣｅＣｌ ₃、ＬｉＢＨ₄、Ｚｎ（Ｂ
Ｈ₄）₂、Ｃａ（ＢＨ₄）₂、Ｌｉｎ−ＢｕＢＨ₃、ＮａＢ
Ｈ（ＯＭｅ）₃、ＮａＢＨ（ＯＡｃ）₃、ＮａＢＨ₃Ｃ
Ｎ、Ｅｔ₄ＮＢＨ₄、Ｍｅ₄ＮＢＨ（ＯＡｃ）₃、（ｎ−Ｂ
ｕ）₄ＮＢＨ₃ＣＮ、（ｎ−Ｂｕ）₄ＮＢＨ（ＯＡｃ） ₃、
Ｌｉ（ｓ−Ｂｕ）₃ＢＨ、Ｋ（ｓ−Ｂｕ）₃ＢＨ、ＬｉＳ
ｉａ₃ＢＨ、ＫＳｉａ ₃ＢＨ、ＬｉＥｔ₃ＢＨ、ＫＰｈ₃Ｂ
Ｈ、（Ｐｈ₃Ｐ）₂ＣｕＢＨ₄、ＴｈｘＢＨ₂、Ｓｉａ₂Ｂ
Ｈ、カテコールボラン、ＩｐｃＢＨ₂、Ｉｐｃ₂ＢＨ等の
ホウ素ハイドライド系、Ｅｔ₃ＳｉＨ、ＰｈＭｅ₂Ｓｉ
Ｈ、Ｐｈ₂ＳｉＨ₂、ＰｈＳｉＨ₃−Ｍｏ（ＣＯ）₆等のケ
イ素ハイドライド系等が挙げられる。ここでＢｕはブチ
ル基、Ｐｈはフェニル基、Ｍｅはメチル基、ＴＨＦはテ
トラヒドロフラン、９−ＢＢＮは９−ボラビシクロ
［３，３，１］ノナン、Ａｃはアセチル基、Ｓｉａはサ
イアミル基、Ｅｔはエチル基、Ｔｈｘはテキシル基、Ｉ
ｐｃはｉｓｏｐｉｎｏｃａｍｐｈｅｙｌ基をそれぞれ表
す。その中でもＬｉＡｌＨ₄、ジボラン、ＮａＢＨ₄およ
びＬｉＢＨ₄が好ましく、特にＮａＢＨ₄がより好まし
い。これらのハイドライド還元剤は、各種の無機塩の存
在下に用いることもできる。

【００８２】ハイドライド還元剤の使用量としては、フ
ルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキ
シ置換フェニルアルキルケトンあるいはトリフルオロメ
トキシ置換ベンズアルデヒドに対して、０．２５モル当
量以上使用すればよく、通常は０．２５〜１０モル当量
が好ましく、特に０．２５〜７．０モル当量がより好ま
しい。

【００８３】反応溶媒としては、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化
水素系、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等
の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、クロロホルム、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチ
ルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル系、酢酸
エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、メタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等の
アルコール系等が挙げられる。その中でもトルエン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、メタノール、エタノー
ル、ｉ−プロパノールが好ましく、特にテトラヒドロフ
ラン、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノールがよ
り好ましい。これらの反応溶媒は、単独または組み合わ
せて用いることができる。

【００８４】反応溶媒の使用量としては、フルオロ、ト
リフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェ
ニルアルキルケトンあるいはトリフルオロメトキシ置換
ベンズアルデヒド１ｍｍｏｌに対して、０．２５〜５０
ｍｌであり、通常は０．２５〜２５ｍｌが好ましく、特
に０．２５〜１５ｍｌがより好ましい。

【００８５】ハイドライド還元の温度条件としては、−
１００〜＋１５０℃であり、通常は−４０〜＋１００℃
が好ましい。

【００８６】ハイドライド還元の反応時間としては、７
２時間以内に終了するが、通常は採用した反応基質およ
び反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィ
ー、薄層クロマトグラフィー、ＨＰＬＣ、ＮＭＲ等の分
析手段で反応の進行状況を追跡し、原料がほぼ消失した
時点で反応を終了することが好ましい。

【００８７】後処理としては、反応終了後、通常の後処
理操作を行うことにより粗生成物を得ることができる。
粗生成物は、必要に応じて、活性炭、蒸留、再結晶、有
機酸または無機酸の塩の再結晶、カラムクロマトグラフ
ィー等の精製操作を行うことにより、目的の一般式［２
４］で示されるＮ−アルキル−α−アルキル−フルオ
ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
換ベンジルアミン、あるいは、一般式［２５］で示され
るＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルア
ミンを高い化学純度で得ることができる。

