JP2003144840A - Heating type harm elimination apparatus - Google Patents

Heating type harm elimination apparatus

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JP2003144840A
JP2003144840A JP2001342242A JP2001342242A JP2003144840A JP 2003144840 A JP2003144840 A JP 2003144840A JP 2001342242 A JP2001342242 A JP 2001342242A JP 2001342242 A JP2001342242 A JP 2001342242A JP 2003144840 A JP2003144840 A JP 2003144840A
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Japan
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heating
gas
heating type
abatement device
measured
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JP2001342242A
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Japanese (ja)
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Osayasu Tomita
修康 富田
Yoshiaki Sugimori
由章 杉森
Shuichi Koseki
修一 小関
Hirotaka Mangyo
大貴 万行
Hiroyuki Ono
宏之 小野
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Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
Original Assignee
Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heating type harm elimination apparatus which can promptly cope with a situation even when abnormalities occur in the measured temperature, or the like, of the heating type harm elimination apparatus, suppress temporal and monetary loss to the minimum extent, and properly carry out chemical replacement of a thermolysis type harm elimination apparatus. SOLUTION: This heating type harm elimination apparatus is provided with a means to measure the flow rate and pressure of a gas to be treated, the temperature and the weight of a pyrogenetic reaction cylinder, a detrimental constituent concentration in an exhaust gas, or the like, a means to store each measured value, a means to compare a measured value with each set value, and a means to transmit an e-mail including abnormality information on the measured values toward an e-mail address set in advance when an abnormality is observed in each measured value.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、加熱式除害装置に
関し、詳しくは、半導体製造工程や液晶製造工程で使用
されるシラン、アンモニア、亜酸化窒素、その他の各種
特殊材料ガスのような有害物質、また、人体への毒性は
明確ではないが、地球温暖化等の環境に対して悪影響を
及ぼす四フッ化メタン、六フッ化エタンのようなフッ素
化合物（ＰＦＣ：パーフルオロカーボン、パーフルオロ
コンパウンド）、両者の特性を有する三フッ化窒素等を
含む排ガスを除害処理するための加熱式除害装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heating type abatement apparatus, and more particularly, it is a harmful type of gas such as silane, ammonia, nitrous oxide, and various other special material gases used in semiconductor manufacturing processes and liquid crystal manufacturing processes. Fluorine compounds such as methane tetrafluoride and hexafluoroethane (PFC: perfluorocarbons, perfluoro compounds) that have adverse effects on the environment such as global warming, etc. The present invention relates to a heating type abatement device for abatement treatment of exhaust gas containing nitrogen trifluoride and the like having both properties.

【０００２】[0002]

【従来の技術】半導体工業プロセス、例えば、半導体製
造装置やＬＣＤ製造装置から排出される排ガス中には、
毒性ガス、腐食性ガス、可燃性ガス、地球環境に悪影響
を及ぼす不燃性ガスや支燃性ガス等の有害成分が含まれ
ているため、これらの有害成分の除害（無害化）処理を
行ってから排ガスを排出する必要がある。このような除
害処理装置として、常温での処理が困難な成分を処理す
るため、排ガスを加熱して有害成分を熱分解又は酸素等
と反応させて除害する加熱分解式除害装置や触媒分解式
除害装置が知られている。2. Description of the Related Art In an exhaust gas emitted from a semiconductor industrial process, for example, a semiconductor manufacturing apparatus or an LCD manufacturing apparatus,
Since harmful components such as toxic gas, corrosive gas, combustible gas, non-combustible gas that adversely affects the global environment, and combustion-supporting gas are included, detoxification (detoxification) of these harmful components is performed. After that, it is necessary to discharge the exhaust gas. As such an abatement treatment device, in order to treat a component that is difficult to treat at room temperature, a thermal decomposition type abatement device or a catalyst that heats exhaust gas to thermally decompose or react harmful components with oxygen or the like to remove harmful substances. Decomposition type abatement devices are known.

【０００３】加熱分解式除害装置、例えば三フッ化窒素
（ＮＦ３）用の加熱分解式除害装置は、ケイ素（Ｓｉ）
を充填した反応塔（加熱反応筒）と、アルカリ処理塔と
で構成されており、ヒーターによって約７００℃に加熱
された反応塔内でＮＦ３とＳｉとが反応し、有害なＮＦ
３とＳｉとが反応してＳｉＦ４とＮ２とが生成し、Ｓｉ
Ｆ４はアルカリ処理塔のアルカリ吸収剤に化学吸着によ
って除去処理される。ＰＦＣ類についても同様に、７０
０〜８００℃に加熱した反応塔内で所定の薬剤と反応
し、二酸化炭素が生成することによって化学的に固定処
理される。また、シラン、ホスフィン、六フッ化エタ
ン、三フッ化窒素等では、排ガスに酸素を添加して反応
塔内で１０００℃以上に加熱することにより、これらの
有害成分を熱酸化分解させて無害化処理することも行わ
れている。A thermal decomposition type abatement device, for example, a thermal decomposition type abatement device for nitrogen trifluoride (NF 3 ) is silicon (Si).
It is composed of a reaction tower (heated reaction tube) filled with and an alkali treatment tower, and NF 3 reacts with Si in the reaction tower heated to about 700 ° C. by a heater to cause harmful NF.
3 reacts with Si to generate SiF 4 and N 2 ,
F 4 is removed by chemical adsorption on the alkali absorbent in the alkali treatment tower. Similarly for PFCs, 70
In the reaction tower heated to 0 to 800 ° C., it reacts with a predetermined chemical agent to generate carbon dioxide, which is chemically fixed. With silane, phosphine, ethane hexafluoride, nitrogen trifluoride, etc., oxygen is added to the exhaust gas and heated to 1000 ° C. or higher in the reaction tower to thermally oxidize and decompose these harmful components to render them harmless. It is also being processed.

【０００４】また、前記触媒分解式除害装置、例えばア
ンモニア用の触媒分解式除害装置は、アンモニア以外の
成分を処理する前処理装置と、アンモニアを熱分解させ
る触媒を充填した加熱反応筒とで構成されており、加熱
反応筒内の触媒によってアンモニアを窒素と水素とに熱
分解させる。The catalytic decomposition type abatement device, for example, a catalytic decomposition type abatement device for ammonia, comprises a pretreatment device for treating components other than ammonia, and a heating reaction tube filled with a catalyst for thermally decomposing ammonia. The catalyst in the heating reaction tube thermally decomposes ammonia into nitrogen and hydrogen.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前述のような加熱分解
式除害装置の点検は、年数回行われる半導体製造装置等
の定期点検と同時に行うようにしており、前記Ｓｉ等の
薬剤（反応剤、吸収剤）は、この定期点検時に交換して
しまうケースが多い。しかし、除害装置の使用状況によ
っては、次回の定期点検時まで十分に使用可能な薬剤ま
でも交換してしまうことがあり、除害コストに与える影
響が大きかった。The above-mentioned thermal decomposition type abatement system is inspected at the same time as the periodic inspection of semiconductor manufacturing equipment, which is performed several times a year. , Absorbent) is often replaced during this periodic inspection. However, depending on the usage status of the abatement device, even a sufficiently usable chemical agent may be replaced by the time of the next periodic inspection, which has a large impact on the abatement cost.

