JP2003114335A - 光フィルタモジュールおよびその製造方法 - Google Patents

光フィルタモジュールおよびその製造方法

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JP2003114335A
JP2003114335A JP2001308310A JP2001308310A JP2003114335A JP 2003114335 A JP2003114335 A JP 2003114335A JP 2001308310 A JP2001308310 A JP 2001308310A JP 2001308310 A JP2001308310 A JP 2001308310A JP 2003114335 A JP2003114335 A JP 2003114335A
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filter
optical fiber
groove
optical
flat substrate
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JP2001308310A
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Kazunari Nishihara
和成 西原
Tetsuo Shimamura
徹郎 島村
Kanji Kato
寛治 加藤
Kazuo Fujiwara
和男 藤原
Mikio Degawa
三喜夫 出川
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
    • G02B6/293—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
    • G02B6/29346—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by wave or beam interference
    • G02B6/29361—Interference filters, e.g. multilayer coatings, thin film filters, dichroic splitters or mirrors based on multilayers, WDM filters
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光導波路の経路に光フィルタを挿入実装した
光フィルタモジュールに関して、入出力光ファイバ間の
光軸調整を低減し、挿入する光フィルタの位置ずれの少
ない高精度な実装方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 上下の平面基板３，５の主面に光ファイ
バが突出するように精密Ｖ溝１０，１１を形成し、一方
の平面基板に光ファイバを実装し、他方の平面基板主面
の精密Ｖ溝に交叉するように形成したフィルタ挿入溝１
に多層膜フィルタ２を挿入した後突出した光ファイバと
他方の精密Ｖ溝をガイドレールとして２枚の平面基板
３，５で挟持して多層膜フィルタ２を固定、実装する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は各種光学フィルタを
光ファイバおよび光導波路に組み込み一体化させた光通
信用の光フィルタモジュールおよびその製造方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバを用いた光情報通信システム
において、ファイバによる放射、吸収などにより光は減
衰する。この減衰した光を増幅するシステムとして光フ
ァイバアンプが用いられている。システム構成の一例を
図９（ａ）に示す。図９（ａ）において、光アイソレー
タ５３、エルビウムをドープした光ファイバ５１、励起
用のレーザ光を入射するためのポンピングレーザ５４、
出力モニタリング用ＰＤ（フォトダイオード）５２、利
得（ゲイン）を調整するフィルタ５５からなる光ファイ
バアンプは光信号を電気信号に変換することなく出力増
幅が可能であるため光通信網に不可欠なシステムとなっ
ている。
【０００３】ポンピングレーザ５４の波長はシングルモ
ードファイバでは波長が１．４８μｍのものが用いられ
る。しかし、図９（ｂ）の特性Ａに示すその増幅利得に
周波数依存性をもつため、特性Ｂに示す特性Ａの逆特性
をもつフィルタ５５を光出力増幅後の伝送経路に挿入
し、増幅利得を特性Ｃに示すように平坦化する必要があ
る。このフィルタ５５をゲイン平坦化フィルタ（ＧＦ
Ｆ）と呼ぶ。
【０００４】通常、このゲイン平坦化フィルタ５５はフ
ァイバ間に挿入、一体化させたモジュールとして用いら
れ、そのモジュールの構造を図９（ｃ）に示す。光ファ
イバ５６、集光用レンズ５７、ゲイン平坦化フィルタ５
８の光軸を調整したのち金属筐体５９に実装して封止さ
れる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来、上記のゲイン平
坦化フィルタ５８を光ファイバ５６間に実装、一体化さ
せたモジュールを作製する場合、金属筐体５９へ光ファ
イバ５６を仮固定する。次に光ファイバ５６から拡散す
る光を集光するための集光用レンズ５７、ゲイン平坦化
フィルタ５８を実装する。次に入射側の光ファイバ５６
から光信号を入射し、出射側の光ファイバ５６からの光
信号をパワーメータ等で測定して、光信号が最大となる
位置で光軸を調整、集光用レンズ５７、ゲイン平坦化フ
ィルタ５８を金属筐体５９にかしめて固定する。このよ
うに入射側光ファイバ５６と集光用レンズ５７との光
軸、集光用レンズ５７とゲイン平坦化フィルタ５８との
光軸、ゲイン平坦化フィルタと集光用レンズ５７との光
軸、集光用レンズと出射側光ファイバ５６との光軸と４
軸の光軸調整が必要で高コストになるという課題があっ
た。
【０００６】上記課題に対する一つの解決方法として特
許第３１７５８１４号公報が提案されている。その構成
図を図１０（ａ）、（ｂ）に示す。これはシリコン基板
