JP2003138384A - 表面処理方法および装飾品 - Google Patents
表面処理方法および装飾品Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】耐久性に優れ、美的外観に優れた装飾品を提供
すること、および前記装飾品を得ることが可能な表面処
理方法を提供すること。 【解決手段】本発明の表面処理方法は、主として金属材
料で構成された基材2の表面の少なくとも一部に、YV
O4レーザーを照射することにより、青色、紫色、黄色
または白色の変色部21を形成することを特徴とする。
基材2は、その少なくとも一部が、Tiまたはステンレ
ス鋼で構成されたものであるのが好ましい。基材2の表
面に照射されるYVO4レーザーのスポット径は、20
〜80μmであるのが好ましい。また基材2は、表面の
少なくとも一部に、鏡面加工、梨地加工、スジ目加工か
ら選択される少なくとも一つの表面加工が施されたもの
であるのが好ましい。
すること、および前記装飾品を得ることが可能な表面処
理方法を提供すること。 【解決手段】本発明の表面処理方法は、主として金属材
料で構成された基材2の表面の少なくとも一部に、YV
O4レーザーを照射することにより、青色、紫色、黄色
または白色の変色部21を形成することを特徴とする。
基材2は、その少なくとも一部が、Tiまたはステンレ
ス鋼で構成されたものであるのが好ましい。基材2の表
面に照射されるYVO4レーザーのスポット径は、20
〜80μmであるのが好ましい。また基材2は、表面の
少なくとも一部に、鏡面加工、梨地加工、スジ目加工か
ら選択される少なくとも一つの表面加工が施されたもの
であるのが好ましい。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、表面処理方法およ
び装飾品に関するものである。
び装飾品に関するものである。
【0002】
【従来の技術】時計用外装部品のような装飾品には、優
れた美的外観が要求される。
れた美的外観が要求される。
【0003】このような目的を達成するために、例え
ば、基材表面に、基材とは異なる色彩のパターン(例え
ば、模様、文字、目盛り等)を形成することが行われて
きた。
ば、基材表面に、基材とは異なる色彩のパターン(例え
ば、模様、文字、目盛り等)を形成することが行われて
きた。
【0004】従来、このようなパターンを形成する方法
としては、メッキ法やシール法が用いられてきた。
としては、メッキ法やシール法が用いられてきた。
【0005】メッキ法は、例えば、以下のようにして行
われてきた。まず、基材表面に所望のパターンを印刷に
より形成する。次に、基材の表面に、電解メッキ等によ
りマスクを形成する。その後、印刷部分を剥離し、その
部位にメッキ処理を施す。そして最後に、マスクを除去
することにより所望の形状のパターン層が形成された装
飾品を得ることができる。
われてきた。まず、基材表面に所望のパターンを印刷に
より形成する。次に、基材の表面に、電解メッキ等によ
りマスクを形成する。その後、印刷部分を剥離し、その
部位にメッキ処理を施す。そして最後に、マスクを除去
することにより所望の形状のパターン層が形成された装
飾品を得ることができる。
【0006】また、シール法では、有色膜を部材に着材
することにより、所望の形状のパターン層を形成してい
た。
することにより、所望の形状のパターン層を形成してい
た。
【0007】しかしながら、上述したような従来の方法
では、装飾品の形状が曲面部や凹凸部を有するものであ
る場合やパターン層が複数の面にわたって形成される場
合において、形状およびパターンに制約が多く、メッキ
の場合には加工工数がかかる。シール法の場合、基材と
パターン層との密着性が不十分となり、剥離を生じる等
の問題点を有していた。
では、装飾品の形状が曲面部や凹凸部を有するものであ
る場合やパターン層が複数の面にわたって形成される場
合において、形状およびパターンに制約が多く、メッキ
の場合には加工工数がかかる。シール法の場合、基材と
パターン層との密着性が不十分となり、剥離を生じる等
の問題点を有していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐久
性に優れ、美的外観に優れた装飾品を提供すること、お
よび前記装飾品を提供することができる表面処理方法を
提供することにある。
性に優れ、美的外観に優れた装飾品を提供すること、お
よび前記装飾品を提供することができる表面処理方法を
提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(9)の本発明により達成される。
(1)〜(9)の本発明により達成される。
【0010】(1) 主として金属材料で構成された部
材の表面の少なくとも一部に、YVO4レーザーを照射
することにより、青色、紫色または黄色の変色部を形成
することを特徴とする表面処理方法。
材の表面の少なくとも一部に、YVO4レーザーを照射
することにより、青色、紫色または黄色の変色部を形成
することを特徴とする表面処理方法。
【0011】(2) 非酸化性雰囲気中で、主として金
属材料で構成された部材の表面の少なくとも一部に、Y
VO4レーザーを照射することにより、白色の変色部を
形成することを特徴とする表面処理方法。
属材料で構成された部材の表面の少なくとも一部に、Y
VO4レーザーを照射することにより、白色の変色部を
形成することを特徴とする表面処理方法。
【0012】(3) 前記部材は、その少なくとも一部
が、ステンレス鋼、TiまたはTi合金で構成されたも
のである上記(1)または(2)に記載の表面処理方
法。
が、ステンレス鋼、TiまたはTi合金で構成されたも
のである上記(1)または(2)に記載の表面処理方
法。
【0013】(4) 前記部材の表面に照射される前記
YVO4レーザーのスポット径は、20〜80μmであ
る上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の表面処理
方法。
YVO4レーザーのスポット径は、20〜80μmであ
る上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の表面処理
方法。
【0014】(5) 前記部材は、表面の少なくとも一
部に、鏡面加工、梨地加工、スジ目加工から選択される
少なくとも一つの表面加工が施されたものである上記
(1)ないし(4)のいずれかに記載の表面処理方法。
部に、鏡面加工、梨地加工、スジ目加工から選択される
少なくとも一つの表面加工が施されたものである上記
(1)ないし(4)のいずれかに記載の表面処理方法。
【0015】(6) 前記部材のYVO4レーザーの照
射された箇所が凹状になっている上記(1)ないし
(5)のいずれかに記載の表面処理方法。
射された箇所が凹状になっている上記(1)ないし
(5)のいずれかに記載の表面処理方法。
【0016】(7) 前記部材の実質的に同一である箇
所に、前記YVO4レーザーを複数回照射する上記
(1)ないし(6)のいずれかに記載の表面処理方法。
所に、前記YVO4レーザーを複数回照射する上記
(1)ないし(6)のいずれかに記載の表面処理方法。
【0017】(8) 上記(1)ないし(7)のいずれ
かに記載の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴
とする装飾品。
かに記載の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴
とする装飾品。
【0018】(9) 装飾品は、時計用外装部品である
上記(8)に記載の装飾品。
上記(8)に記載の装飾品。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の表面処理方法およ
び装飾品の好適な実施形態について、添付図面を参照し
つつ説明する。
び装飾品の好適な実施形態について、添付図面を参照し
つつ説明する。
【0020】図1は、本発明の表面処理方法が施される
部材を示す断面図、図2は、本発明の装飾品を示す断面
