JP2003108018A - Filter for display and plasma display device using it - Google Patents
Filter for display and plasma display device using itInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばプラズマ
ディスプレイ等のディスプレイの画面上に設置した場
合、電磁波の遮蔽、近赤外線の遮蔽などの各種機能を付
与できるディスプレイ用フィルタに関する。また本発明
は、該フィルタを用いたプラズマディスプレイ装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display filter that can be provided with various functions such as electromagnetic wave shielding and near infrared ray shielding when installed on the screen of a display such as a plasma display. The present invention also relates to a plasma display device using the filter.
【０００２】[0002]
【従来の技術】社会が高度化するに従って、光エレクト
ロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中
で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョ
ン装置用に加えて、コンピューターモニター装置用等と
してめざましく普及しつつある。その中でも、ディスプ
レイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高まる一方
である。2. Description of the Related Art Optoelectronics-related parts and equipment have remarkably advanced as the society has advanced. Among them, displays for displaying images have been remarkably prevailing for computer monitor devices in addition to conventional television devices. Above all, market demands for larger and thinner displays are increasing.
【０００３】近年、大型かつ薄型化を実現することが可
能であるディスプレイとして、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ: Plasma Display Panel）が注目されてい
る。プラズマディスプレイパネルは、原理上、強度の電
磁波を装置外に放出することが知られている。電磁波
は、各種計器に障害を及ぼすことが知られている。最
近、電磁波が人体に障害を及ぼす可能性もあるとの報告
もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的
に規制される方向になっている。例えば、現在日本で
は、ＶＣＣＩ(Voluntary Control Council for Interfe
rence by dataprocessing equipment electronic offic
e machine)による規制があり、米国では、ＦＣＣ(Feder
al Communication Commission)による製品規制がある。In recent years, a plasma display panel (PDP) has attracted attention as a display that can be made large and thin. It is known that the plasma display panel emits a strong electromagnetic wave to the outside of the device in principle. Electromagnetic waves are known to damage various measuring instruments. Recently, it has been reported that electromagnetic waves may damage the human body. Therefore, the emission of electromagnetic waves is legally regulated. For example, in Japan, VCCI (Voluntary Control Council for Interfe
rence by dataprocessing equipment electronic offic
e-machine) regulations, and in the United States, FCC (Feder
al Communication Commission) regulates products.
【０００４】また、プラズマディスプレイパネルは、近
赤外線も装置外に放出することが知られている。近赤外
線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントロ
ーラー等の誤動作を引き起こす。It is known that the plasma display panel also emits near infrared rays to the outside of the device. Near-infrared rays cause malfunction of cordless phones and infrared remote controllers.
【０００５】光学フィルタは、プラズマディスプレイパ
ネルの画面から放出される電磁波および近赤外線を遮断
するために用いられる部材である。電磁波を遮断するた
めに導電性を有していることに加え、ディスプレイの画
面上に設置されるため、光線透過率は波長８００〜１０
００ｎｍの近赤外線に対しては低く、波長３８０〜８０
０ｎｍの可視光線に対して高いことが望ましい。可視光
域に関しては単に透過率が高いだけでなく、例えば色調
など、ディスプレイの映像を損なわせないだけの光学特
性が必要とされる。The optical filter is a member used to block electromagnetic waves and near infrared rays emitted from the screen of the plasma display panel. In addition to having conductivity in order to block electromagnetic waves, it is installed on the screen of the display, and therefore has a light transmittance of 800 to 10
Low for near-infrared rays of 00 nm, wavelength 380-80
Higher for 0 nm visible light is desirable. In the visible light range, not only the transmittance is simply high, but also the optical characteristics such as the color tone that does not impair the image on the display are required.
【０００６】以上の性能を備えた光学フィルタとして、
透明導電性薄膜を基体全面に渡って配置した、透明薄膜
タイプと呼ばれているものが開発された（特許第３００
４２２２号）。薄膜の材料として抵抗率の低いものが好
ましく、銀や金が適当な材料として挙げられる。なかで
も銀は近赤外線反射能をも併せ持つため、適当な厚みに
設計された銀薄膜を配置すれば、電磁波遮断機能及び近
赤外線遮断機能の優れた光学フィルタを得ることができ
る。実際には、銀薄膜と高い屈折率を有する薄膜とを交
互に積層することにより、可視光線領域の光学特性を制
御した電磁波遮断機能付き光学フィルタが開発されてい
る。As an optical filter having the above performance,
A transparent thin film type in which a transparent conductive thin film is arranged over the entire surface of the substrate has been developed (Patent No. 300).
4222). A material having a low resistivity is preferable as a material for the thin film, and suitable materials include silver and gold. Among them, silver also has near-infrared reflectivity, and therefore, by disposing a silver thin film designed to have an appropriate thickness, an optical filter having an excellent electromagnetic wave shielding function and a near infrared ray shielding function can be obtained. In practice, an optical filter with an electromagnetic wave blocking function has been developed in which the silver thin film and the thin film having a high refractive index are alternately laminated to control the optical characteristics in the visible light region.
【０００７】銀を主成分とした薄膜を用いた透明薄膜タ
イプの光学フィルタには、大きく分けて２種類の製造方
法がある。１つは、ガラスやアクリルからなる透明基体
に直接、銀を主成分とする薄膜を形成する方法であり、
もう１つは、可撓性のある高分子フィルムの面上に銀を
主成分とする薄膜をロールツーロール法で形成した後、
ガラスやアクリルからなる透明基体に貼合せる方法であ
る。薄膜を形成する際、前者は１枚１枚生産するバッチ
式となるが、後者は一度に生産する連続式となる。その
ため後者は前者より薄膜のばらつき変動が少なく、光学
特性のばらつきが小さい光学フィルタを大量に生産で
き、さらに透明基体の寸法に合わせて光学フィルタのサ
イズを自由に決定できる。There are roughly two types of manufacturing methods for a transparent thin film type optical filter using a thin film containing silver as a main component. One is a method of directly forming a thin film containing silver as a main component on a transparent substrate made of glass or acrylic.
Second, after forming a thin film containing silver as a main component on the surface of a flexible polymer film by a roll-to-roll method,
It is a method of sticking to a transparent substrate made of glass or acrylic. When forming a thin film, the former is a batch type that produces one by one, while the latter is a continuous type that produces one at a time. Therefore, the latter can produce a large amount of optical filters with less variation in variation in thin film and less variation in optical characteristics, and the size of the optical filter can be freely determined according to the size of the transparent substrate.
