JP2003222710A - 低ｐｄｌビームスプリッタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】偏光依存損失(PDL)の小さいビームスプリッタ
の提供。 【解決手段】ヒ゛ームスフ゜リッタは、光軸に対して角度αをなし
て第1の入射ヒ゛ーム(40)を第1の表面(60A)において受光す
るスフ゜リット装置(60)を含む。前記第1の入射ヒ゛ーム(40)の第1
の部分(70)が第1の入射ヒ゛ームに対して反対側に光軸に対
して角度αで反射される。第2のヒ゛ーム(80)は、スフ゜リット装
置(60)を透過する。角度αは、反射された部分(70)が第
1の入射ヒ゛ーム(40)の偏光状態に実質的に依存しないよう
に選択される。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、入射光ビームを複
数のサブビームに分割する装置のような光ビームスプリ
ッタに関する。 【０００２】 【従来の技術】ビームスプリッタは、当該技術分野にお
いてよく知られており、しばしば種々の異なった光用途
に適用される。典型的なビームスプリッタは、例えば入
射ビームに対して４５°傾斜したエタロンを含む。入射
ビームの一方の部分は反射され、他方の部分は、ビーム
スプリッタを透過させられる。結合比は、エタロンの反
射／透過特性に依存する。 【０００３】種々のタイプのビームスプリッタが、光フ
ァイバ用途に適用され得る。結合器とも称するこのよう
な光ファイバビームスプリッタは、一般に溶融したファ
イバから構成され、この場合、少なくとも部分的に取り
除かれたクラッディングを有する２つ以上のファイバ
が、互いに溶融される。 【０００４】特許文献１は、板の表面の間においてビー
ムの特有の偏光を交換するように選択された厚さを有す
る複屈折材料からなる薄い板によって提供される、偏光
に依存しないビームスプリッタを開示する。２つの境界
における反射／屈折の比は、相補的であり、組合せた効
果は、ブリュースター角における入射ビームの偏光に影
響を受けない。 【０００５】 【特許文献１】米国特許第４，４９２，４３９号明細書 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、改善
されたビームスプリッタを提供することである。 【０００７】 【課題を解決するための手段】目的は、独立請求項によ
って解決される。好適な実施形態は、従属項によって示
される。 【０００８】本発明によるビームスプリッタは、入射ビ
ームを受光するスプリット装置表面に対する垂線（簡単
化のために「光軸」と称する）に対して角度αをなして
入射ビームを受光するスプリット装置を含む。スプリッ
ト装置における反射が実質的に入射ビームの偏光に依存
しないように、角度αは選択されるべきである。又は換
言すれば、スプリット装置の反射率が光の平行な（すな
わち伝搬のベクトル及び光軸によって構成される平面に
対して平行な）及び垂直な（すなわち伝搬のベクトル及
び光軸によって構成される平面に対して垂直な）偏光に
対して実質的に同じである範囲内において、角度αは選
択されるべきである。 【０００９】スプリット装置において空気とガラスとの
間の遷移のために、角度αは、８ｍｄＢより小さな偏光
依存損失（ＰＤＬ）を得るために、好適には１°より小
さくなるように選択される。ＰＤＬは、本明細書におい
て、たとえこの相違に結びついた損失が存在しないとし
ても、偏光のあらゆる状態に対して最大及び最小の反射
又は透過の間の比を意味するものとする。 【００１０】スプリット装置は、光軸に対して同じ角度
αであるが、入射ビームに対して反対側に、入射ビーム
の一部を反射する。入射ビームに対して反射されたビー
ムの強さの比は、角度αに、スプリット装置の屈折率
に、及び場合によってはスプリット装置のコーティング
（設けられているならば）に依存する。しかしながら、
角度αに対する選択基準に起因して、反射されるビーム
の結合比は、入射ビームの偏光の状態に実質的に依存し
ない。したがって、ＰＤＬは、最小値に減少され得る。 【００１１】反射されるビームに加えて、スプリット装
置は、さらにスプリット装置を透過させられる第２のビ
ームを提供するように設計される。スプリット装置は、
好適には透過したビームが光軸に対して平行にスプリッ