図である。
部材を示す断面図、図2は、本発明の装飾品を示す断面
図である。
【0021】<基材>まず、主として金属材料で構成さ
れた基材2を用意する(図1参照)。
れた基材2を用意する(図1参照)。
【0022】基材2を構成する金属材料としては、例え
ば、ステンレス鋼(SUS)、黄銅(Bs)、洋白(N
S)等の合金、W、Cu、Fe、Cr、Ni、Pd、A
l、Mg、Mo、Ti等の金属、またはこれらの金属を
含む合金、Au、Ag、Pt等の貴金属、またはこれら
の貴金属を含む合金等が挙げられるが、この中でも特
に、ステンレス鋼、TiまたはTi合金が好ましい。
ば、ステンレス鋼(SUS)、黄銅(Bs)、洋白(N
S)等の合金、W、Cu、Fe、Cr、Ni、Pd、A
l、Mg、Mo、Ti等の金属、またはこれらの金属を
含む合金、Au、Ag、Pt等の貴金属、またはこれら
の貴金属を含む合金等が挙げられるが、この中でも特
に、ステンレス鋼、TiまたはTi合金が好ましい。
【0023】基材2の少なくとも一部がステンレス鋼、
TiまたはTi合金で構成されることにより、後述する
YVO4レーザーの照射により形成される変色部21
と、非変色部22との間での色調(色相、彩度、明度)
の差を大きくすることができ、変色部21と、非変色部
22との境界がより鮮明なものとなる。その結果、得ら
れる装飾品1の美的外観は、さらに優れたものとなる。
TiまたはTi合金で構成されることにより、後述する
YVO4レーザーの照射により形成される変色部21
と、非変色部22との間での色調(色相、彩度、明度)
の差を大きくすることができ、変色部21と、非変色部
22との境界がより鮮明なものとなる。その結果、得ら
れる装飾品1の美的外観は、さらに優れたものとなる。
【0024】上述したように、基材2は、主として金属
材料で構成されたものであるが、少なくとも、後述する
YVO4レーザーが照射される部位の表面付近が金属材
料で構成されたものであればいかなるものであってもよ
い。例えば、基材2は、金属材料のみで構成されたもの
であってもよいし、プラスチック材料の表面の少なくと
も一部に金属材料が被覆されたものであっても良い。
材料で構成されたものであるが、少なくとも、後述する
YVO4レーザーが照射される部位の表面付近が金属材
料で構成されたものであればいかなるものであってもよ
い。例えば、基材2は、金属材料のみで構成されたもの
であってもよいし、プラスチック材料の表面の少なくと
も一部に金属材料が被覆されたものであっても良い。
【0025】基材2の製造方法は、特に限定されず、例
えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉
末冶金焼結、金属粉末射出成形(MIM)、ロストワッ
クス法等が挙げられる。
えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉
末冶金焼結、金属粉末射出成形(MIM)、ロストワッ
クス法等が挙げられる。
【0026】また、基材2は、その表面の少なくとも一
部に、スジ目加工、梨地加工、鏡面加工等の表面加工が
施されているのが好ましい。このような表面加工が施さ
れることにより、形成される変色部21がより識別し易
いものとなり、得られる装飾品1の美的外観がさらに優
れたものとなる。前記表面加工の中でも、梨地加工が特
に好ましい。梨地加工が施されることにより、得られる
装飾品1の美的外観は特に優れたものとなる。
部に、スジ目加工、梨地加工、鏡面加工等の表面加工が
施されているのが好ましい。このような表面加工が施さ
れることにより、形成される変色部21がより識別し易
いものとなり、得られる装飾品1の美的外観がさらに優
れたものとなる。前記表面加工の中でも、梨地加工が特
に好ましい。梨地加工が施されることにより、得られる
装飾品1の美的外観は特に優れたものとなる。
【0027】スジ目加工の方法としては、例えば、研磨
紙を用いた研磨等が挙げられる。また、梨地加工の方法
としては、例えば、アルミナ、ショット、グリッド、ガ
ラスビーズ等を用いたブラスト処理等が挙げられる。
紙を用いた研磨等が挙げられる。また、梨地加工の方法
としては、例えば、アルミナ、ショット、グリッド、ガ
ラスビーズ等を用いたブラスト処理等が挙げられる。
【0028】また、鏡面加工の方法としては、例えば、
化学研磨、機械研磨、光沢メッキ、電解研磨等が挙げら
れる。
化学研磨、機械研磨、光沢メッキ、電解研磨等が挙げら
れる。
【0029】<YVO4レーザーの照射>次に、基材2
の表面の少なくとも一部に、YVO4レーザーを照射す
る。これにより、他の部位(非変色部22)とは色彩の
異なる変色部21が形成される。
の表面の少なくとも一部に、YVO4レーザーを照射す
る。これにより、他の部位(非変色部22)とは色彩の
異なる変色部21が形成される。
【0030】変色部21は、YVO4レーザーの照射パ
ターンにより、所望の形状を有するものとして形成され
る。
ターンにより、所望の形状を有するものとして形成され
る。
【0031】このように、本発明では、レーザー光を用
いるため、所望の形状の変色部21を容易に形成するこ
とができる。また、レーザー光によれば微細精密パター
ンの形成も可能となり、さらにレーザー光の照射位置や
角度を任意に設定できるため、曲面や凹凸面上にパター
ンを形成する場合でも、容易にかつ精度よく変色部21
を形成することができる。また、個々の装飾品に異なる
パターン(例えば、シリアルナンバー等)を形成する場
合であっても、容易に対応することができる。
いるため、所望の形状の変色部21を容易に形成するこ
とができる。また、レーザー光によれば微細精密パター
ンの形成も可能となり、さらにレーザー光の照射位置や
角度を任意に設定できるため、曲面や凹凸面上にパター
ンを形成する場合でも、容易にかつ精度よく変色部21
を形成することができる。また、個々の装飾品に異なる
パターン(例えば、シリアルナンバー等)を形成する場
合であっても、容易に対応することができる。
【0032】また、本発明では、従来のように基材上に
パターン形成用の別部材を被覆することなく、基材の表
面に所望のパターンを形成することができる。このた
め、形成されるパターンは、摩耗等によるパターンの視
認性の低下を生じ難いものとなる。すなわち、本発明の
装飾品1は、耐久性に優れたものとなる。特に、後に詳
述するように、変色部21を凹状にした場合、このよう
な効果は、さらに優れたものとなる。
パターン形成用の別部材を被覆することなく、基材の表
面に所望のパターンを形成することができる。このた
め、形成されるパターンは、摩耗等によるパターンの視
認性の低下を生じ難いものとなる。すなわち、本発明の
装飾品1は、耐久性に優れたものとなる。特に、後に詳
述するように、変色部21を凹状にした場合、このよう
な効果は、さらに優れたものとなる。
【0033】また、本発明者は、基材2に照射するレー
ザーについて種々検討を行った。その結果、YVO4レ
ーザーを用いることにより、非変色部22との色調の差
が大きい変色部21を形成することができることを見出
した。このような効果は、基材2に照射するレーザーと
して、CO2レーザー、エキシマレーザー、He−Ne
レーザー、YAGレーザー等のYVO4以外のレーザー
光を用いた場合には得られない。
ザーについて種々検討を行った。その結果、YVO4レ
ーザーを用いることにより、非変色部22との色調の差
が大きい変色部21を形成することができることを見出
した。このような効果は、基材2に照射するレーザーと
して、CO2レーザー、エキシマレーザー、He−Ne
レーザー、YAGレーザー等のYVO4以外のレーザー
光を用いた場合には得られない。
【0034】すなわち、本発明は、YVO4レーザー
を、基材の表面の少なくとも一部に照射することによ
り、所望の形状の変色部を形成する点に特徴を有する。
を、基材の表面の少なくとも一部に照射することによ
り、所望の形状の変色部を形成する点に特徴を有する。
【0035】本発明では、YVO4レーザーの照射条件
によって、変色部21の色彩を青色、紫色、黄色または