【００８８】

【実施例】以下、実施例により本発明の実施の形態を具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。

【００８９】［実施例１］α−エチル−３，５−ジフル
オロベンジルアミン （脱水縮合）トルエン２０ｍｌに、３'，５'−ジフルオ
ロプロピオフェノン２．０ｇ（１１．７５ｍｍｏｌ、１
ｅｑ）、ベンジルアミン１．３９ｇ（１２．９３ｍｍｏ
ｌ、１．１ｅｑ）と塩化亜鉛０．１６ｇ（１．１８ｍｍ
ｏｌ、０．１ｅｑ）を加え、加熱還流条件下で１８時間
撹拌し、副生する水をディーン・スターク管で除いた。
反応終了液を５％水酸化ナトリウム水溶液、１．５Ｎ塩
化アンモニウム水溶液、水の順に洗浄した。回収有機層
は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、真
空乾燥し、下記式

【００９０】

【化４３】

【００９１】で示されるイミンの粗生成物２．９２ｇを
得た。粗生成物の変換率は、ガスクロマトグラフィー
（以下ＧＣという）により決定し、９６％であった。ま
た、粗生成物の異性体比は、¹Ｈ−ＮＭＲにより決定
し、Ｅ体：Ｚ体＝８０：２０であった。 （Ｅ体）¹Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤ
Ｃｌ₃）、δ ｐｐｍ：１．１６（ｔ，８．０Ｈｚ，３
Ｈ），２．７７（ｑ，８．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７９
（ｓ，２Ｈ），７．２３−７．４５（Ａｒ−Ｈ，８
Ｈ）。 （Ｚ体）¹Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤ
Ｃｌ₃）、δ ｐｐｍ：１．１５（ｔ，７．２Ｈｚ，３
Ｈ），２．６０（ｑ，７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．４１
（ｓ，２Ｈ），７．２３−７．４５（Ａｒ−Ｈ，８
Ｈ）。 （水素添加と加水素分解）メタノール２ｍｌに、脱水縮
合で製造したイミンの粗生成物０．５０ｇ（１．９３ｍ
ｍｏｌとする、１ｅｑ）と５％パラジウム／活性炭（５
０重量％含水品）２５ｍｇを加え、水素圧を０．５ＭＰ
ａに設定し、６０℃で１５間撹拌した。反応終了液をセ
ライト濾過し、濃縮し、真空乾燥し、下記式

【００９２】

【化４４】

【００９３】で示されるα−エチル−３，５−ジフルオ
ロベンジルアミンの粗生成物０．１４ｇ（収率４３％）
を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８７（ｔ，７．６Ｈｚ，３Ｈ），
１．６６（ｄｑ，６．８Ｈｚ，７．６Ｈｚ，２Ｈ），
１．７０（ｂｒ，１Ｈ），３．８１（ｔ，６．８Ｈｚ，
１Ｈ），６．６７（ｔｔ，２．４Ｈｚ，８．８Ｈｚ，Ａ
ｒ−Ｈ，１Ｈ），６．８６（ｄ，８．０Ｈｚ，Ａｒ−
Ｈ，２Ｈ）。

【００９４】［実施例２］α−エチル−３−トリフルオ
ロメチルベンジルアミン （脱水縮合）トルエン１０ｍｌに、３'−トリフルオロ
メチルプロピオフェノン２．０ｇ（９．８９ｍｍｏｌ、
１ｅｑ）、ベンジルアミン１．１７ｇ（１０．８８ｍｍ
ｏｌ、１．１ｅｑ）と塩化亜鉛０．１４ｇ（０．９９ｍ
ｍｏｌ、０．１ｅｑ）を加え、加熱還流条件下で１７時
間撹拌し、副生する水をディーン・スターク管で除い
た。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水溶液、１．５
Ｎ塩化アンモニウム水溶液、水の順に洗浄した。回収有
機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮
し、真空乾燥し、下記式

【００９５】

【化４５】

【００９６】で示されるイミンの粗生成物２．８８ｇを
得た。粗生成物の変換率は、ＧＣにより決定し、９０％
であった。また、粗生成物の異性体比は、¹Ｈ−ＮＭＲ
により決定し、Ｅ体：Ｚ体＝７９：２１であった。 （Ｅ体）¹Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤ
Ｃｌ₃）、δ ｐｐｍ：１．１６（ｔ，７．６Ｈｚ，３
Ｈ），２．８４（ｑ，７．６Ｈｚ，２Ｈ），４．８２
（ｓ，２Ｈ），７．２２−８．１１（Ａｒ−Ｈ，９
Ｈ）。 （Ｚ体）¹Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤ
Ｃｌ₃）、δ ｐｐｍ：１．１６（ｔ，７．６Ｈｚ，３
Ｈ），２．６５（ｑ，７．６Ｈｚ，２Ｈ），４．４０
（ｓ，２Ｈ），７．２２−８．１１（Ａｒ−Ｈ，９
Ｈ）。 （水素添加と加水素分解）メタノール３ｍｌに、脱水縮
合で製造したイミンの粗生成物０．８７ｇ（２．９９ｍ
ｍｏｌとする、１ｅｑ）と５％パラジウム／活性炭（５
０重量％含水品）４３ｍｇを加え、水素圧を０．５ＭＰ
ａに設定し、６０℃で１７間撹拌した。反応終了液をセ
ライト濾過し、濃縮し、真空乾燥し、下記式

