JP2003212998A - トリアルキルシロキシシリケートエマルジョンの製造方法 - Google Patents
トリアルキルシロキシシリケートエマルジョンの製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/02—Polysilicates
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Abstract
(57)【要約】
【課題】有機溶剤を使用せずに、しかも汎用の原材料を
使用することにより経済的に、かつ簡便な方法でトリア
ルキルシロキシシリケートのエマルジョンを製造する方
法を提供する。 【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）： R3Si-O-SiR3 （Ｉ） （式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるオルガノジシロキサンと（Ｂ）下記
一般式（II）： Si(OR)4 （II） （式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるテトラアルコキシシランおよびその
部分加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも
１種とを、（Ａ）成分中のトリアルキルシロキシ単位：
R3SiO0.5／（Ｂ）成分中の４官能単位：SiO4/2（モル
比）が0.5〜2.0の範囲内となる比率で用いて、（Ｃ）界
面活性剤と（Ｄ）水からなる水溶液に添加し、30〜90℃
で重合させるトリアルキルシロキシシリケートエマルジ
ョンの製造方法。
使用することにより経済的に、かつ簡便な方法でトリア
ルキルシロキシシリケートのエマルジョンを製造する方
法を提供する。 【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）： R3Si-O-SiR3 （Ｉ） （式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるオルガノジシロキサンと（Ｂ）下記
一般式（II）： Si(OR)4 （II） （式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるテトラアルコキシシランおよびその
部分加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも
１種とを、（Ａ）成分中のトリアルキルシロキシ単位：
R3SiO0.5／（Ｂ）成分中の４官能単位：SiO4/2（モル
比）が0.5〜2.0の範囲内となる比率で用いて、（Ｃ）界
面活性剤と（Ｄ）水からなる水溶液に添加し、30〜90℃
で重合させるトリアルキルシロキシシリケートエマルジ
ョンの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トリアルキルシロ
キシシリケートエマルジョンの製造方法に関するもので
ある。
キシシリケートエマルジョンの製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】トリアルキルシロキシシリケートは、耐
久性向上、密着性向上、撥水性付与などを図るため各種
樹脂に添加されており、様々な産業分野で使用されてい
る。通常、トリアルキルシロキシシリケートは有機溶剤
に溶解して使用されているが、近年の環境汚染問題から
各種産業分野では脱溶剤化の方向に進んでおり、これに
伴いトリアルキルシロキシシリケートも水系タイプのも
のが求められるようになった。トリアルキルシロキシシ
リケートは固形であるため、エマルジョンとする場合に
は有機溶剤や揮発性オルガノポリシロキサンに溶解した
状態で乳化するのが一般的であるが、この方法では環境
汚染の原因となる有機溶剤などがエマルジョン中に残存
してしまう。
久性向上、密着性向上、撥水性付与などを図るため各種
樹脂に添加されており、様々な産業分野で使用されてい
る。通常、トリアルキルシロキシシリケートは有機溶剤
に溶解して使用されているが、近年の環境汚染問題から
各種産業分野では脱溶剤化の方向に進んでおり、これに
伴いトリアルキルシロキシシリケートも水系タイプのも
のが求められるようになった。トリアルキルシロキシシ
リケートは固形であるため、エマルジョンとする場合に
は有機溶剤や揮発性オルガノポリシロキサンに溶解した
状態で乳化するのが一般的であるが、この方法では環境
汚染の原因となる有機溶剤などがエマルジョン中に残存
してしまう。