白色に調整する。
によって、変色部21の色彩を青色、紫色、黄色または
白色に調整する。
【0036】以下、形成される変色部21が青色、紫色
または黄色である場合と、白色である場合とに分けて説
明する。
または黄色である場合と、白色である場合とに分けて説
明する。
【0037】[変色部21が青色、紫色または黄色であ
る場合]YVO4レーザーの照射時の雰囲気は、特に限
定されないが、例えば、N2ガス、O2ガス、CO2ガ
ス、大気、アセチレンガス等が挙げられ、これらのうち
1種または2種以上を混合して用いることができる。ま
た、雰囲気の組成、圧力等は、一定のものであってもよ
いし、経時的に変化するものであってもよい。
る場合]YVO4レーザーの照射時の雰囲気は、特に限
定されないが、例えば、N2ガス、O2ガス、CO2ガ
ス、大気、アセチレンガス等が挙げられ、これらのうち
1種または2種以上を混合して用いることができる。ま
た、雰囲気の組成、圧力等は、一定のものであってもよ
いし、経時的に変化するものであってもよい。
【0038】また、YVO4レーザーの照射時におい
て、雰囲気ガスは、実質的な不動状態(実質的にガス流
がない状態)であってもよいし、流動状態であってもよ
い。
て、雰囲気ガスは、実質的な不動状態(実質的にガス流
がない状態)であってもよいし、流動状態であってもよ
い。
【0039】雰囲気ガスが流動している状態でYVO4
レーザーの照射を行った場合、ガス流により、YVO4
レーザーの屈折率が経時的に変化する。このため、基材
2の表面に照射されるYVO4レーザーの照射強度が経
時的に変化する。その結果、特に、変色状態が滑らかに
異なったパターンを形成することができる。
レーザーの照射を行った場合、ガス流により、YVO4
レーザーの屈折率が経時的に変化する。このため、基材
2の表面に照射されるYVO4レーザーの照射強度が経
時的に変化する。その結果、特に、変色状態が滑らかに
異なったパターンを形成することができる。
【0040】一方、雰囲気ガスが実質的な不動状態であ
ると、基材2の表面に照射されるYVO4レーザーの照
射強度が安定する。その結果、均一な変色部21が得ら
れ、変色部21と、非変色部22との境界がより鮮明な
ものとなる。
ると、基材2の表面に照射されるYVO4レーザーの照
射強度が安定する。その結果、均一な変色部21が得ら
れ、変色部21と、非変色部22との境界がより鮮明な
ものとなる。
【0041】また、YVO4レーザーの照射は、連続照
射であってもよいし、パルス照射であってもよい。
射であってもよいし、パルス照射であってもよい。
【0042】基材2の表面に照射されるYVO4レーザ
ーのスポット径は、20〜80μmであるのが好まし
く、30〜50μmであるのがより好ましい。
ーのスポット径は、20〜80μmであるのが好まし
く、30〜50μmであるのがより好ましい。
【0043】YVO4レーザーのスポット径が前記下限
値未満であると、形成される変色部21の色彩が黒っぽ
くなる傾向を示すとともに、得られる色調の安定性が低
くなる。一方、YVO4レーザーのスポット径が前記上
限値を超えると、基材2の表面での、YVO4レーザー
のエネルギー密度が十分に得られず、変色部21と非変
色部22の境界が十分に鮮明にならない場合がある。
値未満であると、形成される変色部21の色彩が黒っぽ
くなる傾向を示すとともに、得られる色調の安定性が低
くなる。一方、YVO4レーザーのスポット径が前記上
限値を超えると、基材2の表面での、YVO4レーザー
のエネルギー密度が十分に得られず、変色部21と非変
色部22の境界が十分に鮮明にならない場合がある。
【0044】また、このようなYVO4レーザーの照射
は、基材2の実質的に同一である箇所に、複数回繰り返
し行ってもよい。これにより、より安定した色調の変色
部21が得られるとともに、変色部21と、非変色部2
2との境界がより鮮明なものとなる。
は、基材2の実質的に同一である箇所に、複数回繰り返
し行ってもよい。これにより、より安定した色調の変色
部21が得られるとともに、変色部21と、非変色部2
2との境界がより鮮明なものとなる。
【0045】以上のようなYVO4レーザーの照射によ
り、基材2の一部が除去されてもよい。すなわち、形成
される変色部21は、非変色部22に比べて凹んだもの
であってもよい。このように、変色部21が凹状である
と、変色部21と非変色部22との境界がより鮮明なも
のになるとともに、摩耗等によるパターンの視認性の低
下を効果的に防止することが可能となる。
り、基材2の一部が除去されてもよい。すなわち、形成
される変色部21は、非変色部22に比べて凹んだもの
であってもよい。このように、変色部21が凹状である
と、変色部21と非変色部22との境界がより鮮明なも
のになるとともに、摩耗等によるパターンの視認性の低
下を効果的に防止することが可能となる。
【0046】この場合、変色部21(凹部)の形状は、
特に限定されず、例えば、図3に示すような矩形であっ
てもよいし、図4に示すような形状のものであってもよ
い。
特に限定されず、例えば、図3に示すような矩形であっ
てもよいし、図4に示すような形状のものであってもよ
い。
【0047】また、凹部の深さは、特に限定されない
が、2μm以上であるのが好ましく、5μm以上あるこ
とがより好ましい。
が、2μm以上であるのが好ましく、5μm以上あるこ
とがより好ましい。
【0048】[変色部21が白色である場合]YVO4
レーザーの照射は、非酸化性雰囲気中で行う。非酸化性
雰囲気としては、不活性ガス、真空等が挙げられる。前
記不活性ガスとしては、例えば、Heガス、Neガス、
Arガス、Krガス、Xeガス、Rnガス等が挙げら
れ、これらのうち1種または2種以上を混合して用いる
ことができる。また、雰囲気の組成、圧力等は、一定の
ものであってもよいし、経時的に変化するものであって
もよい。
レーザーの照射は、非酸化性雰囲気中で行う。非酸化性
雰囲気としては、不活性ガス、真空等が挙げられる。前
記不活性ガスとしては、例えば、Heガス、Neガス、
Arガス、Krガス、Xeガス、Rnガス等が挙げら
れ、これらのうち1種または2種以上を混合して用いる
ことができる。また、雰囲気の組成、圧力等は、一定の
ものであってもよいし、経時的に変化するものであって
もよい。
【0049】また、YVO4レーザーの照射時におい
て、雰囲気ガスは、実質的な不動状態(実質的にガス流
がない状態)であってもよいし、流動状態であってもよ
い。
て、雰囲気ガスは、実質的な不動状態(実質的にガス流
がない状態)であってもよいし、流動状態であってもよ
い。
【0050】雰囲気ガスが流動している状態でYVO4
レーザーの照射を行った場合、ガス流により、不活性雰
囲気による非酸化率が経時的に変化する。このため、場
所により変色状態が変化するパターンを形成することが
できる。
レーザーの照射を行った場合、ガス流により、不活性雰
囲気による非酸化率が経時的に変化する。このため、場
所により変色状態が変化するパターンを形成することが
できる。
【0051】一方、雰囲気ガスが実質的な不動状態であ
ると、基材2の表面に照射されるYVO4レーザーの照
射強度が安定する。その結果、変色状態が均一でなおか
つ変色部21と、非変色部22との境界がより鮮明なも
のとなる。
ると、基材2の表面に照射されるYVO4レーザーの照
射強度が安定する。その結果、変色状態が均一でなおか
つ変色部21と、非変色部22との境界がより鮮明なも
のとなる。
【0052】また、YVO4レーザーの照射は、連続照
射であってもよいし、パルス照射であってもよい。
射であってもよいし、パルス照射であってもよい。
【0053】基材2の表面に照射されるYVO4レーザ
ーのスポット径は、20〜80μmであるのが好まし
く、30〜50μmであるのがより好ましい。
ーのスポット径は、20〜80μmであるのが好まし
く、30〜50μmであるのがより好ましい。
【0054】YVO4レーザーのスポット径が前記下限
値未満であると、形成される変色部21の色彩がムラに
なり易くなる傾向を示す。一方、YVO4レーザーのス