【００９７】

【化４６】

【００９８】で示されるα−エチル−３−トリフルオロ
メチルベンジルアミンの粗生成物０．４２ｇ（収率６９
％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８８（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．７２（ｄｄｑ，３．２Ｈｚ，６．８Ｈｚ，７．２Ｈ
ｚ，２Ｈ），２．１４（ｂｒ，１Ｈ），３．９１（ｔ，
６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４２−７．６０（Ａｒ−Ｈ，
４Ｈ）。

【００９９】［実施例３］α−メチル−３−トリフルオ
ロメトキシベンジルアミン （脱水縮合）トルエン１０ｍｌに、３'−トリフルオロ
メトキシアセトフェノン２．００ｇ（９．８０ｍｍｏ
ｌ、１ｅｑ）、ベンジルアミン１．１６ｇ（１０．７８
ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）と塩化亜鉛０．１３ｇ（０．９
８ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ）を加え、加熱還流条件下で１
６時間撹拌し、副生する水をディーン・スターク管で除
いた。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水溶液、１．
５Ｎ塩化アンモニウム水溶液、水の順に洗浄した。回収
有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮
し、真空乾燥し、下記式

【０１００】

【化４７】

【０１０１】で示されるイミンの粗生成物２．６８ｇを
得た。粗生成物の変換率は、ＧＣにより決定し、１００
％であった。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ２．３２（ｔ，０．８Ｈｚ，３Ｈ），
４．７４（ｓ，２Ｈ），７．２４−７．８０（Ａｒ−
Ｈ，８Ｈ）。 （水素添加と加水素分解）メタノール２ｍｌに、脱水縮
合で製造したイミンの粗生成物０．４５ｇ（１．５２ｍ
ｍｏｌとする、１ｅｑ）と５％パラジウム／活性炭（５
０重量％含水）２３ｍｇを加え、水素圧を０．５ＭＰａ
に設定し、６０℃で１８間撹拌した。反応終了液をセラ
イト濾過し、濃縮し、真空乾燥し、下記式

【０１０２】

【化４８】

【０１０３】で示されるα−メチル−３−トリフルオロ
メトキシベンジルアミンの粗生成物０．２５ｇ（収率８
０％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．４０（ｄ，６．８Ｈｚ，３Ｈ），
２．１９（ｂｒ，１Ｈ），４．１６（ｑ，６．８Ｈｚ，
１Ｈ），７．０９−７．３７（Ａｒ−Ｈ，４Ｈ）。

【０１０４】［実施例４］α−エチル−３−トリフルオ
ロメトキシベンジルアミン （脱水縮合）トルエン９．２ｍｌに、３'−トリフルオ
ロメトキシプロピオフェノン２．０ｇ（９．１７ｍｍｏ
ｌ、１ｅｑ）、ベンジルアミン１．０８ｇ（１０．０９
ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ）と塩化亜鉛０．１３ｇ（０．９
２ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ）を加え、加熱還流条件下で１
８時間撹拌し、副生する水をディーン・スターク管で除
いた。反応終了液を５％水酸化ナトリウム水溶液、１．
５Ｎ塩化アンモニウム水溶液、水の順に洗浄した。回収
有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮
し、真空乾燥し、下記式

【０１０５】

【化４９】

【０１０６】で示されるイミンの粗生成物２．７８ｇを
得た。粗生成物の変換率は、ＧＣにより決定し、９０％
であった。また、粗生成物の異性体比は、¹Ｈ−ＮＭＲ
により決定し、Ｅ体：Ｚ体＝７４：２６であった。 （Ｅ体）¹Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤ
Ｃｌ₃）、δ ｐｐｍ：１．１６（ｔ，７．６Ｈｚ，３
Ｈ），２．８０（ｑ，７．６Ｈｚ，２Ｈ），４．７９
（ｓ，２Ｈ），７．２１−７．７９（Ａｒ−Ｈ，９
Ｈ）。 （Ｚ体）¹Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤ
Ｃｌ₃）、δ ｐｐｍ：１．１５（ｔ，７．６Ｈｚ，３
Ｈ），２．６３（ｑ，７．６Ｈｚ，２Ｈ），４．４１
（ｓ，２Ｈ），７．２２−８．１１（Ａｒ−Ｈ，９
Ｈ）。 （水素添加と加水素分解）メタノール３．２ｍｌに、脱
水縮合で製造したイミンの粗生成物１．００ｇ（３．２
５ｍｍｏｌとする、１ｅｑ）と５％パラジウム／活性炭
（５０重量％含水）５０ｍｇを加え、水素圧を０．５Ｍ
Ｐａに設定し、６０℃で１７間撹拌した。反応終了液を
セライト濾過し、濃縮し、真空乾燥し、下記式

