JP2003096572A

JP2003096572A - 金属酸化物膜形成用塗布液、及びそれを用いた金属酸化物膜、金属酸化物パターンの形成方法

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Publication number: JP2003096572A
Application number: JP2001288880A
Authority: JP
Inventors: Tomonori Sakata; 智則阪田
Original assignee: Murata Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2001-09-21
Filing date: 2001-09-21
Publication date: 2003-04-03
Anticipated expiration: 2021-09-21
Also published as: JP4857508B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ＭＯＤ法により、厚みが大きく、クラックの
ない金属酸化物膜もしくは金属酸化物パターンを形成す
ることが可能な金属酸化物膜形成用塗布液、及びそれを
用いた金属酸化物膜、金属酸化物パターンの形成方法を
提供する。【解決手段】熱分解可能な有機金属Ａと、溶剤Ｂと、
有機金属Ａの熱分解温度よりも高い温度で熱分解が終了
する有機化合物Ｃ及び／又は成膜過程において、有機金
属Ａの熱分解温度より高い温度で熱分解が終了する有機
化合物Ｃｘになる有機化合物Ｄとを含有させて、有機金
属Ａの熱分解時に、上記有機化合物Ｃ及び／又は有機化
合物Ｃｘを存在させることにより、クラックが発生する
ことを抑制、防止できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願発明は、基板表面などに
金属酸化物膜を形成するのに用いられる金属酸化物膜形
成用塗布液、及びそれを用いた金属酸化物膜、金属酸化
物パターンの形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属薄膜あるいは金属酸化物薄膜を形成
する方法として、通常の厚膜ペーストと同様に、塗布・
焼成というような単純なプロセスで金属薄膜あるいは金
属酸化物薄膜を形成することが可能な有機金属塗布熱分
解法（ＭＯＤ法）が、近年、広く用いられつつあり、金
属配線あるいは強誘電体や透明導電膜、抵抗体などの電
気素子の形成に応用することが検討されている（特開平
４−２４０７９２号、特開平９−１２０９０６号、特開
平９−０６９６１４号など）。

【０００３】このＭＯＤ法は、ハイブリッドＩＣに用い
られているような通常の厚膜ペーストと同様に、塗布・
焼成というような単純なプロセスで金属薄膜あるいは金
属酸化物膜を形成することが可能な方法であり、低コス
トで高精度の金属薄膜あるいは金属酸化物膜を形成する
ことができるという特徴と有しているとともに、低温で
焼成することができるという利点を備えている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ＭＯＤ法に
より、膜厚の大きい金属酸化物膜を形成しようとする
と、有機金属化合物溶液（塗布液）の塗布厚を厚く塗布
することが必要となる。しかし、必要な膜厚を得るため
に、有機金属化合物溶液（塗布液）を一度に厚く塗布す
ると、焼成時に、金属酸化物膜にクラックが入るという
問題点がある。

【０００５】そのため、膜厚の大きい金属酸化物膜を形
成する場合には、通常、塗布・焼成の工程を複数回繰り
返すことにより膜厚の大きい金属酸化物膜を形成する方
法がとられている。そのため、金属酸化物膜の形成工程
が複雑化し、コストが増大するという問題点がある。

【０００６】また、有機金属に樹脂を添加してペースト
状とし、スクリーン印刷を可能ならしめるようにした方
法も提案されているが（特開平９−１２０９０６号）、
この方法は、あくまでも塗布性を考慮して、粘度を調整
するために添加されたものであり、焼成時にクラックが
発生するという問題点を解決するものではない。

【０００７】さらに、特開平１０−０８３７１８号に
は、塗膜に紫外線を照射し、現像した後、焼成して金属
酸化物透明導電膜パターンを得る方法が開示されている
が、この方法は、あくまでもフォトリソグラフィー法に
より金属酸化物透明導電膜パターンを得ることができる
ようにしたものであり、この方法においても、焼成時に
クラックが発生するという問題点を解決することができ
ていないのが実情である。

