JP2003175329A - 球状無機質粉末の製造方法 - Google Patents
球状無機質粉末の製造方法Info
- Publication number
- JP2003175329A JP2003175329A JP2001324639A JP2001324639A JP2003175329A JP 2003175329 A JP2003175329 A JP 2003175329A JP 2001324639 A JP2001324639 A JP 2001324639A JP 2001324639 A JP2001324639 A JP 2001324639A JP 2003175329 A JP2003175329 A JP 2003175329A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- inorganic powder
- powder
- spherical
- raw material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
造する。 【解決手段】2又は3以上の複合管構造ノズルの任意内
管から、無機質粉末を乾式状態で助燃ガスに搬送させて
炉内に噴射すると共に、その内管に隣接した又は隣接し
ていない外管からは、燃料ガス又は燃料ガスと助燃ガス
の混合ガスを噴射し、高温火炎を形成させながら無機質
粉末を球状化させ、それを捕集系に導いて球状無機質粉
末を捕集する方法であって、上記外管から噴射させるガ
スを旋回させることを特徴とする球状無機質粉末の製造
方法。この場合において、外管からのガスを、1.0≦
S/V≦4.0(但し、V:内管のガス噴射速度(m/
s)、S:外管のガス噴射速度(m/s))、の条件で
噴射することが好ましい。
Description
充填材に好適な球状無機質粉末の製造方法に関する。本
発明に適用される無機質粉末としては、アルミナ、シリ
カ、マグネシア、それらを成分とする複化合物等である
が、以下、シリカを例にとって説明する。
ものは非晶質網目構造を持ち、低膨脹性、耐熱衝撃性、
低熱伝導性であるので耐熱材料として古くから賞用され
ている。また、化学的にも安定で高絶縁性であり、高周
波誘電体損失も少ないことから、粉末は半導体封止樹脂
用フィラーとして用いられ、特に球状のものは流動性や
充填性の向上に役立っている。中でも、真球に近いもの
ほど充填性、流動性、耐金型摩耗性に優れているので、
高球形度のフィラーが追求されている。
燃ガスとの燃焼反応によって形成される高温火炎中に、
シリカ質原料粉末を乾燥状態で助燃ガスで搬送させて供
給し、その融点以上で溶融球状化して製造される。この
場合における大きな課題は、原料中の微粉粒子は単独の
球状粒子として得にくく、微粉粒子同士あるいは微粉粒
子と粗粉粒子が合着結合することが多いので、得られた
球状シリカ質粉末の球形度は悪くなり、また微粉粒子同
士が凝集したまま火炎中を通過した粒子は溶融率も低く
なることである。
さくなればなるほど顕著となり、特開2001−485
21公報でも1μm以下の粒子が15重量%を超える
と、原料粉が分散不良のままダマの状態で火炎中に噴射
されるようになり、未溶融の微細粉が混入し、溶融率も
低くなると記載されている。
業条件等のあらゆる角度からの検討が従来より行われて
いるが、そのうちの1つに原料を高速で噴射させること
の提案(特開平13−089130号公報)がある。こ
の方法によれば、粒子同士の凝集や合着結合が抑制でき
るが、その反面、多量の原料搬送用ガスの使用や高圧の
ガスの使用が余儀なくされ、またテーブルフィーダーを
使用した場合には背圧上昇を招くのでフィーダー自体の
耐圧性も考慮しなければならないという設備上の不具合
がある。また、原料供給量を下げてこの課題を解決する
ことは、製造能力が低下するので好ましくない。
を解決すべく、無機質粉末原料を乾燥状態で供給する乾
式噴射法において、いかにして原料を高温火炎中に高分
散させるかについて鋭意検討した結果、複合管ノズルの
内管から無機質粉末を助燃ガスにて噴射し、その外管か
ら燃料ガスを旋回させて噴射すれば良いことを見い出
し、本発明を完成させたものである。すなわち、本発明
の目的は、高球形度の球状無機質粉末の生産性向上法を
提供することである。
の複合管構造ノズルの任意内管から、無機質粉末原料を
乾燥状態で助燃ガスに搬送させて炉内に噴射すると共
に、その内管に隣接した又は隣接していない外管から
は、燃料ガス又は燃料ガスと助燃ガスの混合ガスを噴射
し、高温火炎を形成させながら無機質粉末を球状化さ
せ、それを捕集系に導いて球状無機質粉末を捕集する方
法であって、上記外管から噴射させるガスを旋回させる
ことを特徴とする球状無機質粉末の製造方法である。こ
の場合において、外管からのガスを、1.0≦S/V≦
4.0(但し、V:内管のガス噴射速度(m/s)、
S:外管のガス噴射速度(m/s))、の条件で噴射す
ることが好ましい。
説明する。
較的良質の珪石、水晶、珪砂等を振動ミル等で粉砕して
得られたシリカが例示される。また、アルミナ、マグネ
シア、更にはシリカ、アルミナ、マグネシアのいずれか
を少なくとも一成分とする複化合物である。その平均粒
径は1〜80μmの微粉ないしは粗粉である。本発明に
おいては、凝集し易い1μm以下の含有量の多い微粉原
料であっても効果的に処理することができる。無機質粉
末原料は、後述のように、乾燥状態のままガスに搬送さ
れて炉内に形成された高温火炎に噴射される。
燃ガスと旋回させた燃料ガスの燃焼によって形成され、
火炎温度は1800℃以上であることが好ましい。その