【０１０７】

【化５０】

【０１０８】で示されるα−エチル−３−トリフルオロ
メトキシベンジルアミンの粗生成物０．４０ｇ（収率６
６％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８７（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．６９（ｄｄｑ，３．２Ｈｚ，６．８Ｈｚ，７．２Ｈ
ｚ，２Ｈ），１．７６（ｂｒ，１Ｈ），３．８５（ｔ，
６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０９−７．３７（Ａｒ−Ｈ，
４Ｈ）。

【０１０９】［実施例５］N−メチル−α−メチル−４
−フルオロベンジルアミン 耐圧反応器に、４'−フルオロアセトフェノン１．８１
ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）、メチルアミン（４０％ＭｅＯ
Ｈ溶液）５．１ｇ（６５．７ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）と
メタノール１３ｍｌを加えて、６０℃で１８時間撹拌し
た。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホウ素ナトリウム
０．５５ｇ（１４．５ｍｍｏｌ，１．１ｅｑ）を加え、
さらに同温度で３時間撹拌した。１ＮＨＣｌ水溶液で反
応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中和、酢酸エチル
で抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１１０】

【化５１】

【０１１１】で示されるN−メチル−α−メチル−４−
フルオロベンジルアミンの粗生成物１．７０ｇ（収率８
５％，Ｇ．Ｃ．純度（ガスクロマトグラフィーにより得
られる目的物純度をいう）９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．３３（ｄ，６．４Ｈｚ，３Ｈ），
１．６５（ｂｒ，１Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），３．
６４（ｑ，６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（Ａｒ−Ｈ，
２Ｈ），７．２６（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ）。

【０１１２】［実施例６］N−ｎ−ブチル−α−メチル
−４−フルオロベンジルアミン 耐圧反応器に、４'−フルオロアセトフェノン２．００
ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルアミン２．６５ｇ
（３６．２ｍｍｏｌ，２．５ｅｑ）とメタノール１４．
５ｍｌを加えて、室温で２４時間撹拌した。その縮合溶
液に、０℃で、水素化ホウ素ナトリウム０．６０ｇ（１
５．９ｍｍｏｌ，１．１ｅｑ）を加え、さらに同温度で
３時間撹拌した。１ＮＨＣｌ水溶液で反応を停止させ、
３ＮＮａＯＨ水溶液で中和、酢酸エチルで抽出、飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、濃
縮、真空乾燥し、下記式

【０１１３】

【化５２】

【０１１４】で示されるN−ｎ−ブチル−α−メチル−
４−フルオロベンジルアミンの粗生成物２．４６ｇ（収
率８７％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８７（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．２６−１．３４（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｄ，６．
８Ｈｚ，３Ｈ），１．３９−１．４４（ｍ，３Ｈ），
２．３８（ｄｔ，１１．２Ｈｚ，６．８Ｈｚ，１Ｈ），
２．４７（ｄｔ，１１．２Ｈｚ，６．８Ｈｚ，１Ｈ），
３．７３（ｑ，６．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９７−７．０
１（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ），７．２５−７．２８（Ａｒ−
Ｈ，２Ｈ）。

【０１１５】［実施例７］N−メチル−α−エチル−２
−フルオロベンジルアミン 耐圧反応器に、２'−フルオロプロピオフェノン２．０
０ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）、メチルアミン（４０％Ｍｅ
ＯＨ溶液）５．１ｇ（６５．７ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）
とメタノール１３ｍｌを加えて、６０℃で１８時間撹拌
した。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホウ素ナトリウ
ム０．５５ｇ（１４．５ｍｍｏｌ，１．１ｅｑ）を加
え、さらに同温度で３時間撹拌した。１ＮＨＣｌ水溶液
で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中和、酢酸エ
チルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１１６】

【化５３】

【０１１７】で示されるN−メチル−α−エチル−２−
フルオロベンジルアミンの粗生成物１．８９ｇ（収率８
６％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ８．４０（ｔ，７．６Ｈｚ，３Ｈ），
１．５０（ｂｒ，１Ｈ），１．６２−１．７３（ｍ，１
Ｈ），１．７５−１．８６（ｍ，１Ｈ），２．２９
（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｄｄ，５．６Ｈｚ，７．６Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．９８−７．０３（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），
７．１０−７．１４（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），７．１７−
７．２３（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），７．２８−７．３４（Ａ
ｒ−Ｈ，１Ｈ）。

【０１１８】［実施例８］N−メチル−α−メチル−４
−トリフルオロメチルベンジルアミン 耐圧反応器に、４'−トリフルオロメチルアセトフェノ
ン２．４５ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）、メチルアミン（４
０％ＭｅＯＨ溶液）５．１ｇ（６５．７ｍｍｏｌ，５．
０ｅｑ）とメタノール１３ｍｌを加えて、６０℃で１８
時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホウ素
ナトリウム０．５５ｇ（１４．５ｍｍｏｌ，１．１ｅ
ｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌した。１ＮＨＣ
ｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中
和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１１９】

