JP2003201528A - ヒートシンク材 - Google Patents

ヒートシンク材

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誠二 安井
Takeshi Suzuki
健 鈴木
Nobusuke Nakayama
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Abstract

(57)【要約】 【課題】実際の電子部品(半導体装置を含む)等で求め
られる高い熱伝導率と低い残留気孔率を備えた特性を有
するヒートシンク材を容易に製造できるようにして、高
い機械的強度でかつ高品質のヒートシンク材の生産性を
向上させる。 【解決手段】ケース内にグラファイトを入れ、該ケース
を炉内に収容する(ステップS301)。炉内を焼成し
て、グラファイトによる多孔質焼結体を作製する(ステ
ップS302)。その後、炉から多孔質焼結体をケース
ごと取り出して、プレス機の凹部内に多孔質焼結体をケ
ースごと収容する(ステップS303)。次に、ケース
内に金属の溶湯を注湯した後(ステップS304)、パ
ンチを凹部内に挿通し、ケース内の前記溶湯を押し下げ
圧入する(ステップS305)。このパンチの押圧処理
によって、金属の溶湯は、多孔質焼結体の開気孔中に含
浸されることとなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばICチップ
から発生する熱を効率よく放熱させるヒートシンクを構
成するためのヒートシンク材に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ICチップにとって熱は大敵で
あり、内部温度が最大許容接合温度を超えないようにし
なければならない。また、パワートランジスタや半導体
整流素子等の半導体装置では、動作面積当たりの消費電
力が大きいため、半導体装置のケース(パッケージ)や
リードから放出される熱量だけでは、発生熱量を放出し
きれず、前記半導体装置の内部温度が上昇して熱破壊を
引き起こすおそれがある。
【0003】この現象は、CPUを搭載したICチップ
においても同じであり、クロック周波数の向上に伴って
動作時の発熱量が多くなり、放熱を考慮した熱設計が重
要な事項となってきている。
【0004】前記熱破壊の防止等を考慮した熱設計にお
いては、ICチップのケース(パッケージ)に放熱面積
の大きいヒートシンクを固着することを加味した素子設
計や実装設計が行われている。
【0005】前記ヒートシンク用の材料としては、一般
に、熱伝導度の良好な銅やアルミニウム等の金属材料が
使用されている(例えば、特許文献1及び2参照)。
【0006】
【特許文献1】特開平8−279569号公報(2頁〜
4頁)
【特許文献2】特開昭59−228742号公報(1頁
〜2頁)
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近時、CPUやメモリ
等のICチップにおいては、低消費電力を目的とした低
電力駆動を図りながらも、素子の高集積化と素子形成面
積の拡大化に伴ってICチップ自体が大型化する傾向に
ある。ICチップが大型化すると、半導体基体(シリコ
ン基板やGaAs基板)とヒートシンクとの熱膨張率の
差によって生じる応力が大きくなり、ICチップの剥離
現象や機械的破壊が生じるおそれがある。
【0008】これを防止するためには、ICチップの低
電力駆動の実現とヒートシンク材の改善が挙げられる。
ICチップの低電力駆動は、現在、電源電圧として、従
来から用いられてきたTTLレベル(5V)を脱して、
3.3V以下のレベルが実用化されている。
【0009】一方、ヒートシンクの構成材料としては、
単に熱伝導度を考えるのみでなく、半導体基体であるシ
リコンやGaAsと熱膨張率がほぼ一致し、しかも、熱
伝導度の高い材料の選定が必要となってきている。
【0010】ヒートシンク材の改善に関しては、多種多
様の報告があり、例えば窒化アルミニウム(AlN)を
使用した例や、Cu(銅)−W(タングステン)を用い
た例等がある。AlNは、熱伝導性と熱膨張性のバラン
スに優れており、特にSiの熱膨張率とほぼ一致するこ
とから、半導体基体としてシリコン基板を用いた半導体
装置のヒートシンク材として好適である。
【0011】また、Cu−Wは、Wの低熱膨張性とCu
の高熱伝導性を兼ね備えた複合材料であり、しかも、機
械加工が容易であることから、複雑な形状を有するヒー
トシンクの構成材料として好適である。
【0012】また、他の例としては、SiCを主成分と
するセラミック基材に金属Cuを20vol%〜40v
ol%の割合で含有させたもの(前記特許文献1)や、
無機物質からなる粉末焼結多孔質体にCuを5vol%
〜30wt%含浸させたもの(前記特許文献2)等が提
案されている。
【0013】前記特許文献1に係るヒートシンク材は、
SiCと金属Cuの圧粉体を成形してヒートシンクを作
製するという粉体成形であるため、熱膨張率と熱伝導率
はあくまでも理論的な値であり、実際の電子部品等で求
められる熱膨張率と熱伝導率のバランスを得ることがで
きないという問題がある。
【0014】前記特許文献2に係るヒートシンク材は、
無機物質からなる粉末焼結多孔質体に含浸されるCuの
比率が低く、熱伝導度を高める上で限界が生じるおそれ
がある。
【0015】上記したヒートシンク材は、高熱伝導性を
備えた複合材料として好適であるが、所望の機械的強度
が得られないという問題がある。これは、基体であるセ
ラミック材料等の炭素材料の機械的強度が比較的低いこ
とによって、前記炭素材料に対する金属含浸の含浸圧力
を確保できないため、該複合材料に残留気孔が容易に発
生しやすくなるからである。
【0016】前記残留気孔は、複合材料における熱伝導
率の低下と、複合材料のハンダめっき工程におけるハン
ダと複合材料の界面におけるボイド発生と、該ハンダと
前記複合材料との濡れ性の低下とをもたらす。
【0017】また、近年、炭素材料のみで複合材料にお
ける高熱伝導率を実現することが可能となってきている
ので、前記炭素材料の気孔に金属を含浸させて高熱伝導
率を備えた複合材料を作製する必要性は低下しつつあ
る。この場合、前記金属の役割は、前記炭素材料中の気
孔に効率よく含浸して残留気孔を低減し、ヒートシンク
材の機械的強度を向上することにある。更に、前記ハン
ダめっき工程において発生する残留気孔への水分等の染
込み防止と、それに伴うボイド、膨れ、剥離等の防止に
ついても急務の課題となってきている。
【0018】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、炭素材料の気孔に金属を含浸させて得ら
れるヒートシンク材において、金属含浸時に発生するヒ
ートシンク材の残留気孔を低減すると共に、前記ヒート
シンク材と該ヒートシンク材表面を被覆するハンダめっ
きとの間の濡れ性を向上させることによって、高い機械
的強度を備えたヒートシンク材を提供することを目的と
する。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明に係るヒートシン
ク材は、カーボン又はその同素体と、凝固膨張の性質を
備えた金属又は凝固収縮を抑制する性質を備えた金属で
構成することを特徴としている。凝固温度近傍で体積が
膨張する金属又は体積の収縮が少ない金属をヒートシン
ク材に含浸することによって、凝固温度から室温への冷
却過程で発生する、該金属の収縮量を低減することが可
能となる。従って、該ヒートシンク材の残留気孔の発生
を抑制することができる。
【0020】上記した効果を奏する金属として、Bi、
Sb、Ga、黒鉛鋳鉄及びそれらの金属を含んだ合金を
選択する。これらは凝固膨張又は凝固収縮抑制の性質を
備えた金属である。
【0021】また、前記金属として凝固温度が低い金属
を選択した場合、凝固温度から室温に冷却される該金属
の収縮量を低減することができる。この場合、ヒートシ
ンク材を実際の電子部品等に組み込んで、ハンダ付け作
業が行われ、該ヒートシンク材は、再加熱される。従っ
て、ハンダ付け作業の熱でも融解しない金属、すなわち
300℃以上の凝固温度を有する金属を選択することが
望ましい。
【0022】また、前記金属として、偏析が発生しにく
い金属を選択してもよい。これは、低融点を有する金属
の場合、状態図から見たとき、前記金属の初晶が偏析し
やすいと共に、200℃以下の温度領域で前記金属が融
解する可能性があるためである。
【0023】また、前記金属として、ヒートシンク材と
の濡れ性が良好な性質を備えた金属を用いると好まし
い。濡れ性が良好な金属の場合、低い含浸圧力であって
も炭素材料の気孔に容易に含浸することが可能である。
【0024】また、ヒートシンク材の直交する3軸方向
の平均、又はいずれかの軸方向における熱伝導率として
は、300W/mK以上であることが好ましい。
【0025】一方、前記ヒートシンク材の基材となるカ
ーボン又はその同素体の熱伝導率は、150W/mK以
上であることが望ましい。なお、気孔がない状態では、
200W/mK以上、より好ましくは250W/mK以
上、さらに好ましくは300W/mK以上であれば望ま
しい。そのようなカーボン又はその同素体を選択するこ
とによって、金属の種類によらない高い熱伝導率を備え
たヒートシンク材を安定して供給できる。
【0026】また、前記同素体としては、グラファイト
又はダイヤモンドが望ましい。これらの同素体は高い熱
伝導率を備えているからである。
【0027】そして、上記した材料から構成されるヒー
トシンク材は、前記カーボン又はその同素体を焼成して
ネットワーク化することによって得られる多孔質焼結体
に前記金属を含浸することによって構成される。この場
合、前記多孔質焼結体の気孔率は、10vol%〜50
vol%であり、平均気孔径は0.1μm〜200μm
となる。
【0028】そして、前記ヒートシンク材を構成する前
記カーボン又はその同素体と、前記金属との体積率は、
前記カーボン又はその同素体に対しては50vol%〜
90vol%、金属に対しては50vol%〜10vo
l%の範囲となる。
【0029】また、本発明の目的である高い機械的強度
を備えたヒートシンク材を実現するために、前記カーボ
ン又はその同素体に、該カーボン又はその同素体を焼成
した際の閉気孔率を低減させるような添加物を添加する
ことが望ましい。この場合、前記閉気孔率を低減させる
添加物として、SiC及び/又はSiが選択される。前
記添加物の添加によって、カーボン又はその同素体の焼
成時に発生する残留気孔を低減することが可能となる。
特に、前記カーボン又はその同素体で構成されるプリフ
ォームにこれらの添加物を含浸させると、金属の含浸率
が向上し、残留気孔を効率よく低減できる。
【0030】また、ヒートシンク材界面の濡れ性を改善
するために、前記金属に加えて、Te、Bi、Pb、S
n、Se、Li、Sb、Tl、Cdから選択された1種
以上の元素を添加することが望ましい。これらの元素を
添加することによって、カーボン又はその同素体との濡