【０００８】最近のプラズマディスプレイパネルは画像
性能が向上しているため、光学フィルタは基本的な光学
性能だけでなく、局部的に画像品質を落とす点状欠陥と
いった外観性能に対する要求も厳しくなっている。Since the recent plasma display panel has improved image performance, the optical filter is not only required to have a basic optical performance, but also has a severe demand for the appearance performance such as a dot defect that locally deteriorates the image quality. .
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】透明導電性フィルムを
熱強化されたガラス基板に貼合せて構成されたディスプ
レイ用フィルタをプラズマディスプレイパネルの画面上
に設置した場合、局部的にめらめらした感じに見え、局
部的な画質低下が生ずることがあり、ディスプレイの画
像性能が向上するほど目立つようになる。When a display filter constructed by laminating a transparent conductive film on a glass substrate which has been heat-strengthened is installed on the screen of a plasma display panel, it looks like a locally dazzling feeling. In some cases, local image quality deterioration may occur, and the more the image performance of the display is improved, the more noticeable it becomes.
【００１０】また、貼合せタイプのディスプレイ用フィ
ルタでは、薄膜の点状欠陥や貼合せ時に混入した微小な
気泡に起因する歪み性欠陥が生じることがある。In addition, in the laminating type display filter, there are cases in which point defects of the thin film and distorting defects due to minute bubbles mixed during laminating may occur.
【００１１】本発明の目的は、画像欠陥が少なく、優れ
た外観性能を有するディスプレイ用フィルタおよびプラ
ズマディスプレイ装置を提供することである。An object of the present invention is to provide a display filter and a plasma display device which have few image defects and have excellent appearance performance.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、透明導電
性フィルムを熱強化されたガラス基板に貼合せて構成さ
れたディスプレイ用フィルタの外観上の課題を解決する
ための方法を鋭意研究した結果、上述のような局部的な
めらめら感、薄膜の局部的破壊に起因する反射性欠陥、
微小気泡に起因する歪み性欠陥が、ガラス基板の形状に
依存して発生することを突き止め、熱処理ガラス基板の
形状を工夫することによって、これらの欠陥の発生を抑
制できることを見出し、本発明に至った。DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have earnestly studied a method for solving a problem in appearance of a display filter formed by laminating a transparent conductive film on a heat-reinforced glass substrate. As a result, the local glare feeling as described above, a reflective defect caused by the local destruction of the thin film,
The present inventors have found that strainable defects caused by microbubbles are generated depending on the shape of the glass substrate, and that the generation of these defects can be suppressed by devising the shape of the heat-treated glass substrate, leading to the present invention. It was
【００１３】［１］本発明は、熱強化されたガラス基板
と、該ガラス基板の上に貼り合せられた透明導電性フィ
ルムとを備え、該ガラス基板の透明導電性フィルムを貼
り合せる面を上にして、ガラス基板の垂直方向の断面曲
線が山型に反っていることを特徴とするディスプレイ用
フィルタである。[1] The present invention comprises a heat-reinforced glass substrate and a transparent conductive film bonded onto the glass substrate, and the surface of the glass substrate to which the transparent conductive film is bonded is up. The display filter is characterized in that the vertical section curve of the glass substrate is curved in a mountain shape.
【００１４】［２］また本発明は、前記ガラス基板を山
型凸面を上にして水平支持台に載置したとき、ガラス基
板の反りΔＺ（ｍｍ）を１０００ｍｍ角の基板に換算し
た反り換算値Ｄ1000（ｍｍ）およびガラス基板の反り率
Ｗ1000（％）を次式（１）（２）で定義した場合、
Ｄ1000(mm) ＝ ΔＺ(mm)／Ｌ2 (mm) ×１０００2 …(1)
Ｗ1000（％） ＝ Ｄ1000(mm) ／１０００×１００ …(2)
前記ガラス基板の最大反り率Ｗ1000は、０％より大き
く、０．６％以下であることが好ましい。[2] Further, according to the present invention, when the glass substrate is placed on a horizontal support with the convex convex surface facing upward, the warp conversion value obtained by converting the warp ΔZ (mm) of the glass substrate into a 1000 mm square substrate. When D1000 (mm) and the warp rate W1000 (%) of the glass substrate are defined by the following equations (1) and (2), D1000 (mm) = ΔZ (mm) / L 2 (mm) × 1000 2 (1) W1000 (%) = D1000 (mm) / 1000 × 100 (2) The maximum warpage rate W1000 of the glass substrate is preferably more than 0% and not more than 0.6%.
【００１５】［３］また本発明は、ガラス基板と透明導
電性フィルムとの間に気泡が存在しないことが好まし
い。[3] Further, in the present invention, it is preferable that no bubbles are present between the glass substrate and the transparent conductive film.
【００１６】［４］また本発明は、透明導電性フィルム
は、基材フィルムの上に銀を主成分とする薄膜が１層以
上形成されて構成されることが好ましい。[4] Further, in the present invention, the transparent conductive film is preferably constituted by forming one or more thin films containing silver as a main component on a base film.
【００１７】［５］また本発明は、透明導電性フィルム
の上に、反射防止フィルムまたは防眩フィルムが設けら
れることが好ましい。[5] In the present invention, it is preferable that an antireflection film or an antiglare film is provided on the transparent conductive film.
【００１８】［６］また本発明は、画像を表示するため
のプラズマディスプレイと、プラズマディスプレイ画面
に設置され、上記のディスプレイ用フィルタとを備える
ことを特徴とするプラズマディスプレイ装置である。[6] Further, the present invention is a plasma display device characterized by comprising a plasma display for displaying an image, and the above-mentioned display filter installed on the plasma display screen.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】本発明は、透明基板として熱強化
された透明なガラス基板を使用する。熱強化の目的は、
ディスプレイ用フィルタが万一破損しても破片が細粒状
になって、普通のガラス板のように鋭い破片が生じなく
なり、ガラス破片による負傷を防止し、安全性能を向上
させることにある。また、熱強化ガラス基板は、熱強化
していない普通のガラス板と比較して３〜５倍程度の静
的破壊強度を有し、急激な温度変化に対して数倍の耐熱
性を示す。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention uses a heat-reinforced transparent glass substrate as the transparent substrate. The purpose of heat strengthening is
Even if the display filter is damaged, the broken pieces become fine-grained, and the sharp broken pieces do not occur like a normal glass plate, and it is intended to prevent injury due to glass broken pieces and improve safety performance. Further, the heat-strengthened glass substrate has a static fracture strength of about 3 to 5 times that of an ordinary glass plate that is not heat-strengthened, and exhibits several times the heat resistance against a sudden temperature change.
