JP2003213434A - 液体材料気化装置 - Google Patents

液体材料気化装置

Info

Publication number
JP2003213434A
JP2003213434A JP2002009356A JP2002009356A JP2003213434A JP 2003213434 A JP2003213434 A JP 2003213434A JP 2002009356 A JP2002009356 A JP 2002009356A JP 2002009356 A JP2002009356 A JP 2002009356A JP 2003213434 A JP2003213434 A JP 2003213434A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid material
nozzle
temperature
vaporizer
vaporizing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002009356A
Other languages
English (en)
Inventor
Naomi Yoshioka
尚規 吉岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2002009356A priority Critical patent/JP2003213434A/ja
Publication of JP2003213434A publication Critical patent/JP2003213434A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】未気化残渣及び熱分解残渣の発生を低減し、気
化効率を向上させた液体材料気化装置を提供する。 【解決手段】液体材料を霧化して噴霧するノズル1を、
水平方向に噴霧できるように気化チャンバ2に固着する
と共に、噴霧される液体材料の粒子径に対応した水平方
向への飛散力と、質量に対応した重力とによって飛散さ
せると共に、気化チャンバ2の底部(エリア22a、2
2b、22c)の加熱温度をノズル1からの距離に対応
して段階的に変えるようにして、液体粒子に最適な熱エ
ネルギーを供給することにより、未気化残渣や熱分解残
渣を減らして気化効率を上げる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス製
造や超伝導材料製造等における液体材料を用いたMOC
VD(Metal Organic Chemical
Vapor Deposition)法による成膜プ
ロセスに用いられる液体材料気化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイス製造工程では、MOCV
D法による成膜が、膜質や成膜速度、ステップカバレッ
ジの点においてスパッタ等によるものに比べて有利であ
ることから盛んに利用されている。これに必要なCVD
ガスの供給方法としては、液体有機金属または有機金属
を溶剤に溶かした液体材料をノズルを通して一定の温度
に保持した液体材料気化装置内に噴霧し、CVDリアク
タ直前で気化させる方法が制御性や安定性の面において
バブリング法や昇華法よりすぐれているとして注目され
ている。この液体材料には、有機金属が室温で液体のも
の、または固体(例えばSr(dpm)などの高誘電
率材料BST)の場合は有機溶剤(例えばテトラヒドロ
フランTHFなど)で溶かしたものが使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の液体材料気化装
置は上記のように構成されているが、液体材料を気化さ
せる時、従来の液体材料気化装置では異なる大きさの粒
子を同じ熱エネルギーで気化させているので、大きさに
比例して熱容量も大きい粒子に対して充分な熱エネルギ
ーが与えられないために、未気化残渣や熱分解残渣が発
生して気化効率を低下させ、供給量も増やせないという
問題がある。また、液体材料を混合して気化させた時、
蒸気圧及び熱分解温度特性が異なるために一部の成分が
未気化または熱分解の残渣として気化装置内部に発生
し、個別に気化装置を用意した場合であっても気化部分
などで温度が低下して、未気化または熱分解の残渣が気
化装置内部に発生する上、気化装置の構成が大がかりに
なるという問題がある。本発明は、このような事情に鑑
みてなされたものであって、気化装置内部で発生する残
渣を低減し、気化効率を向上させた液体材料気化装置を
提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の液体材料気化装置は、液体材料をノズルか
ら噴出し霧化状態にした後、加熱された気化チャンバの
内壁に衝突させて気化させる液体材料気化装置におい
て、前記ノズルからの噴霧状液体材料の噴出方向が水平
になるように気化チャンバにノズルを配設すると共に、
気化チャンバの内壁温度をノズルからの距離に応じて段
階的に変えられるようにしたことを特徴とするものであ
る。さらには、上記のように構成された液体材料気化装
置において、気化チャンバの上部に底部内壁温度を測定
する温度モニタを設けたことを特徴とするものである。
本発明の液体材料気化装置は上記のように構成されてお
り、液体材料を水平方向に噴霧すると共に、気化チャン
バ内の場所に応じて温度を段階的に変えたことにより高
い気化効率を得ることができる。
【0005】
【発明の実施の形態】図1〜図3は本発明による液体材
料気化装置の実施例を説明するための図であり、図1は
液体材料気化装置を側面から見た図、図2は図1のB部
の拡大図、図3は図1のA−A′断面図である。図1に
示すように、液体材料気化装置は、基本的には液体材料
と噴霧ガスとを吸入して液体材料を霧化するノズル1
と、このノズル1によって霧化された液体材料に熱エネ
ルギーを供給して変換した気化ガスを送出する気化チャ
ンバ2から構成されている。
【0006】前記ノズル1には、移送ライン1aから液
体材料が、噴霧ガスライン1bには噴霧ガスがそれぞれ
供給される。このノズル1は図2(図1のB部拡大図)
に示すように、液体材料および噴霧ガスが流れる配管は
内側配管11と外側配管12とからなる2重管構造を有
しており、内側配管11の内側を液体材料が流れ、内側
配管11と外側配管12との間の環状空間を噴霧ガスが
流れる。ノズル1の先端部分にはオリフィス部材13が
設けられている。また、このノズル1は、そのケーシン
グ14の上端部に水冷ジャケット15が設けられてお
り、この水冷ジャケット15から下方に延びる冷却ロッ
ド16内に上記内側配管11と外側配管12からなる2
重管が配設されている。上述したオリフィス部材13は
熱伝導率の低い樹脂等で形成され、外側配管12の先端
部分とケーシング14の先端部との間に挟持されて、両
者の間の断熱部材としても機能している。
【0007】前記気化チャンバ2は、前記ノズル1を挿
入して固着した前側ブロック21と、主要な気化領域を
形成する空洞体部22と、気化ガス出口23aを設けた
後側ブロック23をボルト24により結合したものであ
る。前記空洞体部22は図3に示したような矩形状の空
間断面を有し、底辺部を3つのエリア22a、22b、