【０００８】本願発明は上記実情に鑑みてなされたもの
であり、ＭＯＤ法により、厚みが大きく、クラックのな
い金属酸化物膜もしくは金属酸化物パターンを形成する
ことが可能な金属酸化物膜形成用塗布液、及びそれを用
いた金属酸化物膜、金属酸化物パターンの形成方法を提
供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明（請求項１）の金属酸化物膜形成用塗布液
は、(ａ)熱分解可能な有機金属Ａ、(ｂ)溶剤Ｂ、(ｃ)有
機金属Ａの熱分解温度よりも高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃ及び／又は成膜過程で有機金属Ａの熱分
解温度より高い温度で熱分解が終了する有機化合物Ｃｘ
になる有機化合物Ｄを含有することを特徴としている。

【００１０】本願発明（請求項１）の金属酸化物膜形成
用塗布液は、熱分解可能な有機金属Ａと、溶剤Ｂと、有
機金属Ａの熱分解温度よりも高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃ及び／又は成膜過程で有機金属Ａの熱分
解温度より高い温度で熱分解が終了する有機化合物Ｃｘ
になる有機化合物Ｄとを含有させるようにしているの
で、この金属酸化物膜形成用塗布液を用いることによ
り、クラックを防止して、膜厚が大きく、均一な組成の
金属酸化物膜を形成することが可能になる。

【００１１】すなわち、本願発明の金属酸化物膜形成用
塗布液を用いた場合、有機金属Ａが熱分解する時点で
は、有機金属Ａよりも熱分解温度の高い有機化合物Ｃ及
び／又は有機化合物Ｃｘが存在するため、有機金属Ａの
熱分解時のクラックの発生を抑制、防止して、クラック
のない均一な金属酸化物膜を確実に形成することが可能
になる。

【００１２】なお、本願発明において用いることが可能
な有機金属Ａとしては、有機酸の金属塩（例えば、酢酸
塩、プロピオン酸塩、２−エチルヘキサン酸塩、ナフテ
ン酸塩、オレイン酸塩など）、あるいは、アセチルアセ
トン錯体、アミン錯体のような錯体などが例示される
が、その他の種々の熱分解可能な有機金属を使用するこ
とが可能である。

【００１３】また、有機化合物Ｃ及びＤとしては、使用
する有機金属Ａの熱分解温度によって適切なものを選択
して用いることが可能である。例えば、エチルセルロー
ス、アルキッド、アクリルなどの樹脂、アクリル酸、ブ
タジエンのようなラジカル重合可能な有機化合物、ある
いは上記のような有機金属を使用することが可能であ
る。さらに、有機金属Ａ、溶剤Ｂ、有機化合物Ｃ、有機
化合物Ｄは、それぞれ１種類を用いてもよく、また、複
数種類を混合して用いてもよい。

【００１４】また、請求項２の金属酸化物膜形成用塗布
液は、有機化合物Ｃ及び／又はＤが、有機金属Ａとは別
の有機金属であることを特徴としている。

【００１５】有機化合物Ｃ及び／又はＤが有機金属Ａと
は別の有機金属であり、有機化合物Ｄが、有機金属Ａの
熱分解温度より高い温度で熱分解が終了する有機金属
（広義の有機化合物Ｃｘ）になる有機化合物である場合
には、クラックを防止することが可能になるだけではな
く、密度の高い金属酸化物膜を形成することが可能にな
る。

【００１６】また、請求項３の金属酸化物膜形成用塗布
液は、有機化合物Ｄが熱重合性を有し、熱重合によって
有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃｘとなるものであることを特徴としてい
る。