【化５４】

【０１２０】で示されるN−メチル−α−メチル−４−
トリフルオロメチルベンジルアミンの粗生成物２．１０
ｇ（収率７９％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．５１（ｄ，６．８Ｈｚ，３Ｈ），
２．３５（ｓ，２Ｈ），３．８８Ｈｚ（ｑ，６．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．１６（ｂｒ，６．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．５４（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ），７．６３（Ａｒ−Ｈ，２
Ｈ）。

【０１２１】［実施例９］N−エチル−α−メチル−４
−トリフルオロメチルベンジルアミン 耐圧反応器に、４'−トリフルオロメチルアセトフェノ
ン２．４５ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）、エチルアミン（６
０％ＭｅＯＨ溶液）４．９４ｇ（６５．７ｍｍｏｌ，
５．０ｅｑ）とメタノール１３ｍｌを加えて、６０℃で
１８時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホ
ウ素ナトリウム０．５５ｇ（１４．５ｍｍｏｌ，１．１
ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌した。１ＮＨ
Ｃｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中
和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１２２】

【化５５】

【０１２３】で示されるN−エチル−α−メチル−４−
トリフルオロメチルベンジルアミンの粗生成物２．３１
ｇ（収率８１％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．０８（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．３５（ｄ，６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．３５（ｂｒ，
１Ｈ），２．３８−２．６０（ｍ，２Ｈ），３．８５
（ｑ，６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（Ａｒ−Ｈ，２
Ｈ），７．５８（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ）。

【０１２４】［実施例１０］N−メチル−α−エチル−
３−トリフルオロメチルベンジルアミン 耐圧反応器に、３'−トリフルオロメチルプロピオフェ
ノン２．００ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、メチルアミン（４
０％ＭｅＯＨ溶液）３．８４ｇ（４９．５ｍｍｏｌ，
５．０ｅｑ）とメタノール１０ｍｌを加えて、６０℃で
１８時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホ
ウ素ナトリウム０．４１ｇ（１０．９ｍｍｏｌ，１．１
ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌した。１ＮＨ
Ｃｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中
和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１２５】

【化５６】

【０１２６】で示されるN−メチル−α−エチル−３−
トリフルオロメチルベンジルアミンの粗生成物２１．９
１ｇ（収率８９％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８１（ｔ，７．６Ｈｚ，３Ｈ），
１．５６（ｂｒ，１Ｈ），１．５８−１．６９（ｍ，１
Ｈ），１．７１−１．８０（ｍ，１Ｈ），２．２７
（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｄｄ，６．０Ｈｚ，７．６Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．４１−７．５５（Ａｒ−Ｈ，５Ｈ）。

【０１２７】［実施例１１］N−エチル−α−メチル−
３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン 耐圧反応器に、３,'５'−ビス−トリフルオロメチルア
セトフェノン３．３６ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）、エチル
アミン（６０％ＭｅＯＨ溶液）４．９４ｇ（６５．７ｍ
ｍｏｌ，５．０ｅｑ）とメタノール１３ｍｌを加えて、
６０℃で１８時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、
水素化ホウ素ナトリウム０．５５ｇ（１４．５ｍｍｏ
ｌ，１．１ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌し
た。１ＮＨＣｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ
水溶液で中和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥
し、下記式

【０１２８】

【化５７】

【０１２９】で示されるN−エチル−α−メチル−３，
５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミンの粗生成
物３．１８ｇ（収率８５％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得
た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．０９（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．３７（ｄ，６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４０（ｂｒ，
１Ｈ），２．３６−２．４９（ｍ，１Ｈ），２．４９−
２．６３（ｍ，１Ｈ），３．９２（ｑ，６．４Ｈｚ，１
Ｈ），７．７５（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），７．８１（Ａｒ−
Ｈ，２Ｈ）。

【０１３０】［実施例１２］N−メチル−α−ｎ−ブチ
ル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン
耐圧反応器に、３，５−ビス−トリフルオロメチルフェ
ニルｎ−ブチルケトン２．９５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、
メチルアミン（４０％ＭｅＯＨ溶液）３．８４ｇ（４
９．５ｍｍｏｌ，５．０ｅｑ）とメタノール１０ｍｌを
加えて、６０℃で１８時間撹拌した。その縮合溶液に、
０℃で、水素化ホウ素ナトリウム０．４１ｇ（１０．９
ｍｍｏｌ，１．１ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間
撹拌した。１ＮＨＣｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮ
ａＯＨ水溶液で中和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空
乾燥し、下記式