際の燃料ガスとしては、アセチレン、エチレン、プロパ
ン、ブタン等の炭化水素系のガスあるいはこれらの混合
ガスが用いられ、助燃ガスとしては、酸素を含むガスで
あるが、93質量%以上の酸素ガスが高温火炎を形成す
る点から好ましい。
ガス及び助燃ガスは、2又は3以上の複合管構造ノズル
から噴射される。無機質粉末原料は乾燥状態のまま、助
燃ガスに搬送されて該ノズルの任意の内管から噴射され
る。すなわち、無機質粉末は乾燥状態で、二重管構造ノ
ズルの場合は内管から噴射され、三重管以上の多重管構
造ノズルの場合には、最外管以外の内管から供給され
る。ノズル先端部は無機質粉末を含むガスが流れるの
で、摩耗し易いため、セラミックスのような耐摩耗処置
が施されていると、更なる長時間の安定操業が可能とな
る。
は三重管以上の多重管構造ノズルの場合)、又は内管に
隣接しない外管(三重管以上の多重管構造ノズルの場
合)からは、燃料ガス又は燃料ガスと助燃ガスとの混合
ガスが噴射される。本発明で重要なことはそのガスを旋
回させて噴射させることである。これによって、燃料ガ
スが燃焼する際の体積膨張により、無機質粉末原料の高
温火炎中への分散が促進され、溶融率及び球形度が向上
する。旋回させるガスは、燃料ガス又は燃料ガスと助燃
ガスとの混合ガスであるが、好ましくは燃料ガスであ
る。
わち高温火炎の長手方向に沿って行わせることが好まし
く、旋回ガスの噴射角度は時計回り又は反時計回りに、
接線及び法線方向のいずれも30〜60°の角度をつけ
ることが好ましい。ガスを旋回させる方法としては、上
記外管の噴射口付近に風車を設ける、外管の内部の一部
又は全部を螺旋構造とする、両者の組み合わせ等があ
る。
1.0≦S/V≦4.0(但し、V:内管のガス噴射速
度(m/s)、S:外管のガス噴射速度(m/s))、
の条件で噴射することが好ましい。S/Vが1.0より
も小さいと、原料を搬送するガスの噴射速度が旋回させ
るガス噴射速度を上回るため、原料の高温火炎への分散
効果が弱まり、微粉粒子同士の合着結合の阻止効果が小
さくなる。逆に、S/Vが4.0よりも大きいと、原料
の搬送ガス流量が不安定となって分散効果が向上せず、
また溶融球状化する前に高温火炎から離脱する粒子も多
くなる。
に示されるように、重力沈降室、サイクロン、バグフィ
ルター等の捕集系に導かれ捕集される。図1は、球状シ
リカ質粉末の製造設備の一例を示す説明図である。原料
フィーダー1と、複合管構造ノズル2の設置された水冷
ジャケット式の縦型炉体4と、高温火炎3により溶融球
状化処理した球状シリカ質粉末をブロワー8で吸引・分
級するためのサイクロン6と、サイクロン6では捕集で
きなかった超微粉を回収するバグフィルター7とにより
構成されている。高温排ガスは、水冷ジャケット連絡管
5によって冷却される。9は吸引ガス量制御バルブ、1
0はガス排気口、11は捕集粉抜き出し装置である。
果は、粒子の肥大化率を用いて評価することができる。
肥大化率は、肥大化率=(溶融球状化処理され捕集され
た球状シリカ質粉末の平均粒径)/(シリカ質粉末原料
の平均粒径) により算出することができる。
が全くないときが1.0になり、粒子同士の合着結合が
進行するとその進行度合に応じて漸増する。したがっ
て、肥大化率1.0に近いほど良好な分散となるが、本
発明によれば該値が1.3以下となり、条件を厳格にす
れば1.2以下にすることもできる。この効果は、従来
の燃料ガスと助燃ガスとの内部混合ガスをガス孔から噴
射させて形成した高温火炎中に、無機質粉末原料を噴射
する方法(以下、従来乾式噴射法と記載)の場合の該値
が1.8、また複合管構造ノズルを用いるが外管からの
噴射ガスに旋回を与えない場合の該値が1.6であった
ことと比較して、格別顕著である。
粒度測定器(コールター社「モデルLS−230」型)
によって測定することができる。また、球形度は、走査
型電子顕微鏡(日本電子社製「JSM−T200型」)
と画像解析装置(日本アビオニクス社製)を用い、次の
ようにして測定することができる。
影面積(A)と周囲長(PM)を測定する。周囲長(P
M)に対応する真円の面積を(B)とすると、その粒子
の真円度はA/Bとして表示できる。そこで、試料粒子
の周囲長(PM)と同一の周囲長を持つ真円を想定する
と、PM=2πr、B=πr2であるから、B=π×
(PM/2π)2 となり、個々の粒子の真円度は、真円
度=A/B=A×4π/(PM)2として算出すること
ができるので、2000個の平均値として求められる。
が半導体封止樹脂用フィラーである場合、溶融率が95
%以上、特に98%以上であることが好ましい。
IGAKU社製「Mini Flex」)を用い、Cu
Kα線の2θが26°〜27.5°の範囲において試料
のX線回折分析を行い、特定回折ピークの強度比から測
定することができる。すなわち、結晶シリカは26.7
°に主ピークが存在するが、非晶質シリカではこの位置
には存在しない。非晶質シリカと結晶シリカが混在して
いると、それらの割合に応じた26.7°のピーク高さ
が得られるので、結晶シリカ標準試料のX線強度に対す
る試料のX線強度の比から、結晶シリカ混在率(試料の
X線強度/結晶シリカのX線強度)を算出し、式、溶融
率(%)=(1−結晶シリカ混在率)×100、によっ
て算出することができる。
に具体的に説明する。
の内管から、平均粒径5μmのシリカ質粉末を助燃ガス
(酸素ガス)に搬送させ、外管からはプロパンガスを旋
回させて噴射し、溶融球状化処理を行った。
例においても30kg/hとし、シリカ質粉末の搬送ガ
スの噴射速度(V)、旋回させるプロパンガスの噴射速
度(S)を表1に示す条件に種々変更した。また、旋回