れ性が良好になり低圧での含浸が可能になる。また界面
の接合性も向上する。また、ヒートシンク材と該ヒート
シンク材表面におけるハンダめっきとの濡れ性が向上
し、界面におけるボイド発生を低減できる。
【0031】さらに、前記カーボン又はその同素体の表
面に、カーバイド層を形成すれば、カーバイド層を介し
て含浸金属との接合力が向上し、熱伝導の向上と複合材
の強度の向上も得られる。また、カーバイド自体の硬さ
が強度向上へ貢献する。さらにヒートシンク材と該ヒー
トシンク材のハンダめっきとの界面における濡れ性が向
上する他、低圧での金属含浸が可能となり、微細気孔へ
の含浸も可能となる。
【0032】なお、前記カーバイド層の形成は、少なく
とも前記カーボン又はその同素体と添加元素との反応に
基づくものであり、選択される該添加元素としては、N
b、Cr、Zr、Be、V、Mo、Al、Ta、Mn、
Si、Fe、Co、Ni、Mg、Ca、W、Ti、B、
ミッシュメタルから少なくとも1種以上の元素を選択す
る。
【0033】また、前記ヒートシンク材としては、前記
多孔質焼結体と金属とによるヒートシンク材の構成以外
にも、前記カーボン又はその同素体の粉末に、水又は結
合材を混合し、所定圧力下で成形された予備成形体又は
焼成された成形体に、前記金属を含浸させて構成しても
実現できる。また、前記カーボン又はその同素体の粉末
と前記金属の粉末とを混合し、所定圧力下で成形されて
構成されるヒートシンク材であってもよい。さらに、前
記金属が溶解した液体状態又は固液共存状態に、前記カ
ーボン又はその同素体の粉末を混合し、鋳造成形されて
構成されるヒートシンク材でもよい。また、前記カーボ
ン又はその同素体の粉末に前記金属が含浸されて構成さ
れるヒートシンク材でもよい。
【0034】これらのヒートシンク材を構成する前記カ
ーボン又はその同素体の粉末の平均粉末粒度は、1μm
〜500μmであり、前記粉末を構成する1つの粒子
(粉体)が最小の長さをとる方向と、最大の長さをとる
方向とで、その長さの比の平均を1:5以下とする。
【0035】また、前記ヒートシンク材を、前記カーボ
ン又はその同素体の粉砕裁断材と前記金属の粉末とを混
合し、所定温度、所定圧力下で成形して構成してもよ
い。
【0036】このようにして作製されるヒートシンク材
では、カーボン又はその同素体と前記金属との体積率
が、前記カーボン又はその同素体が20vol%〜80
vol%、金属が80vol%〜20vol%の範囲で
あることが好ましい。
【0037】そして、これらのヒートシンク材に、成形
した際の金属の結合を強化させる添加元素が添加されて
いることが望ましい。この場合、前記添加元素として
は、Bi、Te、Sn、Pb、Se、Li、Sb、T
l、Cdから選択することが望ましい。この場合、前記
添加元素としては、銅に固溶しにくいNb、Zr、C
r、Be等の元素から選択されることが望ましい。銅に
0.5wt%以下しか固溶しない添加元素を添加するこ
とによって、熱伝導度の低下は発生せず、良好なヒート
シンク材を得ることができる。
【0038】また、前記成形の際に、カーボン又はその
同素体と金属との結合を強化させる添加元素を添加する
ことが好ましい。この場合、前記添加元素としては、N
b、Zr、Cr、Be、V、Mo、Al、Ta、Mn、
Si、Fe、Co、Ni、Mg、Ca、W、Ti、B、
ミッシュメタルから選択されることが望ましい。
【0039】また、前記カーボン又はその同素体に、成
形後の再加熱を可能とする添加元素を添加するようにし
てもよい。この場合、前記ヒートシンク材の形成は、少
なくとも前記カーボン又はその同素体と添加元素との反
応に基づくものであるとよい。そして、前記添加元素と
しては、Nb、Zr、Cr、Be、V、Mo、Al、T
a、Mn、Si、Fe、Co、Ni、Mg、Ca、W、
Ti、B、ミッシュメタルから選択された1種以上であ
ることが好ましい。
【0040】また、これまで上記したヒートシンク材を
構成するカーボン又はその同素体の表面に、添加元素に
よる炭化物を形成するとより好ましい。前記炭化物を形
成することによって、カーバイド層を介して含浸金属と
の接合力が向上し、熱伝導の向上と複合材の強度の向上
も得られる。また、カーバイド自体の硬さが強度向上へ
貢献する。その結果、低圧力での金属含浸が可能になる
と共に、微細気孔への含浸も可能となる残留気孔率を低
減することが可能となる。このような効果を奏するに
は、前記添加元素を、Nb、Zr、Cr、Be、V、M
o、Al、Ta、Mn、Si、Fe、Co、Ni、M
g、Ca、W、Ti、B、ミッシュメタルの1種以上か
ら選択することが望ましい。
【0041】最後に上記した手段によって作製されるヒ
ートシンク材の残留気孔率は、5%以下に低減すること
が可能である。
【0042】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るヒートシンク
材の実施の形態例を図1〜図42を参照しながら説明す
る。
【0043】第1の実施の形態に係るヒートシンク材1
0Aは、図1に示すように、カーボン又はその同素体を
焼成してネットワーク化することによって得られる多孔
質焼結体12に金属14が含浸されて構成されている。
【0044】この場合、前記カーボン又はその同素体と
して、熱伝導率が150W/mK以上、望ましくは20
0W/mK以上(気孔がない状態での推定値)、さらに
望ましくは250W/mK以上(気孔がない状態での推
定値)、より一層望ましくは300W/mK以上(気孔
がない状態での推定値)のものを使用することが好まし
い。
【0045】第1の実施の形態では、熱伝導率が150
W/mK以上のグラファイトで構成された多孔質焼結体
12の開気孔に銅を含浸させたヒートシンク材10Aを
使用している。含浸する金属14としては、凝固膨張の
性質を備えた金属又は凝固収縮を抑制する性質を備えた
金属を使用することが好ましく、Biのほかに、Pb、
黒鉛鋳鉄から選択された金属又は前記金属からなる合金
を使用することができる。
【0046】また、多孔質焼結体12と金属14との体
積率は、多孔質焼結体12が50vol%〜90vol
%、金属14が10vol%〜50vol%の範囲とし
ている。これにより、直交する3軸方向の平均又はいず
れかの軸方向の熱伝導率が300W/mK以上であっ
て、かつ、残留気孔率が5%以下であるヒートシンク材
10Aを得ることができる。
【0047】前記多孔質焼結体12の気孔率としては、
10vol%〜50vol%であることが望ましい。気
孔率が10vol%以下では、直交する3軸方向の平均
又はいずれかの軸方向の300W/mK(室温)の熱伝
導率を得ることができず、50vol%を超えると多孔
質焼結体12の強度が低下し、気孔率を5%以下に抑え
ることができないからである。
【0048】前記多孔質焼結体12の平均開気孔径(気
孔径)の値としては、0.1μm〜200μmが望まし
い。前記気孔径が0.1μm未満であると、開気孔内に
金属14を含浸することが困難になり、熱伝導率が低下
する。一方、前記気孔径が200μmを超えると、多孔
質焼結体12の強度が低下し、熱膨張率を低く抑えるこ
とができない。
【0049】前記多孔質焼結体12の平均開気孔に関す
る分布(気孔分布)としては、0.5μm〜50μmに
90vol%以上分布することが好ましい。0.5μm
〜50μmの気孔が90vol%以上分布していない場
合は、金属14が含浸していない開気孔が増え、熱伝導
率が低下する可能性がある。
【0050】また、多孔質焼結体12に金属14を含浸
して得たヒートシンク材10Aの閉気孔率としては、5
vol%以下であることが好ましい。5vol%を超え
ると、熱伝導率が低下する可能性があるからである。
【0051】なお、前記気孔率、気孔径及び気孔分布の
測定には、株式会社島津製作所製の自動ポロシメータ
(商品名「オートポア9200」)を使用した。
【0052】この第1の実施の形態に係るヒートシンク
材10Aにおいて、前記グラファイトに、該グラファイ
トを焼成した際の閉気孔率を低減させる添加物を添加さ
せることが好ましい。この添加物としては、SiC及び
/又はSiを挙げることができる。これにより、焼成時
の閉気孔(クローズドポア)を減少させることができ、
多孔質焼結体12に対する金属14の含浸率を向上させ
ることができる。
【0053】また、多孔質焼結体12に含浸される金属
14に、Te、Bi、Pb、Sn、Se、Sb、Li、
Tl、Cdから選択された1種以上を添加することが好
ましい。これにより、多孔質焼結体12と金属14との
界面の濡れ性が改善され、多孔質焼結体12の開気孔内
に金属14が入りやすくなる。
【0054】一方、多孔質焼結体12に含浸される金属
14に、Nb、Cr、Zr、Be、V、Mo、Al、T
a、Mn、Si、Fe、Co、Ni、Mg、Ca、W、
Mo、Ti、B、ミッシュメタルから選択された1種以
上を添加することが好ましい。これにより、グラファイ
トと金属14との反応性が向上し、開気孔内においてグ
ラファイトと金属14とが整合及び密着しやすくなり、
閉気孔率を低下することができる。
【0055】次に、この第1の実施の形態に係るヒート
シンク材10Aを製造するためのいくつかの方法を図2
A〜図21を参照しながら説明する。
【0056】第1の実施の形態に係るヒートシンク材1
0Aを製造するための第1及び第2の製造方法は、共
に、グラファイトを焼成してネットワーク化することに
よって多孔質焼結体12を作製する焼成工程と、金属1
4を前記多孔質焼結体12中に含浸させる含浸工程とを
有する。
【0057】そして、第1の製造方法は、具体的には図
2A及び図2Bにその一例を示すように、高圧容器30
を使用することによって行われる。この高圧容器30
は、角筒状の筐体32における両側板34及び36のほ
ぼ中央部分にそれぞれ回転軸38が設けられて、該回転
軸38を中心として筐体32自体が回転できるようにな
っている。
【0058】筐体32内には、耐火容器40と該耐火容
器40を加熱するためのヒータ42が設けられている。
耐火容器40は、中空部44を有する角筒状の形状を有
し、1つの側面における高さ方向中央部分に中空部44
に連通する開口46が設けられている。中空部44のう
ち、開口46を中心として一方の中空部(以下、第1室
44aと記す)には、含浸材料である金属14の塊、あ
るいは金属14の溶融金属が収容されるようになってい
る。
【0059】他方の中空部(以下、第2室44bと記
す)は、被含浸試料である多孔質焼結体12が複数取り
付けられるようになっており、第2室44bが上方に位
置しても、多孔質焼結体12が落下しないように多孔質
焼結体12の支持機構が設けられている。なお、ヒータ
42は、300MPaの高圧力下でも破壊されない構造
とされている。
【0060】また、前記高圧容器30には、真空引きの
ための吸気管48と、高圧力付与のためのガス及び冷却
用ガスの導入管50及び導出管52が設けられている。
【0061】次に、前記高圧容器30を用いた第1の製
造方法について図3を参照しながら説明する。
【0062】まず、ステップS1において、グラファイ