【０１３１】

【化５８】

【０１３２】で示されるN−メチル−α−ｎ−ブチル−
３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミンの粗
生成物１．９１ｇ（収率８９％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）
を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８６（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．０４−１．１８（ｍ，１Ｈ），１．１８−１．３７
（ｍ，３Ｈ），１．５５−１．６８（ｍ，１Ｈ），１．
６８−１．８２（ｍ，１Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），
２．６０（ｂｒ，１Ｈ），３．６０（ｔ，７．２Ｈｚ，
１Ｈ），７．７６（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ），７．７８（Ａｒ
−Ｈ，１Ｈ）。

【０１３３】［実施例１３］N−メチル−α−メチル−
４−トリフルオロメトキシベンジルアミン 耐圧反応器に、４'−トリフルオロメトキシアセトフェ
ノン２．６７ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）、メチルアミン
（４０％ＭｅＯＨ溶液）５．１ｇ（６５．７ｍｍｏｌ，
５．０ｅｑ）とメタノール１３ｍｌを加えて、６０℃で
１８時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホ
ウ素ナトリウム０．５５ｇ（１４．５ｍｍｏｌ，１．１
ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌した。１ＮＨ
Ｃｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中
和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１３４】

【化５９】

【０１３５】で示されるN−メチル−α−メチル−４−
トリフルオロメトキシベンジルアミンの粗生成物２．４
１ｇ（収率８４％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．３４（ｄ，６．８Ｈｚ，３Ｈ），
１．６３（ｂｒ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），３．
６７（ｑ，６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（Ａｒ−Ｈ，
２Ｈ），７．３３（Ａｒ−Ｈ，２Ｈ）。

【０１３６】［実施例１４］N−メチル−α−エチル−
３−トリフルオロメトキシベンジルアミン 耐圧反応器に、３'−トリフルオロメトキシプロピオフ
ェノン１．００ｇ（４．６ｍｍｏｌ）、メチルアミン
（４０％ＭｅＯＨ溶液）１．７８ｇ（２２．９ｍｍｏ
ｌ，５．０ｅｑ）とメタノール４．６ｍｌを加えて、６
０℃で１６時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、水
素化ホウ素ナトリウム０．１９ｇ（５．０ｍｍｏｌ，
１．１ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌した。
１ＮＨＣｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶
液で中和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下
記式

【０１３７】

【化６０】

【０１３８】で示されるN−メチル−α−エチル−３−
トリフルオロメトキシベンジルアミンの粗生成物０．９
３ｇ（収率８７％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．８１（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．５６−１．６７（ｍ，１Ｈ），１．６９−１．７８
（ｍ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），３．４０（ｄ
ｄ，６．０Ｈｚ，７．６Ｈｚ, １Ｈ），７．０８−
７．３６（Ａｒ−Ｈ，５Ｈ）。

【０１３９】［実施例１５］N−エチル−３−トリフル
オロメトキシベンジルアミン 耐圧反応器に、３−トリフルオロメトキシベンズアルデ
ヒド２．００ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）、エチルアミン
（６０％ＭｅＯＨ溶液）１．９８ｇ（２６．３ｍｍｏ
ｌ，２．５ｅｑ）とメタノール１０．５ｍｌを加えて、
室温で１４時間撹拌した。その縮合溶液に、０℃で、水
素化ホウ素ナトリウム０．４４ｇ（１１．６ｍｍｏｌ，
１．１ｅｑ）を加え、さらに同温度で３時間撹拌した。
１ＮＨＣｌ水溶液で反応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶
液で中和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下
記式

【０１４０】

【化６１】

【０１４１】で示されるN−エチル−３−トリフルオロ
メトキシベンジルアミンの粗生成物２．０６ｇ（収率９
０％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： １．１３（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．４１（ｂｒ，１Ｈ），２．６８（ｑ，７．２Ｈｚ，
２Ｈ），３．８１（ｓ，２Ｈ），７．０８−７．１０
（Ａｒ−Ｈ，１Ｈ），７．２０−７．３４（Ａｒ−
Ｈ，４Ｈ）。

【０１４２】［実施例１６］N−ｎ−ブチル−３−トリ
フルオロメトキシベンジルアミン 耐圧反応器に、３−トリフルオロメトキシベンズアルデ
ヒド２．００ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルアミ
ン１．９２ｇ（２６．３ｍｍｏｌ，２．５ｅｑ）とメタ
ノール１０．５ｍｌを加えて、室温で１６時間撹拌し
た。その縮合溶液に、０℃で、水素化ホウ素ナトリウム
０．４４ｇ（１１．６ｍｍｏｌ，１．１ｅｑ）を加え、
さらに同温度で４時間撹拌した。１ＮＨＣｌ水溶液で反
応を停止させ、３ＮＮａＯＨ水溶液で中和、酢酸エチル
で抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥、濾過、濃縮、真空乾燥し、下記式