22cに分割している。そしてノズル1に最も近いエリ
ア22aには、噴霧状の液体材料を気化させるための熱
エネルギーを供給するためのヒータH1と、その加熱温
度を測定するための温度センサS1が挿入されている。
同様に、エリア22bには、ヒータH2と温度センサS
2が挿入され、ノズル1から最も遠いエリア22cに
は、ヒータH3と温度センサS3が挿入されている。ま
た、前記空洞体部22の上辺部22dには、ヒータH4
と温度センサS4が挿入され、右側面部22eには、ヒ
ータH5と温度センサS5が挿入され、左側面部22f
には、ヒータH6と温度センサS6が挿入されている。
さらに、前記前側ブロック21には、ヒータH7と温度
センサS7が挿入され、前記後側ブロック23には、ヒ
ータH8と温度センサS8が挿入されている。そして、
これらのヒータH1〜H8は温度制御装置3により個々
に必要温度になるように制御されている。
【0008】前記ノズル1から噴出される液体材料は、
噴霧ガスのせん断力によって微小な粒子の液滴を形成し
て噴霧されるが、これらの液滴の粒子径は一様ではな
く、必然的に一定の分布特性を有している。図4は、ノ
ズル1から噴霧される液体材料の粒子の飛散行程を模式
的に示したものである。ここでは、粒子の動作を簡明に
説明するために粒子の大きさを3分して、その粒子を大
きい順に粒子R1、粒子R2、粒子R3として区別して
いる。
【0009】粒子R1は、粒子径の大きな液滴で当然質
量が大きいので、ノズル1に最も近いエリアR22aに
集中して飛来し、粒子R2は、粒子R1より小さく質量
も小さいのでエリア22b集中して飛来する。また粒子
R3は最も粒子径が小さく質量が小さいので、ノズル1
に最も遠いエリア22cに集中して飛来する。そして一
般に、粒子径の大きな液滴は、当然質量も大きく、気化
させる熱エネルギーも大きいため、粒子R1、粒子R
2、粒子R3の気化に必要な熱エネルギーはその順に小
さくなる。
【0010】上記のような熱エネルギーを発生させるた
め、本気化チャンバ2のエリア22aの加熱温度T1は
最も重い粒子R1を加熱するために最も高い温度に設定
されている。また、エリア22cの加熱温度T3は最も
軽い粒子R3を加熱するために低い温度に設定されてい
る。そして、エリア22bの加熱温度T2はT1>T2
>T3なる所定の温度に設定されている。また、前記上
辺部22d、右側面部22e、左側面部22fおよび前
側ブロック21、後側ブロック23等の加熱温度は、気
化されたガスが再凝縮しない程度の温度になるよう制御
されている。
【0011】これにより、前記粒子R1、粒子R2、粒
子R3はそれぞれが必要とする温度T1、2、3で加熱
され、熱エネルギーを吸収して気化されるため未気化残
渣や熱分解残渣が減少し、気化効率が向上する。また、
これにより未気化残渣や熱分解残渣を取り除くため加熱
温度を下げて分解し取り除く作業が大幅に減らすことで
きる。
【0012】特に、蒸気圧が低く、また気化温度と分解
温度が接近しているような液体材料を気化する場合、気
化に必要な熱エネルギーを与えるために必要な温度(T
1〜T3)が高温になる場合であっても、他の部分の加
熱温度を分解温度以下の低めの温度にすることにより、
気化チャンバ壁面への分解による付着を防止することが
できる。
【0013】図5は、本発明の気化装置の他の実施例を
示したものである。この気化装置は、図1に示した前記
実施例の気化装置において、大粒子、すなわち粒子R1
が気化されるエリア22a上の気化面上の上辺部22d
に温度センサとして赤外線センサ4を設けたものであ
る。この赤外線センサ4は、未気化残渣が最も付着しや
すいエリア22aを監視して、未気化残渣が堆積した
り、ノズル1の吹き不具合等により液体材料の微粒化が
正常に作用せず、エリア22aの表面温度が所定の温度
にならなかった場合にメンテナンスの必要を知らせる警
報信号を発信するようにしたものである。なお、このよ
うな赤外線センサ4を使用する場合は、赤外線センサ4
の導入ポート4aの周辺にパージガスを流して、気化さ
れたガスが導入ポート4aに付着しないようにする必要
がある。
【0014】上記のように本発明の気化装置は、液体材
料を水平方向に噴霧して、その質量に応じて粒子を分散
させ、その粒子群の大小に応じた熱エネルギーを供給で
きるようにした点にあり、気化装置の形状やヒータおよ
び温度センサ等の挿入場所や個数等については本実施例
に限定されるものではない。
【0015】
【発明の効果】本発明の液体材料気化装置は、噴霧され
る液体材料の粒子径に応じた熱エネルギーを吸収して気
化されるために、未気化残渣及び熱分解残渣を減少さ
せ、また残渣が発生した場合でも気化ガス出口へ飛散し
ないようようにしたので、気化ガスを安定して供給する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による液体材料気化装置の側面
図である。
【図2】図1のB部拡大図である。
【図3】図1のA−A′断面図である。
【図4】噴霧状液体材料の粒子の飛散模式図である。
【図5】本発明の他の実施例による液体材料気化装置の
側面図である。
【符号の説明】
1…ノズル 1a…移送ライン 1b…噴霧ガスライン 2…気化チャンバ 3…温度制御装置 4…赤外線センサ 4a…導入ポート 11…内側配管 12…外側配管 13…オリフィス部材 14…ケーシング 15…水冷ジャケット 16…冷却ロッド 21…前側ブロック 22…空洞体部 22a、22b、22c…エリア 22d…上辺部 22e…右側面図 22f…左側面図 23…後側ブロック 23a…気化ガス出口 24…ボルト H1〜H8…ヒータ R1、R2、R3…粒子 S1〜S8…温度センサ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液体材料をノズルから噴出し霧化状態にし
    た後、加熱された気化チャンバの内壁に衝突させて気化
    させるようにした液体材料気化装置において、前記ノズ
    ルから前記気化チャンバ内への液体材料の噴出し方向が
    水平となるようにノズルを気化チャンバに配設すると共
    に気化チャンバの内壁温度をノズルからの距離に応じて
    段階的に変えられるようにしたことを特徴とする液体材
    料気化装置。
  2. 【請求項2】気化チャンバの上部に底部内壁温度を測定
    する温度モニタを設けたことを特徴とする請求項1記載
    の液体材料気化装置。
JP2002009356A 2002-01-18 2002-01-18 液体材料気化装置 Pending JP2003213434A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002009356A JP2003213434A (ja) 2002-01-18 2002-01-18 液体材料気化装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002009356A JP2003213434A (ja) 2002-01-18 2002-01-18 液体材料気化装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003213434A true JP2003213434A (ja) 2003-07-30