【００２０】ディスプレイ用フィルタに使用するガラス
基板の厚さは、ディスプレイ画面の前面に配置するのに
適切で、撓みによる割れが生じない厚さに形成され、好
ましくは２．０ｍｍ以上で４．０ｍｍ以下、より好まし
くは２．５ｍｍ以上で３．５ｍｍ以下である。ガラス基
板が薄くなると撓みが生じて破損する可能性があり、一
方、厚くなるとフィルタ重量が必要以上に増加してしま
う。The thickness of the glass substrate used for the display filter is suitable for being placed on the front surface of the display screen, and is formed so as not to cause cracks due to bending, preferably 2.0 mm or more and 4.0 mm. Hereafter, it is more preferably 2.5 mm or more and 3.5 mm or less. If the glass substrate becomes thin, it may bend and break, while if it becomes thick, the weight of the filter will increase more than necessary.
【００２１】本発明では、熱強化処理されたガラス基板
において、透明導電性フィルムを貼合せる面を上にした
垂直方向の断面曲線が山型に反っている。ガラス基板の
最大反り率Ｗ1000は０．６％以下が好ましく、０．１％
以上で０．４％以下がより好ましい。According to the present invention, in the heat-strengthened glass substrate, the vertical section curve with the surface on which the transparent conductive film is stuck up is warped in a mountain shape. The maximum warpage rate W1000 of the glass substrate is preferably 0.6% or less, 0.1%
It is more preferably 0.4% or less.
【００２２】ガラス基板のフィルム貼合せ面を上にした
垂直方向の断面曲線が谷型であったり、最大反り率Ｗ10
00が０．６％より大きくなると、ガラス基板に透明導電
性フィルムを貼合せる際に、基板とフィルムとの接着性
が悪くなったり、微小気泡が混入し易くなる。その結
果、製造したディスプレイ用フィルタをプラズマディス
プレイパネル画面に設置して表示画像を観察した場合、
めらめらとした感じや歪み性欠陥が見えてしまう。The cross-section curve in the vertical direction with the film-bonding surface of the glass substrate facing upward has a valley shape, or the maximum warpage rate W10.
When 00 is larger than 0.6%, when the transparent conductive film is attached to the glass substrate, the adhesiveness between the substrate and the film is deteriorated, and fine bubbles are easily mixed. As a result, when the manufactured display filter is installed on the plasma display panel screen and the displayed image is observed,
You will see a sleek feeling and distortion defects.
【００２３】また、ガラス基板の反りが大きすぎると、
透明導電性フィルムの貼合せ圧力が場所によって差が生
じてしまい、透明導電性フィルムに形成された銀薄膜に
おいて微小点状欠陥が貼合せ圧力の差に応じた分布密度
で発生する。対策として、ガラス基板がフィルムに対し
て凸当りとなるように、断面曲線が山型の反りで、最大
反り率Ｗ1000を０．６％以下に設定することで、銀薄膜
の点状欠陥の発生数を低減できる。If the warp of the glass substrate is too large,
The bonding pressure of the transparent conductive film varies depending on the location, and minute point defects occur in the silver thin film formed on the transparent conductive film at a distribution density corresponding to the bonding pressure difference. As a countermeasure, by setting the maximum warpage rate W1000 to 0.6% or less so that the glass substrate has a convex warp against the film, the point defect of the silver thin film is generated. The number can be reduced.
【００２４】ガラス基板の反りを低減させる方法とし
て、１）徐冷設備と搬送速度を制御する方法（特許第１
８２９３４２号）、２）金属アルコキシドを主原料とす
るゾル溶液からゾルーゲル法で得る方法（特開昭６４−
３０２３号）、３）熱処理装置でガラス基板両面に熱風
をかけ、その後均一に冷却する方法（特開平７−１５７
３２２号）などがあり、いずれの方法も適用できる。As a method for reducing the warp of the glass substrate, 1) a method of controlling the slow cooling equipment and the conveying speed (Patent No. 1)
No. 829342), 2) a method of obtaining from a sol solution containing a metal alkoxide as a main raw material by a sol-gel method (JP-A-64-
No. 3023), 3) a method of applying hot air to both surfaces of the glass substrate with a heat treatment apparatus, and then uniformly cooling (Japanese Patent Laid-Open No. 7-157).
No. 322), and any method can be applied.
【００２５】ディスプレイ用フィルタに電磁波遮断機能
を付与するためには、導電性薄膜を形成すればよい。デ
ィスプレイ画面から放射される電磁波は、画面の前面に
設置された導電性の銀薄膜をアースと接続することで遮
断される。In order to impart an electromagnetic wave blocking function to the display filter, a conductive thin film may be formed. Electromagnetic waves radiated from the display screen are blocked by connecting a conductive silver thin film installed on the front surface of the screen to the ground.
【００２６】電磁波遮断機能を高めるには、導電性薄膜
のシート抵抗値をできる限り低くする。銀薄膜のシート
抵抗値は膜厚に反比例し、たとえば膜厚を２倍にする
と、シート抵抗値は半分になる。実際に必要とされる電
磁波遮断機能は、ディスプレイの種類、大きさによって
も異なるが、電磁波放射が比較的大きいプラズマディス
プレイパネルの場合、シート抵抗値は１０Ω／□以下が
必要とされ、特に４２型以上の画面サイズのものでは、
２Ω／□以下が必要とされる。したがって、銀薄膜の膜
厚を増加させ、シート抵抗値を低くするほど、電磁波遮
断機能が高くなり、信頼性に優れたディスプレイ用フィ
ルタが得られる。In order to enhance the electromagnetic wave blocking function, the sheet resistance value of the conductive thin film is made as low as possible. The sheet resistance value of a silver thin film is inversely proportional to the film thickness. For example, if the film thickness is doubled, the sheet resistance value will be halved. The electromagnetic wave blocking function actually required varies depending on the type and size of the display, but in the case of a plasma display panel that emits relatively large electromagnetic waves, a sheet resistance value of 10 Ω / □ or less is required. With the above screen size,
2Ω / □ or less is required. Therefore, as the film thickness of the silver thin film is increased and the sheet resistance value is decreased, the electromagnetic wave shielding function is enhanced, and a display filter having excellent reliability can be obtained.