【０１４３】

【化６２】

【０１４４】で示されるN−ｎ−ブチル−３−トリフル
オロメトキシベンジルアミンの粗生成物２．１８ｇ（収
率８４％，Ｇ．Ｃ．純度９９％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ₃）、
δ ｐｐｍ： ０．９１（ｔ，７．６Ｈｚ，３Ｈ），
１．３１−１．４０（ｍ，２Ｈ），１．４６−１．５３
（ｍ，ｂｒ，３Ｈ），２．６２（ｔ，７．２Ｈｚ，２
Ｈ），３．８１（ｓ，２Ｈ），７．０８−７．１０（Ａ
ｒ−Ｈ，１Ｈ），７．２０−７．３５（Ａｒ−Ｈ，４
Ｈ）。

【０１４５】

【発明の効果】医薬および農薬の重要中間体となる新規
化合物のα−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチル
またはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン、Ｎ−
アルキル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチ
ルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンおよ
びＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルア
ミンと、その効率よい製造方法を提供する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗山 克 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子 株式会社化学研究所内 (72)発明者 安本 学 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子 株式会社化学研究所内 (72)発明者 伊野宮 憲人 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子 株式会社化学研究所内 (72)発明者 大塚 隆史 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子 株式会社化学研究所内 (72)発明者 植田 浩司 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子 株式会社化学研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB01 AB20 AB84 AC52 BA21 BA25 BA26 BA55 BA66 BC10 BC11 BC30 BC34 BE14 BE20 4H039 CA71 CA99 CB30 CE40 CL25 (54)【発明の名称】 α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換ベンジルアミ ン、Ｎ−アルキル−α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ 置換ベンジルアミンおよびＮ−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［１］ 【化１】 ［式中、Ｒ¹は炭素数２から６の低級アルキル基を表
   し、ｎは１から５の整数を表し、Ｆは任意の置換位置を
   とり、波線はラセミ体を表す］で示されるα−アルキル
   −フルオロ置換ベンジルアミン（但し、α−エチル−４
   −フルオロベンジルアミンを除く）。
2. 【請求項２】一般式［２］ 【化２】 ［式中、ｎは１から５の整数を表し、Ｆは任意の置換位
   置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるα−エチ
   ル−フルオロ置換ベンジルアミン（但し、α−エチル−
   ４−フルオロベンジルアミンを除く）。
3. 【請求項３】一般式［３］ 【化３】 ［式中、Ｒ¹は炭素数１から６の低級アルキル基を表
   し、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎ
   は１から５の整数を表し、Ｆは任意の置換位置をとり、
   波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−アルキル−α−
   アルキル−フルオロ置換ベンジルアミン。
4. 【請求項４】一般式［４］ 【化４】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
   し、ｎは１から５の整数を表し、Ｆは任意の置換位置を
   とり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−アルキル
   −α−メチル−フルオロ置換ベンジルアミン。
5. 【請求項５】一般式［５］ 【化５】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
   し、ｎは１から５の整数を表し、Ｆは任意の置換位置を
   とり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−アルキル
   −α−エチル−フルオロ置換ベンジルアミン。
6. 【請求項６】一般式［６］ 【化６】 ［式中、Ｒ¹は炭素数２から６の低級アルキル基を表
   し、ｎは１から５の整数を表し、ＣＦ₃基は任意の置換
   位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるα−ア
   ルキル−トリフルオロメチル置換ベンジルアミン（但
   し、α−シクロプロピル−３−トリフルオロメチルベン
   ジルアミン、α−エチル−３，５−ビス−トリフルオロ
   メチルベンジルアミンおよびα−シクロプロピル−３，
   ５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミンを除
   く）。
7. 【請求項７】一般式［７］ 【化７】 ［式中、ｎは１から５の整数を表し、ＣＦ₃基は任意の
   置換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるα
   −エチル−トリフルオロメチル置換ベンジルアミン（但
   し、α−エチル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベ
   ンジルアミンを除く）。
8. 【請求項８】一般式［８］ 【化８】 ［式中、Ｒ¹は炭素数１から６の低級アルキル基を表
   し、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎ
   は１から５の整数を表し、ＣＦ₃基は任意の置換位置を
   とり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−アルキル
   −α−アルキル−トリフルオロメチル置換ベンジルアミ
   ン（但し、Ｎ−メチル−α−メチル−３−トリフルオロ
   メチルベンジルアミン、Ｎ−メチル−α−メチル−３，
   ５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミンおよびＮ
   −メチル−α−シクロプロピル−３，５−ビス−トリフ
   ルオロメチルベンジルアミンを除く）。
9. 【請求項９】一般式［９］ 【化９】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
   し、ｎは１から５の整数を表し、ＣＦ₃基は任意の置換
   位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−ア
   ルキル−α−メチル−トリフルオロメチル置換ベンジル
   アミン。但し、Ｎ−メチル−α−メチル−３−トリフル
   オロメチルベンジルアミンおよびＮ−メチル−α−メチ
   ル−３，５−ビス−トリフルオロメチルベンジルアミン
   を除く。
10. 【請求項１０】一般式［１０］ 【化１０】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、ｎは１から５の整数を表し、ＣＦ₃基は任意の置換
    位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−ア
