JP2003103772A - Liquid droplet jet patterning apparatus - Google Patents
Liquid droplet jet patterning apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】 本発明は、液滴ジェットパ
ターニング装置に関し、特に、複数のノズルから液滴を
吐出して被吐出媒体にパターンを形成する一連の処理途
中若しくはその前後においてノズルの吐出状態を検査す
るようにした技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a droplet jet patterning apparatus, and more particularly, to a nozzle ejection state during or before a series of processes for ejecting droplets from a plurality of nozzles to form a pattern on a medium to be ejected. It is related to the technology that makes it possible to inspect.
【０００２】[0002]
【従来の技術】 最近、種々の構造のインクジェットプ
リンタが広く実用に供され、写真と同程度に高解像度の
カラー印刷が可能なカラーのインクジェットプリンタが
普及しつつある。インクジェットプリンタでは、キャリ
ッジに複数のノズルヘッドを装備し、各ノズルヘッドに
例えば１２８個の微細なノズルを副走査方向に１又は
複数列に形成し、各ノズルからインクの液滴を吐出する
ことでドットパターンにて画像を記録する。特開平１１
−３３４０４９号公報には、この種のインクジェットプ
リンタにおいて、ノズル間ピッチ（ノズルピッチ）を可
変にして印字する為に、固定リンクに対して可動リンク
を移動させてノズルヘッドを傾斜回動させることによ
り、ノズルピッチを可変にする技術が記載されている。2. Description of the Related Art Recently, ink jet printers having various structures have been widely put into practical use, and color ink jet printers capable of color printing with a resolution as high as that of photographs have become widespread. In an inkjet printer, a carriage is equipped with a plurality of nozzle heads, and 128 fine nozzles, for example, are formed in each nozzle head in one or more rows in the sub-scanning direction, and ink droplets are ejected from each nozzle. The image is recorded with a dot pattern. JP-A-11
No. 334049 discloses that in this type of inkjet printer, in order to print with a variable nozzle pitch (nozzle pitch), the movable link is moved with respect to the fixed link and the nozzle head is tilted and rotated. , A technique for changing the nozzle pitch is described.
【０００３】他方、近年、パーソナルコンピュータ、ワ
ープロ、複写機、ファクシミリ装置、携帯電話、種々の
携帯端末機などに、一般に液晶ディスプレイが採用さ
れ、最近ではカラーフィルターを介してカラー表示可能
なカラーの液晶ディスプレイも広く採用されている。前
記カラーフィルターは、透明膜にＲ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）の光３原色のフィルター画素を微細なドットパ
ターンにて規則的に形成したものであるが、このカラー
フィルターも、前記のインクジェットプリンタと同様の
液滴ジェットパターニング装置により製作することがで
きる。On the other hand, in recent years, liquid crystal displays have been generally adopted in personal computers, word processors, copying machines, facsimile machines, mobile phones, various mobile terminals, etc., and recently, color liquid crystals capable of color display through color filters. Displays are also widely adopted. The color filter is a transparent film with R (red), G (green),
B (blue) light three primary color filter pixels are regularly formed in a fine dot pattern, and this color filter can also be manufactured by the same droplet jet patterning device as the above-mentioned inkjet printer. it can.
【０００４】特許第３１２１２２６号公報には、前記の
カラーフィルターを製作する為の液滴ジェットパターニ
ング装置が記載されている。この装置では、Ｒ，Ｇ，Ｂ
の３色の各ノズルヘッドの複数のノズルから液滴を吐出
させてガラス基板にＲ，Ｇ，Ｂのドットパターンを記録
する。そして、副走査方向に対してノズルヘッドを傾斜
させることにより、副走査方向のドットピッチ（吐出ピ
ッチ）をノズルピッチよりも適宜小さく調整して記録す
る技術も提案されている。Japanese Patent No. 3112226 discloses a droplet jet patterning device for manufacturing the color filter. In this device, R, G, B
The R, G, and B dot patterns are recorded on the glass substrate by ejecting droplets from a plurality of nozzles of each of the three color nozzle heads. A technique has also been proposed in which the dot pitch (ejection pitch) in the sub-scanning direction is adjusted to be appropriately smaller than the nozzle pitch for recording by inclining the nozzle head with respect to the sub-scanning direction.
【０００５】また、特開平９−３００６６４号公報に
は、前記のカラー液晶ディスプレイに用いるカラーフィ
ルターを製作する為の液滴ジェットパターニング装置が
記載されている。この装置では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色のノ
ズルヘッドが副走査方向と平行に配設され、副走査方向
に対して傾斜回動可能になっている。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 9-300664 discloses a droplet jet patterning device for manufacturing a color filter used in the color liquid crystal display. In this apparatus, nozzle heads of three colors R, G, and B are arranged in parallel with the sub-scanning direction and can be tilted and rotated with respect to the sub-scanning direction.
【０００６】前記特開平１１−３３４０４９号公報のも
のでは、固定リンクと可動リンクとからなる平行リンク
機構に複数のノズルヘッドが梯子状に配置され、固定リ
ンクに対し可動リンクを回動用アクチュエータ若しくは
手動により移動させることで、ノズルヘッドを副走査方
向に対して傾斜させ、その後、ガラス基板に液滴を吐出
してパターンを形成する。一方、ノズルヘッドの複数の
ノズルの吐出状態を検査する方法も種々提案されてい
る。In Japanese Patent Laid-Open No. 11-334049, a plurality of nozzle heads are arranged in a ladder shape in a parallel link mechanism composed of a fixed link and a movable link, and the movable link is rotated with respect to the fixed link by an actuator or a manual operation. The nozzle head is tilted with respect to the sub-scanning direction, and then droplets are discharged onto the glass substrate to form a pattern. On the other hand, various methods for inspecting ejection states of a plurality of nozzles of a nozzle head have been proposed.
【０００７】前記特開２０００−３３７０３号公報の液
滴の噴射特性測定技術では、液滴の噴射状態が安定して
いるか否かを、ＣＣＤカメラで撮像した液滴位置計測結
果に基づいて判定している。前記特開２０００−７０８
３４号公報の液滴塗布時の異常検出技術では、高速撮影
用のビデオカメラにより、ノズルからの液の吐出開始か
ら吐出停止を経て基板に被膜が形成されるまでの間、こ
のノズルの吐出口と基板との間を連続的に撮影し、液の
吐出開始から所定時間経過後、液滴が吐出口と基板との
間に存在すると塗布ムラがあると判定される。前記特開
２０００−２９２６１４号公報のカラーフィルタ製造装
置では、ノズルヘッドの高さと略同じ高さ位置にレーザ
等の投光器と受光器を対向状に配置し、例えばノズルか
ら液漏れすると、投光光から受光器に到達する光量が減
少することで液漏れを検知する。In the droplet ejection characteristic measuring technique disclosed in JP-A-2000-33703, whether or not the droplet ejection state is stable is determined based on the droplet position measurement result imaged by a CCD camera. ing. JP-A 2000-708
In the technique for detecting an abnormality at the time of applying liquid droplets disclosed in Japanese Patent No. 34, the discharge port of the nozzle is used by a video camera for high-speed shooting from the start of the discharge of the liquid from the nozzle to the formation of a film on the substrate after the discharge is stopped. When the liquid droplets are present between the ejection port and the substrate after a lapse of a predetermined time from the start of the liquid ejection, it is determined that there is coating unevenness. In the color filter manufacturing apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-292614, a light emitter such as a laser and a light receiver are arranged to face each other at a position substantially the same as the height of the nozzle head. Liquid leakage is detected by the decrease in the amount of light reaching the light receiver from.
【０００８】ここで、前記のような液晶ディスプレイに
代わる次世代のディスプレイとして、有機ＥＬディスプ
レイが実用化されつつある。尚、ＥＬはElectro Lumine
scenceの略称である。有機ＥＬディスプレイのＥＬ基板
は、例えば、ガラス基板の表面に、陽極膜、正孔輸送
層、発光層、陰極膜を形成したもので、発光層として発
光色に応じて種々の発光性有機化合物が適用される。カ
ラーＥＬディスプレイのＥＬ基板の発光層では、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の発光画素を規則的
にドットパターンに形成してある。有機ＥＬディスプレ
イでは、構造が簡単で薄型化、軽量化、低コスト化が可
能となるうえ、視野角依存性が少なく、低消費電力であ
るなどの優位性がある。Here, an organic EL display is being put to practical use as a next-generation display that replaces the liquid crystal display described above. EL is Electro Lumine
Abbreviation for scence. An EL substrate of an organic EL display is, for example, a glass substrate on which an anode film, a hole transport layer, a light emitting layer, and a cathode film are formed, and various light emitting organic compounds are used as the light emitting layer depending on the emission color. Applied. In the light emitting layer of the EL substrate of the color EL display, R is
Light emitting pixels of three colors (red), G (green), and B (blue) are regularly formed in a dot pattern. The organic EL display has advantages that it has a simple structure and can be made thin, lightweight, and low cost, has little viewing angle dependency, and has low power consumption.
【０００９】前記カラーの有機ＥＬディスプレイのＥＬ
基板を製作する方法について概略説明すると、ガラス基
板上に形成された陽極膜の上に、正孔輸送層形成用の液
滴を液滴ジェット記録装置のノズルヘッドからガラス基
板上に吐出させ、真空中または不活性ガス中で加熱して
定着させる。次に、ＥＬ発光層形成用のＲ，Ｇ，Ｂに対
応する３種類の液滴を正孔輸送層の上に３つのノズルヘ
ッドから夫々ガラス基板上に吐出してドットパターンを
形成し、次にそのドットパターンを真空加熱し、その後
ＥＬ発光層の上に陰極膜を形成する。EL of the color organic EL display
A method of manufacturing a substrate will be described in brief. A droplet for forming a hole transport layer is discharged onto a glass substrate from a nozzle head of a droplet jet recording device on an anode film formed on the glass substrate, and a vacuum is formed. Heat in medium or inert gas to fix. Next, three types of droplets corresponding to R, G, and B for forming the EL light emitting layer are discharged onto the glass substrate from the three nozzle heads on the hole transport layer to form a dot pattern. Then, the dot pattern is heated in vacuum, and then a cathode film is formed on the EL light emitting layer.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】 前記公報に記載の技
術では、被吐出媒体にパターンを形成するパターン形成
処理工程とは独立して、不良検査工程において、記録処
理ステージ兼検査調整ステージにおいて複数のノズルの
吐出状態を検査する。このように共通のステージにおい
て、パターン形成処理と不良検査を別工程で実行するた
め、ノズルの吐出状態が異常のまま例えば１ロット分の
パターン形成を実行してしまう場合があるから、例えば
１ロット生産終了時点で多数の不良品が発生する虞があ
る。しかも、不良検査工程を行う期間は、パターン形成
処理工程を完全に停止させているので、液滴ジェットパ
ターニング装置の稼働率も低くなる。また、パターン形
成処理工程と不良検査とを別のステージで行うことも考
えられるが、装置全体が大型化してしまうという問題が
ある。In the technique described in the above publication, a plurality of patterns are provided in the recording processing stage and the inspection adjustment stage in the defect inspection step, independently of the pattern formation processing step of forming a pattern on the medium to be ejected. Inspect the ejection status of the nozzle. In this way, since the pattern formation process and the defect inspection are executed in different steps in the common stage, there is a case where the pattern formation for one lot is executed while the ejection state of the nozzle is abnormal. A large number of defective products may occur at the end of production. Moreover, since the pattern formation processing step is completely stopped during the defect inspection step, the operating rate of the droplet jet patterning apparatus also decreases. Further, although it is possible to perform the pattern formation processing step and the defect inspection in different stages, there is a problem that the entire apparatus becomes large.
【００１１】本発明の目的は、不良品の発生を低減でき
る液滴ジェットパターニング装置、パターン形成処理工
程における処理停止期間中若しくはその前後に吐出検査
を実行できる液滴ジェットパターニング装置、装置の稼
働率を高め得る液滴ジェットパターニング装置、パター
ン形成と吐出検査を上下に異なるステージで実行可能に
した液滴ジェットパターニング装置などを提供すること
である。An object of the present invention is to provide a droplet jet patterning device capable of reducing the occurrence of defective products, a droplet jet patterning device capable of performing an ejection inspection during or before and after a process suspension period in a pattern forming process, and an operating rate of the device. It is an object of the present invention to provide a droplet jet patterning device that can improve the liquid crystal discharge, a droplet jet patterning device that can perform pattern formation and discharge inspection at different stages vertically.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】 請求項１の液滴ジェッ
トパターニング装置は、ノズルヘッドの複数のノズルか
ら液滴を吐出して被吐出媒体にパターンを形成する液滴
ジェットパターニング装置において、１又は複数のノズ
ルヘッドを含むヘッド部と、前記ヘッド部を昇降可能な
ヘッド昇降手段と、前記ヘッド昇降手段により下降させ
たヘッド部に対応する高さ位置に配置され、ノズルヘッ
ドから被吐出媒体に液滴を吐出する為のパターン処理ス
テージと、前記ヘッド昇降手段により上昇させたヘッド
部に対応する高さ位置に配設され、少なくともノズルヘ
ッドの複数のノズルからの液滴の吐出状態を検査する為
の検査調整ステージとを備えたことを特徴とするもので
ある。A droplet jet patterning apparatus according to claim 1 is a droplet jet patterning apparatus that discharges droplets from a plurality of nozzles of a nozzle head to form a pattern on a medium to be ejected. A head unit including a plurality of nozzle heads, a head elevating unit capable of elevating and lowering the head unit, and a head unit disposed at a height position corresponding to the head unit lowered by the head elevating unit, and the liquid is ejected from the nozzle head to the medium to be ejected. A pattern processing stage for ejecting droplets and a head disposed at a height position corresponding to the head portion raised by the head elevating means, for inspecting the ejection state of droplets from at least a plurality of nozzles of the nozzle head. And an inspection and adjustment stage of 1.
【００１３】パターン形成を行うパターン処理ステージ
は、ヘッド昇降手段で下降させたヘッド部に対応する高
さ位置に配置され、また、検査調整ステージは、パター
ン処理ステージの上方にヘッド昇降手段で上昇させたヘ
ッド部に対応する高さ位置に配置されている。複数のノ
ズルから液滴を吐出して被吐出媒体にパターンを形成す
る際には、例えば、パターン形成済みの被吐出媒体を搬
出したり、新規の被吐出媒体を搬入してセットする間な
ど、パターン形成の処理停止中に、ヘッド部を上昇させ
て検査調整ステージにおいて複数のノズルからの液滴の
吐出状態を検査する。次に、ヘッド部を下降させてパタ
ーン処理ステージにおいて被吐出媒体にパターンを形成
する。尚、パターン形成処理中は、必要に応じて形成処
理を中断して吐出状態を検査することもできる。The pattern processing stage for pattern formation is arranged at a height position corresponding to the head portion lowered by the head elevating means, and the inspection adjustment stage is raised by the head elevating means above the pattern processing stage. The head is located at a height corresponding to the head. When forming a pattern on a medium to be ejected by ejecting liquid droplets from a plurality of nozzles, for example, the medium to be ejected on which a pattern has been formed is carried out, or a new medium to be ejected is carried in and set, While the pattern formation process is stopped, the head unit is raised to inspect the ejection state of droplets from the plurality of nozzles on the inspection adjustment stage. Next, the head unit is lowered to form a pattern on the medium to be ejected at the pattern processing stage. During the pattern forming process, the forming process can be interrupted and the ejection state can be inspected if necessary.
【００１４】吐出検査の結果全てのノズルが正常であれ
ば、通常とおりにパターン形成を行う。但し、一部のノ
ズルが異常の場合は、ほぼ通常とおりのパターン形成を
実行中に又は実行後に、異常のノズルに代わる別の代替
ノズルを用いて追加的な吐出記録を行うなど、ノズルの
異常を補ないつつパターン形成を行うものとする。この
ように、パターン形成の処理停止中に、ノズルの吐出検
査を行うことができるから、不良品の発生率を低減で
き、液滴ジェットパターニング装置の稼働率を高めるこ
とができる。If all the nozzles are normal as a result of the ejection inspection, pattern formation is performed as usual. However, if some of the nozzles are abnormal, the nozzle abnormality such as performing additional ejection recording using another alternative nozzle in place of the abnormal nozzle during or after pattern formation that is almost normal. It is assumed that pattern formation is performed without compensating for the above. As described above, since the ejection inspection of the nozzles can be performed while the pattern formation process is stopped, the occurrence rate of defective products can be reduced and the operation rate of the droplet jet patterning apparatus can be increased.
【００１５】ここで、請求項２のように、前記ノズルヘ
ッドの複数のノズルは主走査方向と直交する副走査方向
に列設され、前記パターン処理ステージに被吐出媒体を
支持して主走査方向と副走査方向に夫々移動可能な媒体
送り機構を設け、前記検査調整ステージにノズルヘッド
の複数のノズルの吐出状態を検査する為の吐出検査手段
を設けた構成にしてもよい。パターン形成時には、媒体
送り機構により被吐出媒体を主走査方向に移動させなが
ら吐出記録を行い、１パス吐出記録後に被吐出媒体を副
走査方向へ所望の距離移動させるのを繰り返してパター
ンを形成する。また、検査調整ステージでは、吐出検査
手段により複数のノズルの吐出状態を検査する。According to a second aspect of the present invention, the plurality of nozzles of the nozzle head are arranged in a row in the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction, and the pattern processing stage supports the ejection target medium to support the ejection target medium. A medium feeding mechanism movable in the sub-scanning direction may be provided, and an ejection inspection unit for inspecting the ejection state of a plurality of nozzles of the nozzle head may be provided in the inspection adjustment stage. At the time of pattern formation, ejection recording is performed while moving the medium to be ejected in the main scanning direction by the medium feeding mechanism, and the pattern is formed by repeatedly moving the medium to be ejected by a desired distance in the sub-scanning direction after one-pass ejection recording. . Further, in the inspection adjustment stage, the ejection inspection means inspects the ejection states of the plurality of nozzles.
【００１６】請求項３のように、前記吐出検査手段は、
ノズルヘッドから吐出される液滴の両側に対向状に配設
された撮像手段と投光手段とを備えた構成にしてもよ
い。撮像手段と投光手段により、複数のノズルから吐出
された液滴を撮影し、その画像データをデータ処理し、
所定の判定を介して吐出の良否を検査する。According to a third aspect of the present invention, the discharge inspection means comprises:
It may be configured to include an image pickup unit and a light projecting unit, which are arranged to face each other on both sides of the liquid droplets ejected from the nozzle head. By the image pickup means and the light projecting means, the droplets ejected from the plurality of nozzles are photographed, and the image data thereof is subjected to data processing,
The quality of ejection is inspected through a predetermined judgment.
【００１７】請求項４のように、前記被吐出媒体へパタ
ーン形成するパターン形成処理工程における処理停止時
間中に、前記吐出検査手段による検査を実行可能に構成
してもよい。請求項１の欄で説明したように、処理停止
時間中に検査を行うことで、不良品の発生を低減させ、
装置の稼働率を高めることができる。According to a fourth aspect of the present invention, the ejection inspection means may be configured to be able to perform an inspection during a processing stop time in a pattern forming process for forming a pattern on the ejection receiving medium. As described in the section of claim 1, the inspection is performed during the processing stop time to reduce the occurrence of defective products,
The operating rate of the device can be increased.
【００１８】請求項５のように、前記吐出検査手段の撮
像手段を副走査方向と主走査方向に夫々独立に移動可能
な撮像機移動手段と、吐出検査手段の投光手段を副走査
方向と主走査方向に夫々独立に移動可能な投光用移動手
段を設けた構成にしてもよい。各ノズルヘッドの副走査
方向に１列状の複数のノズルを複数群に区分し、撮像手
段と投光手段の副走査方向の位置を複数群に対応させて
切換えながら検査する。複数のノズルヘッドを装備した
場合、これらノズルヘッドは主走査方向に所定間隔おき
に配置されている。各ノズルヘッド別に検査を行うと
き、主走査方向に撮像手段と投光手段の位置を切換えな
がら液滴を撮影することで、全部のノズルヘッドについ
て同条件にて液滴を撮影することができる。According to a fifth aspect of the present invention, the image pickup device moving means for independently moving the image pickup means of the discharge inspection means in the sub-scanning direction and the main scan direction, and the light projecting means of the discharge inspection means in the sub-scanning direction. It is also possible to adopt a configuration in which light-projecting moving means that can move independently in the main scanning direction are provided. A plurality of nozzles arranged in a line in the sub-scanning direction of each nozzle head are divided into a plurality of groups, and the inspection is performed while switching the positions of the image pickup means and the light projecting means in the sub-scanning direction in correspondence with the plurality of groups. When equipped with a plurality of nozzle heads, these nozzle heads are arranged at predetermined intervals in the main scanning direction. When the inspection is performed for each nozzle head, the droplets can be photographed under the same conditions for all the nozzle heads by photographing the droplets while switching the positions of the image pickup means and the light projecting means in the main scanning direction.
【００１９】請求項６のように、前記撮像手段で撮影し
た画像信号を受けて、画像処理によりノズルヘッドから
の液滴の吐出の良否を判定する検査用画像処理手段を設
けた構成にしてもよい。According to a sixth aspect of the present invention, the inspection image processing means for receiving the image signal photographed by the image pickup means and determining the quality of the ejection of the droplet from the nozzle head by the image processing may be provided. Good.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。本実施形態は、有機ＥＬデ
ィスプレイに用いるＥＬ基板（薄いガラス板に３色（R,
G,B)用の発光層を形成したもの）を製造する為の液滴ジ
ェットパターニング装置に本発明を適用した場合の一例
を示すものである。尚、ＥＬはElectro Luminescenceの
略称である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, an EL substrate used for an organic EL display (a thin glass plate with three colors (R,
1 shows an example in which the present invention is applied to a droplet jet patterning apparatus for producing a light emitting layer for G, B). EL is an abbreviation for Electro Luminescence.
【００２１】この液滴ジェットパターニング装置１は、
ベースフレーム２と、ケーシング３と、被吐出媒体４を
保持し主走査方向と副走査方向に独立に移動駆動可能な
媒体保持移動装置５と、Ｚ軸スライド機構６と、このＺ
軸スライド機構６に昇降可能に保持されたノズルヘッド
保持装置７と、ノズルヘッド８からの液滴の吐出状態を
検査したりノズルヘッド８の保守や調整を行う為の検査
調整装置９と、３色のＥＬ発光層を形成する為の吐出用
液１０やフラッシング用溶剤（フラッシング液）１１等
を供給する液供給装置１２と、これらの装置や機器を制
御する制御装置１３などで構成されている。This droplet jet patterning device 1 is
The base frame 2, the casing 3, the medium holding / moving device 5 that holds the medium to be ejected 4 and can be driven to move independently in the main scanning direction and the sub-scanning direction, the Z-axis slide mechanism 6, and this Z
A nozzle head holding device 7 held by a shaft slide mechanism 6 so as to be able to move up and down, and an inspection adjustment device 9 for inspecting the ejection state of droplets from the nozzle head 8 and for performing maintenance and adjustment of the nozzle head 8. The liquid supply device 12 supplies a discharge liquid 10 for forming a color EL light emitting layer, a flushing solvent (flushing liquid) 11 and the like, and a control device 13 for controlling these devices and equipment. .
【００２２】次に前記のように列挙した順序に従って、
図面に基づいて詳細に説明するが、図２は前記液滴ジェ
ットパターニング装置１の平面図であり、図２の前後左
右を前後左右として以下説明するが、左右方向がＸ軸方
向（主走査方向）であり、前後方向がＹ軸方向（副走査
方向）、上下方向がＺ軸方向である。Then, according to the order listed above,
2 will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 2 is a plan view of the droplet jet patterning device 1. The front-rear, left-right and front-rear left-right of FIG. ), The front-back direction is the Y-axis direction (sub-scanning direction), and the up-down direction is the Z-axis direction.
【００２３】図１〜図４に示すように、液滴ジェットパ
ターニング装置１のベースフレーム２の上に直方体状の
ケーシング３が形成され、このケーシング３の内部空間
は、中段位置の水平な仕切り板１４（仕切り部材）によ
り、１Ｆのパターニングルーム１５と２Ｆのメンテナン
スルーム１６とに仕切られ、仕切り板１４はノズルヘッ
ド保持装置７が通過可能な開口部１４ａも形成されてい
る。As shown in FIGS. 1 to 4, a rectangular parallelepiped casing 3 is formed on a base frame 2 of a droplet jet patterning device 1, and an inner space of the casing 3 has a horizontal partition plate at a middle position. 14 (partitioning member) separates the patterning room 15 on the first floor and the maintenance room 16 on the second floor, and the partition plate 14 also has an opening 14a through which the nozzle head holding device 7 can pass.
【００２４】この仕切り板１４はパターニングルーム１
５とメンテナンスルーム１６とを仕切るものであればよ
く、必ずしも水平に配設される必要はない。パターニン
グルーム１５内のパターン処理ステージにおいてガラス
基板４（被吐出媒体）に多数の３色の微細な画素部から
なるドットパターンを形成する吐出記録処理が行われ、
メンテナンスルーム１６内の検査調整ステージ４４にお
いてノズルヘッド８に対する検査や調整が行われる。This partition plate 14 is used in the patterning room 1
It is sufficient that it divides the maintenance room 16 from the maintenance room 16, and does not necessarily have to be arranged horizontally. In the pattern processing stage in the patterning room 15, a discharge recording process for forming a dot pattern including a large number of fine pixel portions of three colors on the glass substrate 4 (discharge target medium) is performed.
The inspection and adjustment stage 44 in the maintenance room 16 inspects and adjusts the nozzle head 8.
【００２５】最初に、媒体保持移動装置５について説明
する。この媒体保持移動装置５は、外部システムの後方
の搬送ローダーＨから搬送されてくるガラス基板４を所
定の受け渡し位置（待機位置）（図２に２点鎖線で図
示）で受取り、吐出開始位置に移動させ、ガラス基板４
を初期設定位置（原点位置）にアライメント調整し、吐
出記録時にはそのガラス基板４をＸ軸、Ｙ軸方向へ夫々
独立に移動駆動し、吐出記録終了後にはガラス基板４を
待機位置へ移動させて搬送ローダーＨへ受け渡すもので
ある。First, the medium holding and moving device 5 will be described. The medium holding / moving device 5 receives the glass substrate 4 conveyed from the conveying loader H behind the external system at a predetermined transfer position (standby position) (shown by a chain double-dashed line in FIG. 2), and moves to the discharge start position. Move the glass substrate 4
Is adjusted to the initial setting position (origin position), the glass substrate 4 is independently moved and driven in the X-axis and Y-axis directions during discharge recording, and the glass substrate 4 is moved to the standby position after discharge recording is completed. It is to be transferred to the transport loader H.
【００２６】図１、図４〜図６に示すように、パターニ
ングルーム１５（例えば1500×1500×500mm のサイズ）
内にベースフレーム２の上面に大理石のベース台１７が
配設され、このベース台１７の４隅から夫々支柱１８が
立ち上がっている。尚、パターニングルーム１５内の空
気を圧縮窒素ガスで置換し，室内の水蒸気濃度及び酸素
濃度を所定レベル以下にして吐出記録が行われる。As shown in FIGS. 1 and 4 to 6, the patterning room 15 (for example, a size of 1500 × 1500 × 500 mm)
A marble base 17 is arranged on the upper surface of the base frame 2, and columns 18 stand up from the four corners of the base 17. The air in the patterning room 15 is replaced with compressed nitrogen gas, and the water vapor concentration and the oxygen concentration in the chamber are set to a predetermined level or less, and ejection recording is performed.
【００２７】図４〜図６に示すように、ベース台１７上
にはＹ軸スライド機構１９が装備され、Ｙ軸スライド機
構１９の出力部材１９ａにはＸ軸スライド機構２０が夫
々装備され、このＸ軸スライド機構２０の出力部材２０
ａにはガラス基板４を載置する為の基板受台２１が設け
られている。これら両スライド機構１９，２０によって
ガラス基板４をＸ，Ｙ軸方向に夫々独立に移動可能にな
っている。この基板受台２１はアライメント調整の為に
ピン２２を中心に鉛直軸心回りに回転可能になってい
る。As shown in FIGS. 4 to 6, a Y-axis slide mechanism 19 is mounted on the base 17 and an output member 19a of the Y-axis slide mechanism 19 is equipped with an X-axis slide mechanism 20, respectively. Output member 20 of X-axis slide mechanism 20
A substrate support 21 for mounting the glass substrate 4 is provided on a. The glass substrates 4 can be independently moved in the X-axis and Y-axis directions by the slide mechanisms 19 and 20. The substrate pedestal 21 is rotatable about the vertical axis about the pin 22 for alignment adjustment.
【００２８】この基板受台２１は合成樹脂製の多孔材、
あるいは焼結金属製の多孔材などで構成され、基板受台
２１上に載せたガラス基板４に多孔材を介して負圧を作
用させて吸着可能になっている。尚、基板受台２１はガ
ラス基板４よりも左右に幅広に形成され、基板受台２１
にはフラッシング液１１（ヘッド洗浄用溶剤）を受ける
為の左右１対のトレイ２１ａが一体的に形成されてい
る。ガラス基板４を搬出入する際ガラス基板４を基板受
台２１から所定小距離リフトさせる４本のリフトバー２
３ａとこれらリフトバー２３ａを昇降させるエアシリン
ダを含む基板リフト機構２３（図５参照）も設けられて
いる。The substrate pedestal 21 is made of a synthetic resin porous material,
Alternatively, the glass substrate 4 made of a sintered metal porous material or the like can be attracted by applying a negative pressure to the glass substrate 4 placed on the substrate pedestal 21 through the porous material. The substrate pedestal 21 is formed wider than the glass substrate 4 to the left and right.
A pair of left and right trays 21a for receiving the flushing liquid 11 (head cleaning solvent) is integrally formed therewith. Four lift bars 2 for lifting the glass substrate 4 from the substrate pedestal 21 by a predetermined small amount when the glass substrate 4 is carried in and out.
A substrate lift mechanism 23 (see FIG. 5) including an air cylinder for raising and lowering 3a and these lift bars 23a is also provided.