トを棒状に成形する工程、ピッチ(コールタールの一
種)を含浸させる工程及び加熱焼成する工程を経てグラ
ファイトによる多孔質焼結体12を作製する。
【0063】グラファイトを棒状に成形するには、グラ
ファイト粉末にピッチを混合して、150℃程度の雰囲
気中で押し出し成形を行って棒状(φ100〜φ60
0、長さ3000mm程度)のグラファイトを得る。こ
のままの状態のグラファイトは、気孔が多くしかも熱伝
導率が低い。
【0064】次に、グラファイトの気孔を減少させるた
めに真空脱気を行い、その真空中でピッチを含浸させ
る。そして、1000℃程度で焼成し、さらにピッチを
含浸する工程を3回程度繰り返す。
【0065】そして、熱伝導率を向上させるために30
00℃程度の炉の中でグラファイトを加熱焼成する。こ
のとき、グラファイトが燃焼することを防止するために
炉をカーボン粉末でカバーすると共に、グラファイト自
体もカーボン粉末でカバーしておく。また、このグラフ
ァイトを加熱する工程は、グラファイトに直接通電する
ことにより加熱焼成してもよい。
【0066】このようにすることで、多孔質焼結体12
が得られるが、最終製品の形状によってはさらに予備加
工をしておくことが望ましい。
【0067】その後、ステップS2において、高圧容器
30を初期状態にして、高圧容器30内に設けられてい
る耐火容器40の第1室44aを下方に位置させる。
【0068】その後、多孔質焼結体12と金属14の塊
を高圧容器30の耐火容器40内に入れ、金属14の塊
を耐火容器40の第1室44a内に配置し、多孔質焼結
体12を第2室44bにセットする(ステップS3)。
このとき、予め多孔質焼結体12を予熱しておくことが
好ましい。予熱を行うには、多孔質焼結体12をカーボ
ンケースに収納するか又は断熱材にて覆った状態で予熱
を行い、所定の温度に達したらケースに収納するか又は
断熱材にて覆った状態のままで上記のとおり第2室44
bにセットする。
【0069】その後、高圧容器30(及び耐火容器4
0)を密封した後、吸気管48を通じて高圧容器30内
の真空引きを行って該高圧容器30内を負圧状態にする
(ステップS4)。
【0070】その後、ヒータ42に通電して第1室44
aの金属14を加熱溶解する(ステップS5)。以下の
説明では、加熱溶解された金属14を便宜的に溶融金属
14とも記す。
【0071】その後、第1室44a内の溶融金属14が
所定温度に達した段階で、高圧容器30を180°転回
させる(ステップS6)。この転回動作によって、第1
室44aが上方に位置することから、第1室44a内の
溶融金属14は、自重によって下方に位置する第2室4
4b内に落下し、この段階で、溶融金属14に多孔質焼
結体12が含浸された状態となる。
【0072】その後、ガス導入管50を通じて高圧容器
30内に含浸用ガスを導入して、該高圧容器30内を加
圧する(ステップS7)。この加圧処理によって、前記
溶融金属14は多孔質焼結体12の開気孔中に含浸する
こととなる。
【0073】この含浸工程が終了した時点で直ちに冷却
工程に移行する。この冷却工程は、まず、前記高圧容器
30を再び180°転回させる(ステップS8)。この
転回動作によって、第1室44aが下方に位置すること
から、第2室44b内の溶融金属14は、再び第1室4
4a内に落下することになる。
【0074】前記ステップS7での加圧処理(含浸処
理)によって、溶融金属14の一部が多孔質焼結体12
の開気孔中に含浸されていることから、下方に位置する
第1室44aに落下する溶融金属14は多孔質焼結体1
2に含浸されなかった残存溶融金属である。残存溶融金
属が第1室44a内に落下した段階で、第2室44bに
は溶融金属14が含浸された多孔質焼結体12が残るこ
ととなる。
【0075】その後、ガス導出管52を通じて高圧容器
30内の含浸用ガスを排気すると同時に、ガス導入管5
0を通じて冷却用ガスを高圧容器30内に導入する(ス
テップS9)。この含浸用ガスの排気と冷却用ガスの導
入によって、冷却用ガスが高圧容器30内を満遍なく循
環し、高圧容器30は急速に冷却される。この速やかな
る冷却によって、前記多孔質焼結体12に含浸された溶
融金属14が、急速に金属14の塊に固化して体積が膨
張することから、含浸された金属14は多孔質焼結体1
2に強固に保持される。
【0076】他の冷却工程としては、図3において一点
鎖線の枠内に示すように、前記ステップS8での処理が
終了した段階で、高圧容器30、あるいは溶融金属14
が含浸された多孔質焼結体12を冷却ゾーンに搬送し、
冷却ゾーンに設置されている冷やし金に接触させる方法
がある(ステップS10参照)。
【0077】この冷やし金への接触によって多孔質焼結
体12は急速に冷却されることになる。この冷却過程に
おいては、多孔質焼結体12に冷却ガスを吹き付けた
り、冷やし金を水冷しながら行うようにしてもよく、特
に、押湯効果を考えて冷却した方が好ましい。
【0078】このように、第1の製造方法の各工程を踏
むことにより、グラファイトによる多孔質焼結体12へ
の金属14の含浸処理を容易に行うことができ、しか
も、多孔質焼結体12への金属14の含浸率を向上させ
ることができ、直交する3軸方向の平均又はいずれかの
軸方向の熱伝導率が300W/mK以上であって、か
つ、残留気孔率が5%以下であるヒートシンク材10A
を得ることができる。
【0079】また、後述する多孔質焼結体12にSiC
を採用する場合でも、室温から200℃までの閉気孔率
が5%以下で、かつ直交する3軸方向の平均又はいずれ
かの軸方向の熱伝導率が300W/mK以上であるヒー
トシンク材10Aを容易に得ることができる。
【0080】前記ステップS5において、ヒータ42に
通電して第1室44aの金属14を加熱溶解する場合
に、ステップS6に移行する所定温度(加熱温度)は、
金属14の融点より30℃〜250℃高い温度がよく、
好ましくは前記融点より50℃〜200℃高い温度が望
ましい。この場合、高圧容器30内を1×10-3Tor
r以下の真空中にしておくことが好ましい。
【0081】また、前記ステップS7において、高圧容
器30内に含浸用ガスを導入することによって高圧容器
30に付与する圧力としては、0.98MPa以上、2
02MPa以下とする。この場合、4.9MPa以上、
202MPa以下が好ましく、より好ましくは9.8M
Pa以上、202MPa以下であるとよい。
【0082】この圧力は、高圧である方が含浸率の向
上、冷却能力の向上の観点から好ましい。しかし、圧力
が高すぎるとグラファイトの破損が生じやすくなり、ま
た、高圧に耐えうる設備のコストが高くなるので、これ
らの要素を勘案して圧力を選択する。
【0083】また、高圧容器30への圧力の付与時間は
1秒以上、60秒以下がよく、望ましくは1秒以上、3
0秒以下が好ましい。
【0084】なお、多孔質焼結体12の気孔としては、
上述したように、平均直径が0.1μm〜200μmで
あり、かつ、気孔率が10vol%〜50vol%であ
ることが望ましい。
【0085】ただし、後述する多孔質焼結体12にSi
Cを採用する場合は、平均直径が5μm〜50μmのも
のが90%以上存在し、かつ、気孔率が20vol%〜
70vol%であることが望ましい。
【0086】一方、冷却工程における冷却速度は、含浸
時の温度から800℃までの期間において、−400℃
/時間以上とすることが好ましく、より好ましくは−8
00℃/時間以上が望ましい。
【0087】前記ステップS7において、高圧容器30
に付与する圧力は、多孔質焼結体12の開気孔に金属1
4を完全に含浸させるために必要な圧力である。この場
合、多孔質焼結体12に金属14が含浸されていない開
気孔が残存すると、熱伝導性を著しく阻害するため、高
い圧力を付与することが必要となる。
【0088】この圧力はその概略をワッシュバーン(Wa
shburn)の式によって推定できるが、気孔径が小さいほ
ど大きな力を必要とする。この式に従えば、0.1μm
φのとき39.2MPa、1.0μmφのとき3.92
MPa、10μmφのとき0.392MPaの圧力が適
当である。しかしながら、実際は平均気孔径が0.1μ
mφの材料は0.01μmφ以下の気孔も存在するため
により大きい圧力が必要になる。具体的には0.01μ
mφには392MPaの圧力が必要である。
【0089】なお、グラファイトへの添加元素や金属1
4への添加元素の好ましい例についてはすでに述べたの
で、ここではその説明を省略する。
【0090】次に、第1の製造方法のいくつかの変形例
を図4及び図5を参照しながら説明する。
【0091】第1の変形例は、図4に示すように、ま
ず、グラファイトを焼成して、グラファイトによる多孔
質焼結体12を作製する(ステップS101)。高圧容
器30を初期状態にして、高圧容器30内に設けられて
いる耐火容器40の第1室44aを下方に位置させる
(ステップS102)。
【0092】その後、多孔質焼結体12を第2室44b
にセットし、予め溶融された金属(溶融金属)14を第
1室44a内に流し込む(ステップS103)。
【0093】その後、第1室44a内の溶融金属14が
所定温度に達した段階で、高圧容器30を180°転回
させる(ステップS104)。この転回動作によって、
第1室44a内の溶融金属14が下方に位置する第2室
44bに落下し、この段階で、溶融金属14に多孔質焼
結体12が含浸された状態となる。
【0094】その後、ガス導入管50を通じて高圧容器
30内に含浸用ガスを導入して、該高圧容器30内を加
圧する(ステップS105)。この加圧処理によって、
前記溶融金属14は多孔質焼結体12の開気孔中に含浸
することとなる。
【0095】次に、第2の変形例について図5を参照し
ながら説明する。この第2の変形例に係る含浸工程は、
高圧容器30内に設置されている耐火容器40の内部中
央部分に、多孔質セラミック材からなる仕切板(図示せ
ず)が設けられた高圧容器30を用いる。耐火容器40
内は、前記仕切板によって第1室44aと第2室44b
とに仕切られることになる。
【0096】前記仕切板としては、気孔率が40vol
%〜90vol%で、かつ気孔径が0.5mm〜3.0
mmである多孔質セラミック材を用いることが望まし
く、より好ましくは気孔率が70vol%〜85vol
%であり、かつ気孔径が1.0mm〜2.0mmである
多孔質セラミック材を用いることが望ましい。
【0097】そして、この第2の変形例では、図5に示
すように、まず、グラファイトを焼成して、グラファイ
トによる多孔質焼結体12を作製する(ステップS20
1)。高圧容器30を初期状態にして、高圧容器30内
に設けられている耐火容器40の第1室44aを下方
に、第2室44bを上方に位置させる(ステップS20
2)。
【0098】その後、多孔質焼結体12と金属14の塊
を高圧容器30の耐火容器40内に入れ、金属14の塊
を上方に位置する第2室44b内に配置し、多孔質焼結
体12を下方に位置する第1室44aにセットする(ス
テップS203)。
【0099】その後、高圧容器30(及び耐火容器4
0)を密閉した後、吸気管48を通じて高圧容器30内
の真空引きを行って該高圧容器30内を負圧状態にする