【００２７】ディスプレイ用フィルタとして、近赤外線
領域における光線透過率は低く、可視光領域における光
線透過率はできる限り高いことが望ましい。電磁波遮断
機能を高めるために銀薄膜の膜厚を増やすと、銀の可視
光領域における吸収によって光線透過率が低下してしま
う。したがって、電磁波遮断機能が充分に確保できる程
度のシート抵抗値を有し、ディスプレイ画質を損なわな
い程度の可視光透過率を確保できるように銀薄膜の膜厚
を設計する必要があり、具体的には１０ｎｍ〜１００ｎ
ｍの範囲が好ましく、１５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲がより
好ましい。As a display filter, it is desirable that the light transmittance in the near infrared region is low and the light transmittance in the visible region is as high as possible. If the thickness of the silver thin film is increased to enhance the electromagnetic wave blocking function, the light transmittance is reduced due to the absorption of silver in the visible light region. Therefore, it is necessary to design the thickness of the silver thin film so as to have a sheet resistance value that can sufficiently secure the electromagnetic wave shielding function and secure a visible light transmittance that does not impair the display image quality. Is 10 nm to 100 n
The range of m is preferable, and the range of 15 nm to 60 nm is more preferable.
【００２８】シート抵抗値の増加を抑制しつつ可視光透
過率を高めるには、銀薄膜と高屈折率酸化物薄膜とを交
互に繰り返し積層した積層体の構成を採用できる。たと
えば銀薄膜を１層だけ形成した場合、可視光領域におい
て金属特有のギラギラとした反射が発生し、透過する光
線が少なくなる。光線透過率が低下し、可視光反射率が
高くなると、フィルタで反射した画像がディスプレイ画
面に重なって見える映り込みが生じて、表示画像が著し
く見づらくなる。その対策として、銀薄膜と高屈折率酸
化物薄膜とを積層することによって、銀薄膜による反射
を抑制でき、画質の劣化を防止できる。具体的には、銀
薄膜に対して適切な膜厚を有する酸化物を積層し、たと
えば酸化物／銀／酸化物／銀／酸化物という積層体を構
成し、単層の銀薄膜を２層に分割することによって、シ
ート抵抗値をほとんど変化させないで可視光透過率を５
％以上高めることができる。また、積層数を多くするほ
ど、所望の光学特性に近い特性を有する光学フィルタを
設計できる。In order to increase the visible light transmittance while suppressing the increase of the sheet resistance value, a constitution of a laminated body in which silver thin films and high refractive index oxide thin films are alternately and repeatedly laminated can be adopted. For example, when only one silver thin film is formed, glaring reflection peculiar to metal occurs in the visible light region, and the number of light rays that pass through is reduced. When the light transmittance is reduced and the visible light reflectance is increased, the image reflected by the filter is reflected on the display screen and is reflected, which makes the displayed image significantly difficult to see. As a countermeasure, by stacking a silver thin film and a high refractive index oxide thin film, reflection by the silver thin film can be suppressed and deterioration of image quality can be prevented. Specifically, an oxide having an appropriate film thickness is laminated on a silver thin film to form, for example, a laminate of oxide / silver / oxide / silver / oxide, and two single-layer silver thin films are formed. By dividing it into 5 parts, the visible light transmittance is 5 without changing the sheet resistance value.
% Or more can be increased. Further, as the number of laminated layers increases, an optical filter having characteristics close to desired optical characteristics can be designed.
【００２９】また、銀薄膜と屈折率の異なる材料を交互
に繰り返し積層することによって、可視光透過率の波長
分散を制御できる。屈折率の異なる材料としては、波長
５５０ｎｍの光線に対する屈折率が１．４以上で、可視
光領域での吸収が小さく、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍ
の光線透過率が６０％以上の材料が好ましく、具体的に
は、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリ
コン、酸化アンチモン、酸化アルミニウム、酸化ビスマ
ス、酸化亜鉛などの酸化物が挙げられる。なかでも酸化
スズをドープした酸化インジウム、酸化アルミニウムを
ドープした酸化亜鉛、酸化アンチモンをドープした酸化
スズは、屈折率が２．０以上であり、導電性も有する点
で好ましい材料である。Further, the wavelength dispersion of visible light transmittance can be controlled by alternately and repeatedly laminating silver thin films and materials having different refractive indexes. Materials having different refractive indices have a refractive index of 1.4 or more for a light beam having a wavelength of 550 nm, a small absorption in the visible light region, and a wavelength of 400 nm to 700 nm.
Is preferably a material having a light transmittance of 60% or more, and specific examples thereof include oxides such as titanium oxide, indium oxide, tin oxide, silicon oxide, antimony oxide, aluminum oxide, bismuth oxide, and zinc oxide. Among them, indium oxide doped with tin oxide, zinc oxide doped with aluminum oxide, and tin oxide doped with antimony oxide are preferable materials because they have a refractive index of 2.0 or more and also have conductivity.
【００３０】銀薄膜および酸化物薄膜の成膜方法は、真
空蒸着法やスパッタリング法などの知られた手法を使用
できる。真空蒸着法では、所望の材料を蒸着源として使
用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により加熱蒸着させ
ることで薄膜を形成できる。スパッタリング法では、タ
ーゲットに所望の材料を用いて、スパッタリングガスに
アルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッ
タリング法や高周波スパッタリング法を用いて薄膜を形
成できる。酸化物薄膜を成膜する場合、スパッタリング
ガス中に酸素を混合し、酸素と反応させながら成膜する
ことも可能である。成膜速度を上昇させるために、直流
マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンス
パッタリング法を用いてもよい。スパッタリング法は、
真空蒸着法と比べて基材との密着力に優れた薄膜が得ら
れる点でより好ましい。As a method for forming the silver thin film and the oxide thin film, known methods such as a vacuum vapor deposition method and a sputtering method can be used. In the vacuum vapor deposition method, a desired material is used as a vapor deposition source, and a thin film can be formed by heating vapor deposition by resistance heating, electron beam heating, or the like. In the sputtering method, a desired material is used as a target, an inert gas such as argon or neon is used as a sputtering gas, and a thin film can be formed by a direct-current sputtering method or a high-frequency sputtering method. When forming an oxide thin film, it is also possible to mix oxygen into the sputtering gas and react with oxygen to form the film. A direct current magnetron sputtering method or a high frequency magnetron sputtering method may be used to increase the film formation rate. The sputtering method is
It is more preferable in that a thin film having excellent adhesion to the substrate can be obtained as compared with the vacuum deposition method.