ト装置から出るように設計される。好適には透過したビ
ームは、入射ビームの入射側に対して反対側のスプリッ
ト装置の表面から出て、したがって入射ビームと実質的
に同じ伝搬方向を有する。しかしながら、入射ビームの
伝搬方向に対する小さな角度の変位は、例えば後述する
ような干渉効果を避ける場合に、有利となることがあ
る。 【００１２】反射されたビームに対応して、入射ビーム
の強さに対する透過したビームの強さは、角度αの選択
基準に起因して、入射ビームの偏光の状態に実質的に依
存しない。損失が無視できる場合、反射された及び透過
したビームの強さは、合計すると入射ビームの強さにな
る。 【００１３】したがって、本発明は、入射ビームの偏光
の状態に実質的に依存しない分割又は結合の比を有する
ビームスプリッタを提供し、ＰＤＬが、最小にされ得る
ようにする。１０ｍｄＢより小さいＰＤＬを有するビー
ムスプリッタが、容易に実現され得ることが明らかにな
った。 【００１４】好適な実施形態において、スプリット装置
は、透過した（出力）ビームにおける干渉効果を避ける
ために、くさび形であるように設けられる。しかしなが
ら、適宜にエタロン、プリズム又はレンズでさえあるよ
うな他の形状を適用することができる。代案として、又
はさらに、第２のビームにおける干渉効果を低減／防止
するために、スプリット装置は、一方の側において反射
防止コーティングされるように提供され得る。 【００１５】好適な実施形態において、スプリット装置
の入射側（すなわち入射ビームを受光するスプリット装
置の側）に、コリメーティング装置（例えばレンズ又は
凹面鏡）が設けられており、そのため入射ビーム及び反
射されたビームは、コリメーティング装置を通過する。
したがって、減少した利用可能な空間を有するコンパク
トな設計に対してさえ、小さな角度αを認識することが
できる。 【００１６】１つの実施形態において、入射ビームを放
出するための第１の光ファイバ、及び反射ビームを受光
するための第２の光ファイバは、互いにきわめて接近し
て設けられている。好適には第１及び第２の光ファイバ
は、ファイバの直径の少なくとも２倍の内径を備えたキ
ャピラリー又は２重のＶ溝を利用して、互いに取付けら
れており、その場合、ファイバは、例えば接着剤を利用
して取付けられる。第１のファイバからの入射ビーム
は、コリメーティング装置によってコリメートされ、角
度αに従ってスプリット装置に送信される。したがっ
て、反射されたビームは、コリメーティング装置によっ
て第２のファイバ内に集束される。角度αは、ファイバ
の中心の距離ｄとコリメーティング装置の焦点距離ｆと
から、次の式、ｔａｎ（α）＝ｄ／２ｆによって求めら
れる。 【００１７】スプリット装置は、結合比に影響を及ぼす
ために、その入射側にコーティング材料を備えることが
できる。適宜に又は代案として、スプリット装置の材料
は、結合比に影響を及ぼすために選択され得る。１つの
実施形態において、スプリット装置の特性は、分割比を
変えるために修正され得る。このことは、例えば可変の
厚さの金属コーティングを備えたスプリット装置を厚さ
勾配に沿って光軸に対して垂直に動かすことによって達
成され得る。 【００１８】スプリット装置の材料を慎重に選択するこ
とによって、ＰＤＬも、広い波長範囲にわたって最小に
することができ、例えば空気ガラス遷移の波長依存性
は、通常のガラスの低い分散に起因して小さい。コーテ
ィングを利用することになる場合、そのコーティングに
対して低いＰＤＬをもたらすために、特殊なプロセスを
開発しなければならない。 【００１９】さらなる実施形態において、反射ビームの
偏光の種々の状態に対する透過において残りの差を平衡
化するために入射ビーム内に加えて、通常の入射ビーム
及び反射ビームの小さな分離に起因して反射ビーム内
に、補償器が設けられる。このような補償器の好適な実
施形態は、偏光に依存する反射の効果を補償する偏光に
依存する追加的な透過を導入するために、ビームに対し
て回転し、かつ傾斜することができる別のエタロン又は
光学くさびである。 【００２０】例えば、透過したビームを第３のファイバ
内に集束するために、スプリット装置と第３のファイバ
との間に第２のコリメーティング装置を設けることがで
きる。別の実施形態は、第１のコリメーティング要素を