ポット径が前記上限値を超えると、基材2の表面での、
YVO4レーザーのエネルギー密度が十分に得られない
可能性がある。その結果、変色部21と非変色部22と
の間での色調の差を十分に大きくすることが困難となる
場合がある。
値未満であると、形成される変色部21の色彩がムラに
なり易くなる傾向を示す。一方、YVO4レーザーのス
ポット径が前記上限値を超えると、基材2の表面での、
YVO4レーザーのエネルギー密度が十分に得られない
可能性がある。その結果、変色部21と非変色部22と
の間での色調の差を十分に大きくすることが困難となる
場合がある。
【0055】また、このようなYVO4レーザーの照射
は、基材2の実質的に同一である箇所に、複数回繰り返
し行ってもよい。これにより、より安定した色調の変色
部21が得られるとともに、変色部21と、非変色部2
2との境界がより鮮明なものとなる。
は、基材2の実質的に同一である箇所に、複数回繰り返
し行ってもよい。これにより、より安定した色調の変色
部21が得られるとともに、変色部21と、非変色部2
2との境界がより鮮明なものとなる。
【0056】以上のようなYVO4レーザーの照射によ
り、基材2の一部が除去されてもよい。すなわち、形成
される変色部21は、非変色部22に比べて凹んだもの
であってもよい。このように、変色部21が凹状である
と、変色部21と非変色部22との境界がより鮮明なも
のになるとともに、摩耗等によるパターンの視認性の低
下を効果的に防止することが可能となる。
り、基材2の一部が除去されてもよい。すなわち、形成
される変色部21は、非変色部22に比べて凹んだもの
であってもよい。このように、変色部21が凹状である
と、変色部21と非変色部22との境界がより鮮明なも
のになるとともに、摩耗等によるパターンの視認性の低
下を効果的に防止することが可能となる。
【0057】この場合、変色部21(凹部)の形状は、
特に限定されず、例えば、図3に示すような矩形であっ
てもよいし、図4に示すような形状のものであってもよ
い。
特に限定されず、例えば、図3に示すような矩形であっ
てもよいし、図4に示すような形状のものであってもよ
い。
【0058】また、凹部の深さは、特に限定されない
が、2μm以上であるのが好ましく、5μm以上である
ことがより好ましい。
が、2μm以上であるのが好ましく、5μm以上である
ことがより好ましい。
【0059】以上説明したような表面処理方法により、
装飾品1が得られる。装飾品1は、装飾性を備えた物品
であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のイ
ンテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース、時
計バンド、文字盤、時計用針、裏蓋等の時計用外装部
品、地板、回転錘、歯車等の時計用駆動部品、メガネ、
ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレ
スレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス
等の装身具、ライターまたはそのケース、ゴルフクラブ
等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジ
ング等を含む各種機器部品、各種容器等が挙げられる。
この中でも特に、時計用外装部品が好ましい。時計用外
装部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるとと
もに、実用品として、パターンの視認性、緻密性等が要
求されるが、本発明の表面処理方法によればこれらの要
件を全て満足することができる。
装飾品1が得られる。装飾品1は、装飾性を備えた物品
であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のイ
ンテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース、時
計バンド、文字盤、時計用針、裏蓋等の時計用外装部
品、地板、回転錘、歯車等の時計用駆動部品、メガネ、
ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレ
スレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス
等の装身具、ライターまたはそのケース、ゴルフクラブ
等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジ
ング等を含む各種機器部品、各種容器等が挙げられる。
この中でも特に、時計用外装部品が好ましい。時計用外
装部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるとと
もに、実用品として、パターンの視認性、緻密性等が要
求されるが、本発明の表面処理方法によればこれらの要
件を全て満足することができる。
【0060】以上、本発明の表面処理方法および装飾品
の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これ
に限定されるものではない。
の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これ
に限定されるものではない。
【0061】例えば、装飾品の表面の少なくとも一部に
は、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐摩耗性、耐変
色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向
上する保護層等が形成されていてもよい。
は、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐摩耗性、耐変
色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向
上する保護層等が形成されていてもよい。
【0062】
【実施例】次に、本発明の具体的実施例について説明す
る。
る。
【0063】1.装飾品の製造
(実施例1)以下に示すような表面処理を施すことによ
り、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造した。
り、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造した。
【0064】まず、ステンレス(SUS304)を用い
て、鍛造により、腕時計用裏蓋の形状を有する基材を作
製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
て、鍛造により、腕時計用裏蓋の形状を有する基材を作
製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
【0065】その後、基材の外表面側に、エメリー#1
80研磨にて、スジ目加工を施した。
80研磨にて、スジ目加工を施した。
【0066】スジ目加工が施された側の面における基材
の最大表面粗さRmaxは、1.5μmであった。
の最大表面粗さRmaxは、1.5μmであった。
【0067】次に、基材のスジ目加工が施された側の表
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
【0068】YVO4レーザーによる加工条件は、エネ
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:40μ
m、照射回数:2回とした。
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:40μ
m、照射回数:2回とした。
【0069】また、YVO4レーザーの照射は、大気中
で、実質的にガス流がない状態で行った。
で、実質的にガス流がない状態で行った。
【0070】なお、YVO4レーザーの照射装置として