【００３１】透明導電性フィルムの基材は、透明であっ
て、その主面上に薄膜形成が支障なく実施できる材料で
あり、例えばガラスまたは高分子成形体が好ましい。基
材用の高分子材料を具体的に例示すると、ポリイミド、
ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン
（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリエチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボ
ネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥ
Ｋ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロー
ス（ＴＡＣ）等が挙げられる。The base material of the transparent conductive film is a material which is transparent and can be formed into a thin film on its main surface without any trouble, and for example, glass or polymer molding is preferable. Specific examples of the polymer material for the base material include polyimide,
Polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyethylene terephthalate (PET),
Polyethylene methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyether ether ketone (PEE)
K), polypropylene (PP), triacetyl cellulose (TAC) and the like.
【００３２】銀薄膜は、好ましくは純度９９％以上、よ
り好ましくは純度９９．９％以上の銀を使用する。銀
は、近赤外線を反射し、導電性に優れる点で、本発明に
係る積層体を構成する薄膜材料として好適である。銀薄
膜の純度が低下すると、可視光の吸収が増加して、光学
フィルタの可視光透過率が低下するとともに、導電率も
低下する。導電率が低下すると、電磁波遮断性能が低下
する。なお、銀薄膜に敢えて１〜１０重量％程度の重金
属、具体的には金、パラジウム、白金、銅等をドープす
ることによって、可視光透過率および導電率は低下する
ものの、銀薄膜の耐久性を向上できる。The silver thin film preferably uses silver having a purity of 99% or more, more preferably 99.9% or more. Silver is suitable as a thin film material constituting the laminate according to the present invention, because it reflects near infrared rays and has excellent conductivity. When the purity of the silver thin film decreases, the absorption of visible light increases, the visible light transmittance of the optical filter decreases, and the conductivity also decreases. When the conductivity decreases, the electromagnetic wave shielding performance decreases. Although the visible light transmittance and the conductivity are lowered by intentionally doping the silver thin film with a heavy metal of about 1 to 10% by weight, specifically, gold, palladium, platinum, copper, etc., the durability of the silver thin film is reduced. Can be improved.
【００３３】透明導電性フィルムと熱強化されたガラス
基板とは粘着材を用いて貼り合わせる。粘着材はできる
だけ透明なものが好ましく、具体的にはアクリル系粘着
材、シリコン系粘着材、ウレタン系粘着材、ポビニルブ
チラール粘着材（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘
着材（ＥＶＡ）等が挙げられる。なかでもアクリル系粘
着材は透明性及び耐熱性に優れる点でより好適である。The transparent conductive film and the heat-strengthened glass substrate are bonded together using an adhesive material. The adhesive material is preferably as transparent as possible, specifically, acrylic adhesive material, silicone adhesive material, urethane adhesive material, polyvinyl butyral adhesive material (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesive material (EVA), etc. Can be mentioned. Among them, the acrylic pressure-sensitive adhesive is more preferable because it has excellent transparency and heat resistance.
【００３４】粘着材の形態は、シート状のものと液状の
ものに大別される。シート状粘着材は、通常、感圧型で
あり、貼り付け後に各部材をラミネートすることによっ
て貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布・貼り合わせ
後に室温放置または加熱により硬化するものであり、塗
布方法としてバーコート法、リバースコート法、グラビ
アコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着材の種
類、粘度、塗布量等を考慮して塗布方法が選定される。
粘着材の厚みは、０．５〜５０μｍ程度であり、好まし
くは１〜３０μｍである。The form of the adhesive material is roughly classified into a sheet form and a liquid form. The sheet-shaped pressure-sensitive adhesive is usually a pressure-sensitive type, and the members are laminated after they are bonded to each other. The liquid pressure-sensitive adhesive is one that is cured by being left at room temperature or heated after coating / bonding, and examples of the coating method include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a roll coating method, and the like. The coating method is selected in consideration of the coating amount and the like.
The thickness of the adhesive material is about 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 30 μm.
【００３５】透明導電性フィルムと熱強化ガラス基板と
を粘着材で貼り合わせた後、混入した気泡を脱泡させた
り、粘着材に固溶させたり、あるいは部材間の密着力を
向上させるために、加圧、加熱条件下で養生を行うこと
が好ましい。このとき加圧条件は数気圧〜２０気圧程度
に設定し、加湿条件は部材の耐熱性を考慮して室温〜８
０℃程度に設定する。After adhering the transparent conductive film and the heat-strengthened glass substrate with an adhesive material, in order to deaerate mixed air bubbles, to make a solid solution in the adhesive material, or to improve the adhesion between the members. It is preferable to carry out curing under pressure, heating conditions. At this time, the pressurizing condition is set to about several atmospheres to 20 atmospheres, and the humidifying condition is room temperature to 8 considering the heat resistance of the member.
Set to about 0 ° C.
【００３６】貼り合わせ方法は特に制限はないが、通
常、高分子フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型
フィルムで覆ったものをロール状態で予め用意しておい
て、ロールから高分子フィルムを繰り出しつつ、離型フ
ィルムを剥しながら別の基体上へ貼り付け、押圧ロール
で押えつけながら貼り合わせる。貼り合わせられたフィ
ルム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。The method for laminating is not particularly limited, but normally, an adhesive is attached to a polymer film, and the one covered with a release film is prepared in a roll state in advance. While unrolling the film, the release film is peeled off, and the release film is attached to another substrate. The same applies to the case where the films are laminated and laminated.
【００３７】ディスプレイ用フィルタの光学特性を向上
させる目的で、反射防止処理や防眩処理を施してもよ
く、これらの処理は適切な材料を用いたコーティング
や、既製の反射防止フィルムや防眩フィルム等の貼り合
わせによって実施できる。For the purpose of improving the optical characteristics of the display filter, antireflection treatment or antiglare treatment may be carried out. For these treatments, coating using an appropriate material, ready-made antireflection film or antiglare film are used. It can be carried out by pasting.
【００３８】図１は、本発明に係るディスプレイ用フィ
ルタの一例を示す断面図である。熱強化ガラス基板１０
の上に、順次、粘着材３０、導電層２０１を含む透明導
電性フィルム２０、粘着材３０、低反射フィルム４０が
積層され、導電層２０１と電気接続する電極５０が低反
射フィルム４０の周縁部に形成されて、ディスプレイ用
フィルタ０２が構成される。熱強化ガラス基板１０の裏
面側の周縁部には、ディスプレイ画面外領域をマスクす
る黒色額縁印刷１０１が形成される。FIG. 1 is a sectional view showing an example of a display filter according to the present invention. Heat-strengthened glass substrate 10
An adhesive material 30, a transparent conductive film 20 including a conductive layer 201, an adhesive material 30, and a low reflection film 40 are sequentially laminated on top of each other, and an electrode 50 electrically connected to the conductive layer 201 has a peripheral portion of the low reflection film 40. Are formed into a display filter 02. A black frame print 101 for masking the area outside the display screen is formed on the peripheral portion on the back surface side of the heat-strengthened glass substrate 10.