通して第１の２つのファイバの近くにある第３のファイ
バ内に戻すように、透過したビームを反射する。 【００２１】ファイバ端部からファイバ内に戻るような
反射を最小にするために、角度付きのファイバ端部を使
用することができる。これらの角度付きのファイバ端部
は、追加的な偏光に依存する透過を引起こす。ファイバ
から出る又はその中に戻るように結合する際の偏光依存
性のさらなる改善は、例えばファイバに反射防止コーテ
ィングを適用することによって達成され得る。適宜に又
は代案として、光軸の周りに互いに対して９０°の奇数
倍だけ、角度付きのファイバを回転することが可能であ
る。光軸に整列した際の角度付きのファイバは、中心の
外側においてコリメーティング装置を通してビームを通
過させ、それ故に偏光に依存した透過を引起こすことが
できるので、ビームがコリメーティング装置の中心を通
過するように、ファイバを回転することは、さらなる改
善である。さらに、コリメーティング装置は、より小さ
な開口数を有するように設計されることができ、この開
口数は、波長にわたって改善された性能につながる。 【００２２】さらなる実施形態において、本発明のビー
ムスプリッタは、スプリット装置の両側から適用される
ため、ビームスプリッタは、スプリット装置の両側で入
射ビームを受光する。簡略化のため、上記の説明の入射
ビームは、「第１の入射ビーム」と称するが、スプリッ
ト装置の別の（好適には反対の）側において受光される
入射ビームは、「第２の入射ビーム」と称することにす
る。第２の入射ビームが、反射ビームとは逆の伝搬方向
でスプリット装置に向けられる場合、ちょうど前述した
ものと一致するが、逆の伝搬方向にしたがってスプリッ
ト装置によって分割される。第２の入射ビームの一方の
部分は、第１の入射ビームの源に向かってスプリット装
置を透過する（スプリット装置の他方の側から与えられ
る場合）。第２の入射ビームの他方の部分は、反射さ
れ、光軸に対して第２の入射ビームと実質的に同じ角度
変位を有するが、反対側において逆に進行する。このよ
うな装置は、４ポート結合器として使用され得る。前述
のような２つの独立したスプリット装置を組合わせるこ
とによって、あるいは反対方向に進行するビームを反射
するために一方の表面だけを利用する第１の実施形態と
は異なり、スプリット装置の両方の表面を利用すること
によって、４ポート結合器を構成することもできる。 【００２３】ビームスプリッタ内に戻る不要な反射（例
えば、その出力に結合されたモニタから結果として生じ
る）を減少するために、スプリット装置は、２つの反射
面を備えることができるので、第１の入射ビームは、反
射面のうちの一方によって、第１の反射された部分内に
部分的に反射され、それに対して第２の入射ビームは、
反射面のうちの他方によって、第２の反射された部分内
に部分的に反射される。代案として、第２のスプリット
装置を設けることができ、２つのスプリット装置のそれ
ぞれが、１つの反射面を有する。この場合、第１の入射
ビームは、（第１の）スプリット装置の反射面によっ
て、第１の反射された部分内に部分的に反射され、それ
に対して第２の入射ビームは、第２のスプリット装置の
反射面によって、第２の反射された部分内に部分的に反
射される。 【００２４】反射された及び透過したパワーの比を調節
するために、それぞれのスプリット装置は、可変の反射
コーティングを備えることができ、及び／又は可変の屈
折率を有する材料から作成され得る。各スプリット装置
の反射の変化又は屈折率の変化は、光軸に対して実質的
に垂直な軸に沿って提供され得る。また、それぞれのス
プリット装置は、この軸に沿って移動できる。 【００２５】本発明の他の目的及び付随する多くの利点
は、添付図面に関連して考察しながら、以下の詳細な説
明を参照することにより容易に明らかになり、一層良好
に理解されるであろう。実質的に又は機能的に等しい、
あるいは類似の要素は、同じ参照符号で参照される。 【００２６】 【発明の実施の形態】図１において、２つの光ファイバ
１０及び２０がフェルール３０内に設けられている。第
１のファイバ１０は、レンズ５０によってコリメートさ
れ、スプリット装置６０に向けられる第１のビーム４０
を放出する。 【００２７】図２Ａから明らかなように、ビーム４０
は、スプリット装置６０の入射側の垂線６５に対して角
