JP2003217834A - 自己発光表示装置及びその製造方法 - Google Patents

自己発光表示装置及びその製造方法

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JP2003217834A
JP2003217834A JP2002019132A JP2002019132A JP2003217834A JP 2003217834 A JP2003217834 A JP 2003217834A JP 2002019132 A JP2002019132 A JP 2002019132A JP 2002019132 A JP2002019132 A JP 2002019132A JP 2003217834 A JP2003217834 A JP 2003217834A
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electrode
substrate
display device
organic
desiccant
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JP2002019132A
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Toshihiro Ninomiya
利博 二ノ宮
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Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/87Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/874Passivation; Containers; Encapsulations including getter material or desiccant

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】長期にわたって安定した表示性能を維持するこ
とが可能であるとともに、薄型化が可能な構造であっ
て、製造歩留まりが高い低コストな表示装置及びその表
示装置の製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】アレイ基板100は、マトリクス状に配置
された画素毎に独立島状に形成された第1電極60と、
第1電極60に対向して配置され全画素に共通に形成さ
れた第2電極66と、第1電極60と第2電極66との
間に保持された発光層64と、によって構成された有機
EL素子40を備えている。封止基板200は、アレイ
基板100に対向して配置され、アレイ基板100との
間に形成される密閉空間内に有機EL素子40を収納す
る。有機EL素子40の表面には、密閉空間内を除湿す
るアルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化膜によっ
て形成された乾燥剤70が配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、表示装置及びそ
の製造方法に係り、特に、画素毎にスイッチング素子が
設けられたアクティブマトリクス型自己発光表示装置及
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、平面表示装置として、有機エレク
トロルミネッセンス(EL)表示装置が注目されてい
る。この有機EL表示装置は、自発光性素子であること
から、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化
が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速
いといった特徴を有している。
【0003】これらの特徴から、有機EL表示装置は、
液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補
として注目を集めている。しかしながら、有機EL表示
装置の寿命τは、液晶表示装置と比較すると、現状は一
万時間程度で輝度が半減してしまい、まだ不満足なレベ
ルにある。
【0004】この有機EL表示装置は、アレイ基板にア
ノード電極とカソード電極との間に発光機能を有する有
機化合物を含む有機発光層を挟持した有機EL素子をマ
トリックス状に配置することにより構成される。有機E
L素子から大気中に放射される光子数の絶対量Pは、有
機EL素子を流れる単位面積当りの電流密度をJ、外部
量子効率をφEXTとすると、 P=φEXT・A・J/e …(1) で表される。なお、Aは有機EL素子の有効面積、eは
電気素量である。
【0005】寿命τは、電流密度Jが小さいほど伸びる
傾向にある。光子数Pは、輝度に比例することから、よ
り小さい駆動電流I(=A・J)で長寿命素子を得るに
は、外部量子効率φEXTを高めなければならない。外