(ステップS204)。
【0100】その後、ヒータ42に通電して第2室44
bの金属14を加熱溶解する(ステップS205)。前
記溶融金属14が所定温度に達した段階で、ガス導入管
50を通じて高圧容器30内に含浸用ガスを導入して、
該高圧容器30内を加圧する(ステップS206)。こ
の加圧処理によって、上方に位置する第2室44b内の
溶融金属14は、仕切板を通過し、下方に位置する第1
室44a内の多孔質焼結体12の開気孔中に含浸される
ことになる。
【0101】次に、第2の製造方法について図6〜図8
を参照しながら説明する。この第2の製造方法では、図
6に示すように、グラファイトを焼成して多孔質焼結体
12を作製するための炉60と、図7に示すように、多
孔質焼結体12に金属14を含浸させるためのプレス機
62が使用される。
【0102】炉60は、図6に示すように、黒鉛をグラ
ファイト化するために用いられるものであり、その内部
にケース70を収容可能な空間72と、該空間72内に
収容されたケース70を加熱するためのヒータ74が設
けられている。ケース70はグラファイト、セラミック
ス、セラペーパ(アルミナ等のセラミックスから構成さ
れる断熱材)等の材料から構成される。そして、このケ
ース70には、グラファイトが収容される。
【0103】プレス機62は、図7に示すように、上部
開口の凹部80を有する金型82と、凹部80内に挿通
可能とされ、かつ、凹部80内の内容物を押し下げ圧入
するパンチ84とを有する。
【0104】次に、前記炉60とプレス機62を用いた
第2の製造方法について図6〜図8を参照しながら説明
する。
【0105】まず、ケース70内にグラファイトを入
れ、該ケース70を炉60内に収容する(ステップS3
01)。炉60内の雰囲気を加熱して、グラファイトを
焼成し多孔質焼結体12を作製する(ステップS30
2)。
【0106】また、この工程においては、グラファイト
に対して電流を通電することにより3000℃程度まで
加熱して、多孔質焼結体12を作製するようにしてもよ
い。
【0107】その後、炉60から多孔質焼結体12をケ
ース70ごと取り出して、プレス機62の凹部80内に
多孔質焼結体12をケース70ごと収容する(ステップ
S303)。
【0108】次に、ケース70内に金属14の溶湯86
を注湯した後(ステップS304)、パンチ84を凹部
80内に挿通し、ケース70内の前記溶湯86を押し下
げ圧入する(ステップS305)。このパンチ84の押
圧処理によって、金属14の溶湯86は、多孔質焼結体
12の開気孔中に含浸することとなる。
【0109】上述の第2の製造方法において、前記パン
チ84による圧入時の圧力を1.01MPa〜202M
Pa(10気圧〜2000気圧)とすることが好まし
い。また、図7に示すように、ケース70の底部や金型
82の底部に、多孔質焼結体12に残存するガスを抜く
ためのガス抜き孔88及び90やガスを抜くための隙間
部を形成するようにしてもよい。この場合、パンチ84
の圧入時に、多孔質焼結体12に残存するガスがガス抜
き孔88及び90を通して抜けるため、開気孔への溶湯
86の含浸がスムーズに行われることになる。
【0110】このように、第2の製造方法の各工程を踏
むことにより、グラファイトによる多孔質焼結体12へ
の金属14の含浸処理を容易に行うことができ、しか
も、多孔質焼結体12への金属14の含浸率を向上させ
ることができ、直交する3軸方向の平均又はいずれかの
軸方向の熱伝導率が300W/mK以上であって、か
つ、気孔率が5%以下であるヒートシンク材10Aを容
易に得ることができる。
【0111】上述の炉60の代わりに、予熱を利用する
炉を使用してもよい。この場合、予め圧粉した材料又は
グラファイトによる多孔質焼結体12を予熱する。この
処理によってネットワーク化しているグラファイト(又
は後述のSiC)に対して金属14が含浸しやすくな
る。予熱の温度は、溶湯86と同程度の温度まで予熱す
ることが望ましい。具体的には、溶湯86が1200℃
程度であるならば、グラファイトの予熱温度は1000
℃〜1400℃が望ましい。
【0112】次に、1つの実験例を示す。この実験例
は、第2の製造方法を用いて、1種類のカーボン(グラ
ファイト)に含浸する金属14の種類、添加元素の種類
を変えて、含浸箇所による密度の違い、熱伝導率の違
い、熱膨張率の違い、金属含浸後の気孔率の違いに関す
る添加元素の効果をそれぞれ見たものである。この実験
例の結果を図9〜図21に示す。
【0113】図9は、前記第2の製造方法によって作製
された図1に示すヒートシンク材10AのIV−IV線
方向の断面図を示す。前記密度の違いについては、前記
ヒートシンク材10Aの含浸箇所を含浸箇所10a〜1
0fに6分割して、前記6分割における密度を測定し
た。
【0114】図10〜図13は、前記含浸箇所10a〜
10fにおけるヒートシンク材10Aの密度を示す。こ
こで、上記した添加元素を金属14に添加して作製され
たヒートシンク材10Aは6種類(75Sb/25C
u、70Sb/30Te、60Sb/40Sn、15N
i−85Bi、85Sb−15Bi、70Sb−1Zr
−29Sn)であり、前記6種類以外の3種類のヒート
シンク材10A(70Ni−30Si、75Al−25
Si、50Sn−50Cu)は、従来技術に基づいて構
成されたヒートシンク材である。また、素材(NS3−
21)は前記ヒートシンク材10Aの基材であるグラフ
ァイトである。添加元素の金属14への添加によって、
該ヒートシンク材10Aの密度のばらつきがほとんどな
いことが分かる。すなわち、前記含浸箇所10a〜10
fには同一量の金属14が含浸されていることを示して
いると共に、気孔率も同一であることが示唆される。
【0115】図14〜図20は、前記実験例及び4種類
のヒートシンク材10A(95Sb−5Cu、95Sb
−5Bi、95Sb−5Sn、95Sb−5Te)にお
ける熱伝導率の違い、熱膨張率の違い、金属含浸後の気
孔率の違いをまとめたものである。
【0116】まず、Sb、Sn、Biを添加元素として
含浸したヒートシンク材10Aの場合、純アルミ、純
銅、純ニッケルを含浸させた従来技術に係るものと比較
して、密度及び熱伝導率に違いは見られない。これは、
前記添加元素の添加によって、カーボンと金属14との
界面における濡れ性が改善され、前記カーボンと該金属
14との密着性が向上するためである。
【0117】他方、気孔率については、すべてのカーボ
ンにおいて、純銅を含浸させたもの、銅合金を含浸させ
たもの、純アルミを含浸させたものと比較して、前記添
加元素を含浸させたものの気孔率は低下することが確認
された。これも、前記添加元素の添加によって、カーボ
ンと金属14との界面における濡れ性が改善され、前記
カーボンと該金属14との密着性が向上するためであ
る。
【0118】また、これら各サンプルは、面方向と厚さ
方向の熱伝導率の比が1:5以下となっており、ほとん
ど等方性に近い特性を有するため、ヒートシンクとして
使用する場合に、設置方向をいちいち考慮する必要がな
く、実装面で有利となる。
【0119】図21は、前記実験例よりも高い含浸圧力
で作製されたヒートシンク材10Aの密度と、金属含浸
後の気孔率をまとめたものである。この場合、第1の製
造方法による1種類のヒートシンク材10A(95Sb
−5Cu)と、従来技術による1種類のヒートシンク材
(4.5Si−95.5Cu)について調べた。
【0120】含浸圧力を増加した場合は、例えば図20
に挙げたサンプル等と比較すると、残留気孔率はやや低
減していることがわかる。ただし、第1の製造方法によ
って作製されたヒートシンク材10Aの密度と、図10
〜図20に示す低い含浸圧力におけるヒートシンク材1
0Aの密度とを比較すると、含浸圧力の増加は、金属含
浸後の密度及び残留気孔率に対してそれほど影響を与え
ないことがわかる。それよりは、図21に示すように、
含浸金属を変えることで、残留気孔率の低減が大きいこ
とが注目される。つまり、含浸圧力の増加による効果よ
りも、含浸金属を変えることによる効果が大きいことが
認められる。従って、添加金属を含浸したヒートシンク
材10Aは、低い含浸圧力であっても、所望の気孔率と
密度を備えたヒートシンク材10Aを実現することが可
能である。
【0121】次に、第2の実施の形態に係るヒートシン
ク材10Bについて図22を参照しながら説明する。
【0122】第2の実施の形態に係るヒートシンク材1
0Bは、図22に示すように、カーボン又はその同素体
の粉末12aと金属14の粉末14aとを混合し、所定
温度、所定圧力下で成形されて構成されている。
【0123】前記カーボン又はその同素体としては、熱
伝導率が150W/mK以上、望ましくは200W/m
K以上(気孔がない状態での推定値)、さらに望ましく
は250W/mK以上(気孔がない状態での推定値)、
より一層望ましくは300W/mK以上(気孔がない状
態での推定値)のものを使用することが好ましい。特
に、この第2の実施の形態では、グラファイトのほか
に、ダイヤモンドを使用することができる。この第2の
実施の形態では、熱伝導率が100W/mK以上のグラ
ファイトの粉末と銅の粉末を混合し、成形して構成され
たヒートシンク材10Bを示している。前記金属14と
しては、凝固膨張の性質を備えた金属又は凝固収縮を抑
制する性質を備えた金属を使用することが好ましく、B
iのほかに、Sb、Ga、黒鉛鋳鉄から選択された金属
又は前記金属からなる合金を使用することができる。
【0124】また、この第2の実施の形態に係るヒート
シンク材10Bは、前記カーボン又はその同素体の粉砕
裁断材(例えば炭素繊維の粉砕裁断材)と前記金属14
の粉末14aとを混合し、所定温度、所定圧力下で成形
して構成することもできる。
【0125】そして、前記所定温度としては、プレス型
内での成形を考慮すると、前記金属14における融点の
−10℃〜−50℃が好ましく、前記所定圧力として
は、10.13MPa〜101.32MPa(100気
圧〜1000気圧)が好ましい。
【0126】また、前記カーボン又はその同素体の粉末
12aと、金属14の粉末14aの平均粉末粒度は、1
μm〜500μmであることが好ましい。カーボン又は
その同素体と金属14との体積率は、カーボン又はその
同素体が20vol%〜80vol%、金属14が80
vol%〜20vol%の範囲としている。これによ
り、直交する3軸方向の平均又はいずれかの軸方向の熱
伝導率が300W/mK以上であって、かつ、気孔率が
5%であるヒートシンク材10Bを得ることができる。
【0127】この第2の実施の形態に係るヒートシンク
材10Bにおいて、カーボン又はその同素体に、成形後
の再焼成を可能とする添加物を添加させることが好まし
い。この添加物としては、SiC及び/又はSiを挙げ
ることができる。これにより、成形後において、前記金
属14の融点以上の温度での再焼成が可能となる。この
場合、成形後に生じた粒同士が前記再焼成によって結合
することになるため、熱伝導を阻害する粒界をほとんど
なくすことができ、ヒートシンク材10Bの熱伝導率の
向上を図ることができる。