【０００３】有機溶剤を使用しないエマルジョンの製造
方法として、pH１〜７の乳化剤水溶液でアルコキシシラ
ンを重合する方法（特開平8-199066）がある。しかしな
がら、トリアルキルアルコキシシランやトリアルキルシ
ラノールは製造方法が複雑であり、一般工業用原料とし
て使用するには不経済である。また、アルコキシシラン
を乳化剤水溶液中15℃未満で重合するオルガノポリシロ
キサンヒドロゾルの製法（特公平7-39494）が知られて
いるが、この方法ではトリアルキルシロキシシリケート
の均一なエマルジョンは得られない。
方法として、pH１〜７の乳化剤水溶液でアルコキシシラ
ンを重合する方法（特開平8-199066）がある。しかしな
がら、トリアルキルアルコキシシランやトリアルキルシ
ラノールは製造方法が複雑であり、一般工業用原料とし
て使用するには不経済である。また、アルコキシシラン
を乳化剤水溶液中15℃未満で重合するオルガノポリシロ
キサンヒドロゾルの製法（特公平7-39494）が知られて
いるが、この方法ではトリアルキルシロキシシリケート
の均一なエマルジョンは得られない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、有機
溶剤を使用せずに、しかも汎用の原材料を使用すること
により経済的に、かつ簡便な方法でトリアルキルシロキ
シシリケートのエマルジョンを製造する方法を提供する
ことである。
溶剤を使用せずに、しかも汎用の原材料を使用すること
により経済的に、かつ簡便な方法でトリアルキルシロキ
シシリケートのエマルジョンを製造する方法を提供する
ことである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）下記一
般式（Ｉ）：
般式（Ｉ）：
【０００６】
【化３】R3Si-O-SiR3 （Ｉ）
（式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるオルガノジシロキサンと（Ｂ）下記
一般式（II）：
ある。）で表されるオルガノジシロキサンと（Ｂ）下記
一般式（II）：
【０００７】
【化４】Si(OR)4 （II）
（式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるテトラアルコキシシランおよびその
部分加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも
１種とを、（Ａ）成分中のトリアルキルシロキシ単位：
R3SiO0.5／（Ｂ）成分中の４官能単位：SiO4/2（モル
比）が0.5〜2.0の範囲内となる比率で用いて、（Ｃ）界
面活性剤と（Ｄ）水からなる水溶液に添加し、30〜90℃
で重合させるトリアルキルシロキシシリケートエマルジ
ョンの製造方法を提供する。
ある。）で表されるテトラアルコキシシランおよびその
部分加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも
１種とを、（Ａ）成分中のトリアルキルシロキシ単位：
R3SiO0.5／（Ｂ）成分中の４官能単位：SiO4/2（モル
比）が0.5〜2.0の範囲内となる比率で用いて、（Ｃ）界
面活性剤と（Ｄ）水からなる水溶液に添加し、30〜90℃
で重合させるトリアルキルシロキシシリケートエマルジ
ョンの製造方法を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳述す
る。
る。
【０００９】＜反応原料＞（Ａ）成分である下記一般式
（Ｉ）：
（Ｉ）：
【００１０】
【化５】R3Si-O-SiR3 （Ｉ）
（式中、Ｒは前記のとおりである。）で表されるオルガ
ノジシロキサンは、末端をトリアルキルシロキシ封鎖す
るために用いられる。一般式（Ｉ）中のＲとしては、具
体的にはメチル、エチル、ｎ-プロピル、ｉｓｏ-プロピ
ル、ｎ-ブチル、ｉｓｏ-ブチルおよびｔ-ブチル基並びに
直鎖状または分岐を有するペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニルおよびデシル基から選ばれる基であ
り、好ましくはメチル基である。
ノジシロキサンは、末端をトリアルキルシロキシ封鎖す
るために用いられる。一般式（Ｉ）中のＲとしては、具
体的にはメチル、エチル、ｎ-プロピル、ｉｓｏ-プロピ
ル、ｎ-ブチル、ｉｓｏ-ブチルおよびｔ-ブチル基並びに
直鎖状または分岐を有するペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニルおよびデシル基から選ばれる基であ
