JP2003167533A - 表示装置 - Google Patents

表示装置

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JP2003167533A
JP2003167533A JP2001370247A JP2001370247A JP2003167533A JP 2003167533 A JP2003167533 A JP 2003167533A JP 2001370247 A JP2001370247 A JP 2001370247A JP 2001370247 A JP2001370247 A JP 2001370247A JP 2003167533 A JP2003167533 A JP 2003167533A
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Japan
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transistor
capacitor
electrode
display device
dielectric film
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JP2001370247A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Nakayama
弘 中山
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】保持キャパシタの静電容量とキックキャパシタ
の静電容量との比にバラツキを生じ難い表示装置を提供
すること。 【解決手段】本発明の表示装置1は、基板2上に配置さ
れる複数の走査線4と前記走査線4に略直交して配置さ
れる複数の信号線5と、これら走査線4および信号線5
の交点付近に配置される画素スイッチ14と、前記信号
線5から前記画素スイッチ14を介して供給される映像
信号を所定期間保持する第1および第2キャパシタ1
3,15と、前記映像信号に基づいて表示動作を行う表
示素子11とを備え、前記第1および第2キャパシタ1
3,15は同一平面上に同一層構造で構成されることを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス(以下、
有機ELという)表示装置は、軽量、薄型、高輝度とい
う特徴を有している。そのため、近年、有機EL表示装
置は、携帯電話のような携帯用情報機器のモニタディス
プレイなどとして注目されている。
【0003】有機EL表示装置は、典型的には、マトリ
クス状に配列された複数の表示画素で画像を表示するよ
うに構成されている。このような有機EL表示装置で
は、複数本の走査線及び複数本の信号線がそれぞれ表示
画素の行と列とに沿って配置されている。各表示画素
は、有機EL素子、一対の電源線間でこの有機EL素子
に直列接続された駆動トランジスタ、この駆動トランジ
スタのゲート電圧を保持する保持キャパシタ、及び駆動
トランジスタのゲート電圧を制御する画素スイッチで主
に構成されている。
【0004】上記の有機EL表示装置では、各表示画素
は、キックキャパシタ、リセットスイッチ、及び出力ス
イッチをさらに含み、閾値キャンセル回路を構成するこ
とができる。このような閾値キャンセル回路を含んだ有
機EL表示装置によると、駆動トランジスタの閾値電圧
のバラツキに基づく駆動電流のバラツキを防止すること
ができる。
【0005】しかしながら、このような有機EL表示装
置では、表示画素間で保持キャパシタの静電容量とキッ
クキャパシタの静電容量との比にバラツキを生じた場
合、それら表示画素間で駆動電流にバラツキを生ずるこ
ととなる。また、表示装置間で保持キャパシタの静電容
量とキックキャパシタの静電容量との比にバラツキを生
じた場合、それら表示装置間で駆動電流にバラツキを生
ずることとなる。したがって、保持キャパシタの静電容
量とキックキャパシタの静電容量との比のバラツキは可
能な限り抑制することが望まれる。ところが、従来の有
機EL表示装置では、そのようなバラツキを抑制するこ
とは困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みて為されたものであり、保持キャパシタの静電容
量とキックキャパシタの静電容量との比にバラツキを生
じ難い表示装置を提供することを目的とする。
【0007】また本発明は、表示素子へ供給する映像信