度αで向けられている。スプリット装置６０は、入射ビ
ーム４０を反射ビーム７０と透過ビーム８０に分割す
る。反射ビーム７０も、垂線６５に対して角度αで進行
するが、反対の伝搬方向で、かつ入射ビーム４０に対し
て垂線６５の反対側に進行する。透過ビーム８０も、
（透過ビーム８０がスプリット装置６０から出るスプリ
ット装置６０の側の）垂線６８に対して角度αでもっ
て、かつ入射ビーム４０と同じ伝搬方向（プラス垂線６
５と６８との間の横方向変位）でもって、スプリット装
置６０から出る。図２Ａの例は、反射ビーム７０に対し
て４％及び透過ビーム８０に対して９６％の分割比を示
す（潜在的な損失を無視）。 【００２８】再び図１を参照すると、スプリット装置６
０において反射されたビーム７０は、レンズ５０によっ
て第２のファイバ２０内に集束される。透過ビーム８０
も、レンズ１１０によって第３のファイバ１２０内に集
束される。 【００２９】図２Ｂは、角度αを設計するための原理を
示す。スプリット装置６０における反射率Ｒは、平行
（ｐ）及び垂直（ｓ）に偏光された光、及び入射ビーム
４０の角度αによる依存性に関して示される。領域１０
０において、平行（Ｒｐ）及び垂直（Ｒｓ）に偏光され
た光の反射率は、実質的に等しい。空気ガラスの遷移に
対する図２Ｂの例において、領域１００は、比較的小さ
な角度α（ここでは、ほぼ５°より小さい）に対するも
のであり、平行及び垂直に偏光された光の間の差は、角
度αの増加とともに増大する。角度αを領域１００内で
設計する場合、反射は、入射ビーム４０の偏光の状態に
実質的に依存しなくなる。図１の例においてほぼ１°よ
り小さい角度に対して、８ｍｄＢより小さいＰＤＬ値を
得ることができる。 【００３０】補償器７５は、反射ビームの偏光の状態に
おける残りの差を平衡化するために、反射ビーム７０内
に設けることができる。このことは、光軸の回りで回転
でき、かつこれに対して垂直に傾斜することができるエ
タロン又は光学くさびをビーム内に配置することによっ
て達成され得る。第１、及び（反射防止コーティングが
適用されていない場合）第２の空気ガラス境界面を通る
偏光に依存する透過は、反射のなんらかの残りの偏光依
存性を補償するために使用され得る。第２の補償器７６
は、同様に出力ポートを補償しようとする場合、スプリ
ット装置６０の後に配置しなければならない。 【００３１】透過したビーム８０における干渉を避ける
ために、スプリット装置６０は、好適にはくさび形であ
るように設けられる。さらに、光学くさびは、透過した
ビームが光軸に対して平行になるように選択され得る。
第２の光学表面は、偏光依存性とともに損失及び付加的
な不要な反射を避けるために、好適には反射防止コーテ
ィングされる。 【００３２】ファイバ１０、２０、１２０及び１３０
は、単一モードファイバであるように選択され得る。容
易な調節のために、ファイバ２０及び１３０は、多重モ
ードであるように選択され得る。 【００３３】図１の例において、ファイバ１０及び２０
のファイバ端部は、ファイバ端部の戻り反射を避けるた
めに、角度を付けて設けられている。さらにファイバ１
０及び２０は、コリメーティング装置の中心を通るビー
ムを通すために、この場合、スプリット装置６０の垂線
に対して傾斜させて設けられてもよい。図３Ａにおい
て、第３のファイバ１２０の近くに第４のファイバ１３
０が設けられている。ファイバ１２０及び１３０の配置
は、ファイバ１０及び２０について前述した事項にした
がうことができる。ビームの方向と角度は、図３Ｂに示
されている。 【００３４】動作中にファイバ１２０から放出されるビ
ーム１４０（図３Ａにおける破線）は、レンズ１１０に
よってコリメートされ、角度αをなしてスプリット装置
６０の方に向けられる（垂線６８に対して（図３Ｂ参
照））。前述した事項にしたがって、一方の部分１５０
は、レンズ１１０に向かって戻るように反射され、他方
の部分１６０（図３Ｂにおける破線）は、スプリット装
置６０を透過し、レンズ５０によってファイバ１０内に
集束される。レンズ１１０に向かって戻るように反射さ
れたビーム１５０は、ファイバ１３０内に集束される。 【００３５】明らかなように、図１及び図３におけるビ
ームスプリット装置の対称性のために、ファイバ１０又
はファイバ１２０からのビームに結合する代わりに、単