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
【0071】(実施例2)基材の外表面側に、スジ目加
工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施例
1と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施例
1と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
【0072】前記梨地加工は、ガラスビーズを2kgf
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
【0073】得られた装飾品は、表面形状が梨地となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが1.8μmで
あった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが1.8μmで
あった。
【0074】(実施例3)基材の外表面側に、スジ目加
工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施例
1と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施例
1と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
【0075】前記鏡面加工は、研磨液として、98%リ
ン酸:10容と、70%硝酸:10容と、35%塩酸:
5容と、95%硫酸:2容との混合溶液を用いた化学研
磨により行った。
ン酸:10容と、70%硝酸:10容と、35%塩酸:
5容と、95%硫酸:2容との混合溶液を用いた化学研
磨により行った。
【0076】化学研磨時における研磨液への浸漬時間、
研磨液の温度は、それぞれ、3分、80℃であった。
研磨液の温度は、それぞれ、3分、80℃であった。
【0077】得られた装飾品は、表面形状が鏡面となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.25μm
であった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.25μm
であった。
【0078】(実施例4)YVO4レーザーによる加工
条件を、スポット径:45μmとした以外は、前記実施
例3と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
なお、スポット径の設定は基材取付高さ調整によってレ
ーザー光の焦点距離を変えることにより行った。
条件を、スポット径:45μmとした以外は、前記実施
例3と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
なお、スポット径の設定は基材取付高さ調整によってレ
ーザー光の焦点距離を変えることにより行った。
【0079】(実施例5)YVO4レーザーによる加工
条件を、スポット径:35μmとした以外は、前記実施
例3と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
条件を、スポット径:35μmとした以外は、前記実施
例3と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
【0080】(実施例6)以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造した。
施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造した。
【0081】まず、Tiを用いて、鍛造により、腕時計
用裏蓋の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。
用裏蓋の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。
【0082】その後、基材の外表面側に、エメリー#1
80研磨にて、スジ目加工を施した。
80研磨にて、スジ目加工を施した。
【0083】スジ目加工が施された側の面における基材
の最大表面粗さRmaxは、3.0μmであった。
の最大表面粗さRmaxは、3.0μmであった。
【0084】次に、基材のスジ目加工が施された側の表
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
【0085】YVO4レーザーによる加工条件は、エネ
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:40μ
m、照射回数:2回とした。
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:40μ
m、照射回数:2回とした。
【0086】また、YVO4レーザーの照射は、大気中
で、実質的にガス流がない状態で行った。
で、実質的にガス流がない状態で行った。
【0087】なお、YVO4レーザーの照射装置として
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
【0088】(実施例7)基材の外表面側に、スジ目加
工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施例
6と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施例
6と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
【0089】前記梨地加工は、ガラスビーズを2kgf
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
【0090】得られた装飾品は、表面形状が梨地となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが4.2μmで
あった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが4.2μmで
あった。
【0091】(実施例8)基材の外表面側に、スジ目加
工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施例
6と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施例
6と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
【0092】前記鏡面加工は、バフとして綿布、研磨材
としてエメリー粉末を油脂に混合した固形研磨材を用い
たバフ研磨により行った。
としてエメリー粉末を油脂に混合した固形研磨材を用い
たバフ研磨により行った。
【0093】得られた装飾品は、表面形状が鏡面となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.5μmで
あった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.5μmで
あった。
【0094】(実施例9)YVO4レーザーによる加工
条件を、スポット径:45μmとした以外は、前記実施
例8と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
条件を、スポット径:45μmとした以外は、前記実施
例8と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造した。
【0095】(実施例10)YVO4レーザーによる加
工条件を、スポット径:35μmとした以外は、前記実
施例8と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
工条件を、スポット径:35μmとした以外は、前記実