【００２９】媒体送り機構２４としてのＸ軸スライド機
構２０とＹ軸スライド機構１９について説明する。図
１、図４〜６に示すように、基板受台２１とその上に載
置したガラス基板４はＸ軸スライド機構２０により主走
査方向へ移動駆動可能であり、Ｙ軸スライド機構１９に
より副走査方向へ移動駆動可能である。ガラス基板４へ
のパターン形成時には、ノズルヘッド保持装置７を所定
の下降位置に停止させた状態で、前記の両スライド機構
１９，２０により、ガラス基板４と、ヘッド組取付台２
５に装着されたノズルヘッド保持装置７の複数のノズル
ヘッド８との間に主走査方向と副走査方向とに夫々相対
移動を発生させながら吐出記録を行う。The X-axis slide mechanism 20 and the Y-axis slide mechanism 19 as the medium feeding mechanism 24 will be described. As shown in FIGS. 1 and 4 to 6, the substrate pedestal 21 and the glass substrate 4 placed thereon can be driven to move in the main scanning direction by the X-axis slide mechanism 20, and can be driven by the Y-axis slide mechanism 19. It can be driven to move in the scanning direction. When forming a pattern on the glass substrate 4, the glass substrate 4 and the head assembly mounting base 2 are moved by the slide mechanisms 19 and 20 while the nozzle head holding device 7 is stopped at a predetermined lowered position.
The ejection recording is performed while the relative movement is generated between the plurality of nozzle heads 8 of the nozzle head holding device 7 mounted on the nozzle 5 in the main scanning direction and the sub scanning direction.
【００３０】つまり、媒体送り機構２４は、基板受台２
１に保持されたガラス基板４と、ヘッド組取付台２５に
装着されたノズルヘッド保持装置７のノズルヘッド８と
の間に、主走査方向と副走査方向とに夫々相対移動を発
生させる相対移動発生手段（相対移動手段）に相当す
る。Ｘ軸スライド機構２０のＸ方向駆動部２６はＸ軸エ
ンコーダ２７を含むサーボモータ２８により、Ｘ方向案
内部材に対して出力部材２０ａを移動駆動するものであ
り、Ｙ軸スライド機構１９のＹ方向駆動部２９はＹ軸エ
ンコーダ３０を含むサーボモータ３１により、Ｙ方向案
内部材に対して出力部材１９ａを移動駆動するものであ
る。Ｘ軸スライド機構２０には、それに付随的にその出
力部材２０ａの移動量を精密に検出可能なＸ軸リニアス
ケール189が設けられ、同様に、Ｙ軸スライド機構１９
には、それに付随的にその出力部材１９ａの移動量を精
密に検出可能なＹ軸リニアスケール198 が設けられてい
る（図３８参照）。That is, the medium feeding mechanism 24 is used for the substrate pedestal 2
Relative movement between the glass substrate 4 held by No. 1 and the nozzle head 8 of the nozzle head holding device 7 mounted on the head assembly mount 25 to cause relative movement in the main scanning direction and the sub scanning direction, respectively. It corresponds to the generating means (relative moving means). The X-direction drive unit 26 of the X-axis slide mechanism 20 drives the output member 20a with respect to the X-direction guide member by the servo motor 28 including the X-axis encoder 27, and drives the Y-axis slide mechanism 19 in the Y-direction. The section 29 is for moving and driving the output member 19a with respect to the Y-direction guide member by a servo motor 31 including a Y-axis encoder 30. The X-axis slide mechanism 20 is additionally provided with an X-axis linear scale 189 capable of accurately detecting the amount of movement of the output member 20a, and similarly, the Y-axis slide mechanism 19 is also provided.
Along with that, a Y-axis linear scale 198 capable of accurately detecting the amount of movement of the output member 19a is provided (see FIG. 38).
【００３１】基板受台２１上に載置したガラス基板４を
原点位置にアライメント調整する際には、２Ｆのメンテ
ナンスルーム１６に装備した４つのＣＣＤカメラ３２ａ
〜３２ｄによりガラス基板４の４つのアライメントマー
クＡＭ１〜ＡＭ４を撮像してガラス基板４の位置を検出
し、その検出位置情報に基づいて、Ｘ軸，Ｙ軸スライド
機構２０，１９により基板受台２１をＸ軸，Ｙ軸方向へ
夫々位置調整すると共に、基板受台２１の下面に摩擦係
合したカム片３３とこのカム片３３をＸ軸方向へ微動可
能な電動シリンダ３４とを含む回動調整装置３５によ
り、基板受台２１をピン２２を中心に角度（α）を調整
し、ガラス基板４を初期設定位置にアライメント調整す
るようになっている。つまり、ガラス基板４を初期設定
位置にアライメント調整する自動アライメント調整機構
３６が、Ｘ軸，Ｙ軸スライド機構２０，１９と、回動調
整装置３５と、４つのＣＣＤカメラ３２ａ〜３２ｄと、
制御装置１３などで構成されているが、このアライメン
ト調整に関する補足説明は後述する。When the glass substrate 4 placed on the substrate pedestal 21 is aligned and adjusted to the origin position, the four CCD cameras 32a provided in the maintenance room 16 on the 2nd floor.
32d to image the four alignment marks AM1 to AM4 of the glass substrate 4 to detect the position of the glass substrate 4, and based on the detected position information, the X-axis and Y-axis slide mechanisms 20 and 19 cause the substrate pedestal 21 to move. Position adjustment in the X-axis and Y-axis directions, and a rotation adjustment including a cam piece 33 frictionally engaged with the lower surface of the substrate pedestal 21 and an electric cylinder 34 capable of finely moving the cam piece 33 in the X-axis direction. The device 35 adjusts the angle (α) of the substrate pedestal 21 about the pin 22 and the alignment of the glass substrate 4 to the initial setting position. That is, the automatic alignment adjusting mechanism 36 for adjusting the alignment of the glass substrate 4 to the initial setting position includes the X-axis and Y-axis slide mechanisms 20, 19, the rotation adjusting device 35, and the four CCD cameras 32a to 32d.
The control device 13 and the like are provided, and a supplementary explanation regarding this alignment adjustment will be described later.
【００３２】Ｚ軸スライド機構６について説明する。図
１〜図４、図６に示すように、昇降手段（ヘッド昇降手
段）としてのＺ軸スライド機構６は、ノズルヘッド保持
装置７を支持して昇降させる為のものであり、このＺ軸
スライド機構６をベース台１７に支持する構造として、
２Ｆのメンテナンスルーム１６において仕切り板１４上
の左右両側には、前後方向に延びる１対のボックスフレ
ーム３７が支柱１８で支持され、これらボックスフレー
ム３７には支持フレーム３８が架設され、この支持フレ
ーム３８にＺ軸スライド機構６が取付けられている。こ
のＺ軸スライド機構６は、支持フレーム３８に固定され
たスライドケース３９、このスライドケース３９に昇降
自在に案内された出力部材４０（スライド部材）、この
出力部材４０を昇降する電動シリンダ４１、この電動シ
リンダ４１のＺ軸エンコーダ４２等で構成されている。The Z-axis slide mechanism 6 will be described. As shown in FIGS. 1 to 4 and 6, the Z-axis slide mechanism 6 as the elevating means (head elevating means) is for supporting and elevating the nozzle head holding device 7, and this Z-axis slide mechanism is used. As a structure for supporting the mechanism 6 on the base stand 17,
In the maintenance room 16 on the 2nd floor, a pair of box frames 37 extending in the front-rear direction are supported by columns 18 on both left and right sides of the partition plate 14, and a support frame 38 is erected on the box frames 37. The Z-axis slide mechanism 6 is attached to. The Z-axis slide mechanism 6 includes a slide case 39 fixed to a support frame 38, an output member 40 (slide member) guided up and down by the slide case 39, an electric cylinder 41 for moving the output member 40 up and down, The electric cylinder 41 includes a Z-axis encoder 42 and the like.
【００３３】図１〜図７に示すように、Ｚ軸スライド機
構６の出力部材４０の下端部にはヘッド組取付台２５が
固定され、このヘッド組取付台２５にはノズルヘッド保
持装置７が着脱可能に取付けられ、図６に示すように、
ノズルヘッド保持装置７の複数のノズルヘッド８を含む
ヘッド部４３を、仕切り部材１４よりも下側のパターン
処理ステージ２１においてガラス基板４に対してパター
ン形成を行う吐出位置（下降位置）ＤＰと、検査調整ス
テージ４４においてヘッド部４３に対して検査調整を行
う検査調整位置（上昇位置）ＵＰと、この位置よりも僅
かに上昇させたホーム位置ＨＰにわたって昇降可能であ
る。As shown in FIGS. 1 to 7, a head assembly mount 25 is fixed to the lower end of the output member 40 of the Z-axis slide mechanism 6, and the nozzle head holding device 7 is mounted on the head assembly mount 25. Removably attached, as shown in FIG.
An ejection position (lowering position) DP at which the head portion 43 including the plurality of nozzle heads 8 of the nozzle head holding device 7 forms a pattern on the glass substrate 4 on the pattern processing stage 21 below the partition member 14, The inspection adjustment stage 44 can be moved up and down between an inspection adjustment position (elevated position) UP for performing inspection adjustment with respect to the head portion 43 and a home position HP slightly elevated from this position.
【００３４】図１、図３、図４、図７〜図１１に示すよ
うに、ヘッド組取付台２５は、Ｚ軸スライド機構６の出
力部材４０の下端部に複数のボルト４８にて固定された
支持基板４７を含み（図９参照）、この支持基板４７上
に、後述するノズルヘッド保持装置７のフレーム部材４
６を位置決め支持するようになっている。As shown in FIGS. 1, 3, 4, and 7 to 11, the head assembly mount 25 is fixed to the lower end of the output member 40 of the Z-axis slide mechanism 6 by a plurality of bolts 48. Including a supporting substrate 47 (see FIG. 9) on which the frame member 4 of the nozzle head holding device 7 described later is provided.
6 is positioned and supported.
【００３５】次に、ノズルヘッド保持装置７について説
明する。図１〜図４、図７〜図２１に示すように、ノズ
ルヘッド保持装置７は、フレーム部材４６と、４節平行
リンク機構４９と、１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂと、
３つのヘッドホルダ５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂと、２組の
案内機構５２Ａ，５２Ｂ及び移動機構５３Ａ，５３Ｂな
どを有し、ノズルヘッド保持装置７のフレーム部材４６
が支持基板４７に対して着脱可能に装着されている。
尚、図７〜図１２はノズルヘッド保持装置７を支持基板
４７に装着した状態を示す図であり、図１３、図１４は
支持基板４７から取り外した状態を示す図であり、図１
５〜図１８はノズルヘッド保持装置７を支持基板４７か
ら取り外しフレーム部材４６を省略した状態を示す図で
ある。Next, the nozzle head holding device 7 will be described. As shown in FIGS. 1 to 4 and 7 to 21, the nozzle head holding device 7 includes a frame member 46, a four-bar parallel link mechanism 49, and a pair of rotation fulcrums 50A and 50B.
The frame member 46 of the nozzle head holding device 7 has three head holders 51R, 51G and 51B, two sets of guide mechanisms 52A and 52B and moving mechanisms 53A and 53B.
Are detachably attached to the support substrate 47.
7 to 12 are diagrams showing a state in which the nozzle head holding device 7 is mounted on the support substrate 47, and FIGS. 13 and 14 are diagrams showing a state removed from the support substrate 47.
5 to 18 are views showing a state in which the nozzle head holding device 7 is removed from the support substrate 47 and the frame member 46 is omitted.
【００３６】最初に、ヘッドホルダ５１について簡単に
説明しておく。ヘッドホルダ５１は副走査方向に細長く
形成され、このヘッドホルダ５１は初期設定状態におい
ては副走査方向と平行に配設され、ヘッドホルダ５１に
は副走査方向に細長いノズルヘッド８が取り外し可能に
固定されている。ノズルヘッド８は、ＥＬ発光有機物質
などの有機物質を溶剤で液化した溶液（吐出液）を吐出
するために、耐溶剤性材料（例えば、セラミック材料な
ど）で形成されている。First, the head holder 51 will be briefly described. The head holder 51 is formed to be elongated in the sub-scanning direction. The head holder 51 is arranged parallel to the sub-scanning direction in the initial setting state, and the elongated nozzle head 8 is detachably fixed to the head holder 51 in the sub-scanning direction. Has been done. The nozzle head 8 is formed of a solvent resistant material (for example, a ceramic material) in order to eject a solution (ejection liquid) obtained by liquefying an organic substance such as an EL light emitting organic substance with a solvent.
【００３７】各ノズルヘッド８には例えば６４個の微小
径のノズル５５が副走査方向に微小ピッチで１列状をな
すように形成されている。ヘッドホルダ５１としては、
赤色用液と緑色用液と青色用液とを夫々吐出するノズル
ヘッド８R,８G,８B が装着されたヘッドホルダ５１Ｒ，
５１Ｇ，５１Ｂが主走査方向に所定の間隔をあけて平行
に設けられている。各ノズルヘッド８の例えば６４個の
ノズル５５は、最も後端側（基端側）のものから順にN
o.1、No.2、・・・・No.64 とされ、No.1のノズル５５
が基準ノズルである。For example, 64 nozzles 55 having a minute diameter are formed in each nozzle head 8 so as to form one row at a minute pitch in the sub-scanning direction. As the head holder 51,
Head holders 51R equipped with nozzle heads 8R, 8G, 8B for ejecting red liquid, green liquid and blue liquid, respectively.
51G and 51B are provided in parallel in the main scanning direction with a predetermined space therebetween. For example, the 64 nozzles 55 of each nozzle head 8 are N in order from the rearmost end side (base end side).
o.1, No.2, ... No.64, No.1 nozzle 55
Is the reference nozzle.
【００３８】４節平行リンク機構４９について説明す
る。図２、図７、図１４に示すように、ノズルヘッド８
をノズルヘッド８の副走査方向基端側の基準ノズル８R
の軸心又はその近傍の軸心回りに回動させる為の回動機
構は、４節平行リンク機構４９を有する。この４節平行
リンク機構４９は、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６
Ｂと、これら第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂを回動可能
に連結する１対の第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂと、１
対の押えプレート５８Ａ，５８Ｂと、４つのスペーサ５
９とを有する。１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂは
前後に所定間隔あけて主走査方向と平行に配設され、１
対の第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂは第１リンク部材５
６Ａ，５６Ｂの端部にほぼ対応する位置に副走査方向に
向けて平行に配設され、１対の第２リンク部材５７Ａ，
５７Ｂの両端部は１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂ
の上面に当接する状態に配設されている。The four-bar parallel link mechanism 49 will be described. As shown in FIGS. 2, 7, and 14, the nozzle head 8
Is the reference nozzle 8R on the base end side of the nozzle head 8 in the sub-scanning direction.
The rotation mechanism for rotating about the axis of or about the axis in the vicinity has a four-bar parallel link mechanism 49. The four-bar parallel link mechanism 49 includes a pair of first link members 56A and 56A.
B, a pair of second link members 57A and 57B that rotatably connect the first link members 56A and 56B, and 1
Pair of holding plates 58A and 58B and four spacers 5
9 and. The pair of first link members 56A and 56B are arranged in parallel with the main scanning direction with a predetermined distance in the front and rear.
The pair of second link members 57A and 57B is the first link member 5
The pair of second link members 57A, 57A are disposed in parallel with each other in the sub-scanning direction at positions substantially corresponding to the ends of 6A, 56B.
Both ends of 57B are a pair of first link members 56A and 56B.
Is arranged so as to be in contact with the upper surface of the.
【００３９】尚、後側の第１リンク部材５６Ｂには、右
側の第２リンク部材５７Ｂよりも所定長さ突出する突出
部６０（図１４参照）が形成されている。第１リンク部
材５６Ａ，５６Ｂと第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂを鉛
直軸心回りに回動可能に連結する４つの連結部６１は同
様の構造であるので、図１０、図１７に基づいて説明す
ると、各連結部６１において、第１リンク部材５６Ａ，
５６Ｂにピン部材６２が立設され、第２リンク部材５７
Ａ，５７Ｂにボールベアリングブッシュ６３が立向きに
設けられ、ボールベアリングブッシュ６３にピン部材６
２を挿通させ座金６４とコイルバネ６５と穴付きボルト
６６にて抜け止めされている。The rear side first link member 56B is formed with a protrusion 60 (see FIG. 14) which protrudes from the right side second link member 57B by a predetermined length. Since the four connecting portions 61 that connect the first link members 56A, 56B and the second link members 57A, 57B so as to be rotatable about the vertical axis have the same structure, a description will be given based on FIGS. 10 and 17. , In each connecting portion 61, the first link member 56A,
The pin member 62 is erected on 56B, and the second link member 57 is provided.
A ball bearing bush 63 is provided upright on A and 57B, and the ball bearing bush 63 has a pin member 6
2 is inserted and is prevented from coming off by a washer 64, a coil spring 65 and a bolt 66 with a hole.
【００４０】次に、フレーム部材４６について説明す
る。フレーム部材４６は、左右方向に延びる本体部４６
ａと、この本体部４６ａの左端部から前方へ延びた左腕
部４６ｂと、本体部４６ａの右端付近から斜めに前方へ
延びた右腕部４６ｃとを有し、左腕部４６ｂと右腕部４
６ｃとに、後述の４節平行リンク機構４９の傾斜回動の
為の１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂが支持されている。Next, the frame member 46 will be described. The frame member 46 has a body portion 46 extending in the left-right direction.
a, a left arm portion 46b extending forward from the left end portion of the main body portion 46a, and a right arm portion 46c extending obliquely forward from the vicinity of the right end portion of the main body portion 46a. The left arm portion 46b and the right arm portion 4 are provided.
A pair of rotation fulcrums 50A and 50B for tilting rotation of a four-node parallel link mechanism 49, which will be described later, are supported by 6c.
【００４１】次に、１対の取付用連結機構６７について
説明する。この１対の取付用連結機構６７は、３組のヘ
ッドホルダ５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂが装着されたノズル
ヘッド保持装置７を、ヘッド組取付台２５の支持基板４
７に対して精密に位置決めしたうえで１対のボルト４５
を介して着脱可能に取り付ける為のものである。図７、
図８に示すように、１対の取付用連結機構６７は、同様
の構造のものであり、フレーム部材４６の左部と右部に
対応する位置に設けられている。Next, the pair of attachment connecting mechanisms 67 will be described. The pair of attachment coupling mechanisms 67 includes the nozzle head holding device 7 to which three sets of head holders 51R, 51G, and 51B are attached, and the support substrate 4 of the head set attachment base 25.
After positioning precisely with respect to 7, a pair of bolts 45
It is for detachable attachment via. 7,
As shown in FIG. 8, the pair of attachment coupling mechanisms 67 have the same structure and are provided at positions corresponding to the left and right portions of the frame member 46.
【００４２】図１２、図１３に示すように、各取付用連
結機構６７において、支持基板４７の下端部に有底状の
筒状金具６８がボルトなどにより固定され、この筒状金
具６８の内部には、ボールリテーナー６９ａを上方に付
勢するボールリテーナー支持バネ６８ａが装備されてい
る。支持基板４７のうちこの筒状金具６８の取付け位置
に貫通穴４７ｂが形成され、貫通穴４７ｂにボールリテ
ーナー６９ａ、ベアリングブッシュ６９ｂ、リテーナー
抜け止めリング６９ｃが内嵌状に装備されている。フレ
ーム部材４６にも、前記貫通穴４７ｂと略同径の貫通穴
４６ｄが形成され、この貫通穴４６ｄにボールリテーナ
ー７１ａ、ベアリングブッシュ７１ｂ、リテーナー抜け
止めリング７１ｃが内嵌状に装備されている。As shown in FIGS. 12 and 13, in each attachment coupling mechanism 67, a bottomed tubular metal fitting 68 is fixed to the lower end portion of the support substrate 47 by a bolt or the like, and the inside of the tubular metal fitting 68 is fixed. Is equipped with a ball retainer support spring 68a that biases the ball retainer 69a upward. A through hole 47b is formed at a mounting position of the tubular metal fitting 68 on the support substrate 47, and a ball retainer 69a, a bearing bush 69b, and a retainer retaining ring 69c are internally fitted to the through hole 47b. The frame member 46 is also formed with a through hole 46d having substantially the same diameter as the through hole 47b, and a ball retainer 71a, a bearing bush 71b, and a retainer retaining ring 71c are internally fitted to the through hole 46d.
【００４３】ピンアッシー７０は、ピン部材７０ａと、
雄ネジ部を含むストッパー部材７０ｂと、ナット板７０
ｃと、ツマミ７０ｄと、止めネジ７０ｅとで構成されて
いる。ピン部材７０ａの上半部には、筒状のストッパー
部材７０ｂが外装固着されている。このストッパー部材
７０ｂには、上部から順次小径部、雄ネジ部、フランジ
状の抜け止め部が形成され、雄ネジ部にナット板７０ｃ
を螺合させたうえで小径部にツマミ７０ｄを外装し、止
めネジ７０ｅでもって固定する。その後、ナット板７０
ｃをフレーム部材４６に固定するようになっている。The pin assembly 70 includes a pin member 70a,
A stopper member 70b including a male screw portion and a nut plate 70
c, a knob 70d, and a set screw 70e. A cylindrical stopper member 70b is externally fixed to the upper half of the pin member 70a. The stopper member 70b is formed with a small diameter portion, a male screw portion, and a flange-shaped retaining portion in order from the top, and the nut plate 70c is formed on the male screw portion.
After screwing, the knob 70d is mounted on the small diameter portion and fixed with the set screw 70e. Then, the nut plate 70
c is fixed to the frame member 46.
【００４４】図１２に示すように、ノズルヘッド保持装
置７を支持基板４７に取り付ける際には、支持基板４７
の貫通穴４７ｂに対してフレーム部材４６の貫通穴４６
ｄを略一致させた後、ピンアッシー７０のツマミ７０を
回してピン部材７０ａをこれら貫通穴４６ｄ，４７ｂに
挿入していく。このとき、ボールリテーナー支持バネ６
８ａの付勢力に抗してボールリテーナー６９ａがやや下
方に移動する。このように、ノズルヘッド保持装置７を
支持基板４７に対して精密に位置決めしたうえで１対の
ボルト４５を介して連結する。As shown in FIG. 12, when the nozzle head holding device 7 is attached to the supporting substrate 47, the supporting substrate 47 is used.
The through hole 46b of the frame member 46 with respect to the through hole 47b of
After substantially matching d, the knob 70 of the pin assembly 70 is turned to insert the pin member 70a into the through holes 46d and 47b. At this time, the ball retainer support spring 6
The ball retainer 69a moves slightly downward against the biasing force of 8a. In this way, the nozzle head holding device 7 is precisely positioned with respect to the support substrate 47 and then connected via the pair of bolts 45.
【００４５】図１３に示すように、ノズルヘッド保持装
置７を支持基板４７から取り外す際には、１対のボルト
４５を取外したうえで、ツマミ７０ｄを回しピンアッシ
ー７０のピン部材７０ａを支持基板４７側の貫通穴４７
ｂから引抜くことで、ノズルヘッド保持装置７全体を前
方にスライド移動させて分離可能になっている。このと
き、ボールリテーナー７１ａがやや上方に移動すると共
にストッパー部材７０ｂの抜け止め部がナット板７０ｃ
に当接することによりピンアッシー７０がノズルヘッド
保持装置７から離脱するのを防止する。As shown in FIG. 13, when removing the nozzle head holding device 7 from the support substrate 47, the pair of bolts 45 are removed, and then the knob 70d is rotated to attach the pin member 70a of the pin assembly 70 to the support substrate. 47 side through hole 47
By pulling out from b, the entire nozzle head holding device 7 can be slid forward and separated. At this time, the ball retainer 71a moves slightly upward, and the stopper member 70b is prevented from coming off from the nut plate 70c.
The pin assembly 70 is prevented from coming off the nozzle head holding device 7 by coming into contact with the pin head 70.
【００４６】次に、１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂにつ
いて説明する。この液滴ジェットパターニング装置１
は、４節平行リンク機構４９の１対の第２リンク部材５
７Ａ，５７Ｂを０〜６０度の範囲内で副走査方向に対し
て所望の角度だけ傾斜回動させることにより、パターン
形成時の副走査方向のドット間ピッチを変更可能になっ
ている。１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂは、１対の第２
リンク部材５７Ａ，５７Ｂの途中部であって、基準ノズ
ルヘッドであるノズルヘッド８R のNo.1ノズル５５（基
準ノズル）に対応する途中部が回動中心となるように、
４節平行リンク機構４９を傾斜回動させる為の回動支点
であり、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂ間の１対
の第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂの途中部を、連結部６
１の軸心と平行な軸心回りに回動可能に支持するもので
ある。Next, the pair of rotation fulcrums 50A and 50B will be described. This droplet jet patterning device 1
Is a pair of second link members 5 of the four-bar parallel link mechanism 49.
By tilting and rotating 7A and 57B by a desired angle with respect to the sub-scanning direction within the range of 0 to 60 degrees, the pitch between dots in the sub-scanning direction during pattern formation can be changed. The pair of rotation fulcrums 50A and 50B are a pair of second fulcrums.
In the middle of the link members 57A and 57B, the middle corresponding to the No. 1 nozzle 55 (reference nozzle) of the nozzle head 8R, which is the reference nozzle head, becomes the center of rotation.
It is a rotation fulcrum for tilting and rotating the four-bar parallel link mechanism 49.
It is rotatably supported around an axis parallel to the axis 1.
【００４７】尚、前記途中部は、第２リンク部材５７
Ａ，５７Ｂの後端から約１／３の長さの位置であり、１
対の回動支点５０Ａ，５０Ｂの軸心を結ぶ面ＢＦ上に、
ノズルヘッド８R の基準ノズル５５が位置している（図
２８参照）。尚、ノズルヘッド８G,８B の基準ノズル５
５は、前記軸心を結ぶ面ＢＦ上に配置される場合もある
し、夫々必要に応じて副走査方向へ微小距離移動させた
位置に配置される場合もある。Incidentally, the intermediate portion is the second link member 57.
It is about 1/3 of the length from the rear end of A and 57B.
On the surface BF connecting the axes of the pair of rotation fulcrums 50A and 50B,
The reference nozzle 55 of the nozzle head 8R is located (see FIG. 28). In addition, the reference nozzle 5 of the nozzle head 8G, 8B
5 may be arranged on the surface BF connecting the axes, or may be arranged at a position slightly moved in the sub-scanning direction as needed.
【００４８】図１０、図１７に示す左側の回動支点５０
Ａについて説明すると、第２リンク部材５７Ａに鉛直の
ピン部材７５が立設固定され、フレーム部材４６の左腕
部４６ｂの先端部分の穴にはボールベアリングブッシュ
７６が立て向きに装着され、ピン部材７５をベアリング
ブッシュ７６に密内嵌状に挿通して突出したピン部材７
５の突出部７５ａには、座金７７とコイルバネ７８と穴
付きボルト７９が装着されている。尚、ノズルヘッド保
持装置７を取り外す際に、ボルト７９とコイルバネ７８
と座金７７とを取り外せば、ピン部材７５とボールベア
リングブッシュ７６をフレーム部材４６の左腕部４６ｂ
から取り外すことができる。The left rotation fulcrum 50 shown in FIGS. 10 and 17.
Describing A, a vertical pin member 75 is erected and fixed to the second link member 57A, and a ball bearing bush 76 is vertically mounted in a hole at the tip end portion of the left arm portion 46b of the frame member 46. The pin member 7 which is inserted into the bearing bush 76 in a close-fitting manner and projects.
A washer 77, a coil spring 78, and a bolt 79 with a hole are attached to the protruding portion 75a of No. 5. When removing the nozzle head holding device 7, a bolt 79 and a coil spring 78 are used.
By removing the washer 77 and the washer 77, the pin member 75 and the ball bearing bush 76 are attached to the left arm portion 46b of the frame member 46.
Can be removed from.
【００４９】図９、図１６に示す右側の回動支点５０Ｂ
は前記の左側の回動支点５０Ａと同様の構造であり、フ
レーム部材４６の右腕部４６ｃの先端部分で支持される
右側の回動支点５０Ｂにおいて、第２リンク部材５７Ｂ
に鉛直のピン部材７５が立設固定され、第１リンク部材
５６Ａ，５６Ｂの右腕部４６ｃの先端部分の穴にはボー
ルベアリングブッシュ７６が立て向きに装着され、ピン
部材７５をボールベアリングブッシュ７６に密内嵌状に
挿通して突出したピン部材７５の突出部には、座金７７
とコイルバネ７８と穴付きボルト７９が装着されてい
る。The right rotation fulcrum 50B shown in FIGS. 9 and 16.
Has a structure similar to that of the left rotation fulcrum 50A, and the second link member 57B is provided at the right rotation fulcrum 50B supported by the tip portion of the right arm portion 46c of the frame member 46.
A vertical pin member 75 is vertically installed and fixed, and a ball bearing bush 76 is vertically mounted in a hole at a tip end portion of the right arm portion 46c of the first link members 56A and 56B. A washer 77 is attached to the protruding portion of the pin member 75 which is inserted and protrudes in a close-fitting manner.
A coil spring 78 and a bolt 79 with a hole are attached.
【００５０】次に、前記の回動支点５０Ｂに回動モーメ
ントを作用させて４節平行リンク機構４９を傾斜回動さ
せる為の回動駆動機構８０（傾斜回動手段）と、この回
動駆動機構８０によって回動させた４節平行リンク機構
４９の傾斜回動量を検出する傾斜角度検出用エンコーダ
８１（傾斜角度検出手段、傾斜回動量検出手段）につい
て説明する。図７〜図９、図１１、図１５、図１６、図
１８、図２０に示すように、回動駆動機構８０は減速機
付きモータ８２（傾斜回動用サーボモータ）と、レバー
部材８３と、回動力入力軸８４とからなる。Next, a rotation drive mechanism 80 (tilt rotation means) for tilting and turning the four-bar parallel link mechanism 49 by applying a turning moment to the turning fulcrum 50B, and this turning drive. The tilt angle detection encoder 81 (tilt angle detection means, tilt rotation amount detection means) for detecting the tilt rotation amount of the four-bar parallel link mechanism 49 rotated by the mechanism 80 will be described. As shown in FIGS. 7 to 9, FIG. 11, FIG. 15, FIG. 16, FIG. 18, and FIG. 20, the rotation drive mechanism 80 includes a motor 82 with a speed reducer (servo motor for tilt rotation), a lever member 83, The rotary power input shaft 84.