一モードのファイバだけを利用する場合、スプリット装
置６０に向かって光を放出するために、ファイバ２０及
び１３０を用いてもよい。 【００３６】図１の構成は、３点結合器とみなすことも
できるが、図３の構成は、４点結合器とみなすことがで
きる。 【００３７】ビームスプリッタ６０に戻る不要な反射
（例えば、ファイバ１２０に結合されたモニタから結果
として生じる）を減少するために、ビームスプリッタ６
０は、２つの反射表面６０Ａ及び６０Ｂを備えることが
できるので、第１の入射ビーム４０は、反射表面６０Ａ
によって第１の反射部分７０内に部分的に反射され、そ
れに対して第２の入射ビーム１４０は、反射表面６０Ｂ
によって第２の反射部分１５０内に部分的に反射され
る。 【００３８】２つの反射表面６０Ａ及び６０Ｂは、それ
ぞれ関係する１つの反射表面を２つの別個のスプリット
装置（図示せず）に設けてもよい。その場合、第１の入
射ビーム４０は、（第１の）ビームスプリッタ６０の反
射表面によって第１の反射部分内に部分的に反射され、
それに対して第２の入射ビーム１４０は、第２のビーム
スプリッタの反射表面によって第２の反射部分内に部分
的に反射される。 【００３９】以下においては、本発明の種々の構成要件
の組み合わせからなる例示的な実施形態を示す。 １．ビームスプリッタであって、光軸に対して角度αを
なして第１の入射ビーム（40）を第１の表面（60A）に
おいて受光し、前記光軸に対して前記角度αで前記第１
の入射ビーム（40）の第１の部分（70）を前記第１の入
射ビームに対して反対側に前記第１の表面（60A）にお
いて反射するように適合されたスプリット装置（60）で
あって、そのスプリット装置（60）を透過した第２のビ
ーム（80）を提供するように適合された、スプリット装
置（60）を含み、前記第１の反射された部分（70）が、
実質的に前記第１の入射ビーム（40）の偏光の状態に依
存しないように、前記角度αが選択される、ビームスプ
リッタ。 ２．前記角度αは、前記スプリット装置の反射率が、伝
搬のベクトル及び前記光軸によって構成される平面に対
して、平行及び垂直な前記第１の入射ビーム（40）の偏
光に対して実質的に同じである範囲内に、選択される、
上記１に記載のビームスプリッタ。 ３．前記第１の入射ビーム（40）に対して前記第１の反
射された部分（70）の強さの比が、前記角度α、前記ス
プリット装置（60）の反射率、又は前記スプリット装置
（60）のコーティングのうちの１つを制御することによ
って制御される、上記１又は２に記載のビームスプリッ
タ。 ４．前記第２のビーム（80）が、好適には前記第１の入
射ビーム（40）の入射側に対する反対側において、前記
光軸に対して平行に前記スプリット装置（60）から出
る、上記１〜３のいずれか１つに記載のビームスプリッ
タ。 ５．ガラスからなる前記スプリット装置（60）が設けら
れており、前記角度αが、５°未満に選択される、請求
項１〜４のいずれか１つに記載のビームスプリッタ。 ６．前記スプリット装置（60）が、前記第２のビーム
（80）における干渉効果を避けるために、片側に反射防
止コーティングされているように、及び／又はくさび形
になるように設けられている、請求項１〜５のいずれか
１つに記載のビームスプリッタ。 ７．前記スプリット装置（60）の前記入射側に設けられ
たコリメーティング装置（50）をさらに含み、そのため
前記第１の入射ビーム又は前記反射されたビームのうち
の少なくとも１つが、前記コリメーティング装置（50）
を通過する、上記１〜６のいずれか１つに記載のビーム
スプリッタ。 ８．前記第１の入射ビーム（40）を放出するための第１
の光ファイバ（10）、及び前記反射された部分（70）を
受光するための第２の光ファイバ（20）又は検出装置の
うちの１つをさらに含む、上記１〜７のいずれか１つに
記載のビームスプリッタ。 ９．前記第１の光ファイバ（10）、及び前記第２の光フ
ァイバ（20）又は検出装置が、互いに非常に接近して設
けられており、好適には互いに取付けられている、上記
８に記載のビームスプリッタ。 １０．偏光の状態における残りの差を平衡化するために
少なくとも１つの前記ビーム（40，70，80）内に少なく
とも１つの補償器（75，76）をさらに含む、請求項１〜