【0128】また、カーボン又はその同素体中に、該カ
ーボン又はその同素体と反応する元素を添加するように
してもよい。この添加元素としては、Ti、W、Mo、
Nb、Cr、V、Zr、Be、Al、Ta、Mn、S
i、Fe、Co、Ni、Mg、Ca、B、ミッシュメタ
ルから選択された1種以上を挙げることができる。これ
により、成形時や再焼成時に、カーボン又はその同素体
の表面に反応層(カーバイド層)が形成され、ヒートシ
ンク材10Bの表面における粒同士の結合を向上させる
ことができる。
【0129】一方、前記金属14には、凝固膨張の性質
を備えた金属、例えばBi、Sb、Ga、黒鉛鋳鉄から
選択された1種又は前記金属からなる合金を選択するこ
とが好ましい。これにより、カーボン又はその同素体と
金属14との界面の濡れ性が改善されると共に、前記金
属14が室温レベルまで冷却されることによる収縮量の
減少を抑制することが可能となり、ヒートシンク材10
Bの気孔率を低減することが可能となる。
【0130】また、前記金属14に、銅に0.5wt%
以下しか固溶しないNb、Zr、Cr、Beから選択さ
れた1種以上の低融点金属を添加することが好ましい。
これにより、成形時における金属14同士の結合力を向
上することが可能となる。
【0131】次に、この第2の実施の形態に係るヒート
シンク材10Bを製造するためのいくつかの方法(第3
及び第4の製造方法)を図23〜図27を参照しながら
説明する。
【0132】まず、第3の製造方法は、具体的には図2
3及び図24にその一例を示すように、予備成形機10
0(図23参照)と、ホットプレス機102(図24参
照)を使用することによって行われる。
【0133】予備成形機100は、図23に示すよう
に、上部開口の凹部110を有する金型112と、凹部
110内に挿通可能とされ、かつ、凹部110内の内容
物を押し下げ圧入するパンチ114とを有する。ケース
70には、カーボン又はその同素体の粉末12aと金属
14の粉末14aとを混合したもの、すなわち、混合物
104が収容される。
【0134】ホットプレス機102は、図24に示すよ
うに、筒状の筐体120内に、基台を兼ねる下パンチ1
22と、該下パンチ122上に固定された上面開口の黒
鉛製の耐火容器124と、該耐火容器124内に上方か
ら進退自在とされた上パンチ126と、前記耐火容器1
24を加熱するためのヒータ128が設けられている。
耐火容器124には、前記予備成形機100で成形され
た混合物104の予備成形体106が収容される。な
お、このホットプレス機102には、真空引きのための
吸気管130が設けられている。
【0135】下パンチ122の内部には、耐火容器12
4内を加熱するための加熱用流体や耐火容器124内を
冷却するための冷却用流体を流通させる通路132が設
けられている。
【0136】そして、第3の製造方法は、図25に示す
工程を踏むことにより行われる。まず、ケース70内に
カーボン又はその同素体の粉末12aと金属14の粉末
14aとを入れて混合して混合物104を得た後(ステ
ップS401)、該混合物104が入ったケース70を
予備成形機100における金型112の凹部110内に
収容する(ステップS402)。その後、パンチ114
を凹部110内に圧入して混合物104を予備成形して
予備成形体106を成形する(ステップS403)。
【0137】次に、金型112から予備成形体106を
取り出して、該予備成形体106をホットプレス機10
2における耐火容器124内に収容する(ステップS4
04)。耐火容器124を密封した後、吸気管130を
通じて耐火容器124内の真空引きを行って該耐火容器
124内を負圧状態にする(ステップS405)。その
後、ヒータ128に通電して、耐火容器124内の温度
を金属14の融点の−10℃〜−50℃にする(ステッ
プS406)。
【0138】所定温度に達した段階で、上パンチ126
を下方に移動させて、予備成形体106を加圧してヒー
トシンク材10Bを得る(ステップS407)。その
後、加工工程等を経ることによって実際のヒートシンク
材10Bとして使用される。但し、カーボン又はその同
素体と金属14との結合力を高める元素が添加されてい
る場合には、前記加圧後に、金属14の融点以上まで加
熱してもよい。
【0139】なお、カーボン又はその同素体への添加元
素や金属14への添加元素の好ましい例についてはすで
に述べたので、ここではその詳細な説明を省略する。
【0140】このように、第3の製造方法の各工程を踏
むことにより、直交する3軸方向の平均又はいずれかの
軸方向の熱伝導率が300W/mK以上であって、か
つ、気孔率が5%以下であるヒートシンク材10Bを容
易に得ることができる。
【0141】次に、第4の製造方法について図26及び
図27を参照しながら説明する。この第4の製造方法で
は、図26に示すように、予備成形機100は使用せず
に、ホットプレス機102のみを使用することによって
行われる。
【0142】すなわち、図27に示すように、まず、ケ
ース70内にカーボン又はその同素体の粉末12aと金
属14の粉末14aとを入れて混合して混合物104を
得た後(ステップS501)、ケース70内の混合物1
04を直接ホットプレス機102における耐火容器12
4内に収容する(ステップS502)。耐火容器124
を密封した後、吸気管130を通じて耐火容器124内
の真空引きを行って該耐火容器124内を負圧状態にす
る(ステップS503)。その後、ヒータ128に通電
して、耐火容器124内の温度を金属14の融点の−1
0℃〜−50℃にする(ステップS504)。
【0143】所定温度に達した段階で、上パンチ126
を下方に移動させて、混合物104を加圧してヒートシ
ンク材10Bを得る(ステップS505)。
【0144】この第4の製造方法においても、直交する
3軸方向の平均又はいずれかの軸方向の熱伝導率が30
0W/mK以上であって、かつ、気孔率が5%以下であ
るヒートシンク材10Bを容易に得ることができる。
【0145】次に、第3の実施の形態に係るヒートシン
ク材10Cについて図28を参照しながら説明する。
【0146】第3の実施の形態に係るヒートシンク材1
0Cは、図28に示すように、カーボン又はその同素体
の粉末12bとバインダー(結合体)等とを混合した混
合物を加圧して予備成形体及びブロック(立方体、直方
体、又は任意の形状であってもよい)を成形し、さら
に、このブロックに金属14を含浸させて構成してい
る。粉末12bは、第2の実施の形態で用いたカーボン
又はその同素体の粉末12aと同じものでもよい。この
ヒートシンク材10Cは、最終形状に近い任意の形状に
作ることができる。
【0147】前記カーボン又はその同素体としては、グ
ラファイトのほかに、ダイヤモンドを使用することがで
きる。また、金属14としては、Biのほかに、Sb、
Ga、黒鉛鋳鉄又はこれらの金属を含む合金を使用する
ことができる。
【0148】また、前記カーボン又はその同素体の粉末
12bの平均粉末粒度は、1μm〜500μmであり、
前記粉末12bが最小の長さをとる方向と、最大の長さ
をとる方向とで、その長さの比が1:5以下であること
が好ましい。この場合、強いネットワークはないもの
の、最終形状に近い任意の形状に作ることができる。従
って、後工程の加工を省略することも可能である。そし
て、カーボン又はその同素体の粉末12bと金属14と
の体積率は、カーボン又はその同素体が20vol%〜
80vol%、金属14が80vol%〜20vol%
の範囲が望ましい。
【0149】また、カーボン又はその同素体の粉末12
b中に、該カーボン又はその同素体と反応するための添
加元素を添加することが望ましい。この添加元素は第2
の実施の形態と同様に選択すればよい。
【0150】前記金属14には、第1の実施の形態の場
合と同様に各添加元素を用いることが望ましい。つま
り、濡れ性を改善させるための添加元素、カーボン又は
その同素体と金属14との反応性を向上させるための添
加元素、融点を低減させるための添加元素等である。
【0151】次に、第3の実施の形態の第5の製造方法
について図29を参照しながら説明する。この第5の製
造方法では、まず、カーボン又はその同素体の粉末12
bに水又はバインダー(結合材)を混合させて混合物を
用意する(ステップS601)。
【0152】そして、その混合物を所定圧力で加圧して
図示しない予備成形体を成形する(ステップS60
2)。加圧装置としてはプレス機62(図7参照)又は
予備成形機100(図23参照)を用いるとよい。
【0153】次に、得られた前記予備成形体に溶融金属
14を含浸しやすくするために予熱処理を行う(ステッ
プS603)。この予熱温度は、例えば、溶融金属14
が1200℃程度であるならば、グラファイトの予熱温
度は1000℃〜1400℃が望ましい。この予熱処理
を行うことで、ステップS601において用いたバイン
ダーを除去することもできる。
【0154】さらに、ステップS604において、前記
予備成形体を焼成してブロックを成形する。焼成する方
法は第1の実施の形態と同様に行う。
【0155】そして、溶融金属14を前記ブロックに含
浸させる(ステップS605)。この含浸工程は、第1
の実施の形態で示した各含浸工程と同じ処理を行えばよ
い。例えば、高圧容器30(図2参照)を使用して、第
1の製造方法(図3参照)におけるステップS2からス
テップS9の工程を行うことでヒートシンク材10Cを
得ることができる。
【0156】この第5の製造方法によれば、ステップS
602で行う加圧処理において、粉末の圧粉状況により
熱膨張率と熱伝導率を所望の値に制御することができ
る。
【0157】また、得られたヒートシンク材10Cは、
熱伝導率がより等方性になり、濡れ性、材料の歩留まり
も向上するという特徴を持つ。
【0158】さらに、金属14の方がネットワークにな
るので強度を上げることができ、残留気孔も減少させる
ことができる。
【0159】またさらに、ヒートシンク材10Cを廉価
に製造することができる。すなわち、含浸前のブロック
は脆いためにそのままでは加工できない。しかし、粉末
予備成形品は、そのものの形状に成形しておいてから含
浸することができ、かつ、その後の多少の塑性変形にも
耐え得るため、複雑形状のヒートシンク材10Cを廉価
に得ることができる。
【0160】この第5の製造方法においても、前述の各
製造方法の場合と同様に、含浸させる金属14に炭化物
を形成する元素を添加することで熱膨張率を下げること
ができる。また、濡れ性等の改良元素を添加することに
より含浸率を向上させることができる。
【0161】また、高い含浸圧力を付与した場合の方
が、含浸率が上がり、強度、熱伝導率も向上する。
【0162】次に、第3の実施の形態に係るヒートシン
ク材10Cの第6の製造方法について図30を参照しな
がら説明する。この第6の製造方法では、まず、金属を
溶解した溶解金属又は固液共存状態の金属(固液共存金
属)を用意する(ステップS701)。ここで、固液共
存状態とは金属(一般には合金)を半融状態にしたも
の、又は金属溶湯を冷却、撹拌して半凝固状態にしたも
のをいい、金属を加熱して直接的に半融状態にしたもの