部量子効率φEXTは、 φEXT=χ・φPL・φOUT・φPOL …(2) で表される。χは電子と正孔の注入バランス、φPL
発光層構成材料のPL発光効率、φOUTは光取出し効
率、φPOLは偏光板(外光の反射を防止する目的で設
けられる)の透過率である。
【0006】有機EL素子は、電流注入により駆動する
発光素子であり、発光層中において注入バランスχの確
率で電子・正孔対が形成され、効率φPLで再結合発光
する。注入バランスχは、電極構造の改善により理論限
界に近いχ≒1が実現されている。
【0007】しかしながら、この有機EL素子は、水分
に対して非常に敏感であり、外部から水分が侵入すると
電子と正孔との注入バランスが崩れる。また、PL発光
効率も水分の影響で低くなってしまう。これにより、表
示デバイスとしての十分な表示性能を維持できなくな
る。
【0008】有機EL素子の長寿命化を実現するには、
有機EL素子を収納する密閉空間内の水分量を制御する
必要性があり、そのためには乾燥剤が必須となってい
る。例えば、乾燥剤を封止基板に配置する場合、封止基
板に乾燥剤を配置するためのスペースを確保する必要が
あり、特徴の一つである薄型化が阻害されるおそれがあ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、有機
EL表示装置においては、有機EL素子を収納している
密閉空間内に含まれる水分により発光素子が時間の経過
とともに劣化され、長期にわたって安定した表示性能を
維持することが困難であるといった問題を有している。
【0010】また、乾燥剤を封止基板に配置する場合、
乾燥剤を配置するためのスペースを確保する必要があ
り、薄型化が阻害される。また、乾燥剤を配置するため
の別個の製造工程が必要となり、製造歩留まりの低下を
招くといった問題がある。また製造コストも上昇する。
【0011】この発明は、上述した問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、長期にわたって安定した
表示性能を維持することが可能な表示装置を提供するこ
とにある。また、薄型化が可能な構造であって、製造歩
留まりが高い低コストな表示装置及びその表示装置の製
造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の様態に
よる表示装置は、第1基板と、前記第1基板の主表面上
にマトリクス状に配置され、独立島状に形成された第1
電極と、前記第1電極に対向して配置された第2電極
と、前記第1電極と前記第2電極との間に保持された発
光層と、によって構成された複数の表示素子と、前記表
示素子の最表面を連続して覆うように形成され、且つア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化膜でなる乾燥
剤と、前記第1基板の主表面に対向して配置され、前記
第1基板との間に前記表示素子を収納する第2基板と、
を備えたことを特徴とする。
【0013】この発明の第2の様態による表示装置の製
造方法は、第1基板上に、マトリクス状に配置された画
素毎に独立島状に形成された第1電極と、前記第1電極
に対向して配置された第2電極と、前記第1電極と前記
第2電極との間に保持された発光層と、によって構成さ
れた表示素子を形成する工程と、前記表示素子の表面に
アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化膜によって
形成された乾燥剤を配置する工程と、前記第1基板に対
向して第2基板を配置して、前記第1基板との間に形成
される不活性ガス雰囲気中の密閉空間内に前記表示素子
を収納する工程と、を備えたことを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態に
係る表示装置及びその製造方法について図面を参照して
説明する。
【0015】この実施の形態では、表示装置として、自
己発光型表示装置、例えば有機EL(エレクトロルミネ
ッセンス)表示装置を例にして説明する。
【0016】すなわち、図1及び図2に示すように、有
機EL表示装置1は、表示素子としての有機EL素子を
マトリクス状に配置した第1基板としてのアレイ基板1
00と、アレイ基板100を密封する第2基板としての
封止基板200とを備えている。このアレイ基板100
の画像を表示する表示エリア102には、赤、緑、青に
それぞれ発光する3種類の発光部すなわち有機EL素子
40を備えて構成される。
【0017】有機EL素子40は、素子毎に独立島状に
形成される第1電極60と、第1電極60に対向して配
置され各素子に共通に連続して形成される第2電極66
と、これら電極間に保持される発光層としての有機発光
層64と、によって構成される。
【0018】このアレイ基板100は、表示エリア10
2において、画素スイッチ10及び駆動素子20と、蓄
積容量素子30と、有機EL素子40とを備えている。
ここでは一例として、画素スイッチ10はn型薄膜トラ
ンジスタ、駆動素子10はp型薄膜トランジスタで構成
される。各有機EL素子40は、画素スイッチ10を介