【０００６】一方、除害装置の使用条件、例えば、流通
ガスの種類や濃度、流量等が変化すると、薬剤が早期に
破過するなどの何らかの異常が発生するおそれがあり、
除害装置に異常が発生した場合は、除害装置の運転を停
止させるだけでなく、半導体製造装置等も停止させなけ
ればならず、半導体製造メーカーにとって経済的に大き
な損失が生じてしまう。このような異常に対して早期に
対応するためには、除害装置を常時監視している必要が
あるが、各半導体製造装置等に対応して設けられている
数多くの除害装置を監視して運転状況を常時把握するの
は困難であり、各除害装置から発せられる警報等を察知
して初めて対策を打つというのが現状である。On the other hand, if the conditions of use of the abatement system, such as the type and concentration of the circulating gas, the flow rate, etc., change, some abnormalities such as the breakthrough of the drug at an early stage may occur.
When an abnormality occurs in the abatement device, not only the operation of the abatement device must be stopped, but also the semiconductor manufacturing device and the like must be stopped, which causes a large economical loss to the semiconductor manufacturer. In order to deal with such abnormalities at an early stage, it is necessary to constantly monitor the abatement device, but it is necessary to monitor a large number of abatement devices provided for each semiconductor manufacturing device. It is difficult to constantly grasp the operating status by taking action, and the current situation is that countermeasures are only taken after detecting an alarm or the like issued from each abatement device.

【０００７】そこで本発明は、加熱式除害装置における
測定温度等に異常が発生した場合でも迅速に対応するこ
とができ、時間的、金銭的なロスを最小限に抑えること
ができ、また、加熱分解式除害装置の薬剤交換も適切に
行うことができる加熱式除害装置を提供することを目的
としている。[0007] Therefore, the present invention can promptly deal with the case where an abnormality occurs in the measurement temperature or the like in the heating type abatement device, and can minimize the loss of time and money, and It is an object of the present invention to provide a heating-type abatement device that can appropriately exchange chemicals in a thermal decomposition-type abatement device.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の加熱式除害装置は、加熱反応筒内に導入し
た被処理ガスを加熱して被処理ガス中の有害成分の除害
処理を行う加熱式除害装置において、前記被処理ガスの
流量を測定する被処理ガス流量測定手段と、該被処理ガ
スの圧力を測定する被処理ガス圧力測定手段と、前記加
熱反応筒内の温度を測定する温度測定手段と、前記加熱
反応筒から導出した処理後の排出ガス中の有害成分濃度
を測定する出口濃度測定手段と、各測定手段で測定した
測定値を記憶する記憶手段と、各測定手段で測定した測
定値をあらかじめ設定された各設定値と比較する比較手
段と、該比較手段で比較した各測定値が各設定値から外
れたときに、あらかじめ設定されたメールアドレスに向
けて測定値異常情報を含む電子メールを送信する通信手
段とを備えていることを特徴としている。In order to achieve the above object, the heating type abatement device of the present invention is designed to heat a gas to be treated introduced into a heating reaction tube to remove harmful components in the gas to be treated. In the heating type abatement device for performing the treatment, the to-be-processed gas flow rate measuring means for measuring the flow rate of the to-be-treated gas, the to-be-treated gas pressure measuring means for measuring the pressure of the to-be-treated gas, and the inside of the heating reaction cylinder Temperature measuring means for measuring the temperature, outlet concentration measuring means for measuring the concentration of harmful components in the exhaust gas after treatment derived from the heating reaction tube, storage means for storing the measured value measured by each measuring means, A comparing means for comparing the measured value measured by each measuring means with each preset value, and when each measured value compared by the comparing means deviates from each set value, it is directed to a preset email address. Measured value abnormality information It is characterized in that it comprises a communicating means for sending the e-mail including.

【０００９】さらに、前記記憶手段は、各測定値を所定
時間間隔で経時的に記憶し、前記通信手段は、前記電子
メールの送信時に、記憶手段に記憶されている過去の測
定値を読込んで前記測定値異常情報と共に送信すること
を特徴としている。また、前記被処理ガスを前記加熱反
応筒に導入する被処理ガス導入経路又は前記加熱反応筒
に希釈ガスを導入する希釈ガス導入経路を備えるととも
に、前記被処理ガス導入経路及び希釈ガス導入経路にそ
れぞれ設けられている各導入弁の開閉を制御する弁制御
部を有し、前記記憶手段は、該弁制御部からの信号によ
って弁の開閉状態を記憶し、前記通信手段は、前記電子
メールの送信時に、記憶手段に記憶されている過去の弁
開閉状態を読込んで前記測定値異常情報と共に送信する
ことを特徴としている。Further, the storage means stores each measured value over time at predetermined time intervals, and the communication means reads the past measured values stored in the storage means when the electronic mail is transmitted. It is characterized in that it is transmitted together with the measured value abnormality information. In addition, a processing gas introducing path for introducing the processing gas into the heating reaction tube or a dilution gas introducing path for introducing a dilution gas into the heating reaction tube is provided, and the processing gas introducing path and the dilution gas introducing path are provided. Each of the storage units has a valve control unit that controls the opening and closing of each of the introduction valves, and the storage unit stores the opening and closing state of the valve in response to a signal from the valve control unit. At the time of transmission, the past valve opening / closing state stored in the storage means is read and transmitted together with the measured value abnormality information.

【００１０】前記通信手段は、特定の送信者から送信さ
れた電子メールを受信したときに、該電子メールに記載
された弁の開閉情報を前記弁制御部に伝達し、該弁制御
部は、通信手段から伝達された弁の開閉情報に基づいて
弁の開閉を行うことを特徴とし、また、特定の送信者か
ら送信された電子メールを受信したときに、該電子メー
ルに記載された指示に基づいて前記記憶手段に記憶され
ている測定値を電子メールで返信すること、さらに、除
害装置管理者のサーバーに定期的に前記記憶手段に記憶
した測定値を送信することを特徴としている。When the communication means receives an electronic mail transmitted from a specific sender, the communication means transmits the valve opening / closing information described in the electronic mail to the valve control section, and the valve control section, The valve is opened / closed based on the valve opening / closing information transmitted from the communication means, and when the electronic mail transmitted from a specific sender is received, the instruction described in the electronic mail is displayed. It is characterized in that the measured value stored in the storage means is returned based on an electronic mail based on the basis, and further, the measured value stored in the storage means is periodically transmitted to the server of the abatement device manager.

【００１１】また、前記加熱反応筒は、その内部に前記
有害成分と反応して有害成分の除害処理を行う反応剤が
充填されていることを特徴とし、さらに、その重量変化
を測定する重量測定手段を備えており、前記記憶手段は
該重量測定手段で測定した測定値を記憶し、前記比較手
段は、該重量測定手段で測定した測定値をあらかじめ設
定された設定値と比較し、前記通信手段は、前記比較手
段で比較した重量測定値が重量設定値から外れたとき
に、前記電子メールを送信することを特徴としている。
また、前記加熱反応筒は、その内部に前記有害成分の分
解又は反応を促進する触媒が充填されていることを特徴
としている。Further, the heating reaction tube is characterized in that the inside thereof is filled with a reaction agent which reacts with the harmful component and removes the harmful component, and further, the weight for measuring the weight change thereof. The measuring means is provided, the storage means stores the measured value measured by the weight measuring means, the comparing means compares the measured value measured by the weight measuring means with a preset setting value, and The communication means is characterized in that the electronic mail is transmitted when the weight measurement value compared by the comparison means deviates from the weight set value.
Further, the heating reaction tube is characterized in that the inside thereof is filled with a catalyst that promotes decomposition or reaction of the harmful component.

【００１２】[0012]

【発明の実施の形態】図１は本発明の加熱式除害装置の
一つである加熱分解式除害装置の一形態例を示す概略系
統図である。この加熱分解式除害装置は、有害成分を加
熱分解処理するための所定の薬剤（反応剤）が充填され
た加熱反応筒１１と、該加熱反応筒１１での反応で生成
した成分の内、そのまま大気中に放出できない成分を除
去するための後処理筒１２とを有している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a schematic system diagram showing an embodiment of a thermal decomposition type abatement device which is one of the heating type abatement devices of the present invention. This thermal decomposition type abatement device comprises a heating reaction tube 11 filled with a predetermined drug (reactant) for thermally decomposing harmful components, and a component produced by a reaction in the heating reaction tube 11, It has a post-treatment tube 12 for removing components that cannot be released into the atmosphere as it is.