施例8と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0096】(実施例11)以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造し
た。
を施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造し
た。
【0097】まず、ステンレス(SUS304)を用い
て、鍛造により、腕時計用裏蓋の形状を有する基材を作
製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
て、鍛造により、腕時計用裏蓋の形状を有する基材を作
製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
【0098】その後、基材の外表面側に、エメリー#1
80研磨にて、スジ目加工を施した。
80研磨にて、スジ目加工を施した。
【0099】スジ目加工が施された側の面における基材
の最大表面粗さRmaxは、1.5μmであった。
の最大表面粗さRmaxは、1.5μmであった。
【0100】次に、基材のスジ目加工が施された側の表
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
【0101】YVO4レーザーによる加工条件は、エネ
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:30μ
m、照射回数:2回とした。
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:30μ
m、照射回数:2回とした。
【0102】また、YVO4レーザーの照射は、Arガ
ス雰囲気中で、実質的にガス流がない状態で行った。
ス雰囲気中で、実質的にガス流がない状態で行った。
【0103】なお、YVO4レーザーの照射装置として
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
【0104】(実施例12)基材の外表面側に、スジ目
加工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施
例11と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
加工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施
例11と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0105】前記梨地加工は、ガラスビーズを2kgf
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
【0106】得られた装飾品は、表面形状が梨地となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが1.8μmで
あった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが1.8μmで
あった。
【0107】(実施例13)基材の外表面側に、スジ目
加工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施
例11と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
加工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施
例11と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0108】前記鏡面加工は、バフとして綿布、研磨材
としてエメリー粉末を油脂に混合した固形研磨材を用い
たバフ研磨により行った。
としてエメリー粉末を油脂に混合した固形研磨材を用い
たバフ研磨により行った。
【0109】得られた装飾品は、表面形状が鏡面となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.25μm
であった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.25μm
であった。
【0110】(実施例14)YVO4レーザーによる加
工条件を、スポット径:50μmとした以外は、前記実
施例13と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
工条件を、スポット径:50μmとした以外は、前記実
施例13と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0111】(実施例15、16)また、YVO4レー
ザーの照射を真空中(10−5Pa)で行った以外は、
前記実施例13、14と同様にして表面処理を施し、装
飾品を製造した。
ザーの照射を真空中(10−5Pa)で行った以外は、
前記実施例13、14と同様にして表面処理を施し、装
飾品を製造した。
【0112】(実施例17)以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造し
た。
を施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造し
た。
【0113】まず、Tiを用いて、鍛造により、腕時計
用裏蓋の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。
用裏蓋の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。
【0114】その後、基材の外表面側に、エメリー#1
80研磨にて、スジ目加工を施した。
80研磨にて、スジ目加工を施した。
【0115】スジ目加工が施された側の面における基材
の最大表面粗さRmaxは、3.0μmであった。
の最大表面粗さRmaxは、3.0μmであった。
【0116】次に、基材のスジ目加工が施された側の表
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
面にYVO4レーザーを、パルス光として照射すること
により、変色部を形成した。
【0117】YVO4レーザーによる加工条件は、エネ
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:30μ
m、照射回数:2回とした。
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:30μ
m、照射回数:2回とした。
【0118】また、YVO4レーザーの照射は、Arガ
ス雰囲気中で、実質的にガス流がない状態で行った。
ス雰囲気中で、実質的にガス流がない状態で行った。
【0119】なお、YVO4レーザーの照射装置として
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
【0120】(実施例18)基材の外表面側に、スジ目
加工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施
例17と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
加工を施す代わりに梨地加工を施した以外は、前記実施
例17と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0121】前記梨地加工は、ガラスビーズを2kgf
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
/cm2の圧力で吹き付けることにより行った。
【0122】得られた装飾品は、表面形状が梨地となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが4.2μmで
あった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが4.2μmで
あった。
【0123】(実施例19)基材の外表面側に、スジ目