【００１７】有機化合物Ｄとして、熱重合性を有し、熱
重合によって有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱
分解が終了する有機化合物Ｃｘとなるものを用いた場
合、例えば、レーザー光を所望のパターンを描画するよ
うに照射した後、未照射部を除去する工法など（すなわ
ち、熱重合を利用したパターニング法）を適用して、効
率よく高精度のパターンを形成することができるように
なり有意義である。なお、熱重合を利用したパターニン
グ法により高精度の金属酸化物パターンを形成するため
には、熱重合性を有しない有機化合物Ｃの含有割合をで
きるだけ小さくすることが望ましい。

【００１８】また、請求項４の金属酸化物膜形成用塗布
液は、有機化合物Ｄが光重合性を有し、光重合によって
有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃｘとなるものであることを特徴としてい
る。

【００１９】有機化合物Ｄとして、光重合性を有し、光
重合によって有機金属Ａより高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃｘとなるものを用いた場合、例えば、フ
ォトリソグラフィー法により、微細で高精度のパターン
を効率よく形成することができるようになり有意義であ
る。なお、フォトリソグラフィー法により、微細で高精
度のパターンを効率よく形成することができるようにす
るためには、光重合性を有しない有機化合物Ｃの含有割
合をできるだけ小さくすることが望ましい。

【００２０】また、請求項５の金属酸化物膜形成用塗布
液は、有機化合物Ｃ及び／又は有機化合物Ｃｘが、有機
金属Ａより２０〜７０℃高い温度で熱分解が終了するも
のであることを特徴としている。

【００２１】有機化合物Ｃ及び／又は有機化合物Ｃｘ
が、有機金属Ａより２０〜７０℃高い温度で熱分解が終
了するものである場合、有機金属Ａが熱分解する際に、
有機化合物Ｃ及び／又は有機化合物Ｃｘを確実に存在さ
せることが可能になり、クラックの発生を確実に防止し
て、均一な金属酸化物膜を形成することができるように
なる。

【００２２】また、本願発明（請求項６）の金属酸化物
膜の形成方法は、請求項１〜５のいずれかに記載の金属
酸化物膜形成用塗布液を塗布する工程と、金属酸化物膜
形成用塗布液を塗布することにより形成された塗膜を３
５０〜７００℃で焼成する工程とを具備することを特徴
としている。

【００２３】請求項１〜５のいずれかに記載の金属酸化
物膜形成用塗布液を塗布した後、塗膜を３５０〜７００
℃で焼成することにより、クラックがなく、均一な金属
酸化物膜を効率よく形成することができるようになる。

【００２４】また、本願発明（請求項７）の金属酸化物
パターンの形成方法は、請求項３記載の金属酸化物膜形
成用塗布液を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜
の所定の領域を熱重合させる工程と、前記塗膜の未重合
領域を水、水溶液、又は有機溶剤を用いて現像する工程
と、現像された塗膜を３５０〜７００℃で焼成する工程
とを具備することを特徴としている

【００２５】請求項３記載の金属酸化物膜形成用塗布液
を塗布することにより形成した塗膜の所定の領域を熱重
合させ、塗膜の未重合領域を水、水溶液、又は有機溶剤
を用いて現像した後、現像された塗膜を３５０〜７００
℃で焼成することにより、クラックがなく、均一な金属
酸化物パターンを効率よく形成することができるように
なる。

【００２６】また、本願発明（請求項８）の金属酸化物
パターンの形成方法は、請求項４記載の金属酸化物膜形
成用塗布液を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜
の所定の領域を露光させて光重合させる工程と、前記塗
膜の未重合領域を水、水溶液、又は有機溶剤を用いて現
像する工程と、現像された塗膜を３５０〜７００℃で焼
成する工程とを具備することを特徴としている。

【００２７】請求項４記載の金属酸化物膜形成用塗布液
を塗布して形成した塗膜の所定の領域を露光させて光重
合させ、塗膜の未重合領域を水、水溶液、又は有機溶剤
を用いて現像した後、現像された塗膜を３５０〜７００
℃で焼成することにより、クラックがなく、均一な金属
酸化物パターンを効率よく形成することができるように
なる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態を示
して、その特徴とするところをさらに詳しく説明する。