【００１３】有害成分を含む被処理ガス、例えば、半導
体製造装置１３から排出された排ガスは、排ガス導入弁
２１、排ガス流量測定手段３１を備えた排ガス導入経路
１４を経て加熱反応筒１１に導入される。また、排ガス
導入経路１４には、希釈ガス導入弁２２を備えた希釈ガ
ス導入経路１５が設けられており、希釈ガス源１６から
窒素等の希釈ガスを必要に応じて排ガスに混合できるよ
うに形成されている。A gas to be treated containing a harmful component, for example, an exhaust gas discharged from the semiconductor manufacturing apparatus 13 is introduced into the heating reaction tube 11 through an exhaust gas introduction path 14 equipped with an exhaust gas introduction valve 21 and an exhaust gas flow rate measuring means 31. It Further, the exhaust gas introduction passage 14 is provided with a dilution gas introduction passage 15 provided with a dilution gas introduction valve 22 so that a dilution gas such as nitrogen from the dilution gas source 16 can be mixed with the exhaust gas as needed. Has been done.

【００１４】加熱反応筒１１に導入された排ガスは、ヒ
ーター１７により所定温度に加熱された状態の薬剤と接
触して反応し、後処理筒１２で除去可能な物質あるいは
そのまま大気中に放出可能な物質が生成する。加熱反応
筒１１でこのような処理が行われた処理ガスは、処理ガ
ス導出経路１８を通って後処理筒１２に導入され、その
まま大気中に放出できない物質が化学吸着等の手段で除
去され、無害化された排出ガスが排出ガス導出経路１９
に導出され、該排出ガス導出経路１９に設けられている
出口濃度測定手段３２を経て大気中に放出される。The exhaust gas introduced into the heating reaction tube 11 reacts by contacting the chemical agent heated to a predetermined temperature by the heater 17, and can be removed by the post-treatment tube 12 or released as it is into the atmosphere. A substance is produced. The processing gas subjected to such processing in the heating reaction tube 11 is introduced into the post-processing tube 12 through the processing gas lead-out path 18, and substances that cannot be released into the atmosphere as they are are removed by means such as chemical adsorption. The detoxified exhaust gas is the exhaust gas discharge path 19
Is discharged to the atmosphere via the outlet concentration measuring means 32 provided in the exhaust gas discharge path 19.

【００１５】さらに、前記加熱反応筒１１には、筒内温
度あるいは筒外壁温度を測定する温度測定手段３３が設
けられており、前記排ガス導入経路１４には、加熱反応
筒１１に導入する排ガスの圧力（筒内圧力）を測定する
圧力測定手段３４が設けられている。また、加熱反応筒
１１内に充填する薬剤が、有害成分との反応によって重
量変化を生じる薬剤の場合は、加熱反応筒１１の重量を
測定する重量測定手段（重量計）を設けておくことがで
きる。Further, the heating reaction tube 11 is provided with a temperature measuring means 33 for measuring the temperature inside the tube or the temperature on the outer wall of the tube, and the exhaust gas introduction path 14 is provided with the temperature of the exhaust gas introduced into the heating reaction tube 11. Pressure measuring means 34 for measuring the pressure (cylinder pressure) is provided. Further, when the medicine filled in the heating reaction tube 11 is a medicine which causes a weight change due to the reaction with a harmful component, a weight measuring means (weight scale) for measuring the weight of the heating reaction tube 11 may be provided. it can.

【００１６】このような機器構成を有する加熱式除害装
置には、除害装置の運転状況を監視、制御するための制
御装置４０が設けられている。この制御装置４０は、図
２のブロック図に示すように、あらかじめ設定された各
種手順に基づいて作動する制御部４１を中心として、前
述の排ガス流量測定手段（流量計）３１、出口濃度測定
手段（分析計）３２、温度測定手段（温度計）３３、圧
力測定手段（圧力計）３４の各測定値を装置運転情報と
して取り込むとともに、前記排ガス導入弁２１及び希釈
ガス導入弁２２の開閉を制御する弁制御部３５との間で
弁開閉情報の授受を行うデータ入出力部（Ｉ／Ｏ）４２
と、取込んだ各種測定値等を記憶するとともに、各種設
定値や情報、シーケンス等を記憶した記憶部４３と、各
種測定値等を表示する表示部４４と、設定値等を入力す
る入力部４５と、各種時間情報を設定するタイマー４６
と、電子メール等の情報を送受信する通信手段４７とを
備えている。The heating type abatement device having such an equipment structure is provided with a control device 40 for monitoring and controlling the operating condition of the abatement device. As shown in the block diagram of FIG. 2, the control device 40 has a control unit 41 which operates based on various preset procedures as a center, and the exhaust gas flow rate measuring means (flowmeter) 31 and the outlet concentration measuring means described above. (Analyzer) 32, temperature measuring means (thermometer) 33, pressure measuring means (pressure gauge) 34 measured values are taken in as device operating information, and opening / closing of the exhaust gas introduction valve 21 and the dilution gas introduction valve 22 is controlled. A data input / output unit (I / O) 42 for exchanging valve opening / closing information with the valve control unit 35.
And a storage unit 43 that stores various set values, information, sequences, and the like, a display unit 44 that displays the various measured values, and an input unit that inputs the set values and the like. 45 and a timer 46 for setting various time information
And communication means 47 for transmitting and receiving information such as electronic mail.

【００１７】比較手段を含む制御部４１は、例えば図３
に示すように、ステップ５１〜５４で、圧力、温度、流
量、濃度をあらかじめ設定された各設定値と、Ｉ／Ｏ４
２を介して取込んだ各測定値とを比較し、ステップ５５
でこれらに異常が無いと判断したときには、ステップ５
６で表示部４４に正常な運転状態であることを表示する
とともに、ステップ５７で各測定値をハードディスク等
の記憶部４３に運転データとして記憶する。この各測定
値の比較処理は、タイマー４６に設定された所定の時間
間隔、例えば１分間隔で行われる。The control unit 41 including the comparing means is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, in steps 51 to 54, the pressure, temperature, flow rate, and concentration are set in advance and the I / O 4 is set.
2. Compare each measurement taken via 2 and step 55
If it is determined that there is no abnormality in these, step 5
In step 6, the normal operating state is displayed on the display section 44, and in step 57, each measured value is stored in the storage section 43 such as a hard disk as operation data. The comparison process of each measured value is performed at a predetermined time interval set in the timer 46, for example, at 1 minute intervals.

【００１８】ステップ５１〜５４で圧力、温度、流量、
濃度に異常が認められた場合は、各ステップから異常検
出ステップ６１〜６４にそれぞれ進み、各変数Ｐ（圧
力）、Ｔ（温度）、Ｆ（流量）、Ｄ（濃度）に異常状態
を示す符号「Ｘ」を代入し、ステップ５５でこれらの変
数のひとつにでも「Ｘ」が代入されているとき、すなわ
ち、装置の運転状態に異常がある場合は、ステップ６５
に進んで表示部４４に異常状態を表示するとともに、ス
テップ６６において、通信手段４７に各測定値等の所定
のデータを送り、あらかじめ設定されたメールアドレス
に向けて測定値異常情報を含む電子メールを送信する。In steps 51 to 54, pressure, temperature, flow rate,
If an abnormality is found in the concentration, the process proceeds from each step to abnormality detection steps 61 to 64, and each variable P (pressure), T (temperature), F (flow rate), D (concentration) is a code indicating an abnormal state. If "X" is substituted, and "X" is substituted in any one of these variables in step 55, that is, if the operating state of the device is abnormal, step 65
In step 66, the abnormal state is displayed on the display unit 44, and in step 66, predetermined data such as each measured value is sent to the communication unit 47, and an electronic mail including the measured value abnormal information is sent to a preset mail address. To send.