上に作製した埋め込み型光導波路に交叉するように挿入
溝を形成して多層膜フィルタを挿入、一体化した反射型
ＷＤＭ用合分波器の例である。３１はシリコン基板、３
２はクラッド材、３３は入力用導波路、３３'はコモン
ポート、３４は第１の出力用導波路、３４’は第１の出
力ポート、３５は第２の出力用導波路、３５’は第２の
出力ポート、３６は多層膜フィルタの挿入溝、３７は多
層膜フィルタを示している。光を導波させる通路をシリ
コン基板３１上に導波路として１面に形成し、フィルタ
挿入溝３６を導波路に交叉するように形成することによ
り導波路３３，３５、および３４の光軸調整を不要とし
ている。
【０００７】さらに、多層膜フィルタ３７の横幅をＷ、
膜厚をＤｆ、反りの曲率半径をＲ、フィルタ挿入溝３６
の幅をＤｇとすると、 Ｒ＜Ｗ2／８（Ｄｇ−Ｄｆ） の関係を満たすようにフィルタ挿入溝３６の幅Ｄｇ、多
層膜フィルタ３７の反りの曲率半径Ｒを設定することに
より、多層膜フィルタ３７の反りを利用してフィルタ挿
入溝３６へ確実に固定できる構造を提案している。すな
わち、埋め込み型光導波路により光の導波経路を作製
し、その経路に各種フィルタを挿入、一体化させたモジ
ュール構造を提案している。
【０００８】しかし、この方式では、多層膜フィルタ３
７が必ず一定以上の曲率をもつ反りをもつため実装ずれ
による多層膜フィルタへの入射角が大きくずれるという
課題がある。さらに、光の導波経路に埋め込み型導波路
を用いた場合、フィルタ挿入溝３６において必然的に導
波路３５および３３と多層膜フィルタ３７とに反りによ
るギャップが形成されることになる。このギャップによ
り導波路３５および３３から光が拡散し、損失するとい
う課題がある。また、反りをもつ部品を機械的に保持し
て微小溝に挿入することは非常に困難であり、製造面で
も不利である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明による請求項１に記載の発明は、下部平面基
板と、２分割された上部平面基板と、この下部平面基板
と上部平面基板の接合面に光ファイバを保持させる溝を
それぞれ設け、この溝と交叉するように下部平面基板に
フィルタ挿入溝を設け、このフィルタ挿入溝で分離され
るように光ファイバを溝を用いて配置するとともにフィ
ルタ挿入溝に多層膜フィルタを配置し、この多層膜フィ
ルタのフィルタ挿入溝から突出する上部を上部平面基板
で挟持固定させた光フィルタモジュールであり、光ファ
イバ端面へ多層膜フィルタの反りに依存せず確実に固
着、実装できる作用を有すると同時に上部平面基板によ
る多層膜フィルタを挟持するので多層膜フィルタの反り
を矯正し光ファイバと多層膜フィルタの入射角を安定化
させる作用を有するものである。
【００１０】また、請求項２に記載の発明は、光ファイ
バがコア径拡大ファイバである請求項１に記載の光フィ
ルタモジュールであり、請求項１と同等の作用を有する
と同時にスポットサイズを拡大しファイバ間の損失を低
減できる効果を有するものである。
【００１１】また、請求項３に記載の発明は、フィルタ
挿入溝の壁面に面した光ファイバの端面がコア径拡大部
である請求項１に記載の光フィルタモジュールであり、
請求項１及び２と同等の作用を有するものである。
【００１２】また、請求項４に記載の発明は、多層膜フ
ィルタがフィルタ挿入溝のいずれか一方の側壁に当接す
るように固定した請求項１に記載の光フィルタモジュー
ルであり、請求項１と同等の作用を有するとともに多層
膜フィルタを倒れなく固着、実装できる作用を有するも
のである。
【００１３】また、請求項５に記載の発明は、フィルタ
挿入溝の底部が一方の溝壁側が浅く他方の溝壁側が深く
なる形状とした請求項１に記載の光フィルタモジュール
であり、請求項１および２と同等の作用を有するもので
ある。
【００１４】また、請求項６に記載の発明は、下部平面
基板と上部平面基板、下部平面基板および上部平面基板
と光ファイバとを光硬化性接着剤または熱硬化性接着剤
を用いて結合した請求項１に記載の光フィルタモジュー
ルであり、請求項１と同等の作用を有すると同時に実装
に要する時間を短縮化する作用を有するものである。
【００１５】また、請求項７に記載の発明は、下部平面
基板に光ファイバ位置決め用の溝を設け、この溝に光フ
ァイバを取り付けた後この光ファイバと交叉するように
フィルタ挿入溝を形成し、このフィルタ挿入溝に多層膜
フィルタを挿入した後下部平面基板との接合面に上記光
ファイバの下部平面基板より突出する部分にはめ込むガ
イド溝を設けた２つの上記平面基板を下部平面基板上に
配置し、この２つの上部平面基板の少なくともいずれか
一方を光ファイバをガイドとして移動させて上記フィル
タ挿入溝に挿入されフィルタ挿入溝より突出した多層膜
フィルタの上部を２つの上部平面基板で挟持した後両上
部平面基板を下部平面基板に固着する光フィルタモジュ
ールの製造方法であり、請求項１と同等の作用を有する
と同時に上部平面基板の位置合わせを容易にできる作用
を有するものである。
【００１６】また、請求項８に記載の発明は、フィルタ
挿入溝を形成するとき光ファイバも同時に切断する請求
項５に記載の光フィルタモジュールであり、請求項５に
記載の発明と同等の作用を有すると同時にモジュールの
組み立て実装時間を短縮できる作用を有するものであ
る。
【００１７】また、請求項９に記載の発明は、光ファイ
バ切断位置がコア径拡大部である請求項７に記載の光フ
ィルタモジュールの製造方法であり、請求項１および請
求項２と同等の作用を有するものである。
【００１８】また、請求項１０に記載の発明は、下部平
面基板に光ファイバ位置決め用の溝と、この溝と交叉す
るフィルタ挿入溝を形成し、上記光ファイバ位置決め用
の溝にフィルタ挿入溝に一端が位置するように光ファイ
バを取り付け、上記フィルタ挿入溝に多層膜フィルタを
挿入した後下部平面基板との接合面に上記光ファイバの
下部平面基板より突出する部分をはめ込むガイド溝を設
けた２つの上部平面基板を下部平面基板上に配置し、こ
の２つの上部平面基板の少なくともいずれか一方を光フ
ァイバをガイドとして移動させて上記フィルタ挿入溝に
挿入されフィルタ挿入溝より突出する多層膜フィルタの