と、一度完全に溶解した後に冷却して半凝固状態にした
ものの両方を指す。
【0163】次に、カーボン又はその同素体の粉末12
bを前記溶解金属又は固液共存状態の金属に混合させる
(ステップS702)。
【0164】そして、この粉末12bを混合させた溶融
金属14又は固液共存金属を鋳造加工し、所望の形状に
成形することでヒートシンク材10Cを得ることができ
る(ステップS703)。
【0165】第6の製造方法において得られたヒートシ
ンク材10Cは、第5の製造方法により作製したものと
同様の特徴を有する。
【0166】次に、本実施の形態に係るヒートシンク材
10の第7の製造方法について図31〜図34を参照し
ながら説明する。
【0167】この第7の製造方法は、図31に示すよう
に、カーボン又はその同素体の粉末12bをグラファイ
ト、セラミックス、セラペーパ等の材料からなるケース
70内に敷き詰めた状態、もしくは、その後、図32に
示すように、溶湯が注がれた際にケース70内の粉末1
2bが浮かないようにカーボン等の板状の蓋92(この
蓋92には溶湯が流れるような孔94を予め開けてお
く、もしくは多孔質のものを用いる)をした状態から、
そのまま予熱し、その後、金属を粉末12bに含浸させ
るという方法である。
【0168】具体的には、まず、図31及び図34のス
テップS801に示すように、ケース70内に粉末12
bを敷き詰める。その後、図32及び図34のステップ
S802に示すように、ケース70に蓋92をした後、
予熱を行う。続いて、図33及び図34のステップS8
03に示すように、プレス機62の凹部80にケース7
0(粉末12bが敷き詰められている)を収容し、その
後、蓋92の孔94を通じて銅等の溶湯86をケース7
0内に流し込む。もちろん、蓋92をしない状態で予熱
をしたり、溶湯86をケース70内に流し込んでもよ
い。
【0169】次に、図33及び図34のステップS80
4に示すように、蓋92をした状態で、パンチ84を凹
部80内に挿通し、ケース70内の前記溶湯86を押し
下げて、粉末12b内に圧入する。このパンチ84の押
圧処理によって、銅等の溶湯86は、粉末12b中に含
浸されることとなる。
【0170】この第7の製造方法において得られたヒー
トシンク材10Cにおいても、第5の製造方法により作
製したものと同様の特徴を有する。
【0171】次に、多孔質焼結体12にSiCを利用し
た実施の形態について説明する。まず、前記第1の実施
の形態(第1の製造方法、第1の変形例、第2の変形
例、及び第2の製造方法)において、SiCを利用する
場合は、グラファイトを焼成して多孔質焼結体12を作
製する工程(ステップS1、ステップS101、ステッ
プS201、ステップS301、及びステップS30
2)は不要であり、その後のステップでは同じ工程で製
造することができる。
【0172】さらに、多孔質焼結体12にSiCを利用
した実施の形態として、第4の実施の形態に係る製造方
法(第8の製造方法)について、図35〜図38を参照
しながら説明する。
【0173】この第8の製造方法は、具体的には図35
にその一例を示すように、ホットプレス機1060を使
用することによって行われる。このホットプレス機10
60は、前記第2の実施の形態で説明したホットプレス
機102とほぼ同じ構造である。
【0174】このホットプレス機1060は、筒状の筐
体1062内に、基台を兼ねる下パンチ1064と、該
下パンチ1064上に固定された上面開口の耐火容器1
066と、該耐火容器1066内に上方から進退自在と
された上パンチ1068と、前記耐火容器1066を加
熱するためのヒータ1070が設けられている。なお、
このホットプレス機1060には、真空引きのための吸
気管1072が設けられている。
【0175】前記耐火容器1066は、中空部1074
を有する筒状の形状を有する。上パンチ1068は、そ
の側面に、該上パンチ1068の行程(ストローク)を
決定するフランジ部1076が設けられ、該フランジ部
1076の下面には、前記耐火容器1066の上周面と
接触して耐火容器1066を密閉状態にするためのパッ
キン1078が取り付けられている。一方、下パンチ1
064の内部には、耐火容器1066内を加熱するため
の加熱用流体や耐火容器1066内を冷却するための冷
却用流体を流通させる通路1080が設けられている。
【0176】そして、第8の製造方法は、図36に示す
工程を踏むことにより行われる。
【0177】まず、耐火容器1066の中空部1074
内に、下からSiC1020、多孔質セラミック製のフ
ィルタ1054、金属14の塊の順で投入する(ステッ
プS1301)。フィルタ1054としては、気孔率が
40%〜90%で、かつ気孔径が0.5mm〜3.0m
mである多孔質セラミック材を用いることが望ましく、
より好ましくは気孔率が70%〜85%で、かつ気孔径
が1.0mm〜2.0mmである多孔質セラミック材を
用いることが望ましい。
【0178】また、前記フィルタ1054は、SiC1
020と金属14の塊とを仕切って両者を非接触状態に
おく仕切板としての機能を果たし、中空部1074のう
ち、フィルタ1054上の金属14の塊がセットされた
部分を上室1074a、フィルタ1054下のSiC1
020がセットされた部分を下室1074bとして定義
することができる。
【0179】次に、耐火容器1066を密封した後、吸
気管1072を通じて耐火容器1066内の真空引きを
行って該耐火容器1066の両室1074a及び107
4b内を負圧状態にする(ステップS1302)。
【0180】その後、ヒータ1070に通電して上室1
074a内の金属14を加熱溶解する(ステップS13
03)。このとき、前記ヒータ1070への通電と併せ
て下パンチ1064の通路1080内に加熱用流体を流
して耐火容器1066の内部を加熱するようにしてもよ
い。
【0181】上室1074a内の金属14の溶解物(溶
融金属)が所定温度に達した段階で、上パンチ1068
を下方に移動させて上室1074a内を所定圧まで加圧
する(ステップS1304)。このとき、上パンチ10
68のフランジ部1076に取り付けられたパッキン1
078と耐火容器1066の上周面との接触及び互いの
押圧により、耐火容器1066が密封され、内部の溶融
金属14が耐火容器1066の外に漏れるという不都合
が有効に防止される。
【0182】所定圧になった上室1074a内の金属1
4の溶解物(溶融金属14)は上室1074a内の圧力
によってフィルタ1054を通して下室1074b側に
押し出されて該下室1074b内に導入されると同時
に、該下室1074b内に設置されたSiC1020に
含浸される。
【0183】時間管理によって予め設定されている終点
(SiC1020内への溶融金属14の含浸が飽和状態
とされた時点)となった段階において、今度は、下パン
チ1064内の通路1080に冷却用流体を流して耐火
容器1066を下方から上方に向かって冷却させること
により(ステップS1305)、SiC1020に含浸
された溶融金属14を凝固させる。凝固が完了するまで
上パンチ1068と下パンチ1064による耐火容器1
066内の加圧状態は保持される。
【0184】凝固が完了した時点で、金属14が含浸さ
れたSiC1020を耐火容器1066から取り出す
(ステップS1306)。
【0185】この第8の製造方法においては、SiC1
020と金属14とを十分に脱気しつつ加熱し、金属1
4を溶融した後、速やかにSiC1020に接触させ、
かつ、これらを加圧状態とし、さらにその加圧状態を冷
却操作完了時まで保持するようにしたので、SiC10
20に金属14を効率的に含浸することができる。前記
例では含浸処理を負圧下で行うようにしたが、常圧下で
行ってもよい。
【0186】このように、溶融金属14とSiC102
0を共に加圧下においた後に、互いに接触させて、含浸
処理を行うようにしたので、両者を接触させる際の圧力
低下を最小限にすることができ、含浸処理時における加
圧状態を良好に保持させることができる。
【0187】前記例では、溶融金属14の漏れを防止す
るために、上パンチ1068におけるフランジ部107
6の下面にパッキン1078を設けるようにしたが、図
35の二点鎖線で示すように、耐火容器1066の上周
面にパッキン1078を設けるようにしてもよい。ま
た、図37A及び図37Bに示すように、リング状の割
型パッキン1100を2枚重ねにしたパッキン部材11
02を、図38に示すように、上パンチ1068の下部
に設けるようにしてもよい。この場合、パッキン部材1
102の中空部1104に溶融金属14が入り込むこと
により各割型パッキン1100の直径が拡大し、結果的
に上室1074aが密封されて溶融金属14の漏れが防
止されることになる。
【0188】次に、第8の製造方法の変形例について図
39及び図40を参照しながら説明する。なお、図35
と対応する構成要素については同符号を付して、その重
複説明を省略する。
【0189】この変形例に係る製造方法においては、ホ
ットプレス機1060として、図39に示すように、耐
火容器1066における中空部1074の高さ方向中央
部に多孔質セラミックスにて構成されたフィルタ部材1
110が固着され、下室1074bの側面に扉1112
が開閉自在に取り付けられたものが使用される。従っ
て、耐火容器1066の中空部1074のうち、フィル
タ部材1110よりも上の部分が上室1074aとな
り、フィルタ部材1110よりも下の部分が下室107
4bとなる。特に、下室1074bに取り付けられた扉
1112に関しては、該扉1112を閉じたときに下室
1074bが密封されるような構造が採用される。
【0190】そして、この変形例に係る製造方法は、図
40に示す工程を踏むことにより行われる。
【0191】まず、耐火容器1066の上室1074a
内に金属14の塊を投入し、下室1074bの扉111
2を開いて該下室1074b内にSiC1020を投入
する(ステップS1401)。
【0192】次に、扉1112を閉じて下室1074b
を密封し、さらにホットプレス機1060を密封した
後、吸気管1072を通じて耐火容器1066内の真空
引きを行って該耐火容器1066の両室1074a及び
1074b内を負圧状態にする(ステップS140
2)。
【0193】その後、ヒータ1070に通電して上室1
074a内の金属14を加熱溶解する(ステップS14
03)。この場合も前記ヒータ1070への通電と併せ
て下パンチ1064の通路1080内に加熱用流体を流
して耐火容器1066の内部を加熱するようにしてもよ
い。
【0194】上室1074a内の金属14の溶解物(溶
融金属)が所定温度に達した段階で、上パンチ1068
を下方に移動させて上室1074a内を所定圧まで加圧
する(ステップS1404)。
【0195】所定圧になった上室1074a内の金属1
4の溶解物(溶融金属)は上室1074a内の圧力によ
ってフィルタ部材1110を通して下室1074b側に
押し出されて該下室1074b内に導入されると同時
に、該下室1074b内に設置されたSiC1020に
含浸される。