【００５１】この減速機付きモータ８２は、右側の回動
支点５０Ｂと略同軸心となるように、Ｚ軸スライド機構
６の出力部材４０に固定されたモータ支持板８５に立向
き姿勢に装着され、この減速機付きモータ８２の出力軸
８２ａがレバー部材８３を介して回動力入力軸８４に連
結され、第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂは回動支点５０
Ａ，５０Ｂを中心に回動するように構成してある。The motor with reduction gear 82 is mounted in a vertical position on a motor support plate 85 fixed to the output member 40 of the Z-axis slide mechanism 6 so as to be substantially coaxial with the right rotation fulcrum 50B. The output shaft 82a of the speed reducer-equipped motor 82 is connected to the turning force input shaft 84 via the lever member 83, and the second link members 57A and 57B are rotated fulcrum 50.
It is configured to rotate around A and 50B.
【００５２】回動力入力軸８４は、回動支点５０Ｂの前
側に位置する第２リンク部材５７Ｂの途中部に立設され
たピン部材８７と、スペーサ８８と、ボールベアリング
ブッシュ８９と、穴付きボルト９０とを有する。レバー
部材８３は、レバー本体８３ａと、弾性板８３ｂとから
なり、レバー本体８３ａの後部が、減速機付きモータ８
２の出力軸８２ａにボルト９１にて固定され、弾性板８
３ｂはレバー本体８３ａの後部にボルト９２にて固定さ
れ、レバー本体８３ａと弾性板８３ｂとでボールベアリ
ングブッシュ８９を左右両側から挟持している。The turning force input shaft 84 is provided with a pin member 87 standing upright in the middle of the second link member 57B located on the front side of the rotation fulcrum 50B, a spacer 88, a ball bearing bush 89, and a bolt with a hole. 90 and. The lever member 83 is composed of a lever main body 83a and an elastic plate 83b, and the rear portion of the lever main body 83a has a motor 8 with a reduction gear.
2 is fixed to the output shaft 82a with a bolt 91, and the elastic plate 8
3b is fixed to the rear portion of the lever main body 83a by bolts 92, and the ball bearing bush 89 is sandwiched between the left and right sides by the lever main body 83a and the elastic plate 83b.
【００５３】減速機付きモータ８２の出力軸８２ａが回
動すると、レバー部材８３を介して回動力入力軸８４に
回動力が伝達され、第２リンク部材５７Ｂが出力軸８２
ａの回動角と同角度だけ傾斜回動し、４節平行リンク機
構４９の１対の第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂと３つの
ヘッドホルダ５１が前記と同角度だけ傾斜回動する。
尚、ノズルヘッド保持装置７の４節平行リンク機構４９
のみを取り外す際に、夫々１対のボルト７９とコイルバ
ネ７８と座金７７とを取り外せば、フレーム部材４６の
左腕部４６ｂと右腕部４６ｃから取り外すことができ
る。When the output shaft 82a of the motor 82 with a reduction gear rotates, the rotation power is transmitted to the rotation power input shaft 84 via the lever member 83, and the second link member 57B causes the output shaft 82 to rotate.
The pair of second link members 57A and 57B of the four-bar parallel link mechanism 49 and the three head holders 51 are tilted by the same angle as the rotation angle of a, and tilted by the same angle.
The four-bar parallel link mechanism 49 of the nozzle head holding device 7
When removing only one, by removing the pair of bolts 79, the coil spring 78, and the washer 77, respectively, it is possible to remove from the left arm portion 46b and the right arm portion 46c of the frame member 46.
【００５４】図７、図９に示すように、傾斜角度検出用
エンコーダ８１は高分解能のロータリエンコーダからな
り、このエンコーダ８１は支持基板４７の張出し部４７
ａに立向き姿勢に固定され、エンコーダ８１の入力軸の
軸心は、１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂの軸心を結ぶ面
と同一面上に位置している。このエンコーダ８１の入力
軸８１ａに固定されたアーム９５の前端部にはピン９４
にてローラ９５ａが枢着され、アーム９５は弾性部材９
３により図７にて反時計回りに弾性付勢され、ローラ９
５ａが４節平行リンク機構４９の後側の第１リンク部材
５６Ｂの右端側の突出部６０の右端面に弾性的に当接し
ている。尚、支持基板４７のストッパー溝９６は、ノズ
ルヘッド保持装置７が取り外されているとき、アーム９
５を適正な位置に保持する為のストッパー溝であって、
ノズルヘッド保持装置７を支持基板４７に取り付ける際
のアーム９５の干渉を防止するようになっている。As shown in FIGS. 7 and 9, the tilt angle detecting encoder 81 is a high-resolution rotary encoder, and the encoder 81 has a projecting portion 47 on the support substrate 47.
The shaft center of the input shaft of the encoder 81 is fixed to the vertical position a, and the shaft center of the input shaft of the encoder 81 is located on the same plane as the surface connecting the shaft centers of the pair of rotation fulcrums 50A and 50B. A pin 94 is provided at the front end of the arm 95 fixed to the input shaft 81a of the encoder 81.
The roller 95a is pivotally attached to the arm 95 by the elastic member 9
3 is elastically biased counterclockwise in FIG.
5a elastically abuts on the right end surface of the protrusion 60 on the right end side of the first link member 56B on the rear side of the four-bar parallel link mechanism 49. It should be noted that the stopper groove 96 of the support substrate 47 is provided in the arm 9 when the nozzle head holding device 7 is removed.
It is a stopper groove for holding 5 in the proper position,
The arm 95 is prevented from interfering with each other when the nozzle head holding device 7 is attached to the support substrate 47.
【００５５】図２７（ｂ）に示すように、４節平行リン
ク機構４９が１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂを中心とし
て時計回り方向へ傾斜回動すると、第１リンク部材５６
Ｂが右方へ移動するため、傾斜回動量をエンコーダ８１
で検出することができる。初期設定状態において、アー
ム９５の中心線は副走査方向に向いており、４節平行リ
ンク機構４９が傾斜回動するとき、アーム９５は１対の
第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂと平行に傾斜回動するの
で、エンコーダ８１により４節平行リンク機構４９の傾
斜回動角θを精密に検出することができる。As shown in FIG. 27B, when the four-bar parallel link mechanism 49 tilts and rotates clockwise about the pair of rotation fulcrums 50A and 50B, the first link member 56 is formed.
Since B moves to the right, the tilt rotation amount is determined by the encoder 81.
Can be detected with. In the initial setting state, the center line of the arm 95 is oriented in the sub-scanning direction, and when the four-bar parallel link mechanism 49 tilts and rotates, the arm 95 tilts in parallel with the pair of second link members 57A and 57B. Since it moves, the tilt rotation angle θ of the four-bar parallel link mechanism 49 can be accurately detected by the encoder 81.
【００５６】こうして、第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂ
と３つのノズルホルダ５１が傾斜回動する際に、副走査
方向に対するノズルヘッド８の検出した傾斜角度θをフ
ィードバックしながら所望の傾斜回動とするように減速
機付きモータ８２の回動角を制御する。後述の制御装置
１３は、パターン形成の解像度（吐出解像度）に基づい
て回動駆動機構８０によるノズルヘッド８の回動角を制
御する。Thus, the second link members 57A, 57B
When the three nozzle holders 51 are tilted and rotated, the rotation angle of the motor 82 with a speed reducer is adjusted so that the tilt angle θ detected by the nozzle head 8 with respect to the sub-scanning direction is fed back to achieve a desired tilt rotation. Control. The control device 13, which will be described later, controls the rotation angle of the nozzle head 8 by the rotation drive mechanism 80 based on the pattern formation resolution (ejection resolution).
【００５７】次に、ヘッド保持装置７におけるヘッドホ
ルダ５１の周辺の構造について説明する。３つのヘッド
ホルダ５１は、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに
１対の押えプレート５８Ａ，５８Ｂと複数のボルト９７
を介して着脱可能に装着され、各ヘッドホルダ５１の両
端部は、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに鉛直軸
心回りに回動可能に支持されている。基準ヘッドホルダ
としてのヘッドホルダ５１Ｒは副走査方向に移動不能に
支持され、ヘッドホルダ５１Ｇ，５１Ｂは、夫々、１対
の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに案内機構５２Ａ，５
２Ｂにより副走査方向に移動可能に案内支持されてお
り、ヘッドホルダ５１Ｂ，５１Ｇの各々を副走査方向に
移動させる為の移動機構５３Ａ，５３Ｂも設けられてい
る。尚、ヘッドホルダ５１Ｒも他のヘッドホルダ５１
Ｇ，５１Ｂと同様に副走査方向に移動可能に支持してお
くことも可能である。Next, the structure around the head holder 51 in the head holding device 7 will be described. The three head holders 51 include a pair of first link members 56A and 56B, a pair of holding plates 58A and 58B, and a plurality of bolts 97.
Both ends of each head holder 51 are rotatably supported by a pair of first link members 56A and 56B about a vertical axis. The head holder 51R as a reference head holder is supported immovably in the sub-scanning direction, and the head holders 51G and 51B are respectively connected to the pair of first link members 56A and 56B by the guide mechanisms 52A and 5A.
It is supported by 2B so as to be movable in the sub-scanning direction, and is also provided with moving mechanisms 53A, 53B for moving each of the head holders 51B, 51G in the sub-scanning direction. Incidentally, the head holder 51R is also the other head holder 51
Like G and 51B, it is also possible to support it so as to be movable in the sub-scanning direction.
【００５８】ヘッドホルダ５１の両端部において、３つ
のヘッドホルダ５１の端部の上面には押えプレート５８
Ａ，５８Ｂが配設され、複数のボルト９７で第１リンク
部材５６Ａ，５６Ｂに取付けられている。押えプレート
５８Ａ，５８Ｂと第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂとの間
で且つ隣接するヘッドホルダ５１の間にスペーサ５９が
配設され、各スペーサ５９は複数のボルト９７で固着さ
れている。スペーサ５９はヘッドホルダ５１よりも約５
μｍほど厚く形成され、ヘッドホルダ５１と押えプレー
ト５８Ａ，５８Ｂの間に５μｍの隙間が形成され、各ヘ
ッドホルダ５１の両端部が１対の第１リンク部材５６
Ａ，５６Ｂに対して回動可能となり、副走査方向に移動
可能となっている。At both ends of the head holder 51, pressing plates 58 are provided on the upper surfaces of the ends of the three head holders 51.
A and 58B are arranged and attached to the first link members 56A and 56B with a plurality of bolts 97. Spacers 59 are arranged between the pressing plates 58A and 58B and the first link members 56A and 56B and between the adjacent head holders 51, and each spacer 59 is fixed by a plurality of bolts 97. The spacer 59 is about 5 times larger than the head holder 51.
The head holder 51 is formed to have a thickness of about 5 μm, and a gap of 5 μm is formed between the head holder 51 and the pressing plates 58A and 58B.
It is rotatable with respect to A and 56B and movable in the sub-scanning direction.
【００５９】図１０、図１７、図２１〜図２４に示すよ
うに、各ヘッドホルダ５１の下面にスペーサ９８を介し
てノズルヘッド８が夫々ビス９９で固定され、各ノズル
ヘッド８には、前述のように、液滴を鉛直下方へ吐出可
能な６４個のノズル５５が主走査方向と直交する副走査
方向に所定の微小なノズルピッチ（隣接するノズル間ピ
ッチ、例えば、７５ｄｐｉ）にて１列状に形成されてい
る。As shown in FIGS. 10, 17, and 21 to 24, the nozzle heads 8 are fixed to the lower surfaces of the head holders 51 with the screws 98 via the spacers 98. As described above, 64 nozzles 55 capable of ejecting liquid droplets vertically downward form one row at a predetermined minute nozzle pitch (pitch between adjacent nozzles, for example, 75 dpi) in the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction. It is formed into a shape.
【００６０】次に、ノズルヘッド保持装置７に設けられ
た案内機構５２Ａ，５２Ｂと移動機構５３Ａ，５３Ｂに
ついて説明する。ノズルヘッド８B,８G を１対の第１リ
ンク部材５６Ａ，５６Ｂに対して副走査方向に移動可能
に夫々案内支持する案内機構５２Ａ，５２Ｂは同じ構造
のものであるので、ノズルヘッド８B の為の案内機構５
２Ａについて説明する。図１１、図１４、図１８、図２
１、図２３に示すように、案内機構５２Ａは、前端案内
機構100 と後端案内機構101 とを有し、前端案内機構10
0 はローラ部材102 、凹部103 、案内面104 、押圧部材
105 、圧縮コイルバネ106 等を有する。Next, the guide mechanisms 52A and 52B and the moving mechanisms 53A and 53B provided in the nozzle head holding device 7 will be described. The guide mechanisms 52A and 52B for guiding and supporting the nozzle heads 8B and 8G so as to be movable in the sub-scanning direction with respect to the pair of first link members 56A and 56B have the same structure. Guide mechanism 5
2A will be described. 11, FIG. 14, FIG. 18, and FIG.
As shown in FIG. 1 and FIG. 23, the guide mechanism 52A has a front end guide mechanism 100 and a rear end guide mechanism 101.
0 is a roller member 102, a concave portion 103, a guide surface 104, a pressing member
105, a compression coil spring 106 and the like.
【００６１】ノズルヘッド８B が固定されたヘッドホル
ダ５１Ｂの下面側には、ローラ部材102 が支軸107 を介
して鉛直軸心回りに回動可能に取り付けられ、第１リン
ク部材５６Ａ，５６Ｂに形成された凹部103 には、ロー
ラ部材102 と押圧部材105 が収容され、凹部103 の右側
面には案内面104 が形成され、回動可能に支持された押
圧部材105 を圧縮コイルバネ106 で付勢し、押圧部材10
5 でローラ部材102 を案内面104 に当接させ、ローラ部
材102 を介してヘッドホルダ５１Ｂの前端部を副走査方
向に平行に移動可能にしてある。On the lower surface side of the head holder 51B to which the nozzle head 8B is fixed, a roller member 102 is attached via a support shaft 107 so as to be rotatable about a vertical axis, and formed on the first link members 56A and 56B. The roller member 102 and the pressing member 105 are accommodated in the recessed portion 103, and the guide surface 104 is formed on the right side surface of the recessed portion 103, and the pressing member 105 rotatably supported is biased by the compression coil spring 106. , Pressing member 10
The roller member 102 is brought into contact with the guide surface 104 at 5 and the front end portion of the head holder 51B can be moved in parallel to the sub-scanning direction via the roller member 102.
【００６２】後端案内機構101 も、ローラ部材102 、凹
部103 、案内面104 、押圧部材105、圧縮コイルバネ106
等を有し、前端案内機構100 と同様に、回動可能に支
持された押圧部材105 を圧縮コイルバネ106 で付勢し、
押圧部材105 でローラ部材102 を案内面104 に当接さ
せ、ローラ部材102 を介してヘッドホルダ５１Ｂの後端
部を副走査方向に平行に移動可能にしてある。尚、押圧
部材105 はローラ部材102 を後方かつ右方へ押し、移動
機構５３Ａとしてのマイクロメータ機構のスピンドル10
8 の先端にローラ部材102 を当接させている。The rear end guide mechanism 101 also includes a roller member 102, a recess 103, a guide surface 104, a pressing member 105, and a compression coil spring 106.
Similarly to the front end guide mechanism 100, the pressing member 105 rotatably supported is biased by the compression coil spring 106,
The roller member 102 is brought into contact with the guide surface 104 by the pressing member 105, and the rear end portion of the head holder 51B can be moved parallel to the sub-scanning direction via the roller member 102. The pressing member 105 pushes the roller member 102 rearward and rightward to move the spindle 10 of the micrometer mechanism as the moving mechanism 53A.
The roller member 102 is brought into contact with the tip of the roller 8.
【００６３】ノズルヘッド８R は副走査方向へ移動不能
に装着される関係上、ノズルヘッド８R の両端部には１
対のローラ部材102 が設けられ、それらローラ部材102
が１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂのガイド穴に夫
々係合されている。図１１、図１６、図１８、図２２、
図２３に示すように、１対の第リンク部材５６Ａ，５６
Ｂに対するノズルホルダ５１の高さ位置を正確に設定す
るため、各ノズルホルダ５１における各ローラ部材102
の支軸107 がノズルホルダ５１の上面より上方へ突出す
るように形成され、押えプレート５８Ａ，５８Ｂの凹部
109A,109B 内において突出部107aに圧縮コイルバネ110
とバネ受けキャップ111 が装着され、前記圧縮コイルバ
ネ110 の付勢力でノズルホルダ５１が下方へ付勢される
ようになっている。Since the nozzle head 8R is mounted immovably in the sub-scanning direction, the nozzle head 8R has one end on each end.
A pair of roller members 102 are provided, and the roller members 102
Are engaged with the guide holes of the pair of first link members 56A and 56B, respectively. 11, FIG. 16, FIG. 18, FIG.
As shown in FIG. 23, a pair of first link members 56A, 56
In order to accurately set the height position of the nozzle holder 51 with respect to B, each roller member 102 in each nozzle holder 51 is set.
Support shaft 107 is formed so as to project upward from the upper surface of the nozzle holder 51, and the recesses of the pressing plates 58A and 58B are formed.
A compression coil spring 110 is attached to the protruding portion 107a in 109A and 109B.
A spring receiving cap 111 is attached, and the nozzle holder 51 is biased downward by the biasing force of the compression coil spring 110.
【００６４】このとき、ノズルホルダ５１の下面が第１
リンク部材５６Ａ，５６Ｂの上面に当接し、ローラ部材
102 が凹部103 の底面に当接しないようになっている。
つまり、ローラ部材102 の回動軸方向に付勢手段（圧縮
コイルバネ110 はその一例）の付勢力でノズルホルダ５
１を付勢するため、ノズルホルダ５１の下面（図２３に
おける下面）がリンク部材５６Ａ，５６Ｂの上面に当接
され、ノズルの上下方向の位置決めが行われる。At this time, the lower surface of the nozzle holder 51 is the first
The roller members are brought into contact with the upper surfaces of the link members 56A and 56B.
The 102 does not come into contact with the bottom surface of the recess 103.
That is, the nozzle holder 5 is urged by the urging force of the urging means (the compression coil spring 110 is one example thereof) in the rotation axis direction of the roller member 102.
In order to bias No. 1, the lower surface of the nozzle holder 51 (lower surface in FIG. 23) is brought into contact with the upper surfaces of the link members 56A and 56B, and the nozzles are vertically positioned.
【００６５】次に、ノズルホルダ５１Ｇとノズルホルダ
５１Ｂを夫々副走査方向へ微小距離移動させる為の移動
機構５３Ａ，５３Ｂについて説明する。これら移動機構
５３Ａ，５３Ｂは同じ構造のものであるので、ノズルホ
ルダ５１Ｂ用の移動機構５３Ｂについて説明する。図
７、図８、図１４、図１６、図２１、図２７に示すよう
に、移動機構５３Ｂとしてのマイクロメータ機構が後側
の第１リンク部材５６Ｂの後面に固定されたブラケット
112 に取付けられ、このマイクロメータ機構の先端部の
スピンドル108 が前記の後端案内機構101 の凹部103 に
部分的に突入し、スピンドル108 の先端がローラ部材10
2 に後方から当接している。マイクロメータ機構の後端
部には、後述の位置調整駆動機構113 からの回転駆動力
を入力する為の入力部114 が形成されており、入力部11
4 の回転角度（φ）に比例する微小距離だけ、回転方向
で決まる方向へ、スピンドル108 が進退移動するのでノ
ズルホルダ５１Ｂを副走査方向へ位置調整することがで
きる。尚、マイクロメータ機構の静止側部材が回動しな
いように規制する回動規制部115 も設けられている。Next, moving mechanisms 53A and 53B for moving the nozzle holder 51G and the nozzle holder 51B respectively by a minute distance in the sub-scanning direction will be described. Since the moving mechanisms 53A and 53B have the same structure, the moving mechanism 53B for the nozzle holder 51B will be described. As shown in FIGS. 7, 8, 14, 16, 21, and 27, the bracket in which the micrometer mechanism as the moving mechanism 53B is fixed to the rear surface of the rear first link member 56B.
The spindle 108 at the tip of the micrometer mechanism partially projects into the recess 103 of the rear end guide mechanism 101, and the tip of the spindle 108 is attached to the roller member 10.
It is in contact with 2 from behind. At the rear end of the micrometer mechanism, an input unit 114 for inputting a rotational drive force from a position adjustment drive mechanism 113, which will be described later, is formed.
Since the spindle 108 moves back and forth in a direction determined by the rotation direction by a minute distance proportional to the rotation angle (φ) of 4, the nozzle holder 51B can be positionally adjusted in the sub-scanning direction. A rotation restricting portion 115 that restricts the stationary member of the micrometer mechanism from rotating is also provided.
【００６６】スピンドル108 を凹部103 内に突入させれ
ば後側のローラ部材102 はローラ用の付勢手段( 圧縮コ
イルバネ106 はその一例) に抗して前方側( 図２１の下
方）に移動され、スピンドル108 を凹部103 から退出さ
せれば後側のローラ部材102 はローラ用の付勢手段によ
りスピンドル先端に追従して後方移動される。この時、
前側のローラ部材102 もリンク部材５６Ａの凹部103 内
を前後方向に移動する。そして、前側後側のローラ部材
102 は、それぞれ案内面１０４に沿って前後移動される
ため、ノズルホルダ５１Ｇ，５１Ｂは４節平行リンク機
構４９の回動付勢にかかわらず、副走査方向へ移動され
るのである。When the spindle 108 is pushed into the recess 103, the rear roller member 102 is moved forward (downward in FIG. 21) against the biasing means for the roller (compression coil spring 106 is one example). If the spindle 108 is retracted from the recess 103, the roller member 102 on the rear side is moved rearward by following the tip of the spindle by the biasing means for the roller. This time,
The front roller member 102 also moves in the front-rear direction in the recess 103 of the link member 56A. And the front and rear roller members
Since 102 is moved back and forth along the guide surface 104, the nozzle holders 51G and 51B are moved in the sub-scanning direction regardless of the rotational bias of the four-bar parallel link mechanism 49.
【００６７】次に、移動機構５３Ａ，５３Ｂを駆動する
位置調整駆動機構113 について説明する。図２〜図４、
図２８に示すように、位置調整駆動機構113 は、ヘッド
組取付台２５に装着されたノズルヘッド保持装置７の移
動機構５３Ａ，５３Ｂに着脱可能に択一的に連結し、移
動機構５３Ａ，５３Ｂを介してノズルヘッド８B,８Gを
副走査方向に移動させる機構である。この位置調整駆動
機構113 は、２Ｆのメンテナンスルーム１６に開口部１
４ａよりも後側に配設されている。Next, the position adjusting drive mechanism 113 for driving the moving mechanisms 53A and 53B will be described. 2 to 4,
As shown in FIG. 28, the position adjustment drive mechanism 113 is detachably and selectively connected to the moving mechanisms 53A and 53B of the nozzle head holding device 7 mounted on the head assembly mounting base 25, and the moving mechanisms 53A and 53B. This is a mechanism for moving the nozzle heads 8B, 8G in the sub-scanning direction via the. This position adjustment drive mechanism 113 is provided in the maintenance room 16 on the second floor with the opening 1
It is arranged on the rear side of 4a.
【００６８】この位置調整駆動機構113 は、エアーシリ
ンダからなるＹ方向駆動機構116 、このＹ方向駆動機構
116 でＹ方向へ移動駆動可能なエアーシリンダからなる
Ｘ方向駆動機構117 、このＸ方向駆動機構117 でＸ方向
へ移動駆動可能なサーボモータ118 と、移動機構５３
Ａ，５３Ｂの入力部114 にモータ駆動力を伝達する為の
出力部119 などで構成されている。サーボモータ118 の
出力部119 が前方向けに配設されている。Ｚ軸スライド
機構６によりヘッド組取付台２５に装着されたノズルヘ
ッド保持装置７を上昇位置ＵＰに切換えた状態におい
て、この出力部119をノズルヘッド８B,８G のうちの所
望のノズルヘッドの為の移動機構５３Ａ，５３Ｂの入力
部114 に対して同心になるように左右方向に位置調節
後、Ｙ方向駆動機構116 により前方移動させ、出力部11
9 を入力部114 に係合させ、サーボモータ118 によりマ
イクロメータ機構のスピンドル108 を副走査方向に微調
整することにより、ローラ部材102 を介してノズルヘッ
ド８を副走査方向に前方へ又は後方へ所望の微小距離移
動させ得るように構成してある。The position adjusting drive mechanism 113 is composed of an air cylinder, a Y direction drive mechanism 116, and a Y direction drive mechanism.
An X-direction drive mechanism 117 including an air cylinder that can be moved and driven in the Y direction by 116, a servo motor 118 that can be moved and driven in the X direction by the X-direction drive mechanism 117, and a movement mechanism 53.
It is composed of an output unit 119 for transmitting the motor driving force to the input units 114 of A and 53B. The output portion 119 of the servo motor 118 is arranged forward. In the state where the nozzle head holding device 7 mounted on the head assembly mount 25 by the Z-axis slide mechanism 6 is switched to the raised position UP, this output unit 119 is used for a desired nozzle head of the nozzle heads 8B, 8G. The positions of the moving mechanisms 53A and 53B are adjusted in the left-right direction so as to be concentric with the input section 114, and then the Y-direction drive mechanism 116 moves the position forward to output the output section 11
9 is engaged with the input portion 114, and the spindle 108 of the micrometer mechanism is finely adjusted in the sub-scanning direction by the servo motor 118 to move the nozzle head 8 forward or backward in the sub-scanning direction via the roller member 102. It is configured so that it can be moved by a desired minute distance.
【００６９】ノズルヘッド保持装置７に装備した３つの
ノズルヘッド８は、所定の複数色で発光するＥＬ発光層
を吐出形成する為の前記複数色用の液滴を夫々吐出する
ノズルヘッドを含む。本実施形態では、３つのノズルヘ
ッド８は、フルカラーのＥＬ発光層を吐出形成する為の
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）用の液滴を夫々吐出する
ノズルヘッド８R,８G,８B であり、後述の液滴供給機構
１２（図２６参照）からチューブを介して３種類の液が
対応するノズルヘッド８R,８G,８B に供給され、複数の
ノズル５５から液滴を吐出可能になっている。The three nozzle heads 8 provided in the nozzle head holding device 7 include nozzle heads for respectively ejecting liquid droplets for the above-mentioned plural colors for ejecting and forming EL light emitting layers which emit light in predetermined plural colors. In this embodiment, the three nozzle heads 8R, 8G respectively eject droplets for R (red), G (green), and B (blue) for ejecting and forming a full-color EL light emitting layer. , 8B, and three types of liquids are supplied to corresponding nozzle heads 8R, 8G, 8B from a liquid drop supply mechanism 12 (see FIG. 26), which will be described later, and droplets can be ejected from a plurality of nozzles 55. It has become.
【００７０】図２９（ａ）〜（ｃ）は、ＥＬ発光層にお
ける１組の画素を構成するＲ，Ｇ，Ｂのドットの配置の
例を示すものであり、Ｒドットに対してＧドット又はＢ
ドットのみが副走査方向へシフトする場合があるし、Ｒ
ドットに対してＧドットとＢドットの両方が副走査方向
にシフトする場合もあるので、前記のようにノズルヘッ
ド８G, 8B を夫々副走査方向へ位置調整可能にしてあ
る。FIGS. 29 (a) to 29 (c) show an example of the arrangement of R, G, and B dots forming one set of pixels in the EL light emitting layer. B
Only the dots may shift in the sub-scanning direction, and R
Since both the G dots and the B dots may shift in the sub-scanning direction with respect to the dots, the nozzle heads 8G and 8B can be adjusted in position in the sub-scanning direction as described above.
【００７１】図２４、図２５に示すように、ノズルヘッ
ド８における前後両端のノズル間寸法Ｌの設計理論値に
対するノズル間寸法誤差は、ランク１，２，・・５の５
段階にランク付けされ、１つのノズルヘッド保持装置７
に装着する３つのノズルヘッド８R,８G,８B をノズル間
寸法誤差が同ランクのノズルヘッド８で構成している。
そして、０〜６０度の範囲の何れかの回動角だけ、回動
駆動機構８０により４節平行リンク機構４９を傾斜回動
させる際には、３つのノズルヘッド８R,８G,８B のノズ
ル間寸法誤差のランクにおける中心誤差に基づいて回動
傾斜角θに補正を施すようになっている。As shown in FIGS. 24 and 25, the nozzle-to-nozzle dimension error with respect to the design theoretical value of the nozzle-to-nozzle dimension L at the front and rear ends of the nozzle head 8 is rank 1, 2, ...
Nozzle head holding device 7 ranked in stages
The three nozzle heads 8R, 8G, 8B to be mounted on the nozzle heads 8R, 8G, and 8B are constituted by the nozzle heads 8 having the same dimensional error between nozzles.
Then, when the 4-drive parallel link mechanism 49 is tilted and rotated by the rotation drive mechanism 80 by any rotation angle in the range of 0 to 60 degrees, the nozzles of the three nozzle heads 8R, 8G, and 8B are interleaved. The rotation inclination angle θ is corrected based on the central error in the rank of the dimensional error.
【００７２】４節平行リンク機構４９を傾斜回動させる
傾斜回動角を演算するとき、ランク１〜５の中心誤差
（＋10, ＋5, 0, −5,−10μm ）のうちの対応する１つ
の中心誤差を用いて傾斜回動角θを補正する補正処理を
施す補正処理用プログラムが制御装置１３に予め格納さ
れている。但し、ノズル間寸法誤差の代わりに、隣接す
るノズル間のノズルピッチ誤差（つまり、前記の誤差を
ノズル間間隔数で割った値）を採用してもよい。When calculating the tilt rotation angle for tilt-rotating the four-bar parallel link mechanism 49, one of the corresponding one of the center errors (+10, +5, 0, -5, -10 μm) of ranks 1 to 5 is calculated. A correction processing program for performing correction processing for correcting the tilt rotation angle θ using the center error is stored in advance in the control device 13. However, instead of the dimension error between nozzles, a nozzle pitch error between adjacent nozzles (that is, a value obtained by dividing the above error by the number of intervals between nozzles) may be adopted.