Family

ID=27647374

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002009356A Pending JP2003213434A (ja) 2002-01-18 2002-01-18 液体材料気化装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003213434A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6860434B2 (en) Apparatus for manufacturing ultra-fine particles using electrospray device and method thereof
KR101502415B1 (ko) 액체 전구물질 분무 방법 및 장치
JP5989107B2 (ja) 有機出発物質の堆積方法、蒸発装置および堆積装置
ES2536363T3 (es) Método para la introducción de partículas de un material en capas en un proceso térmico de pulverización
US20110192909A1 (en) Fine droplet atomizer for liquid precursor vaporization
US20220305554A1 (en) Method and device for producing heavy metal powders by ultrasonic atomization
JP3893177B2 (ja) 気化装置、cvd装置及び薄膜製造方法
US20200232708A1 (en) Heat exchanger
JPH11269653A (ja) 液体材料気化装置
JP2002217181A (ja) 半導体原料供給用気化器
JP3567831B2 (ja) 気化装置
JP2003213434A (ja) 液体材料気化装置
WO1998055668A1 (en) Method and apparatus for vapor generation and film deposition
JP2005109349A (ja) 気化器及び成膜装置
JP3507425B2 (ja) 気化器
JP2005051006A (ja) 気化器
JP2005113221A (ja) 気化器並びにこれを用いた液体気化供給装置
CN111447982B (zh) 用于蒸汽发生和薄膜沉积的设备和方法
US20070062333A1 (en) Method and apparatus for producing metallic ultrafine particles
JP2012529417A (ja) ガラス基板を被覆する方法及び装置
JP2006303534A5 (ja)
JP4419526B2 (ja) 気化器の気化性能評価方法
JP2003213420A (ja) 液体材料気化装置
JP3152548B2 (ja) 高周波誘導プラズマ成膜装置
WO2020021796A1 (ja) 気化器