【００２９】［実施形態１］ (１)下記の有機金属Ａ、有機化合物Ｃ、有機化合物Ｄ、
及び光重合開始剤を、溶剤Ｂに溶解させることにより、
金属酸化物膜形成用塗布液を作製する。イ)熱分解温度が約３５０℃のメタクリル酸亜鉛（有機
金属Ａ）：１８重量部ロ)熱分解温度が約４００℃のメタクリル酸−メタクリ
ル酸メチル共重合体（有機化合物Ｃ）：２５重量部ハ)メタクリル酸メチル（有機化合物Ｄ）：１６重量部ニ)光重合開始剤：６重量部ホ)メトキシプロパノール（溶剤Ｂ）：３５重量部なお、この実施形態１では、光重合開始剤を配合するこ
とにより、メタクリル酸メチルが光重合性を有する有機
化合物（有機化合物Ｄ）として機能するように構成され
ている。 (２)次に、図１(ａ)に示すように、この金属酸化物膜形
成用塗布液１を、基板（水晶基板）２上にスピンコート
し、１５０℃で乾燥することにより、図１(ｂ)に示すよ
うに、基板２上に塗膜１ａを形成する。 (３)それから、図１(ｃ)に示すように、フォトマスク３
を介してＵＶ光を照射して露光する。このとき、メタク
リル酸メチルは光重合することにより、約４５０℃で分
解するポリメタクリル酸メチル（有機金属Ａの熱分解温
度より高い温度で熱分解が終了する有機化合物Ｃｘ）と
なっている。 (４)次に、メトキシプロパノールで現像し、図１(ｄ)に
示すように、塗膜１ａの未露光部（未重合部）を除去す
ることにより、塗膜１ａのパターニングを行う。 (５)その後、パターニングされた塗膜１ａを、５００℃
で２０分間焼成することにより、図１(ｅ)に示すよう
に、パターン化されたＺｎＯ膜（金属酸化物パターン）
４を得た。このＺｎＯ膜４を観察したところ、クラック
がなく、基板２への密着性に優れた均一なＺｎＯ膜が得
られていることが確認された。

【００３０】上記実施形態１では、有機金属Ａ、溶剤Ｂ
の他に、複数種類の有機化合物、すなわち、有機金属Ａ
より高い温度で分解するポリマーであるメタクリル酸−
メタクリル酸メチル共重合体（有機化合物Ｃ）と、光重
合性のモノマーであるメタクリル酸メチル（有機化合物
Ｄ）を用いているが、光重合性のモノマーであるメタク
リル酸メチルは、光重合することにより有機金属Ａより
熱分解温度の高いポリメタクリル酸メチル（有機化合物
Ｃｘ）となるので、有機金属Ａが熱分解する時点では、
有機金属Ａより分解温度の高いメタクリル酸−メタクリ
ル酸メチル共重合体（有機化合物Ｃ）と、ポリメタクリ
ル酸メチル（有機化合物Ｃｘ）が存在することになり、
有機金属Ａの熱分解時にクラックが発生することを効率
よく防止して、均一な金属酸化物膜を形成することが可
能になる。なお、有機金属Ａ、溶剤Ｂ、有機化合物Ｃ、
有機化合物Ｄの配合割合は、上記割合に限定されるもの
ではなく、金属酸化物膜形成用塗布液の塗布条件や焼成
条件、形成される金属酸化物膜の用途などに応じて、適
宜調整することが可能である。