【００７３】次に、２Ｆのメンテナンスルーム１６とそ
の内部の機器について説明する。このメンテナンスルー
ム１６では、Ｚ軸スライド機構６によりヘッド部４３
を、仕切り板１４の開口部１４ａを通して上昇位置ＵＰ
に切換えてから、ノズルヘッド８R,８G,８B の複数のノ
ズル５５の吐出状態を吐出検査機構121 により検査した
り、ノズルヘッド保持装置７自体のメンテナンスを行
う。Next, the maintenance room 16 on the 2nd floor and the equipment therein will be described. In the maintenance room 16, the head portion 43 is moved by the Z-axis slide mechanism 6.
Through the opening 14a of the partition plate 14 to the ascending position UP.
After switching to, the ejection state of the plurality of nozzles 55 of the nozzle heads 8R, 8G, 8B is inspected by the ejection inspection mechanism 121, and maintenance of the nozzle head holding device 7 itself is performed.
【００７４】図１〜図４、図６に示すように、２Ｆのメ
ンテナンスルーム１６は例えば、1500×1500×700mm の
サイズのものであり、このメンテナンスルーム１６の内
部には、Ｚ軸スライド機構６の大部分と、前記の位置調
整駆動機構113 と、自動アライメント調整機構３６の一
部と、ヘッドホルダ５１のノズルヘッド８を検査維持す
る為の検査調整装置９等が配設されている。尚、検査調
整装置９は、ヘッドメンテナンス機構123 と吐出検査機
構121 とを含むものである。As shown in FIGS. 1 to 4 and 6, the 2F maintenance room 16 has a size of, for example, 1500 × 1500 × 700 mm. Inside the maintenance room 16, the Z-axis slide mechanism 6 is provided. Are provided, a position adjusting drive mechanism 113, a part of the automatic alignment adjusting mechanism 36, and an inspection adjusting device 9 for inspecting and maintaining the nozzle head 8 of the head holder 51. The inspection adjustment device 9 includes a head maintenance mechanism 123 and an ejection inspection mechanism 121.
【００７５】次に、ヘッドメンテナンス機構123 につい
て説明する。図１〜図４、図３０、図３４、図３８に示
すように、メンテナンスルーム１６において仕切り板１
４の開口部１４ａよりやや前側にヘッドメンテナンス機
構123 が設けられている。このヘッドメンテナンス機構
123 は、電動シリンダ124 、吸取り紙送り機構125 、紙
送り駆動機構126 、加圧パージ用トレイ127 、ワイプ用
ゴムパッド128 などを有する。ヘッドメンテナンス機構
123 は、後述の吐出検査機構121 によりノズルヘッド８
の副走査方向に列設された複数のノズル５５からの吐出
状態を検査する際に吐出検査機構121 と協働する。Next, the head maintenance mechanism 123 will be described. As shown in FIGS. 1 to 4, FIG. 30, FIG. 34, and FIG. 38, the partition plate 1 in the maintenance room 16
A head maintenance mechanism 123 is provided slightly in front of the fourth opening 14a. This head maintenance mechanism
123 includes an electric cylinder 124, a sucking paper feeding mechanism 125, a paper feeding driving mechanism 126, a pressure purging tray 127, a wipe rubber pad 128, and the like. Head maintenance mechanism
123 is the nozzle head 8 by the ejection inspection mechanism 121 described later.
It cooperates with the ejection inspection mechanism 121 when inspecting the ejection state from the plurality of nozzles 55 arranged in the sub-scanning direction.
【００７６】可動テーブル129 上には、吸取り紙送り機
構125 とトレイ127 とゴムパッド128 が一体的に支持さ
れ、電動シリンダ124 により可動テーブル129 を前後方
向に移動駆動し、Ｚ軸スライド機構６により上昇位置Ｕ
Ｐにしたノズルヘッド保持装置７のノズルヘッド８に対
して吸取り紙送り機構125 、トレイ127 、ゴムパッド12
8 が夫々下方に位置するように位置切換え可能になって
いる。図２、図３、図３４に示すように、吸取り紙送り
機構125 は、紙送り駆動機構126 からの駆動力を伝達可
能なワンウェイクラッチ式の駆動ローラ130 、駆動ロー
ラ130 との間に掛装されたベルト131 を含み巻き取り方
向の逆向きに一定の張力を付与する為のバックテンショ
ン機構132 、従動ローラ133,134 、支持板135 等で構成
されている。吸取り紙136 は、バックテンション機構13
2 の従動ローラにセットされ、紙送り駆動機構126 によ
り駆動ローラ130 、従動ローラ133,134 を介して駆動ロ
ーラ130 に巻取られるようになっている。On the movable table 129, the blotter paper feeding mechanism 125, the tray 127 and the rubber pad 128 are integrally supported, and the movable table 129 is driven to move in the front-rear direction by the electric cylinder 124, and is raised by the Z-axis slide mechanism 6. Position U
With respect to the nozzle head 8 of the nozzle head holding device 7 set to P, the suction paper feeding mechanism 125, the tray 127, the rubber pad 12
It is possible to switch the position so that each 8 is located below. As shown in FIGS. 2, 3 and 34, the sucking paper feeding mechanism 125 is a one-way clutch type driving roller 130 capable of transmitting the driving force from the paper feeding driving mechanism 126, and is mounted between the driving roller 130 and the driving roller 130. The back tension mechanism 132 for applying a constant tension in the direction opposite to the winding direction, including the belt 131, the driven rollers 133 and 134, the support plate 135, and the like. The blotter paper 136 has a back tension mechanism 13
It is set on the second driven roller and is wound around the drive roller 130 by the paper feed drive mechanism 126 via the drive roller 130 and the driven rollers 133 and 134.
【００７７】紙送り駆動機構126 は、摩擦係数の高いゴ
ムが外装固着された出力軸137aを有するサーボモータ13
7 と、サーボモータ137 をＸ方向に摺動自在に支持する
Ｘ方向スライド機構138 、サーボモータ137 の出力軸13
7aを駆動力伝達位置と非伝達位置とにわたって移動駆動
するスライド駆動用エアーシリンダ139 を有する。電動
シリンダ124 により可動テーブル129 を待機位置（吸取
り紙巻取り位置）に移動駆動するとともに、スライド駆
動用エアーシリンダ139 によりサーボモータ137 の出力
軸137aを駆動力伝達位置に切替え、サーボモータ137 の
回転駆動力を駆動ローラ130 の入力軸に伝達して吸取り
紙136 を図３４の矢印の方向に紙送りする。The paper feed drive mechanism 126 includes a servo motor 13 having an output shaft 137a to which rubber having a high friction coefficient is externally fixed.
7, an X-direction slide mechanism 138 that supports the servo motor 137 slidably in the X direction, and an output shaft 13 of the servo motor 137.
It has a slide drive air cylinder 139 for moving and driving 7a between a drive force transmission position and a non-transmission position. The movable table 129 is moved to the standby position (blotting paper winding position) by the electric cylinder 124, and the output shaft 137a of the servo motor 137 is switched to the driving force transmission position by the slide driving air cylinder 139 to drive the servo motor 137 to rotate. The force is transmitted to the input shaft of the drive roller 130 to feed the blotter paper 136 in the direction of the arrow in FIG.
【００７８】加圧パージ用トレイ127 は３つの凹部127
B,127G,127Rからなり、ノズルヘッド８B,８G,８R をこ
れら凹部127B,127G,127Rの上方に相対移動し、３つのノ
ズルヘッド８B,８G,８R を３つの凹部127B,127G,127Rに
対向させ、３つのノズルヘッド８B,８G,８R にヘッド洗
浄パージ用溶剤１１を供給して、ノズル５５から吐出さ
せることで、ノズル５５を洗浄する。吐出検査する際に
は、ノズルヘッド８B,８G,８R を凹部127B,127G,127Rの
上方に相対移動させたうえで、ノズルヘッド８毎に行
う。それ故、吐出検査機構121 による吐出検査の際、ノ
ズルヘッド８から吐出する液滴を飛散させることなく回
収することができる。ワイプ用ゴムパッド128 は３つの
ゴムパッド128B,128G,128Rからなり、３つのノズルヘッ
ド８B,８G,８R をゴムパッド128B,128G,128Rの上方に相
対移動させ、液滴ジェットパターニング装置１が休止中
のときに、３つのノズルヘッド８B,８G,８R を３つのゴ
ムパッド128B,128G,128Rで夫々キャップしてノズル５５
の乾燥を防止するようになっている。The pressure purge tray 127 has three recesses 127.
B, 127G, 127R, the nozzle heads 8B, 8G, 8R are relatively moved above these recesses 127B, 127G, 127R, and the three nozzle heads 8B, 8G, 8R are opposed to the three recesses 127B, 127G, 127R. Then, the head cleaning purging solvent 11 is supplied to the three nozzle heads 8B, 8G, and 8R and is ejected from the nozzle 55, thereby cleaning the nozzle 55. When performing the ejection inspection, the nozzle heads 8B, 8G, and 8R are relatively moved above the concave portions 127B, 127G, and 127R, and then the nozzle heads 8 are performed. Therefore, during the ejection inspection by the ejection inspection mechanism 121, the droplets ejected from the nozzle head 8 can be collected without being scattered. The wipe rubber pad 128 is composed of three rubber pads 128B, 128G and 128R, and the three nozzle heads 8B, 8G and 8R are moved relative to each other above the rubber pads 128B, 128G and 128R, and when the droplet jet patterning device 1 is at rest. In addition, the three nozzle heads 8B, 8G, and 8R are capped with the three rubber pads 128B, 128G, and 128R, respectively, and the nozzle 55 is formed.
It is designed to prevent the dryness of.
【００７９】次に、吐出検査機構121 について説明す
る。図１〜図４、図３０〜図３２、図３８に示すよう
に、吐出検査機構121 は、２Ｆのメンテナンスルーム１
６内において、仕切り板１４の開口部１４ａの左右両側
付近に対向状に且つヘッドメンテンス機構123 の付近に
配設されている。吐出検査機構121 は、Ｙ方向移動駆動
機構140a,140b 、撮影ポジション切換え機構141a,141b
、液滴の吐出状態を撮像する撮像手段としてのＣＣＤ
カメラ142と、このＣＣＤカメラ142 に投光する投光手
段としてのストロボ投光器143 などを有する。Next, the discharge inspection mechanism 121 will be described. As shown in FIG. 1 to FIG. 4, FIG. 30 to FIG. 32, and FIG. 38, the discharge inspection mechanism 121 includes the maintenance room 1 on the 2nd floor.
6 are arranged in the vicinity of the left and right sides of the opening 14a of the partition plate 14 so as to face each other and near the head maintenance mechanism 123. The ejection inspection mechanism 121 includes Y-direction movement drive mechanisms 140a and 140b and photographing position switching mechanisms 141a and 141b.
, CCD as an image pickup means for picking up an image of the discharge state of liquid droplets
It has a camera 142 and a strobe projector 143 as a projecting means for projecting light onto the CCD camera 142.
【００８０】ＣＣＤカメラ142 は左側に配置され、この
ＣＣＤカメラ142 を副走査方向に移動させる為のＹ方向
駆動機構140aと、ＣＣＤカメラ142 を主走査方向に２段
階に移動させる為の上下２段のエアーシリンダ144 から
なる撮影ポジション切換え機構141aとが配設されてい
る。尚、このＹ方向駆動機構140aと撮影ポジション切換
え機構141aとが、ＣＣＤカメラ142 を副走査方向と主走
査方向に夫々独立に移動可能な撮像機移動手段に相当す
る。ストロボ投光器143 は右側に配設され、このストロ
ボ投光器143 を副走査方向に移動させる為の前記と同様
のＹ方向移動駆動機構140bと、前記と同様の上下２段の
エアシリンダ144 からなる撮影ポジション切換え機構14
1bが配設されている。尚、このＹ方向駆動機構140bと撮
影ポジション切換え機構141bとが、ストロボ投光器143
を副走査方向と主走査方向に夫々独立に移動可能な投光
用移動手段に相当する。The CCD camera 142 is arranged on the left side, and the Y-direction drive mechanism 140a for moving the CCD camera 142 in the sub-scanning direction and the upper and lower two stages for moving the CCD camera 142 in the two main scanning directions. And a photographing position switching mechanism 141a composed of an air cylinder 144. The Y-direction drive mechanism 140a and the photographing position switching mechanism 141a correspond to an image pickup device moving means that can independently move the CCD camera 142 in the sub scanning direction and the main scanning direction. The strobe light projector 143 is disposed on the right side, and is composed of a Y-direction movement drive mechanism 140b similar to the above for moving the strobe light projector 143 in the sub-scanning direction, and an upper and lower two-stage air cylinder 144 similar to the above. Switching mechanism 14
1b is provided. The Y-direction drive mechanism 140b and the photographing position switching mechanism 141b are combined with the strobe projector 143.
Corresponds to a projecting moving unit that can independently move in the sub-scanning direction and the main scanning direction.
【００８１】３つのノズルヘッド８B,８G,８R の吐出状
況の検査は、各ノズルヘッド８毎に実行するが、各ノズ
ルヘッド８には６４個のノズル５５が副走査方向に１列
に形成されており、No.1〜No.16 ノズル、No.17 〜No.3
2 ノズル、・・のように、１６個のノズルを１群とする
ノズル群別に吐出検査を行うものとする。この場合、Ｃ
ＣＤカメラ142 とストロボ投光器143 を副走査方向の初
期位置に設定して、第１群のNo.1〜No.16 ノズルの吐出
状態を検査し、次にＣＣＤカメラ142 とストロボ投光器
143 を前方へ移動させて、第２群のNo.17 〜No.32 ノズ
ルの吐出状態を検査し、以下同様に、第３群、第４群の
ノズルの吐出検査を行う。The inspection of the ejection states of the three nozzle heads 8B, 8G, 8R is executed for each nozzle head 8, and 64 nozzles 55 are formed in each nozzle head 8 in one line in the sub-scanning direction. No. 1 to No. 16 nozzles, No. 17 to No. 3
Discharge inspection shall be performed for each nozzle group with 16 nozzles as one group, such as 2 nozzles. In this case, C
The CD camera 142 and the strobe projector 143 are set to the initial positions in the sub-scanning direction, the ejection states of the No. 1 to No. 16 nozzles of the first group are inspected, and then the CCD camera 142 and the strobe projector
143 is moved forward, the ejection states of the No. 17 to No. 32 nozzles of the second group are inspected, and thereafter, the ejection inspection of the nozzles of the third group and the fourth group is similarly performed.
【００８２】そのため、Ｙ方向駆動機構140a,140b は、
ＣＣＤカメラ142 、ストロボ投光器143 を副走査方向
（Ｙ方向）へノズル１６個分の距離ずつ移動駆動する為
の機構である。また、ノズルヘッド８R,８G,８B のノズ
ル５５の吐出検査を同一条件で行う為に、常にＣＣＤカ
メラ142 とストロボ投光器143 間の距離を一定に且つＣ
ＣＤカメラ142 とストロボ投光器143 間の中間位置に液
滴を吐出させて撮像するものとする。そのため、３つの
ノズルヘッド８R,８G,８B のうち検査対象のノズルヘッ
ドに応じてＣＣＤカメラ142 、ストロボ投光器143 をＸ
方向の３段階に位置切換え可能になっている。ノズルヘ
ッド８R を検査するとき、左側の撮影ポジション切換え
機構141aでは、２段のエアーシリンダ144 を最大限伸長
させ、右側の撮影ポジション切換え機構141bでは、２段
のエアーシリンダ144 を最も収縮させた位置にする。Therefore, the Y-direction drive mechanisms 140a and 140b are
It is a mechanism for moving and driving the CCD camera 142 and the strobe projector 143 in the sub-scanning direction (Y direction) by a distance of 16 nozzles each. Further, in order to perform the ejection inspection of the nozzles 55 of the nozzle heads 8R, 8G, 8B under the same conditions, the distance between the CCD camera 142 and the strobe projector 143 is always constant and C
It is assumed that droplets are ejected at an intermediate position between the CD camera 142 and the strobe light projector 143 to take an image. Therefore, among the three nozzle heads 8R, 8G, and 8B, the CCD camera 142 and the strobe light projector 143 are set according to the nozzle head to be inspected.
The position can be switched in three stages. When inspecting the nozzle head 8R, the left shooting position switching mechanism 141a extends the two-stage air cylinder 144 to the maximum extent, and the right shooting position switching mechanism 141b extends the two-stage air cylinder 144 at the most contracted position. To
【００８３】次に、ノズルヘッド８G を検査するとき、
左側の撮影ポジション切換え機構141aでは、２段のエア
ーシリンダのうちの１つのみを収縮させ、右側の撮影ポ
ジション切換え機構141bでは、２段のエアーシリンダの
うちの１つのみを伸長させた位置にする。ノズルヘッド
８B を検査するとき、左側の撮影ポジション切換え機構
141aでは、２段のエアーシリンダを最も収縮させ、右側
の撮影ポジション切換え機構141bでは、２段のエアーシ
リンダを最大限伸長させた位置にする。こうして、撮影
ポジション切換え機構141a,141b により、検査対象のノ
ズルヘッド８に対するＣＣＤカメラ142 とストロボ投光
器143 の相対位置を常に一定に保持した状態で撮像する
ことができるので、吐出検査の信頼性を高めることがで
きる。Next, when inspecting the nozzle head 8G,
The shooting position switching mechanism 141a on the left side contracts only one of the two-stage air cylinders, and the shooting position switching mechanism 141b on the right side retracts only one of the two-stage air cylinders. To do. When inspecting the nozzle head 8B, the shooting position switching mechanism on the left side
In 141a, the two-stage air cylinder is contracted most, and in the photographing position switching mechanism 141b on the right side, the two-stage air cylinder is set to the maximum expanded position. In this way, since the relative positions of the CCD camera 142 and the strobe projector 143 with respect to the nozzle head 8 to be inspected can be always held constant by the photographing position switching mechanisms 141a and 141b, the reliability of the ejection inspection is improved. be able to.
【００８４】次に、ガラス基板４に対して液滴を吐出し
て記録するのに先行して、ガラス基板４を原点位置に設
定する為の自動アライメント調整機構３６について説明
する。この自動アライメント調整機構３６は、１Ｆのパ
ターン処理ステージ２１に設けたＸ軸，Ｙ軸スライド機
構２０，１９と回動調整装置３５を含むが、これらにつ
いては既に説明したので説明を省略し、２Ｆの検査調整
ステージ４４に設けた機器について説明する。Next, the automatic alignment adjusting mechanism 36 for setting the glass substrate 4 at the origin position will be described prior to discharging droplets onto the glass substrate 4 for recording. The automatic alignment adjusting mechanism 36 includes the X-axis and Y-axis slide mechanisms 20 and 19 provided on the 1F pattern processing stage 21 and a rotation adjusting device 35, which have already been described and will not be described. The equipment provided in the inspection adjustment stage 44 will be described.
【００８５】図１〜図３、図３３、図３５に示すよう
に、ガラス基板４の後端側の左右の隅部には、大小のア
ライメントマークAM１，AM３、AM2 ，AM４が印されてお
り、これらのアライメントマークAM１〜AM４を撮像し、
制御装置１３においてその画像情報を解析することで、
ガラス基板４の原点位置からのズレ量を求めてガラス基
板４を原点位置に設定する。As shown in FIGS. 1 to 3, 33, and 35, large and small alignment marks AM1, AM3, AM2, and AM4 are marked on the left and right corners on the rear end side of the glass substrate 4. , Images of these alignment marks AM1 to AM4,
By analyzing the image information in the control device 13,
The glass substrate 4 is set at the origin position by obtaining the amount of deviation from the origin position of the glass substrate 4.
【００８６】前記の左側のアライメントマークAM１，AM
３を夫々撮像するため、２Ｆの検査調整ステージ４４に
おいて、開口部１４ａの左側には、仕切り板１４に設け
たガラス窓から下方のアライメントマークAM1 ，AM３を
夫々撮像する低倍率のＣＣＤカメラ３２ａと高倍率のＣ
ＣＤカメラ３２ｃが設けられている。これらのＣＣＤカ
メラ３２ａ，３２ｃは共通の支持板145 に取付けられ、
ガラス基板４の厚さが変った場合にエアシリンダ146 に
より高さ位置調整可能であり、手動操作により夫々フォ
ーカス調整可能になっている。The left alignment marks AM1 and AM
In order to image 3 respectively, on the left side of the opening 14a in the inspection adjustment stage 44 of 2F, a low magnification CCD camera 32a for imaging the alignment marks AM1 and AM3 below from the glass window provided in the partition plate 14 respectively. High magnification C
A CD camera 32c is provided. These CCD cameras 32a and 32c are attached to a common support plate 145,
When the thickness of the glass substrate 4 changes, the height position can be adjusted by the air cylinder 146, and the focus can be adjusted by manual operation.
【００８７】同様に、右側のアライメントマークAM２，
AM４を夫々撮像するため、開口部１４ａの右側には、仕
切り板１４に設けたガラス窓から下方のアライメントマ
ークAM２，AM４を撮像する低倍率のＣＣＤカメラ３２ｂ
と高倍率のＣＣＤカメラ３２ｄが設けられている。これ
らのＣＣＤカメラ３２ｂ，３２ｄは共通の支持板147に
取付けられ、ガラス基板４の厚さが変わった場合にエア
シリンダ148 により高さ位置調整可能であり、手動操作
により夫々フォーカス調整可能になっている。さらに、
ガラス基板４の搬入位置誤差が大きい場合や、ガラス基
板４のサイズが変わった場合に、左右方向や前後方向へ
位置が変動する右側のアライメントマークAM２，AM４を
検出可能にする為に、支持板147 と２つのＣＣＤカメラ
３２ｂ，３２ｄとをＸ，Ｙ方向に独立に精密に移動駆動
可能なＸ方向移動駆動機構149 とＹ方向移動駆動機構15
0 も設けられている。Similarly, the right alignment mark AM2,
On the right side of the opening 14a, a low-magnification CCD camera 32b is provided on the right side of the opening 14a to image the alignment marks AM2 and AM4 below from the glass windows provided on the partition plate 14 in order to image the AM4 respectively.
And a high-magnification CCD camera 32d. These CCD cameras 32b and 32d are attached to a common support plate 147, and when the thickness of the glass substrate 4 changes, the height position can be adjusted by an air cylinder 148, and the focus can be adjusted manually by each operation. There is. further,
In order to detect the right alignment marks AM2 and AM4 whose positions fluctuate in the left-right direction and the front-back direction when the error in the loading position of the glass substrate 4 is large or the size of the glass substrate 4 is changed, a supporting plate is provided. 147 and the two CCD cameras 32b and 32d can be independently and precisely driven to move in the X and Y directions. X-direction movement drive mechanism 149 and Y-direction movement drive mechanism 15
0 is also provided.
【００８８】基板受台２１上に載置されたガラス基板４
を初期設定位置（原点位置）にアライメント調整する場
合、左右の低倍率のＣＣＤカメラ３２ａ，３２ｂで大き
い方のアライメントマークAM1,AM２を撮像した画像情報
を制御装置１３に供給し、その画像情報を所定の制御プ
ログラムで解析処理して、ガラス基板４の原点位置から
のＸ，Ｙ方向のズレ量ΔＸ，ΔＹと、ピン２２の回りの
回動角ズレ量Δαを求め、そのズレ量ΔＸ，ΔＹ，Δα
が解消するように、Ｘ，Ｙスライド機構２０，１９と、
回動調整装置３５を駆動制御して、ガラス基板４を原点
位置に粗位置決めする。Glass substrate 4 placed on substrate pedestal 21
When performing the alignment adjustment to the initial setting position (origin position), the image information obtained by capturing the larger alignment marks AM1 and AM2 with the left and right low-magnification CCD cameras 32a and 32b is supplied to the control device 13, and the image information is supplied. An analysis process is performed by a predetermined control program to obtain displacement amounts ΔX and ΔY in the X and Y directions from the origin position of the glass substrate 4 and a rotation angle displacement amount Δα around the pin 22, and the displacement amounts ΔX and ΔY. , Δα
X and Y slide mechanisms 20 and 19, so that
The rotation adjusting device 35 is drive-controlled to roughly position the glass substrate 4 at the origin position.
【００８９】次に、左右の高倍率のＣＣＤカメラ３２
ｃ，３２ｄで小さい方のアライメントマークAM３，AM４
を撮像した画像情報を制御装置１３に供給し、前記同様
に画像情報を制御装置１３で解析処理してガラス基板４
の原点位置からのズレ量ΔＸ，ΔＹ，Δαを求め、その
ズレ量ΔＸ，ΔＹ，Δαが解消するように、Ｘ，Ｙスラ
イド機構２０，１９と、回動調整装置３５を駆動制御し
て、ガラス基板４を原点位置に精密に位置決めする。従
って、ガラス基板４が厚さやサイズが変化した場合に
も、ガラス基板４を原点位置に精密に確実に位置決めす
ることができる。Next, the left and right high-magnification CCD cameras 32
c, 32d, smaller alignment marks AM3, AM4
The image information of the captured image is supplied to the control device 13, and the image information is analyzed by the control device 13 in the same manner as described above, and the glass substrate 4 is processed.
Deviation amounts ΔX, ΔY, Δα from the origin position of X, Y slide mechanisms 20, 19 and the rotation adjusting device 35 are drive-controlled so as to eliminate the deviation amounts ΔX, ΔY, Δα. The glass substrate 4 is precisely positioned at the origin position. Therefore, even if the thickness or size of the glass substrate 4 changes, the glass substrate 4 can be accurately and surely positioned at the origin position.
【００９０】次に、吐出検査機構121 による吐出検査に
ついて説明する。前述のように、ノズル５５からの吐出
状況を検査する吐出検査はノズルヘッド８別に行い、各
ノズルヘッド８のノズル群別に行う。しかも、ノズルヘ
ッド保持装置７をＺ軸スライド機構６の出力部材４０に
装備したまま、ノズルヘッド保持装置７を２Ｆの検査調
整ステージ４４（つまり、上昇位置）へ上昇させれば行
うことができるので、この吐出検査機構121 による吐出
検査は、ガラス基板４へパターン形成するパターン形成
処理工程における処理停止時間中に実行するようになっ
ている。そのため、液滴ジェットパターニング装置１の
稼働率を格段に高めることができる。Next, the discharge inspection by the discharge inspection mechanism 121 will be described. As described above, the ejection inspection for inspecting the ejection state from the nozzle 55 is performed for each nozzle head 8 and for each nozzle group of each nozzle head 8. Moreover, since the nozzle head holding device 7 is mounted on the output member 40 of the Z-axis slide mechanism 6 and the nozzle head holding device 7 is raised to the inspection adjustment stage 44 (that is, the raised position) of 2F, it can be performed. The discharge inspection by the discharge inspection mechanism 121 is executed during the processing stop time in the pattern forming process for forming a pattern on the glass substrate 4. Therefore, the operating rate of the droplet jet patterning device 1 can be significantly increased.
【００９１】ここで、吐出検査時にノズル５５の吐出の
良否を判定する技術について説明する。図３、図３０〜
図３２に示すように、ＣＣＤカメラ142 の撮像領域ＰＡ
（約6.5 ×5mm ）に、１６個のノズル５５に対応する１
６個の観測窓151 が副走査方向に一定間隔おきに設定さ
れ、各観測窓151 はノズル５５の下端から下方向きに約
1.5mm の位置に設定され、縦６０画素、横１０画素の矩
形状になっている。Here, a technique for judging the quality of the ejection of the nozzle 55 at the time of the ejection inspection will be described. 3 and 30-
As shown in FIG. 32, the imaging area PA of the CCD camera 142
1 (corresponding to 16 nozzles 55) (about 6.5 x 5mm)
Six observation windows 151 are set at regular intervals in the sub-scanning direction, and each observation window 151 extends downward from the lower end of the nozzle 55.
It is set at a position of 1.5 mm and has a rectangular shape with 60 pixels in the vertical direction and 10 pixels in the horizontal direction.
【００９２】ノズル群の１６個のノズル５５から液滴を
例えば速度約７ｍ／ｓで夫々吐出させ、観測窓151 に撮
像される液滴を撮影する。このとき、ＣＣＤカメラ142
のシャッタースピードは例えば約1/10000sec. 、ストロ
ボ発光時間は約１μsec.とする。こうして撮像した画像
信号を制御装置１３に供給し、所定の画像処理プログラ
ムにより画像処理する。この画像処理において、例え
ば、ノズルヘッド８からの液滴の画像の大部分が、観測
窓151 に入っていれば正常と判定され(No.1 〜No.7ノズ
ル、No.9,No.10ノズル、No.12 〜No.16 ノズル) 、観測
窓から外れていれば異常と判定される(No.8,No.11 ノズ
ル) 。吐出異常の原因としては、吐出速度の異常、不吐
出、ノズル表面への異物（主にＥＬポリマーが凝着）堆
積等が考えられる。Droplets are ejected from the 16 nozzles 55 of the nozzle group at a speed of about 7 m / s, respectively, and the droplets imaged in the observation window 151 are photographed. At this time, the CCD camera 142
The shutter speed is about 1/10000 sec., And the flash emission time is about 1 μsec. The image signal thus captured is supplied to the control device 13, and image processing is performed by a predetermined image processing program. In this image processing, for example, if most of the image of the liquid droplets from the nozzle head 8 is in the observation window 151, it is determined to be normal (No. 1 to No. 7 nozzles, No. 9, No. 10 nozzles). Nozzles, No.12 to No.16 nozzles), and if they are out of the observation window, it is judged as abnormal (No.8, No.11 nozzles). Possible causes of abnormal discharge include abnormal discharge speed, non-discharge, and accumulation of foreign matter (mainly EL polymer adhesion) on the nozzle surface.