号の変動を低減することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、基板上に配置される複数の走査線と前記
走査線に略直交して配置される複数の信号線と、これら
走査線および信号線の交点付近に配置される画素スイッ
チと、前記信号線から前記画素スイッチを介して供給さ
れる映像信号を所定期間保持する第1および第2キャパ
シタと、前記映像信号に基づいて表示動作を行う表示素
子とを備え、前記第1および第2キャパシタは同一平面
上に同一層構造で構成されることを特徴とする表示装置
を提供する。
【0009】また、本発明は、基板上に配置される複数
の走査線と前記走査線に略直交して配置される複数の信
号線と、前記走査線に接続するゲート電極および前記信
号線に接続するソース電極とを備えた第1トランジスタ
と、一対の電極間に誘電体膜を備え、一方の電極が前記
第1トランジスタのドレイン電極と接続する第1キャパ
シタと、前記第1キャパシタの他方の電極に接続するゲ
ート電極および第1電源線に接続するソース電極を有す
る第2トランジスタと、一対の電極間に誘電体膜を備
え、一方の電極が前記第2トランジスタのゲート電極と
接続し、他方の電極が前記第2トランジスタの前記ソー
ス電極に接続する第2キャパシタと、ゲート電極が第1
制御線と接続し、ソース電極が前記第2トランジスタの
ドレイン電極に接続し、ドレイン電極が前記第2トラン
ジスタのゲート電極に接続する第3トランジスタと、ゲ
ート電極が第2制御線と接続し、ソース電極が前記第2
トランジスタのドレイン電極と接続する第4トランジス
タと、一対の電極間に光変調層を備え、一方の電極が前
記第4トランジスタのドレイン電極と接続する表示素子
を備え、前記第1キャパシタを構成する誘電体膜と前記
第2キャパシタを構成する誘電体膜とは同一であること
を特徴とする表示装置を提供する。
【0010】本発明において、画素スイッチ、出力スイ
ッチ、及びリセットスイッチとしては、トランジスタや
ダイオードのようなスイッチング素子を用いることがで
きる。
【0011】本発明において、駆動制御素子と画素スイ
ッチトランジスタと出力スイッチトランジスタとリセッ
トスイッチトランジスタの少なくとも1つは、薄膜トラ
ンジスタであり且つそのゲート絶縁膜が前記保持キャパ
シタの容量を構成する誘電体膜及び前記キックキャパシ
タの容量を構成する誘電体膜と同一であってもよい。
【0012】本発明において、上記表示素子は、駆動電
圧または駆動電流に応じて光学特性が変化する表示素子
であれば特に制限はない。例えば、上記表示素子として
は、有機エレクトロルミネッセンス表示素子のように駆
動電流に応じて発光輝度が変化する表示素子や、液晶表
示素子のように駆動電圧に応じて透過率または反射率が
変化する表示素子などを挙げることができる。
【0013】なお、「保持キャパシタ(の容量)を構成
する誘電体膜とキックキャパシタ(の容量)を構成する
誘電体膜とが同一である」ことは、それら誘電体膜が同
時に及び同じ材料で成膜されたことを意味している。こ
のような特徴は、例えば、表示装置の断面構造を調べる
ことにより確認可能である。すなわち、それら誘電体膜
の断面が連続している場合、それら誘電体膜は同一であ
ると判断することができる。また、それら誘電体膜の断
面が不連続であっても、それら誘電体膜が別々に成膜さ
れたことを示す構造的特徴が見られず且つそれら誘電体
膜の組成及び膜厚がほぼ等しい場合には、それら誘電体
膜は同一であると判断することができる。
【0014】同様に、「ゲート絶縁膜が保持キャパシタ
(の容量)を構成する誘電体膜及びキックキャパシタ
(の容量)を構成する誘電体膜と同一である」ことは、
それら誘電体膜及びゲート絶縁膜が同時に及び同じ材料
で成膜されたことを意味している。このような特徴も、
例えば、表示装置の断面構造を調べることにより確認可
能である。すなわち、それら誘電体膜及びゲート絶縁膜
の断面が連続している場合、それらは同一であると判断
することができる。また、それら誘電体膜及びゲート絶
縁膜の断面が不連続であっても、それらが別々に成膜さ
れたことを示す構造的特徴が見られず且つそれらの組成
及び膜厚がほぼ等しい場合には、それら誘電体膜及びゲ
ート絶縁膜は同一であると判断することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図に
おいて、同様または類似の構成要素には同一の参照符号
を付し、重複する説明は省略する。
【0016】図1は、本発明の実施形態に係る表示装置
を概略的に示す回路図である。本実施形態では、表示素
子が有機EL表示素子である場合を例に説明する。