り、好ましくはメチル基である。
【００１１】（Ｂ）成分である上記一般式（II）：
【００１２】
【化６】Si(OR)4 （II）
（式中、Ｒは前記のとおりである。）で表されるテトラ
アルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物はSiO
4/2単位構造の源となるものである。一般式（II）中の
Ｒとしては、前述のものと同じでよいが、重合反応性の
面から好ましくはメチル、エチルおよびｎ-プロピルも
しくはｉｓｏ-プロピル基から選ばれる基であり、より
好ましくはメチルおよびエチル基から選ばれる基であ
る。また、副生するアルコールを低減できることから、
テトラアルコキシシランよりもその部分加水分解縮合物
がより好ましい。
アルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物はSiO
4/2単位構造の源となるものである。一般式（II）中の
Ｒとしては、前述のものと同じでよいが、重合反応性の
面から好ましくはメチル、エチルおよびｎ-プロピルも
しくはｉｓｏ-プロピル基から選ばれる基であり、より
好ましくはメチルおよびエチル基から選ばれる基であ
る。また、副生するアルコールを低減できることから、
テトラアルコキシシランよりもその部分加水分解縮合物
がより好ましい。
【００１３】（Ａ）成分および（Ｂ）成分は、（Ａ）成
分中のトリアルキルシロキシ単位：R3SiO0.5／（Ｂ）成
分中の４官能単位：SiO4/2（モル比）が0.5〜2.0の範囲
内、より好ましくは0.7〜1.5の範囲内となる比率で用い
られる。前記比率が低すぎるとゲル化したり、逆に高す
ぎると相分離を生じたりして、いずれの場合も均一なエ
マルジョンが得られない。
分中のトリアルキルシロキシ単位：R3SiO0.5／（Ｂ）成
分中の４官能単位：SiO4/2（モル比）が0.5〜2.0の範囲
内、より好ましくは0.7〜1.5の範囲内となる比率で用い
られる。前記比率が低すぎるとゲル化したり、逆に高す
ぎると相分離を生じたりして、いずれの場合も均一なエ
マルジョンが得られない。
【００１４】（Ｃ）成分である界面活性剤は（Ａ）及び
（Ｂ）成分を水中に均一分散させるためのものであり、
特に制限はないが、例えばアルキル硫酸塩、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキル燐酸塩などのアニオン系
界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレン脂肪酸エステルなどのノニオン系界面活性
剤；第４級アンモニウム塩、アルキルアミン酢酸塩など
のカチオン系界面活性剤；アルキルベタイン、アルキル
イミダゾリンなどの両性界面活性剤などがあり、これら
を単独でまたは２種以上を併用して使用する。中でも重
合反応性および安定性の面からアニオン系界面活性剤が
好ましい。（Ｃ）成分の配合量としては（Ａ）成分と
（Ｂ）成分の合計量を100重量部とした場合に通常0.1〜
20重量部の範囲、より好ましくは0.3〜10重量部の範囲
である。
（Ｂ）成分を水中に均一分散させるためのものであり、
特に制限はないが、例えばアルキル硫酸塩、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキル燐酸塩などのアニオン系
界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレン脂肪酸エステルなどのノニオン系界面活性
剤；第４級アンモニウム塩、アルキルアミン酢酸塩など
のカチオン系界面活性剤；アルキルベタイン、アルキル
イミダゾリンなどの両性界面活性剤などがあり、これら
を単独でまたは２種以上を併用して使用する。中でも重
合反応性および安定性の面からアニオン系界面活性剤が
好ましい。（Ｃ）成分の配合量としては（Ａ）成分と
（Ｂ）成分の合計量を100重量部とした場合に通常0.1〜
20重量部の範囲、より好ましくは0.3〜10重量部の範囲
である。
【００１５】（Ｄ）成分の水の配合量としては（Ａ）成
分と（Ｂ）成分の合計量を100重量部とした場合に通常5
0〜2,000重量部の範囲、より好ましくは100〜1,000重量
部の範囲である。
分と（Ｂ）成分の合計量を100重量部とした場合に通常5
0〜2,000重量部の範囲、より好ましくは100〜1,000重量
部の範囲である。
【００１６】（Ａ）成分と（Ｂ）成分の重合触媒とし
て、硫酸、塩酸、リン酸、酢酸、ギ酸、乳酸、トリフロ