【００９３】次に、この液滴ジェットパターニング装置
１により種々の記録解像度（吐出解像度）にてガラス基
板４にＲ，Ｇ，Ｂのドットパターンを吐出記録する制御
について説明する。尚、この制御は制御装置１３のホス
ト制御ユニット173 により実行される。この各ノズルヘ
ッド８の１列状のノズル５５の副走査方向のノズルピッ
チが７５ｄｐｉであるとすると、そのノズルピッチＰは
Ｐ＝（２５．４／７５）ｍｍである。そして、回動駆動
機構８０により４節平行リンク機構４９の１対の第２リ
ンク部材５７Ａ，５７Ｂと３つのノズルホルダ５１を、
副走査方向に対して角度θだけ、図２７、図３５〜図３
８に示すように傾斜回動させた場合には、副走査方向の
ノズルピッチＰθはＰ× cosθとなるので、角度θを０
〜６０度の範囲で変化させることで、ノズルピッチをＰ
×（１．０）〜Ｐ×（０．５）の範囲で連続的に小さく
することができる。Next, the control for ejecting and recording dot patterns of R, G and B on the glass substrate 4 at various recording resolutions (ejection resolutions) by the droplet jet patterning device 1 will be described. This control is executed by the host control unit 173 of the control device 13. Assuming that the nozzle pitch of the one row of nozzles 55 of each nozzle head 8 in the sub-scanning direction is 75 dpi, the nozzle pitch P is P = (25.4 / 75) mm. Then, the pair of second link members 57A, 57B of the four-bar parallel link mechanism 49 and the three nozzle holders 51 are rotated by the rotation drive mechanism 80.
27, FIG. 35 to FIG. 3 by an angle θ with respect to the sub-scanning direction.
When tilted and rotated as shown in FIG. 8, the nozzle pitch Pθ in the sub-scanning direction is P × cos θ, so the angle θ is 0.
The nozzle pitch can be changed to P
It can be continuously reduced in the range of x (1.0) to P x (0.5).
【００９４】ａ）解像度７５〜１５０ｄｐｉの場合（図
３５、図３６参照）：ノズルヘッド８の傾斜角度θを０
〜６０度の範囲内で副走査方向に所望のｄｐｉとなる角
度に設定し、１パス主走査方向に吐出記録する毎に、ガ
ラス基板４を６４×Ｐ× cosθだけ後方（副走査方向と
反対方向）へステップ送りする。例えば７５ｄｐｉのと
きθ＝０°、１５０ｄｐｉのときθ＝６０°とする。A) When the resolution is 75 to 150 dpi (see FIGS. 35 and 36): the inclination angle θ of the nozzle head 8 is 0.
The glass substrate 4 is moved backward by 64 × P × cos θ each time the discharge recording is performed in one pass in the main scanning direction by setting the angle to a desired dpi within the range of up to 60 degrees. Step). For example, when 75 dpi, θ = 0 °, and when 150 dpi, θ = 60 °.
【００９５】ｂ）解像度１５０〜３００ｄｐｉの場合
（図３７参照）：例えば、解像度１５０ｄｐｉの吐出記
録は、解像度７５ｄｐｉの吐出記録後にノズルホルダ５
１を１点鎖線で図示のように半ピッチだけずらしてイン
ターレースで吐出記録することで達成することができ
る。それ故、ノズルヘッド８の傾斜角度θを前記と同様
に０〜６０度の範囲内で副走査方向へ所望のｄｐｉの半
分のｄｐｉとなる角度に設定し、１パス主走査方向に吐
出記録後、ガラス基板４を０．５×Ｐ× cosθだけ後方
へ微動送りをして１パス吐出記録し、次に６３．５×Ｐ
× cosθだけガラス基板４を後方へステップ送りする。
例えば、１５０ｄｐｉのとき、θ＝０°、３００ｄｐｉ
のとき、θ＝６０°とする。B) In the case of a resolution of 150 to 300 dpi (see FIG. 37): For example, the ejection recording with a resolution of 150 dpi is performed after the ejection recording with a resolution of 75 dpi.
1 can be achieved by offsetting a half pitch as shown in the figure by a dashed-dotted line and performing interlace discharge recording. Therefore, similarly to the above, the inclination angle θ of the nozzle head 8 is set to an angle that is half the desired dpi in the sub-scanning direction, within the range of 0 to 60 degrees. , Glass substrate 4 is finely moved backward by 0.5 × P × cos θ to perform 1-pass discharge recording, and then 63.5 × P
The glass substrate 4 is step-fed backward by x cos θ.
For example, when 150 dpi, θ = 0 °, 300 dpi
At this time, θ = 60 °.
【００９６】ｃ）解像度３７．５〜７５ｄｐｉの場合:
ノズルヘッド８の傾斜角度θを０〜６０度の範囲内で副
走査方向へ所望のｄｐｉの２倍のｄｐｉとなる角度に設
定し、例えばNo.1，３，５・・・の奇数ノズルのみ用い
て１パス主走査方向に吐出記録後、６４×Ｐ× cosθだ
け後方へステップ送りする。例えば、解像度３７．５ｄ
ｐｉのときθ＝０°、解像度７５ｄｐｉのときθ＝６０
°とする。C) For a resolution of 37.5-75 dpi:
The inclination angle θ of the nozzle head 8 is set to an angle that is twice the desired dpi in the sub-scanning direction within the range of 0 to 60 degrees, and only the odd nozzles No. 1, 3, 5, ... After being ejected and printed in the main-scanning direction for one pass, the image is stepwise moved backward by 64 × P × cos θ. For example, resolution 37.5d
When pi is θ = 0 °, when resolution is 75 dpi θ = 60
Let be °.
【００９７】尚、以上は解像度設定の数例を示すものに
過ぎず、インターレースを適当に細かく行うことによ
り、２２５〜４５０ｄｐｉ、３００〜６００ｄｐｉの解
像度、又はその他の解像度で吐出記録することも可能で
ある。このように、任意の吐出解像度に基づいて回動駆
動機構８０によるノズルヘッド８の回動角を０〜６０度
の範囲内で制御するようになっており、制御装置１３が
回動駆動手段に相当する。The above is only a few examples of the resolution setting, and it is also possible to perform ejection recording at a resolution of 225 to 450 dpi, a resolution of 300 to 600 dpi, or another resolution by appropriately performing interlacing. is there. In this way, the rotation angle of the nozzle head 8 by the rotation drive mechanism 80 is controlled within the range of 0 to 60 degrees based on an arbitrary ejection resolution, and the control device 13 serves as the rotation drive means. Equivalent to.
【００９８】ここで、ノズルピッチの製作誤差を傾斜回
動角θにより補正する補正制御について説明する。尚、
この制御は制御装置１３のホスト制御ユニット173 によ
り実行される。隣接するノズル間のノズルピッチ（図面
値）をＰ0 、ノズル数をｎとすると、前後両端のノズル
間寸法（図面値）Ｌ0 は次式で表される。
Ｌ0 ＝Ｐ0 ・（ｎ−１）
前後両端のノズル間寸法（実測値）をＬとすると、その
誤差ΔＬはΔＬ＝（Ｌ−Ｌ0 ）となる。製作した複数の
ノズルヘッド８のノズル間寸法Ｌが夫々測定され、既に
説明したノズルピッチ誤差のランク１〜５の何れかに分
類される。Now, the correction control for correcting the manufacturing error of the nozzle pitch by the tilt rotation angle θ will be described. still,
This control is executed by the host control unit 173 of the control device 13. When the nozzle pitch (drawing value) between adjacent nozzles is P0 and the number of nozzles is n, the nozzle-to-nozzle dimension (drawing value) L0 at the front and rear ends is expressed by the following equation. L0 = P0. (N-1) When the dimension between nozzles (actually measured value) at the front and rear ends is L, the error .DELTA.L is .DELTA.L = (L-L0). The nozzle-to-nozzle dimension L of each of the manufactured plurality of nozzle heads 8 is measured and classified into any one of the ranks 1 to 5 of the nozzle pitch error described above.
【００９９】吐出記録を行う目標の副走査方向における
解像度をＲ、回動角θ、ノズルピッチ（実測値）をＰ1
とすると、ノズルピッチＰ1 は次式で表される。
Ｐ1 ＝Ｌ／（ｎ−１）＝（ΔＬ＋Ｌ0 ）／（ｎ−１）
＝〔ΔＬ＋Ｐ0 ・（ｎ−１）〕／（ｎ−１）＝ΔＬ／（ｎ−１）＋Ｐ0
回動角θのときの副走査方向のノズルピッチＰ1 ・ｃｏ
ｓθであるから、
２５．４／Ｒ＝Ｐ1 ・ｃｏｓθ＝〔ΔＬ／（ｎ−１）＋Ｐ0 〕・ｃｏｓθ
θ＝ｃｏｓ-1 （２５．４／Ｒ）／〔ΔＬ／（ｎ−１）＋Ｐ0 〕The resolution in the target sub-scanning direction for discharge recording is R, the rotation angle θ, and the nozzle pitch (actual measurement value) is P1.
Then, the nozzle pitch P1 is expressed by the following equation. P1 = L / (n-1) = (. DELTA.L + L0) / (n-1) = [. DELTA.L + P0. (N-1)] / (n-1) =. DELTA.L / (n-1) + P0 When the rotation angle .theta. Nozzle pitch P1 in the sub-scanning direction
Since sθ, 25.4 / R = P1 · cos θ = [ΔL / (n−1) + P0] · cos θ θ = cos −1 (25.4 / R) / [ΔL / (n−1) + P0]
【０１００】つまり、回動角θは解像度Ｒにより理論上
は演算決定できるが、実際のノズルピッチ誤差の存在に
よりΔθだけ余分に回動されることを意味する。傾斜回
動に先立って解像度とノズルピッチ誤差を指定すれば実
際の回動角θ’が演算されるのである。ノズルピッチ誤
差の指定方法としては、複数のノズルヘッドのノズルピ
ッチ誤差が全て同一であればその値を直接指定してもよ
い。一般的には、複数のノズルヘッドが全く同じノズル
ピッチ誤差になる場合は少なく、且つノズルピッチ誤差
を管理する際にはピッチ誤差を複数（例えば、５つ）に
範囲分けしてそれぞれをランク分けすれば管理しやす
い。このため、ランク毎のノズルピッチ誤差の上限値と
下限値とからランク毎に誤差中心値が求まるので、この
誤差中心値をノズルピッチ誤差として指定してもよい。
こうすれば、多数のノズルヘッドの中から、同じ誤差ラ
ンクのノズルヘッドを使用し、解像度と誤差中心値とか
ら実際の回動角を求めれば、概ね正確な補正が行えるの
である。That is, although the rotation angle θ can be theoretically calculated and determined by the resolution R, it means that the rotation angle θ is additionally rotated by Δθ due to the existence of an actual nozzle pitch error. If the resolution and the nozzle pitch error are designated prior to the tilt rotation, the actual rotation angle θ'is calculated. As a method of specifying the nozzle pitch error, if all the nozzle pitch errors of the plurality of nozzle heads are the same, the value may be directly specified. Generally, it is rare that a plurality of nozzle heads have exactly the same nozzle pitch error, and when managing the nozzle pitch error, the pitch error is divided into a plurality of (for example, five) ranges and each is ranked. It's easy to manage. Therefore, since the error center value is obtained for each rank from the upper limit value and the lower limit value of the nozzle pitch error for each rank, this error center value may be designated as the nozzle pitch error.
In this way, if a nozzle head of the same error rank is used from among a large number of nozzle heads and the actual rotation angle is obtained from the resolution and the error center value, then a substantially accurate correction can be performed.
【０１０１】上式により、０≦θ≦６０°即ち０．５≦
ｃｏｓθ≦１を満たす範囲内で回動角θだけ傾斜回動さ
せることにより、ノズルピッチの誤差を解消するように
補正することができる。但し、Ｐ1 ・ｃｏｓθ＝２５．
４／Ｒ＝Ｐ0 のとき、本来θ＝０°でよい筈であるが、
ノズル間寸法Ｌが短い場合には、Ｐ1 ≦Ｐ0 となり、ｃ
ｏｓθ≧１となって、Ｐ1 ・ｃｏｓθ＝２５．４／Ｒ＝
Ｐ0 が成立しない。また、２５．４／Ｒ＝Ｐ0 ／２のと
き、本来θ＝６０°でよい筈であるが、ノズル間寸法Ｌ
が長い場合には、Ｐ0 ≦Ｐ1 となり、ｃｏｓθ≦０．５
となって、２５．４／Ｒ＝Ｐ0 ／２＝Ｐ1 ・ｃｏｓθが
成立しない。つまり、この場合には、回動角θを０°付
近に戻し、インターレースを１段（１パス）入れて吐出
記録することになる。From the above equation, 0 ≦ θ ≦ 60 °, that is, 0.5 ≦
By tilting and turning by the turning angle θ within a range satisfying cos θ ≦ 1, it is possible to correct the nozzle pitch error. However, P1 · cos θ = 25.
When 4 / R = P0, θ = 0 ° should be good, but
When the dimension L between nozzles is short, P1 ≤ P0 and c
os θ ≧ 1 and P1 · cos θ = 25.4 / R =
P0 does not hold. Further, when 25.4 / R = P0 / 2, it should be possible that θ = 60 °, but the dimension L between nozzles should be L.
Is long, P0 ≤ P1 and cos θ ≤ 0.5
Therefore, 25.4 / R = P0 / 2 = P1.cos .theta. Is not established. That is, in this case, the rotation angle θ is returned to around 0 °, and the interlace is inserted in one step (one pass) to perform ejection recording.
【０１０２】次に、液供給機構１２について説明する。
図１、図２、図２６に示すように、液滴ジェットパター
ニング装置１のケーシング３の側面には、ノズルホルダ
５１R,５１G,５１B に赤，緑，青用の液１０や洗浄用の
溶剤１１等を供給する為の液供給機構１２が設けられて
いる。赤，緑，青用の液１０を夫々収容した液容器152
R,152G,152BがＺ軸スライド機構６の昇降動作に連動し
て昇降するように装備され、廃液回収用容器153 、ノズ
ルヘッド洗浄用溶剤１１の容器154 、バルブユニット15
5 等も設けられている。液容器152R,152G,152Bの液がバ
ルブユニット155 等を経由してノズルヘッド８R,８G,８
B へ供給され、各ノズルホルダ５１の複数のノズル５５
から液滴が吐出される。Next, the liquid supply mechanism 12 will be described.
As shown in FIGS. 1, 2 and 26, on the side surface of the casing 3 of the droplet jet patterning apparatus 1, the nozzle holders 51R, 51G and 51B are provided with red, green and blue liquids 10 and cleaning solvents 11 respectively. A liquid supply mechanism 12 is provided to supply the liquid etc. Liquid container 152 containing red, green and blue liquids 10 respectively
The R, 152G, and 152B are equipped so as to move up and down in conjunction with the vertical movement of the Z-axis slide mechanism 6, and a waste liquid recovery container 153, a nozzle head cleaning solvent container 154, and a valve unit 15 are installed.
There are also 5 etc. The liquid in the liquid containers 152R, 152G, 152B is passed through the valve unit 155, etc. to the nozzle heads 8R, 8G, 8
B of the nozzles 51 of each nozzle holder 51
A droplet is ejected from.
【０１０３】ノズルヘッド８を洗浄する際には、洗浄用
溶剤１１の容器154 の溶剤もバルブユニット155 を経由
してノズルヘッド８R,８G,８B へ供給され、複数のノズ
ル５５から加圧パージが行われる。ヘッドメンテナンス
機構123 の加圧パージ用トレイ127 の各凹部127B,127G,
127Rにはチューブが接続され、廃液がこれらチューブか
ら、負圧によって吸引され、バルブユニット155 を経由
して廃液回収用容器153 に回収される。チューブ156 は
図示外のミスト分離用タンクへ接続される。チューブ15
7 〜160 はバルブユニット155 を介して圧縮窒素ガスラ
インへ接続されている。尚、前記負圧は、図示しない真
空ポンプあるいはエジェクター等により発生させ、その
排気は工場の有機排気ダクトへ放出される。When cleaning the nozzle head 8, the solvent in the container 154 of the cleaning solvent 11 is also supplied to the nozzle heads 8R, 8G, 8B via the valve unit 155, and the plurality of nozzles 55 are pressurized and purged. Done. Recesses 127B, 127G, on the pressure purge tray 127 of the head maintenance mechanism 123
Tubes are connected to the 127R, and the waste liquid is sucked from these tubes by a negative pressure and is collected in the waste liquid collecting container 153 via the valve unit 155. The tube 156 is connected to a mist separation tank (not shown). Tube 15
7 to 160 are connected to the compressed nitrogen gas line via the valve unit 155. The negative pressure is generated by a vacuum pump, an ejector, or the like (not shown), and the exhaust gas is discharged to the organic exhaust duct of the factory.
【０１０４】液供給機構１２の支持フレーム161 には、
可動フレーム162 （保持台）が液容器昇降機構163 によ
り昇降可能に設けられている。つまり、液容器昇降機構
163（基準位置設定手段に相当する）は、金属ベローズ
付き電動シリンダ164 を有し、この電動シリンダ164 の
ロッドの先端部が可動フレーム162 に連結され、Ｚ軸ス
ライド機構６の昇降作動に連動して電動シリンダ164 を
昇降作動させ、液容器152R,152G,152Bを保持する保持体
165R,165G,165Bを液容器152R,152G,152Bの液面がノズル
ヘッド８R,８G,８B の高さ位置に対して所定の高さ関係
になるように昇降させる。３つの容器152R,152G,152Bに
おける液消費に追従して液容器152R,152G,152B内の液面
の高さを基準高さ位置に維持する３つの液面位置維持機
構166 が設けられ、各液面位置維持機構166 にはロック
機構167 が付設されている。In the support frame 161 of the liquid supply mechanism 12,
A movable frame 162 (holding table) is provided so that it can be moved up and down by a liquid container lifting mechanism 163. That is, the liquid container lifting mechanism
The reference numeral 163 (corresponding to the reference position setting means) has an electric cylinder 164 with a metal bellows. The tip end of the rod of this electric cylinder 164 is connected to the movable frame 162, and is linked to the vertical movement of the Z-axis slide mechanism 6. A holder that holds the liquid containers 152R, 152G, 152B by vertically moving the electric cylinder 164 up and down.
165R, 165G, 165B are moved up and down so that the liquid surface of the liquid container 152R, 152G, 152B has a predetermined height relationship with the height position of the nozzle heads 8R, 8G, 8B. Three liquid level position maintaining mechanisms 166 for maintaining the liquid level in the liquid containers 152R, 152G, 152B at the reference height position in accordance with the liquid consumption in the three containers 152R, 152G, 152B are provided. A lock mechanism 167 is attached to the liquid surface position maintaining mechanism 166.
【０１０５】各液面位置維持機構166 により、各液容器
152R,152G,152Bの液面の高さがノズル位置よりも低くな
る基準高さ位置（例えば50mm）に常に補正される。この
各液面位置維持機構166 は、上下方向向きに配設された
円筒状ケーシング168 、軸状部材169 、弾性部材として
の圧縮コイルバネ170 、スリーブ171 、各液容器152R,1
52G,152Bを保持する各保持体165R,165G,165B等で構成さ
れている。可動フレーム162 に、ケーシング168 の上端
部に形成されたフランジ168aが着脱可能に連結され、ケ
ーシング168 内部には、軸状部材169 がケーシング168
と一体的に固着されている。By the liquid level position maintaining mechanism 166, each liquid container is
The heights of the liquid surfaces of 152R, 152G, and 152B are constantly corrected to a reference height position (for example, 50 mm) that is lower than the nozzle position. Each liquid level position maintaining mechanism 166 includes a cylindrical casing 168 arranged in the vertical direction, a shaft member 169, a compression coil spring 170 as an elastic member, a sleeve 171, and each liquid container 152R, 1R.
Each of the holding bodies 165R, 165G, 165B holding the 52G, 152B is constituted. A flange 168a formed at the upper end of the casing 168 is detachably connected to the movable frame 162, and a shaft-shaped member 169 is provided inside the casing 168.
It is fixed integrally with.
【０１０６】ケーシング168 内部において、軸状部材16
9 の上端部が保持体165 に連結されている。ボールスプ
ラインからなるスリーブ171 はケーシング168 に打ち込
まれている。ケーシング168 、軸状部材169 、スリーブ
171 で囲繞された環状空間に圧縮コイルバネ170 が介装
されている。この圧縮コイルバネ170 により液１０を収
容した液容器152 と保持体165 が弾性支持されて、液面
の高さが一定に保持される。液消費に追従して液面レベ
ルが下がると、その分圧縮コイルバネ170 により液容器
152 と保持体165 を押し上げて補正するようになってい
る。Inside the casing 168, the shaft-shaped member 16
The upper end of 9 is connected to the holder 165. A sleeve 171 made of ball splines is driven into the casing 168. Casing 168, shaft member 169, sleeve
A compression coil spring 170 is interposed in an annular space surrounded by 171. The liquid container 152 containing the liquid 10 and the holding body 165 are elastically supported by the compression coil spring 170, and the height of the liquid surface is kept constant. When the liquid level drops following the liquid consumption, the compression coil spring 170 will
The 152 and holder 165 are pushed up for correction.
【０１０７】ロック機構167 は、電動シリンダ164 によ
り可動フレーム162 を上下動する際の圧縮コイルバネ17
0 による弾性支持に起因する上下動が生じないようにロ
ックする機構であって、小型のエアーシリンダとそのロ
ッドの先端部に固着されたロック用パッドとを有する。
このシリンダ本体はケーシング168 の上半部の側面に横
向きに固着され、ロッドの先端部がケーシング168 内部
に挿通され、ロック用パッドで軸状部材169 を押圧して
ロック可能になっている。尚、これら液容器152R,152G,
152B、廃インク回収用容器153 、ノズルヘッド洗浄用溶
剤の容器１１は、グローブボックス172 に収容され、図
示外のハッチを介して取替え可能になっている。The lock mechanism 167 is used for the compression coil spring 17 when the movable frame 162 is moved up and down by the electric cylinder 164.
It is a mechanism that locks up and down due to elastic support by 0, and has a small air cylinder and a lock pad fixed to the tip of the rod.
The cylinder main body is laterally fixed to the side surface of the upper half of the casing 168, the tip of the rod is inserted into the casing 168, and the shaft-like member 169 is pressed by the lock pad to be locked. These liquid containers 152R, 152G,
The container 152B, the waste ink collecting container 153, and the nozzle head cleaning solvent container 11 are housed in the glove box 172 and can be replaced through a hatch (not shown).
【０１０８】次に、液滴ジェットパターニング装置１の
制御ユニット１３を含む制御系について説明する。図３
８、図３９に示すように、制御ユニット１３のホスト制
御ユニット173 は、ＣＰＵとＲＯＭとＲＡＭとを含むコ
ンピュータを有し、そのＲＯＭには液滴ジェットパター
ニング装置１の種々のモータや撮像機やストロボ投光器
やその他の種々の機器を制御する種々の制御プログラム
が格納されている。このホスト制御ユニット173 には操
作パネル174 と外部記憶装置175 と電源回路176 が接続
されている。外部記憶装置175 には、ガラス基板４に形
成するトッドパターンの画像データ、液滴ジェットパタ
ーニング装置１のシステム定数、生産管理情報などが格
納される。Next, a control system including the control unit 13 of the droplet jet patterning apparatus 1 will be described. Figure 3
As shown in FIG. 8 and FIG. 39, the host control unit 173 of the control unit 13 has a computer including a CPU, a ROM, and a RAM. Various control programs for controlling the strobe projector and various other devices are stored. An operation panel 174, an external storage device 175, and a power supply circuit 176 are connected to the host control unit 173. The external storage device 175 stores image data of a todd pattern formed on the glass substrate 4, system constants of the droplet jet patterning device 1, production management information, and the like.
【０１０９】ホスト制御ユニット173 は、入出力ライン
177 を介して、ＤＳＰ178(DigitalSignal Processor)
、多軸送りパルス発生回路179 、多軸送りパルス発生
回路180 、出力レジスタ181 、入力レジスタ182 、アラ
イメントコントローラ183 、吐出検査コントローラ184
、ローダ用Ｉ／Ｆ185 などに接続されている。ＤＳＰ1
78 は、信号出力回路186 と駆動回路187 を介して３つ
のノズルヘッド８R,８G,８B に接続されている。ＤＳＰ
178 はＣＰＵとＲＯＭとＲＡＭを有し、そのＲＯＭには
ノズルヘッド８を駆動して吐出記録する吐出記録用制御
プログラムが格納されている。The host control unit 173 is an input / output line.
Through 177, DSP178 (Digital Signal Processor)
, Multi-axis feed pulse generation circuit 179, multi-axis feed pulse generation circuit 180, output register 181, input register 182, alignment controller 183, discharge inspection controller 184
, I / F185 for loader, etc. DSP1
78 is connected to the three nozzle heads 8R, 8G, and 8B via a signal output circuit 186 and a drive circuit 187. DSP
Reference numeral 178 has a CPU, a ROM and a RAM, and a discharge recording control program for driving the nozzle head 8 to perform discharge recording is stored in the ROM.
【０１１０】前記駆動回路187 は多数のノズル駆動用圧
電素子を駆動する駆動パルスを発生させるパルス発生回
路を有する。前記の駆動パルスの波形を、ノズルヘッド
８R,８G,８B に共通に設定することもあるし、ノズルヘ
ッド８R,８G,８B 別に異ならせて設定する場合もある
が、前記の駆動パルスを表示させるための波形モニター
188 が駆動回路187 に接続されている。The drive circuit 187 has a pulse generation circuit for generating drive pulses for driving a large number of nozzle driving piezoelectric elements. The drive pulse waveform may be commonly set for the nozzle heads 8R, 8G, 8B or may be set differently for the nozzle heads 8R, 8G, 8B, but the drive pulse is displayed. Waveform monitor for
188 is connected to the drive circuit 187.
【０１１１】ＤＳＰ178 は多軸送りパルス発生回路179
にも接続され、ガラス基板４のＸ方向への移動に同期さ
せて吐出記録する為にＸ軸サーボモータ２８で駆動され
るＸ軸スライド機構２０の移動量を精密に検出するＸ軸
リニアスケール189 の検出信号がアンプAMP を介してＤ
ＳＰ178 に供給されている。ＤＳＰ178 には、吐出記録
用データや位相データ（吐出のタイミングを設定するデ
ータ）を記憶するデータ記憶装置190 が接続され、この
データ記憶装置190はホスト制御ユニット173 から供給
されたデータを記憶しておき、吐出記録時にはそのデー
タをＤＳＰ178 に出力する。The DSP 178 is a multi-axis feed pulse generation circuit 179.
X-axis linear scale 189 which is also connected to the X-axis slide mechanism 20 and which precisely detects the amount of movement of the X-axis slide mechanism 20 driven by the X-axis servomotor 28 in order to perform discharge recording in synchronization with the movement of the glass substrate 4 in the X direction. Detection signal of D via amplifier AMP
Supplied to SP178. A data storage device 190 for storing ejection recording data and phase data (data for setting ejection timing) is connected to the DSP 178, and the data storage device 190 stores the data supplied from the host control unit 173. Every time, the data is output to the DSP 178 during ejection recording.
【０１１２】多軸送りパルス発生回路179 には、ガラス
基板４をＸ方向に送るＸ軸スライド機構２０のＸ軸サー
ボモータ２８の為の駆動回路191 、Ｙ軸スライド機構１
９のＹサーボモータ３１の為の駆動回路192 、傾斜回動
用サーボモータ８２（減速機付きモータ）の為の駆動回
路193 、傾斜回動角θを検出するエンコーダ８１の検出
信号を増幅するアンプ、ノズルホルダ５１G,５１B の副
走査方向位置を調整する位置調整用サーボモータ118 の
為の駆動回路194 、ノズルヘッド保持装置７を昇降させ
る電動シリンダ４１のＺ軸スライドサーボモータの為の
駆動回路195 、液滴供給機構１２の可動フレーム162 を
昇降させる電動シリンダ164 のＺ１軸スライドサーボモ
ータ196 の為の駆動回路197 などが接続されている。The multi-axis feed pulse generation circuit 179 includes a drive circuit 191 for the X-axis servomotor 28 of the X-axis slide mechanism 20 for feeding the glass substrate 4 in the X direction, and a Y-axis slide mechanism 1.
9, a drive circuit 192 for the Y servo motor 31, a drive circuit 193 for the tilt rotation servo motor 82 (motor with reduction gear), an amplifier for amplifying the detection signal of the encoder 81 for detecting the tilt rotation angle θ, A drive circuit 194 for a position adjusting servomotor 118 for adjusting the positions of the nozzle holders 51G and 51B in the sub-scanning direction, a drive circuit 195 for a Z-axis slide servomotor of the electric cylinder 41 for raising and lowering the nozzle head holding device 7, A drive circuit 197 for a Z1 axis slide servo motor 196 of an electric cylinder 164 for raising and lowering the movable frame 162 of the droplet supply mechanism 12 is connected.
【０１１３】ここで、Ｘ軸サーボモータ２８の為の駆動
回路191 は、Ｘ軸サーボモータ２８に内蔵のエンコーダ
２７の検出信号と、Ｘ軸リニアスケール189 の検出信号
とに基づいてモータ制御を行う。同様に、Ｙ軸スライド
機構１９のＹ方向移動量を精密に検出する為のＹ軸リニ
アスケール198 も設けられており、Ｙ軸サーボモータ２
８の為の駆動回路192 は、Ｙ軸サーボモータ２８に内蔵
のエンコーダ３０の検出信号と、Ｙ軸リニアスケール19
8 の検出信号とに基づいてモータ制御を行う。それ故、
Ｘ軸，Ｙ軸スライド機構２０，１９によって、ガラス基
板４をＸ，Ｙ方向に独立に精密に移動駆動してガラス基
板４のＸ，Ｙ方向の位置を精密に制御できるように構成
してある。Here, the drive circuit 191 for the X-axis servomotor 28 performs motor control based on the detection signal of the encoder 27 built in the X-axis servomotor 28 and the detection signal of the X-axis linear scale 189. . Similarly, a Y-axis linear scale 198 for precisely detecting the Y-direction movement amount of the Y-axis slide mechanism 19 is also provided.
The drive circuit 192 for 8 includes a detection signal of an encoder 30 built in the Y-axis servomotor 28 and a Y-axis linear scale 19
The motor is controlled based on the 8 detection signals. Therefore,
The X-axis and Y-axis slide mechanisms 20 and 19 are configured to precisely and independently drive the glass substrate 4 in the X and Y directions to precisely control the position of the glass substrate 4 in the X and Y directions. .