【００３１】［実施形態２］ (１)下記の成分を配合して、金属酸化物膜形成用塗布液
を作製する。イ)熱分解温度が約３５０℃のメタクリル酸亜鉛（有機
金属Ａ）：１８重量部ロ)メタクリル酸メチル（有機化合物Ｄ）、：４１重量
部ハ)熱重合開始剤：６重量部ニ)メトキシプロパノール（溶剤Ｂ）：３５重量部なお、この実施形態２では、熱重合開始剤を配合するこ
とにより、メタクリル酸メチルが熱重合性を有する有機
化合物（有機化合物Ｄ）として機能するように構成され
ている。 (２)次に、図２(ａ)に示すように、この金属酸化物膜形
成用塗布液１１を、基板（ソーダライムガラス基板）１
２上にスピンコートし、１５０℃で乾燥することによ
り、図２(ｂ)に示すように、基板１２上に塗膜１１ａを
形成する。 (３)それから、図２(ｃ)に示すように、ＩＲレーザー光
を所望のパターンを描写するように塗膜１１ａに照射し
て、照射領域を熱重合させる。このとき、メタクリル酸
メチルは熱重合することにより、約４５０℃で分解する
ポリメタクリル酸メチル（有機金属Ａの熱分解温度より
高い温度で熱分解が終了する有機化合物Ｃｘ）となって
いる。 (４)次に、メトキシプロパノールで現像を行い、図２
(ｄ)に示すように、未照射部（未重合部）を除去するこ
とにより、塗膜１１ａのパターニングを行う。 (５)その後、現像され、パターニングされた塗膜１１ａ
を、５００℃で２０分間焼成することにより、図２(ｅ)
に示すように、パターン化されたＺｎＯ膜（金属酸化物
パターン）１４を得た。このＺｎＯ膜１４を観察したと
ころ、クラックがなく、基板１２への密着性に優れた均
一なＺｎＯ膜が得られていることが確認された。

【００３２】［実施形態３］ (１)下記の成分を配合して、金属酸化物膜形成用塗布液
を作製する。イ)熱分解温度が約４００℃のオレイン酸亜鉛（有機金
属Ａ）：２０重量部ロ)熱分解温度が約４５０℃のポリメタクリル酸メチル
（有機化合物Ｃ）：４０重量部ハ)トルエン（溶剤Ｂ）：４０重量部 (２)次に、図３(ａ)に示すように、この金属酸化物膜形
成用塗布液２１を、基板（ＢＬＣガラス基板）２２上に
スピンコートし、１５０℃で乾燥することにより、図３
(ｂ)に示すように、基板２２上に塗膜２１ａを形成す
る。 (３)それから、この塗膜２１ａを、５００℃で２０分間
焼成することにより、図３(ｃ)に示すように、ＺｎＯ膜
（金属酸化物膜）２４を得た。このＺｎＯ膜２４を観察
したところ、クラックがなく、基板２２への密着性に優
れた均一なＺｎＯ膜が得られていることが確認された。

【００３３】［実施形態４］ (１)下記の成分を配合して、金属酸化物膜形成用塗布液
を作製する。イ)熱分解温度が約３５０℃の２−エチルヘキサン酸ル
テニウム(有機金属Ａ)：３５重量部ロ)熱分解温度が約４００℃のオレイン酸ルテニウム(有
機化合物Ｃ)：３５重量部ハ)トルエン(溶剤Ｂ)：３０重量部 (２)次に、上記実施形態３の場合に準じて、この金属酸
化物膜形成用塗布液を、基板（ソーダライムガラス基
板）上にスピンコートし、１５０℃で乾燥することによ
り、基板上に塗膜を形成する。 (３)それから、この塗膜を、５００℃で２０分間焼成す
ることにより、ＲｕＯ ₂膜（金属酸化物膜）を得た。こ
のＲｕＯ₂膜を観察したところ、クラックや基板からの
剥離のない、均一なＲｕＯ₂膜が得られていることが確
認された。なお、上記のイ)の２−エチルヘキサン酸ル
テニウム（有機金属Ａ）又は上記ロ)のオレイン酸ルテ
ニウム（有機化合物Ｃ）の一方のみをトルエンに溶解し
た金属酸化物膜形成用塗布液を用いてＲｕＯ₂膜を形成
した場合、膜厚が上記実施形態４の場合よりも薄く、か
つ、密度の低いＲｕＯ₂膜しか得ることができなかっ
た。