上部を２つの上部平面基板で挟持した後両上部平面基板
を下部平面基板に固着する光フィルタモジュールの製造
方法であり、請求項１と同等の作用を有すると同時に多
層膜フィルタと光ファイバの端面とのギャップを小さく
することができ、多層膜フィルタと光ファイバとの結合
損失を小さくできる作用を有するものである。
【００１９】また、請求項１１に記載の発明は、光ファ
イバ位置決め用の溝を形成した上部平面基板に上記溝を
利用して光フィルタを取り付けた後この上部平面基板を
２つに分断し、上面に光ファイバ位置決め用の溝とこの
溝と交叉するフィルタ挿入溝を形成した下部平面基板を
準備し、この下部平面基板のフィルタ挿入溝に多層フィ
ルタを挿入した後２つに分断した上部平面基板を下部平
面基板上に配置し、上部平面基板に取り付けた光ファイ
バを下部平面基板の光ファイバ位置決め用の溝にはめ込
んで位置合わせをし、上記上部平面基板の少なくともい
ずれか一方を移動させて上記フィルタ挿入溝に挿入され
このフィルタ挿入溝より突出した多層膜フィルタの上部
を２つの上部平面基板で挟持した後上部平面基板と下部
平面基板とを固着する光フィルタモジュールの製造方法
であり、請求項１と同等の作用を有すると同時に上部平
面への光ファイバの実装を容易にする作用を有するもの
である。
【００２０】また、請求項１２に記載の発明は、上部平
面基板を２つに分断するとき同時に光ファイバも分断す
る請求項１１に記載の光フィルタモジュールの製造方法
であり、請求項１１と同等の作用を有すると同時にモジ
ュールの組み立て実装時間を短縮できる作用を有するも
のである。
【００２１】また、請求項１３に記載の発明は、光ファ
イバ位置決め用の溝を設けた２つの上部平面基板に一端
がこの上部平面基板の端面に合致するように光ファイバ
を取り付け、一方上面に光ファイバ位置決め用の溝およ
びこの溝を交叉するようにフィルタ挿入溝を設けた下部
平面基板を準備し、この下部平面基板の光ファイバ位置
決め用の溝に２つの上部平面基板を配置し、この２つの
上部平面基板の少なくともいずれか一方を移動させて上
記フィルタ挿入溝に挿入されこのフィルタ挿入溝より突
出した多層膜フィルタの上部を２つの上部平面基板で挟
持した後上部平面基板と下部平面基板とを固着する光フ
ィルタモジュールの製造方法であり、請求項１と同等の
作用を有すると同時に光ファイバの先端を鏡面研磨や球
面研磨処理などを施すことが可能であるため、光ファイ
バと多層膜フィルタとの結合損失を小さくできる作用を
有するものである。
【００２２】また、請求項１４記載の発明は、下部平面
基板に対する２つの上部平面基板の組み込みにおいて、
一方の上部平面基板を下部平面基板のフィルタ挿入溝に
対応するように取り付け保持した後他方の上部平面基板
を下部平面基板上に移動させて２つの上部平面基板で多
層膜フィルタの上部を挟持する請求項７，１０，１１，
１３のいずれか１つに記載の光フィルタモジュールの製
造方法であり、請求項１と同等の作用を有すると同時に
上部平面基板の位置合わせを容易にする作用、光ファイ
バと多層膜フィルタの結合損失を小さくする作用を有す
るものである。
【００２３】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）以下に本発明に
よる光フィルタモジュールの実施の形態１を図１（ａ）
〜（ｃ）および図２（ａ）〜（ｄ）を用いて説明する。
図１（ａ）は本発明による２心光フィルタモジュールの
上面図を示しており、（ｂ）はその側面図、（ｃ）はそ
の断面図を示している。ここで、１は多層膜フィルタの
挿入溝、２は多層膜フィルタ、３は上部平面基板、４は
光通路、５は下部平面基板、６は光学接着剤、１０，１
１は上部および下部平面基板３，５の主面に形成したＶ
溝をそれぞれ示している。
【００２４】多層膜フィルタ２は、例えばガラスやポリ
イミドなどの樹脂基板上にＳｉＯ2やＴａ2Ｏ5などの誘
電体薄膜を多数積層したものである。上部平面基板３お
よび下部平面基板５は例えばガラスやシリコンなどであ
り、光通路４と線膨張係数は近い方が望ましいが、その
固定に樹脂系の接着剤を用いる場合、接着剤の弾性で線
膨張係数差による応力を緩和することは可能である。ま
た、接着剤に光硬化性のものを用いる場合は光を透過さ
せる材料が望ましい。光学接着剤６は、光通路端面から
の光の分散を防止するため、光通路４に用いる材料と同
等の屈折率を有するものを選択する。
【００２５】光通路４に石英ガラス系を用いる場合は、
光学接着剤６の屈折率も石英ガラスの屈折率１．４４に
できる限り近いものを選択するほうがよい。光通路４は
例えば光ファイバであり、上部平面基板３および下部平
面基板５には光ファイバを実装、固定するためのその基
板内で深さおよび角度が均一なＶ溝１０および１１が形
成されている。各々の平面基板３および５に形成された
Ｖ溝１０および１１の深さおよび角度を所定の値に加工
することにより上下に配置した平面基板３および５によ
り挟持し、光ファイバの位置ずれなしに実装が可能であ
る。
【００２６】例えば、Ｖ溝１０および１１の先端角を
α、実装する光ファイバの半径をｒ、Ｖ溝１０および１
１の深さをｄとすると、 ｄ＝ｒ／ｓｉｎ（α／２） に設定することにより光ファイバの中心が平面基板３お
よび５のちょうど表面に位置することになる。通常、ガ
ラス系光ファイバの光通路であるクラッド径が１２５μ
ｍであるからＶ溝１０および１１の先端角度を９０度と
するとＶ溝１０および１１の深さを約１８０μｍにする
ことにより上下の平面基板３および５に挟持することに
より光ファイバを確実に固定することが可能である。
【００２７】また、上下の平面基板３および５に形成さ
れたＶ溝１０および１１の深さや角度は必ずしも同一形
状である必要は無く、一方の平面基板のＶ溝１０に光フ
ァイバを実装したときの光ファイバの主面からの突出量
以上に挟持する一方の平面基板に形成するＶ溝１１の角
度および深さを設定することにより確実に上下の平面基
板３および５により光ファイバの実装、固定が可能とな
る。ただし、挟持する平面基板３および５の主面に形成
したＶ溝１０および１１を必要以上に大きく加工した場
合、後に説明する製造方法において上部平面基板３のガ