【０１１４】多軸送りパルス発生回路180 には、ガラス
基板４を原点位置にアライメント調整する為にガラス基
板４を回動させるアライメント調整用サーボモータ199
の為の駆動回路200 、吐出検査用ＣＣＤカメラ移動用サ
ーボモータ201 の為の駆動回路202 、吐出検査用ストロ
ボ移動用サーボモータ203 の為の駆動回路204 、メンテ
ナンス機構移動用電動シリンダ１２４のサーボモータ20
5 の為の駆動回路206、メンテナンス機構123 の吸取り
紙巻取り用サーボモータ137 の為の駆動回路207 などが
接続されている。The multi-axis feed pulse generation circuit 180 includes an alignment adjustment servomotor 199 for rotating the glass substrate 4 in order to align the glass substrate 4 to the origin position.
Drive circuit 200, a discharge inspection CCD camera movement servo motor 201, a discharge inspection strobe movement servo motor 203 drive circuit 204, a maintenance mechanism movement electric cylinder 124 servo motor 20
The drive circuit 206 for 5 and the drive circuit 207 for the servomotor 137 for sucking up and sucking paper of the maintenance mechanism 123 are connected.
【０１１５】図３９に示すように、ホスト制御ユニット
173 に接続された入出力ライン177には、液滴供給機構
１２のバルブユニット155 の複数のソレノイドバルブ20
8 を駆動するリレー回路209 に接続された出力レジスタ
181 、複数の検出用スイッチに接続されたＩ／Ｆ210(イ
ンターフェース) に接続された入力レジスタ182 、ガラ
ス基板４のアライメント調整の為の４つのＣＣＤカメラ
３２ａ〜３２ｄに接続されたアライメントコントローラ
183 、吐出検査用のＣＣＤカメラ142 とストロボ投光器
143 を駆動する吐出検査コントローラ184 、外部のガラ
ス基板搬送の為のローダとの間で信号を授受するローダ
用Ｉ／Ｆ185(インターフェース）などが接続されてい
る。尚、前記のアライメントコントローラ183 にはキー
ボード及びモニター211 も接続されている。As shown in FIG. 39, the host control unit
The input / output line 177 connected to the 173 has a plurality of solenoid valves 20 of the valve unit 155 of the droplet supply mechanism 12.
Output register connected to relay circuit 209 driving 8
181, an input register 182 connected to an I / F 210 (interface) connected to a plurality of detection switches, an alignment controller connected to four CCD cameras 32a to 32d for alignment adjustment of the glass substrate 4.
183, CCD camera 142 for discharge inspection and strobe projector
An ejection inspection controller 184 for driving the 143, a loader I / F 185 (interface) for exchanging signals with an external loader for transporting the glass substrate, and the like are connected. A keyboard and monitor 211 are also connected to the alignment controller 183.
【０１１６】次に、３つのノズルヘッド８R,８G,８B か
ら夫々の液滴を吐出してガラス基板４にドットパターン
を吐出記録する連続記録の制御について説明する。尚、
この制御はホスト制御ユニット１７３により実行される
が、図中、符号Ｓｉ（ｉ＝１，２，３・・）は各ステッ
プを示す。図４０、図４１に示すように、主電源を投入
し手動スイッチを操作すると、この制御が開始され、最
初にノズルヘッド８をメンテナンス機構123 のゴムパッ
ド128R,128G,128B（キャップ）から離隔させて開放し
（Ｓ1 ）、ノズルヘッド保持装置７のＸ，Ｙ，Ｚ軸の待
機位置と、基板受台２１のピン２２（回転軸）であるα
軸の回りの待機位置を確認し、図２に示す待機位置へ移
動する（Ｓ2 ）。Next, the control of continuous recording in which the respective droplets are discharged from the three nozzle heads 8R, 8G and 8B to discharge and record the dot pattern on the glass substrate 4 will be described. still,
This control is executed by the host control unit 173, and in the figure, the symbol Si (i = 1, 2, 3, ...) Indicates each step. As shown in FIGS. 40 and 41, when the main power is turned on and the manual switch is operated, this control is started, and the nozzle head 8 is first separated from the rubber pads 128R, 128G, 128B (cap) of the maintenance mechanism 123. The nozzle head holding device 7 is opened (S1) and the X, Y and Z standby positions of the nozzle head holding device 7 and the pin 22 (rotating shaft) of the substrate pedestal 21 are α.
After confirming the standby position around the axis, the robot moves to the standby position shown in FIG. 2 (S2).
【０１１７】次に、装着されているガラス基板４に対す
る全生産（全ての吐出記録）が終了したか否か判定し
（Ｓ3 ）、終了している場合は、Ｓ５において吐出検査
機構121 、ヘッドメンテナンス機構123 等を用いて、図
４１、図４３の吐出検査の処理を実行する。次に前回の
ガラス基板履歴へ検査内容を追記し（Ｓ6 ）、Ｓ７の判
定にてＹｅｓと判定されるため、ノズルヘッド８R,８G,
８B をゴムパッド128R,128G,128B（キャップ）に接触さ
せ（Ｓ14）、この制御を終了する。Next, it is judged whether or not all production (all ejection recording) for the mounted glass substrate 4 is completed (S3), and if so, in S5 the ejection inspection mechanism 121, head maintenance The mechanism of the mechanism 123 or the like is used to execute the process of the ejection inspection of FIGS. 41 and 43. Next, the inspection content is added to the history of the previous glass substrate (S6), and since the determination in S7 is Yes, the nozzle heads 8R, 8G,
8B is brought into contact with the rubber pads 128R, 128G, 128B (cap) (S14), and this control ends.
【０１１８】Ｓ３の判定がＮｏの場合、前回と同じワー
ク（ガラス基板４）か否か判定し（Ｓ4 ）、その判定が
Ｙｅｓの場合、Ｓ５以降の処理とＳ１７以降の処理が並
行して実行される。Ｓ５以降の処理においては、Ｓ５〜
Ｓ７を経てＳ８へ移行し、ノズル５５の吐出状態が正常
か否か判定し（Ｓ8 ）、吐出状態が正常であれば、図４
１のＳ２１に移行する。正常でなければ、Ｓ９の判定を
経て、Ｚ軸スライド機構６によりノズルヘッド保持装置
７のヘッド部４３を上昇位置へ移動した状態で、ヘッド
メンテナンス機構123 を用いてノズル５５から洗浄溶剤
を吐出させるパージを行う（Ｓ10）。If the determination in S3 is No, it is determined whether or not it is the same work (glass substrate 4) as the previous one (S4). If the determination is Yes, the processing in S5 and subsequent steps and the processing in S17 and subsequent steps are executed in parallel. To be done. In the processing after S5, S5
After S7, the process proceeds to S8, and it is judged whether or not the ejection state of the nozzle 55 is normal (S8).
1 to S21. If it is not normal, the cleaning solvent is ejected from the nozzle 55 by using the head maintenance mechanism 123 in a state where the head portion 43 of the nozzle head holding device 7 is moved to the raised position by the Z-axis slide mechanism 6 through the determination of S9. Purging is performed (S10).
【０１１９】次に、前記と同じ吐出検査を行い（Ｓ1
1）、Ｓ８へ戻り、ノズル５５の吐出状態が正常になれ
ばＳ２１へ移行する。吐出が異常であれば（Ｓ8;Ｎo
）、パージを設定回数終了したか否か判定し（Ｓ9
）、その判定がＮｏの場合はＳ１０、Ｓ１１移行を繰
り返し、パージを設定回数終了した場合には（Ｓ9;Ｙe
s）、別の代替ノズルで記録可能か否か判定し（Ｓ1
2）、その判定がＹｅｓの場合は図４３のＳ２１へ移行
する。しかし、代替ノズルで記録可能でない場合は生産
中断処理（Ｓ13）の後、この制御を終了する。Next, the same ejection inspection as described above is performed (S1
1) Return to S8, and if the ejection state of the nozzle 55 becomes normal, proceed to S21. If the discharge is abnormal (S8; No
), It is determined whether or not the purge is completed the set number of times (S9
), If the determination is No, the process proceeds to S10 and S11 repeatedly, and if the purge is completed the set number of times (S9;
s), and it is determined whether or not printing can be performed with another alternative nozzle (S1
2) If the determination is Yes, the process proceeds to S21 in FIG. However, if printing is not possible with the alternative nozzles, this control is terminated after the production interruption process (S13).
【０１２０】図４１のＳ２１においては、Ｚ軸スライド
機構６によりノズルヘッド保持装置７のヘッド部４３を
下降位置（記録位置）へ下降させ（Ｓ21）、入力設定さ
れた傾斜回動角θに関するデータに基づき、回動駆動機
構８０によりノズルヘッド８を傾斜回動させ（Ｓ22）、
その後Ｓ２３へ移行する。In S21 of FIG. 41, the head portion 43 of the nozzle head holding device 7 is lowered to the lowered position (recording position) by the Z-axis slide mechanism 6 (S21), and data relating to the input tilt rotation angle θ is set. On the basis of the above, the rotation drive mechanism 80 tilts and rotates the nozzle head 8 (S22)
Then, the process proceeds to S23.
【０１２１】図４０のＳ４の判定の結果、前回と異なる
ワーク（ガラス基板４が異なる場合、ドットパターンが
異なる場合）には、Ｓ１５に移行し、先ずホスト制御ユ
ニット173 において作成した吐出記録に関連する全ての
データ（吐出関連データ）をホスト制御ユニット173 の
ＲＡＭやデータ記憶装置190 やレジスタ類に設定する
（Ｓ15）。次に、Ｓ１６において前記の吐出関連データ
に含まれるθ, φG,φBに応じた処理が実行される。As a result of the determination in S4 of FIG. 40, if the work is different from the previous work (when the glass substrate 4 is different or the dot pattern is different), the process proceeds to S15, and is related to the ejection recording created in the host control unit 173. All the data (discharge-related data) to be set are set in the RAM of the host control unit 173, the data storage device 190, and the registers (S15). Next, in S16, a process according to θ, φG, and φB included in the ejection-related data is executed.
【０１２２】尚、θは４節平行リンク機構４９を傾斜回
動させる角度であり、φG,φB は、１画素における赤色
ドットに対する緑色ドット、青色ドットの副走査方向の
配置位置を微小にずらす場合に、位置調整駆動機構113
により移動機構５３Ａ，５３Ｂを駆動してノズルヘッド
８G,８B を副走査方向に夫々設定された微小距離だけ移
動駆動する為に位置調整駆動機構113 を回転させる角度
である。Ｓ１６の処理により、４節平行リンク機構４９
が設定角度だけ傾斜回動され、ノズルヘッド８G,８B が
副走査方向に設定微小距離だけ位置変更されることにな
る。Ｓ１６の次にＳ５へ移行してＳ５以降が実行され、
これと並行してＳ５からＳ１７へ移行してＳ１７〜Ｓ２
０の処理が実行される。Note that θ is the angle at which the four-bar parallel link mechanism 49 is tilted and rotated, and φG and φB are the cases where the arrangement positions of green dots and blue dots in one pixel in the sub-scanning direction are slightly displaced with respect to the red dots. The position adjustment drive mechanism 113
Is an angle at which the position adjusting drive mechanism 113 is rotated in order to drive the moving mechanisms 53A, 53B to move the nozzle heads 8G, 8B in the sub-scanning direction by a set minute distance respectively. By the processing of S16, the four-bar parallel link mechanism 49
Is tilted and rotated by a set angle, and the nozzle heads 8G and 8B are repositioned in the sub-scanning direction by a set minute distance. After S16, the process proceeds to S5 and S5 and subsequent steps are executed.
In parallel with this, the process shifts from S5 to S17 and S17 to S2.
The process of 0 is executed.
【０１２３】図４１に示すように、Ｓ１７では、搬送ロ
ーダーによりガラス基板４を図２の待機位置にある基板
受台２１上に載置した後吸着させ、次にＸ，Ｙ軸スライ
ド機構２０，１９と回動調整装置３５により、基板受台
２１とこれに載置されたガラス基板４をＸ軸，Ｙ軸，α
軸（ピン回りの回動）について３軸制御して自動アライ
メント開始位置へ移動させる（Ｓ18）。次に、自動アラ
イメント機構３６により、補正移動量ΔＸ，ΔＹ，Δα
を求め、その補正移動量分の位置補正を行って原点位置
に初期設定する（Ｓ19）。その後Ｘ，Ｙ軸スライド機構
２０，１９によりガラス基板４を記録開始点へ基準ノズ
ルを移動させ（Ｓ20）、Ｓ２３へ移行する。As shown in FIG. 41, in S17, the glass substrate 4 is placed on the substrate pedestal 21 at the standby position shown in FIG. The substrate holder 21 and the glass substrate 4 placed on the substrate holder 21 are rotated by the X-axis, Y-axis, and α by the 19 and the rotation adjusting device 35.
Three axes are controlled about the axis (rotation around the pin) to move to the automatic alignment start position (S18). Next, the automatic alignment mechanism 36 causes the correction movement amounts ΔX, ΔY, Δα.
Is calculated, the position is corrected by the correction movement amount, and the origin position is initially set (S19). After that, the reference nozzle is moved to the recording start point of the glass substrate 4 by the X and Y axis slide mechanisms 20 and 19 (S20), and the process proceeds to S23.
【０１２４】次に、Ｓ２３以降のステップについて説明
する。Ｓ５の吐出検査の結果が正常記録の場合には（Ｓ
23 ;Ｙes）、Ｓ２４において正常記録の処理を実行す
る。この場合、ガラス基板４とノズルヘッド８を主走査
方向と副走査方向に相対移動してパターンを形成してい
き、Ｓ２５へ移行する。一方、Ｓ２３の判定の結果正常
記録でない場合は一部のノズル５５を停止させた状態で
記録する抜けノズル記録を実行する（Ｓ28）。この場
合、例えば、No.1,No.3,・・・などの奇数番ノズルのみ
で１パス記録毎に、１段のインターレース記録を行う。Next, the steps after S23 will be described. If the result of the discharge inspection in S5 is normal recording (S5
23; Yes), the normal recording process is executed in S24. In this case, the glass substrate 4 and the nozzle head 8 are relatively moved in the main scanning direction and the sub scanning direction to form a pattern, and the process proceeds to S25. On the other hand, if the result of the determination in S23 is not normal recording, missing nozzle recording is performed in which some of the nozzles 55 are stopped and recording is performed (S28). In this case, for example, one-stage interlaced printing is performed for each pass printing only with odd-numbered nozzles such as No. 1, No. 3, ...
【０１２５】Ｓ２８の抜けノズル記録は実行不可能な場
合もあり、そのような場合には、Ｓ２９において代替ノ
ズル記録のデータが生成され、データ記憶装置190 のペ
ージメモリやそれ以外のレジスタ類への設定が実行され
る（Ｓ29）。代替ノズル記録は、例えばNo.1,2ノズルが
使用不可能なとき、そのノズルを使用せず、記録したガ
ラス基板４に対して、追加的に例えばNo.3,4ノズルのみ
使用してもう一度記録することである。次に代替ノズル
記録を実行し（Ｓ30）、Ｓ２５へ移行する。Ｓ２５で
は、そのガラス基板４の履歴情報をホスト制御ユニット
173 のメモリに記録し、次に回動駆動機構８０によりノ
ズルヘッド８の傾斜回動角θを０度に戻し（Ｓ26）、Ｚ
軸スライド機構６によりノズルヘッド保持装置７を待機
位置（ホームポジション）へ上昇させてから（Ｓ27）、
Ｓ３へリターンする。In some cases, the missing nozzle recording in S28 cannot be executed. In such a case, the data of the alternative nozzle recording is generated in S29, and the data is stored in the page memory of the data storage device 190 or other registers. The setting is executed (S29). The alternative nozzle recording is, for example, when the No. 1 and 2 nozzles are not usable, the nozzle is not used, and only the No. 3 and 4 nozzles are additionally used for the recorded glass substrate 4 and again. It is to record. Next, alternative nozzle recording is executed (S30), and the process proceeds to S25. In S25, the history information of the glass substrate 4 is stored in the host control unit.
Then, the tilt drive angle 80 of the nozzle head 8 is returned to 0 degree by the rotary drive mechanism 80 (S26), Z
After raising the nozzle head holding device 7 to the standby position (home position) by the shaft slide mechanism 6 (S27),
Return to S3.
【０１２６】これらＳ２６、Ｓ２７と並行して、Ｘ，Ｙ
軸スライド機構２０，１９により基板受台２１とガラス
基板４を図２の待機位置へ移動させ（Ｓ31）、次に、そ
のガラス基板４を基板リフト機構２３により基板受台２
１から所定小距離持ち上げて搬送ローダーへ受け渡し
（Ｓ32）、次にＳ３３において、先にＳ１９で移動した
ΔＸ，ΔＹ，Δα分を逆方向に移動させ，その後Ｓ３へ
リターンする。In parallel with S26 and S27, X, Y
The substrate pedestal 21 and the glass substrate 4 are moved to the standby position shown in FIG. 2 by the shaft slide mechanisms 20 and 19 (S31), and then the glass substrate 4 is moved by the substrate lift mechanism 23.
It is lifted a predetermined small distance from 1 and transferred to the transfer loader (S32), then in S33, the ΔX, ΔY, and Δα parts previously moved in S19 are moved in the opposite direction, and then the process returns to S3.
【０１２７】次に、吐出検査の処理について簡単に説明
する。図４２に示すように、この制御が開始されてＺ軸
スライド機構６により、ノズルヘッド保持装置７つまり
ヘッド部４３が上昇位置にあるか否か判定し（Ｓ40）、
その判定がＮｏの場合はＺ軸スライド機構６によりヘッ
ド部４３を上昇位置へ移動させる（Ｓ４１）。Ｓ４０が
Ｙｅｓの場合及びＳ４１の次に、ヘッドメンテナンス機
構123 が検査位置にあるか否か判定し（Ｓ42）、その判
定がＮｏの場合はヘッドメンテナンス機構123 が検査位
置へ移動させる（Ｓ43）。Next, the discharge inspection process will be briefly described. As shown in FIG. 42, when this control is started and the Z-axis slide mechanism 6 determines whether or not the nozzle head holding device 7, that is, the head portion 43, is in the raised position (S40),
If the determination is No, the Z-axis slide mechanism 6 moves the head portion 43 to the raised position (S41). When S40 is Yes and after S41, it is determined whether or not the head maintenance mechanism 123 is at the inspection position (S42). If the determination is No, the head maintenance mechanism 123 is moved to the inspection position (S43).
【０１２８】Ｓ４２の判定がＹｅｓの場合及びＳ４３の
次に、ノズルヘッド８R,８G,８B の吐出検査が順次実行
される（Ｓ44、Ｓ45、Ｓ46）。尚、例えば、ノズルヘッ
ド８R,８G,８B の吐出検査については、後述する。次
に、吐出検査機構121 のＹ方向移動駆動機構140a,140b
、撮影ポジション切換え機構141a,141b を待機位置へ
移動させ、つまり、ＣＣＤカメラ142 やストロボ投光器
143 を待機位置へ移動させ（Ｓ47）、ヘッドメンテナン
ス機構123 を待機位置に移動させ（Ｓ48）、この制御が
終了する。When the determination in S42 is Yes and after S43, the ejection inspection of the nozzle heads 8R, 8G, 8B is sequentially executed (S44, S45, S46). Incidentally, for example, the ejection inspection of the nozzle heads 8R, 8G, 8B will be described later. Next, the Y direction movement drive mechanism 140a, 140b of the discharge inspection mechanism 121.
, The shooting position switching mechanisms 141a and 141b are moved to the standby position, that is, the CCD camera 142 and the strobe projector.
143 is moved to the standby position (S47), the head maintenance mechanism 123 is moved to the standby position (S48), and this control ends.
【０１２９】次に、ノズルヘッド８R,８G,８B の吐出検
査について図４３に基づいて説明する。但し、これらの
ノズルヘッド８R,８G,８B の吐出検査は同じであるので
ノズルヘッド８R の吐出検査を例として説明する。図４
３に示すように、この制御の開始後、最初に撮影ポジシ
ョンレジスタにポジションＲｉが設定され（Ｓ50）、次
に吐出検査機構121 のＹ方向移動駆動機構140a,140b 、
撮影ポジション切換え機構141a,141b により、ＣＣＤカ
メラ142 をポジションＲｉへ移動すると共にストロボ投
光器143 をポジションＲｉへ移動する（Ｓ51）。次に、
ノズルヘッド８R の第ｉ群の１６個のノズル５５に吐出
指令が出力される（Ｓ52）。尚、ポジションＲｉとは、
第ｉ群のノズルに対応するポジションのことであり、カ
ウンタｉは最初ｉ＝１に設定され、その後インクリメン
トされる。Next, the ejection inspection of the nozzle heads 8R, 8G and 8B will be described with reference to FIG. However, since the ejection inspection of these nozzle heads 8R, 8G, and 8B is the same, the ejection inspection of the nozzle head 8R will be described as an example. Figure 4
As shown in FIG. 3, after starting this control, first the position Ri is set in the photographing position register (S50), and then the Y-direction movement drive mechanisms 140a, 140b of the ejection inspection mechanism 121,
The photographing position switching mechanisms 141a and 141b move the CCD camera 142 to the position Ri and the strobe projector 143 to the position Ri (S51). next,
An ejection command is output to the 16 nozzles 55 of the i-th group of the nozzle head 8R (S52). The position Ri means
The position corresponding to the nozzle of the i-th group, the counter i is initially set to i = 1 and then incremented.
【０１３０】Ｓ５２の実行後に、タイマＴ１に設定時間
αが設定され、タイマＴ２に設定時間βが設定され、タ
イマＴ１の計時時間の判定を介して設定時間αが経過す
ると（Ｓ53 ;Ｙes）、ＣＣＤカメラ142 のシャッターが
切られて撮影が実行され（Ｓ54）、タイマＴ２の計時時
間の判定を介して設定時間βが経過すると（Ｓ55 ;Ｙe
s）、ストロボ投光器143 が作動して撮影の為の照明光
を投光する（Ｓ56）。尚、αとβはほぼ等しい微小時間
である。After the execution of S52, the set time α is set in the timer T1, the set time β is set in the timer T2, and when the set time α passes through the judgment of the time counted by the timer T1 (S53; Yes), The shutter of the CCD camera 142 is released and photographing is executed (S54), and when the set time β passes through the judgment of the time counted by the timer T2 (S55; Ye
s), the strobe light projector 143 is activated to emit illumination light for photographing (S56). Note that α and β are almost equal minute times.
【０１３１】Ｓ８とＳ５６の次のＳ５７において、１６
個のノズル５５からの液滴の吐出状態を撮影した画像の
画像データを画像処理し、吐出の正常、異常を判定し、
その結果についての情報を操作パネル174 のディスプレ
イに表示出力する。尚、各ノズル５５について、液滴の
画像がＣＣＤカメラ142 の観測窓151 内に収まっている
場合は正常と判定し、収まっていない場合は異常と判定
する。次に、カウンタｉが「１」だけインクリメントさ
れ（Ｓ58）、第４群のノズルまでの撮影が終了したか否
か判定し（Ｓ59）、その判定がＮｏの場合はＳ５１へ戻
ってＳ５１以降が繰り返し実行される。こうして、第１
群から第４群まで順々に、１６個ずつのノズル５５につ
いての吐出検査が実行される。第４群のノズルまでの検
査が終了すると（Ｓ59 ;Ｙes）、ＣＣＤカメラ142 とス
トロボ投光器143 が待機位置へ移動され（Ｓ60）、この
制御が終了する。In S57 following S8 and S56, 16
Image data of an image obtained by photographing the discharge state of the liquid droplets from the individual nozzles 55 is subjected to image processing to determine whether the discharge is normal or abnormal,
Information about the result is displayed and output on the display of the operation panel 174. For each nozzle 55, it is determined to be normal when the image of the liquid droplet is contained in the observation window 151 of the CCD camera 142, and to be abnormal when the image is not contained. Next, the counter i is incremented by "1" (S58), and it is determined whether or not the imaging up to the nozzles of the fourth group has been completed (S59). If the determination is No, the process returns to S51 and S51 and thereafter. It is executed repeatedly. Thus, the first
From the group to the fourth group, the discharge inspection is performed on 16 nozzles 55 in order. When the inspection up to the nozzles of the fourth group is completed (S59; Yes), the CCD camera 142 and the strobe projector 143 are moved to the standby position (S60), and this control is completed.
【０１３２】次に液滴ジェットパターニング装置１、ノ
ズルヘッド保持装置７の作用、効果について説明する。
ガラス基板４にパターンを形成する際には、１対の第
２リンク部材５７Ａ，５７Ｂをその途中部の１対の回動
支点５０Ａ，５０Ｂを中心に回動させると、１対の第２
リンク部材５７Ａ，５７Ｂに連結された１対の第１リン
ク部材５６Ａ，５６Ｂが主走査方向へ且つ相反する方向
へ移動し、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに連結
されたノズルヘッド８の両端部が移動し、ノズルヘッド
８が副走査方向に対して傾斜回動する。Next, the operation and effect of the droplet jet patterning device 1 and the nozzle head holding device 7 will be described.
When the pattern is formed on the glass substrate 4, when the pair of second link members 57A and 57B are rotated around the pair of rotation fulcrums 50A and 50B in the middle thereof, the pair of second link members 57A and 57B are rotated.
The pair of first link members 56A, 56B connected to the link members 57A, 57B move in the main scanning direction and in opposite directions, and the nozzle head 8 of the nozzle head 8 connected to the pair of first link members 56A, 56B moves. Both ends move, and the nozzle head 8 tilts and rotates with respect to the sub-scanning direction.
【０１３３】このように、ノズルヘッド８を副走査方向
に対して傾斜させることによって、副走査方向の吐出ピ
ッチを小さく調整して所望の吐出ピッチに設定した後、
ノズルヘッド保持装置７をガラス基板４に対して主走査
方向へ相対移動させつつ、１パス分吐出記録し、その後
副走査方向へ適宜相対移動させてから、次の１パス分吐
出記録を行い、順次これを繰り返して吐出記録を行う。In this way, by inclining the nozzle head 8 with respect to the sub-scanning direction, the ejection pitch in the sub-scanning direction is adjusted small and set to a desired ejection pitch.
While the nozzle head holding device 7 is relatively moved in the main scanning direction with respect to the glass substrate 4, ejection recording is performed for one pass, and after that, the nozzle head holding device 7 is appropriately moved in the sub scanning direction, and then ejection recording for the next one pass is performed. This is sequentially repeated to perform ejection recording.
【０１３４】特に、このノズルヘッド保持装置７は、４
節平行リンク機構４９、１対の回動支点５０Ａ，５０
Ｂ、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに両端部が回
動可能に連結されたノズルヘッド８とを備えた構成であ
るので、このノズルヘッド保持装置７を支持する外部の
取付部材（ヘッド組取付台２５）に対し、簡単に着脱可
能なノズルヘッド保持装置７に構成することができる。
その場合、修理や交換の為にノズルヘッド８を着脱する
構造も簡単化することができ、メンテナンス性を確保す
ることができる。Particularly, this nozzle head holding device 7 has four
Node parallel link mechanism 49, a pair of rotation fulcrums 50A, 50
B, a pair of first link members 56A, 56B is provided with a nozzle head 8 rotatably connected at both ends, so that an external mounting member (head) for supporting the nozzle head holding device 7 is provided. It is possible to configure the nozzle head holding device 7 that can be easily attached to and detached from the assembly mount 25).
In that case, the structure for attaching and detaching the nozzle head 8 for repair or replacement can be simplified, and maintainability can be ensured.
【０１３５】４節平行リンク機構４９自体は高精度のも
のに構成できるし、この４節平行リンク機構４９にノズ
ルヘッド８を高精度に装着することも容易であるから、
製作誤差を最小限にした高精度のノズルヘッド保持装置
７を実現できる。４節平行リンク機構４９を傾斜回動さ
せる構成であるから、ノズルヘッド８の傾斜角度を大き
くし、副走査方向の吐出ピッチの可変幅を大きくするこ
とができる。尚、このノズルヘッド保持装置７を着脱可
能ではなく、液滴ジェットパターニング装置１に一体的
に設けることもできる。The four-bar parallel link mechanism 49 itself can be constructed with high precision, and the nozzle head 8 can be easily mounted on the four-bar parallel link mechanism 49 with high precision.
It is possible to realize the highly accurate nozzle head holding device 7 in which the manufacturing error is minimized. Since the four-section parallel link mechanism 49 is tilted and rotated, the tilt angle of the nozzle head 8 can be increased and the variable width of the ejection pitch in the sub-scanning direction can be increased. It should be noted that the nozzle head holding device 7 is not removable and may be provided integrally with the droplet jet patterning device 1.
【０１３６】４節平行リンク機構４９の１対の第２リン
ク部材５７Ａ，５７Ｂの途中部に設けられ且つ回動可能
に支持される１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂを設けたた
め、１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂの軸心を結ぶ面上に
ノズルヘッド８の基準ノズル（例えば、No.1ノズル）を
位置させた構造にすることが可能となる。その場合、ノ
ズルヘッド８が傾斜回動しても、基準ノズルの位置（主
走査方向と副走査方向の位置）が変化しないため、ガラ
ス基板４とノズルヘッド８とを相対移動させる為の記録
用駆動データを作成するデータ処理が簡単になるうえ、
パターン形成の精度を高め易くなる。Since the pair of rotation fulcrums 50A and 50B, which are rotatably supported and are provided in the middle of the pair of second link members 57A and 57B of the four-bar parallel link mechanism 49, are provided. It is possible to have a structure in which the reference nozzle (for example, No. 1 nozzle) of the nozzle head 8 is located on the surface connecting the axes of the rotation fulcrums 50A and 50B. In that case, the position of the reference nozzle (the position in the main scanning direction and the position in the sub scanning direction) does not change even if the nozzle head 8 tilts and rotates, and therefore, the recording for moving the glass substrate 4 and the nozzle head 8 relatively. In addition to simplifying data processing to create driving data,
It becomes easy to improve the accuracy of pattern formation.