加工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施
例17と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
加工を施す代わりに鏡面加工を施した以外は、前記実施
例17と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0124】前記鏡面加工は、バフとして綿布、研磨材
としてエメリー粉末を油脂に混合した固形研磨材を用い
たバフ研磨により行った。
としてエメリー粉末を油脂に混合した固形研磨材を用い
たバフ研磨により行った。
【0125】得られた装飾品は、表面形状が鏡面となっ
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.5μmで
あった。
ている部位における最大表面粗さRmaxが0.5μmで
あった。
【0126】(実施例20)YVO4レーザーによる加
工条件を、スポット径:50μmとした以外は、前記実
施例19と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
工条件を、スポット径:50μmとした以外は、前記実
施例19と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0127】(実施例21、22)また、YVO4レー
ザーの照射を真空中(10−5Pa)で行った以外は、
前記実施例19、20と同様にして表面処理を施し、装
飾品を製造した。
ザーの照射を真空中(10−5Pa)で行った以外は、
前記実施例19、20と同様にして表面処理を施し、装
飾品を製造した。
【0128】(実施例23)以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造し
た。
を施すことにより、装飾品(腕時計用裏蓋)を製造し
た。
【0129】まず、Tiを用いて、鍛造により、腕時計
用裏蓋の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。
用裏蓋の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。
【0130】その後、基材の外表面側に、ガラスビーズ
を2kgf/cm2の圧力で吹き付けることにより梨地
加工を施した。
を2kgf/cm2の圧力で吹き付けることにより梨地
加工を施した。
【0131】梨地加工が施された側の面における基材の
最大表面粗さRmaxは、4.2μmであった。
最大表面粗さRmaxは、4.2μmであった。
【0132】次に、基材の梨地加工が施された側の表面
にYVO4レーザーを、パルス光として照射することに
より、変色部を形成した。
にYVO4レーザーを、パルス光として照射することに
より、変色部を形成した。
【0133】YVO4レーザーによる加工条件は、エネ
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:50μ
m、照射回数:2回とした。
ルギー強度:5W、周波数:10kHz、電流:18
A、スキャン速度:60m/s、スポット径:50μ
m、照射回数:2回とした。
【0134】また、YVO4レーザーの照射は、大気中
で、実質的にガス流がない状態で行った。
で、実質的にガス流がない状態で行った。
【0135】なお、YVO4レーザーの照射装置として
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
は、LT−100SA((株)レーザーテクノロジー社
製)を用いた。
【0136】(実施例24)YVO4レーザーによる加
工条件を、スポット径:30μmとした以外は、前記実
施例23と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
工条件を、スポット径:30μmとした以外は、前記実
施例23と同様にして表面処理を施し、装飾品を製造し
た。
【0137】(比較例1)基材表面に照射するレーザー
光として、CO2レーザーを用いた以外は、前記実施例
8と同様にして装飾品を形成した。
光として、CO2レーザーを用いた以外は、前記実施例
8と同様にして装飾品を形成した。
【0138】CO2レーザー(波長:10600nm)
の照射は、小型、低パワーの装置を用いて行った。
の照射は、小型、低パワーの装置を用いて行った。
【0139】このようにして得られた装飾品では、変色
部が形成されず、基材表面に形成されるべきパターンの
判読が不能であった。
部が形成されず、基材表面に形成されるべきパターンの
判読が不能であった。
【0140】(比較例2)基材表面に照射するレーザー
光として、エキシマレーザー(ArFエキシマレーザ
ー、波長:193nm)を用いた以外は、前記実施例8
と同様にして装飾品を形成した。
光として、エキシマレーザー(ArFエキシマレーザ
ー、波長:193nm)を用いた以外は、前記実施例8
と同様にして装飾品を形成した。
【0141】このようにして得られた装飾品では、変色
部が形成されず、基材表面に形成されるべきパターンの
判読が不能であった。
部が形成されず、基材表面に形成されるべきパターンの
判読が不能であった。
【0142】上記各実施例および各比較例について、表
面処理方法の各種条件を表1、表2にまとめて示す。
面処理方法の各種条件を表1、表2にまとめて示す。
【0143】
【表1】
【0144】
【表2】
【0145】2.装飾品の外観評価
上記各実施例および各比較例で製造した装飾品につい
て、外観(基材表面に形成されたパターンの視認性)を
目視により、以下の4段階で評価した。
て、外観(基材表面に形成されたパターンの視認性)を
目視により、以下の4段階で評価した。
【0146】
◎:視認性が特に優れる。
○:視認性に優れる。
△:視認性が良い。
×:視認性に劣る。
【0147】その結果、本発明の表面処理方法を用いて
製造された装飾品は、いずれも優れた美的外観を有し、
かつ優れた耐久性を有していた。
製造された装飾品は、いずれも優れた美的外観を有し、
かつ優れた耐久性を有していた。
【0148】これに対し、各比較例の表面処理方法によ
り製造された装飾品は、美的外観に劣っていた(基材表
面に形成されるべきパターンの判読が不能であった)。
り製造された装飾品は、美的外観に劣っていた(基材表
面に形成されるべきパターンの判読が不能であった)。
【0149】3.装飾品の耐久性評価
上記の外観評価で優れた結果が得られた装飾品(実施例
1〜24で製造した装飾品)について、耐久性の評価を
行った。
1〜24で製造した装飾品)について、耐久性の評価を
行った。
【0150】耐久性評価のための試験としては、以下の
ような耐摩耗性試験、耐薬品性試験を行った。
ような耐摩耗性試験、耐薬品性試験を行った。
【0151】3−1.耐摩耗性試験
上記各実施例で製造した装飾品について、耐摩耗性試験
機可動部に研磨材として牛皮を取り付けた。この研磨材
を被試験サンプルの上方より4.9N(500gf)の
荷重で押し当て、この状態を維持しながら一定距離を2
万回往復運動させることにより試験を行った。
機可動部に研磨材として牛皮を取り付けた。この研磨材
を被試験サンプルの上方より4.9N(500gf)の
荷重で押し当て、この状態を維持しながら一定距離を2
万回往復運動させることにより試験を行った。
【0152】以上のような耐摩耗性試験を行った後の装
飾品の基材表面に形成されたパターンの視認性を以下の
3段階で評価した。
飾品の基材表面に形成されたパターンの視認性を以下の
3段階で評価した。
【0153】
◎:摩擦によるパターンの視認性の低下が認められな
い。 ○:摩擦によるパターンの視認性の低下がわずかに認め
られる。 ×:摩擦によるパターンの視認性の低下が顕著に認めら
れる。
い。 ○:摩擦によるパターンの視認性の低下がわずかに認め
られる。 ×:摩擦によるパターンの視認性の低下が顕著に認めら
れる。
【0154】3−2.耐薬品性試験