イドとしての効果が小さくなるため、実際には適度な範
囲でＶ溝１０および１１の角度および深さを設定すべき
である。
【００２８】Ｖ溝１０および１１の先端角を同じにした
場合、挟持する一方のＶ溝１０の深さを光ファイバの中
心まで埋め込まれる深さに設定した場合、もう一方の平
面基板に形成するＶ溝１１の深さはプラス１０％程度に
設定するべきである。また、下部平面基板５に形成され
たフィルタ挿入溝１は光ファイバに対し所定の角度Θを
もって形成されている。これは多層膜フィルタ２へ光フ
ァイバから入射する光の反射を防止するためであり、導
波させる光の波長に依存するがシングルモードファイバ
（ＳＭＦ）で波長１．４８μｍの光を導波させる場合、
傾斜角Θは５〜１０度程度が望ましい。
【００２９】また、光ファイバの光を閉じこめ導波させ
るコア部を一部拡大させたコア径拡大ファイバを用いる
ことにより、光ファイバと多層膜フィルタ２との結合損
失をさらに低減することも可能である。
【００３０】本発明での光フィルタモジュールは光通路
４に交叉するようにフィルタ挿入溝１を形成し、多層膜
フィルタ２を挿入する構造となる。そのため光ファイバ
の経路が光フィルタ挿入溝１で分断されることになり、
多層膜フィルタ２を介して光ファイバの端面間に光フィ
ルタ挿入溝１の幅のギャップＧが存在することになる。
光ファイバの端面での光のスポットサイズｗが同一の場
合、ギャップ長Ｇを介した光ファイバ端面間の電力透過
係数Ｔｇは、多層膜フィルタ２の屈折率をｎとすると、 Ｔｇ＝｛１＋（λ×Ｇ／（２×π×ｎ×ｗ2））2｝-1 で表される。λは波長を示している。
【００３１】この式より、透過損失は波長あるいはギャ
ップ長Ｇの増加に比例して増加すること、またスポット
サイズの２乗の逆数に比例して透過損失は急激に減少す
ることがわかる。このことから多層膜フィルタ挿入溝１
の壁面に露出している光ファイバの端面のスポットサイ
ズは大きいほど透過損失の低減には有利となる。コア径
拡大ファイバとしては各種の方式が提案されているが、
その代表的なものにＴＥＣ（Ｔｈｅｒｍａｌｌｙ Ｅｘ
ｐａｎｄｅｄ Ｃｏｒｅ）ファイバがある。このＴＥＣ
ファイバはクラッド部分の一部を加熱することによりコ
ア部の屈折率を制御するＧｅＯ2などのドープ元素をク
ラッドの一部まで拡散させることにより実質的にコア径
を拡大させた特殊なファイバである。このＴＥＣファイ
バを用いることによりファイバ端面からの光のスポット
サイズを大きくすることが可能である。このコア径拡大
ファイバを本発明の光フィルタモジュールに用いる場
合、光ファイバにおいてコア径拡大部分の最大部分を交
叉するようにフィルタ挿入溝１を加工、形成すべきであ
る。
【００３２】光フィルタ挿入溝１の形状は図２（ｂ）、
（ｃ）、（ｄ）に示すいろいろな形状が考えられる。い
ずれの場合も光フィルタ挿入溝１の底部において一方の
溝壁側が浅く、他方の溝壁側が深くなる形状としてい
る。図２（ｂ）はフィルタ挿入溝１の底部から一方の溝
壁側が下部平面基板５の主面まで一定の角度Θ２をもっ
ている場合であり、図２（ｃ）は光フィルタ挿入溝１の
底部に一部平坦部を形成したものである。また、図２
（ｄ）は光フィルタ挿入溝１の底部の一部に平坦部を形
成し、かつ一方の溝壁側の一部が浅い角度Θ４をもつよ
うに形成したものである。これらの光フィルタ挿入溝１
は、例えば予め溝形状にその先端を成形したダイヤモン
ド砥石を用いて形成する。すなわちダイヤモンド砥石の
先端形状を溝形状に転写することにより形成するため、
加工後の溝形状はダイヤモンド砥石の成形精度に大きく
依存することになる。砥石幅が０．１ｍｍ以下となる場
合、使用できるダイヤモンド粒子径の制約上加工が難し
くなるが、砥石幅が０．１ｍｍを超える場合は比較的形
状加工が容易である。
【００３３】フィルタ挿入溝１を図２に示すように一方
の壁側面に対し他方の壁側面の傾斜を浅く異形に加工す
る理由として、多層膜フィルタ２を挿入したのちフィル
タの傾斜を防止するためであり、また以下に説明する製
造方法において先に実装した上部平面基板３の端面を基
準面としてフィルタ挿入溝１を形成する場合、加工用の
ダイヤモンド砥石を基準面である上部平面基板３側に加
工途中で押し付ける方向に力が働くため、ダイヤモンド
砥石の蛇行によるフィルタ挿入溝１の加工精度劣化を防
止するためである。以上は光ファイバが２心の場合の一
例であるが、これがさらに複数の多心アレイになっても
同様である。
【００３４】（実施の形態２）次に図３および図４を用
いて本発明による光フィルタモジュールの製造方法につ
いて説明する。
【００３５】図３において、１は多層膜フィルタ挿入
溝、２は多層膜フィルタ、３は上部平面基板、４は光通
路としての光ファイバ、５は下部平面基板、６は光学接
着剤、１０は下部平面基板５の主面に形成した精密Ｖ
溝、１１は上部平面基板３の主面に形成した精密Ｖ溝、
１２は紫外線などの光源あるいは熱源を示している。
【００３６】本発明の光フィルタモジュールの製造法
は、第一の工程として図３（ａ）に示すようにその主面
に精密なＶ溝１０および１１を形成した上部平面基板３
と下部平面基板５を用意する。このとき、平面基板３お
よび５の材料としては後の工程で実装、固定する光ファ
イバ４と同等の線膨張係数を有する材料が望ましく、さ
らに平面基板３および５の固着に光硬化性接着剤を用い
ることを考慮して光透過性を有することが望ましい。
【００３７】次に第２の工程として図３（ｂ）に示すよ
うに下部平面基板に光ファイバ４を実装、固定する。光
ファイバ４の実装部分は実装精度を考慮して被覆を除去
したクラッド部にすることがより望ましい。また、実装
固定した光ファイバ４が下部平面基板５の主面より突出
するようにＶ溝１０の角度や深さを設定する。こうする
ことにより、突出した光ファイバ４をガイドレールとし
て上部平面基板３の位置決めが容易となる。また、光フ
ァイバ４をコア径拡大ファイバを使用することにより、
光ファイバ４の端面のスポットサイズを拡大し、光ファ
イバ４間の透過損失や結合損失を低減することができよ
り効果的である。
【００３８】次に第３の工程として図３（ｃ）に示すよ
うに、光ファイバ４が実装固定された下部平面基板５の