【０１３７】複数のノズルヘッド８R,８G,８B を主走査
方向に所定間隔おきに配設するので、これらノズルヘッ
ド８R,８G,８B を副走査方向に対して傾斜させて副走査
方向の吐出ピッチを所望の値に設定してパターンを記録
でき、カラーフィルターや有機カラーＥＬディスプレイ
のＥＬ基板の製作に適用可能となる。しかも、これらノ
ズルヘッド８はＥＬ発光層を吐出形成する為の複数色用
の液滴を夫々吐出するノズルヘッドを含むことから、ス
ループットを高めることができ、フルカラー用のＥＬ基
板を製作可能となる。しかも、ノズルヘッド保持装置７
を用いてそのノズルヘッド８から正孔輸送層を吐出記録
することも可能である。尚、技術の発展により１つの液
滴内に正孔輸送成分とＥＬ発光成分を混在させ、単一層
のみで発光し得るようになれば、正孔輸送層を形成する
必要はない。Since the plurality of nozzle heads 8R, 8G, 8B are arranged at predetermined intervals in the main scanning direction, these nozzle heads 8R, 8G, 8B are inclined with respect to the sub-scanning direction and the ejection pitch in the sub-scanning direction is set. Can be set to a desired value to record a pattern, and can be applied to the production of color filters and EL substrates for organic color EL displays. Moreover, since these nozzle heads 8 include nozzle heads for respectively ejecting liquid droplets for a plurality of colors for ejecting and forming the EL light emitting layer, the throughput can be increased and a full-color EL substrate can be manufactured. . Moreover, the nozzle head holding device 7
It is also possible to discharge and record the hole transport layer from the nozzle head 8 using. Incidentally, if the hole transporting component and the EL light emitting component are mixed in one droplet by the development of the technology so that light emission can be achieved by only a single layer, it is not necessary to form the hole transporting layer.
【０１３８】ノズルヘッド保持装置７をヘッド組取付台
２５に着脱可能に装着するので、ノズルヘッド保持装置
７の着脱を簡単に行うことができ、ノズルヘッド８の修
理や交換を簡単に行うことができる。４節平行リンク機
構４９の１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂに作用し４節平
行リンク機構４９を傾斜回動させる回動駆動機構８０を
設け、エンコーダ８１を前記のように設けたので、副走
査方向の吐出ピッチを小さく調整する際に、迅速に自動
的に精度よく傾斜回動させることができる。ガラス基板
４を基板受台２１に載置保持し、媒体保持移動装置５に
よりガラス基板４とノズルヘッド８との間に主走査方向
と副走査方向とに夫々相対移動させつつパターン形成を
行うことができる。Since the nozzle head holding device 7 is detachably attached to the head assembly mount 25, the nozzle head holding device 7 can be easily attached and detached, and the nozzle head 8 can be easily repaired or replaced. it can. Since the rotary drive mechanism 80 that acts on the pair of rotary fulcrums 50A and 50B of the four-node parallel link mechanism 49 to tilt and rotate the four-node parallel link mechanism 49 is provided, and the encoder 81 is provided as described above, When adjusting the ejection pitch in the scanning direction to be small, the tilt rotation can be swiftly and automatically and accurately performed. The glass substrate 4 is placed and held on the substrate pedestal 21, and a pattern is formed while the medium holding and moving device 5 relatively moves the glass substrate 4 and the nozzle head 8 in the main scanning direction and the sub scanning direction, respectively. You can
【０１３９】傾斜角度検出用エンコーダ８１と、傾斜回
動量制御手段としての制御装置１３を設けたので、４節
平行リンク機構４９の１対の第２リンク部材５７Ａ，５
７Ｂと複数のノズルヘッド８を傾斜回動させる際に、精
度よく傾斜回動させることができる。１対の回動支点５
０Ａ，５０Ｂのうちの何れか一方において第２リンク部
材５７Ａ，５７Ｂに連結されて第２リンク部材５７Ａ，
５７Ｂを回動させる回動用アクチュエータとしての減速
機付きモータ８２を設けたので、簡単な構成でもって第
２リンク部材５７Ａ，５７Ｂを、つまり４節平行リンク
機構４９を傾斜回動させることができる。Since the inclination angle detecting encoder 81 and the control device 13 as the inclination rotation amount control means are provided, the pair of second link members 57A, 5 of the four-bar parallel link mechanism 49 is provided.
7B and the plurality of nozzle heads 8 can be tilted and rotated with high accuracy. A pair of pivots 5
The first link member 57A, 57B is connected to the second link member 57A, 57B at any one of 0A, 50B.
Since the motor 82 with a speed reducer is provided as a rotation actuator for rotating 57B, the second link members 57A and 57B, that is, the four-bar parallel link mechanism 49 can be tilted and rotated with a simple configuration.
【０１４０】複数のノズルヘッド８のうちの基準ノズル
ヘッド８R 以外のノズルヘッド８G,8Bは、案内機構５２
Ａ，５２Ｂにより１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂ
に対して副走査方向に移動可能に案内され、この案内機
構５２Ａ，５２Ｂの案内によりノズルヘッド８G,８B を
副走査方向へ移動させる為の移動機構５３Ａ，５３Ｂを
設けてあるので、ノズルヘッド８G,８B の傾斜角度に関
係なしに、ノズルヘッド８G,８B を副走査方向へのみ微
動させてノズルヘッド８G,８B の副走査方向の位置を微
調節することができる。The nozzle heads 8G and 8B other than the reference nozzle head 8R among the plurality of nozzle heads 8 are provided with the guide mechanism 52.
A pair of first link members 56A and 56B by A and 52B
The nozzle heads 8G are provided so as to be movable in the sub-scanning direction, and the moving mechanisms 53A and 53B are provided to move the nozzle heads 8G and 8B in the sub-scanning direction by the guide mechanisms 52A and 52B. It is possible to finely adjust the positions of the nozzle heads 8G and 8B in the sub-scanning direction by finely moving the nozzle heads 8G and 8B only in the sub-scanning direction, regardless of the inclination angles of the nozzle heads 8 and 8B.
【０１４１】この微調節の際に、ノズルヘッド８が仮に
副走査方向に対して傾斜回動した状態であっても、ノズ
ルヘッド８は副走査方向へのみ移動し主走査方向へは移
動しないため、ノズルヘッド８の副走査方向の位置を精
度よく微調節することができる。例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの
３つの記録ドットからなる画素の配置形態に応じて、ノ
ズルヘッド８R に対して、ノズルヘッド８G やノズルヘ
ッド８B の副走査方向の位置を微調節する際に、精度よ
く能率的に自動的に微調節することができる。At the time of this fine adjustment, even if the nozzle head 8 is tilted and rotated with respect to the sub scanning direction, the nozzle head 8 moves only in the sub scanning direction and does not move in the main scanning direction. The position of the nozzle head 8 in the sub scanning direction can be finely adjusted with high accuracy. For example, when finely adjusting the positions of the nozzle head 8G and the nozzle head 8B in the sub-scanning direction with respect to the nozzle head 8R according to the arrangement form of pixels composed of three recording dots of R, G, and B It can be fine-tuned automatically and efficiently.
【０１４２】案内機構５２Ａ，５２Ｂがノズルヘッド８
の両端部に取付けられた１対のローラ部材102 と、各ロ
ーラ部材102 を当接させて副走査方向に案内するように
凹部103 に形成された案内面104 とを有するため、ノズ
ルヘッド８が傾斜回動した姿勢であっても、１対のロー
ラ部材102 と案内面104 を介して、ノズルヘッド８を副
走査方向へのみ微動させることができる。また、ノズル
ヘッド８の傾斜角の大小によらず、１対のローラ部材10
2 は、１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに対して夫
々一定の部位に位置しているため、移動機構５３Ａ，５
３Ｂを第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂの一定の部位に装
備でき、この移動機構５３Ａ，５３Ｂを駆動するアクチ
ュエータを外部に設け、ノズルヘッド８の副走査方向へ
の微調節を自動化することもできる。The guide mechanisms 52A and 52B are the nozzle head 8
Since the nozzle head 8 has a pair of roller members 102 attached to both ends of the nozzle and a guide surface 104 formed in the recess 103 so as to abut the roller members 102 and guide them in the sub-scanning direction. Even in the inclined and rotated posture, the nozzle head 8 can be finely moved only in the sub-scanning direction via the pair of roller members 102 and the guide surface 104. In addition, regardless of the size of the inclination angle of the nozzle head 8, the pair of roller members 10
2 is located at a fixed portion with respect to the pair of first link members 56A and 56B, respectively, so that the moving mechanisms 53A and 5B
3B can be mounted on a certain portion of the first link members 56A, 56B, and an actuator for driving the moving mechanisms 53A, 53B can be provided outside to automate fine adjustment of the nozzle head 8 in the sub-scanning direction.
【０１４３】ノズルヘッド８の両端部が圧縮コイルバネ
110 の付勢力で１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに
形成した凹部103 の底面に面接触しているから、ノズル
ヘッド８の鉛直方向の高さ位置の誤差を小さくして、ガ
ラス基板４に対するノズルヘッド８の高さ位置を精密に
設定し、吐出記録の性能を高めることができる。Both ends of the nozzle head 8 are compression coil springs.
Since the urging force of 110 makes surface contact with the bottom surface of the recess 103 formed in the pair of first link members 56A and 56B, the error in the vertical position of the nozzle head 8 can be reduced, and the glass substrate 4 It is possible to precisely set the height position of the nozzle head 8 with respect to the nozzle head 8 to improve the performance of ejection recording.
【０１４４】１Ｆ（下側）のパターニングルーム１５に
パターン処理ステージを配置し、２Ｆ（上側）のメンテ
ナンスルーム１６に検査調整ステージ４４を配置し、ヘ
ッド部４３をＺ軸スライド機構６で両ステージにわたっ
て昇降可能であるので、例えば、パターン形成の処理停
止中などのアイドル期間の間に、ヘッド部４３を上昇さ
せて検査調整ステージ４４において複数のノズル５５か
らの液滴の吐出状態を検査することができる。その検査
後に直ちに、ヘッド部４３をパターン処理ステージに下
降させてパターン形成を行うことができる。こうして、
パターン形成処理工程における、処理停止中に複数のノ
ズル５５の吐出状態を検査可能であるから、不良品の発
生を低減でき、装置の稼働率を高めることができる。両
ステージを空間的に上下に配置するため、装置のコンパ
クト化を図ることができる。A pattern processing stage is arranged in the patterning room 15 on the 1F (lower side), an inspection adjustment stage 44 is arranged in the maintenance room 16 on the 2F (upper side), and the head section 43 is spread over both stages by the Z-axis slide mechanism 6. Since it can be raised and lowered, for example, during the idle period such as when the pattern formation process is stopped, the head unit 43 can be raised to inspect the ejection state of droplets from the plurality of nozzles 55 in the inspection adjustment stage 44. it can. Immediately after the inspection, the head portion 43 can be lowered to the pattern processing stage to form a pattern. Thus
Since it is possible to inspect the ejection states of the plurality of nozzles 55 during the process stop in the pattern formation processing step, it is possible to reduce the occurrence of defective products and increase the operation rate of the apparatus. Since both stages are spatially arranged vertically, the device can be made compact.
【０１４５】ガラス基板４を主走査方向と副走査方向に
夫々移動させる媒体送り機構２４を設けたので、パター
ン形成の為にヘッド部４３を水平方向へ移動させる必要
がない。そのため、検査調整ステージ４４に複数のノズ
ル５５の吐出状態を検査する吐出検査機構121 を設けて
おくだけで、Ｚ軸スライド機構６によるヘッド部４３の
昇降を介して、パターン形成と、吐出検査とを能率的に
行うことができる。吐出検査機構121 がＣＣＤカメラ14
2 とストロボ投光器143 を有するため、複数のノズル５
５から吐出された液滴を撮影し、画像データをデータ処
理して判定することにより吐出の良否を簡単に判定でき
る。ガラス基板４へパターン形成するパターン形成処理
工程におけるガラス基板搬送及び、自動アライメント期
間中に、吐出検査機構121 による検査を実行可能に構成
したので、不良品の発生を低減させ、装置の稼働率を高
めることができる。Since the medium feeding mechanism 24 for moving the glass substrate 4 in the main scanning direction and the sub scanning direction respectively is provided, it is not necessary to move the head portion 43 in the horizontal direction for pattern formation. Therefore, by only providing the ejection adjustment mechanism 121 for inspecting the ejection states of the plurality of nozzles 55 on the inspection adjustment stage 44, the pattern formation and the ejection inspection can be performed through the elevation of the head portion 43 by the Z-axis slide mechanism 6. Can be done efficiently. The discharge inspection mechanism 121 is the CCD camera 14
2 and the strobe light projector 143, the plurality of nozzles 5
The quality of the ejection can be easily determined by photographing the droplets ejected from No. 5 and processing the image data to make a determination. Since the inspection by the ejection inspection mechanism 121 can be executed during the glass substrate transportation and the automatic alignment period in the pattern formation processing step of forming a pattern on the glass substrate 4, the occurrence of defective products is reduced and the operation rate of the apparatus is improved. Can be increased.
【０１４６】Ｙ方向移動駆動機構140a,140b と撮影ポジ
ション切換え機構141a,141b を設け、ＣＣＤカメラ142
とストロボ投光器143 を主走査方向と副走査方向に夫々
移動可能に構成したので、複数のノズルヘッド８の各々
の複数のノズル５５からの吐出を順次確実に実行するこ
とができる。ＣＣＤカメラ142 で撮影した画像信号を受
けて画像処理によりノズルヘッド８からの液滴の吐出の
良否を判定する前記検査用画像処理手段を設けたため、
吐出検査を自動的に能率的に行うことができる。The Y direction movement drive mechanisms 140a and 140b and the photographing position switching mechanisms 141a and 141b are provided, and the CCD camera 142
Since the strobe light projector 143 is configured to be movable in the main scanning direction and the sub-scanning direction, the ejection from the plurality of nozzles 55 of each of the plurality of nozzle heads 8 can be sequentially and reliably executed. Since the inspection image processing means for determining whether the ejection of the droplets from the nozzle head 8 is good or bad is provided by the image processing by receiving the image signal photographed by the CCD camera 142,
Discharge inspection can be performed automatically and efficiently.
【０１４７】ノズルヘッド８を傾斜回動させる際に、基
準ノズル８R の軸心又はその近傍の軸心の回りに回動さ
せるため、基準ノズル８R の副走査方向と主走査方向の
位置は変化しない又は変化するにしても微小量変化する
だけであるから、記録用駆動データを作成するデータ処
理が簡単化し、吐出記録の為の制御が簡単化し、パター
ン形成の精度も高めることができる。When the nozzle head 8 is tilted and rotated, it is rotated around the axis of the reference nozzle 8R or an axis in the vicinity thereof, so that the position of the reference nozzle 8R in the sub-scanning direction and the main scanning direction does not change. Or, even if it changes, only a minute amount changes, so that the data processing for creating the recording drive data is simplified, the control for discharge recording is simplified, and the accuracy of pattern formation can be improved.
【０１４８】ノズルヘッド８を０〜６０度の範囲で傾斜
回動できるため、ノズルピッチをＰとし傾斜回動角をθ
として、副走査方向の吐出ピッチＰ×ｃｏｓθをＰ〜0.
5 Ｐの範囲で変えることができ、副走査方向の吐出ピッ
チの可変幅が大きくなり、副走査方向の解像度をＰ〜0.
5 Ｐの範囲で無段階的（連続的）に設定することができ
る。しかも、４節平行リンク機構４９を有する前記回動
機構と、回動駆動機構８０と、この回動駆動機構８０に
よるノズルヘッド８の回動角を制御する回動制御手段と
を設けたので、手動操作ではなく、自動的にノズルヘッ
ド８を傾斜回動させることができるから、ノズルヘッド
８の傾斜回動角の設定を迅速に精度よく行うことができ
る。Since the nozzle head 8 can be tilted and rotated in the range of 0 to 60 degrees, the nozzle pitch is P and the tilted rotation angle is θ.
, The ejection pitch P × cos θ in the sub-scanning direction is P to 0.
It can be changed in the range of 5 P, the variable width of the ejection pitch in the sub-scanning direction becomes large, and the resolution in the sub-scanning direction is P to 0.
It can be set steplessly (continuously) within the range of 5 P. Moreover, since the rotation mechanism having the four-bar parallel link mechanism 49, the rotation drive mechanism 80, and the rotation control means for controlling the rotation angle of the nozzle head 8 by the rotation drive mechanism 80 are provided, Since the nozzle head 8 can be automatically tilted and rotated instead of being manually operated, the tilted rotation angle of the nozzle head 8 can be set quickly and accurately.
【０１４９】ガラス基板４とノズルヘッド８を副走査方
向に相対移動する媒体送り機構２４と、副走査方向の相
対移動をインターレース方式で行う為に吐出解像度に基
づいて副走査方向送り量の制御を行うホスト制御ユニッ
ト１７３を設けたので、副走査方向の吐出ピッチが吐出
解像度に応じたピッチとなるように、副走査方向の送り
量を自動的に設定し、ガラス基板４とノズルヘッド８を
副走査方向に自動的に相対移動させることができる。The medium feed mechanism 24 for relatively moving the glass substrate 4 and the nozzle head 8 in the sub-scanning direction, and the relative movement in the sub-scanning direction are interlaced so that the feed amount in the sub-scanning direction is controlled based on the ejection resolution. Since the host control unit 173 is provided, the feed amount in the sub-scanning direction is automatically set so that the ejection pitch in the sub-scanning direction becomes a pitch according to the ejection resolution, and the glass substrate 4 and the nozzle head 8 are sub-selected. The relative movement can be automatically performed in the scanning direction.
【０１５０】４節平行リンク機構４９を設け、ノズルヘ
ッド８の両端部を１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂ
に回動可能に連結したので、ノズルヘッド８を０〜６０
度の範囲で確実に傾斜回動させることができる。しか
も、４節平行リンク機構４９自体は製作誤差が僅少の高
精度のものに構成できるうえ、ノズルヘッド８の両端部
を１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに回動可能に連
結してあるので、ノズルヘッド８の組み付け精度と、傾
斜回動時の位置決め精度を高く維持でき、パターン形成
の精度を高く維持することができる。A four-bar parallel link mechanism 49 is provided, and both ends of the nozzle head 8 are paired with a pair of first link members 56A, 56B.
Since it is rotatably connected to the nozzle head 8,
It is possible to surely tilt and rotate within a range of degrees. In addition, the four-bar parallel link mechanism 49 itself can be constructed with high precision with little manufacturing error, and both ends of the nozzle head 8 are rotatably connected to the pair of first link members 56A and 56B. Therefore, the assembling accuracy of the nozzle head 8 and the positioning accuracy at the time of tilt rotation can be maintained high, and the accuracy of pattern formation can be maintained high.
【０１５１】この液滴ジェットパターニング装置１の製
作段階において、予め多数のノズルヘッド８が製作して
準備され、それらノズルヘッド８のノズルピッチ誤差を
複数段階にランク付けしておき、４節平行リンク機構４
９に装着する複数のノズルヘッド８をノズルピッチ誤差
が同ランクのノズルヘッド８で構成するため、複数のノ
ズルヘッド８におけるノズルピッチ誤差が近似した値と
なる。ノズルピッチ誤差が正の値の場合は、ノズルヘッ
ド８の傾斜回動角度を大きく調整することでノズルピッ
チ誤差を補正することができ、ノズルピッチ誤差が負の
値の場合は、ノズルヘッド８の傾斜回動角度を小さく調
整することでノズルピッチ誤差を補正することができ
る。こうして、パターン形成の精度を格段に高めること
ができる。In the production stage of the droplet jet patterning apparatus 1, a large number of nozzle heads 8 are produced and prepared in advance, and the nozzle pitch errors of the nozzle heads 8 are ranked in a plurality of stages, and the four-section parallel link is used. Mechanism 4
Since the plurality of nozzle heads 8 mounted on the nozzle heads 9 are configured with the nozzle heads 8 having the same nozzle pitch error, the nozzle pitch errors in the plurality of nozzle heads 8 are approximate values. When the nozzle pitch error has a positive value, the nozzle pitch error can be corrected by greatly adjusting the tilt rotation angle of the nozzle head 8, and when the nozzle pitch error has a negative value, the nozzle head 8 The nozzle pitch error can be corrected by adjusting the tilt rotation angle to be small. In this way, the accuracy of pattern formation can be significantly improved.
【０１５２】前記ホスト制御ユニット１７３は、指定さ
れた又は演算にて求めた傾斜回動角だけ４節平行リンク
機構４９を介してノズルヘッド８を回動させる際に、４
節平行リンク機構４９に装着された複数のノズルヘッド
８のピッチ誤差ランクにおけるノズルピッチ誤差に基づ
いて回動角に補正を施すので、複数のノズルヘッド８の
ピッチ誤差ランクにおけるノズルピッチ誤差に応じて傾
斜回動角を補正し、ノズルピッチ誤差に起因する吐出記
録の誤差を殆ど解消させて、パターン形成の精度を高め
ることができる。しかも、複数のノズルヘッド８のピッ
チ誤差ランクにおけるノズルピッチ誤差中心値に基づい
て傾斜回動角に補正を施すので、ノズルヘッド８の傾斜
回動角を補正する補正の精度を高めることができる。When the nozzle control unit 173 rotates the nozzle head 8 through the four-bar parallel link mechanism 49 by the designated or calculated tilt rotation angle,
Since the rotation angle is corrected based on the nozzle pitch error in the pitch error ranks of the plurality of nozzle heads 8 mounted on the joint parallel link mechanism 49, the rotation angle is corrected according to the nozzle pitch error in the pitch error ranks of the plurality of nozzle heads 8. It is possible to correct the tilt rotation angle, eliminate most of the error in the ejection recording due to the nozzle pitch error, and improve the accuracy of pattern formation. Moreover, since the tilt rotation angle is corrected based on the nozzle pitch error center values in the pitch error ranks of the plurality of nozzle heads 8, the accuracy of correction for correcting the tilt rotation angle of the nozzle head 8 can be increased.
【０１５３】パターン形成を行う空間の上方をほぼ水平
な仕切り板１４により上下にほぼ遮断された構造にし、
その仕切り板１４にヘッド部４３が通過可能な開口部１
４ａを形成し、Ｚ軸スライド機構６によりヘッド部４３
を開口部１４ａを通して昇降可能にし、ヘッド部４３を
下降位置ＤＰにしてガラス基板４に吐出記録を行うよう
に構成し、ヘッド部４３を上昇位置ＵＰにして、仕切り
板１４の上方の空間においてヘッド部４３に吐出検査な
どを施すことができるので、液滴ジェットパターニング
装置１の内部の空間の利用効率を高めて、装置の小型化
を図ることができ、設備コスト的に有利になる。しか
も、仕切り板１４で上下に略遮断された構造になってい
るので、仕切り板１４よりも上方に何らかの可動部材を
配置して移動させたとしても、基板受台２１に保持した
ガラス基板４上に埃や塵などの異物が落下してくること
がなく、不良品の発生を防止することができる。The upper part of the space for forming the pattern has a structure in which the partition plate 14 which is substantially horizontal vertically shields the space.
The opening 1 through which the head portion 43 can pass through the partition plate 14.
4a, and the head part 43 is formed by the Z-axis slide mechanism 6.
Is configured to move up and down through the opening 14a, the head portion 43 is set to the lowered position DP to perform discharge recording on the glass substrate 4, the head portion 43 is set to the raised position UP, and the head is placed in the space above the partition plate 14. Since the ejection inspection or the like can be performed on the portion 43, the utilization efficiency of the space inside the droplet jet patterning device 1 can be improved, and the device can be downsized, which is advantageous in terms of equipment cost. Moreover, since the partition plate 14 has a structure in which the partition plate 14 is substantially vertically blocked, even if some movable member is arranged above the partition plate 14 and moved, the glass substrate 4 held on the substrate pedestal 21 is not moved. It is possible to prevent the generation of defective products without foreign matter such as dust or dust falling down.
【０１５４】仕切り板１４の上方に検査調整装置９を設
け、Ｚ軸スライド機構６により上昇位置ＵＰに配置され
たヘッド部４３のノズルヘッド８をこの検査調整装置９
で検査・維持する構成にしたので、ガラス基板４を搬出
入する間、ガラス基板４を基板受台２１にセットする間
などの吐出記録停止中に、ヘッド部４３をＺ軸スライド
機構６により上昇位置ＵＰにして、仕切り板１４の上方
に設けられた検査調整装置９によりヘッド部４３のノズ
ルヘッド８を検査・維持することができる。パターン形
成を行う空間の上方の空間に検査調整装置９を設け、パ
ターン形成における吐出記録停止中に、ヘッド部４３の
ノズルヘッド８の検査・維持を行うことができるため、
液滴ジェットパターニング装置１の稼働率を高めること
もできる。An inspection adjusting device 9 is provided above the partition plate 14, and the nozzle head 8 of the head portion 43 arranged at the raised position UP by the Z-axis slide mechanism 6 is installed in the inspection adjusting device 9.
The head unit 43 is raised by the Z-axis slide mechanism 6 while the ejection recording is stopped, for example, while the glass substrate 4 is being carried in and out, and the glass substrate 4 is being set on the substrate holder 21. The nozzle head 8 of the head portion 43 can be inspected / maintained by the inspection adjusting device 9 provided above the partition plate 14 at the position UP. Since the inspection adjustment device 9 is provided in the space above the space for pattern formation, the nozzle head 8 of the head portion 43 can be inspected and maintained while the ejection recording in pattern formation is stopped.
The operating rate of the droplet jet patterning device 1 can also be increased.
【０１５５】基板受台２１にガラス基板４を主走査方向
と副走査方向に夫々独立に移動可能な媒体送り機構２４
を設けたため、吐出記録の際に、ヘッド部４３を主走査
方向にも副走査方向にも移動させる必要がない。そのた
め、ヘッド部４３をＺ軸スライド機構６により昇降させ
る構成が簡単なものになるうえ、Ｚ軸スライド機構６で
ヘッド部４３を昇降させて仕切り板１４の下方の空間と
上方の空間とにわたって位置切換え可能にすることがで
きる。A medium feeding mechanism 24 capable of independently moving the glass substrate 4 on the substrate pedestal 21 in the main scanning direction and the sub-scanning direction.
Since the ink jet recording is provided, it is not necessary to move the head portion 43 in both the main scanning direction and the sub scanning direction during the ejection recording. Therefore, the structure for raising and lowering the head portion 43 by the Z-axis slide mechanism 6 becomes simple, and the head portion 43 is raised and lowered by the Z-axis slide mechanism 6 so that the head portion 43 is positioned over the space below the partition plate 14 and the space above it. It can be switchable.
【０１５６】仕切り板１４上に、ガラス基板４を原点位
置に設定する際にガラス基板４の位置を検出する為の複
数のＣＣＤカメラ３２ａ〜３２ｄを設けたので、基板受
台２１に保持したガラス基板４の位置を検出し、その検
出結果に基いてガラス基板４を原点位置に精度よく設定
することができる。液面位置維持機構166 、液容器昇降
機構163 、ケーシング168 、スリーブ171、圧縮コイル
バネ170 、軸状部材169 を介して、液容器152 内の液面
の基準高さ位置に維持し、この基準高さ位置をノズルヘ
ッド８の高さ位置に対して所定の位置関係に設定するた
め、ノズルヘッド８の複数のノズル５５から液滴を確実
に安定的に吐出させることができる。Since a plurality of CCD cameras 32a to 32d for detecting the position of the glass substrate 4 when the glass substrate 4 is set at the origin position are provided on the partition plate 14, the glass held on the substrate pedestal 21. It is possible to detect the position of the substrate 4 and accurately set the glass substrate 4 at the origin position based on the detection result. The liquid surface position maintaining mechanism 166, the liquid container elevating mechanism 163, the casing 168, the sleeve 171, the compression coil spring 170, and the shaft member 169 are used to maintain the liquid surface in the liquid container 152 at the reference height position. Since the height position is set to have a predetermined positional relationship with the height position of the nozzle head 8, it is possible to reliably and stably eject liquid droplets from the plurality of nozzles 55 of the nozzle head 8.
【０１５７】しかも、液面維持手段としてのケーシング
168 、スリーブ171 、圧縮コイルバネ170 、軸状部材16
9 を介して液消費に追従して液容器152 内の液面を基準
高さ位置に維持するため、液面センサを設ける必要がな
く、簡単な構成のものとすることができる。また、液面
の基準高さ位置をノズルヘッド８の高さ位置に対して所
定の位置関係に設定するため、ノズルヘッド８を昇降さ
せるような場合にも、ノズルヘッド８から液が漏出した
り、ノズルヘッド８内の液が逆流したりするのを、確実
に防止することができるうえ、ノズルヘッド８から確実
に安定的に液滴を吐出させてパターンを形成することが
できる。Moreover, the casing as the liquid level maintaining means.
168, sleeve 171, compression coil spring 170, shaft member 16
Since the liquid level in the liquid container 152 is maintained at the reference height position by following the liquid consumption via the liquid level sensor 9, it is not necessary to provide a liquid level sensor, and the structure can be simplified. Further, since the reference height position of the liquid surface is set to have a predetermined positional relationship with the height position of the nozzle head 8, the liquid may leak from the nozzle head 8 even when the nozzle head 8 is moved up and down. It is possible to reliably prevent the liquid in the nozzle head 8 from flowing backward, and it is also possible to reliably and stably eject droplets from the nozzle head 8 to form a pattern.
【０１５８】ノズルヘッド８をパターン形成を行う使用
位置と不使用位置とにわたって昇降させることができ、
この昇降時にも、ノズルヘッド８における液圧は安定し
た液圧に維持することができる。可動フレーム162 と液
容器152 との間に配設され且つ液容器152 を弾性支持す
る弾性支持手段と、この弾性支持手段を介して液容器15
2 内の液面の高さを基準高さ位置に維持する液面位置維
持機構166 を設けたため、液の消費に追従して液面の高
さが基準高さ位置に維持されるため、ノズルヘッド８内
の液圧を安定させ、液滴の吐出を安定させることができ
る。The nozzle head 8 can be raised and lowered between a used position for pattern formation and an unused position.
Even during this lifting and lowering, the hydraulic pressure in the nozzle head 8 can be maintained at a stable hydraulic pressure. An elastic support means arranged between the movable frame 162 and the liquid container 152 and elastically supporting the liquid container 152, and the liquid container 15 via the elastic support means.