    ルキル−α−エチル−トリフルオロメチル置換ベンジル
    アミン。
11. 【請求項１１】一般式［１１］ 【化１１】 ［式中、Ｒ¹は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意の置
    換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるα−
    アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
    （但し、α−メチル−４−トリフルオロメトキシベンジ
    ルアミンおよびα−エチル−４−トリフルオロメトキシ
    ベンジルアミンを除く）。
12. 【請求項１２】一般式［１２］ 【化１２】 ［式中、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意
    の置換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示される
    α−メチル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
    （但し、α−メチル−４−トリフルオロメトキシベンジ
    ルアミンを除く）。
13. 【請求項１３】一般式［１３］ 【化１３】 ［式中、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意
    の置換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示される
    α−エチル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミン
    （但し、α−エチル−４−トリフルオロメトキシベンジ
    ルアミンを除く）。
14. 【請求項１４】一般式［１４］ 【化１４】 ［式中、Ｒ¹は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表し、ｎ
    は１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意の置換位置
    をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−アルキ
    ル−α−アルキル−トリフルオロメトキシ置換ベンジル
    アミン。
15. 【請求項１５】一般式［１５］ 【化１５】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意の置
    換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−
    アルキル−α−メチル−トリフルオロメトキシ置換ベン
    ジルアミン。
16. 【請求項１６】一般式［１６］ 【化１６】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意の置
    換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示されるＮ−
    アルキル−α−エチル−トリフルオロメトキシ置換ベン
    ジルアミン。
17. 【請求項１７】一般式［１７］ 【化１７】 ［式中、Ｒ²は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意の置
    換位置をとる］で示されるＮ−アルキル−トリフルオロ
    メトキシ置換ベンジルアミン。
18. 【請求項１８】一般式［１８］ 【化１８】 ［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロメチル基また
    はトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は炭素数１から
    ６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５の整数を表
    し、Ｒ¹は任意の置換位置をとる］で示されるフルオ
    ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
    換フェニルアルキルケトンを、式［１９］ 【化１９】 ［式中、Ｐｈはフェニル基を表す］で示されるベンジル
    アミンと脱水縮合し、一般式［２０］ 【化２０】 ［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロメチル基また
    はトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は炭素数１から
    ６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５の整数を表
    し、Ｒ¹は任意の置換位置をとり、Ｐｈはフェニル基を
    表し、波線はＥ体、Ｚ体またはこれらの混合物を表す］
    で示されるイミンに変換し、さらに該イミンを水素添加
    と加水素分解することにより、一般式［２１］ 【化２１】 ［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロメチル基また
    はトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は炭素数１から
    ６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５の整数を表
    し、Ｒ¹は任意の置換位置をとり、波線はラセミ体を表
    す］で示される、請求項１、請求項２、請求項６、請求
    項７、請求項１１、請求項１２および請求項１３記載の
    α−アルキル−フルオロ、トリフルオロメチルまたはト
    リフルオロメトキシ置換ベンジルアミンを製造する方
    法。
19. 【請求項１９】一般式［１８］ 【化２２】 ［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロメチル基また
    はトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は炭素数１から
    ６の低級アルキル基を表し、ｎは１から５の整数を表
    し、Ｒ¹は任意の置換位置をとる］で示されるフルオ
    ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
    換フェニルアルキルケトン、あるいは、一般式［２２］ 【化２３】 ［式中、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意
    の置換位置をとる］で示されるトリフルオロメトキシ置
    換ベンズアルデヒドを、一般式［２３］ 【化２４】 ［式中、Ｒ³は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    す］で示されるアルキルアミンと縮合し、さらに反応系
    中にハイドライド還元剤を加えることにより、一般式
    ［２４］ 【化２５】 ［式中、Ｒ¹はフッ素原子、トリフルオロメチル基また
    はトリフルオロメトキシ基を表し、Ｒ²は炭素数１から
    ６の低級アルキル基を表し、Ｒ³は炭素数１から６の低
    級アルキル基を表し、ｎは１から５の整数を表し、Ｒ¹
    は任意の置換位置をとり、波線はラセミ体を表す］で示
    される、請求項３、請求項４、請求項５、請求項８、請
    求項９、請求項１０、請求項１４、請求項１５および請
    求項１６記載のＮ−アルキル−α−アルキル−フルオ
    ロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置
    換ベンジルアミン、あるいは、一般式［２５］ 【化２６】 ［式中、Ｒ³は炭素数１から６の低級アルキル基を表
    し、ｎは１から５の整数を表し、ＯＣＦ₃基は任意の置
    換位置をとる］で示される、請求項１７記載のＮ−アル
    キル−トリフルオロメトキシ置換ベンジルアミンを製造
    する方法。