主面に光ファイバ４を交叉するようにフィルタ挿入溝１
を形成する。後の工程でこのフィルタ挿入溝１に多層膜
フィルタ２を挿入、実装するが多層膜フィルタ２の表面
での光の反射を防止するため光ファイバ４とフィルタ挿
入溝１とは一定の角度を持って交叉するように形成す
る。使用する光の波長に依存するが、この交叉角度は５
〜１０度の範囲が一般的である。また、光ファイバ４に
コア径拡大ファイバを用いる場合、フィルタ挿入溝１は
コア径拡大部の最大部を交叉するように形成すべきであ
る。
【００３９】フィルタ挿入溝１は例えば溝形状に成形し
たｃＢＮやダイヤモンドを砥粒とした砥石を用いて研削
加工により形成したり、あるいはブラストなどの粉体加
工を用いたり、平面基板の材料がシリコンを用いた場
合、ウエットエッチングやドライエッチングを用いるの
も有効である。実施の形態１で説明したフィルタ挿入溝
１の断面形状を異形に加工する場合、砥石を成形するほ
うが形状の自由度が高く有利である。
【００４０】さらに、フィルタ挿入溝１の形成と光ファ
イバ４の分割を同時に行うため、切断・分割された光フ
ァイバ４の端面の表面粗さを向上するため、機械加工で
形成する場合、使用砥粒は可能な限り小さいものが望ま
しい。本発明ではダイヤモンド砥石を使用し、フィルタ
挿入溝１を形成したが、ダイヤモンド砥粒の番手を＃３
０００以上を選択することによりほぼ鏡面に近い光ファ
イバ４の端面を得た。
【００４１】次に第４の工程として図３（ｄ）に示すよ
うに、下部平面基板５の主面に光学接着剤６を一面に塗
布し、さらに光学接着剤６が充填されたフィルタ挿入溝
１に多層膜フィルタ２を挿入する。このとき、必ず挿入
した多層膜フィルタ２の上部が下部平面基板５の主面よ
り突出するように多層膜フィルタ２の大きさを設定す
る。多層膜フィルタ２の突出量は少なくとも上部平面基
板の厚みの１／２以上が望ましい。また、前工程で形成
したフィルタ挿入溝１の内部にも光学接着剤６が充填さ
れるようにする。光学接着剤６は、使用する光ファイバ
４のコア材料の屈折率と同等のものを用いることにより
ファイバ間の結合損失を低減可能である。また、光学接
着剤６の硬化方法としては、紫外線などの光を用いる方
法、加熱する方法などが考えられるが、製造時間の短縮
化には光を用いる方法が有利と思われる。
【００４２】次に第５の工程として図３（ｅ）および図
３（ｆ）に示すように、フィルタ挿入溝１から突出した
多層膜フィルタ２の両側から下部平面基板５の主面から
突出した光ファイバ４をガイドレールとしてその主面に
Ｖ溝１１を形成した上部平面基板３を移動させ、フィル
タ挿入溝１に挿入された多層膜フィルタ２を両側から挟
持し固定する。このとき、一方の上部平面基板３の側面
をフィルタ挿入溝１の側面に沿って実装することによ
り、挿入する多層膜フィルタ２を挿入溝１の一方の側面
に沿わせて実装固定することが可能であり、もう一方の
上部平面基板３で挟持する場合の多層膜フィルタ２の割
れ防止に有利である。
【００４３】挟持する部分は多層膜フィルタ２の突出部
分となるが、多層膜フィルタ２に反りが生じている場
合、突出量を長くし、上部平面基板３で挟持する面積を
広くすることにより反りの矯正も可能となる。また、多
層膜フィルタ２の形成基板にガラス等を用いれば弾性係
数が大きいため応力による割れなどの防止に効果的であ
る。また、上部平面基板３の主面に形成されたＶ溝１１
の角度および深さは、光ファイバ４の突出量により適宜
設定する。突出量に対し余裕のあるＶ溝１１の深さと角
度を設定した場合、光ファイバ４のガイドレールとして
の効果は小さくなる。また光ファイバ４の突出量より小
さいＶ溝１１を形成した場合、ガイドレールとしての効
果が小さくなると同時に下部平面基板５に対し上部平面
基板３が光ファイバ４を支点に傾斜して実装されるため
信頼性の低下を招くことになる。
【００４４】最後に第６の工程として図３（ｇ）に示す
ように、上下の平面基板３および５の片側あるいは両側
より紫外線などの光を照射、あるいは熱を加え硬化させ
て完成する。上記の工程は、下部平面基板５に光ファイ
バ４を実装、固定した後光ファイバ４の切断と同時にフ
ィルタ挿入溝１を形成するため、２分割された光ファイ
バ４の端面の光軸調整は不要であり、さらにフィルタ挿
入溝１の形成と光ファイバ４の切断を同時に行うため製
造時間が短縮できる。
【００４５】図４に示す製造方法は、第一の工程として
図４（ａ）に示すように下部平面基板５の主面に精密な
Ｖ溝１０を形成する。次に第２の工程として図４（ｂ）
に示すように下部平面基板５の主面に精密なＶ溝１０と
交叉するようにフィルタ挿入溝１を形成する。次に第３
の工程として図４（ｃ）に示すように、下部平面基板５
の主面に光学接着剤６を塗布し、フィルタ挿入溝１に多
層膜フィルタ２を挿入する。次に第４の工程として図４
（ｄ）に示すように予め分割された光ファイバ４を下部
平面基板５の主面に形成されたＶ溝１０に沿って実装、
固定する。このとき、多層膜フィルタ２はフィルタ挿入
溝１の一方の側面に沿わせることにより、上部平面基板
３で挟持する場合の割れ防止となる。この場合、予め光
ファイバ４の端面を鏡面処理することが可能であるため
光ファイバ４間の透過損失や結合損失を低減できること
になる。さらに、挿入した多層膜フィルタ２の主面に光
ファイバ端面を当接することが可能であるため光ファイ
バ間の透過損失や結合損失をさらに低減することができ
る。以下の図４（ｅ）〜（ｇ）に示す工程は図３（ｅ）
〜（ｇ）に示す製造方法と同じであるためここでは説明
を省略する。
【００４６】（実施の形態３）次に図５〜図８を用いて
本発明による光フィルタモジュールの製造方法の実施の
形態３を説明する。
【００４７】図５において、１は多層膜フィルタ挿入
溝、２は多層膜フィルタ、３は上部平面基板、４は光通
路としての光ファイバ、５は下部平面基板、６は光学接
着剤、１０は下部平面基板５の主面に形成したＶ溝、１
１は上部平面基板３の主面に形成したＶ溝、１２は紫外
線などの光源あるいは熱源を示している。
【００４８】本発明による光フィルタモジュールの製造
方法は、第１の工程として図５（ａ）に示すように、そ
の主面に精密なＶ溝１０および１１を形成した平面基板