して選択され、有機EL素子40に対する励起電力は、
駆動素子20により制御される。
【0019】また、アレイ基板100は、有機EL素子
40の行方向に沿って配置された複数の走査線Yと、有
機EL素子40の列方向に沿って配置された複数の信号
線Xと、有機EL素子40の第1電極側に電源を供給す
るための電源供給線Pと、を備えている。さらに、アレ
イ基板100は、その周辺エリアに、走査線Yに駆動信
号を供給する走査線駆動回路107と、信号線Xに駆動
信号を供給する信号線駆動回路108と、を備えてい
る。
【0020】走査線Yは、走査線駆動回路107に接続
され、信号線Yは、信号線駆動回路108に接続されて
いる。画素スイッチ10は、走査線Yと信号線Xとの交
差部近傍に配置されている。駆動素子20は、有機EL
素子40と直列に接続されている。また、蓄積容量素子
30は、画素スイッチ10と直列に、且つ駆動素子20
と並列に接続されており、蓄積容量素子30の両電極
は、駆動素子20のゲート電極及びソース電極にそれぞ
れ接続されている。
【0021】電源供給線Pは、表示エリア102の周囲
に配置された図示しない第1電極電源線に接続されてい
る。有機EL素子40の第2電極側端は、表示エリア1
02の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供
給する図示しない第2電極電源線に接続されている。
【0022】より詳細に説明すると、画素スイッチ10
のゲート電極は、走査線Yに接続され、ソース電極は信
号線Xに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子30の
一端及び駆動素子20のゲート電極に接続されている。
駆動素子20のソース電極は、電源供給線Pに接続さ
れ、ドレイン電極は、有機EL素子40の第1電極60
に接続されている。蓄積容量素子30の他端は、駆動素
子20のソース電極に接続されている。
【0023】画素スイッチ10は、対応走査線Yを介し
て選択されたときに対応信号線Xの映像信号を蓄積容量
素子30に書き込み、駆動素子20の駆動を制御する。
映像信号に基づいて駆動素子20のゲート電圧を調整
し、駆動素子20のソース−ドレイン間電流を制御し、
有機EL素子40に所望の駆動電流を供給する。
【0024】図2は、有機EL表示装置の一部、駆動素
子20及び有機EL素子40部分の略断面図である。
【0025】この駆動素子20は、上述の通り例えばp
型薄膜トランジスタで構成され、ガラス基板などの光透
過性を有する絶縁性支持基板120上に配置されたポリ
シリコン半導体層20Pと、ゲート絶縁膜52を介して
配置されたゲート電極20Gと、ゲート絶縁膜52及び
層間絶縁膜54を貫通するコンタクトホール93を介し
てポリシリコン半導体層20Pのソース領域20PSに
コンタクトしたソース電極20Sと、ゲート絶縁膜52
及び層間絶縁膜54を貫通するコンタクトホール94を
介してポリシリコン半導体層20Pのドレイン領域20
PDにコンタクトしたドレイン電極20Dと、を備えて
いる。
【0026】有機EL素子40は、層間絶縁膜54上に
配置された絶縁膜56上に配置されている。1画素分の
有機EL素子40は、格子状に配置された隔壁130に
よって区画されている。この隔壁130は、例えば親水
性を有するSiO等の親水膜と、撥水性を有する樹脂レ
ジストによって形成されている。この有機EL素子40
は、第1電極60と、第1電極60に対向配置される第
2電極66との間に挟持された有機発光層64を備えて
構成されている。
【0027】すなわち、第1電極60は、絶縁膜56上
に配置され、絶縁膜56を貫通するコンタクトホール9
5を介して駆動素子20のドレイン電極20Dに接続さ
れている。この第1電極60は、ここでは陽極として機
能し、ITO(IndiumTin Oxide:イン
ジウム・ティン・オキサイド)やIZO(インジウム・
ジンク・オキサイド)などの光透過性導電部材によって
形成される。
【0028】有機発光層64は、各色共通に形成される
ホール輸送層、エレクトロン輸送層、及び各色毎に形成
される発光層の3層積層で構成されても良く、機能的に
複合された2層または単層で構成されても良い。例え
ば、ホール輸送層は、陽極と発光層間に配置され、芳香
族アミン誘導体やポリチオフェン誘導体、ポリアニリン
誘導体などの薄膜によって形成されている。発光層は、
陰極およびホール輸送層間に配置され、赤、緑、または
青に発光する有機化合物によって形成されている。この
発光層は、例えば高分子系材料を採用する場合には、P
PV(ポリパラフェニレンビニレン)やポリフルオレン
誘導体またはその前駆体などを積層して構成されてい
る。
【0029】第2電極66は、ここでは陰極として機能
し、有機発光層64上に各有機EL素子40に共通に連
続的に配置されている。この第2電極66は、例えばC
a(カルシウム)、Al(アルミニウム)、Ba(バリ
ウム)、Ag(銀)、BaF 、LiFなどの光反射
性金属膜によって形成される。
【0030】乾燥剤70は、各有機EL素子40の表面