Since the liquid level position maintaining mechanism 166 for maintaining the liquid level in 2 at the reference height position is provided, the liquid level is maintained at the reference height position in accordance with the consumption of the liquid. The liquid pressure in the head 8 can be stabilized and the ejection of droplets can be stabilized.
【０１５９】液容器昇降機構163 を設けたため、Ｚ軸ス
ライド機構６によりヘッド部４３を昇降させる場合に
も、ノズルヘッド８における液圧を一定圧に維持でき
る。しかも、液面位置維持機構166 を設けたため、各液
容器152 における液の消費に起因する液面の変動が生じ
ないように補正することができ、液消費に伴うノズルヘ
ッド８における液圧の変動を防止し、液滴の吐出を安定
させることができる。液面位置維持機構166 は、弾性部
材としての圧縮コイルバネ170 により液容器152 内の液
体の重量が軽くなった際に、軽くなった分圧縮コイルバ
ネ170 の付勢力により液保持台165 を押し上げて液面を
一定高さ位置に簡単に補正することができる。Since the liquid container elevating mechanism 163 is provided, the liquid pressure in the nozzle head 8 can be maintained at a constant pressure even when the head portion 43 is moved up and down by the Z-axis slide mechanism 6. Moreover, since the liquid surface position maintaining mechanism 166 is provided, it is possible to perform correction so that the liquid surface does not fluctuate due to the liquid consumption in each liquid container 152, and the fluctuation of the liquid pressure in the nozzle head 8 due to the liquid consumption. It is possible to prevent the above and stabilize the discharge of the liquid droplets. When the weight of the liquid in the liquid container 152 is reduced by the compression coil spring 170 as an elastic member, the liquid level position maintaining mechanism 166 pushes up the liquid holding table 165 by the urging force of the compression coil spring 170. The surface can be easily corrected to a constant height position.
【０１６０】また、ノズルヘッド８はヘッドホルダ５１
に一体化されており、その両端と１対の第１リンク部材
５６Ａ，５６Ｂとを回動可能且つ分離可能に連結される
ための連結ピンを、ヘッドホルダ５１の両端に突設し、
その連結ピンはノズルヘッドのヘッド面に直交する方向
に延びるようにしたヘッド体（ノズルヘッドとヘッドホ
ルダの結合体）を採用した構成であるので、ヘッド体の
構成が簡単である。連結ピンとしてはローラ部材１０２
が対応し、ローラ部材は回動可能である。これはヘッド
体の傾斜回動及び副走査方向への移動が滑らかに行われ
る点から好ましい。しかし、連結ピンは回転可能なロー
ラ部材ではなくてもヘッド体としては機能する。このヘ
ッド体は第１リンク部材に付勢手段（圧縮コイルバネ１
１０）により付勢されているので、ノズルヘッドの上下
位置が第１リンク部材に対して固定保持される。The nozzle head 8 has a head holder 51.
Connection pins that are integrated with each other and that are rotatable and separably connected to both ends thereof and the pair of first link members 56A and 56B are projectingly provided at both ends of the head holder 51.
Since the connecting pin adopts a head body (a combined body of the nozzle head and the head holder) that extends in a direction orthogonal to the head surface of the nozzle head, the structure of the head body is simple. The roller member 102 is used as the connecting pin.
The roller member is rotatable. This is preferable because the head body can be smoothly tilted and moved in the sub-scanning direction. However, the connecting pin functions as a head body even if it is not a rotatable roller member. The head body is provided with a biasing means (compression coil spring 1) for the first link member.
Since it is urged by 10), the vertical position of the nozzle head is fixed and held with respect to the first link member.
【０１６１】このように、ノズルヘッドを備えた複数の
ヘッド体は、その両端部で４節平行リンク機構４９の第
１リンク部材５６Ａ，５６Ｂに回動可能且つ着脱可能に
取着されて複数のヘッド体からなるヘッドユニットが構
成されている。このヘッドユニットが液滴ジェットパタ
ーニング装置のヘッド組取付台に取着されているので、
被吐出媒体とヘッド体との間の距離が極めて精度よく保
たれるのである。このため、ＲＧＢの発光層を極めて高
精度に基板上に配列できる。ヘッド体と第１リンク部材
との間の可動部にガタつきが発生しないからである。従
って、従来のスクリーン印刷法による発光層の作成に比
べて、ＥＬディスプレイを簡易且つ短時間、低コストで
作成することができる。In this way, the plurality of head bodies provided with the nozzle head are rotatably and detachably attached to the first link members 56A and 56B of the four-bar parallel link mechanism 49 at both ends thereof. A head unit including a head body is configured. Since this head unit is attached to the head assembly mount of the droplet jet patterning device,
The distance between the medium to be ejected and the head body is maintained with extremely high accuracy. Therefore, the RGB light emitting layers can be arranged on the substrate with extremely high accuracy. This is because rattling does not occur in the movable portion between the head body and the first link member. Therefore, as compared with the conventional method of forming the light emitting layer by the screen printing method, the EL display can be easily produced in a short time and at low cost.
【０１６２】次に、特許請求の範囲に記載の部材や手段
に相当するものについて説明する。
パターン処理ステージ：パターニングルーム１５がパタ
ーン処理ステージに相当する。検査調整ステージ：メン
テナンスルーム１６が検査調整ステージに相当する。
ヘッド昇降手段：Ｚ軸スライド機構６がヘッド昇降手段
に相当する。
吐出検査手段：吐出検査機構121 が吐出検査手段に相当
する。
撮像機移動手段：Ｙ方向駆動機構140aと撮影ポジション
切換え機構141aとが撮像機機移動手段に相当する。
投光用移動手段：Ｙ方向駆動機構140bと撮影ポジション
切換え機構141bとが、投光用移動手段に相当する。
検査用画像処理手段：図２９と図３０に示す制御、及び
図３８〜図４１に示す制御を行う制御装置１３のホスト
制御ユニット173 が検査用画像処理手段に相当する。Next, components corresponding to the members and means described in the claims will be described. Pattern processing stage: The patterning room 15 corresponds to the pattern processing stage. Inspection adjustment stage: The maintenance room 16 corresponds to the inspection adjustment stage. Head lifting means: The Z-axis slide mechanism 6 corresponds to the head lifting means. Discharge inspection means: The discharge inspection mechanism 121 corresponds to the discharge inspection means. Imager moving means: The Y-direction drive mechanism 140a and the photographing position switching mechanism 141a correspond to the imager moving means. Projection moving means: The Y-direction drive mechanism 140b and the photographing position switching mechanism 141b correspond to the projecting moving means. Inspection image processing means: The host control unit 173 of the control device 13 that performs the control shown in FIGS. 29 and 30 and the control shown in FIGS. 38 to 41 corresponds to the inspection image processing means.
【０１６３】次に、前記実施形態を部分的に変更する例
について説明する。
１）この液滴ジェットパターニング装置１は、カラーＥ
Ｌディスプレイ用のガラス基板にドットパターンを形成
する用途以外に、カラーＬＣＤのカラーフィルタの製造
時のドットパターンの形成、大型のインクジェットプリ
ンタ、その他種々の用途の液滴ジェットパターニング装
置に適用可能である。Next, an example in which the above embodiment is partially modified will be described. 1) This droplet jet patterning device 1 has a color E
In addition to the application of forming a dot pattern on a glass substrate for an L display, it can be applied to the formation of a dot pattern at the time of manufacturing a color filter of a color LCD, a large-sized inkjet printer, and a droplet jet patterning device for various other applications. .
【０１６４】２）４節平行リンク機構４９を傾斜回動さ
せるモータ８２の出力軸を、回動支点５０Ｂのピン部材
７５に直接連結して４節平行リンク機構４９を傾斜回動
させるように構成してもよい。また、４節平行リンク機
構４９を傾斜回動させる手段として、前側の第１リンク
部材５６Ａを左方へ精密に移動駆動する手段、又は、後
側の第１リンク部材５６Ｂを右方へ精密に移動駆動する
手段を採用することも可能である。その移動駆動する手
段としては、例えば電動シリンダやソレノイドアクチュ
エータ等を適用できる。2) The output shaft of the motor 82 for tilting and rotating the four-bar parallel link mechanism 49 is directly connected to the pin member 75 of the rotary fulcrum 50B to tilt and rotate the four-bar parallel link mechanism 49. You may. Further, as means for tilting and rotating the four-bar parallel link mechanism 49, means for precisely moving and driving the first link member 56A on the front side to the left or precisely moving the first link member 56B on the rear side to the right. It is also possible to adopt a means for moving and driving. As a means for driving the movement, for example, an electric cylinder, a solenoid actuator or the like can be applied.
【０１６５】３）４節平行リンク機構４９の傾斜回動角
を検出する手段は、前記エンコーダ８１に限定されるも
のではなく、例えば、左側の回動支点５０Ａの上方に同
心状にエンコーダを設け、そのエンコーダにより第２リ
ンク部材５７Ａの回動角を検出するような構成にしても
よい。また、傾斜回動用のモータ８２として高精度のサ
ーボモータを適用し、このサーボモータのエンコーダか
らの信号に基づいて４節平行リンク機構４９の傾斜回動
角を検出する構成にしてもよい。3) The means for detecting the tilt rotation angle of the four-bar parallel link mechanism 49 is not limited to the encoder 81. For example, the encoder is provided concentrically above the left rotation fulcrum 50A. Alternatively, the encoder may detect the rotation angle of the second link member 57A. Further, a high-precision servomotor may be applied as the tilt rotation motor 82, and the tilt rotation angle of the four-bar parallel link mechanism 49 may be detected based on a signal from an encoder of the servomotor.
【０１６６】４）４節平行リンク機構４９の１対の回動
支点５０Ａ，５０Ｂは、１対の第２リンク部材５７Ａ，
５７Ｂの途中部（１対の第１リンク部材５６Ａ，５６Ｂ
の間の途中部）に設ける必要があるが、１対の回動支点
５０Ａ，５０Ｂを１対の第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂ
の副走査方向のほぼ中間部に設け、基準ノズルヘッド８
R のノズル列のほぼ中間位置の所定ノズル番号のノズル
が、１対の回動支点５０Ａ，５０Ｂの軸心を結ぶ面上に
位置するように設定することもできる。4) The pair of rotation fulcrums 50A and 50B of the four-bar parallel link mechanism 49 are composed of the pair of second link members 57A and 57A.
57B midway portion (a pair of first link members 56A, 56B
It is necessary to provide the pair of rotation fulcrums 50A and 50B to the pair of second link members 57A and 57B.
Of the reference nozzle head 8
It is also possible to set so that the nozzle of the predetermined nozzle number, which is located approximately in the middle of the R nozzle row, is located on the surface connecting the axes of the pair of rotation fulcrums 50A and 50B.
【０１６７】５）４節平行リンク機構４９の１対の回動
支点５０Ａ，５０Ｂは、第２リンク部材５７Ａ，５７Ｂ
に固定されたピン部材７５を主体として構成したが、上
基板４６側に固定した１対のピン部材を第２リンク部材
５７Ａ，５７Ｂに形成した１対の穴に摺動自在に嵌合さ
せた構成にしてもよく、その場合、第２リンク部材５７
Ａ，５７Ｂに形成した１対の穴が１対の回動支点とな
る。
６）相対移動手段としては、前記媒体送り機構２４に限
定されるものではなく、ノズルヘッドと被吐出媒体との
間にＸＹ方向（主走査方向と副走査方向）に相対移動を
発生するものであればよい。例えば、ノズルヘッド８を
主走査方向に移動し得るように構成し、基板受台２１を
副走査方向に移動し得るように構成することも可能であ
る。5) The pair of rotation fulcrums 50A and 50B of the four-bar parallel link mechanism 49 are the second link members 57A and 57B.
The pin member 75 fixed to the main board was mainly used, but the pair of pin members fixed to the upper substrate 46 side were slidably fitted in the pair of holes formed in the second link members 57A and 57B. Alternatively, the second link member 57 may be used.
A pair of holes formed in A and 57B serve as a pair of rotation fulcrums. 6) The relative moving means is not limited to the medium feeding mechanism 24, but may be a means for generating relative movement between the nozzle head and the medium to be ejected in the XY directions (main scanning direction and sub scanning direction). I wish I had it. For example, the nozzle head 8 may be configured to be movable in the main scanning direction, and the substrate support 21 may be configured to be movable in the sub scanning direction.
【０１６８】[0168]
【発明の効果】 請求項１の発明によれば、下側にパタ
ーン処理ステージを配置し、上側に検査調整ステージを
配置し、ヘッド部を昇降手段で両ステージにわたって昇
降可能であるので、例えば、パターン形成の処理停止中
などのアイドル期間の間に、ヘッド部を上昇させて検査
調整ステージにおいて複数のノズルからの液滴の吐出状
態を検査することができる。その検査後に直ちに、ヘッ
ド部をパターン処理ステージに下降させてパターン形成
を行うことができる。こうして、パターン形成処理工程
における、処理停止中に複数のノズルの吐出状態を検査
可能であるから、不良品の発生を低減でき、装置の稼働
率を高めることができる。しかも、両ステージを空間的
に上下に配置するため、装置のコンパクト化も図ること
ができる。According to the invention of claim 1, the pattern processing stage is arranged on the lower side, the inspection adjustment stage is arranged on the upper side, and the head unit can be moved up and down over both stages by the elevating means. During an idle period such as when the pattern formation process is stopped, the head unit can be raised to inspect the ejection state of droplets from a plurality of nozzles in the inspection adjustment stage. Immediately after the inspection, the head portion can be lowered to the pattern processing stage to form a pattern. In this way, in the pattern formation processing step, the ejection states of a plurality of nozzles can be inspected while the processing is stopped, so that the occurrence of defective products can be reduced and the operation rate of the apparatus can be increased. Moreover, since the two stages are spatially arranged vertically, the device can be made compact.
【０１６９】請求項２の発明によれば、被吐出媒体を主
走査方向と副走査方向に夫々移動させる媒体送り機構を
設けたので、パターン形成の為にヘッド部を水平方向へ
移動させる必要がない。そのため、検査調整ステージに
複数のノズルの吐出状態を検査する吐出検査手段を設け
ておけば、ヘッド昇降手段によるヘッド部の昇降を介し
て、パターン形成と、吐出検査とを能率的に行うことが
できる。According to the second aspect of the invention, since the medium feeding mechanism for moving the ejected medium in the main scanning direction and the sub-scanning direction respectively is provided, it is necessary to move the head portion in the horizontal direction for pattern formation. Absent. Therefore, if an ejection adjustment unit for inspecting the ejection states of a plurality of nozzles is provided on the inspection adjustment stage, pattern formation and ejection inspection can be performed efficiently through the elevation of the head unit by the head elevating unit. it can.
【０１７０】請求項３の発明によれば、吐出検査手段が
撮像手段と投光手段を有するため、複数のノズルから吐
出された液滴を撮影し、画像データをデータ処理して判
定することにより吐出の良否を簡単に判定できる。請求
項４の発明によれば、不良品の発生を低減させ、装置の
稼働率を高めることができる。According to the third aspect of the present invention, since the ejection inspection means has the image pickup means and the light projecting means, the droplets ejected from the plurality of nozzles are photographed, and the image data is subjected to data processing for determination. Ejection quality can be easily determined. According to the invention of claim 4, it is possible to reduce the occurrence of defective products and increase the operation rate of the apparatus.
【０１７１】請求項５の発明によれば、撮像機移動手段
と投光手段移動手段を設け、撮像手段と投光手段を主走
査方向と副走査方向に夫々移動可能に構成したので、複
数のノズルヘッドの各々の複数のノズルからの吐出を順
次確実に実行することができる。請求項６の発明によれ
ば、撮像手段で撮影した画像信号を受けて画像処理によ
りノズルヘッドからの液滴の吐出の良否を判定する検査
用画像処理手段を設けたため、吐出検査を自動的に能率
的に行うことができる。According to the invention of claim 5, the image pickup device moving means and the light projecting means moving means are provided, and the image pickup means and the light projecting means are movable in the main scanning direction and the sub scanning direction, respectively. The ejection from the plurality of nozzles of each nozzle head can be sequentially and reliably executed. According to the invention of claim 6, since the image processing means for inspection for judging the quality of the ejection of the droplet from the nozzle head by the image processing by receiving the image signal photographed by the imaging means is provided, the ejection inspection is automatically performed. Can be done efficiently.
【図１】本発明の実施形態の液滴ジェットパターニング
装置の正面図である。FIG. 1 is a front view of a droplet jet patterning device according to an embodiment of the present invention.
【図２】液滴ジェットパターニング装置の平面図であ
る。FIG. 2 is a plan view of a droplet jet patterning device.
【図３】検査調整ステージの要部拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of a main part of the inspection adjustment stage.
【図４】液滴ジェットパターニング装置の要部拡大正面
図である。FIG. 4 is an enlarged front view of a main part of the droplet jet patterning device.
【図５】媒体保持移動装置と基板受台とガラス基板等の
平面図である。FIG. 5 is a plan view of a medium holding and moving device, a substrate pedestal, a glass substrate and the like.
【図６】ノズルヘッドのヘッド部の位置を説明する説明
図である。FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a position of a head portion of a nozzle head.
【図７】Ｚ軸スライド機構の一部とノズルヘッド保持装
置と回動駆動機構とエンコーダの平面図である。FIG. 7 is a plan view of a part of a Z-axis slide mechanism, a nozzle head holding device, a rotation drive mechanism, and an encoder.
【図８】図７のVIII-VIII 線端面図（一部切欠き縦断部
を含む）である。8 is an end view taken along the line VIII-VIII of FIG. 7 (including a partially cut longitudinal section).
【図９】ノズルヘッド保持装置と回動駆動機構とエンコ
ーダなどの一部切欠き縦断右側面図である。FIG. 9 is a right side view of a nozzle head holding device, a rotation drive mechanism, a partially cutaway vertical section of an encoder and the like.
【図１０】ノズルヘッド保持装置の一部切欠き縦断左側
面図である。FIG. 10 is a left side view of the nozzle head holding device with a partly cutaway vertical section.
【図１１】図７のXI-XI 線端面図（一部切欠き縦断部を
含む）である。11 is an end view taken along line XI-XI of FIG. 7 (including a partially cutout vertical section).
【図１２】ノズルヘッド保持装置を支持基板に取付けた
状態の要部縦断面図である。FIG. 12 is a vertical cross-sectional view of a main part in a state where a nozzle head holding device is attached to a support substrate.
【図１３】ノズルヘッド保持装置を支持基板から取外し
た状態の要部縦断面図である。FIG. 13 is a vertical cross-sectional view of a main part in a state where the nozzle head holding device is removed from the support substrate.
【図１４】ノズルヘッド保持装置の一部切欠き横断平面
図である。FIG. 14 is a partially cutaway cross-sectional plan view of the nozzle head holding device.
【図１５】ノズルヘッド保持装置の背面図である。FIG. 15 is a rear view of the nozzle head holding device.
【図１６】ノズルヘッド保持装置の縦断側面面である。FIG. 16 is a vertical cross-sectional side surface of the nozzle head holding device.
【図１７】ノズルヘッド保持装置の縦断側面面である。FIG. 17 is a vertical side surface of the nozzle head holding device.
【図１８】ノズルヘッド保持装置の一部切欠き縦断正面
図である。FIG. 18 is a partially cutaway vertical front view of the nozzle head holding device.
【図１９】ノズルヘッド保持装置の概略平面図である。FIG. 19 is a schematic plan view of a nozzle head holding device.
【図２０】第２リンク部材を傾斜回動させる回動駆動機
構の要部平面である。FIG. 20 is a plane view of a main part of a rotation drive mechanism that tilts and rotates the second link member.
【図２１】ノズルヘッド保持装置の案内機構と移動機構
の要部横断面図である。FIG. 21 is a lateral cross-sectional view of the main parts of the guide mechanism and the moving mechanism of the nozzle head holding device.
【図２２】ヘッドホルダの平面図である。FIG. 22 is a plan view of the head holder.
【図２３】ノズルヘッド保持装置の要部縦断側面図であ
る。FIG. 23 is a vertical sectional side view of a main part of the nozzle head holding device.
【図２４】ノズルヘッドのノズル間寸法誤差を説明する
説明図である。FIG. 24 is an explanatory diagram illustrating a dimension error between nozzles of a nozzle head.
【図２５】ランク付けしたノズル間寸法誤差と中心誤差
を示す図表である。FIG. 25 is a chart showing dimensional error between nozzles and center error which are ranked.
【図２６】液供給機構の側面図である。FIG. 26 is a side view of the liquid supply mechanism.
【図２７】（ａ）は４節平行リンク機構とノズルヘッド
を初期位置にした状態の機構図、（ｂ）は４節平行リン
ク機構とノズルヘッドを傾斜回動させた状態の機構図で
ある。FIG. 27 (a) is a mechanism diagram in a state where the four-node parallel link mechanism and the nozzle head are at initial positions, and FIG. 27 (b) is a mechanism diagram in a state where the four-node parallel link mechanism and the nozzle head are tilted and rotated. .
【図２８】回動駆動機構とエンコーダと位置調整駆動機
構の構成説明図である。FIG. 28 is a structural explanatory view of a rotation drive mechanism, an encoder, and a position adjustment drive mechanism.
【図２９】（ａ）〜（ｃ）は夫々Ｒ，Ｇ，Ｂのドット配
置例の説明図である。29 (a) to 29 (c) are illustrations of dot arrangement examples of R, G, and B, respectively.
【図３０】吐出検査機構の構成説明図である。FIG. 30 is a structural explanatory view of a discharge inspection mechanism.
【図３１】吐出検査用のＣＣＤカメラにおけるＣＣＤ撮
像領域の説明図である。FIG. 31 is an explanatory diagram of a CCD image pickup area in a CCD camera for discharge inspection.
【図３２】図３１の観測窓と液滴の画像を説明する説明
図である。32 is an explanatory diagram illustrating an observation window and an image of a droplet in FIG. 31. FIG.
【図３３】基板受台上のガラス基板と自動アライメント
調整機構の構成説明図である。FIG. 33 is a structural explanatory view of a glass substrate on a substrate pedestal and an automatic alignment adjusting mechanism.
【図３４】ヘッドメンテナンス機構の斜視図である。FIG. 34 is a perspective view of a head maintenance mechanism.
【図３５】ガラス基板の複数のきパターン形成領域に液
滴を吐出してパターンを形成するノズルヘッドのガラス
基板に対する相対移動を説明する説明図である。FIG. 35 is an explanatory diagram illustrating relative movement of a nozzle head that forms a pattern by ejecting liquid droplets onto a plurality of pattern formation regions of a glass substrate, with respect to the glass substrate.
【図３６】ノズルヘッドを１パスずつ移動させてパター
ンを形成する移動経路を説明する説明図であるFIG. 36 is an explanatory diagram illustrating a movement path for forming a pattern by moving the nozzle head one pass at a time.
【図３７】ノズルヘッドを１パス毎にインターレースを
行ってパターンを形成する移動経路を説明する説明図で
ある。FIG. 37 is an explanatory diagram illustrating a movement path in which a nozzle head is interlaced for each pass to form a pattern.
【図３８】液滴ジェットパターニング装置の制御系のブ
ロック図の一部である。FIG. 38 is a part of a block diagram of a control system of the droplet jet patterning device.
【図３９】液滴ジェットパターニング装置の制御系のブ
ロック図の残部である。FIG. 39 is the rest of the block diagram of the control system of the droplet jet patterning device.
【図４０】連続記録にてガラス基板に吐出記録する制御
の概略フローチャートの一部である。FIG. 40 is a part of a schematic flowchart of control for performing discharge recording on a glass substrate in continuous recording.
【図４１】図４０のフローチャートに続く概略フローチ
ャートの残部である。41 is the remainder of the schematic flowchart that follows the flowchart of FIG. 40.
【図４２】ノズルヘッドの吐出検査の制御の概略フロー
チャートである。FIG. 42 is a schematic flowchart of control of the ejection inspection of the nozzle head.
【図４３】図４２のフローチャートのＳ４４の処理のフ
ローチャートである。43 is a flowchart of the process of S44 of the flowchart of FIG. 42.
１ 液滴ジェットパターニング装置 ４ ガラス基板 ６ Ｚ軸スライド機構 ７ ノズルヘッド保持装置 ８ ノズルヘッド １２ 液供給機構 １３ 制御装置 １４ 仕切り板 １４ａ 開口部 ２０，１９ Ｘ，Ｙ軸スライド機構 ２１ 基板受台 ２５ ヘッド組取付台 ３２ａ〜３２ｄ ＣＣＤカメラ ３６ 自動アライメント調整機構 ４３ ヘッド部 ４９ ４節平行リンク機構 ５１ ヘッドホルダ ５２Ａ，５２Ｂ 案内機構 ５３Ａ，５３Ｂ 移動機構 ５５ ノズル ８０ 回動駆動機構 ８１ エンコーダ ８２ 減速機付きモータ 113 位置調整駆動機構 121 吐出検査機構 123 ヘッドメンテナンス機構 140a,140b Ｙ方向移動駆動機構 141a,141b 撮影ポジション切換え機構 142 ＣＣＤカメラ 143 ストロボ投光器 173 ホスト制御ユニット 1 Droplet jet patterning device 4 glass substrates 6 Z-axis slide mechanism 7 Nozzle head holding device 8 nozzle heads 12 liquid supply mechanism 13 Control device 14 partition boards 14a opening 20, 19 X, Y axis slide mechanism 21 board pedestal 25 head assembly mount 32a to 32d CCD camera 36 Automatic alignment adjustment mechanism 43 Head 49 4-section parallel link mechanism 51 head holder 52A, 52B guide mechanism 53A, 53B moving mechanism 55 nozzles 80 Rotation drive mechanism 81 encoder 82 Motor with reducer 113 Position adjustment drive mechanism 121 Discharge inspection mechanism 123 Head maintenance mechanism 140a, 140b Y direction movement drive mechanism 141a, 141b Shooting position switching mechanism 142 CCD camera 143 Strobe floodlight 173 Host control unit
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成１４年９月２６日（２００２．９．２
６）[Submission date] September 26, 2002 (2002.9.2)
6)
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図４２[Correction target item name] Fig. 42
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図４２】 FIG. 42
Claims (6)
吐出して被吐出媒体にパターンを形成する液滴ジェット
パターニング装置において、 １又は複数のノズルヘッドを含むヘッド部と、 前記ヘッド部を昇降可能なヘッド昇降手段と、 前記ヘッド昇降手段により下降させたヘッド部に対応す
る高さ位置に配置され、ノズルヘッドから被吐出媒体に
液滴を吐出する為のパターン処理ステージと、 前記ヘッド昇降手段により上昇させたヘッド部に対応す
る高さ位置に配設され、少なくともノズルヘッドの複数
のノズルからの液滴の吐出状態を検査する為の検査調整
ステージと、 を備えたことを特徴とする液滴ジェットパターニング装
置。1. A droplet jet patterning apparatus for forming a pattern on a medium to be ejected by ejecting droplets from a plurality of nozzles of a nozzle head; a head unit including one or a plurality of nozzle heads; A possible head elevating means, a pattern processing stage arranged at a height position corresponding to the head portion lowered by the head elevating means, for ejecting liquid droplets from the nozzle head onto the ejection target medium, the head elevating means And an inspection adjustment stage for inspecting the discharge state of liquid droplets from at least a plurality of nozzles of the nozzle head, the liquid being provided at a height position corresponding to the head part raised by Drop jet patterning device.
査方向と直交する副走査方向に列設され、前記パターン
処理ステージに被吐出媒体を支持して主走査方向と副走
査方向に夫々移動可能な媒体送り機構を設け、前記検査
調整ステージにノズルヘッドの複数のノズルの吐出状態
を検査する為の吐出検査手段を設けたことを特徴とする
請求項１に記載の液滴ジェットパターニング装置。2. A plurality of nozzles of the nozzle head are arranged in a line in a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction, and the ejection target medium is supported on the pattern processing stage to be movable in the main scanning direction and the sub-scanning direction, respectively. 2. The droplet jet patterning apparatus according to claim 1, further comprising a medium feeding mechanism, and the inspection adjustment stage is provided with an ejection inspection unit for inspecting ejection states of a plurality of nozzles of the nozzle head.
吐出される液滴の両側に対向状に配設された撮像手段と
投光手段とを備えたことを特徴とする請求項２に記載の
液滴ジェットパターニング装置。3. The ejection inspection means comprises an image pickup means and a light projecting means, which are arranged opposite to each other on both sides of the liquid droplets ejected from the nozzle head. Droplet jet patterning device.
ーン形成処理工程における処理停止時間中に、前記吐出
検査手段による検査を実行可能に構成したことを特徴と
する請求項２又は３に記載の液滴ジェットパターニング
装置。4. The liquid according to claim 2, wherein an inspection by the ejection inspection means can be executed during a processing stop time in a pattern forming processing step of forming a pattern on the ejection receiving medium. Drop jet patterning device.
向と主走査方向に夫々独立に移動可能な撮像機移動手段
と、吐出検査手段の投光手段を副走査方向と主走査方向
に夫々独立に移動可能な投光用移動手段を設けたことを
特徴とする請求項３に記載の液滴ジェットパターニング
装置。5. An image pickup device moving means capable of independently moving the image pickup means of the discharge inspection means in the sub-scanning direction and the main scan direction, and the light projecting means of the discharge inspection means in the sub-scanning direction and the main scan direction, respectively. The droplet jet patterning device according to claim 3, further comprising a moving means for projecting light that can move independently.
て、画像処理によりノズルヘッドからの液滴の吐出の良
否を判定する検査用画像処理手段を設けたことを特徴と
する請求項３に記載の液滴ジェットパターニング装置。6. The image processing means for inspection, which receives an image signal photographed by the image pickup means and judges whether the ejection of the liquid droplets from the nozzle head is good or bad by image processing. A droplet jet patterning device as described.
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|---|---|---|---|
| JP2001300816A JP2003103772A (en) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | Liquid droplet jet patterning apparatus |
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ID=19121332
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2003103772A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005031144A (en) * | 2003-07-07 | 2005-02-03 | Seiko Epson Corp | Gap adjusting device, fixture for calibration used therein, droplet discharging device equipped with gap adjusting device, and method for manufacturing electrooptical device, electrooptical device and electronic equipment |
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| US11400718B2 (en) | 2020-03-12 | 2022-08-02 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge apparatus |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001300816A patent/JP2003103772A/en active Pending
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