３および５を準備する。このとき、平面基板３および５
の材料としては後の工程で実装、固定する光ファイバ４
と同等の線膨張係数を有する材料が望ましく、さらに上
下平面基板３および５の固着に光硬化性接着剤を用いる
ことを考慮して光透過性を有することが望ましい。
【００４９】次に第２の工程として図５（ｂ）に示すよ
うに、上部平面基板３の主面に形成した精密なＶ溝１１
に光ファイバ４を実装、固定する。このとき、実装、固
定する光ファイバ４はその実装精度を考慮して樹脂など
の被覆を除去した後のクラッド部であることがより望ま
しい。また、実装、固定した光ファイバ４が下部平面基
板５の主面より突出するようにＶ溝１１の角度や深さを
設定する。こうすることにより、突出した光ファイバ４
をガイドレールとして上部平面基板３の位置決めが容易
となる。また、光ファイバ４をコア径拡大ファイバを使
用することにより、光ファイバ４の端面のスポットサイ
ズを拡大し、光ファイバ４間の透過損失や結合損失を低
減することができより効果的である。
【００５０】次に第３の工程として図５（ｃ）に示すよ
うに、第２の工程で光ファイバ４を実装、固定した上部
平面基板３を切断、分離する。このとき、光ファイバ４
にコア径拡大ファイバを使用する場合、切断面はコア径
拡大部の最大部を交叉するように切断する。また、光フ
ァイバ４の切断面は鏡面処理を行うことにより光ファイ
バ４間の結合損失の低減に有効である。切断面そのまま
で使用する場合、その切断条件には留意が必要である。
ダイヤモンド砥石などを用いて切断する場合、切断後の
光ファイバ４の端面を可能な限り鏡面に近づけるため、
使用する砥粒径は小さいものを選択するべきである。本
発明ではダイヤモンド砥石を使用し、フィルタ挿入溝１
を形成したが、ダイヤモンド砥粒の番手を＃３０００以
上を選択することによりほぼ鏡面に近い光ファイバ４の
端面を得た。
【００５１】次に第４の工程として図５（ｄ）に示すよ
うに、下部平面基板５の主面に形成した精密なＶ溝１０
に対しある一定の角度をなすように交叉するフィルタ挿
入溝１を形成する。この交叉角度は使用する光の波長に
依存するが、５〜１０度の範囲が一般的である。また、
フィルタ挿入溝１は例えば溝形状に成形したｃＢＮやダ
イヤモンドを砥粒とした砥石を用いて研削加工により形
成したり、あるいはブラストなどの粉体加工を用いた
り、平面基板の材料がシリコンを用いた場合、ウエット
エッチングやドライエッチングを用いるのも有効であ
る。実施の形態１で説明したフィルタ挿入溝１の断面形
状を異形に加工する場合、砥石を成形するほうが形状の
自由度が高く有利である。
【００５２】次に第５の工程として図５（ｅ）に示すよ
うに、下部平面基板５の主面に光学接着剤６を一面に塗
布する。このとき、前工程で形成したフィルタ挿入溝１
内部にも光学接着剤６が充填されるようにする。光学接
着剤６は、使用する光ファイバ４のコア材料の屈折率と
同等のものを用いることにより光ファイバ４間の結合損
失が低減可能である。また、光学接着剤６の硬化方法と
しては、紫外線などの光を用いる方法、加熱する方法な
どが考えられるが、製造時間の短縮化には光を用いる方
法が有利と思われる。
【００５３】次に第６の工程として図５（ｆ）に示すよ
うに、光学接着剤６が充填されたフィルタ挿入溝１に多
層膜フィルタ２を挿入する。このとき、必ず挿入した多
層膜フィルタ２の上部が下部平面基板５の主面より突出
するように多層膜フィルタ２の大きさを設定する。多層
膜フィルタ２の突出量は少なくとも上部平面基板３の厚
みの１／２以上が望ましい。
【００５４】次に第７の工程として図５（ｇ）および図
５（ｈ）に示すように、フィルタ挿入溝１から突出した
多層膜フィルタ２の両側から下部平面基板５の主面から
突出した光ファイバ４をガイドレールとしてその主面に
Ｖ溝１１を形成した上部平面基板３を移動させ、フィル
タ挿入溝１に挿入された多層膜フィルタ２を両側から挟
持し固定する。このとき、一方の上部平面基板３の側面
をフィルタ挿入溝１の側面に沿って実装することによ
り、挿入する多層膜フィルタ２を挿入溝１の一方の側面
に沿わせて実装、固定することが可能であり、もう一方
の上部平面基板３で挟持する場合の多層膜フィルタ２の
割れ防止に有利である。
【００５５】また、挟持する部分は多層膜フィルタ２の
突出部分となるが、多層膜フィルタ２に反りが生じてい
る場合、突出量を長くし、上部平面基板３で挟持する面
積を広くすることにより反りの矯正も可能となる。ま
た、多層膜フィルタ２の形成基板にガラス等を用いれば
弾性係数が大きいため応力による割れなどの防止に効果
的である。また、上部平面基板３の主面に形成されたＶ
溝１１の角度および深さは、光フィルタ４の突出量によ
り適宜設定する。突出量に対し余裕のあるＶ溝１０の深
さと角度を設定した場合、光ファイバ４のガイドレール
としての効果は小さくなる。また光ファイバ４の突出量
より小さいＶ溝１０を形成した場合、ガイドレールとし
ての効果が小さくなると同時に下部平面基板５に対し上
部平面基板３が光ファイバ４を支点に傾斜して実装され
るため信頼性の低下を招くことになる。
【００５６】最後に第８の工程として、図５（ｉ）に示
すように、上下の平面基板３および５の片側あるいは両
側より紫外線などの光１２を照射、あるいは熱１２を加
え硬化させて完成する。上記のように本発明の製造方法
では、予め光ファイバ４を実装した上部平面基板３を準
備しておくことにより、光学接着剤６を塗布、多層膜フ
ィルタ２の挿入、上部平面基板３による多層膜フィルタ
２の挟持の工程を分離することなく進めることができ、
製造管理が容易である。
【００５７】また、図６に示す製造方法は、第１の工程
で図６（ａ）に示すように上部平面基板３の主面に精密
なＶ溝１１を形成する。次に第２の工程として図６
（ｂ）に示すように上部平面基板３を２つに分割し、そ
れぞれの端面に沿わせるように２つの光ファイバ４の端
面を合わせて実装する。このとき、光ファイバ４の端面
は鏡面処理あるいは球面研磨などの特殊処理が可能であ
るため、光ファイバ４間の結合損失が低減できる利点が
ある。以降の図６（ｃ）〜（ｉ）に示す工程は図５に示
す製造方法と同一であるためここでは説明を省略する。