上記各実施例で製造した装飾品を、5.0wt%の食塩
水、エチルアルコールに、室温で72時間浸漬した。
水、エチルアルコールに、室温で72時間浸漬した。
【0155】その後、各装飾品を水洗、乾燥し、基材表
面に形成されたパターンの視認性を、以下の3段階で評
価した。
面に形成されたパターンの視認性を、以下の3段階で評
価した。
【0156】
◎:パターンの視認性の低下が認められない。
○:パターンの視認性の低下がわずかに認められる。
×:パターンの視認性の低下が顕著に認められる。
【0157】装飾品の外観評価、耐久性評価の結果を表
3にまとめて示す。また、上記実施例1〜実施例24で
得られた装飾品は、変色部が凹状(凹部)になってい
た。凹部の深さも表3にあわせて示す。
3にまとめて示す。また、上記実施例1〜実施例24で
得られた装飾品は、変色部が凹状(凹部)になってい
た。凹部の深さも表3にあわせて示す。
【0158】
【表3】
【0159】表3から明らかなように、本発明の表面処
理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも優れた美
的外観を有し、かつ優れた耐久性を有している。また、
YVO4レーザーの照射が行われる基材が梨地加工を施
されたものであると、特に優れた美的外観が得られる。
理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも優れた美
的外観を有し、かつ優れた耐久性を有している。また、
YVO4レーザーの照射が行われる基材が梨地加工を施
されたものであると、特に優れた美的外観が得られる。
【0160】これに対し、各比較例の表面処理方法によ
り製造された装飾品は、美的外観に劣っていた。
り製造された装飾品は、美的外観に劣っていた。
【0161】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の表面処理方
法によれば、耐久性に優れ、美的外観に優れた装飾品を
容易かつ迅速に製造することができる。
法によれば、耐久性に優れ、美的外観に優れた装飾品を
容易かつ迅速に製造することができる。
【0162】また、レーザー光を用いてパターニングす
るため、複雑な形状の基材表面にも精密にパターンを設
けることができ、デザインの自由度が大きい。さらに、
工程を簡略化することができ、製造コストの低減を図る
ことができる。
るため、複雑な形状の基材表面にも精密にパターンを設
けることができ、デザインの自由度が大きい。さらに、
工程を簡略化することができ、製造コストの低減を図る
ことができる。
【図1】 本発明の表面処理方法が施される部材を示す
断面図である。
断面図である。
【図2】 本発明の装飾品を示す断面図である。
【図3】 本発明の装飾品を示す断面図である。
【図4】 本発明の装飾品を示す断面図である。
1……装飾品 2……基材 21……変色部 22……
非変色部
非変色部
Claims (9)
- 【請求項1】 主として金属材料で構成された部材の表
面の少なくとも一部に、YVO4レーザーを照射するこ
とにより、青色、紫色または黄色の変色部を形成するこ
とを特徴とする表面処理方法。 - 【請求項2】 非酸化性雰囲気中で、主として金属材料
で構成された部材の表面の少なくとも一部に、YVO4
レーザーを照射することにより、白色の変色部を形成す
ることを特徴とする表面処理方法。 - 【請求項3】 前記部材は、その少なくとも一部が、ス
テンレス鋼、TiまたはTi合金で構成されたものであ
る請求項1または2に記載の表面処理方法。 - 【請求項4】 前記部材の表面に照射される前記YVO
4レーザーのスポット径は、20〜80μmである請求
項1ないし3のいずれかに記載の表面処理方法。 - 【請求項5】 前記部材は、表面の少なくとも一部に、
鏡面加工、梨地加工、スジ目加工から選択される少なく
とも一つの表面加工が施されたものである請求項1ない
し4のいずれかに記載の表面処理方法。 - 【請求項6】 前記部材のYVO4レーザーの照射され
た箇所が凹状になっている請求項1ないし5のいずれか
に記載の表面処理方法。 - 【請求項7】 前記部材の実質的に同一である箇所に、
前記YVO4レーザーを複数回照射する請求項1ないし
6のいずれかに記載の表面処理方法。 - 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかに記載の表
面処理方法を用いて製造されたことを特徴とする装飾
品。 - 【請求項9】 装飾品は、時計用外装部品である請求項
8に記載の装飾品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001333372A JP2003138384A (ja) | 2001-10-30 | 2001-10-30 | 表面処理方法および装飾品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001333372A JP2003138384A (ja) | 2001-10-30 | 2001-10-30 | 表面処理方法および装飾品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003138384A true JP2003138384A (ja) | 2003-05-14 |
Family
ID=19148640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001333372A Pending JP2003138384A (ja) | 2001-10-30 | 2001-10-30 | 表面処理方法および装飾品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003138384A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004250786A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-09-09 | Iwakura Yosetsu Kogyosho:Kk | レーザによるカラーマーキング方法 |
KR101324157B1 (ko) * | 2013-05-14 | 2013-11-01 | 조영임 | 금속 의장판 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 금속 의장판 |
WO2014136946A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 株式会社三五 | リチウム二次電池用負極材料及びその製造方法 |
CN112140788A (zh) * | 2020-09-23 | 2020-12-29 | 维沃移动通信有限公司 | 用于电子产品的壳体的制备方法、壳体及电子设备 |
-
2001
- 2001-10-30 JP JP2001333372A patent/JP2003138384A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004250786A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-09-09 | Iwakura Yosetsu Kogyosho:Kk | レーザによるカラーマーキング方法 |
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US9614215B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-04-04 | Sango Co., Ltd. | Negative electrode material for lithium secondary battery and method for manufacturing the same |
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