【0196】時間管理によって予め設定されている終点
となった段階において、今度は、下パンチ1064内の
通路1080に冷却用流体を流して耐火容器1066を
下方から上方に向かって冷却させることにより(ステッ
プS1405)、SiC1020に含浸された溶融金属
14を凝固させる。
【0197】凝固が完了した時点で、金属14が含浸さ
れたSiC1020を耐火容器1066から取り出す
(ステップS1406)。
【0198】この変形例に係る製造方法においても、第
8の製造方法と同様に、SiC1020に金属14を効
率的に含浸することができる。また、この変形例でも、
溶融金属14とSiC1020を共に加圧下においた後
に、互いに接触させて含浸処理を行うようにしているた
め、両者を接触させる際の圧力低下を最小限にすること
ができ、含浸処理時における加圧状態を良好に保持させ
ることができる。なお、この変形例では、負圧下で含浸
処理を行うようにしたが、常圧下で行ってもよい。
【0199】さらに、多孔質焼結体12にSiCを利用
した実施の形態として、第5の実施の形態に係る製造方
法(第9の製造方法)について、図41及び図42を参
照しながら説明する。なお、図35と対応する構成要素
については同符号を付して、その重複説明を省略する。
【0200】この第9の製造方法は、前記第4の実施の
形態に係る製造方法と原理的にはほぼ同じであるが、含
浸工程において、SiC1020と金属14とを負圧下
又は常圧下で接触させ、加熱処理して前記金属14を溶
融する点で異なる。
【0201】具体的には、図35に示した第3の実施の
形態に係る第8の製造方法にて使用されるホットプレス
機1060の耐火容器1066内にフィルタ1054を
投入せずに、下からSiC1020、金属14の順に投
入する点で異なる。
【0202】そして、第5の実施の形態に係る第9の製
造方法は、図42に示す工程を踏むことにより行われ
る。
【0203】まず、耐火容器1066の中空部1074
内に、下からSiC1020、金属14の塊の順に投入
する(ステップS1501)。
【0204】次に、ホットプレス機1060を密封した
後、吸気管1072を通じて耐火容器1066内の真空
引きを行って該耐火容器1066内を負圧状態にする
(ステップS1502)。
【0205】その後、ヒータ1070に通電して耐火容
器1066内の金属14を加熱溶解する(ステップS1
503)。このとき、前記ヒータ1070への通電と併
せて下パンチ1064の通路1080内に加熱用流体を
流して耐火容器1066の内部を加熱するようにしても
よい。
【0206】耐火容器1066内の金属14の溶解物
(溶融金属)が所定温度に達した段階で、上パンチ10
68を下方に移動させて耐火容器1066内を所定圧ま
で加圧する(ステップS1504)。
【0207】所定圧になった金属14の溶解物(溶融金
属)は耐火容器1066内の圧力によってSiC102
0に含浸される。
【0208】時間管理によって予め設定されている終点
(SiC1020内への溶融金属14の含浸が飽和状態
とされた時点)となった段階において、今度は、下パン
チ1064内の通路1080に冷却用流体を流して耐火
容器1066を下方から上方に向かって冷却することに
より(ステップS1505)、SiC1020に含浸さ
れた溶融金属14を凝固させる。凝固が完了するまで上
パンチ1068と下パンチ1064による耐火容器10
66内の加圧状態は保持される。
【0209】凝固が完了した時点で、金属14が含浸さ
れたSiC1020を耐火容器1066から取り出す
(ステップS1506)。
【0210】この第9の製造方法においても、SiC1
020と金属14とを十分に脱気しつつ加熱し、金属1
4とSiC1020とを接触させた状態で金属14を溶
融した後、耐火容器1066内を加圧状態とし、さらに
その加圧状態を冷却操作完了時まで保持するようにした
ので、SiC1020に金属14を効率的に含浸するこ
とができる。
【0211】なお、この発明に係るヒートシンク材は、
上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨を逸脱する
ことなく、種々の構成を採り得ることはもちろんであ
る。
【0212】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るヒー
トシンク材によれば、実際の電子部品(半導体装置を含
む)等で求められる熱膨張率と熱伝導率とのバランスに
適合し、かつ気孔率が小さい特性を得ることができる。
従って、高い機械的強度を備えた高品質のヒートシンク
材を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態に係るヒートシンク材の構成
を示す斜視図である。
【図2】図2Aは第1の製造方法で使用される高圧容器
の正面を一部破断して示す図であり、図2Bは前記高圧
容器の側面を一部破断して示す図である。
【図3】第1の製造方法を示す工程ブロック図である。
【図4】第1の製造方法の第1の変形例を示す工程ブロ
ック図である。
【図5】第1の製造方法の第2の変形例を示す工程ブロ
ック図である。
【図6】第2の製造方法で使用される炉を示す構成図で
ある。
【図7】第2の製造方法で使用されるプレス機を示す構
成図である。
【図8】第2の製造方法を示す工程ブロック図である。
【図9】図1に示すヒートシンク材のIV−IV線方向
の断面図である。
【図10】図9に示すヒートシンク材の含浸箇所におけ
る密度を示す図である。
【図11】図9に示すヒートシンク材の含浸箇所におけ
る密度を示す図である。
【図12】図9に示すヒートシンク材の含浸箇所におけ
る密度を示す図である。
【図13】図9に示すヒートシンク材の含浸箇所におけ
る密度を示す図である。
【図14】第2の製造方法に係るヒートシンク材の特性
を示す図表である。
【図15】第2の製造方法に係るヒートシンク材の特性
を示す図表である。
【図16】第2の製造方法に係るヒートシンク材の特性
を示す図表である。
【図17】第2の製造方法に係るヒートシンク材の特性
を示す図表である。
【図18】第2の製造方法に係るヒートシンク材の気孔
率と密度を示す図である。
【図19】第2の製造方法に係るヒートシンク材の気孔
率と熱伝導率を示す図である。
【図20】第2の製造方法に係るヒートシンク材の気孔
率と密度を示す図である。
【図21】第2の製造方法に係るヒートシンク材におい
て、含浸圧力を変更したときの気孔率と密度を示す図で
ある。
【図22】第2の実施の形態に係るヒートシンク材の構
成を示す斜視図である。
【図23】第3の製造方法で使用される予備成形機を示
す構成図である。
【図24】第3の製造方法で使用されるホットプレス機
を示す構成図である。
【図25】第3の製造方法を示す工程ブロック図であ
る。
【図26】第4の製造方法を示す工程ブロック図であ
る。
【図27】第4の製造方法で使用されるホットプレス機
を示す構成図である。
【図28】第3の実施の形態に係るヒートシンク材の構
成を示す斜視図である。
【図29】第5の製造方法を示す工程ブロック図であ
る。
【図30】第6の製造方法を示す工程ブロック図であ
る。
【図31】第7の製造方法において、ケース内に粉末を
敷き詰めた状態を示す説明図である。
【図32】第7の製造方法において、ケース内に蓋を投
入した状態を示す説明図である。
【図33】第7の製造方法において、ケース内に溶湯を
流し込んだ後、パンチで溶湯を押し下げる状態を示す説
明図である。
【図34】第7の製造方法を示す工程ブロック図であ
る。
【図35】第8の製造方法に使用されるホットプレス機
を示す概略構成図である。
【図36】第4の実施の形態に係る製造方法を示す工程
ブロック図である。
【図37】図37Aはパッキン部材を示す平面図であ
り、図37Bは図37AにおけるXXVIIB−XXV
IIB線上の断面図である。
【図38】第8の製造方法に使用されるホットプレス機
の他の例を示す概略構成図である。
【図39】第8の製造方法の変形例に使用されるホット
プレス機を示す概略構成図である。
【図40】第8の製造方法の変形例を示す工程ブロック
図である。
【図41】第9の製造方法に使用されるホットプレス機
を示す概略構成図である。
【図42】第9の製造方法を示す工程ブロック図であ
る。
【符号の説明】
10A、10B、10C…ヒートシンク材 10a〜10f…含浸箇所 12…多孔質焼結
体 12a、12b…カーボン又はその同素体の粉末 14…金属(溶融金属) 14a…金属の粉
末 30…高圧容器 32、120、1
062…筐体 34、36…側板 38…回転軸 40、124、1066…耐火容器 42、74、12
8、1070…ヒータ 44、1074、1104…中空部 44a…第1室 44b…第2室 46…開口 48、130、1072…吸気管 50…ガス導入管 52…ガス導出管 60…炉 62…プレス機 70…ケース 72…空間 80、110…凹
部 82、112…金型 84、114…パ
ンチ 86…溶湯 88、90…ガス
抜き孔 100…予備成形機 102、1060
…ホットプレス機 104…混合物 106…予備成形
体 122、1064…下パンチ 126、1068
…上パンチ 132、1080…通路 1020…SiC 1054…フィルタ 1074a…上室 1074b…下室 1076…フラン
ジ部 1078…パッキン 1100…割型パ
ッキン 1102…パッキン部材 1110…フィル
タ部材 1112…扉
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C22C 37/00 C22C 37/00 Z H01L 23/36 H05K 7/20 B 23/373 H01L 23/36 M // H05K 7/20 C (72)発明者 竹内 広幸 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 (72)発明者 安井 誠二 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 (72)発明者 鈴木 健 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 (72)発明者 中山 信亮 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 Fターム(参考) 4K018 AA28 AA40 AB02 AB07 AC01 AD20 BA20 BC12 CA11 FA32 KA32 4K020 AA24 AC07 BB29 5E322 AA01 AA11 5F036 AA01 BB08 BD01 BD11

Claims (39)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カーボン又はその同素体と、金属とを含む
    ヒートシンク材において、 前記金属は、凝固膨張の性質を備えた金属又は凝固収縮
    を抑制する金属であることを特徴とするヒートシンク
    材。
  2. 【請求項2】カーボン又はその同素体と、金属とを含む