ロ酢酸などの酸性物質、または水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、アンモニアなどのアルカリ性物質を有効量
使用することができる。ただし、（Ｃ）成分の界面活性
剤としてアルキル硫酸、アルキルベンゼンスルホン酸、
アルキル燐酸などの酸性物質を用いる場合には、別途重
合触媒を用いなくてもよい。
て、硫酸、塩酸、リン酸、酢酸、ギ酸、乳酸、トリフロ
ロ酢酸などの酸性物質、または水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、アンモニアなどのアルカリ性物質を有効量
使用することができる。ただし、（Ｃ）成分の界面活性
剤としてアルキル硫酸、アルキルベンゼンスルホン酸、
アルキル燐酸などの酸性物質を用いる場合には、別途重
合触媒を用いなくてもよい。
【００１７】＜反応条件＞（Ｃ）成分および（Ｄ）成分
（および必要により重合触媒）の水溶液を30〜90℃に加
温し、撹拌下（Ａ）成分と（Ｂ）成分を滴下し、さらに
30〜90℃で１〜100時間重合を行なった後、酸性触媒ま
たは酸性の（Ｃ）成分を使用した場合には炭酸ナトリウ
ム、アンモニア、水酸化ナトリウム、トリエタノールア
ミンなどのアルカリ性物質で、アルカリ性触媒を使用し
た場合には酢酸、ギ酸、リン酸、塩酸などの酸性物質で
中和すればよい。温度が30℃未満の場合には（Ａ）成分
であるオルガノジシロキサンの反応が進行し難く、均一
なエマルジョンを得ることができず、また、90℃より高
い場合にはエマルジョンの安定性が不安定となる。より
好ましい温度範囲は、40〜85℃である。なお、（Ｂ）成
分を予め（Ｃ）成分と（Ｄ）成分（および必要により重
合触媒）中で30〜90℃において重合させた後に、（Ａ）
成分を滴下しさらに30〜90℃で重合させる方法も可能で
ある。また、製造に際しジアルコキシジアルキルシラ
ン、トリアルコキシアルキルシランおよびそれらの部分
加水分解縮合物を併用することは何ら問題はない。
（および必要により重合触媒）の水溶液を30〜90℃に加
温し、撹拌下（Ａ）成分と（Ｂ）成分を滴下し、さらに
30〜90℃で１〜100時間重合を行なった後、酸性触媒ま
たは酸性の（Ｃ）成分を使用した場合には炭酸ナトリウ
ム、アンモニア、水酸化ナトリウム、トリエタノールア
ミンなどのアルカリ性物質で、アルカリ性触媒を使用し
た場合には酢酸、ギ酸、リン酸、塩酸などの酸性物質で
中和すればよい。温度が30℃未満の場合には（Ａ）成分
であるオルガノジシロキサンの反応が進行し難く、均一
なエマルジョンを得ることができず、また、90℃より高
い場合にはエマルジョンの安定性が不安定となる。より
好ましい温度範囲は、40〜85℃である。なお、（Ｂ）成
分を予め（Ｃ）成分と（Ｄ）成分（および必要により重
合触媒）中で30〜90℃において重合させた後に、（Ａ）
成分を滴下しさらに30〜90℃で重合させる方法も可能で
ある。また、製造に際しジアルコキシジアルキルシラ
ン、トリアルコキシアルキルシランおよびそれらの部分
加水分解縮合物を併用することは何ら問題はない。
【００１８】
【実施例】以下に実施例を用いて説明する。なお、以下
において、「Ｍ単位」は、(ＣＨ3) 3SiＯ0.5単位を、ま
た、「Ｑ単位」は、SiＯ4/2単位を表す。
において、「Ｍ単位」は、(ＣＨ3) 3SiＯ0.5単位を、ま
た、「Ｑ単位」は、SiＯ4/2単位を表す。
【００１９】＜実施例１＞温度計付き２リットルガラス
製撹拌装置にドデシルベンゼンスルホン酸４ｇ、水738
ｇを入れ50℃に加温して、ヘキサメチルジシロキサン10
0ｇとテトラメトキシシランの部分加水分解縮合物（コ
ルコート社製メチルシリケート51：SiＯ4/2分51重量
％）145ｇの混合物（仕込みでのＭ単位／Ｑ単位（モル
比）＝1.0）を２時間かけて滴下し、さらに50℃で６時
間重合した後、３％アンモニア水溶液13ｇで中和し青白
色半透明のエマルジョンを得た。このものは、ｐHが8.
8、不揮発分が17.2重量％であった。このものの不揮発
分をNMRにより解析した結果、Ｍ単位／Ｑ単位（モル
比）は約0.95であり、GPCにより測定した平均分子量は
約3,000であった。
製撹拌装置にドデシルベンゼンスルホン酸４ｇ、水738
ｇを入れ50℃に加温して、ヘキサメチルジシロキサン10
0ｇとテトラメトキシシランの部分加水分解縮合物（コ
ルコート社製メチルシリケート51：SiＯ4/2分51重量
％）145ｇの混合物（仕込みでのＭ単位／Ｑ単位（モル
比）＝1.0）を２時間かけて滴下し、さらに50℃で６時
間重合した後、３％アンモニア水溶液13ｇで中和し青白
色半透明のエマルジョンを得た。このものは、ｐHが8.