【００５８】また、図７に示す製造方法は、下部平面基
板５の主面に形成された精密なＶ溝１０に対しある一定
の角度をなすようにフィルタ挿入溝１を形成する図７
（ａ）〜（ｄ）に示す第４の工程までは図５に示す製造
方法と同じである。第５の工程において図７（ｅ）に示
すように、光ファイバ４を実装した一方の上部平面基板
３を下部平面基板５の主面に形成した精密なＶ溝１０を
ガイドレールとして下部平面基板５の主面に当接し、か
つ上部平面基板３の光ファイバ４の端面をフィルタ挿入
溝１の一方の壁面に沿わせるように位置合わせし固定す
る。
【００５９】次に第６の工程において一方の上部平面基
板３が固定されていない下部平面基板５の主面に光学接
着剤６を塗布する。このとき光学接着剤６はフィルタ挿
入溝１にも充填するように塗布する。次に第７の工程と
して図７（ｆ）に示すように、多層膜フィルタ２を実
装、固定された一方の上部平面基板３の側面に沿わせる
ようにフィルタ挿入溝１に挿入する。このとき、多層膜
フィルタ２をフィルタ挿入溝１および上部平面基板３の
端面に沿わせることにより、他方の上部平面基板３で挟
持するときに多層膜フィルタ２の割れを防止する効果を
有する。
【００６０】次に第８の工程として図７（ｇ）および図
７（ｈ）に示すように、他方の上部平面基板３を下部平
面基板５の上部平面基板３が実装されていない他方の主
面に配置し、上部平面基板３の主面から突出した光ファ
イバ４を下部平面基板５の主面に形成した精密なＶ溝に
沿わせるように移動させフィルタ挿入溝１に挿入された
多層膜フィルタ２に当接し挟持、固定する。
【００６１】最後に第９の工程として図７（ｉ）に示す
ように、上下の平面基板３および５の片側あるいは両側
より紫外線などの光１２を照射、あるいは熱１２を加え
硬化させて完成する。この場合、挿入される多層膜フィ
ルタ２が上部平面基板３およびフィルタ挿入溝１の一方
の壁面に固定されるため、多層膜フィルタ２の実装時の
割れを防止し、かつ一方の上部平面基板３が予め固定さ
れているため、他方の上部平面基板３の実装時の位置合
わせが容易になるという利点がある。
【００６２】図８に示す製造方法は、図８（ａ）〜
（ｃ）に示す第３の工程までは図７に示す製造方法と同
一である。第４の工程において図８（ｄ）に示すように
光ファイバ４を実装した上部平面基板３を下部平面基板
５の主面に実装、固定する。このとき、上部平面基板３
の主面から突出した光ファイバ４を下部平面基板５の主
面に形成した精密なＶ溝１０にガイドレールとして沿わ
せるようにして実装、固定する。次に図８（ｅ）に示す
第５の工程において、実装した上部平面基板３の端面に
沿って下部平面基板５の主面にその主面に形成した精密
なＶ溝１１と一定の角度をなすようにフィルタ挿入溝１
を形成する。
【００６３】図８に示す製造方法では、予め上部平面基
板３の一方を下部平面基板５の主面に実装、固定したの
ちフィルタ挿入溝１を形成するため上部平面基板３の位
置合わせが容易になる利点を有する。また、図８に示す
方法は図３および図４に示す製造方法にも適用可能であ
る。すなわち、下部平面基板５に光ファイバ４を実装し
た後、主面に精密なＶ溝１１を形成した一方の上部平面
基板３を実装、固定し、その上部平面基板３の側面を基
準面として下部平面基板５にフィルタ挿入溝１を形成す
ればよい。それ以降の図８（ｆ）〜（ｉ）の工程は図７
に示す製造方法と同一であるためここでは説明を省略す
る。
【００６４】
【発明の効果】以上のように本発明は、上下の平面基板
の主面に精密Ｖ溝を形成しそのＶ溝に光ファイバを実装
することにより一方の主面に対し精度の高い実装を可能
とする効果を有すると同時に、他方の平面基板主面に形
成した精密Ｖ溝をガイドレールとして挿入溝に挿入され
た多層膜フィルタを挟持させる構造のため、多層膜フィ
ルタの反りなどの形状精度に依存せずかつ上部平面基板
の位置決めが容易で光軸調整の不要な光フィルタモジュ
ールの構造及び製造方法を提供する効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）本発明の実施の形態１による光フィルタ
モジュールの構造の一例を示す上面図 （ｂ）同側面図 （ｃ）同断面図
【図２】（ａ）〜（ｄ）本発明の実施の形態１による光
フィルタモジュールの構造におけるフィルタ挿入溝形状
の一例を示す側面図
【図３】（ａ）〜（ｇ）本発明の実施の形態２による光
フィルタモジュール製造法の説明図
【図４】（ａ）〜（ｇ）本発明の実施の形態２による光
フィルタモジュール製造法の説明図
【図５】（ａ）〜（ｉ）本発明の実施の形態３による光
フィルタモジュール製造法の説明図
【図６】（ａ）〜（ｉ）本発明の実施の形態３による光
フィルタモジュール製造法の説明図
【図７】（ａ）〜（ｉ）本発明の実施の形態３による光
フィルタモジュール製造法の説明図
【図８】（ａ）〜（ｉ）本発明の実施の形態３による光
フィルタモジュール製造法の説明図
【図９】（ａ）従来例の光アンプシステムの構成図 （ｂ）同特性図 （ｃ）従来の光フィルタモジュール構造の一例を示す説
明図
【図１０】（ａ）、（ｂ）従来の光フィルタ実装方法の
説明図
【符号の説明】
１ フィルタ挿入溝 ２ 多層膜フィルタ ３ 上部平面基板 ４ 光ファイバ ５ 下部平面基板 ６ 光学接着剤 １０ Ｖ溝 １１ Ｖ溝 １２ 紫外線などの光源あるいは熱源 ３１ シリコン基板 ３２ クラッド材 ３３ 入力用導波路 ３３’ コモンポート ３４ 第１の出力用導波路 ３４’ 第１の出力ポート ３５ 第２の出力用導波路 ３５’ 第２の出力ポート ３６ 誘電体多層膜フィルタの挿入溝 ３７ 誘電体多層膜フィルタ ５１ Ｅｒドープファイバ ５２ ＰＤ ５３ 光アイソレータ ５４ ポンピングレーザ ５５ ゲイン平坦化フィルタ ５６ 光ファイバ ５７ スポットサイズ変換用レンズ ５８ ゲイン平坦化フィルタ ５９ 金属筐体
フロントページの続き (72)発明者 加藤 寛治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤原 和男 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 出川 三喜夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H038 AA21 BA23 BA24