【００１９】この電子メールには、この加熱式除害装置
に設定された固有の名称（ＩＤ）、異常発生時間、異常
内容、異常発生前の各測定値の状態、弁の開閉状態等が
含まれており、さらに、装置設置場所、保守担当者（会
社）、保守履歴、異常発生履歴のような加熱式除害装置
に関する各種情報を含めることができる。このとき、異
常の内容によっては、加熱式除害装置の運転をバックア
ップ設備に切替えたり、さらには、半導体製造装置の運
転までも停止させるようなインターロック機能を制御装
置４０に組み込んでおくことができ、この場合は、これ
らの情報を含めた電子メールが送信されることになる。
また、必要に応じて担当者が所有するポケットベル（登
録商標）にも異常発生情報を送信するようにしてもよ
い。This e-mail contains the unique name (ID) set in the heating type abatement device, the time of occurrence of an abnormality, the content of the abnormality, the state of each measured value before the occurrence of the abnormality, the open / closed state of the valve, etc. In addition, it is possible to include various kinds of information regarding the heating-type abatement device such as the device installation location, maintenance person (company), maintenance history, and history of occurrence of abnormality. At this time, depending on the contents of the abnormality, it is possible to switch the operation of the heating-type abatement device to a backup facility, and further to incorporate an interlock function for stopping the operation of the semiconductor manufacturing device into the control device 40. Yes, in this case, an e-mail containing this information will be sent.
Further, the abnormality occurrence information may be transmitted to the pager (registered trademark) owned by the person in charge as necessary.

【００２０】なお、記憶部４３に記憶するデータは、１
時間経過までは測定時間間隔である１分ごと、その後３
時間経過までは一部のデータを削除して５分ごと、６時
間経過までは１０分ごとというように、正常運転が継続
しているときには、中間のデータを適当に削除して記憶
することにより、記憶容量を節約することができ、デー
タの送信や確認も容易に行うことが可能となる。The data stored in the storage unit 43 is 1
Until the lapse of time, every 1 minute which is the measurement time interval, then 3
By deleting some data until the lapse of time, every 5 minutes, and every 10 minutes until the lapse of 6 hours, by deleting the intermediate data appropriately and storing it during normal operation. The storage capacity can be saved, and the data can be transmitted and confirmed easily.

【００２１】前記電子メールの送信先アドレスは、この
加熱式除害装置の管理者や管理会社、運転に詳しい技術
者、保守担当の技術者や会社、加熱式除害装置を含む半
導体製造設備全体の管理者や管理担当部門等であって、
装置規模や有害成分の種類、バックアップ設備の状況等
によって適当な送信先を設定しておくことができ、ま
た、異常内容によって送信先を選択するように設定する
こともできる。The destination address of the electronic mail is the manager or management company of this heating type abatement device, the technician who is familiar with operation, the technician or company in charge of maintenance, and the entire semiconductor manufacturing facility including the heating type abatement device. Managers and departments in charge of
It is possible to set an appropriate destination depending on the scale of the device, the type of harmful component, the status of the backup facility, and the like, or select the destination depending on the content of the abnormality.

【００２２】さらに、この電子メールの送信先は、各会
社内のパソコンだけでなく、携帯端末、携帯電話、ＰＨ
Ｓも対象とすることができ、一人の技術者が複数のメー
ルアドレスを保有している場合には、それぞれに同じ内
容を送信することができ、携帯電話のような表示画面の
小さな送信先には、異常情報の概要のみを送信するよう
に設定することもできる。また、異常の内容に応じて文
字の色や大きさ、書体を変えたり、背景を変えたり、音
声を付加したりすることもできる。Further, the destination of this e-mail is not only the personal computer in each company but also a mobile terminal, a mobile phone, a PH.
S can also be targeted, and if one technician has multiple e-mail addresses, the same content can be sent to each, and it can be sent to a small destination with a display screen such as a mobile phone. Can also be set to send only a summary of the anomaly information. In addition, it is possible to change the color and size of characters, the typeface, the background, and the voice depending on the content of the abnormality.

【００２３】このようにして加熱式除害装置の制御装置
４０から送信された電子メールは、インターネット回線
を通り、サーバ７１を介して装置管理者のパソコン７２
と共に、該装置管理者や保守部門の担当者が保有する携
帯端末７３に送られ、保守担当者は、受信した電子メー
ルの内容に基づいて最適な措置を講じることになる。こ
のとき、装置管理者や保守担当者が受信した場合に、開
封メッセージを制御装置４０に送信するように設定して
おき、制御装置４０の表示部４４に開封メッセージを表
示させることにより、異常情報が装置管理者や保守担当
者に伝達されたことを確実に知ることができる。The e-mail sent from the control device 40 of the heating type abatement system in this way passes through the Internet line and the personal computer 72 of the system administrator via the server 71.
At the same time, it is sent to the mobile terminal 73 held by the device manager or the person in charge of the maintenance department, and the person in charge of maintenance takes an optimum measure based on the content of the received electronic mail. At this time, when the device manager or the person in charge of maintenance sets the opening message to be transmitted to the control device 40 in advance, and displays the opening message on the display unit 44 of the control device 40, the abnormality information is displayed. It is possible to know for sure that the information was transmitted to the device manager and maintenance personnel.

【００２４】パソコン７２は、電子メールの送受信やサ
ーバ７１へのアクセスを行うモデムやＬＡＮ等の通信部
７４、各種情報を記憶するハードディスク等の記憶部７
５、各種情報を表示するディスプレイ等の表示部７６、
各種入力や選択を行うキーボードやマウス等の入力部７
７を有する制御部７８を備えるものであって、各種情報
の読み取り、表示、記憶、入力及び送受信ができるよう
に形成されている。なお、前記表示部４４，７６に測定
値を表示する際に、グラフ化して表示できるようにして
おくことにより、測定値の変動状況を容易に確認するこ
とができる。The personal computer 72 is a communication unit 74 such as a modem or LAN for sending and receiving electronic mail and accessing the server 71, and a storage unit 7 such as a hard disk for storing various information.
5, a display unit 76 such as a display for displaying various information,
Input unit 7 such as keyboard and mouse for various inputs and selections
The control unit 78 includes a control unit 7 and is configured so that various types of information can be read, displayed, stored, input, and transmitted / received. It should be noted that when the measured values are displayed on the display units 44 and 76, it is possible to easily confirm the change situation of the measured values by making it possible to display them as a graph.

【００２５】また、サーバ７１やパソコン７２には、必
要に応じて各加熱式除害装置に関する情報を登録してお
くことができる、例えば、前記加熱式除害装置のＩＤに
対応する装置名、設置場所、設置時期、対象とするガス
の組成及び有害ガスの種類や濃度、使用する薬剤の種類
や充填量、保守担当部門（自社の支店、営業所、あるい
は、保守代行を行う会社、支店、営業所等）及び担当責
任者、過去の補修履歴、異常発生履歴等の加熱式除害装
置に関する情報の他、発生した異常に対する対応策や、
他に設置した同様の加熱式除害装置で発生した異常情報
の検索機能までも組み込んでおくことができる。Information relating to each heating type abatement device can be registered in the server 71 and the personal computer 72 as required. For example, a device name corresponding to the ID of the heating type abatement device, Installation location, installation time, target gas composition and harmful gas type and concentration, chemical type used and filling amount, maintenance department (own branch, sales office, or company that performs maintenance, branch office, (Sales office etc.) and responsible person, past repair history, information on heating type detoxification equipment such as abnormality occurrence history, as well as countermeasures against abnormalities that have occurred,
It is also possible to incorporate a function for searching for abnormality information that has occurred in another installed similar heating type abatement device.