8、不揮発分が17.2重量％であった。このものの不揮発
分をNMRにより解析した結果、Ｍ単位／Ｑ単位（モル
比）は約0.95であり、GPCにより測定した平均分子量は
約3,000であった。
【００２０】＜実施例２＞実施例１記載の装置にドデシ
ルベンゼンスルホン酸10ｇ、水745ｇを入れ50℃に加温
して、テトラメトキシシランの部分加水分解縮合物（コ
ルコート社製メチルシリケート51：SiＯ4/2分51重量
％）145gを添加した後、50℃で２時間重合した。さらに
ヘキサメチルジシロキサン100ｇを１時間かけて滴下し
さらに50℃で３時間重合した後、10％炭酸ナトリウム水
溶液24ｇで中和し殆ど無色透明のエマルジョンを得た。
このものは、ｐHが6.4、不揮発分が17.2重量％であっ
た。このものの不揮発分をNMRにより解析した結果、Ｍ
単位／Ｑ単位（モル比）は約0.95であり、GPCにより測
定した平均分子量は約4,000であった。
ルベンゼンスルホン酸10ｇ、水745ｇを入れ50℃に加温
して、テトラメトキシシランの部分加水分解縮合物（コ
ルコート社製メチルシリケート51：SiＯ4/2分51重量
％）145gを添加した後、50℃で２時間重合した。さらに
ヘキサメチルジシロキサン100ｇを１時間かけて滴下し
さらに50℃で３時間重合した後、10％炭酸ナトリウム水
溶液24ｇで中和し殆ど無色透明のエマルジョンを得た。
このものは、ｐHが6.4、不揮発分が17.2重量％であっ
た。このものの不揮発分をNMRにより解析した結果、Ｍ
単位／Ｑ単位（モル比）は約0.95であり、GPCにより測
定した平均分子量は約4,000であった。
【００２１】＜実施例３＞実施例１記載の装置にドデシ
ルベンゼンスルホン酸10ｇ、水705ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン100ｇとテトラメトキ
シシラン185ｇの混合物（仕込みでのＭ単位／Ｑ単位
（モル比）＝1.0）を２時間かけて滴下し、さらに50℃
で６時間重合した後、10％炭酸ナトリウム水溶液24ｇで
中和し青白色半透明のエマルジョンを得た。このもの
は、ｐHが6.4、不揮発分が17.9重量％であった。このも
のの不揮発分をNMRにより解析した結果、Ｍ単位／Ｑ単
位（モル比）は約0.95であり、GPCにより測定した平均
分子量は約3,000であった。
ルベンゼンスルホン酸10ｇ、水705ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン100ｇとテトラメトキ
シシラン185ｇの混合物（仕込みでのＭ単位／Ｑ単位
（モル比）＝1.0）を２時間かけて滴下し、さらに50℃
で６時間重合した後、10％炭酸ナトリウム水溶液24ｇで
中和し青白色半透明のエマルジョンを得た。このもの
は、ｐHが6.4、不揮発分が17.9重量％であった。このも
のの不揮発分をNMRにより解析した結果、Ｍ単位／Ｑ単
位（モル比）は約0.95であり、GPCにより測定した平均
分子量は約3,000であった。
【００２２】＜実施例４＞実施例１記載の装置にドデシ
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水758ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン80ｇとテトラメトキシ
シランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチルシ
リケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕込
みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝0.8）を２時間かけ
て滴下し、さらに50℃で６時間重合した後、３％アンモ
ニア水溶液13ｇで中和し殆ど無色透明のエマルジョンを
得た。このものは、ｐHが8.5、不揮発分が15.0重量％で
あった。このものの不揮発分をNMRにより解析した結
果、Ｍ単位／Ｑ単位（モル比）は約0.76であり、GPCに
より測定した平均分子量は約3,500であった。
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水758ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン80ｇとテトラメトキシ
シランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチルシ
リケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕込
みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝0.8）を２時間かけ
て滴下し、さらに50℃で６時間重合した後、３％アンモ
ニア水溶液13ｇで中和し殆ど無色透明のエマルジョンを
得た。このものは、ｐHが8.5、不揮発分が15.0重量％で
あった。このものの不揮発分をNMRにより解析した結
果、Ｍ単位／Ｑ単位（モル比）は約0.76であり、GPCに
より測定した平均分子量は約3,500であった。
【００２３】＜実施例５＞実施例１記載の装置にドデシ
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水786ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン150ｇとテトラメトキ
シシランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチル
シリケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕
込みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝1.5）を２時間か
けて滴下し、さらに50℃で６時間重合した後、３％アン
モニア水溶液13ｇで中和し青白色のエマルジョンを得
た。このものは、ｐHが8.9、不揮発分が21.8重量％であ
った。このものの不揮発分をNMRにより解析した結果、
Ｍ単位／Ｑ単位（モル比）は約1.4であり、GPCにより測
定した平均分子量は約2,500であった。
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水786ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン150ｇとテトラメトキ
シシランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチル
シリケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕
込みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝1.5）を２時間か