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下部平面基板と、２分割された上部平面
    基板と、この下部平面基板と上部平面基板の接合面に光
    ファイバを保持させる溝をそれぞれ設け、この溝と交叉
    するように下部平面基板にフィルタ挿入溝を設け、この
    フィルタ挿入溝で分離されるように光ファイバを溝を用
    いて配置するとともにフィルタ挿入溝に多層膜フィルタ
    を配置し、この多層膜フィルタのフィルタ挿入溝から突
    出する上部を上部平面基板で挟持固定させた光フィルタ
    モジュール。
  2. 【請求項２】 光ファイバがコア径拡大ファイバである
    請求項１に記載の光フィルタモジュール。
  3. 【請求項３】 フィルタ挿入溝の壁面に面した光ファイ
    バの端面がコア径拡大部である請求項１に記載の光フィ
    ルタモジュール。
  4. 【請求項４】 多層膜フィルタがフィルタ挿入溝のいず
    れか一方の側壁に当接するように固定した請求項１に記
    載の光フィルタモジュール。
  5. 【請求項５】 フィルタ挿入溝の底部が一方の溝壁側が
    浅く他方の溝壁側が深くなる形状とした請求項１に記載
    の光フィルタモジュール。
  6. 【請求項６】 下部平面基板と上部平面基板、下部平面
    基板および上部平面基板と光ファイバとを光硬化性接着
    剤または熱硬化性接着剤を用いて結合した請求項１に記
    載の光フィルタモジュール。
  7. 【請求項７】 下部平面基板に光ファイバ位置決め用の
    溝を設け、この溝に光ファイバを取り付けた後この光フ
    ァイバと交叉するようにフィルタ挿入溝を形成し、この
    フィルタ挿入溝に多層膜フィルタを挿入した後下部平面
    基板との接合面に上記光ファイバの下部平面基板より突
    出する部分にはめ込むガイド溝を設けた２つの上記平面
    基板を下部平面基板上に配置し、この２つの上部平面基
    板の少なくともいずれか一方を光ファイバをガイドとし
    て移動させて上記フィルタ挿入溝に挿入されフィルタ挿
    入溝より突出した多層膜フィルタの上部を２つの上部平
    面基板で挟持した後両上部平面基板を下部平面基板に固
    着する光フィルタモジュールの製造方法。
  8. 【請求項８】 フィルタ挿入溝を形成するとき光ファイ
    バも同時に切断する請求項７に記載の光フィルタモジュ
    ールの製造方法。
  9. 【請求項９】 光ファイバ切断位置がコア径拡大部であ
    る請求項７に記載の光フィルタモジュールの製造方法。
  10. 【請求項１０】 下部平面基板に光ファイバ位置決め用
    の溝とこの溝と交叉するフィルタ挿入溝を形成し、上記
    光ファイバ位置決め用の溝にフィルタ挿入溝に一端が位
    置するように光ファイバを取り付け、上記フィルタ挿入
    溝に多層膜フィルタを挿入した後下部平面基板との接合
    面に上記光ファイバの下部平面基板より突出する部分を
    はめ込むガイド溝を設けた２つの上部平面基板を下部平
    面基板上に配置し、この２つの上部平面基板の少なくと
    もいずれか一方を光ファイバをガイドとして移動させて
    上記フィルタ挿入溝に挿入されフィルタ挿入溝より突出
    する多層膜フィルタの上部を２つの上部平面基板で挟持
    した後両上部平面基板を下部平面基板に固着する光フィ
    ルタモジュールの製造方法。
  11. 【請求項１１】 光ファイバ位置決め用の溝を形成した
    上部平面基板に上記溝を利用して光フィルタを取り付け
    た後この上部平面基板を２つに分断し、上面に光ファイ
    バ位置決め用の溝とこの溝と交叉するフィルタ挿入溝を
    形成した下部平面基板を準備し、この下部平面基板のフ
    ィルタ挿入溝に多層フィルタを挿入した後２つに分断し
    た上部平面基板を下部平面基板上に配置し、上部平面基
    板に取り付けた光ファイバを下部平面基板の光ファイバ
    位置決め用の溝にはめ込んで位置合わせをし、上記上部
    平面基板の少なくともいずれか一方を移動させて上記フ
    ィルタ挿入溝に挿入されこのフィルタ挿入溝より突出し
    た多層膜フィルタの上部を２つの上部平面基板で挟持し
    た後上部平面基板と下部平面基板とを固着する光フィル
    タモジュールの製造方法。
  12. 【請求項１２】 上部平面基板を２つに分断するとき同
    時に光ファイバも分断する請求項１１に記載の光フィル
    タモジュールの製造方法。
  13. 【請求項１３】 光ファイバ位置決め用の溝を設けた２
    つの上部平面基板に一端がこの上部平面基板の端面に合
    致するように光ファイバを取り付け、一方上面に光ファ
    イバ位置決め用の溝およびこの溝を交叉するようにフィ
    ルタ挿入溝を設けた下部平面基板を準備し、この下部平
    面基板の光ファイバ位置決め用の溝に２つの上部平面基
    板を配置し、この２つの上部平面基板の少なくともいず
    れか一方を移動させて上記フィルタ挿入溝に挿入されこ
    のフィルタ挿入溝より突出した多層膜フィルタの上部を
    ２つの上部平面基板で挟持した後上部平面基板と下部平
    面基板とを固着する光フィルタモジュールの製造方法。
  14. 【請求項１４】 下部平面基板に対する２つの上部平面
    基板の組み込みにおいて、一方の上部平面基板を下部平
    面基板のフィルタ挿入溝に対応するように取り付け保持
    した後他方の上部平面基板を下部平面基板上に移動させ
    て２つの上部平面基板で多層膜フィルタの上部を挟持す
    る請求項７，１０，１１，１３のいずれか１つに記載の
    光フィルタモジュールの製造方法。
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