【００２６】サーバ７１等にこれらの各種情報を登録し
ておくことにより、特定のパソコン７２や携帯端末７３
以外のパソコンや携帯端末からも、任意にサーバ７１に
アクセスすることによってこれらの情報を引き出すこと
が可能となる。また、パソコン等から電子メールでサー
バ７１や制御装置４０に問い合わせることにより、サー
バ７１や制御装置４０から必要な情報を電子メールで受
け取るようにすることもでき、例えば特定の時期の温度
変化や圧力変化を簡単に知ることができる。そして、加
熱反応筒１１における温度変化や圧力変化等を定期的に
確認することにより、異常事態の発生を未然に防止する
ことも可能であり、必要に応じて保守担当者の携帯端末
７３に連絡して点検や整備を指示することもできる。な
お、これらの情報の閲覧に対しては、パスワード等の保
護対策を施しておく。By registering these various types of information in the server 71 or the like, a specific personal computer 72 or portable terminal 73 can be registered.
It is possible to retrieve such information from any other personal computer or mobile terminal by arbitrarily accessing the server 71. Further, by inquiring the server 71 or the control device 40 by e-mail from a personal computer or the like, necessary information can be received from the server 71 or the control device 40 by e-mail. For example, temperature change or pressure at a specific time. You can easily know the changes. Further, it is possible to prevent an abnormal situation from occurring by periodically checking the temperature change, the pressure change, etc. in the heating reaction tube 11, and contact the maintenance person's mobile terminal 73 if necessary. You can also instruct inspection and maintenance. Note that passwords and other protection measures should be taken when viewing this information.

【００２７】また、パソコン７２と携帯端末７３との間
の通信もサーバ７１を介して可能に形成されており、例
えば、発生した異常情報に対して特別な修理や補修等が
必要なときなど、装置製造会社の技術担当者等からパソ
コン７２を介して保守部門の保守担当者等の携帯端末７
３に宛ててその旨を通知することができ、加熱式除害装
置の異常発生に対して適切な修理や補修を確実に行うこ
とができる。また、現場での詳細な情報を保守担当者の
携帯端末７３から技術担当者のパソコン７２に送信して
指示を仰ぐこともできる。Communication between the personal computer 72 and the portable terminal 73 is also made possible via the server 71. For example, when special repair or repair is required for the generated abnormality information, A mobile terminal 7 such as a person in charge of maintenance of a maintenance department via a personal computer 72 from a person in charge of engineering of a device manufacturing company.
It can be notified to 3 and the appropriate repair or repair can be surely performed against the occurrence of an abnormality in the heating type abatement device. Further, it is possible to send detailed information on site from the maintenance person's mobile terminal 73 to the technical person's personal computer 72 for instructions.

【００２８】さらに、パソコン７２においては、制御装
置４０を介して加熱式除害装置の運転状態を常時監視す
ることもでき、該パソコン７２から制御装置４０を介し
て弁制御部３５に導入弁の開閉等の指示を与えることも
できる。すなわち、装置製造会社の技術担当者等が、自
社や自宅等で加熱式除害装置の運転状態を管理すること
が可能となり、加熱式除害装置が深刻なトラブルに陥る
前に対策を打つことができる。また、万一加熱式除害装
置が停止するようなトラブルに陥った場合でも、迅速か
つ安全な対応が可能となる。さらに、加熱式除害装置の
使用者に対して的確な情報を伝えることができる。Further, in the personal computer 72, the operating state of the heating type abatement device can be constantly monitored through the control device 40, and the personal computer 72 can control the operation of the introduction valve of the valve control unit 35 through the control device 40. Instructions such as opening and closing can also be given. In other words, the technical personnel of the equipment manufacturing company can manage the operating status of the heating type abatement system at their own company or at home, and take measures before the heating type abatement system falls into serious trouble. You can In addition, even if a trouble such as a stop of the heating type abatement device occurs, quick and safe measures can be taken. Further, it is possible to convey accurate information to the user of the heating type abatement device.

【００２９】加えて、加熱式除害装置における異常現象
と、その発生原因や異常解消策とを関連付けて任意に検
索可能な状態にしておくことにより、使用者側において
も、異常発生時の原因究明や対応を迅速かつ確実に行う
ことができる（トラブルシューティング）。In addition, the abnormal phenomenon in the heating type abatement device is associated with the cause of the abnormality and the measure for eliminating the abnormality so that the user can arbitrarily search for the cause so that the user can also find the cause of the abnormality. Quick and reliable investigation and response can be performed (troubleshooting).

【００３０】このように形成することにより、通常の運
転状態において、例えば、温度測定手段３３の測定温度
が上昇し始めたときには、この温度上昇情報が制御装置
４０から保守担当者や技術者のパソコン７２や携帯端末
７３に通知され、保守担当者等は、加熱反応筒１１の温
度が上昇したことを即座に知ることができる。例えば通
常運転時の筒内基準温度が７００℃で、変動許容幅が±
５０℃の場合、測定温度が７２０℃を超えた付近で温度
上昇情報を通知するように設定しておくことにより、上
限温度に達する前、すなわち、筒内温度が上限温度に達
して安全装置の作用で除害装置の運転が中断される前に
対応策を打つことが可能となる。With this configuration, in a normal operating state, for example, when the temperature measured by the temperature measuring means 33 starts to rise, this temperature rise information is transmitted from the control device 40 to the personal computer of the maintenance person or the engineer. The maintenance person or the like can immediately know that the temperature of the heating reaction tube 11 has risen by being notified to 72 or the mobile terminal 73. For example, the standard temperature in the cylinder during normal operation is 700 ° C, and the allowable fluctuation range is ±
In the case of 50 ° C., by setting the temperature rise information to be notified when the measured temperature exceeds 720 ° C., before the upper limit temperature is reached, that is, the in-cylinder temperature reaches the upper limit temperature, the safety device It is possible to take measures before the operation of the abatement system is interrupted by the action.

【００３１】また、出口濃度測定手段３２で排出ガス中
の有害成分量を常時測定し、その濃度変化を監視するこ
とにより、測定値が上昇し始めたときには、この濃度上
昇情報を電子メールで通知することにより、保守担当者
等に加熱反応筒１１内の薬剤、例えば反応剤の破過ある
いは後処理筒１２で使用している後処理剤、例えば吸収
剤の破過が近いことを知らせることができ、このとき、
過去の薬剤交換履歴や他の温度情報や圧力情報、重量測
定手段が設けられている場合は重量情報も同時に通知す
ることにより、薬剤の破過の進行状況を知ることがで
き、これによって破過に至るまでの期間を推測すること
ができるので、両筒における薬剤の交換予定日を的確に
決定することができる。Further, by constantly measuring the amount of harmful components in the exhaust gas by the outlet concentration measuring means 32 and monitoring the change in the concentration, when the measured value starts to rise, this concentration rise information is notified by e-mail. By doing so, the person in charge of maintenance can be informed that the chemical in the heating reaction cylinder 11 such as the breakthrough of the reaction agent or the post-treatment agent used in the post-treatment cylinder 12 such as the absorber is about to break through. Yes, at this time
By simultaneously notifying past drug exchange history, other temperature information, pressure information, and weight information if a weight measuring means is provided, it is possible to know the progress status of the drug breakthrough. Since it is possible to estimate the period up to, it is possible to accurately determine the scheduled replacement date of the drug in both cylinders.

【００３２】さらに、除害装置を接続した半導体製造装
置１３がバッチ方式の運転を行い、各運転時に一定量の
有害ガスを排出する場合は、薬剤交換後の半導体製造装
置１３の運転回数を制御装置４０でカウントしたり、半
導体製造装置１３の制御部から運転回数情報を取込んだ
りすることにより、この運転回数に基づいて薬剤の交換
時期を推測することができ、運転回数と前記濃度上昇と
を組合わせることにより、薬剤の交換時期をより確実に
推定することができる。これにより、加熱反応筒１１で
の有害成分の除害処理を確実に行いながら、薬剤を無駄
なく利用することができるとともに、薬剤交換に関係す
るスケジュール調整も容易に行うことができ、半導体製
造装置１３の運転停止時間を極力減らすことができる。Further, when the semiconductor manufacturing apparatus 13 connected to the abatement device operates in a batch system and discharges a certain amount of harmful gas during each operation, the number of operations of the semiconductor manufacturing apparatus 13 after chemical exchange is controlled. By counting with the device 40 or fetching the operation frequency information from the control unit of the semiconductor manufacturing apparatus 13, it is possible to estimate the replacement time of the drug based on the operation frequency, and the operation frequency and the concentration increase. By combining the above, it is possible to more reliably estimate the drug replacement time. As a result, the chemicals can be used without waste while the detoxification process of the harmful components in the heating reaction tube 11 is performed reliably, and the schedule adjustment related to the chemical exchange can be easily performed, and the semiconductor manufacturing apparatus The operation stop time of 13 can be reduced as much as possible.