【0017】図1に示す表示装置1は、有機EL表示装
置であって、ガラス基板のような基板2と、基板2上に
マトリクス状に配列された複数の表示画素3と、それら
表示画素3の行と列とに沿ってそれぞれ延在した複数本
の走査線4及び複数本の信号線5と、これら走査線4及
び信号線5をそれぞれ駆動する走査線ドライバ8及び信
号線ドライバ9とを備えている。各表示画素3は、表示
素子11と、駆動制御素子12と、保持キャパシタ13
と、画素スイッチ14と、キックキャパシタ15と、出
力スイッチ16と、リセットスイッチ17とを含んでい
る。なお、ここでは、駆動制御素子12、画素スイッチ
14、出力スイッチ16、及びリセットスイッチ17の
それぞれにトランジスタを使用することとする。例え
ば、画素スイッチ14をN型トランジスタ、駆動制御素
子12、出力スイッチ16、及びリセットスイッチ17
をP型トランジスタで構成する。
【0018】表示素子11と出力スイッチトランジスタ
16と駆動制御素子12とは、一対の電源線DVDD,
DVSS間で電源線DVSS側から電源線DVDD側に
向けて順に直列に接続されている。画素スイッチトラン
ジスタ14とキックキャパシタ15とは信号線5と駆動
制御素子12のゲート電極との間で信号線5側から駆動
制御素子12側に向けて順に直列に接続されており、画
素スイッチトランジスタ14のゲート電極は走査線4に
接続されている。保持キャパシタ13は電源線DVDD
と駆動制御素子12のゲート電極との間に接続され、リ
セットスイッチトランジスタ17は出力スイッチトラン
ジスタ16の駆動制御素子12側で出力スイッチトラン
ジスタ16と駆動制御素子12のゲート電極との間に接
続されている。また、出力スイッチトランジスタ16及
びリセットスイッチトランジスタ17のゲート電極は制
御線6,7にそれぞれ接続されている。
【0019】この表示装置1では、電源線DVDDの電
位は例えば+10Vに設定し、電源線DVSSの電位は
例えば0Vに設定する。画素スイッチトランジスタ14
は、走査線4から供給される走査信号によって駆動され
たときに信号線5から供給される映像信号電圧を駆動制
御素子12のゲート電極に印加する。駆動制御素子12
は、この映像信号電圧に応じた駆動電流を有機EL表示
素子11に供給する。有機EL表示素子11は、例え
ば、赤色、緑色、または青色の蛍光性有機化合物を含ん
だ薄膜である発光層をカソード電極とアノード電極との
間に挟持した構造を有している。このような有機EL表
示素子11では、その発光層に電子及び正孔を注入して
それらの再結合を生じさせることにより励起子を生成
し、この励起子の失活時に生じる光放出によって発光す
る。
【0020】信号線ドライバ9は、各水平走査期間に映
像信号電圧を複数本の信号線5に並列的に供給する。走
査線ドライバ8は、各垂直走査期間に複数本の走査線4
に走査信号を順次供給する。各行の画素スイッチトラン
ジスタ14は、これら走査線4のうちの対応した1本か
ら共通に供給される走査信号により1水平走査期間だけ
導通し、走査信号が再び1垂直走査期間後に供給される
まで非導通となる。1行分の駆動制御素子12は、これ
ら画素スイッチトランジスタ14が導通することによっ
て複数本の信号線5から供給される映像信号電圧に対応
した駆動電流を有機EL表示素子11にそれぞれ供給す
る。
【0021】また、信号線ドライバ9は、映像信号電圧
を出力するのに先立って、一時的に所定のリセット電圧
を出力するように構成されている。この表示装置1で
は、画素スイッチトランジスタ14を介してリセット電
圧を供給する際、制御線6,7からの制御信号により、
リセットスイッチトランジスタ17は導通状態とし、出
力スイッチトランジスタ16は非導通状態とする。この
とき、駆動制御素子12のゲート電極の電位は、経路P
ath1を経由して流れる電流により、駆動制御素子1
2の閾値電圧Vthに等しくなるまで上昇する。
【0022】続いて、画素スイッチトランジスタ14を
介して映像信号電圧を供給するとともに、制御線6,7
からの制御信号により、リセットスイッチトランジスタ
17を非導通状態とし、出力スイッチトランジスタ16
を導通状態とする。これにより、駆動制御素子12のゲ
ート電極の電位は閾値電圧Vthに映像信号電圧を加えた
レベルとなり、駆動電流が経路Path2を経由して流
れる。
【0023】このような方法で表示を行った場合、駆動
電流はリセット電圧と映像信号電圧との差によって決定
されることとなる。したがって、駆動制御素子12間で
それらの閾値電圧にバラツキがあったとしても、それら
閾値電圧のバラツキに起因して駆動電流のバラツキが生
ずるのを防止することができる。
【0024】さて、本実施形態に係る有機EL表示装置
1では、保持キャパシタ13の容量を構成する誘電体膜
とキックキャパシタ15の容量を構成する誘電体膜とは
同一である。このような構成にすると、保持キャパシタ
13の静電容量とキックキャパシタ15の静電容量との
比にバラツキが生じるのを抑制することができる。これ
については、図2を参照しながら説明する。
【0025】図2は、本発明の実施形態に係る有機EL
表示装置の一部を概略的に示す断面図である。図2に示
す構造では、基板2上に形成された絶縁膜21上に、保
持キャパシタ13の一方の電極13aと、キックキャパ
シタ15の一方の電極15aと、薄膜トランジスタ20
のソース・ドレイン領域及びチャネル領域を構成するp
oly−Si膜20aとが並置されており、それらは誘
電体膜(或いは、絶縁膜)22で覆われている。誘電体
膜22上には、保持キャパシタ13の他方の電極13b
と、キックキャパシタ15の他方の電極15bと、薄膜
トランジスタ20のゲート電極20bとが並置されてお
り、それらは層間絶縁膜23で覆われている。層間絶縁
膜23上には、ソース電極20c及びドレイン電極20
dが設けられており、それらは絶縁膜22,23に設け
られたコンタクトホールを介してpoly−Si膜20
aのソース・ドレイン領域に接続されている。なお、参
照番号24はパシベーション膜を示している。また、ト
ランジスタ20は、図1に示したトランジスタ12,1
4,16,17の少なくとも1つを代表して示してい
る。
【0026】保持キャパシタ13の容量を構成する誘電
体膜の膜厚とキックキャパシタ15の容量を構成する誘
電体膜の膜厚は、それぞれ、表示装置1の全体にわたっ
て均一であることが理想であるが、現実的には、或る程
度のバラツキを生ずる。それら膜厚のバラツキは、保持
キャパシタ13の静電容量及びキックキャパシタ15の
静電容量の双方にバラツキを生じさせる。
【0027】これら静電容量のバラツキは、それら膜厚
の比が表示画素3間でほぼ一定に保たれていれば、駆動
電流に大きな影響を与えることはない。しかしながら、
従来技術では、保持キャパシタ13の容量とキックキャ
パシタ15の容量とに互いに異なる誘電体層を使用して
いた。すなわち、保持キャパシタ13の容量を構成する
誘電体膜がキックキャパシタ15の容量を構成する誘電
体膜とを別々の工程で成膜していた。
【0028】通常、別々に成膜した複数の薄膜間で膜厚
分布に相関はない。そのため、従来技術では、上記膜厚
の比にバラツキを生じ、その結果、表示装置1間や表示
画素3間で駆動電流にバラツキを生じていたのである。
【0029】これに対し、図2にように、保持キャパシ
タ13の容量とキックキャパシタ15の容量とに同一の
誘電体膜22を用いた場合、複数の誘電体膜を成膜する
ことに起因して上記膜厚の比にバラツキを生ずることは
ない。また、保持キャパシタ13とキックキャパシタ1
5とは近接して配置されるため、各表示画素3内で保持
キャパシタ13の膜厚とキックキャパシタ15の膜厚と
が大きく異なることはない。したがって、図2に示すよ
うに、保持キャパシタ13の容量とキックキャパシタ1
5の容量とに同一の誘電体膜22を用いることにより、
上記膜厚の比にバラツキが生ずること、すなわち、表示
装置1間や表示画素3間で駆動電流にバラツキが生ずる
のを抑制することが可能となる。
【0030】なお、本発明者は、保持キャパシタ13の
容量とキックキャパシタ15の容量とに同一の誘電体膜
を用いることによって生ずる効果を確認するために、以
下のシミュレーションを行っている。
【0031】図3は、保持キャパシタの容量を構成する
誘電体膜がキックキャパシタの容量を構成する誘電体膜
とは異なる有機EL表示装置の一部を概略的に示す断面
図である。
【0032】図3に示す構造では、図示しない基板上に
形成された絶縁膜21上に、キックキャパシタ15の一
方の電極15aと、薄膜トランジスタ20のソース・ド
レイン領域及びチャネル領域を構成するpoly−Si
膜20aとが並置されており、それらは絶縁膜(或い
は、誘電体膜)22で覆われている。絶縁膜22上に
は、キックキャパシタ15の他方の電極15bと、薄膜
トランジスタ20のゲート電極20bとが並置されてお
り、それらは層間絶縁膜23で覆われている。なお、図
3に示す構造において、電極15bは保持キャパシタ1
3の一方の電極を兼ねている。層間絶縁膜22上には、
保持キャパシタ13の他方の電極13bとソース電極2
0c及びドレイン電極20dとが並置されており、それ
らはパシベーション膜24で覆われている。ソース電極
20c及びドレイン電極20dは絶縁膜22,23に設
けられたコンタクトホールを介してpoly−Si膜2
0aのソース・ドレイン領域に接続されている。
【0033】図3に示す構造を採用した有機EL表示装
置1では、保持キャパシタ13の誘電体膜の膜厚及びキ
ックキャパシタ15の誘電体膜の膜厚がそれぞれ±10
%の範囲内で変化した場合、駆動電流はセンター条件に
対して±30%程度の範囲内でバラツキを生ずることと
なる。一方、図2示す構造を採用した有機EL表示装置
1では、保持キャパシタ13の誘電体膜の膜厚及びキッ
クキャパシタ15の誘電体膜の膜厚がそれぞれ±10%
の範囲内で変化した場合、駆動電流のセンター条件に対
するバラツキは±10%程度の範囲内に収まる。このよ
うに、保持キャパシタ13の容量とキックキャパシタ1
5の容量とに同一の誘電体膜を用いることにより、駆動
電流のバラツキを極めて効果的に抑制することが可能と
なる。
【0034】本実施形態において、誘電体膜22は、図
2に示すように、保持キャパシタ13の容量及びキック
キャパシタ15の容量に加え、表示画素3の一部を構成
する薄膜トランジスタ20のゲート絶縁膜も兼ねている
ことが好ましい。これについては、図2乃至図5を参照
しながら説明する。
【0035】図4は、図2に示す構造を採用した有機E
L表示装置の一部を概略的に示す平面図である。また、
図5は、図3に示す構造を採用した有機EL表示装置の
一部を概略的に示す平面図である。
【0036】一般に、層間絶縁膜23は、走査線4と信
号線5とのクロスショートを低減することなどを目的と
して、ゲート絶縁膜22に比べて遥かに厚く形成する。
例えば、ゲート絶縁膜22の膜厚を80nm程度とし、
層間絶縁膜23の膜厚は660nm程度とする。そのた
め、図3に示すように保持キャパシタ13の誘電体膜と
して層間絶縁膜23を使用した場合、保持キャパシタ1
3で十分な静電容量を実現するには、図3及び図5に示
すように保持キャパシタ13を大面積とする必要があ
る。
【0037】これに対し、図2に示すように保持キャパ
シタ13及びキックキャパシタ156の誘電体膜並びに
薄膜トランジスタ20のゲート絶縁膜として絶縁膜22
を使用した場合、図2及び図4に示すように保持キャパ
シタ13を大面積とすることなく、それらで十分な静電
容量(それぞれ、通常は0.1pF以上、典型的には
0.2pF程度)を実現することができる。例えば、図
3及び図5に示す構造に対し、保持キャパシタ13が占
める面積を1/8程度にまで減少させることができる。
したがって、そのような構造を採用することにより、保
持キャパシタ13及びキックキャパシタ15が占める面
積を低減することができる。
【0038】また、保持キャパシタ13及びキックキャ
パシタ15の一方の電極、ここでは下部電極13a、1
5aよりも、他方の電極、ここでは上部電極13b、1
5bを表面積が大きくなるよう形成することにより、マ
スクズレ等横方向のズレに対して、容量のバラツキを抑
制することが可能となる。
【0039】また、上述の実施例のように、基板2上に
表示画素3、走査線ドライバ8、信号線ドライバ9を一
体的に同時に形成する場合、保持キャパシタ13及びキ
ックキャパシタ15の一方の電極13a、15aは、こ
れら回路を構成する薄膜トランジスタの半導体層(ここ
ではp−Si膜)と同時に形成することができる。した
がって、薄膜トランジスタのソース領域、ドレイン領域
に注入する不純物を保持キャパシタ13およびキックキ
ャパシタ15の下部電極13a、15aにも同時に高濃
度注入することにより、これらキャパシタ13,15の
電圧依存性を抑制することができる。
【0040】本実施例では例えば、基板2上に形成され
るN型トランジスタの半導体層と同時にキャパシタ1
3,15の下部電極を構成している。つまり、N型トラ
ンジスタのソース領域およびドレイン領域とほぼ同等の
濃度のN型不純物(例えばリン)を高濃度注入された半
導体層を下部電極として用いることができる。
【0041】表示画素回路の構成は上記実施形態に限定
されるものではなく、本発明は、映像信号を保持するキ
ャパシタを複数備えた表示画素回路一般に適用すること
ができる。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、保持
キャパシタの容量とキックキャパシタの容量とに同一の
誘電体膜を使用するため、保持キャパシタの静電容量と
キックキャパシタの静電容量との比にバラツキが生ずる
のを抑制することができる。したがって、表示装置間や
表示画素間で駆動電流にバラツキが生ずるのを抑制する
ことが可能となる。
【0043】すなわち、本発明によると、複数のキャパ
シタのより映像信号を保持する表示装置において、これ
らキャパシタの静電容量の比にバラツキを生じ難い表示
装置が提供される。そして映像信号の変動を抑制するこ
とが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る表示装置を概略的に示
す回路図。
【図2】本発明の実施形態に係る有機EL表示装置の一
部を概略的に示す断面図。
【図3】保持キャパシタの容量を構成する誘電体膜がキ
ックキャパシタの容量を構成する誘電体膜とは異なる有
機EL表示装置の一部を概略的に示す断面図。
【図4】図2に示す構造を採用した有機EL表示装置の
一部を概略的に示す平面図。
【図5】図3に示す構造を採用した有機EL表示装置の
一部を概略的に示す平面図。
【符号の説明】
1…表示装置 2…基板 3…表示画素 4…走査線 5…信号線 6,7…制御線 8…走査線ドライバ 9…信号線ドライバ 11…表示素子 12…駆動制御素子 13…保持キャパシタ 13a,13b,15a,15b…電極 14…画素スイッチ 15…キックキャパシタ 16…出力スイッチ 17…リセットスイッチ 20…薄膜トランジスタ 20a…poly−Si膜 20b…ゲート電極 20c…ソース電極 20d…ドレイン電極 21〜23…絶縁膜 24…パシベーション膜
フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB02 AB17 BA06 DB03 GA04 5C094 AA03 AA07 AA43 AA55 BA03 BA27 CA19 CA25 DA13 DA15 EA04 FA01 FA02 FB01 FB12 FB14 FB15 FB20 5F110 AA30 BB01 BB02 CC01 DD02 DD11 GG02 GG13 NN03 NN73 QQ08

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に配置される複数の走査線と前記
    走査線に略直交して配置される複数の信号線と、これら
    走査線および信号線の交点付近に配置される画素スイッ
    チと、 前記信号線から前記画素スイッチを介して供給される映
    像信号を所定期間保持する第1および第2キャパシタ
    と、 前記映像信号に基づいて表示動作を行う表示素子とを備
    え、 前記第1および第2キャパシタは同一平面上に同一層構
    造で構成されることを特徴とする表示装置。
  2. 【請求項2】 基板上に配置される複数の走査線と前記
    走査線に略直交して配置される複数の信号線と、 前記走査線に接続するゲート電極および前記信号線に接
    続するソース電極とを備えた第1トランジスタと、 一対の電極間に誘電体膜を備え、一方の電極が前記第1
    トランジスタのドレイン電極と接続する第1キャパシタ
    と、 前記第1キャパシタの他方の電極に接続するゲート電極
    および第1電源線に接続するソース電極を有する第2ト
    ランジスタと、 一対の電極間に誘電体膜を備え、一方の電極が前記第2
    トランジスタのゲート電極と接続し、他方の電極が前記
    第2トランジスタの前記ソース電極に接続する第2キャ
    パシタと、 ゲート電極が第1制御線と接続し、ソース電極が前記第
    2トランジスタのドレイン電極に接続し、ドレイン電極
    が前記第2トランジスタのゲート電極に接続する第3ト
    ランジスタと、 ゲート電極が第2制御線と接続し、ソース電極が前記第
    2トランジスタのドレイン電極と接続する第4トランジ
    スタと、 一対の電極間に光変調層を備え、一方の電極が前記第4
    トランジスタのドレイン電極と接続する表示素子を備
    え、 前記第1キャパシタを構成する誘電体膜と前記第2キャ
    パシタを構成する誘電体膜とは同一であることを特徴と
    する表示装置。
  3. 【請求項3】 前記第1乃至第4トランジスタの少なく
    とも1つは、そのゲート絶縁膜が前記第1および第2キ
    ャパシタを構成する誘電体膜と同一であることを特徴と
    する請求項2に記載の表示装置。
  4. 【請求項4】 前記表示素子は有機エレクトロルミネッ
    センス表示素子であることを特徴とする請求項1乃至請
    求項3のいずれか1項に記載の表示装置。
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