はどの実験例においても時計回りに30°であり、ノズ
ル先端に風車を取り付けることによって行った。
合ガスをガス孔から噴射して形成された高温火炎中に、
平均粒径5μmのシリカ質粉末を酸素にて搬送、噴射
し、溶融球状化処理を行った。プロパンガスの流量は実
施例2と同じとし、火炎形成用の酸素はプロパン流量の
3.3倍とした。
以外は、実施例2と同様にして溶融球状化処理を行っ
た。
均粒径、溶融率、球形度を上記に従い測定し、また捕集
された球状シリカ質粉末とシリカ質粉末原料の各々の平
均粒径から肥大化率を算出した。それらの結果を表1に
示す。
噴射法の場合の肥大化率が1.78(比較例1)、また
複合管構造ノズルを用いるが外管からの噴射ガスに旋回
を与えない場合のそれが1.62(比較例2)であった
のに対し、本発明の実施例は1.0に近い値であり、す
こぶる分散の良好な状態でシリカ質原料を高温火炎中に
噴射することができた。その結果、溶融率は100%と
完全に非晶質化され、球形度0.95未満の粒子含有率
も15%未満と著しく減少させることができた。とく
に、S/Vを1.0〜4.0とした場合に本発明の効果
が顕著となった。
粉末を生産性を高めて製造することができる。速度の適
正化により、粒子肥大化を抑制しつつ、球形度の高い球
状シリカ質粉末を容易に製造することが出来る。
図
Claims (2)
- 【請求項1】 2又は3以上の複合管構造ノズルの任意
内管から、無機質粉末原料を乾燥状態で助燃ガスにて搬
送させて炉内に噴射すると共に、その内管に隣接した又
は隣接していない外管からは、燃料ガス又は燃料ガスと
助燃ガスの混合ガスを噴射し、高温火炎を形成させなが
ら無機質粉末を球状化させ、それを捕集系に導いて球状
無機質粉末を捕集する方法であって、上記外管から噴射
させるガスを旋回させることを特徴とする球状無機質粉
末の製造方法。 - 【請求項2】 外管からのガスを、1.0≦S/V≦
4.0(但し、V:内管のガス噴射速度(m/s)、
S:外管のガス噴射速度(m/s))、の条件で噴射す
ることを特徴とする請求項1記載の球状無機質粉末の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001324639A JP4330298B2 (ja) | 2001-10-03 | 2001-10-23 | 球状無機質粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001-307168 | 2001-10-03 | ||
JP2001307168 | 2001-10-03 | ||
JP2001324639A JP4330298B2 (ja) | 2001-10-03 | 2001-10-23 | 球状無機質粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003175329A true JP2003175329A (ja) | 2003-06-24 |
JP4330298B2 JP4330298B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=26623633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001324639A Expired - Fee Related JP4330298B2 (ja) | 2001-10-03 | 2001-10-23 | 球状無機質粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4330298B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004103548A1 (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-02 | Tdk Corporation | 球状粉末製造装置、粉末処理用バーナ、球状粉末の製造方法、球状酸化物粉末、酸化物粉末 |
JP2005008504A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Tdk Corp | 球状粉末の製造方法、球状酸化物粉末、酸化物粉末 |
WO2010016215A1 (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-11 | 大陽日酸株式会社 | 無機質球状化粒子の製造方法 |
KR101106650B1 (ko) * | 2009-09-18 | 2012-01-18 | 주식회사 대한세라믹스 | 구상 세라믹 분말 제조 장치 및 이를 이용하여 제조된 구상 세라믹 분말 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1869002A (zh) * | 2005-05-27 | 2006-11-29 | 中国科学院上海药物研究所 | 一类非甾体雄激素受体调节剂、其制备方法和用途 |
FR2915805B1 (fr) | 2007-05-04 | 2010-02-12 | Commissariat Energie Atomique | Procede de detection de composes gazeux halogenes |
-
2001
- 2001-10-23 JP JP2001324639A patent/JP4330298B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004103548A1 (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-02 | Tdk Corporation | 球状粉末製造装置、粉末処理用バーナ、球状粉末の製造方法、球状酸化物粉末、酸化物粉末 |