【００３３】すなわち、ある測定値があらかじめ設定さ
れた設定値、設定範囲から外れそうになった場合、この
変化を加熱式除害装置に詳しい技術者がパソコン７２や
携帯端末７３を利用してサーバ７１や制御装置４０の記
憶部４３に蓄積した各測定値からそれまでの運転状況を
読み取ることにより、例えば希釈ガス導入弁２２を開い
て希釈ガス導入経路１５から適当量の希釈ガスを導入す
るだけで対応が可能か、あるいは、排ガス導入弁２１を
閉じてバックアップ装置に切り替える必要があるかを判
断することができ、この判断に基づいた指示をパソコン
７２や携帯端末７３から電子メール等によってサーバ７
１を介して制御装置４０に伝達することにより、希釈ガ
スを適当量導入するだけで対応可能な場合は、除害装置
の運転を停止させることなく半導体製造装置１３の運転
も通常通り継続することができるとともに、保守担当者
の出張に要する金銭的、時間的なロスも発生することが
なくなり、半導体製造設備全体における金銭的、時間的
なロスを大幅に削減することができる。また、過去の事
例から、各測定値の変動原因となる事例とともにその対
策を表示させることにより、原因究明をより簡単に行う
ことができ、迅速に対応することもできる（トラブルシ
ューティング）。That is, when a measured value is likely to deviate from a preset value or a preset range, a technician who is familiar with the heating type abatement device uses the personal computer 72 or the portable terminal 73 to change this change. By reading the operation status up to that point from the respective measured values accumulated in the storage unit 43 of 71 or the control device 40, for example, the diluent gas introduction valve 22 is opened and an appropriate amount of dilution gas is introduced from the dilution gas introduction path 15. It is possible to determine whether or not it is possible to respond or whether it is necessary to close the exhaust gas introduction valve 21 and switch to the backup device, and an instruction based on this determination is sent from the personal computer 72 or the mobile terminal 73 to the server 7 by e-mail or the like.
If it can be dealt with only by introducing an appropriate amount of the dilution gas by transmitting it to the control device 40 via 1, the operation of the semiconductor manufacturing device 13 can be continued as usual without stopping the operation of the abatement device. In addition, the financial and time loss required for the maintenance staff on a business trip does not occur, and the financial and time loss in the entire semiconductor manufacturing facility can be significantly reduced. In addition, by displaying the cases that cause the fluctuation of each measured value and the countermeasures from the past cases, the cause can be more easily investigated and quick response can be made (troubleshooting).

【００３４】さらに、排ガス導入経路１４にも分析計を
設けて有害成分濃度を測定することにより、ガス流量と
測定濃度とから加熱反応筒１１内に流入した累計有害成
分量を算出することができるので、薬剤の破過の推定を
容易に行えるとともに、担当の技術者が排ガス中の有害
成分濃度の経時変化を見ることによって各測定値の変動
原因を容易に追求することができる。Further, by providing an analyzer also in the exhaust gas introduction path 14 to measure the harmful component concentration, the cumulative amount of harmful component flowing into the heating reaction tube 11 can be calculated from the gas flow rate and the measured concentration. Therefore, the breakthrough of the drug can be easily estimated, and the engineer in charge can easily find the cause of the fluctuation of each measured value by observing the change over time in the concentration of harmful components in the exhaust gas.

【００３５】加えて、パソコン７２等からの指示のみで
対応が可能な軽微な異常の発生状況を蓄積し、また、制
御装置４０の記憶部４３やサーバ７１に蓄積されている
温度情報、圧力情報、流量情報等を参照することによ
り、半導体製造装置１３の運転状況の変化を読み取るこ
とができ、この除害装置を設置した時点に比べて半導体
製造装置１３の稼働率が上昇したことを知ったときに
は、より高性能なガス除害装置への交換を提案すること
ができ、ガス除害装置の販売促進にも寄与することがで
きる。In addition, the state of occurrence of a slight abnormality that can be dealt with only by an instruction from the personal computer 72 or the like is accumulated, and the temperature information and the pressure information accumulated in the storage unit 43 of the control device 40 or the server 71 are accumulated. By referring to the flow rate information and the like, it was possible to read the change in the operating condition of the semiconductor manufacturing apparatus 13, and it was found that the operating rate of the semiconductor manufacturing apparatus 13 increased compared to the time when the abatement device was installed. At times, it is possible to propose replacement with a higher performance gas abatement device, which can also contribute to sales promotion of the gas abatement device.

【００３６】いずれの場合でも、異常発生原因をある程
度想定できるので、保守担当者が出向いて機器の修理や
交換を行う際にも、必要な部品等をあらかじめ用意して
から出向くことにより、修理や交換を確実に、かつ、短
時間で行うことができ、金銭的、時間的なロスを大幅に
削減することができる。In any case, the cause of the abnormality can be assumed to some extent. Therefore, even when the maintenance staff visits the equipment and repairs or replaces the equipment, the necessary parts and the like are prepared in advance and the repair work is performed. Exchange can be performed reliably and in a short time, and financial and time loss can be significantly reduced.

【００３７】従来は、装置から発せられる警報で使用者
側の担当者が異常発生を知り、その後に取扱説明書を参
照したり、保守担当者や担当技術者に電話等で問い合わ
せたりしなければならず、また、保守担当者等も装置の
運転状態を把握できていないので、異常原因の推定や特
定が極めて困難であったが、上述のように、各測定デー
タや導入弁の開度等をリアルタイムで確認できることに
より、異常に対する対応を、容易、迅速かつ確実に行う
ことが可能となる。Conventionally, unless a person in charge on the user side knows that an abnormality has occurred due to an alarm issued from the device, and then refers to the instruction manual or makes a telephone call to a person in charge of maintenance or a person in charge. In addition, since maintenance personnel and others were not able to grasp the operating status of the equipment, it was extremely difficult to estimate or identify the cause of the abnormality.However, as described above, each measurement data, opening of the introduction valve, etc. By confirming in real time, it becomes possible to easily, swiftly and surely deal with the abnormality.

【００３８】したがって、フェイルセーフ機能等によっ
て加熱式除害装置が自動停止する前に対応することが可
能となり、半導体製造装置等の運転を停止させなければ
ならない事態にまで達することを少なくでき、半導体製
造装置等の運転を停止させる場合であっても、修理等に
要する時間の短縮によって短時間で運転を再開すること
ができる。Therefore, the fail-safe function or the like makes it possible to respond before the heating type abatement device is automatically stopped, and it is possible to reduce the situation in which the operation of the semiconductor manufacturing device or the like must be stopped, and Even when the operation of the manufacturing apparatus or the like is stopped, the operation can be restarted in a short time by shortening the time required for repair or the like.

【００３９】なお、本形態例では、加熱式除害装置とし
て加熱分解式除害装置を例示したが、触媒分解式除害装
置においても、対象となる有害成分の種類や運転条件、
前後の付属装置が多少異なるだけであるから、前記同様
の測定手段や制御装置を採用することにより、上記同様
の作用効果を得ることができる。In the present embodiment, the thermal decomposition type abatement device is exemplified as the heating type abatement device, but in the catalytic decomposition type abatement device, the type of harmful components and the operating conditions,
Since the front and rear accessory devices are only slightly different, the same operation and effect as described above can be obtained by employing the same measuring means and control device as described above.