【００３９】図２は、本発明に係るプラズマディスプレ
イ装置の一例を示す断面図である。ディスプレイ用フィ
ルタ０２はアース接続用の枠部材０３によって支持さ
れ、プラズマディスプレイパネル０１の表示画面０１１
の上に設置される。ディスプレイ用フィルタ０２の導電
層２０１は、電極５０、枠部材０３を介してグランドに
電気接続される。FIG. 2 is a sectional view showing an example of the plasma display device according to the present invention. The display filter 02 is supported by a frame member 03 for ground connection, and a display screen 011 of the plasma display panel 01 is displayed.
Installed on top of. The conductive layer 201 of the display filter 02 is electrically connected to the ground via the electrode 50 and the frame member 03.
【００４０】[0040]
【実施例】次に本発明の実施例をより具体的に説明す
る。EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described more specifically.
【００４１】まず透明導電性フィルムの製造方法に関し
て、無色透明なポリエチレンテレフタレートフィルム
（厚さ７５μｍ）の一方の面を酸素グロー放電に曝した
後、ａ）ターゲットとして錫（Ｓｎ）を１０重量％含有
したインジウム（Ｉｎ）を用い、スパッタガスとしてア
ルゴン・酸素・水素の混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸
素分圧８０ｍＰａ、水素分圧１３ｍＰａ）を用いて、直
流マグネトロンスパッタリング法で酸化錫を含有した酸
化インジウム薄膜を形成し、ｂ）ターゲットとして純度
９９．９％の銀を用い、スパッタガスとしてアルゴンガ
ス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて、直流マグネトロンス
パッタリング法で銀薄膜を形成し、以下同様に、酸化イ
ンジウム薄膜と銀薄膜とを交互に形成し、酸化インジウ
ム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸
化インジウム薄膜（厚さ８５ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１８
ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜
（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎ
ｍ）の順に積層し、３層の銀薄膜と４層の酸化インジウ
ム薄膜が交互に繰り返し形成された７層構成の透明導電
性フィルムを作成した。First, regarding the method for producing a transparent conductive film, one side of a colorless and transparent polyethylene terephthalate film (thickness: 75 μm) was exposed to oxygen glow discharge, and a) a target containing tin (Sn) of 10% by weight was contained. Indium oxide containing tin oxide by a direct current magnetron sputtering method using a mixed gas of argon / oxygen / hydrogen (total pressure 266 mPa, oxygen partial pressure 80 mPa, hydrogen partial pressure 13 mPa) as sputter gas. A thin film is formed, and b) a silver thin film is formed by a direct current magnetron sputtering method using silver having a purity of 99.9% as a target and an argon gas (total pressure of 266 mPa) as a sputtering gas. A thin film and a silver thin film are alternately formed to form an indium oxide thin film (thickness: 40 n ), Silver thin film (thickness 10 nm), indium film (thickness 85nm oxide), silver thin film (thickness 18
nm), indium oxide thin film (80 nm thick), silver thin film (10 nm thick), indium oxide thin film (40 n thick)
m) was laminated in this order to prepare a 7-layer transparent conductive film in which 3 layers of silver thin films and 4 layers of indium oxide thin films were alternately and repeatedly formed.
【００４２】次に透明導電性フィルムの薄膜形成面と逆
側の面に、セパレートフィルムが付随しているシート状
のアクリル系粘着材をラミネートして、粘着材付き透明
導電性フィルムを得た。Next, a sheet-shaped acrylic adhesive material with a separate film was laminated on the surface of the transparent conductive film opposite to the thin film forming surface to obtain a transparent conductive film with an adhesive material.
【００４３】次にディスプレイ用フィルタに使用するガ
ラス基板の製造方法および反りの測定方法について説明
する。熱処理装置内のガラスの冷却条件を変えて、複数
の強化ガラス基板（９６０ｍｍ×５６０ｍｍ×３．０ｍ
ｍ厚）を製造した。この強化ガラス基板の反りを三次元
測定機（型番：ＵＰＭＣ５５０ カールツァイス社製）
で長辺方向に渡って測定した。Next, a method of manufacturing a glass substrate used for a display filter and a method of measuring warpage will be described. A plurality of tempered glass substrates (960 mm x 560 mm x 3.0 m) were prepared by changing the cooling conditions of the glass in the heat treatment apparatus.
m thickness) was manufactured. Three-dimensional measuring machine (model number: UPMC550 manufactured by Carl Zeiss)
Was measured over the long side.
【００４４】図３は熱強化ガラス基板の反り状態を示
し、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は正面図である。
熱強化ガラス基板６０は隅丸の長方形状を成し、水平支
持台の上に載置して長辺方向の直線性を観察した場合、
上に凸の山型となる反りが見られる。このとき水平支持
台の高さに熱強化ガラス基板６０の厚さを加算した位置
を基準として、三次元測定機を用いて熱強化ガラス基板
６０の各部の反りΔＺが測定される。FIG. 3 shows a warped state of the heat-strengthened glass substrate, FIG. 3 (a) is a plan view and FIG. 3 (b) is a front view.
The heat-strengthened glass substrate 60 has a rectangular shape with rounded corners, and is placed on a horizontal support to observe linearity in the long side direction.
There is a convex mountain-shaped warp. At this time, the warpage ΔZ of each part of the heat-strengthened glass substrate 60 is measured by using a three-dimensional measuring machine with reference to the position where the thickness of the heat-strengthened glass substrate 60 is added to the height of the horizontal support table.
【００４５】そこで、熱強化ガラス基板６０の長辺寸法
をＬ（ｍｍ）として、反りΔＺ（ｍｍ）を１０００ｍｍ
角の基板に換算すると、反り換算値Ｄ1000（ｍｍ）は次
式（１）で表される。Therefore, assuming that the long-side dimension of the heat strengthened glass substrate 60 is L (mm), the warpage ΔZ (mm) is 1000 mm.
When converted to a square substrate, the warp converted value D1000 (mm) is expressed by the following equation (1).