JP2005008504A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Tdk Corp | 球状粉末の製造方法、球状酸化物粉末、酸化物粉末 |
WO2010016215A1 (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-11 | 大陽日酸株式会社 | 無機質球状化粒子の製造方法 |
JP2010037134A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-18 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 無機質球状化粒子の製造方法 |
KR101106650B1 (ko) * | 2009-09-18 | 2012-01-18 | 주식회사 대한세라믹스 | 구상 세라믹 분말 제조 장치 및 이를 이용하여 제조된 구상 세라믹 분말 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4330298B2 (ja) | 2009-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003175329A (ja) | 球状無機質粉末の製造方法 | |
JP4294191B2 (ja) | 球状シリカ粉末の製造方法及び製造装置 | |
JP2007015884A (ja) | 球状無機質微粉末の製造方法およびそれに用いる製造装置 | |
US20230219823A1 (en) | Method for manufacturing spherical particle material | |
JP3891740B2 (ja) | 微細球状シリカ質粉末の製造方法 | |
JP4313924B2 (ja) | 球状シリカ粉末及びその製造方法 | |
JP3957581B2 (ja) | 球状シリカ粉末の製造方法 | |
JP4230554B2 (ja) | 球状粒子の製造方法 | |
JP4392097B2 (ja) | 超微粉球状シリカの製造方法 | |
JP4416936B2 (ja) | 微細シリカ粉末の製造方法 | |
TWM608559U (zh) | 粉體圓球化設備 | |
JP4318288B2 (ja) | 球状粉末製造装置、粉末処理用バーナ、球状粉末の製造方法 | |
JP2004203664A (ja) | 球状シリカ質粉末及びその製造方法、用途 | |
JPH04126534A (ja) | 無機質球状化粒子の製造方法及びその装置 | |
JP3868141B2 (ja) | 球状シリカ粉末の製造方法 | |
JP2005288399A (ja) | 球状無機質粉末の製造方法 | |
JP3853137B2 (ja) | 微細球状シリカの製造方法 | |
US20060275723A1 (en) | Apparatus for producing spherical powder, burner for treaitng powder, method for producing spherical powder, spherical oxide powder, and oxide powder | |
JP3608968B2 (ja) | 球状無機質粒子の製造方法 | |
JP4145855B2 (ja) | 球状溶融シリカ粉末の製造方法 | |
TWI744067B (zh) | 粉體圓球化設備 | |
JP4140834B2 (ja) | 球状酸化物粉末の製造方法 | |
JP2005015303A (ja) | 球状粉末の製造方法、球状酸化物粉末、酸化物粉末 | |
JP4294604B2 (ja) | 球状無機質粉末の製造方法 | |
JP2006131442A (ja) | 球状溶融シリカ粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050701 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060404 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060519 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060815 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060912 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20061116 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070511 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090303 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4330298 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130626 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |