JP2003151441A - Plasma display device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display device capable of enhancing luminance by most effectively using plasma generated by discharge. SOLUTION: This plasma display device has a plurality of pairs of discharge maintaining electrodes 12 formed almost parallel each other along a first direction X on the inside of a first base 11, a dielectric layer 14 formed so as to cover the discharge maintaining electrode 12 on the inside of the first base 11, and a barrier rib 24 formed on the inside of a second base 21 to form a sealed discharge space 4 between the first base 11 and the second base 21. The depth H1 of the discharge space 4 from the first base 11 toward the second base 21 is preferably not less than 350 μm and not more than 600 μm, and more preferably, not less than 400 μm and not more than 500 μm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ表示装置
に係り、さらに詳しくは、放電によって発生するプラズ
マを最大限に有効利用し、輝度の向上を図ることが可能
なプラズマ表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display device, and more particularly to a plasma display device capable of maximally effectively utilizing plasma generated by discharge to improve brightness.

【０００２】[0002]

【従来の技術】現在主流の陰極線管（ＣＲＴ）に代わる
画像表示装置として、平面型（フラットパネル形式）の
表示装置が種々検討されている。このような平面型の表
示装置として、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロル
ミネッセンス表示装置（ＥＬＤ）、プラズマ表示装置
（ＰＤＰ：プラズマ・ディスプレイ）を例示することが
できる。中でも、プラズマ表示装置は、大画面化や広視
野角化が比較的容易であること、温度、磁気、振動等の
環境要因に対する耐性に優れること、長寿命であること
等の長所を有し、家庭用の壁掛けテレビの他、公共用の
大型情報端末機器への適用が期待されている。2. Description of the Related Art Various flat panel display devices have been studied as an image display device to replace a cathode ray tube (CRT) which is currently the mainstream. A liquid crystal display device (LCD), an electroluminescence display device (ELD), and a plasma display device (PDP: plasma display) can be exemplified as such a flat display device. Among them, the plasma display device has advantages such as relatively easy enlargement of a screen and widening of a viewing angle, excellent resistance to environmental factors such as temperature, magnetism, and vibration, and long life, It is expected to be applied to large-scale information terminal devices for public use as well as household wall-mounted televisions.

【０００３】プラズマ表示装置は、希ガスから成る放電
ガスを放電空間内に封入した放電セルに電圧を印加し
て、放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した紫外線
で放電セル内の蛍光体層を励起することによって発光を
得る表示装置である。つまり、個々の放電セルは蛍光灯
に類似した原理で駆動され、放電セルが、通常、数十万
個のオーダーで集合して１つの表示画面が構成されてい
る。In a plasma display device, a voltage is applied to a discharge cell in which a discharge gas composed of a rare gas is sealed in a discharge space, and ultraviolet rays generated by glow discharge in the discharge gas generate a phosphor layer in the discharge cell. It is a display device that emits light by exciting. That is, the individual discharge cells are driven by a principle similar to that of a fluorescent lamp, and the discharge cells are usually assembled on the order of hundreds of thousands to form one display screen.

【０００４】最近では、たとえば特開２０００−２５１
７３９号出願公開公報にも示すように、いわゆるコプレ
ーナー型の放電維持電極を有する面放電型プラズマ表示
装置が開発されている。この種のプラズマ表示装置は、
高精細化に適しており、しかも、放電のための電極の表
面が誘電体層で覆われているので、かかる電極が磨耗し
難く、長寿命であるといった長所を有する。Recently, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-251.
As shown in Japanese Patent Application Publication No. 739, a surface discharge type plasma display device having a so-called coplanar type discharge sustaining electrode has been developed. This type of plasma display device
It is suitable for high definition, and since the surface of the electrode for discharging is covered with a dielectric layer, it has advantages that it is hard to wear and has a long life.

【０００５】ところが、従来のこの種のプラズマ表示装
置では、前面パネルと背面パネルとの間に形成される放
電空間の深さは、せいぜい２００μｍ程度であった。た
とえば橋口征四郎；応用物理 ２００１第７０巻第４号
第４１８−４２２頁では、放電空間の深さが１６０μｍ
である。これは、アドレス電極が背面パネルに形成され
るために、放電空間の深さが深くなると、前面パネル側
に形成される放電維持電極とアドレス電極との間の距離
が大きくなり、アドレス放電が困難になると言う理由で
あった。However, in the conventional plasma display device of this type, the depth of the discharge space formed between the front panel and the rear panel was about 200 μm at most. For example, in Seishiro Hashiguchi; Applied Physics 2001 Volume 70, No. 4, pages 418-422, the depth of the discharge space is 160 μm.
Is. Since the address electrodes are formed on the rear panel, if the depth of the discharge space becomes deep, the distance between the discharge sustain electrodes and the address electrodes formed on the front panel side becomes large, which makes address discharge difficult. That was the reason.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、本発明者等
の実験により、面放電型プラズマ表示装置において、放
電空間の深さが浅いと、面放電放電により生じたプラズ
マが深さ方向に押さえ込まれ、そのために輝度の向上が
抑制されていると言う新たな知見が見出された。However, according to the experiments by the present inventors, in the surface discharge type plasma display device, when the depth of the discharge space is shallow, the plasma generated by the surface discharge discharge is suppressed in the depth direction. However, a new finding has been found that the improvement in brightness is suppressed for that reason.

【０００７】本発明は、このような実状に鑑みてなさ
れ、放電によって発生するプラズマを最大限に有効利用
し、輝度の向上を図ることが可能なプラズマ表示装置を
提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a plasma display device capable of maximally effectively utilizing plasma generated by discharge and improving brightness.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、面放電型プ
ラズマ表示装置において、放電によって発生するプラズ
マを最大限に有効利用し、輝度の向上を図るためには、
放電空間の深さを３５０μｍ以上に大きくすればよいこ
とを見出し、本発明を完成させるに至った。In order to achieve the above object, the inventors of the present invention have conducted extensive studies, and as a result, in a surface discharge type plasma display device, plasma generated by discharge is effectively utilized to the maximum extent. In order to improve the brightness,
They have found that the depth of the discharge space should be increased to 350 μm or more, and completed the present invention.

【０００９】すなわち、本発明に係るプラズマ表示装置
は、第１基板の内側に第１方向に沿って相互に略平行に
形成される複数対の放電維持電極と、前記放電維持電極
を覆うように前記第１基板の内側に形成される誘電体層
と、第２基板の内側に形成され、前記第１基板と第２基
板との間に、密封された放電空間を形成するための隔壁
リブとを有し、前記第１基板から第２基板に向けての前
記放電空間の深さ（基板に略垂直方向の深さであり、見
方を変えれば高さとも言える）が、３５０μｍ以上であ
る。That is, the plasma display device according to the present invention covers a plurality of pairs of discharge sustaining electrodes formed inside the first substrate substantially parallel to each other along the first direction, and covers the discharge sustaining electrodes. A dielectric layer formed inside the first substrate; and rib ribs formed inside the second substrate for forming a sealed discharge space between the first substrate and the second substrate. And the depth of the discharge space from the first substrate to the second substrate (the depth in the direction substantially perpendicular to the substrate, which can be said to be the height from a different perspective) is 350 μm or more.

【００１０】前記放電空間の深さは、好ましくは、３５
０μｍ以上６００μｍ以下、さらに好ましくは、４００
μｍ以上５００μｍ以下である。The depth of the discharge space is preferably 35.
0 μm or more and 600 μm or less, more preferably 400
It is not less than μm and not more than 500 μm.

【００１１】放電空間の深さが浅くなると、本発明の効
果が小さくなり、放電空間の深さが深すぎても、本発明
の効果の増大が飽和してしまう傾向にある。したがっ
て、上記の範囲が好ましい。本発明者等の実験結果によ
れば、コプレーナー型の放電維持電極の電極ギャップか
ら、深さ方向に約３００〜３５０μｍ離れた空間に、最
も高い強度のプラズマ発光領域が表れることを見出し
た。If the depth of the discharge space becomes shallow, the effect of the present invention becomes small, and if the depth of the discharge space becomes too deep, the increase of the effect of the present invention tends to be saturated. Therefore, the above range is preferable. According to the experimental results of the present inventors, it was found that the plasma emission region of the highest intensity appears in the space about 300 to 350 μm away from the electrode gap of the coplanar discharge sustaining electrode in the depth direction.

【００１２】好ましくは、前記第２基板の内側には、前
記放電維持電極と交差する方向に延びるアドレス電極が
形成してある。好ましくは、前記アドレス電極は、前記
放電空間の底部に配置してある電極底部と、前記電極底
部と一体に形成されて前記隔壁リブの少なくとも何れか
一方の側壁面にまで延びている電極側壁部とを有する。
好ましくは、前記電極側壁部の高さが、前記隔壁リブの
高さの１０〜１００％の高さを有する。本発明におい
て、隔壁リブの形成パターンは、特に限定されず、スト
ライプ状、ミアンダ形状、ハニカム形状など種々のパタ
ーンを取り得る。Preferably, an address electrode extending in a direction intersecting with the discharge sustaining electrode is formed inside the second substrate. Preferably, the address electrode is formed integrally with the electrode bottom portion disposed at the bottom portion of the discharge space, and the electrode side wall portion extending to at least one side wall surface of the partition rib. Have and.
Preferably, the height of the electrode side wall portion is 10 to 100% of the height of the partition rib. In the present invention, the partition rib formation pattern is not particularly limited, and various patterns such as a stripe shape, a meander shape, and a honeycomb shape can be adopted.

【００１３】本発明において、アドレス電極に電極側壁
部を形成することで、放電空間の深さが深くても、アド
レス電極と放電維持電極との距離が近くなり、アドレシ
ングが容易になる。In the present invention, by forming the electrode side wall portion on the address electrode, the distance between the address electrode and the discharge sustaining electrode becomes short and the addressing becomes easy even if the depth of the discharge space is deep.

【００１４】好ましくは、前記各対の放電維持電極間の
放電ギャップが、５０μｍ以下である。この場合におい
て、好ましくは、前記放電空間には、実質的にキセノン
（Ｘｅ）が１００％の放電ガスが封入してある。この場
合には、Ｘｅの分子線と言われている１７２ｎｍ波長の
ＶＵＶ紫外光の強度が飛躍的に増大し、さらなる輝度の
向上が可能になる。Preferably, the discharge gap between each pair of the sustain electrodes is 50 μm or less. In this case, preferably, the discharge space is filled with a discharge gas containing substantially 100% xenon (Xe). In this case, the intensity of VUV ultraviolet light having a wavelength of 172 nm, which is said to be a molecular beam of Xe, is dramatically increased, and the brightness can be further improved.

【００１５】好ましくは、前記放電維持電極が、透明電
極であり、各放電維持電極には、バス電極が長手方向に
沿って接続されている。Preferably, the discharge sustaining electrodes are transparent electrodes, and a bus electrode is connected to each of the discharge sustaining electrodes along the longitudinal direction.

【００１６】好ましくは、前記放電維持電極およびバス
電極を覆うように、前記第１基板の内側には、誘電体層
が形成してあり、前記誘電体層の内側に保護層が形成し
てある。[0016] Preferably, a dielectric layer is formed inside the first substrate so as to cover the discharge sustaining electrodes and the bus electrodes, and a protective layer is formed inside the dielectric layer. .

【００１７】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係
るプラズマ表示装置の要部概略分解斜視図、図２は図１
に示すII−II線に沿う要部断面図、図３は図１に示すII
I−III線に沿う要部断面図、図４は隔壁リブのパターン
と放電維持電極との関係を示す平面図、図５（Ａ）〜図
５（Ｅ）は図１に示す第２パネルの製造方法を示す要部
断面図、図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は図１に示す第２パネ
ルの他の製造方法を示す要部断面図、図７は本発明の他
の実施形態に係るプラズマ表示装置の要部断面図、図８
は本発明の効果を示す実験に用いる面放電型プラズマ発
生装置の要部断面図、図９は図８に示す装置を用いてプ
ラズマ発光させた状態を示す写真、図１０は図９に示す
Ａ−Ｂ線に沿うプラズマ発光強度を示すグラフ、図１１
は放電ガスの封入ガス圧力を変化させてプラズマ発光さ
せた状態を示す図９と同様な写真、図１２は図１１に示
すＡ−Ｂ線に沿うプラズマ発光強度を示すグラフ、図１
３は放電ガスの封入ガス圧力を変化させてプラズマ発光
させた状態を示す図９と同様な写真、図１４は図１３に
示すＡ−Ｂ線に沿うプラズマ発光強度を示すグラフ、図
１５は放電空間の溝深さを変化させてプラズマ発光させ
た状態を示す図１３と同様な写真、図１６は図１５に示
すＡ−Ｂ線に沿うプラズマ発光強度を示すグラフ、図１
７は図１５に示すＡ−Ｂ線と直角方向に沿うプラズマ発
光強度を示すグラフ、図１８は放電空間の溝深さを変化
させてプラズマ発光させた状態を示す図１３と同様な写
真、図１９は図１８に示すＡ−Ｂ線に沿うプラズマ発光
強度を示すグラフ、図２０は図１８に示すＡ−Ｂ線と直
角方向に沿うプラズマ発光強度を示すグラフ、図２１は
放電ガスの種類と封入圧力とを変化させてプラズマ発光
させた状態を示す図１３と同様な写真、図２２は図２１
に示すＡ−Ｂ線に沿うプラズマ発光強度を示すグラフで
ある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below based on the embodiments shown in the drawings. 1 is a schematic exploded perspective view of a main part of a plasma display device according to an embodiment of the present invention, and FIG.
2 is a sectional view taken along line II-II shown in FIG.
FIG. 4 is a plan view showing the relationship between the rib pattern and the discharge sustaining electrode, and FIG. 5A to FIG. 5E are sectional views of the second panel shown in FIG. FIG. 6A to FIG. 6C are cross-sectional views of main parts showing another manufacturing method of the second panel shown in FIG. 1, and FIG. 7 is another embodiment of the present invention. 8 is a cross-sectional view of the main part of the plasma display device according to FIG.
Is a cross-sectional view of an essential part of a surface discharge type plasma generator used in an experiment showing the effect of the present invention, FIG. 9 is a photograph showing a state of plasma emission using the device shown in FIG. 8, and FIG. 10 is A shown in FIG. 11 is a graph showing plasma emission intensity along line B, FIG.
1 is a photograph similar to FIG. 9 showing a state where plasma pressure is emitted by changing the pressure of the discharge gas, and FIG. 12 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG.
3 is a photograph similar to FIG. 9 showing a state where plasma gas is emitted by changing the pressure of the enclosed gas of the discharge gas, FIG. 14 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG. 13, and FIG. A photograph similar to FIG. 13 showing the state of plasma emission by changing the groove depth of the space, FIG. 16 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG. 15, and FIG.
7 is a graph showing plasma emission intensity along a direction perpendicular to the line AB shown in FIG. 15, and FIG. 18 is a photograph similar to FIG. 13 showing a state where plasma discharge is performed by changing the groove depth of the discharge space. 19 is a graph showing the plasma emission intensity along the line AB shown in FIG. 18, FIG. 20 is a graph showing the plasma emission intensity along the direction perpendicular to the line AB shown in FIG. 18, and FIG. A photograph similar to FIG. 13 showing a state where plasma pressure is emitted by changing the filling pressure, and FIG.
5 is a graph showing plasma emission intensity along line AB shown in FIG.

【００１８】（第１実施形態）プラズマ表示装置の全体構成 まず、図１に基づき、交流駆動（ＡＣ）面放電型プラズ
マ表示装置（以下、単に、プラズマ表示装置と呼ぶ場合
がある）の全体構成について説明する。(First Embodiment) Overall Configuration of Plasma Display Device First, referring to FIG. 1, the overall configuration of an AC drive (AC) surface discharge type plasma display device (hereinafter may be simply referred to as a plasma display device). Will be described.

【００１９】図１に示すＡＣ面放電型プラズマ表示装置
２は、いわゆる３電極型に属し、コプレーナー型の１対
の放電維持電極１２の間で放電が生じる。このＡＣ面放
電型プラズマ表示装置２は、前面パネルに相当する第１
パネル１０と、背面パネルに相当する第２パネル２０と
が貼り合わされて成る。第２パネル２０上の蛍光体層２
５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの発光は、たとえば、第１パネル
１０を通して観察される。すなわち、第１パネル１０
が、表示面側となる。The AC surface discharge type plasma display device 2 shown in FIG. 1 belongs to a so-called three-electrode type, and a discharge is generated between a pair of coplanar discharge sustaining electrodes 12. This AC surface discharge type plasma display device 2 has a first panel corresponding to a front panel.
The panel 10 and the second panel 20 corresponding to the back panel are bonded together. Phosphor layer 2 on second panel 20
The light emission of 5R, 25G, and 25B is observed through the first panel 10, for example. That is, the first panel 10
Is on the display surface side.

【００２０】第１パネル１０は、透明な第１基板１１
と、第１基板１１上に第１方向Ｘに沿って相互に略平行
にストライプ状に設けられ、透明導電材料から成る複数
対の放電維持電極１２と、放電維持電極１２のインピー
ダンスを低下させるために設けられ、放電維持電極１２
よりも電気抵抗率の低い材料から成るバス電極１３と、
バス電極１３および放電維持電極１２上を含む第１の基
板１１上に形成された誘電体層１４と、その上に形成さ
れた保護層１５とから構成されている。なお、保護層１
５は、必ずしも形成されている必要はないが、形成され
ていることが好ましい。The first panel 10 includes a transparent first substrate 11
And a plurality of pairs of discharge sustaining electrodes 12 made of a transparent conductive material, which are provided in a stripe shape on the first substrate 11 substantially parallel to each other in the first direction X, and to reduce the impedance of the discharge sustaining electrodes 12. Provided on the discharge sustaining electrode 12
A bus electrode 13 made of a material having a lower electrical resistivity than
The dielectric layer 14 is formed on the first substrate 11 including the bus electrodes 13 and the discharge sustaining electrodes 12, and the protective layer 15 is formed thereon. The protective layer 1
5 does not necessarily have to be formed, but is preferably formed.

【００２１】一方、第２パネル２０は、第２基板２１
と、第２基板２１上に第２方向Ｙ（第１方向Ｘと略直
角）に沿って相互に略平行にストライプ状に設けられた
複数の隔壁リブ２４と、これら隔壁リブ２４の間に第２
方向Ｙに沿って略平行に延びて隔壁リブ２４の側壁面上
に亘って形成されたアドレス電極（データ電極とも呼ば
れる）２２と、アドレス電極２２の表面を覆うように形
成された絶縁体膜２３と、絶縁体膜２３を覆うように隔
壁リブ２４の側壁面上に亘って設けられた蛍光体層とか
ら構成されている。蛍光体層は、赤色蛍光体層２５Ｒ、
緑色蛍光体層２５Ｇ、および青色蛍光体層２５Ｂから構
成されている。On the other hand, the second panel 20 includes a second substrate 21.
And a plurality of partition ribs 24 provided in a stripe shape on the second substrate 21 along the second direction Y (substantially perpendicular to the first direction X) substantially parallel to each other. Two
An address electrode (also referred to as a data electrode) 22 that extends substantially in parallel along the direction Y and is formed over the side wall surface of the partition rib 24, and an insulator film 23 formed so as to cover the surface of the address electrode 22. And a phosphor layer provided over the side wall surface of the partition rib 24 so as to cover the insulator film 23. The phosphor layer is a red phosphor layer 25R,
It is composed of a green phosphor layer 25G and a blue phosphor layer 25B.

【００２２】図１は、表示装置２の一部分解斜視図であ
り、実際には、図３に示すように、第２パネル２０側の
隔壁リブ２４の頂部が、第３方向Ｚ（第１方向Ｘおよび
第２方向Ｙに直交する方向）で第１パネル１０側の保護
層１５に当接している。放電ギャップＷ１（図２および
図４参照）を形成する一対の放電維持電極１２と、アド
レス電極２２とが重複する領域が、単一の放電セルに相
当する。そして、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが形
成された隔壁リブ２４と保護層１５とによって囲まれた
放電空間４内には、放電ガスが封入されている。第１パ
ネル１０と第２パネル２０とは、それらの周辺部におい
て、フリットガラスを用いて接合されている。放電空間
４内に封入される放電ガスとしては、特に限定されない
が、キセノン（Ｘｅ）ガス、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリ
ウム（Ｈｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素
（Ｎ_２）ガス等の不活性ガス、あるいはこれらの不活性
ガスの混合ガスなどが用いられる。封入されている放電
ガスの全圧は、特に限定されないが、６×１０^３Ｐａ〜
８×１０^４Ｐａ程度である。FIG. 1 is a partially exploded perspective view of the display device 2. In reality, as shown in FIG. 3, the top of the partition rib 24 on the second panel 20 side is in the third direction Z (first direction). It is in contact with the protective layer 15 on the first panel 10 side in a direction orthogonal to X and the second direction Y). A region where the pair of discharge sustain electrodes 12 forming the discharge gap W1 (see FIGS. 2 and 4) and the address electrode 22 overlap corresponds to a single discharge cell. Then, a discharge gas is enclosed in the discharge space 4 surrounded by the barrier ribs 24 on which the phosphor layers 25R, 25G, 25B are formed and the protective layer 15. The 1st panel 10 and the 2nd panel 20 are joined using frit glass in those peripheral parts. The discharge gas sealed in the discharge space 4 is not particularly limited, but may be xenon (Xe) gas, neon (Ne) gas, helium (He) gas, argon (Ar) gas, nitrogen (N ₂ ) gas, or the like. An inert gas or a mixed gas of these inert gases is used. The total pressure of the enclosed discharge gas is not particularly limited, but is 6 × 10 ³ Pa to
It is about 8 × 10 ⁴ Pa.

【００２３】放電維持電極１２の射影像が延びる方向と
アドレス電極２２の射影像が延びる方向とは略直交（必
ずしも直交する必要はないが）している。図３に示すよ
うに、放電ギャップＷ１を形成する一対の放電維持電極
１２と、３原色を発光する蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２
５Ｂの１組とが重複する領域が１画素Ｐ１（１ピクセ
ル）に相当する。グロー放電が、放電ギャップＷ１を形
成する一対の放電維持電極１２間で生じることから、こ
のタイプのプラズマ表示装置は「面放電型」と称され
る。このプラズマ表示装置の駆動方法については、後述
する。The direction in which the projected image of the discharge sustaining electrode 12 extends and the direction in which the projected image of the address electrode 22 extends are substantially orthogonal (although they do not necessarily have to be orthogonal). As shown in FIG. 3, a pair of discharge sustaining electrodes 12 forming a discharge gap W1 and phosphor layers 25R, 25G, 2 emitting three primary colors.
An area where one set of 5B overlaps corresponds to one pixel P1 (1 pixel). Since the glow discharge is generated between the pair of discharge sustaining electrodes 12 forming the discharge gap W1, this type of plasma display device is called a "surface discharge type". The driving method of this plasma display device will be described later.

【００２４】本実施形態のプラズマ表示装置２は、いわ
ゆる反射型プラズマ表示装置であり、蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂの発光は、第１パネル１０を通して観察
されるので、アドレス電極２２を構成する導電性材料に
関して透明／不透明の別は問わないが、放電維持電極１
２を構成する導電性材料は透明である必要がある。な
お、ここで述べる透明／不透明とは、蛍光体層材料に固
有の発光波長（可視光域）における導電性材料の光透過
性に基づく。即ち、蛍光体層から射出される光に対して
透明であれば、放電維持電極やアドレス電極を構成する
導電性材料は透明であると言える。The plasma display device 2 of the present embodiment is a so-called reflection type plasma display device, and includes a phosphor layer 25R,
Since the light emission of 25G and 25B is observed through the first panel 10, the conductive material forming the address electrode 22 may be transparent or opaque.
The conductive material forming 2 must be transparent. The transparency / opacity described here is based on the light transmittance of the conductive material in the emission wavelength (visible light region) peculiar to the phosphor layer material. That is, if it is transparent to the light emitted from the phosphor layer, it can be said that the conductive material forming the discharge sustaining electrodes and the address electrodes is transparent.

【００２５】不透明な導電性材料として、Ｎｉ，Ａｌ，
Ａｕ，Ａｇ，Ｐｄ／Ａｇ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｂａ，Ｌ
ａＢ_６，Ｃａ_０．２Ｌａ_０．８ＣｒＯ_３等の材料を、単
独または適宜組み合わせて用いることができる。透明な
導電性材料としては、ＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）
やＳｎＯ_２を挙げることができる。放電維持電極１２ま
たはアドレス電極２２は、スパッタ法、蒸着法、スクリ
ーン印刷法、メッキ法等によって形成することができ、
フォトリソグラフィ法、サンドブラスト法、リフトオフ
法などによってパターン加工される。As the opaque conductive material, Ni, Al,
Au, Ag, Pd / Ag, Cr, Ta, Cu, Ba, L
Materials such as aB ₆ , Ca _0.2 La _0.8 CrO _{3 and the} like can be used alone or in combination. As a transparent conductive material, ITO (indium tin oxide)
And SnO ₂ . The discharge sustaining electrode 12 or the address electrode 22 can be formed by a sputtering method, a vapor deposition method, a screen printing method, a plating method, or the like.
Pattern processing is performed by a photolithography method, a sandblast method, a lift-off method, or the like.

【００２６】放電維持電極１２の電極幅は、特に限定さ
れないが、２００〜４００μｍ程度である。また、これ
らの対となる電極１２相互間の放電ギャップＷ１は、特
に限定されないが、好ましくは１〜１５０μｍ程度であ
る。また、アドレス電極２２の幅は、たとえば５０〜１
００μｍ程度である。放電ギャップＷ１は、放電空間の
内部に封入される放電ガスの種類に応じて選択されるこ
とが好ましく、たとえば放電ガスとして、キセノン１０
０％の放電ガスを用いる場合には、放電ギャップＷ１
は、１〜５０μｍ程度が好ましい。また、放電ギャップ
Ｗ１が形成された一対の放電維持電極１２と、隣の一対
の放電維持電極１２との間の画素間隣接隙間の幅Ｗ２
は、放電ギャップＷ１よりも広いことが好ましく、特に
限定されないが、好ましくは１００〜４００μｍ、さら
に好ましくは２００〜３００μｍである。The electrode width of the discharge sustaining electrode 12 is not particularly limited, but is about 200 to 400 μm. The discharge gap W1 between the pair of electrodes 12 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 150 μm. The width of the address electrode 22 is, for example, 50 to 1
It is about 00 μm. The discharge gap W1 is preferably selected according to the type of discharge gas sealed in the discharge space. For example, the discharge gas may be xenon 10
When 0% discharge gas is used, the discharge gap W1
Is preferably about 1 to 50 μm. Further, the width W2 of the inter-pixel adjacent gap between the pair of discharge sustaining electrodes 12 in which the discharge gap W1 is formed and the adjacent pair of discharge sustaining electrodes 12 is formed.
Is preferably wider than the discharge gap W1 and is not particularly limited, but is preferably 100 to 400 μm, more preferably 200 to 300 μm.

【００２７】バス電極１３は、典型的には、金属材料、
たとえば、Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｃｒ
などの単層金属膜、あるいはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒなどの積
層膜などから構成することができる。かかる金属材料か
ら成るバス電極１３は、反射型のプラズマ表示装置にお
いては、蛍光体層から放射されて第１基板１１を通過す
る可視光の透過光量を低減させ、表示画面の輝度を低下
させる要因となり得るので、放電維持電極全体に要求さ
れる電気抵抗値が得られる範囲内で出来る限り細く形成
することが好ましい。具体的には、バス電極１３の電極
幅は、放電維持電極１２の電極幅よりも小さく、たとえ
ば３０〜２００μｍ程度である。バス電極１３は、放電
維持電極１２などと同様な方法により形成することがで
きる。The bus electrode 13 is typically a metallic material,
For example, Ag, Au, Al, Ni, Cu, Mo, Cr
It can be composed of a single layer metal film such as or a laminated film of Cr / Cu / Cr or the like. In the reflection type plasma display device, the bus electrode 13 made of such a metal material reduces the amount of visible light that is emitted from the phosphor layer and passes through the first substrate 11 to reduce the brightness of the display screen. Therefore, it is preferable to form the discharge sustaining electrode as thinly as possible within the range in which the required electric resistance value can be obtained. Specifically, the electrode width of the bus electrode 13 is smaller than the electrode width of the discharge sustaining electrode 12, and is, for example, about 30 to 200 μm. The bus electrode 13 can be formed by the same method as the discharge sustaining electrode 12 and the like.

【００２８】また、バス電極１３は、通常、一対の各放
電維持電極１２における放電ギャップＷ１側の端部では
なく、図４に示すように、第２方向Ｙにおける画素Ｐ１
と画素Ｐ１との画素間隣接隙間側の端部に、各放電維持
電極１２の長手方向に沿って接続して形成してある。各
放電維持電極１２における放電ギャップＷ１の位置にお
いて、放電空間４における表示光の輝度が最も高いと考
えられ、この位置の近くに遮光性のバス電極１３を配置
することは、全体的な輝度を低下させると考えられてい
ることから、バス電極１３は、前記の位置に配置してあ
る。Further, the bus electrode 13 is usually not the end portion of the pair of discharge sustain electrodes 12 on the discharge gap W1 side, but as shown in FIG. 4, the pixel P1 in the second direction Y.
And the pixel P1 are formed at the ends of the adjacent gaps between the pixels adjacent to each other along the longitudinal direction of the discharge sustaining electrodes 12. It is considered that the brightness of the display light in the discharge space 4 is highest at the position of the discharge gap W1 in each discharge sustaining electrode 12, and disposing the light-blocking bus electrode 13 near this position reduces the overall brightness. The bus electrode 13 is arranged at the above position because it is considered to lower the voltage.

【００２９】放電維持電極１２の表面に形成される誘電
体層１４は、たとえば単層のシリコン酸化物層で構成し
てあるが、多層膜であっても良い。このシリコン酸化物
層から成る誘電体層１４は、たとえば、電子ビーム蒸着
法やスパッタ法、スクリーン印刷法等に基づき、形成さ
れている。誘電体は、印刷法によって形成した低融点ガ
ラスやシート誘電体でもよい。誘電体層１４の厚みは、
特に限定されないが、本実施形態では、１〜２０μｍで
ある。The dielectric layer 14 formed on the surface of the discharge sustaining electrode 12 is composed of, for example, a single-layer silicon oxide layer, but may be a multilayer film. The dielectric layer 14 made of this silicon oxide layer is formed by, for example, an electron beam evaporation method, a sputtering method, a screen printing method or the like. The dielectric may be low melting glass or sheet dielectric formed by printing. The thickness of the dielectric layer 14 is
Although not particularly limited, in the present embodiment, it is 1 to 20 μm.

【００３０】誘電体層１４を設けることによって、放電
空間４内で発生するイオンや電子が、放電維持電極１２
と直接に接触することを防止することができる。その結
果、放電維持電極１２の磨耗を防ぐことができる。誘電
体層１４は、アドレス期間に発生する壁電荷を蓄積して
放電状態を維持するするメモリ機能、過剰な放電電流を
制限する抵抗体としての機能を有する。By providing the dielectric layer 14, the ions and electrons generated in the discharge space 4 are prevented from being discharged.
Direct contact with can be prevented. As a result, wear of the discharge sustaining electrode 12 can be prevented. The dielectric layer 14 has a memory function of accumulating wall charges generated in the address period and maintaining a discharge state, and a function of a resistor that limits an excessive discharge current.

【００３１】誘電体層１４の放電空間側表面に形成して
ある保護層１５は、誘電体層１４を保護し、イオンや電
子と放電維持電極との直接接触を防止する作用を奏す
る。その結果、放電維持電極１２および誘電体層１４の
磨耗を効果的に防ぐことができる。また、保護層１５
は、放電に必要な２次電子を放出する機能も有する。保
護層１５を構成する材料として、酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化カル
シウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を例示
することができる。中でも酸化マグネシウムは、化学的
に安定であり、スパッタリング率が低く、蛍光体層の発
光波長における光透過率が高く、放電開始電圧が低い等
の特色を有する好適な材料である。なお、保護層１５
を、これらの材料から成る群から選択された少なくとも
２種類の材料から構成された積層膜構造としてもよい。The protective layer 15 formed on the surface of the dielectric layer 14 on the discharge space side has a function of protecting the dielectric layer 14 and preventing direct contact between ions and electrons and the discharge sustaining electrode. As a result, abrasion of the sustaining electrode 12 and the dielectric layer 14 can be effectively prevented. In addition, the protective layer 15
Also has a function of emitting secondary electrons necessary for discharging. As a material forming the protective layer 15, magnesium oxide (M
Examples thereof include gO), magnesium fluoride (MgF ₂ ), calcium fluoride (CaF ₂ ), and lithium fluoride (LiF). Among them, magnesium oxide is a suitable material having features such as chemical stability, a low sputtering rate, a high light transmittance at the emission wavelength of the phosphor layer, and a low discharge starting voltage. The protective layer 15
May have a laminated film structure composed of at least two kinds of materials selected from the group consisting of these materials.

【００３２】第１基板１１および第２基板２１の構成材
料として、高歪点ガラス、ソーダガラス（Ｎａ_２Ｏ・Ｃ
ａＯ・ＳｉＯ_２）、硼珪酸ガラス（Ｎａ_２Ｏ・Ｂ_２Ｏ_３
・ＳｉＯ_２）、フォルステライト（２ＭｇＯ・Ｓｉ
Ｏ_２）、鉛ガラス（Ｎａ_２Ｏ・ＰｂＯ・ＳｉＯ_２）を例
示することができる。第１基板１１と第２基板２１の構
成材料は、同じであっても異なっていてもよいが、熱膨
張係数が同じであることが望ましい。As a constituent material of the first substrate 11 and the second substrate 21, high strain point glass and soda glass (Na ₂ O.C) are used.
aO ・ SiO ₂ ), borosilicate glass (Na ₂ O ・ B ₂ O ₃
・ SiO ₂ ), forsterite (2MgO ・ Si
O _2), can be exemplified lead glass _{(Na 2 O · PbO · SiO} 2). The constituent materials of the first substrate 11 and the second substrate 21 may be the same or different, but it is desirable that they have the same coefficient of thermal expansion.

【００３３】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、たと
えば、赤色を発光する蛍光体層材料、緑色を発光する蛍
光体層材料および青色を発光する蛍光体層材料から成る
群から選択された蛍光体層材料から構成され、アドレス
電極２２の上方に設けられている。プラズマ表示装置が
カラー表示の場合、具体的には、たとえば、赤色を発光
する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（赤色蛍光体
層２５Ｒ）がアドレス電極２２の上方に設けられ、緑色
を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（緑色
蛍光体層２５Ｇ）が別のアドレス電極２２の上方に設け
られ、青色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光
体層（青色蛍光体層２５Ｂ）が更に別のアドレス電極２
２の上方に設けられており、これらの３原色を発光する
蛍光体層が１組となり、所定の順序に従って設けられて
いる。そして、前述したように、一対の放電維持電極１
２と、これらの３原色を発光する１組の蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂとが重複する領域が、１画素Ｐ１に
相当する。The phosphor layers 25R, 25G, 25B are, for example, phosphors selected from the group consisting of a phosphor layer material that emits red light, a phosphor layer material that emits green light, and a phosphor layer material that emits blue light. It is made of a layer material and is provided above the address electrode 22. When the plasma display device is a color display, specifically, for example, a phosphor layer (red phosphor layer 25R) made of a phosphor layer material that emits red light is provided above the address electrode 22 to display a green color. A phosphor layer (green phosphor layer 25G) composed of a phosphor layer material that emits light is provided above another address electrode 22, and a phosphor layer composed of a phosphor layer material that emits blue light (blue phosphor). Body layer 25B) is further address electrode 2
2 is provided above, and one set of phosphor layers that emit these three primary colors is provided in a predetermined order. Then, as described above, the pair of discharge sustaining electrodes 1
2 and a set of phosphor layers 25 that emit these three primary colors
An area where R, 25G, and 25B overlap corresponds to one pixel P1.

【００３４】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを構成す
る蛍光体層材料としては、従来公知の蛍光体層材料の中
から、量子効率が高く、真空紫外線に対する飽和が少な
い蛍光体層材料を適宜選択して用いることができる。カ
ラー表示を想定した場合、色純度がＮＴＳＣで規定され
る３原色に近く、３原色を混合した際の白バランスがと
れ、残光時間が短く、３原色の残光時間がほぼ等しくな
る蛍光体層材料を組み合わせることが好ましい。As the phosphor layer material forming the phosphor layers 25R, 25G, 25B, a phosphor layer material having a high quantum efficiency and a low saturation with respect to vacuum ultraviolet rays is appropriately selected from conventionally known phosphor layer materials. Can be used. In the case of color display, the color purity is close to the three primary colors specified by NTSC, the white balance is good when the three primary colors are mixed, the afterglow time is short, and the afterglow times of the three primary colors are almost equal. It is preferred to combine the layer materials.

【００３５】蛍光体層材料の具体的な例示を次に示す。
たとえば赤色に発光する蛍光体層材料として、（Ｙ_２Ｏ
_３：Ｅｕ），（ＹＢＯ_３Ｅｕ），（ＹＶＯ_４：Ｅｕ），
（Ｙ _０．９６Ｐ_０．６０Ｖ_０．４０Ｏ_４：Ｅ
ｕ_０．０４），［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ_３：Ｅｕ］，（Ｇｄ
ＢＯ_３：Ｅｕ），（ＳｃＢＯ_３：Ｅｕ），（３．５Ｍｇ
Ｏ・０．５ＭｇＦ_２・ＧｅＯ_２：Ｍｎ）、緑色に発光す
る蛍光体層材料として、（ＺｎＳｉＯ_２：Ｍｎ），（Ｂ
ａＡ１_１２Ｏ_１９：Ｍｎ），（ＢａＭｇ_２Ａ１_１６Ｏ
_２７：Ｍｎ），（ＭｇＧａ_２Ｏ_４：Ｍｎ），（ＹＢ
Ｏ_３：Ｔｂ），（ＬｕＢＯ_３：Ｔｂ），（Ｓｒ_４Ｓｉ_３
Ｏ_８Ｃｌ_４：Ｅｕ）、青色に発光する蛍光体層材料とし
て、（Ｙ_２ＳｉＯ_５：Ｃｅ），（ＣａＷＯ_４：Ｐｂ），
ＣａＷＯ_４，ＹＰ_０．８５Ｖ_０．１５Ｏ_４，（ＢａＭｇ
Ａ１_１４Ｏ_２３：Ｅｕ），（Ｓｒ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｅｕ），
（Ｓｒ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｓｎ）などが例示される。Specific examples of the phosphor layer material are shown below.
For example, as a phosphor layer material that emits red light, (Y_TwoO
_Three: Eu), (YBO_ThreeEu), (YVO_Four: Eu),
(Y _0.96P_0.60V_0.40O_Four: E
u_0.04), [(Y, Gd) BO_Three: Eu], (Gd
BO_Three: Eu), (ScBO_Three: Eu), (3.5Mg
O ・ 0.5MgF_Two・ GeO_Two: Mn), emits green light
As a phosphor layer material for_Two: Mn), (B
aA1₁₂O₁₉: Mn), (BaMg_TwoA1₁₆O
₂₇: Mn), (MgGa_TwoO_Four: Mn), (YB
O_Three: Tb), (LuBO_Three: Tb), (Sr_FourSi_Three
O₈Cl_Four: Eu), as a phosphor layer material that emits blue light
, (Y_TwoSiO₅: Ce), (CaWO_Four: Pb),
CaWO_Four, YP_0.85V_0.15O_Four, (BaMg
A1₁₄O₂₃: Eu), (Sr_TwoP_TwoO₇: Eu),
(Sr_TwoP_TwoO₇: Sn) and the like.

【００３６】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの形成方
法として、厚膜印刷法、蛍光体層粒子をスプレーする方
法、蛍光体層の形成予定部位に予め粘着性物質を付けて
おき、蛍光体層粒子を付着させる方法、感光性の蛍光体
層ペーストを使用し、露光および現像によって蛍光体層
をパターニングする方法、全面に蛍光体層を形成した後
に不要部をサンドブラスト法により除去する方法を挙げ
ることができる。As a method of forming the phosphor layers 25R, 25G and 25B, a thick film printing method, a method of spraying phosphor layer particles, an adhesive substance is previously attached to the site where the phosphor layer is to be formed, and the phosphor layer is formed. A method of attaching particles, a method of using a photosensitive phosphor layer paste, patterning the phosphor layer by exposure and development, and a method of forming a phosphor layer on the entire surface and then removing unnecessary portions by sandblasting You can

【００３７】なお、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは
アドレス電極２２の上に直接形成されていてもよい。あ
るいはまた、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、アド
レス電極２２上に設けられた絶縁体膜２３上に形成され
ていてもよいし、アドレス電極２２上に設けられた絶縁
体膜２３を覆うように隔壁リブ２４の側壁面上に亘って
形成されていてもよい。更には、蛍光体層２５Ｒ，２５
Ｇ，２５Ｂは、隔壁リブ２４の側壁面上にのみ形成され
ていてもよい。絶縁体膜２３の構成材料として、たとえ
ば低融点ガラスやＳｉＯ_２ を挙げることができる。The phosphor layers 25R, 25G, 25B may be directly formed on the address electrodes 22. Alternatively, the phosphor layers 25R, 25G, 25B may be formed on the insulator film 23 provided on the address electrode 22, or may cover the insulator film 23 provided on the address electrode 22. It may be formed over the side wall surface of the partition rib 24. Furthermore, the phosphor layers 25R, 25
G and 25B may be formed only on the side wall surface of the partition rib 24. Examples of the constituent material of the insulator film 23 include low melting point glass and SiO ₂ .

【００３８】本実施形態では、隔壁リブ２４は、図１〜
図４に示すように、ストライプ形状であり、図１に示す
ように、アドレス電極２２の間に位置するように、アド
レス電極２２と略平行に配置してある。本実施形態で
は、各隔壁リブ２４の幅Ｗ４は、特に限定されないが、
好ましくは３０〜１００μｍ、さらに好ましくは３０〜
６０μｍ程度である。In the present embodiment, the partition rib 24 has a structure shown in FIGS.
As shown in FIG. 4, it has a stripe shape, and as shown in FIG. 1, it is arranged substantially parallel to the address electrodes 22 so as to be located between the address electrodes 22. In the present embodiment, the width W4 of each partition rib 24 is not particularly limited,
Preferably 30-100 μm, more preferably 30-
It is about 60 μm.

【００３９】本実施形態では、隔壁リブ２４の高さは、
図３に示すように、放電空間４の深さＨ１が、３５０μ
ｍ以上６００μｍ以下となるように決定される。また、
放電空間４の幅Ｗ３は、１００〜５００μｍ程度であ
る。In the present embodiment, the height of the partition rib 24 is
As shown in FIG. 3, the depth H1 of the discharge space 4 is 350 μm.
It is determined so as to be not less than m and not more than 600 μm. Also,
The width W3 of the discharge space 4 is about 100 to 500 μm.

【００４０】上述したパターンを持つ隔壁リブ２４の構
成材料として、従来公知の絶縁材料を使用することがで
き、たとえば広く用いられている低融点ガラスにアルミ
ナ等の金属酸化物を混合した材料を用いることができ
る。As a constituent material of the rib rib 24 having the above-mentioned pattern, a conventionally known insulating material can be used. For example, a widely used low melting point glass mixed with a metal oxide such as alumina is used. be able to.

【００４１】なお、本実施形態では、隔壁リブ２４の全
体を黒色または黒色に近い色にして、いわゆるブラック
・マトリックスを形成し、表示画面における高コントラ
スト化を図っても良い。隔壁リブ２４を黒くする方法と
して、黒色または黒色に近い色の着色顔料が含有された
隔壁リブ材料を用いて隔壁リブを形成する方法を例示す
ることができる。黒色系の着色顔料としては、鉄、マン
ガン、クロムなどの金属酸化物が例示される。In the present embodiment, the partition ribs 24 may be entirely black or a color close to black to form a so-called black matrix to increase the contrast on the display screen. As a method of making the partition ribs 24 black, a method of forming partition ribs by using a partition rib material containing a coloring pigment of black or a color close to black can be exemplified. Examples of black color pigments include metal oxides such as iron, manganese, and chromium.

【００４２】本実施形態では、図３に示すように、各ア
ドレス電極２２は、放電空間４の底部に配置してある電
極底部２２ａと、この電極底部２２ａと一体に形成され
て隔壁リブ２４の少なくとも何れか一方の側壁面にまで
延びている電極側壁部ｂとを有する。なお、図示する例
では、放電空間４の両側に位置する隔壁リブ２４の側壁
面の双方に延びる一対の電極側壁部２２ｂを各アドレス
電極２２が有している。In this embodiment, as shown in FIG. 3, each address electrode 22 is formed integrally with the electrode bottom 22a disposed at the bottom of the discharge space 4 and the partition rib 24. And an electrode side wall portion b extending to at least one of the side wall surfaces. In the illustrated example, each address electrode 22 has a pair of electrode side wall portions 22b extending on both side wall surfaces of the rib ribs 24 located on both sides of the discharge space 4.

【００４３】電極側壁部２２ｂの高さＨ２は、隔壁リブ
２４の高さの１０〜１００％の高さを有する。アドレス
電極２２に電極側壁部２２ｂを形成することで、放電空
間４の深さＨ１が深くても、アドレス電極２２と放電維
持電極１２（バス電極１３含む）との距離Ｈ３が近くな
り、放電の際のアドレシングが容易になる。The height H2 of the electrode side wall portion 22b is 10 to 100% of the height of the partition rib 24. By forming the electrode side wall portion 22b on the address electrode 22, even if the depth H1 of the discharge space 4 is deep, the distance H3 between the address electrode 22 and the discharge sustaining electrode 12 (including the bus electrode 13) becomes short, and the discharge When addressing becomes easier.

【００４４】隔壁リブ２４によって囲まれた放電空間４
の内部に、混合ガスから成る放電ガスが封入されてお
り、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、放電空間４内
の放電ガス中で生じた交流グロー放電に基づき発生した
紫外線に照射されて発光する。Discharge space 4 surrounded by partition ribs 24
A discharge gas composed of a mixed gas is sealed inside the fluorescent substance layers 25R, 25G, and 25B, and the fluorescent layers 25R, 25G, and 25B emit light by being irradiated with ultraviolet rays generated based on the AC glow discharge generated in the discharge gas in the discharge space 4. To do.

【００４５】プラズマ表示装置の製造方法 次に、本発明の実施形態に係るプラズマ表示装置の製造
方法について説明する。 第１パネル１０は、以下の方
法で作製することができる。先ず、高歪点ガラスやソー
ダガラスから成る第１基板１１の全面にたとえばスパッ
タリング法によりＩＴＯ層を形成し、フォトリソグラフ
ィ技術およびエッチング技術によりＩＴＯ層をストライ
プ状にパターニングすることによって、一対の放電維持
電極１２を、複数、形成する。放電維持電極１２は、第
１方向Ｘに延びている。 Manufacturing Method of Plasma Display Device Next, a manufacturing method of the plasma display device according to the embodiment of the present invention will be described. The first panel 10 can be manufactured by the following method. First, an ITO layer is formed on the entire surface of the first substrate 11 made of high strain point glass or soda glass by, for example, a sputtering method, and the ITO layer is patterned into stripes by a photolithography technique and an etching technique to maintain a pair of discharges. A plurality of electrodes 12 are formed. The discharge sustaining electrode 12 extends in the first direction X.

【００４６】次に、第１基板１１の内面全面に、たとえ
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成する。その後、バス
電極１３が形成された第１基板１１の内面全面にシリコ
ン酸化物（ＳｉＯ_２ ）層から成る誘電体層１４を形成
する。Next, an aluminum film is formed on the entire inner surface of the first substrate 11 by, for example, a vapor deposition method, and the aluminum film is patterned by a photolithography technique and an etching technique, whereby each discharge sustaining electrode 12 is formed.
The bus electrodes 13 are formed along the edges of the. Then, a dielectric layer 14 made of a silicon oxide (SiO ₂ ) layer is formed on the entire inner surface of the first substrate 11 on which the bus electrode 13 is formed.

【００４７】本実施形態では、誘電体層１４の形成の形
成方法は特に限定されず、電子ビーム蒸着法やスパッタ
法、蒸着法、スクリーン印刷法等が例示される。次に、
誘電体層１４の上に、電子ビーム蒸着法またはスパッタ
リング法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯ）から成る保護層１５を形成する。以上の工程によ
り第１パネル１０を完成することができる。In this embodiment, the method for forming the dielectric layer 14 is not particularly limited, and an electron beam vapor deposition method, a sputtering method, a vapor deposition method, a screen printing method, etc. are exemplified. next,
On the dielectric layer 14, a 0.6 μm thick magnesium oxide (M
A protective layer 15 made of gO) is formed. The first panel 10 can be completed through the above steps.

【００４８】また、第２パネル２０を以下の方法で作製
する。まず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、図５（Ａ）および図５（Ｂ）に示すよ
うに、たとえばストライプパターンの隔壁リブ２４を形
成する。この時の形成方法は、特に限定されず、たとえ
ばスクリーン印刷法、サンドブラスト法、ドライフィル
ム法、感光法などを例示することができる。ドライフィ
ルム法とは、基板上に感光性フィルムをラミネートし、
露光および現像によって隔壁リブ形成予定部位の感光性
フィルムを除去し、除去によって生じた開口部に隔壁リ
ブ形成用の材料を埋め込み、焼成する方法である。感光
性フィルムは焼成によって燃焼、除去され、開口部に埋
め込まれた隔壁リブ形成用の材料が残り、隔壁リブ２４
となる。感光法とは、基板上に感光性を有する隔壁リブ
形成用の材料層を形成し、露光および現像によってこの
材料層をパターニングした後、焼成を行う方法である。
焼成（隔壁リブ焼成工程）は、空気中で行い、焼成温度
は、５６０°Ｃ程度である。焼成時間は、１０分程度
（ピーク値で）である。The second panel 20 is manufactured by the following method. First, the second made of high strain point glass and soda glass
As shown in FIGS. 5A and 5B, partition ribs 24 having a stripe pattern, for example, are formed on the substrate 21 of FIG. The forming method at this time is not particularly limited, and examples thereof include a screen printing method, a sandblast method, a dry film method, and a photosensitive method. With the dry film method, a photosensitive film is laminated on the substrate,
This is a method in which the photosensitive film in the region where ribs are to be formed is removed by exposure and development, a material for forming ribs is embedded in the opening formed by the removal, and then baked. The photosensitive film is burned and removed by firing, and the partition rib forming material embedded in the opening remains.
Becomes The photosensitive method is a method in which a material layer for forming partition ribs having photosensitivity is formed on a substrate, the material layer is patterned by exposure and development, and then firing is performed.
The firing (partition rib firing step) is performed in air, and the firing temperature is about 560 ° C. The firing time is about 10 minutes (at the peak value).

【００４９】次に、図５（Ｃ）に示すように、隔壁リブ
２４が形成された第２基板２１の表面に、たとえば蒸着
法によりアルミニウムなどの金属膜１２２を形成し、図
５（Ｄ）に示すように、フォトリソグラフィ技術および
エッチング技術によりパターニングすることで、アドレ
ス電極２２を形成する。アドレス電極２２は、隔壁リブ
２４の間に位置する第２基板２１の内面に形成される底
壁電極部２２ａと、隔壁リブ２４の両側壁面にまで延び
る側壁電極部２２ｂとを有し、隔壁リブ２４の長手方向
に沿って形成される。隔壁リブ２４の頂部に蒸着された
アルミニウム膜１２２は、エッチングまたはポリシング
により除去される。Next, as shown in FIG. 5C, a metal film 122 of aluminum or the like is formed on the surface of the second substrate 21 on which the partition ribs 24 are formed, for example, by an evaporation method, and then, FIG. As shown in FIG. 5, the address electrode 22 is formed by patterning by the photolithography technique and the etching technique. The address electrode 22 has a bottom wall electrode portion 22 a formed on the inner surface of the second substrate 21 located between the partition ribs 24 and side wall electrode portions 22 b extending to both side wall surfaces of the partition rib 24. It is formed along the longitudinal direction of 24. The aluminum film 122 deposited on the tops of the partition ribs 24 is removed by etching or polishing.

【００５０】その後、図５（Ｄ）に示すように、第２基
板２１の内面に、たとえばスクリーン印刷法により全面
に低融点ガラスペースト層を形成し、この低融点ガラス
ペースト層を焼成することによって、リブ２４および電
極２２の表面を覆う絶縁体膜２３を形成する。Thereafter, as shown in FIG. 5D, a low melting point glass paste layer is formed on the entire inner surface of the second substrate 21 by, for example, a screen printing method, and the low melting point glass paste layer is baked. An insulator film 23 that covers the surfaces of the ribs 24 and the electrodes 22 is formed.

【００５１】その後、第２基板２１に形成された隔壁リ
ブ２４の間に位置する絶縁体膜２３上に、３原色の蛍光
体層スラリーを順次印刷する。その後、この第２基板２
１を、焼成炉内で焼成し、隔壁リブ２４の間の絶縁体膜
上から隔壁リブ２４の側壁面上に亘って、蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成する。その時の焼成（蛍光体
焼成工程）温度は、たとえば５１０°Ｃ程度である。焼
成時間は、約１０分程度である。After that, the phosphor layer slurries of the three primary colors are sequentially printed on the insulator film 23 located between the partition ribs 24 formed on the second substrate 21. Then, this second substrate 2
No. 1 is fired in a firing furnace, and the phosphor layer 25 is spread over the insulating film between the partition ribs 24 to the side wall surface of the partition ribs 24.
R, 25G and 25B are formed. The firing (fluorescent substance firing step) temperature at that time is, for example, about 510 ° C. The firing time is about 10 minutes.

【００５２】なお、図５（Ａ）〜図５（Ｄ）に示す工程
は、図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示す工程で置き換えても
良い。すなわち、図６（Ａ）に示すように、第２基板２
１の内面に、後で形成される隔壁リブ２４の間に位置す
るパターンで、たとえば蒸着法によりアルミニウムなど
の金属膜２２２を形成し、その後、図６（Ｂ）に示すよ
うに、隔壁リブ２４を形成する。そして、第２基板２１
の内面に形成された所定パターンの金属膜２２２を、メ
ッキ法などで成長させ、図６（Ｃ）に示すように、隔壁
リブ２４の側壁面まで延びるアドレス電極を形成する。
その後は、図５（Ｅ）に示す工程と同様である。このよ
うな方法によっても、比較的に高い隔壁リブ２４と、隔
壁リブ２４の側壁面まで延びるアドレス電極２２とを持
つ第２パネル２０を形成することができる。Note that the steps shown in FIGS. 5A to 5D may be replaced with the steps shown in FIGS. 6A to 6C. That is, as shown in FIG. 6A, the second substrate 2
A metal film 222 of aluminum or the like is formed on the inner surface of No. 1 in a pattern located between partition ribs 24 to be formed later by, for example, a vapor deposition method, and thereafter, as shown in FIG. To form. Then, the second substrate 21
A metal film 222 having a predetermined pattern formed on the inner surface of the is grown by a plating method or the like to form an address electrode extending to the side wall surface of the partition rib 24 as shown in FIG. 6C.
After that, the process is the same as that shown in FIG. Also by such a method, the second panel 20 having the relatively high partition ribs 24 and the address electrodes 22 extending to the side wall surfaces of the partition ribs 24 can be formed.

【００５３】次に、プラズマ表示装置の組み立てを行
う。先ず、たとえばスクリーン印刷により、第２パネル
２０の周縁部にシール層を形成する。次に、第１パネル
１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成してシール
層を硬化させる。その後、第１パネル１０と第２パネル
２０との間に形成された空間を排気した後、放電ガスを
封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置２を完
成させる。Next, the plasma display device is assembled. First, a seal layer is formed on the peripheral portion of the second panel 20 by screen printing, for example. Next, the first panel 10 and the second panel 20 are bonded together and fired to cure the seal layer. After that, the space formed between the first panel 10 and the second panel 20 is evacuated, then the discharge gas is filled, and the space is sealed to complete the plasma display device 2.

【００５４】かかる構成を有するプラズマ表示装置の交
流グロー放電動作の一例を説明する。先ず、たとえば、
全ての一方の放電維持電極１２に、放電開始電圧Ｖｂｄ
よりも高いパネル電圧を短時間印加する。これによって
グロー放電が生じ、双方の放電維持電極１２の近傍の誘
電体層１４の表面に相互に反対極の電荷が付着して、壁
電荷が蓄積し、見掛けの放電開始電圧が低下する。その
後、アドレス電極２２に電圧を印加しながら、表示をさ
せない放電セルに含まれる一対の放電維持電極のうちの
一方の放電維持電極１２に電圧を印加することによっ
て、アドレス電極２２と当該一方の放電維持電極１２と
の間にグロー放電を生じさせ、蓄積された壁電荷を消去
する。この消去放電を各アドレス電極２２において順次
実行する。一方、表示をさせる放電セルに含まれる一対
のうちの一方の放電維持電極には電圧を印加しない。こ
れによって、壁電荷の蓄積を維持する。その後、全ての
一対の放電維持電極１２間に所定のパルス電圧を印加す
ることによって、壁電荷が蓄積されていたセルにおいて
は一対の放電維持電極１２の間でグロー放電が開始し、
放電セルにおいては、放電空間内における放電ガス中で
のグロー放電に基づき発生した真空紫外線の照射によっ
て励起された蛍光体層が、蛍光体層材料の種類に応じた
特有の発光色を呈する。なお、一対のうちの一方の放電
維持電極と他方の放電維持電極に印加される放電維持電
圧の位相は半周期ずれており、電極の極性は交流の周波
数に応じて反転する。An example of the AC glow discharge operation of the plasma display device having such a configuration will be described. First, for example,
The discharge start voltage Vbd is applied to all one of the sustaining electrodes 12.
A higher panel voltage is applied for a short time. As a result, glow discharge occurs, charges of opposite polarities are attached to the surface of the dielectric layer 14 in the vicinity of both discharge sustaining electrodes 12, wall charges are accumulated, and the apparent discharge start voltage is lowered. Thereafter, while applying a voltage to the address electrode 22, by applying a voltage to one of the sustain electrodes 12 of the pair of sustain electrodes included in the discharge cells that are not to be displayed, the address electrode 22 and one of the discharge sustain electrodes are discharged. Glow discharge is generated between the storage electrode 12 and the sustain electrode 12 to erase the accumulated wall charges. This erase discharge is sequentially executed at each address electrode 22. On the other hand, no voltage is applied to one of the sustain electrodes included in the discharge cell for displaying. This maintains the accumulation of wall charges. After that, by applying a predetermined pulse voltage between all the pair of discharge sustain electrodes 12, glow discharge is started between the pair of discharge sustain electrodes 12 in the cell in which the wall charges are accumulated,
In the discharge cell, the phosphor layer excited by the irradiation of vacuum ultraviolet rays generated based on the glow discharge in the discharge gas in the discharge space exhibits a peculiar emission color according to the kind of the phosphor layer material. Note that the phases of the discharge sustaining voltages applied to one of the pair of discharge sustaining electrodes and the other of the pair of discharge sustaining electrodes are shifted by a half cycle, and the polarities of the electrodes are inverted according to the AC frequency.

【００５５】本実施形態のプラズマ表示装置２では、放
電空間４の深さＨ１を３５０〜６００μｍ程度に深くし
てあるために、コプレーナー型の放電維持電極１２の電
極ギャップＷ１から、深さ方向に約３００〜３５０μｍ
離れた空間に、最も高い強度のプラズマ発光領域が表
れ、その発光が抑制されることがない。したがって、本
実施形態では、放電によって発生するプラズマを最大限
に有効利用し、プラズマ表示装置２における輝度の向上
を図ることが可能になる。In the plasma display device 2 of the present embodiment, since the depth H1 of the discharge space 4 is deepened to about 350 to 600 μm, the depth H1 is increased from the electrode gap W1 of the coplanar discharge sustaining electrode 12. About 300-350 μm
The highest intensity plasma emission region appears in the distant space, and the emission is not suppressed. Therefore, in the present embodiment, the plasma generated by the discharge can be effectively utilized to the maximum extent, and the brightness in the plasma display device 2 can be improved.

【００５６】しかも本実施形態では、アドレス電極２２
に電極側壁部２２ｂを形成することで、放電空間４の深
さＨ１が深くても、アドレス電極２２と放電維持電極１
２（バス電極１３含む）との距離が近くなり、アドレス
電極２２による放電維持または放電消去のアドレシング
が容易になる。Moreover, in this embodiment, the address electrode 22 is used.
By forming the electrode side wall portion 22b on the electrode 22, even if the depth H1 of the discharge space 4 is deep, the address electrode 22 and the discharge sustaining electrode 1 are formed.
2 (including the bus electrode 13) becomes closer, and the address sustaining or discharge erasing by the address electrode 22 becomes easier.

【００５７】（第２実施形態）図７に示すように、本実
施形態に係るプラズマ表示装置２ａは、図１〜図６に示
すプラズマ表示装置２の変形例であり、共通する部材に
は共通する符号を付し、その説明は一部省略する。以下
の説明では、図１〜図６に示すプラズマ表示装置２と異
なる部分について重点的に説明する。(Second Embodiment) As shown in FIG. 7, a plasma display device 2a according to this embodiment is a modification of the plasma display device 2 shown in FIGS. 1 to 6, and common members are common. , And the description thereof is partially omitted. In the following description, the parts different from the plasma display device 2 shown in FIGS. 1 to 6 will be mainly described.

【００５８】本実施形態では、第２パネル２０ａの第２
基板２１に形成される隔壁リブ２４の高さを従来と同様
な高さとしている。その代わりに、第１パネル１０ａの
内面に形成される誘電体層１４の内面に、隔壁リブ２４
と略同じ位置に、隔壁リブ１２４を形成し、これらの隔
壁リブ２４および１２４の組合せにより、放電空間４の
深さＨ１を３５０〜６００μｍに確保している。In the present embodiment, the second panel 20a has the second
The height of the partition ribs 24 formed on the substrate 21 is the same as the conventional one. Instead, the partition ribs 24 are formed on the inner surface of the dielectric layer 14 formed on the inner surface of the first panel 10a.
A partition rib 124 is formed at substantially the same position as, and the depth H1 of the discharge space 4 is secured to 350 to 600 μm by the combination of these partition ribs 24 and 124.

【００５９】本実施形態のプラズマ表示装置２ａにあっ
ても、図１〜図６に示すプラズマ表示装置２と同様な作
用効果を奏する。しかも本実施形態では、各パネル１０
ａおよび２０ａの内側に隔壁リブ２４および１２４を形
成するために、放電空間４の深さＨ１が深くとも、各隔
壁リブ２４および１２４の高さが、それほどに高くなら
ず、その製造が容易である。The plasma display device 2a of the present embodiment also has the same effects as the plasma display device 2 shown in FIGS. Moreover, in this embodiment, each panel 10
Since the ribs 24 and 124 are formed inside the a and 20a, even if the depth H1 of the discharge space 4 is deep, the heights of the ribs 24 and 124 are not so high, and the manufacture thereof is easy. is there.

【００６０】（その他の実施形態）なお、本発明は、上
述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範
囲内で種々に改変することができる。たとえば、本発明
では、プラズマ表示装置の具体的な構造は、図１〜図７
に示す実施形態に限定されず、その他の構造であっても
良い。(Other Embodiments) The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be variously modified within the scope of the present invention. For example, in the present invention, the specific structure of the plasma display device is as shown in FIGS.
However, the structure is not limited to the embodiment shown in FIG.

【００６１】[0061]

【実施例】以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づ
き説明するが、本発明は、これら実施例に限定されな
い。EXAMPLES The present invention will be described below based on more detailed examples, but the present invention is not limited to these examples.

【００６２】実施例１ 放電空間４の深さＨ１とプラズマ発光の強度との関係を
調べるために、図８に示すように、コプレーナー型の一
対の放電維持電極１２ａが放電ギャップＷ１で配置され
た第１基板１１ａと、溝１０４により形成された深さＨ
１の放電空間４を持つ第２基板２１ａとを、フリットガ
ラスにより張り合わせたプラズマ発光装置を実験的に試
作した。 Example 1 In order to investigate the relationship between the depth H1 of the discharge space 4 and the intensity of plasma emission, as shown in FIG. 8, a pair of coplanar discharge sustaining electrodes 12a were arranged with a discharge gap W1. The depth H formed by the first substrate 11a and the groove 104
A plasma light emitting device in which the second substrate 21a having the discharge space 4 of 1 was bonded by frit glass was experimentally manufactured.

【００６３】これらの基板１１ａおよび２１ａとして
は、高歪点ガラスで構成されたものを用いた。放電維持
電極１２ａとしては、アルミニウム蒸着膜を用いた。放
電空間４には、実質的に純度１００％のＸｅガスを３０
ｋＰａで封入した。As the substrates 11a and 21a, those made of high strain point glass were used. An aluminum vapor deposition film was used as the discharge sustaining electrode 12a. In the discharge space 4, 30% Xe gas having a purity of substantially 100% is used.
It was sealed at kPa.

【００６４】電極ギャップＷ１は、２０μｍであり、放
電空間４の深さＨ１は、５００μｍであった。放電空間
４の溝幅は、４４６μｍであった。放電維持電極１２ａ
間に、２５０Ｖおよび３２ｋＨｚの矩形波を印加した。
その結果、図９に示すように、プラズマ発光が観察され
た。The electrode gap W1 was 20 μm, and the depth H1 of the discharge space 4 was 500 μm. The groove width of the discharge space 4 was 446 μm. Discharge sustaining electrode 12a
In between, a square wave of 250 V and 32 kHz was applied.
As a result, plasma emission was observed as shown in FIG.

【００６５】また、図９のＡ−Ｂ線に沿って、プラズマ
発光の強度を、測定装置（浜松ホトニクス社製１ＣＣＤ
カメラ（ＣＣ４０７８−０１ＭＯＤ＋Ｃ６５８８））に
より測定した結果を、図１０に示す。図１０において、
横軸は、放電維持電極１２ａから放電空間４の深さ方向
に沿った距離であり、縦軸は、プラズマ発光の強度を、
測定装置のスケールで表した値である。図１０に示すよ
うに、放電空間４の幅方向の中央位置において、発光強
度のピークは、放電維持電極から深さ方向に３００〜３
５０μｍの位置に表れることが確認できた。A plasma emission intensity was measured along a line AB in FIG. 9 by a measuring device (1CCD manufactured by Hamamatsu Photonics KK).
The result measured by the camera (CC4078-01MOD + C6588) is shown in FIG. In FIG.
The horizontal axis represents the distance from the discharge sustaining electrode 12a along the depth direction of the discharge space 4, and the vertical axis represents the intensity of plasma emission.
It is a value represented by the scale of the measuring device. As shown in FIG. 10, at the central position of the discharge space 4 in the width direction, the peak of the emission intensity is 300 to 3 in the depth direction from the discharge sustaining electrode.
It was confirmed that it appeared at a position of 50 μm.

【００６６】実施例２ 放電空間４に封入する放電ガスの封入圧力を２０ｋＰａ
に設定した以外は、実施例１と同様にして、プラズマ発
光を行った。プラズマ発光の写真を図１１に示し、発光
強度を図１２に示す。図１２に示すように、放電空間４
の幅方向の中央位置において、発光強度のピークは、放
電維持電極から深さ方向に３００〜３５０μｍの位置に
表れることが確認できた。 Example 2 The filling pressure of the discharge gas filled in the discharge space 4 was 20 kPa.
Plasma emission was performed in the same manner as in Example 1 except that the above was set. A photograph of plasma emission is shown in FIG. 11 and emission intensity is shown in FIG. As shown in FIG. 12, the discharge space 4
It was confirmed that the peak of the emission intensity appeared at the position of 300 to 350 μm in the depth direction from the discharge sustaining electrode at the center position in the width direction.

【００６７】実施例３ 放電空間４に封入する放電ガスの封入圧力を１０ｋＰａ
に設定した以外は、実施例１と同様にして、プラズマ発
光を行った。プラズマ発光の写真を図１３に示し、発光
強度を図１４に示す。図１４に示すように、放電空間４
の幅方向の中央位置において、発光強度のピークは、放
電維持電極から深さ方向に３００〜３５０μｍの位置に
表れることが確認できた。 Example 3 The filling pressure of the discharge gas filled in the discharge space 4 was 10 kPa.
Plasma emission was performed in the same manner as in Example 1 except that the above was set. A photograph of plasma emission is shown in FIG. 13, and emission intensity is shown in FIG. As shown in FIG. 14, the discharge space 4
It was confirmed that the peak of the emission intensity appeared at the position of 300 to 350 μm in the depth direction from the discharge sustaining electrode at the center position in the width direction.

【００６８】比較例１ 放電空間４の深さＨ１を、２００μｍとした以外は、実
施例３と同様にして、プラズマ発光を行った。プラズマ
発光の写真を図１５に示し、発光強度を図１６および図
１７に示す。なお、図１７において、横軸は、図８にお
ける溝１０４の一方の側壁Ｃからの距離を示し、縦軸
は、図１６と同様な発光強度である。図１５および図１
７に示すように、プラズマ発光の強度が、溝の深さ方向
と垂直な幅方向に偏っていることが分かる。しかも、図
１７に示すように、比較例１では、発光強度のピーク
が、溝深さ以外は同じ条件の実施例３の図１４に比べ
て、低いことが確認された。 Comparative Example 1 Plasma emission was carried out in the same manner as in Example 3 except that the depth H1 of the discharge space 4 was set to 200 μm. A photograph of plasma emission is shown in FIG. 15, and emission intensity is shown in FIGS. 16 and 17. Note that in FIG. 17, the horizontal axis represents the distance from one side wall C of the groove 104 in FIG. 8, and the vertical axis represents the same emission intensity as in FIG. 15 and 1
As shown in FIG. 7, it can be seen that the intensity of plasma emission is biased in the width direction perpendicular to the groove depth direction. Moreover, as shown in FIG. 17, in Comparative Example 1, it was confirmed that the peak of the emission intensity was lower than that in Example 3 of Example 3 under the same conditions except for the groove depth.

【００６９】比較例２ 放電空間４の深さＨ１を、１００μｍとした以外は、実
施例３と同様にして、プラズマ発光を行った。プラズマ
発光の写真を図１８に示し、発光強度を図１９および図
２０に示す。なお、図２０において、横軸は、図８にお
ける溝１０４の一方の側壁Ｃからの距離を示し、縦軸
は、図１９と同様な発光強度である。図１８および図２
０に示すように、プラズマ発光の強度が、溝の深さ方向
と垂直な幅方向に偏っていることが分かる。しかも、図
２０に示すように、比較例２では、発光強度のピーク
が、溝深さ以外は同じ条件の実施例３の図１４に比べ
て、低いことが確認された。 Comparative Example 2 Plasma emission was performed in the same manner as in Example 3 except that the depth H1 of the discharge space 4 was 100 μm. A photograph of plasma emission is shown in FIG. 18, and emission intensity is shown in FIGS. 19 and 20. 20, the horizontal axis represents the distance from one side wall C of the groove 104 in FIG. 8, and the vertical axis represents the same emission intensity as in FIG. 18 and 2
As shown in 0, it can be seen that the intensity of plasma emission is biased in the width direction perpendicular to the groove depth direction. Moreover, as shown in FIG. 20, it was confirmed that in Comparative Example 2, the peak of the emission intensity was lower than that in FIG. 14 of Example 3 under the same conditions except for the groove depth.

【００７０】実施例４ 放電空間４に封入する放電ガスとして、Ｎｅ−Ｘｅ（４
％）を用い、封入圧力を６６．６ｋＰａに設定し、印加
電圧を２２０Ｖとした以外は、実施例１と同様にして、
プラズマ発光を行った。プラズマ発光の写真を図２１に
示し、発光強度を図２２に示す。 Example 4 As the discharge gas sealed in the discharge space 4, Ne-Xe (4
%), The filling pressure was set to 66.6 kPa, and the applied voltage was 220 V.
Plasma emission was performed. A photograph of plasma emission is shown in FIG. 21, and emission intensity is shown in FIG.

【００７１】評価 実施例１〜４に示す結果から、コプレーナー型の放電維
持電極の電極ギャップから、深さ方向に約３００〜３５
０μｍ離れた空間に、最も高い強度のプラズマ発光領域
が表れることが確認できた。 Evaluation From the results shown in Examples 1 to 4, about 300 to 35 in the depth direction from the electrode gap of the coplanar discharge sustaining electrode.
It was confirmed that the highest intensity plasma emission region appeared in the space 0 μm apart.

【００７２】また、実施例３と、溝深さ以外は同じ条件
の比較例１および２とを比較することで、次のことが確
認できた。すなわち、放電空間の深さＨ１を３５０μｍ
以上とすれば、面放電により生じたプラズマが深さ方向
に押さえ込まれることが無くなり、放電空間の幅方向へ
の発光部分の偏在もなくなることが確認できた。さら
に、本発明によれば、放電によって発生するプラズマの
ピーク強度が強くなり、輝度の向上が期待できることが
確認できた。Further, by comparing Example 3 with Comparative Examples 1 and 2 under the same conditions except for the groove depth, the following can be confirmed. That is, the depth H1 of the discharge space is 350 μm
With the above, it was confirmed that the plasma generated by the surface discharge was not suppressed in the depth direction and the uneven distribution of the light emitting portion in the width direction of the discharge space was also eliminated. Furthermore, according to the present invention, it was confirmed that the peak intensity of the plasma generated by the discharge is increased and the improvement of the brightness can be expected.

【００７３】さらにまた、実施例１〜３と実施例４とを
比較することで、放電ガスの種類を変えても同じ傾向が
見られることが確認できた。また、Ｎｅ−Ｘｅ（４％）
よりも、Ｘｅ（１００％）の方が、発光強度ピーク値が
高く、Ｘｅ（１００％）の放電ガスを用いることで、さ
らに輝度の向上が期待できることが確認できた。Furthermore, by comparing Examples 1 to 3 with Example 4, it was confirmed that the same tendency was observed even when the type of discharge gas was changed. Also, Ne-Xe (4%)
It was confirmed that Xe (100%) has a higher emission intensity peak value than that of Xe (100%), and further improvement in luminance can be expected by using the discharge gas of Xe (100%).

【００７４】[0074]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、放電によって発生するプラズマを最大限に有効利用
し、輝度の向上を図ることが可能なプラズマ表示装置を
提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide the plasma display device capable of maximally effectively utilizing the plasma generated by the discharge and improving the brightness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 図１は本発明の一実施形態に係るプラズマ表
示装置の要部概略分解斜視図である。FIG. 1 is a schematic exploded perspective view of essential parts of a plasma display device according to an embodiment of the present invention.

【図２】 図２は図１に示すII−II線に沿う要部断面図
である。FIG. 2 is a cross-sectional view of essential parts taken along the line II-II shown in FIG.

【図３】 図３は図１に示すIII−III線に沿う要部断面
図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of essential parts taken along the line III-III shown in FIG.

【図４】 図４は隔壁リブのパターンと放電維持電極と
の関係を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the relationship between the rib pattern and the discharge sustaining electrode.

【図５】 図５（Ａ）〜図５（Ｅ）は図１に示す第２パ
ネルの製造方法を示す要部断面図である。5 (A) to 5 (E) are cross-sectional views of relevant parts showing a method for manufacturing the second panel shown in FIG. 1.

【図６】 図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は図１に示す第２パ
ネルの他の製造方法を示す要部断面図である。6 (A) to 6 (C) are cross-sectional views of essential parts showing another manufacturing method of the second panel shown in FIG. 1.

【図７】 図７は本発明の他の実施形態に係るプラズマ
表示装置の要部断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a main part of a plasma display device according to another embodiment of the present invention.

【図８】 図８は本発明の効果を示す実験に用いる面放
電型プラズマ発生装置の要部断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of a main part of a surface discharge plasma generator used in an experiment showing the effect of the present invention.

【図９】 図９は図８に示す装置を用いてプラズマ発光
させた状態を示す写真である。9 is a photograph showing a state in which plasma light is emitted using the apparatus shown in FIG.

【図１０】 図１０は図９に示すＡ−Ｂ線に沿うプラズ
マ発光強度を示すグラフである。10 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG.

【図１１】 図１１は放電ガスの封入ガス圧力を変化さ
せてプラズマ発光させた状態を示す図９と同様な写真で
ある。FIG. 11 is a photograph similar to FIG. 9, showing a state where plasma gas is emitted by changing the pressure of the discharge gas that is enclosed.

【図１２】 図１２は図１１に示すＡ−Ｂ線に沿うプラ
ズマ発光強度を示すグラフである。12 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG.

【図１３】 図１３は放電ガスの封入ガス圧力を変化さ
せてプラズマ発光させた状態を示す図９と同様な写真で
ある。FIG. 13 is a photograph similar to FIG. 9, showing a state in which plasma gas is emitted by changing the pressure of the discharge gas.

【図１４】 図１４は図１３に示すＡ−Ｂ線に沿うプラ
ズマ発光強度を示すグラフである。FIG. 14 is a graph showing the plasma emission intensity along the line AB shown in FIG.

【図１５】 図１５は放電空間の溝深さを変化させてプ
ラズマ発光させた状態を示す図１３と同様な写真であ
る。FIG. 15 is a photograph similar to FIG. 13, showing a state in which the groove depth of the discharge space is changed to cause plasma emission.

【図１６】 図１６は図１５に示すＡ−Ｂ線に沿うプラ
ズマ発光強度を示すグラフである。16 is a graph showing the plasma emission intensity along the line AB shown in FIG.

【図１７】 図１７は図１５に示すＡ−Ｂ線と直角方向
に沿うプラズマ発光強度を示すグラフである。17 is a graph showing plasma emission intensity along a direction perpendicular to the line AB shown in FIG.

【図１８】 図１８は放電空間の溝深さを変化させてプ
ラズマ発光させた状態を示す図１３と同様な写真であ
る。FIG. 18 is a photograph similar to FIG. 13, showing a state in which the groove depth of the discharge space is changed to cause plasma emission.

【図１９】 図１９は図１８に示すＡ−Ｂ線に沿うプラ
ズマ発光強度を示すグラフである。19 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG.

【図２０】 図２０は図１８に示すＡ−Ｂ線と直角方向
に沿うプラズマ発光強度を示すグラフである。20 is a graph showing plasma emission intensity along a direction perpendicular to the line AB shown in FIG.

【図２１】 図２１は放電ガスの種類と封入圧力とを変
化させてプラズマ発光させた状態を示す図１３と同様な
写真である。FIG. 21 is a photograph similar to FIG. 13, showing a state in which plasma emission is performed by changing the type of discharge gas and the filling pressure.

【図２２】 図２２は図２１に示すＡ−Ｂ線に沿うプラ
ズマ発光強度を示すグラフである。FIG. 22 is a graph showing plasma emission intensity along the line AB shown in FIG. 21.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

２… プラズマ表示装置 ４… 放電空間 １０… 第１パネル １１… 第１基板 １２… 放電維持電極 １３… バス電極 １４… 誘電体層 １５… 保護層 ２０… 第２パネル ２１… 第２基板 ２２… アドレス電極 ２３… 絶縁体膜 ２４… 隔壁リブ ２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ… 蛍光体層 2 ... Plasma display device 4 ... Discharge space 10 ... First panel 11 ... First substrate 12 ... Discharge sustaining electrode 13 ... Bus electrode 14 ... Dielectric layer 15 ... Protective layer 20 ... Second panel 21 ... Second substrate 22 ... Address electrode 23 ... Insulator film 24 ... Partition rib 25R, 25G, 25B ... Phosphor layer

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 第１基板の内側に第１方向に沿って相互
に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、 前記放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形
成される誘電体層と、第２基板の内側に形成され、前記
第１基板と第２基板との間に、密封された放電空間を形
成するための隔壁リブとを有し、 前記第１基板から第２基板に向けての前記放電空間の深
さが、３５０μｍ以上であるプラズマ表示装置。1. A plurality of pairs of discharge sustaining electrodes, which are formed inside the first substrate substantially parallel to each other along a first direction, and formed inside the first substrate so as to cover the discharge sustaining electrodes. A dielectric layer and a rib rib formed inside the second substrate for forming a sealed discharge space between the first substrate and the second substrate. The plasma display device, wherein the depth of the discharge space toward the second substrate is 350 μm or more. 【請求項２】 前記放電空間の深さが３５０μｍ以上６
００μｍ以下である請求項１に記載のプラズマ表示装
置。2. The depth of the discharge space is 350 μm or more 6
The plasma display device according to claim 1, wherein the plasma display device has a thickness of 00 μm or less. 【請求項３】 前記第２基板の内側には、前記放電維持
電極と交差する方向に延びるアドレス電極が形成してあ
る請求項１または２に記載のプラズマ表示装置。3. The plasma display device according to claim 1, wherein an address electrode extending in a direction intersecting with the discharge sustaining electrode is formed inside the second substrate. 【請求項４】 前記アドレス電極は、前記放電空間の底
部に配置してある電極底部と、前記電極底部と一体に形
成されて前記隔壁リブの少なくとも何れか一方の側壁面
にまで延びている電極側壁部とを有する請求項３に記載
のプラズマ表示装置。4. The address electrode is formed integrally with the electrode bottom portion disposed at the bottom portion of the discharge space, and extends to at least one side wall surface of the partition rib. The plasma display device according to claim 3, further comprising a sidewall portion. 【請求項５】 前記電極側壁部の高さが、前記隔壁リブ
の高さの１０〜１００％の高さを有する請求項４に記載
のプラズマ表示装置。5. The plasma display device according to claim 4, wherein the height of the electrode side wall portion is 10 to 100% of the height of the partition rib. 【請求項６】 前記各対の放電維持電極間の放電ギャッ
プが、５０μｍ以下である請求項１〜５のいずれかに記
載のプラズマ表示装置。6. The plasma display device according to claim 1, wherein the discharge gap between the discharge sustain electrodes of each pair is 50 μm or less. 【請求項７】 前記放電空間には、実質的にキセノンが
１００％の放電ガスが封入してある請求項６に記載のプ
ラズマ表示装置。7. The plasma display device according to claim 6, wherein the discharge space is filled with a discharge gas containing substantially 100% xenon. 【請求項８】 前記放電維持電極が、透明電極であり、
各放電維持電極には、バス電極が長手方向に沿って接続
されている請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマ表
示装置。8. The discharge sustaining electrode is a transparent electrode,
The plasma display device according to claim 1, wherein a bus electrode is connected to each of the discharge sustaining electrodes along the longitudinal direction. 【請求項９】 前記放電維持電極およびバス電極を覆う
ように、前記第１基板の内側には、誘電体層が形成して
あり、前記誘電体層の内側に保護層が形成してある請求
項８に記載のプラズマ表示装置。9. A dielectric layer is formed inside the first substrate so as to cover the discharge sustaining electrodes and the bus electrodes, and a protective layer is formed inside the dielectric layer. Item 9. A plasma display device according to item 8.