【００４０】例えば、ＧａＮ−ＭＯＣＶＤ装置から排出
される排ガスの組成は、アンモニア、シラン、水素、窒
素の混合ガスであり、この排ガスを触媒分解式除害装置
を使用して除害処理する際には、前段に配置した前処理
筒に充填した前処理剤（シラン除去剤）でシランを排ガ
ス中から除去した後、この排ガスに空気を混合してから
触媒を充填した触媒反応筒に導入してアンモニアを窒素
と水とに分解、反応させる。このとき、前処理筒の温度
は常温であり、シランの除去反応が発熱反応であるた
め、通常は室温より高い３０℃程度となっている。ま
た、触媒反応筒は、ヒーターによって２５０℃程度に加
熱されている。触媒反応筒で処理後の排出ガス中のアン
モニア濃度は、通常１０ｐｐｍ程度となる。For example, the composition of the exhaust gas discharged from the GaN-MOCVD apparatus is a mixed gas of ammonia, silane, hydrogen and nitrogen, and when this exhaust gas is subjected to detoxification treatment using a catalytic decomposition type detoxification apparatus. After removing silane from the exhaust gas with the pretreatment agent (silane removing agent) packed in the pretreatment cylinder arranged in the previous stage, mix this exhaust gas with air and then introduce it into the catalyst reaction cylinder filled with the catalyst. Ammonia is decomposed and reacted with nitrogen and water. At this time, the temperature of the pretreatment cylinder is room temperature, and since the silane removal reaction is an exothermic reaction, it is usually about 30 ° C., which is higher than room temperature. Further, the catalytic reaction tube is heated to about 250 ° C. by the heater. The ammonia concentration in the exhaust gas after the treatment in the catalytic reaction tube is usually about 10 ppm.

【００４１】このような場合、前処理筒の温度を測定
し、測定温度が上昇したときに保守担当者のパソコン等
に温度上昇を伝えることにより、保守担当者等は、この
温度上昇だけでなく、他の測定値も確認し、希釈ガスの
導入だけで温度上昇を回避できると判断した場合は、遠
隔操作により、あるいは、使用者側の担当者に電話やメ
ールで指示することにより、排ガスに適当量の希釈ガス
を添加して前処理筒に導入されるガス中のシラン濃度を
低くし、前処理筒の温度を通常時の温度に下げることが
できる。このとき、他の測定値にも異常が見られた場合
は、これらに対応する処置を講じることになる。In such a case, the temperature of the pretreatment cylinder is measured, and when the measured temperature rises, the temperature rise is notified to the personal computer or the like of the maintenance person so that the maintenance person may not only increase the temperature. , Check other measured values, and if it is judged that the temperature rise can be avoided only by introducing the diluent gas, the exhaust gas can be removed by remote control or by instructing the user side by telephone or e-mail. The temperature of the pretreatment cylinder can be lowered to the normal temperature by adding an appropriate amount of diluent gas to reduce the silane concentration in the gas introduced into the pretreatment cylinder. At this time, if any abnormalities are found in other measured values, the corresponding measures are taken.

【００４２】また、排出ガス中のアンモニア濃度を分析
計で測定し、測定したアンモニア濃度が上昇した場合
は、パソコン等に送信された情報に基づいて保守担当者
等が、触媒反応筒の加熱温度を、例えば２８０℃程度に
上昇させるといった対策を講じることにより、触媒反応
が促進されて排出ガス中のアンモニア濃度を通常値に下
げることができる。このとき、触媒反応筒導入前の空気
混合後のガス温度を測定したり、混合する空気の温度
（大気温度）を測定し、これらの温度、特に混合空気の
温度低下によって触媒反応筒の温度が低下するおそれが
あるときには、あらかじめヒーター出力を上昇させてお
くことにより、低温ガス流入による触媒反応筒の温度低
下を未然に防止することができ、触媒反応を確実に進め
ることができる。Further, the ammonia concentration in the exhaust gas is measured by an analyzer, and when the measured ammonia concentration rises, a person in charge of maintenance, etc. determines the heating temperature of the catalyst reaction cylinder based on the information transmitted to a personal computer or the like. Is taken, for example, by raising the temperature to about 280 ° C., the catalytic reaction is promoted and the ammonia concentration in the exhaust gas can be lowered to a normal value. At this time, the gas temperature after air mixing before introduction into the catalyst reaction tube is measured, or the temperature of the air to be mixed (atmospheric temperature) is measured. When there is a possibility that the temperature will decrease, the heater output can be increased in advance to prevent the temperature of the catalytic reaction tube from decreasing due to the inflow of low-temperature gas, so that the catalytic reaction can proceed reliably.

【００４３】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の加熱式除
害装置によれば、装置の異常発生を保守担当者等に迅速
に知らせることができるので、その対応も迅速かつ的確
に行うことができる。さらに、迅速かつ的確な対応によ
って装置の運転停止時間を極力減らすことができ、設備
全体の金銭的、時間的なロスを大幅に削減することがで
きる。また、トラブルシューティング機能を有すること
により安全性も大幅に向上する。As described above, according to the heating type abatement system of the present invention, it is possible to promptly notify a person in charge of maintenance of the occurrence of an abnormal condition of the system. You can In addition, it is possible to reduce the operation stop time of the device as much as possible by swift and appropriate response, and it is possible to greatly reduce the financial and time loss of the entire equipment. In addition, safety is greatly improved by having a troubleshooting function.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 加熱分解式除害装置の一形態例を示す概略系
統図である。FIG. 1 is a schematic system diagram showing an example of one embodiment of a thermal decomposition type abatement system.

【図２】 加熱分解式除害装置の制御装置の一例を示す
ブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing an example of a control device of a thermal decomposition type abatement system.

【図３】 制御部の動作例を示すフローチャートであ
る。FIG. 3 is a flowchart showing an operation example of a control unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１１…加熱反応筒、１２…後処理筒、１３…半導体製造
装置、１４…排ガス導入経路、１５…希釈ガス導入経
路、１６…希釈ガス源、１７…ヒーター、１８…処理ガ
ス導出経路、１９…排出ガス導出経路、２１…排ガス導
入弁、２２…希釈ガス導入弁、３１…排ガス流量測定手
段、３２…出口濃度測定手段、３３…温度測定手段、３
４…圧力測定手段、３５…弁制御部、４０…制御装置、
４１…制御部、４２…データ入出力部（Ｉ／Ｏ）、４３
…記憶部、４４…表示部、４５…入力部、４６…タイマ
ー、４７…通信手段、７１…サーバ、７２…パソコン、
７３…携帯端末、７４…通信部、７５…記憶部、７６…
表示部、７７…入力部、７８…制御部11 ... Heating reaction tube, 12 ... Post-processing tube, 13 ... Semiconductor manufacturing device, 14 ... Exhaust gas introduction path, 15 ... Diluting gas introduction path, 16 ... Diluting gas source, 17 ... Heater, 18 ... Processing gas derivation path, 19 ... Exhaust gas outlet path, 21 ... Exhaust gas introduction valve, 22 ... Diluting gas introduction valve, 31 ... Exhaust gas flow rate measuring means, 32 ... Outlet concentration measuring means, 33 ... Temperature measuring means, 3
4 ... Pressure measuring means, 35 ... Valve control unit, 40 ... Control device,
41 ... Control unit, 42 ... Data input / output unit (I / O), 43
... storage section, 44 ... display section, 45 ... input section, 46 ... timer, 47 ... communication means, 71 ... server, 72 ... personal computer,
73 ... mobile terminal, 74 ... communication section, 75 ... storage section, 76 ...
Display unit, 77 ... Input unit, 78 ... Control unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/70 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２９Ｚ 53/86 Ｚ Ｆ２３Ｇ 7/06 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｌ Ｆ２３Ｊ 15/08 Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｂ (72)発明者 小関 修一 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 (72)発明者 万行 大貴 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 (72)発明者 小野 宏之 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 Ｆターム(参考） 3K070 DA52 DA58 DA59 DA60 DA62 3K078 BA20 BA21 BA25 BA29 CA01 4D002 AA12 AA13 AA22 AA26 AC10 BA04 BA05 EA05 GA03 GB01 GB02 GB03 HA01 4D048 AA06 AA08 AA11 AA21 AB01 AB03 CC38 DA01 DA02 DA03 DA05 DA06 DA07 DA08 DA20 EA10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B01D 53/70 B01D 53/34 129Z 53/86 Z F23G 7/06 F23J 15/00 L F23J 15/08 B01D 53/36 B (72) Inventor Shuichi Koseki 1-16-7 Nishishinbashi, Minato-ku, Tokyo Nippon Oxygen Co., Ltd. (72) Inventor Mangaku Daiki 1-16-7 Nishishinbashi, Minato-ku, Tokyo Nihon Oxygen Co. In-company (72) Inventor Hiroyuki Ono 1-16-7 Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Japan Oxygen Co. F-term (Reference) 3K070 DA52 DA58 DA59 DA60 DA62 3K078 BA20 BA21 BA25 BA29 CA01 4D002 AA12 AA13 AA22 AA26 AC10 BA04 BA05 EA05 GA03 GB01 GB02 GB03 HA01 4D048 AA06 AA08 AA11 AA21 AB01 AB03 CC38 DA01 DA02 DA03 DA05 DA06 DA07 DA08 DA20 EA10