に密着配置され、アレイ基板100と封止基板200と
の間に形成される密閉空間内の酸素及び水分を吸着す
る。すなわち、この乾燥剤70は、アルカリ金属または
アルカリ土類金属の酸化膜、例えば酸化バリウム(Ba
O)や酸化カルシウム(CaO)などによって形成され
ている。このような乾燥剤70は、有機EL素子40な
どから出てくる水分を吸収する。
【0031】このように、有機EL素子40と乾燥剤7
0とを密着配置するため、これらを離間して配置してい
た場合と比し、効果的に有機EL素子40の劣化を抑制
することができる。
【0032】このようなアレイ基板100及び封止基板
200は、シール材400によって封止されている。こ
のシール材400は、例えば紫外線硬化型樹脂によって
形成されている。アレイ基板100と封止基板200と
の間の所定ギャップに形成された密閉空間には、窒素ガ
スなどの不活性ガスが充填され、有機EL素子40に悪
影響を与えない程度の乾燥状態に維持されている。
【0033】例えば、乾燥剤70を酸化バリウム(Ba
O)によって形成した場合、酸化バリウムは、水と化学
反応して水酸化バリウム(Ba(OH))になる。こ
れにより、密閉空間内を迅速に除湿し、有機EL素子4
0の水分による破壊を防止することが可能となり、長期
にわたって確実に安定した表示性能を維持することが可
能となる。
【0034】この実施の形態では、乾燥剤70は、図3
に示すように、有機EL素子40の最表面に配置された
第2電極66上に配置されている。より詳細には、乾燥
剤70は、第2電極66の端部66Aを含む第2電極6
6全体を覆うように配置されている。このため、有機E
L素子40を構成する第2電極66が密閉空間内で露出
されることがなく、しかも、乾燥剤70によって覆われ
ているため、水分の影響による第2電極66の化学変化
を防止することが可能となり、長期にわたって安定した
表示性能を維持することができる。
【0035】また、乾燥剤70を有機EL素子40の最
表面に密接配置したため、封止基板200に乾燥剤70
を配置するためのスペースを確保する必要がなくなり、
装置全体の薄型化を実現することができる。また、乾燥
剤70は、真空チャンバ内において、蒸着などにより有
機EL素子40の最表面に配置された第2電極を形成し
た後に連続して形成することが可能であるため、製造工
程数を大幅に増やすことがなく、製造コストを抑え、製
造歩留まりを向上することが可能となる。
【0036】また、乾燥剤70を有機EL素子40に密
着配置するため、部品点数を削減することができ、また
デバイスとしての機械的強度を増大させることができ
る。
【0037】このように構成された有機EL素子40で
は、第1電極62と第2電極66との間に挟持された有
機発光層64に電子及びホールを注入し、これらを再結
合させることにより励起子を生成し、この励起子の失活
時に生じる所定波長の光放出により発光する。このEL
発光は、アレイ基板100の下面側すなわち第1電極6
0側から出射される。
【0038】次に、この有機EL表示装置の製造方法に
ついて説明する。
【0039】すなわち、まず、金属膜及び絶縁膜の成
膜、パターニングなどの処理を繰り返してTFTやキャ
パシタ等を形成し、第1基板100に、画素スイッチ1
0、駆動素子20、蓄積容量素子30、走査線駆動回路
107、信号線駆動回路108などを絶縁性基板120
上に一体的に同一工程で形成する。また、信号線X、走
査線Y、電源供給線P等の各種配線も形成する。そして
これらを被覆するよう絶縁膜56を成膜する。
【0040】続いて、エッチングにより、絶縁膜56に
駆動素子20のドレイン電極20Dまで貫通するコンタ
クトホール95を形成する。そして、絶縁膜56上に各
画素毎に独立島状に透過性電極部材、例えばITOを配
置して第1電極60を形成する。
【0041】続いて、第1基板100に、第1電極60
の各々を分離する隔壁130を形成する。
【0042】続いて、第1電極60上に、例えばインク
ジェット方式により導電性高分子PEDOT(ポリエチ
レンジオキシチオフェン)膜や高分子EL膜などを成膜
することにより、有機発光層64を形成する。
【0043】さらに、有機発光層64上に、第2電極6
6を形成する。この実施の形態では、陰極材料としてバ
リウム(Ba)を90オングストロームの膜厚で蒸着し
た後、連続して保護膜としての銀(Ag)を1500オ
ングストロームの膜厚で蒸着する。これにより、有機E
L素子40を形成する。
【0044】隔壁130に囲まれた複数の表示素子40
は、例えば列ごとに同一の色に発光する。
【0045】さらに、続けて、有機EL素子40の第2
電極66上に、乾燥剤70として酸化バリウム(Ba
O)を5〜5000オングストロームの膜厚で蒸着する
(補充願います)。
【0046】この際、Baの成膜レートを前半5オング
ストローム/sec、後半20オングストローム/se
cとし、さらにAgの成膜レートを50オングストロー
ム/secに設定した。この結果、BaとAgとの2層
の界面では、BaとAgとの合金が形成された。また、
BaOは、乾燥剤70として有機EL素子40に密着さ
せることができた。
【0047】続いて、アレイ基板100上の有機EL素
子40を封止するために、封止基板200の外周に沿っ
て紫外線硬化型のシール材400を塗布し、窒素ガスな
どの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板100と
封止基板200とを貼り合わせる。これにより、有機E
L素子40は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入さ
れる。その後、紫外線を照射して、シール材400を硬
化する。
【0048】このようにして形成したカラー表示型アク
ティブマトリクス有機EL表示装置では、有機EL素子
40に流す駆動電流量を調整して初期輝度100cd/
の条件でライフ試験を行った結果、この素子の輝度
が半減する寿命は約20,000時間であり、十分なラ
イフ特性が得られた。
【0049】なお、この発明は、上述した実施の形態だ
けに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で様々に変形可能である。
【0050】例えば、上述した実施の形態の場合と同様
なアレイ基板100の第1電極60上にホール接合材料
TPD(N,N’ビフェニルN,N’ビスメチルフェニ
ル−ビフェニルジアミン)、EL材料Alq(トリス
ヒドロキシキノンアルミニウム)を連続蒸着して有機発
光層64を形成する。
【0051】さらに、有機発光層64上に、第2電極6
6を形成する。ここでは、陰極材料としてのカルシウム
(Ca)を350オングストロームの膜厚で蒸着した
後、連続して保護膜としての銀(Ag)を蒸着すること
で第2電極66を形成する。さらに、銀に続いて、乾燥
剤70として酸化カルシウム(CaO)を5〜5000
オングストロームの膜厚で連続蒸着して成膜する。また
第2電極には、陰極材料としてBaFを5〜100オ
ングストローム蒸着した後、Ca50〜500オングス
トローム、Al1500〜3000オングストロームを
順に蒸着してもよい。また、BaFの代わりにLiF
を同様な膜厚分だけ蒸着してもよい。
【0052】このようにして形成した有機EL表示装置
では、上述した実施の形態と同様の条件でライフ試験を
行った結果、この素子の輝度が半減する寿命は約30,
000時間であり、十分なライフ特性が得られた。
【0053】また、乾燥剤70は、第2電極上に成膜さ
れたアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属を密閉空間
内に含まれる酸素と反応させ、酸化膜を形成してなるも
のであってもよい。
【0054】なお、図4に示すように、乾燥剤70は、
密閉空間内に露出されるアレイ基板100の主表面の全
体を覆うように配置しても良い。すなわち、図4に示し
た構造では、隔壁130は、表示エリアの周囲に配置さ
れた駆動回路や各種配線などの配線部700を覆うよう
に配置されている。第2電極66は、隔壁130上に配
置されている。
【0055】このような構造の場合、乾燥剤70は、露
出されるアレイ基板100の主表面、すなわち隔壁13
0及び第2電極66のそれぞれ端部を含む全体を覆うよ
うに配置される。これにより、有機EL素子40をはじ
めとするアレイ基板上のすべての構成要素が乾燥剤70
によって覆われる。したがって、有機EL素子40が水
分の影響を受けることがなく、長期にわたって安定した
表示性能を維持することが可能となる。
【0056】しかも、乾燥剤70は、隔壁130を覆う
程度にシール材400と第1基板100との間に介在さ
れているのみであって、シール材400と第1基板10
0との間の全域に介在されることはない。換言すると、
シール材400と第1基板100とは、少なくとも一部
で乾燥剤70を介在することなく直接密着している。し
たがって、シール材400と第1基板100との密着性
を阻害することはない。
【0057】また、図5に示した構造では、隔壁130
は、表示エリアの周囲に配置された駆動回路や各種配線
などの配線部700を覆うように配置されている。隔壁
130のさらに外周には、第2電極66にコモン電位を
供給するための電源線800が配置されている。第2電
極66は、隔壁130上に配置され、さらに外周の電源
線800にコンタクトしている。
【0058】このような構造の場合、乾燥剤70は、露
出されるアレイ基板100の主表面、すなわち第2電極
66及び電源線800のそれぞれ端部を含む全体を覆う
ように配置される。これにより、有機EL素子40をは
じめとするアレイ基板上のすべての構成要素が乾燥剤7
0によって覆われる。したがって、有機EL素子40が
水分の影響を受けることがなく、長期にわたって安定し
た表示性能を維持することが可能となる。
【0059】しかも、乾燥剤70は、第2電極66及び
電源線800を覆う程度にシール材400と第1基板1
00との間に介在されているのみであって、シール材4
00と第1基板100との間の全域に介在されることは
ない。したがって、シール材400と第1基板100と
の密着性を阻害することはない。