【００４６】
Ｄ1000(mm) ＝ ΔＺ(mm)／Ｌ2 (mm) ×１０００2 …(1)
このとき、熱強化ガラス基板６０の反り率Ｗ1000（％）
は次式（２）で定義される。D1000 (mm) = ΔZ (mm) / L 2 (mm) × 1000 2 (1) At this time, the warpage rate W1000 (%) of the heat-strengthened glass substrate 60
Is defined by the following equation (2).
【００４７】
Ｗ1000（％） ＝ Ｄ1000(mm) ／１０００×１００ …(2)
図４は、熱強化ガラス基板の反り率を測定した結果を示
すグラフである。横軸はガラス基板の長辺方向位置（ｍ
ｍ）、縦軸は反り率Ｗ1000（％）である。グラフＡ〜Ｅ
は、熱処理時の冷却条件が異なる熱強化ガラス基板に対
応する。
（実施例１）図４に示したグラフＡ（最大反り率Ｗ1000
＝０．２％）に対応した熱強化ガラス基板を用いて、加
圧式ラミネータを使用し、ラミネート圧力０．３ＭＰａ
で粘着材付き透明導電性フィルムをこのガラス基板の一
方の面に貼り合わせた。さらに透明導電性フィルムの上
に反射防止フィルム（商品名：リアルック、日本油脂株
式会社製）を同様なラミネート法で貼り合わせて、ディ
スプレイ用フィルタを作製した。
（実施例２）図４に示したグラフＢ（最大反り率Ｗ1000
＝０．４％）に対応した熱強化ガラス基板を用いたこと
以外は、実施例１と同様に透明導電性フィルムおよび反
射防止フィルムを貼り合わせて、ディスプレイ用フィル
タを作製した。
（実施例３）図４に示したグラフＣ（最大反り率Ｗ1000
＝０．６％）に対応した熱強化ガラス基板を用いたこと
以外は、実施例１と同様に透明導電性フィルムおよび反
射防止フィルムを貼り合わせて、ディスプレイ用フィル
タを作製した。
（比較例１）図４に示したグラフＤ（最大反り率Ｗ1000
＝０．８％）に対応した熱強化ガラス基板を用いたこと
以外は、実施例１と同様に透明導電性フィルムおよび反
射防止フィルムを貼り合わせて、ディスプレイ用フィル
タを作製した。
（比較例２）図４に示したグラフＥ（最大反り率Ｗ1000
＝０．８％）に対応した熱強化ガラス基板を用いたこと
以外は、実施例１と同様に透明導電性フィルムおよび反
射防止フィルムを貼り合わせて、ディスプレイ用フィル
タを作製した。
（比較例３）最大反り率Ｗ1000＝０．０％を有する熱強
化ガラス基板を用いたこと以外は、実施例１と同様に透
明導電性フィルムおよび反射防止フィルムを貼り合わせ
て、ディスプレイ用フィルタを作製した。W1000 (%) = D1000 (mm) / 1000 × 100 (2) FIG. 4 is a graph showing the results of measuring the warpage rate of the heat-strengthened glass substrate. The horizontal axis is the position along the long side of the glass substrate (m
m), and the vertical axis is the warp rate W1000 (%). Graphs AE
Corresponds to a heat-strengthened glass substrate having different cooling conditions during heat treatment. (Example 1) Graph A shown in FIG. 4 (maximum warpage rate W1000
= 0.2%), using a heat-strengthened glass substrate, using a pressure laminator, laminating pressure 0.3 MPa
Then, the transparent conductive film with an adhesive was attached to one surface of the glass substrate. Further, an antireflection film (trade name: Rialc, manufactured by NOF CORPORATION) was attached onto the transparent conductive film by the same laminating method to produce a display filter. (Example 2) Graph B shown in FIG. 4 (maximum warpage rate W1000
= 0.4%), a transparent conductive film and an antireflection film were attached in the same manner as in Example 1 except that a heat-strengthened glass substrate was used to prepare a display filter. (Example 3) Graph C shown in FIG. 4 (maximum warpage rate W1000
= 0.6%), a transparent conductive film and an antireflection film were attached in the same manner as in Example 1 except that a heat-strengthened glass substrate was used to prepare a display filter. (Comparative Example 1) Graph D shown in FIG. 4 (maximum warpage rate W1000
= 0.8%), a transparent conductive film and an antireflection film were attached in the same manner as in Example 1 except that a heat-strengthened glass substrate was used to fabricate a display filter. (Comparative Example 2) Graph E shown in FIG. 4 (maximum warpage rate W1000
= 0.8%), a transparent conductive film and an antireflection film were attached in the same manner as in Example 1 except that a heat-strengthened glass substrate was used to fabricate a display filter. (Comparative Example 3) A transparent conductive film and an antireflection film were attached in the same manner as in Example 1 except that a heat-strengthened glass substrate having a maximum warpage rate W1000 = 0.0% was used to form a display filter. It was made.
【００４８】以上により作製したディスプレイ用フィル
タを蛍光灯の前に設置し、目視観察で直径０．６５ｍｍ
以上の気泡の数を計数した。The display filter produced as described above was installed in front of a fluorescent lamp and visually observed to have a diameter of 0.65 mm.
The number of bubbles above was counted.
【００４９】また、作製したディスプレイ用フィルタを
温度６０℃、相対湿度９０％の環境に５００時間放置し
た後、目視観察で直径０．４ｍｍ以上の点状欠陥の数を
計数した。After the produced display filter was left in an environment of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 500 hours, the number of point defects having a diameter of 0.4 mm or more was counted by visual observation.
【００５０】また、作製したディスプレイ用フィルタを
４２型プラズマディスプレイパネルの画面の前面から５
ｍｍ離して設置して、プラズマディスプレイ装置を完成
させた。このプラズマディスプレイ装置を信号発生器に
よって緑色に全面発光させ、視野角−８０°〜＋８０°
の範囲で１ｍ離れた位置で目視観察を行い、画面のめら
めら感の有無を観察した。In addition, the produced filter for display was used from the front of the screen of the 42-inch plasma display panel.
The plasma display device was completed by installing the devices separated by mm. This plasma display device emits green light entirely by a signal generator, and the viewing angle is -80 ° to + 80 °.
In this range, visual observation was performed at a position 1 m away from each other, and the presence or absence of glare on the screen was observed.
【００５１】これらの評価結果を（表１）に示す。The results of these evaluations are shown in (Table 1).