９のいずれか１つに記載のビームスプリッタ。 １１．前記スプリット装置（60）が、前記光軸に対して
前記角度αで、前記第１の入射ビーム（40）に対して反
対側で第２の入射ビーム（140）をさらに受光する、請
求項１〜１０のいずれか１つに記載のビームスプリッ
タ。 １２．前記第２の入射ビーム（140）が、前記第２のビ
ーム（80）と逆の伝搬方向でもって向けられ、そのため
前記スプリット装置（60）を透過した前記第２の入射ビ
ーム（140）の第２の部分（160）が、前記第１の入射ビ
ーム（40）と反対の伝搬方向でもって前記スプリット装
置（60）から出る、上記１１に記載のビームスプリッ
タ。 １３．前記第２のビーム（80）を受光し、及び／又は前
記第２の入射ビーム（140）を放出するための第３の光
ファイバ（120）、及び／又は前記第２の入射ビーム（1
40）の前記第２の反射された部分（150）を受光するた
めの第４の光ファイバ（130）をさらに含む、上記１１
又は１２に記載のビームスプリッタ。 １４．前記第１の入射ビーム（40）が、前記スプリット
装置（60）の第１の面によって、前記第１の反射された
部分（70）内に部分的に反射され、それに対して前記第
２の入射ビーム（140）が、前記スプリット装置（60）
の第２の面又は第２のスプリット装置の第１の面のいず
れかによって、前記第２の反射された部分（150）内に
部分的に反射される、上記１１〜１３のいずれか１つに
記載のビームスプリッタ。 １５．反射されて透過するパワーの比を調節するため
に、前記スプリット装置（60）又は前記第２のスプリッ
ト装置のうちの少なくとも１つが、可変の反射コーティ
ングを備え、及び／又は可変の屈折率を有する材料から
作成される、上記１〜１４のいずれか１つに記載のビー
ムスプリッタ。 １６．反射の変化又は屈折率の変化が、前記光軸に対し
て実質的に垂直な軸に沿って提供され、及び／又は前記
スプリット装置（60）が、この軸に沿って移動できる、
上記１５に記載のビームスプリッタ。 【００４０】 【発明の効果】本発明により、偏光依存損失（ＰＤＬ）
が小さくなるように改善されたビームスプリッタが提供
される。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明によるビームスプリッタの第１の実施形
態を示す図である。 【図２Ａ】本発明のビームスプリッタの設計に対する原
理を示す図である。 【図２Ｂ】本発明のビームスプリッタの設計に対する原
理を示す図である。 【図３Ａ】反対側から動作する本発明のビームスプリッ
タのさらなる実施形態を示す図である。 【図３Ｂ】反対側から動作する本発明のビームスプリッ
タのさらなる実施形態を示す図である。 【符号の説明】 10、20、120、130 光ファイバ 40 入射ビーム 50 コリメーティング装置 60 スプリット装置 60A、60B 反射表面 70、150 反射ビーム 80、160 透過ビーム 75、76 補償器 140 第２の入射ビーム

フロントページの続き (72)発明者 ルーディガー・マエストル ドイツ国71032ボーリンゲン，ヤーンシュ トラーセ・24 (72)発明者 ベルント・ネベンダール ドイツ国71254ディッチンゲン，ジーラー ヴェーク・１ Ｆターム(参考） 2H037 BA32 CA10 CA13 DA04 DA05 2H042 AA02 AA04 AA16 2H049 BA06 BA12 BA43 BB03

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】ビームスプリッタであって、 光軸に対して角度αをなして第１の入射ビーム（40）を
   第１の表面（60A）において受光し、前記光軸に対して
   前記角度αで前記第１の入射ビーム（40）の第１の部分
   （70）を前記第１の入射ビームに対して反対側に前記第
   １の表面（60A）において反射するように適合されたス
   プリット装置（60）であって、そのスプリット装置（6
   0）を透過した第２のビーム（80）を提供するように適
   合された、スプリット装置（60）を含み、 前記第１の反射された部分（70）が、実質的に前記第１
   の入射ビーム（40）の偏光の状態に依存しないように、
   前記角度αが選択される、ビームスプリッタ。