    ヒートシンク材において、 前記金属は、凝固温度が低い性質を備えた金属であるこ
    とを特徴とするヒートシンク材。
  3. 【請求項3】カーボン又はその同素体と、金属とを含む
    ヒートシンク材において、 前記金属は、偏析が発生しにくい性質を備えた金属であ
    ることを特徴とするヒートシンク材。
  4. 【請求項4】カーボン又はその同素体と、金属とを含む
    ヒートシンク材において、 前記金属は、前記ヒートシンク材表面との濡れ性が良好
    な性質を備えた金属であることを特徴とするヒートシン
    ク材。
  5. 【請求項5】請求項1記載のヒートシンク材において、 前記金属は、Bi、Sb、Ga、黒鉛鋳鉄から選択され
    た金属もしくはこれを含む合金であることを特徴とする
    ヒートシンク材。
  6. 【請求項6】請求項2記載のヒートシンク材において、 前記金属は、300℃以上の凝固温度を有する金属であ
    ることを特徴とするヒートシンク材。
  7. 【請求項7】請求項1〜4のいずれか1項に記載のヒー
    トシンク材において、 前記ヒートシンク材の直交する3軸方向の平均、又はい
    ずれかの軸方向の熱伝導率が、300W/mK以上であ
    ることを特徴とするヒートシンク材。
  8. 【請求項8】請求項1〜4のいずれか1項に記載のヒー
    トシンク材において、 前記カーボン又はその同素体として、熱伝導率が150
    W/mK以上のものが使用されていることを特徴とする
    ヒートシンク材。
  9. 【請求項9】請求項1〜4のいずれか1項に記載のヒー
    トシンク材において、 前記同素体がグラファイトであることを特徴とするヒー
    トシンク材。
  10. 【請求項10】請求項1〜4のいずれか1項に記載のヒ
    ートシンク材において、 前記同素体がダイヤモンドであることを特徴とするヒー
    トシンク材。
  11. 【請求項11】請求項1〜9のいずれか1項に記載のヒ
    ートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体を焼成してネットワーク化
    することによって得られる多孔質焼結体に前記金属が含
    浸されて構成されていることを特徴とするヒートシンク
    材。
  12. 【請求項12】請求項11記載のヒートシンク材におい
    て、 前記多孔質焼結体の気孔率が10vol%〜50vol
    %であって、平均気孔径が0.1μm〜200μmであ
    ることを特徴とするヒートシンク材。
  13. 【請求項13】請求項11又は12記載のヒートシンク
    材において、 前記カーボン又はその同素体の体積率と、前記金属との
    体積率とが、前記カーボン又はその同素体に対しては5
    0vol%〜90vol%、金属に対しては50vol
    %〜10vol%の範囲であることを特徴とするヒート
    シンク材。
  14. 【請求項14】請求項11〜13のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体に、該カーボン又はその同
    素体を焼成した際の閉気孔率を低減させる添加物が添加
    されていることを特徴とするヒートシンク材。
  15. 【請求項15】請求項14記載のヒートシンク材におい
    て、 前記閉気孔率を低減させる添加物が、SiC及び/又は
    Siであることを特徴とするヒートシンク材。
  16. 【請求項16】請求項11〜15のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記金属に、界面の濡れ性改善のための元素が添加され
    ていることを特徴とするヒートシンク材。
  17. 【請求項17】請求項16記載のヒートシンク材におい
    て、 前記界面の濡れ性改善のための添加元素が、Te、B
    i、Pb、Sn、Se、Li、Sb、Tl、Cdから選
    択された1種以上であることを特徴とするヒートシンク
    材。
  18. 【請求項18】請求項11〜17のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記金属に、多孔質焼結体との整合性、密着性改善のた
    めの元素が添加されていることを特徴とするヒートシン
    ク材。
  19. 【請求項19】請求項11〜18のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の表面に、カーバイド層が
    形成されていることを特徴とするヒートシンク材。
  20. 【請求項20】請求項19記載のヒートシンク材におい
    て、 前記カーバイド層の形成は、少なくとも前記カーボン又
    はその同素体と添加元素との反応に基づくものであるこ
    とを特徴とするヒートシンク材。
  21. 【請求項21】請求項20記載のヒートシンク材におい
    て、 前記添加元素が、Nb、Cr、Zr、Be、V、Mo、
    Al、Ta、Mn、Si、Fe、Co、Ni、Mg、C
    a、W、Ti、B、ミッシュメタルから選択された1種
    以上であることを特徴とするヒートシンク材。
  22. 【請求項22】請求項1〜10のいずれか1項に記載の
    ヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の粉末に、水又は結合材を
    混合し、所定圧力下で成形された予備成形体又は焼成さ
    れた成形体に、前記金属が含浸されて構成されているこ
    とを特徴とするヒートシンク材。
  23. 【請求項23】請求項1〜10のいずれか1項に記載の
    ヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の粉末と前記金属の粉末と
    を混合し、所定圧力下で成形されて構成されていること
    を特徴とするヒートシンク材。
  24. 【請求項24】請求項1〜10のいずれか1項に記載の
    ヒートシンク材において、 前記金属が溶解した液体状態又は固液共存状態に、前記
    カーボン又はその同素体の粉末を混合し、鋳造成形され
    て構成されていることを特徴とするヒートシンク材。
  25. 【請求項25】請求項1〜10のいずれか1項に記載の
    ヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の粉末に前記金属が含浸さ
    れて構成されていることを特徴とするヒートシンク材。
  26. 【請求項26】請求項22〜25のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の粉末の平均粉末粒度が1
    μm〜500μmであり、 前記粉末を構成する1つの粒子が最小の長さをとる方向
    と、最大の長さをとる方向とで、その長さの比の平均が
    1:5以下であることを特徴とするヒートシンク材。
  27. 【請求項27】請求項1〜8又は10のいずれか1項に
    記載のヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の粉砕裁断材と前記金属の
    粉末とを混合し、所定温度、所定圧力下で成形されて構
    成されていることを特徴とするヒートシンク材。
  28. 【請求項28】請求項22〜27のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体と前記金属との体積率が、
    前記カーボン又はその同素体が20vol%〜80vo
    l%、金属が80vol%〜20vol%の範囲である
    ことを特徴とするヒートシンク材。
  29. 【請求項29】請求項22〜28のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記ヒートシンク材を成形した際の金属の結合を強化さ
    せる添加元素が添加されていることを特徴とするヒート
    シンク材。
  30. 【請求項30】請求項29記載のヒートシンク材におい
    て、 前記添加元素が、Bi、Te、Sn、Pb、Se、L
    i、Sb、Tl、Cdから選択されることを特徴とする
    ヒートシンク材。
  31. 【請求項31】請求項30記載のヒートシンク材におい
    て、 前記添加元素は、銅に0.5wt%以下しか固溶しない
    添加元素であることを特徴とするヒートシンク材。
  32. 【請求項32】請求項22〜31のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記成形の際に、カーボン又はその同素体と金属との結
    合を強化させる添加元素が添加されていることを特徴と
    するヒートシンク材。
  33. 【請求項33】請求項32記載のヒートシンク材におい
    て、 前記添加元素が、Nb、Zr、Cr、Be、V、Mo、
    Al、Ta、Mn、Si、Fe、Co、Ni、Mg、C
    a、W、Ti、B、ミッシュメタルから選択されること
    を特徴とするヒートシンク材。
  34. 【請求項34】請求項22〜33のいずれか1項に記載
    のヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体に、成形後の再加熱が可能
    となる添加元素が添加されていることを特徴とするヒー
    トシンク材。
  35. 【請求項35】請求項34記載のヒートシンク材におい
    て、 前記ヒートシンク材の形成は、少なくとも前記カーボン
    又はその同素体と添加元素との反応に基づくものである
    ことを特徴とするヒートシンク材。
  36. 【請求項36】請求項35記載のヒートシンク材におい
    て、 前記添加元素が、Nb、Zr、Cr、Be、V、Mo、
    Al、Ta、Mn、Si、Fe、Co、Ni、Mg、C
    a、W、Ti、B、ミッシュメタルから選択された1種
    以上であることを特徴とするヒートシンク材。
  37. 【請求項37】請求項1〜36のいずれか1項に記載の
    ヒートシンク材において、 前記カーボン又はその同素体の表面に、添加元素の炭化
    物が形成されていることを特徴とするヒートシンク材。
  38. 【請求項38】請求項37記載のヒートシンク材におい
    て、 前記添加元素が、Nb、Zr、Cr、Be、V、Mo、
    Al、Ta、Mn、Si、Fe、Co、Ni、Mg、C
    a、W、Ti、B、ミッシュメタルから選択された1種
    以上であることを特徴とするヒートシンク材。
  39. 【請求項39】請求項1〜38のいずれか1項に記載の
    ヒートシンク材において、 前記ヒートシンク材の残留気孔率が、5%以下であるこ
    とを特徴とするヒートシンク材。
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