【００５２】[0052]
【表１】 [Table 1]
【００５３】（表１）から、最大反り率Ｗ1000が０．６
％より大きい熱強化ガラス基板を用いたディスプレイ用
フィルタは、気泡および点状欠陥の数が増加するととも
に、画面のめらめら感が発生してしまい、画像品質が低
下することが判る。From Table 1, the maximum warpage rate W1000 is 0.6
It can be seen that the display filter using the heat-strengthened glass substrate having a ratio of more than 100% increases the number of air bubbles and point defects and causes a feeling of glare on the screen, resulting in deterioration of image quality.
【００５４】一方、最大反り率Ｗ1000が０．６％以下、
好ましくは０．４％以下の熱強化ガラス基板を用いたデ
ィスプレイ用フィルタは、気泡および点状欠陥が発生せ
ず、画面のめらめら感も無く、優れた画像品質・外観品
質を達成できた。On the other hand, the maximum warpage rate W1000 is 0.6% or less,
Preferably, the display filter using the heat-strengthened glass substrate of 0.4% or less did not generate bubbles and point defects, did not have a feeling of glare on the screen, and could achieve excellent image quality and appearance quality.
【００５５】[0055]
【発明の効果】以上詳説したように本発明によれば、熱
強化されたガラス基板の上に透明導電性フィルムを貼り
合わせてディスプレイ用フィルタを作製した場合、気泡
や点状欠陥の発生を抑制でき、画面のめらめら感も少な
く、優れた画像品質・外観品質を達成できる。As described in detail above, according to the present invention, when a transparent conductive film is laminated on a glass substrate which has been heat-strengthened to manufacture a display filter, generation of bubbles and dot defects is suppressed. It is possible to achieve excellent image quality and appearance quality with less glare on the screen.
【図１】本発明に係るディスプレイ用フィルタの一例を
示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a display filter according to the present invention.
【図２】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の一例
を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a plasma display device according to the present invention.
【図３】熱強化ガラス基板の反り状態を示し、図３
（ａ）は平面図、図３（ｂ）は正面図である。3 shows a warped state of the heat-strengthened glass substrate, and FIG.
3A is a plan view and FIG. 3B is a front view.
【図４】熱強化ガラス基板の反り率を測定した結果を示
すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the results of measuring the warpage rate of a heat-strengthened glass substrate.
０１ プラズマディスプレイパネル ０１１ 表示画面 ０２ ディスプレイ用フィルタ ０３ 枠部材 １０ 熱強化ガラス基板 １０１ 黒色額縁印刷 ２０ 透明導電性フィルム ２０１ 導電層 ３０ 粘着材 ４０ 低反射フィルム ５０ 電極 ６０ 熱強化ガラス基板 01 Plasma display panel 011 Display screen 02 Display filter 03 Frame member 10 Heat-strengthened glass substrate 101 black frame printing 20 Transparent conductive film 201 conductive layer 30 adhesive 40 low reflection film 50 electrodes 60 heat strengthened glass substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅川 幸紀 愛知県名古屋市南区丹後通２−１ 三井化 学株式会社内 (72)発明者 吉開 正彰 愛知県名古屋市南区丹後通２−１ 三井化 学株式会社内 (72)発明者 小山 正人 愛知県名古屋市南区丹後通２−１ 三井化 学株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA09 BB02 BB14 BB24 BB28 CC03 CC14 DD03 DD04 EE03 4F100 AA33 AB01B AG00A AK01C AK42 BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10D EH66 GB41 JG01B JN01B JN01C JN06D JN30D 5G435 AA00 AA17 BB06 GG11 GG33 HH02 HH03 KK07 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Koki Asakawa Mitsui, 2-1 Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Gaku Co., Ltd. (72) Inventor Masaaki Yoshikai Mitsui, 2-1 Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Gaku Co., Ltd. (72) Inventor Masato Koyama Mitsui, 2-1 Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Gaku Co., Ltd. F term (reference) 2K009 AA09 BB02 BB14 BB24 BB28 CC03 CC14 DD03 DD04 EE03 4F100 AA33 AB01B AG00A AK01C AK42 BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10D EH66 GB41 JG01B JN01B JN01C JN06D JN30D 5G435 AA00 AA17 BB06 GG11 GG33 HH02 HH03 KK07
Claims (6)
とを備え、 該ガラス基板の透明導電性フィルムを貼り合せる面を上
にして、ガラス基板の垂直方向の断面曲線が山型に反っ
ていることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。1. A glass substrate comprising a heat-strengthened glass substrate and a transparent conductive film bonded onto the glass substrate, with the surface of the glass substrate to which the transparent conductive film is bonded facing up. A display filter characterized in that the vertical section curve of is curved in a mountain shape.
平支持台に載置したとき、ガラス基板の反りΔＺ（ｍ
ｍ）を１０００ｍｍ角の基板に換算した反り換算値Ｄ10
00（ｍｍ）およびガラス基板の反り率Ｗ1000（％）を次
式（１）（２）で定義した場合、 Ｄ1000(mm) ＝ ΔＺ(mm)／Ｌ2 (mm) ×１０００2 …(1) Ｗ1000（％） ＝ Ｄ1000(mm) ／１０００×１００ …(2) 前記ガラス基板の最大反り率Ｗ1000は、０％より大き
く、０．６％以下であることを特徴とする請求項１記載
のディスプレイ用フィルタ。2. A warp ΔZ (m of the glass substrate when the glass substrate is placed on a horizontal support with the mountain-shaped convex surface facing upward.
Warp conversion value D10 in which m) is converted to a 1000 mm square substrate
When 00 (mm) and the warp rate W1000 (%) of the glass substrate are defined by the following equations (1) and (2), D1000 (mm) = ΔZ (mm) / L 2 (mm) × 1000 2 (1) W1000 (%) = D1000 (mm) / 1000 × 100 (2) The maximum warpage rate W1000 of the glass substrate is more than 0% and not more than 0.6%. Filter.
に気泡が存在しないことを特徴とする請求項１または２
記載のディスプレイ用フィルタ。3. An air bubble does not exist between the glass substrate and the transparent conductive film.
Display filters as described.
上に銀を主成分とする薄膜が１層以上形成されて構成さ
れることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の
ディスプレイ用フィルタ。4. The transparent conductive film according to claim 1, wherein one or more thin films containing silver as a main component are formed on a base film. Display filter.
ィルムまたは防眩フィルムが設けられることを特徴とす
る請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィ
ルタ。5. The display filter according to claim 1, wherein an antireflection film or an antiglare film is provided on the transparent conductive film.
レイと、プラズマディスプレイ画面に設置され、請求項
１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用フィルタとを
備えることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。6. A plasma display device comprising: a plasma display for displaying an image; and the display filter according to claim 1, which is installed on the plasma display screen.
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