【0060】上述したように、この発明によれば、有機
EL素子の寿命を劣化させる水分を容易に除去すること
ができる構造を有し、且つ薄型化が可能である。また、
乾燥剤を配置するために特殊な形状をした基板を必要と
せず、プロセス的にも乾燥剤を有機EL素子の最表面に
配置する電極の蒸着の延長で行うことができるため、有
機EL表示装置の特徴の一つである薄型化に有利であ
り、製造歩留まりを向上することも可能である。
【0061】尚、上述の実施形態では、第1電極側から
光を取り出す下面発光方式を例にとり説明したが、陰極
材料および乾燥剤が光透過性を有する場合には、第2電
極側から光と取り出す上面発光方式とすることも可能で
ある。例えば、陰極材料となるBaを光透過性を有する
程度に薄く、例えば膜厚10nm程度に成膜し、乾燥剤
としてBaOも薄く成膜することによって達成可能であ
る。
【0062】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、長期にわたって安定した表示性能を維持することが
可能な表示装置を提供することができる。また、薄型化
が可能な構造であって、製造歩留まりが高い低コストな
表示装置及びその表示装置の製造方法を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、この発明の一実施の形態にかかる有機
EL表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図2】図2は、図1に示した有機EL表示装置の1画
素分の構造を概略的に示す断面図である。
【図3】図3は、図1に示した有機EL表示装置の周辺
部の構造を概略的に示す断面図である。
【図4】図4は、図1に示した有機EL表示装置の周辺
部の他の構造を概略的に示す断面図である。
【図5】図5は、図1に示した有機EL表示装置の周辺
部の他の構造を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
1…有機EL表示装置 10…画素スイッチ 20…駆動素子 40…有機EL素子 60…第1電極 64…有機発光層 66…第2電極 70…乾燥剤 100…アレイ基板 130…隔壁 200…封止基板 400…シール材

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1基板と、 前記第1基板の主表面上にマトリクス状に配置され、独
    立島状に形成された第1電極と、前記第1電極に対向し
    て配置された第2電極と、前記第1電極と前記第2電極
    との間に保持された発光層と、によって構成された複数
    の表示素子と、 前記表示素子の最表面を連続して覆うように形成され、
    且つアルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化膜でな
    る乾燥剤と、 前記第1基板の主表面に対向して配置され、前記第1基
    板との間に前記表示素子を収納する第2基板と、 を備えたことを特徴とする自己発光表示装置。
  2. 【請求項2】前記乾燥剤は酸化バリウムからなることを
    特徴とする請求項1に記載の自己発光表示装置。
  3. 【請求項3】前記第2電極は複数の前記表示素子に連続
    して配置され、前記乾燥剤は、前記第2電極の端部を含
    む前記第2電極全体を覆うように配置されたことを特徴
    とする請求項1に記載の自己発光表示装置。
  4. 【請求項4】前記自己発光表示装置は、前記表示素子が
    配置される表示領域の周辺領域に配線回路部とを前記第
    1基板と一体的に形成することを特徴とする請求項1に
    記載の自己発光表示装置。
  5. 【請求項5】前記自己発光表示装置は、前記第1電極の
    各々を電気的に絶縁すると共に、前記配線回路部上に配
    置される隔壁を備え、 前記乾燥剤は、前記隔壁及び前記隔壁上に配置された前
    記第2電極全体を被覆することを特徴とする請求項4に
    記載の自己発光表示装置。
  6. 【請求項6】前記乾燥剤は、前記配線回路部および前記
    第2電極全体を被覆することを特徴とする請求項4に記
    載の自己発光表示装置。
  7. 【請求項7】第1基板上に、マトリクス状に配置された
    画素毎に独立島状に形成された第1電極と、前記第1電
    極に対向して配置された第2電極と、前記第1電極と前
    記第2電極との間に保持された発光層と、によって構成
    された表示素子を形成する工程と、 前記表示素子の表面にアルカリ金属またはアルカリ土類
    金属の酸化膜によって形成された乾燥剤を配置する工程
    と、 前記第1基板に対向して第2基板を配置して、前記第1
    基板との間に形成される不活性ガス雰囲気中の密閉空間
    内に前記表示素子を収納する工程と、 を備えたことを特徴とする自己発光表示装置の製造方
    法。
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