けて滴下し、さらに50℃で６時間重合した後、３％アン
モニア水溶液13ｇで中和し青白色のエマルジョンを得
た。このものは、ｐHが8.9、不揮発分が21.8重量％であ
った。このものの不揮発分をNMRにより解析した結果、
Ｍ単位／Ｑ単位（モル比）は約1.4であり、GPCにより測
定した平均分子量は約2,500であった。
【００２４】＜比較例１＞温度を15℃に変更した以外
は、実施例１と同様に重合したが、撹拌を停止すると2
相分離してしまい均一なエマルジョンは得られなかっ
た。
は、実施例１と同様に重合したが、撹拌を停止すると2
相分離してしまい均一なエマルジョンは得られなかっ
た。
【００２５】＜比較例２＞実施例１記載の装置にドデシ
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水798ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン40ｇとテトラメトキシ
シランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチルシ
リケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕込
みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝0.4）を２時間かけ
て滴下し、さらに50℃で６時間重合した後、３％アンモ
ニア水溶液13ｇで中和したところゲル化してしまい均一
なエマルジョンは得られなかった。
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水798ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン40ｇとテトラメトキシ
シランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチルシ
リケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕込
みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝0.4）を２時間かけ
て滴下し、さらに50℃で６時間重合した後、３％アンモ
ニア水溶液13ｇで中和したところゲル化してしまい均一
なエマルジョンは得られなかった。
【００２６】＜比較例３＞実施例１記載の装置にドデシ
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水628ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン210ｇとテトラメトキ
シシランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチル
シリケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕
込みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝2.1）を２時間か
けて滴下し、さらに50℃で６時間重合したが、撹拌を停
止すると２相分離してしまい均一なエマルジョンは得ら
れなかった。
ルベンゼンスルホン酸４ｇ、水628ｇを入れ50℃に加温
して、ヘキサメチルジシロキサン210ｇとテトラメトキ
シシランの部分加水分解縮合物（コルコート社製メチル
シリケート51：SiＯ4/2分51重量％）145ｇの混合物（仕
込みでのＭ単位／Ｑ単位（モル比）＝2.1）を２時間か
けて滴下し、さらに50℃で６時間重合したが、撹拌を停
止すると２相分離してしまい均一なエマルジョンは得ら
れなかった。
【００２７】
【発明の効果】本発明の方法によれば、汎用的な原材料
を使用し、簡便な方法で有機溶剤を含有しないトリアル
キルシロキシシリケートのエマルジョンを製造すること
ができる。
を使用し、簡便な方法で有機溶剤を含有しないトリアル
キルシロキシシリケートのエマルジョンを製造すること
ができる。
Claims (2)
- 【請求項１】（Ａ）下記一般式（Ｉ）： 【化１】R3Si-O-SiR3 （Ｉ） （式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるオルガノジシロキサンと（Ｂ）下記
一般式（II）： 【化２】Si(OR)4 （II） （式中、Ｒは独立に炭素原子数が１〜10のアルキル基で
ある。）で表されるテトラアルコキシシランおよびその
部分加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも
１種とを、（Ａ）成分中のトリアルキルシロキシ単位：
R3SiO0.5／（Ｂ）成分中の４官能単位：SiO4/2（モル
比）が0.5〜2.0の範囲内となる比率で用いて、（Ｃ）界
面活性剤と（Ｄ）水からなる水溶液に添加し、30〜90℃
で重合させるトリアルキルシロキシシリケートエマルジ
ョンの製造方法。 - 【請求項２】前記（Ｂ）成分が前記一般式（II）で表さ
れるテトラアルコキシシランの部分加水分解縮合物であ
り、かつ、前記（Ｃ）成分がアニオン性界面活性剤であ
る請求項１記載のトリアルキルシロキシシリケートエマ
ルジョンの製造方法。
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| JP2002014623A JP3852921B2 (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | トリアルキルシロキシシリケートエマルジョンの製造方法 |
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| JP (1) | JP3852921B2 (ja) |
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- 2002-01-23 JP JP2002014623A patent/JP3852921B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 2003-01-03 US US10/335,877 patent/US20030139481A1/en not_active Abandoned
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| WO2016035232A1 (ja) * | 2014-09-04 | 2016-03-10 | 信越化学工業株式会社 | 皮膜形成性組成物及び化粧料 |
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Also Published As
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