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 加熱反応筒内に導入した被処理ガスを加
熱して被処理ガス中の有害成分の除害処理を行う加熱式
除害装置において、前記被処理ガスの流量を測定する被
処理ガス流量測定手段と、該被処理ガスの圧力を測定す
る被処理ガス圧力測定手段と、前記加熱反応筒内の温度
を測定する温度測定手段と、前記加熱反応筒から導出し
た処理後の排出ガス中の有害成分濃度を測定する出口濃
度測定手段と、各測定手段で測定した測定値を記憶する
記憶手段と、各測定手段で測定した測定値をあらかじめ
設定された各設定値と比較する比較手段と、該比較手段
で比較した各測定値が各設定値から外れたときに、あら
かじめ設定されたメールアドレスに向けて測定値異常情
報を含む電子メールを送信する通信手段とを備えている
ことを特徴とする加熱式除害装置。1. A heating type abatement device for heating a gas to be treated introduced into a heating reaction tube to remove harmful components in the gas to be treated, wherein the flow rate of the gas to be treated is measured. Gas flow rate measuring means, processed gas pressure measuring means for measuring the pressure of the processed gas, temperature measuring means for measuring the temperature in the heating reaction tube, and exhaust gas after processing derived from the heating reaction tube Outlet concentration measuring means for measuring the concentration of harmful components in the inside, storage means for storing the measured value measured by each measuring means, and comparing means for comparing the measured value measured by each measuring means with each preset setting value And a communication means for transmitting an e-mail containing measurement value abnormality information to a preset mail address when each measured value compared by the comparing means deviates from each set value. Characteristic addition Thermal abatement device. 【請求項２】 前記記憶手段は、各測定値を所定時間間
隔で経時的に記憶し、前記通信手段は、前記電子メール
の送信時に、記憶手段に記憶されている過去の測定値を
読込んで前記測定値異常情報と共に送信することを特徴
とする請求項１記載の加熱式除害装置。2. The storage means stores each measurement value over time at predetermined time intervals, and the communication means reads the past measurement values stored in the storage means when the electronic mail is transmitted. The heating type abatement device according to claim 1, which is transmitted together with the measured value abnormality information. 【請求項３】 前記被処理ガスを前記加熱反応筒に導入
する被処理ガス導入経路又は前記加熱反応筒に希釈ガス
を導入する希釈ガス導入経路を備えるとともに、前記被
処理ガス導入経路及び希釈ガス導入経路にそれぞれ設け
られている各導入弁の開閉を制御する弁制御部を有し、
前記記憶手段は、該弁制御部からの信号によって弁の開
閉状態を記憶し、前記通信手段は、前記電子メールの送
信時に、記憶手段に記憶されている過去の弁開閉状態を
読込んで前記測定値異常情報と共に送信することを特徴
とする請求項１記載の加熱式除害装置。3. A process gas introducing path for introducing the process gas into the heating reaction tube or a dilution gas introducing path for introducing a dilution gas into the heating reaction tube, and the process gas introducing path and the dilution gas. It has a valve control unit that controls the opening and closing of each introduction valve provided in the introduction path,
The storage means stores the open / closed state of the valve in response to a signal from the valve control unit, and the communication means reads the past open / closed state of the valve stored in the storage means at the time of sending the e-mail and performs the measurement. The heating type abatement device according to claim 1, wherein the heating type abatement device is transmitted together with the value abnormality information. 【請求項４】 前記通信手段は、特定の送信者から送信
された電子メールを受信したときに、該電子メールに記
載された弁の開閉情報を前記弁制御部に伝達し、該弁制
御部は、通信手段から伝達された弁の開閉情報に基づい
て弁の開閉を行うことを特徴とする請求項３記載の加熱
式除害装置。4. The communication means, when receiving an electronic mail sent from a specific sender, transmits the valve opening / closing information described in the electronic mail to the valve control unit, and the valve control unit. The heating type abatement device according to claim 3, wherein the valve is opened / closed based on the valve opening / closing information transmitted from the communication means. 【請求項５】 前記通信手段は、特定の送信者から送信
された電子メールを受信したときに、該電子メールに記
載された指示に基づいて前記記憶手段に記憶されている
測定値を電子メールで返信することを特徴とする請求項
１記載の加熱式除害装置。5. The communication means, when receiving an email sent from a specific sender, sends the measured value stored in the storage means to an email based on an instruction described in the email. The heating-type abatement device according to claim 1, wherein the heating-type abatement device is returned. 【請求項６】 前記通信手段は、除害装置管理者のサー
バーに定期的に前記記憶手段に記憶した測定値を送信す
ることを特徴とする請求項１記載の加熱式除害装置。6. The heating type abatement apparatus according to claim 1, wherein the communication unit periodically transmits the measured value stored in the storage unit to a server of an abatement apparatus manager. 【請求項７】 前記加熱反応筒は、その内部に前記有害
成分と反応して有害成分の除害処理を行う反応剤が充填
されていることを特徴とする請求項１記載の加熱式除害
装置。7. The heating type detoxification according to claim 1, wherein the heating reaction tube is filled with a reaction agent which reacts with the detrimental components to detoxify the detrimental components. apparatus. 【請求項８】 前記加熱反応筒は、その重量変化を測定
する重量測定手段を備えており、前記記憶手段は該重量
測定手段で測定した測定値を記憶し、前記比較手段は、
該重量測定手段で測定した測定値をあらかじめ設定され
た設定値と比較し、前記通信手段は、前記比較手段で比
較した重量測定値が重量設定値から外れたときに、前記
電子メールを送信することを特徴とする請求項７記載の
加熱式除害装置。8. The heating reaction tube comprises a weight measuring means for measuring a weight change thereof, the storage means stores a measurement value measured by the weight measuring means, and the comparing means,
The measurement value measured by the weight measuring means is compared with a preset setting value, and the communication means transmits the electronic mail when the weight measurement value compared by the comparing means deviates from the weight setting value. The heating type abatement device according to claim 7, wherein 【請求項９】 前記加熱反応筒は、その内部に前記有害
成分の分解又は反応を促進する触媒が充填されているこ
とを特徴とする請求項１記載の加熱式除害装置。9. The heating type abatement device according to claim 1, wherein the heating reaction tube is filled with a catalyst for promoting the decomposition or reaction of the harmful components inside.
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