【００３４】［比較例１］２−オレイン酸亜鉛をトルエ
ンに溶解させて金属酸化物膜形成用塗布液とし、この金
属酸化物膜形成用塗布液を基板（ＢＬＣガラス基板）上
にスピンコートした後、１５０℃で乾燥して、５５０℃
で焼成することにより、２−オレイン酸亜鉛を熱分解さ
せて、ＺｎＯ膜を得た。しかし、このＺｎＯ膜には、ク
ラックの発生や基板からの剥離の発生が認められた。

【００３５】［比較例２］２−エチルヘキサン酸Ｒｕを
トルエンに溶解させて金属酸化物膜形成用塗布液とし、
この金属酸化物膜形成用塗布液を基板（ソーダライムガ
ラス基板）上にスピンコートした後、１５０℃で乾燥し
て、５５０℃で焼成することにより、２−エチルヘキサ
ン酸Ｒｕを熱分解させて、ＲｕＯ₂膜を得た。しかし、
このＲｕＯ₂膜には、クラックの発生や基板からの剥離
の発生が認められた。また、上記実施形態４の場合と比
べて、膜厚が薄く、かつ、密度の小さいＲｕＯ₂膜しか
得ることができなかった。

【００３６】なお、本願発明は、上記実施形態１〜４に
限定されるものではなく、熱分解可能な有機金属Ａ、溶
剤Ｂ、有機金属Ａの熱分解温度よりも高い温度で熱分解
が終了する有機化合物Ｃ、成膜過程で有機金属Ａの熱分
解温度より高い温度で熱分解が終了する有機化合物Ｃｘ
になる有機化合物Ｄの具体的な種類、及び、有機金属
Ａ、溶剤Ｂ、有機化合物Ｃ、有機化合物Ｄの配合割合、
金属酸化物膜の具体的な膜厚やパターン、金属酸化物膜
や金属酸化物パターンの形成対象である基板の種類、具
体的な成膜条件などに関し、発明の範囲内において、種
々の応用、変形を加えることが可能である。

【００３７】

【発明の効果】上述のように、本願発明（請求項１）の
金属酸化物膜形成用塗布液は、熱分解可能な有機金属Ａ
と、溶剤Ｂと、有機金属Ａの熱分解温度よりも高い温度
で熱分解が終了する有機化合物Ｃ及び／又は成膜過程で
有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃｘになる有機化合物Ｄとを含有させるよ
うにしているので、この金属酸化物膜形成用塗布液を用
いることにより、クラックを防止して、膜厚が大きく、
均一な組成の金属酸化物膜を形成することができる。

【００３８】すなわち、本願発明の金属酸化物膜形成用
塗布液を用いた場合、有機金属Ａが熱分解する時点で
は、有機金属Ａよりも熱分解温度の高い有機化合物Ｃ及
び／又は有機化合物Ｃｘが存在するため、有機金属Ａの
熱分解時のクラックの発生を抑制、防止して、クラック
のない均一な金属酸化物膜を確実に形成することが可能
になる。

【００３９】また、請求項２の金属酸化物膜形成用塗布
液のように、有機化合物Ｃ及び／又はＤが有機金属Ａと
は別の有機金属であり、有機化合物Ｄが、有機金属Ａの
熱分解温度より高い温度で熱分解が終了する有機金属
（広義の有機化合物Ｃｘ）になる有機化合物である場
合、クラックを防止することが可能になるだけではな
く、密度の高い金属酸化物膜を形成することが可能にな
る。

【００４０】また、請求項３の金属酸化物膜形成用塗布
液のように、有機化合物Ｄとして、熱重合性を有し、熱
重合によって有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱
分解が終了する有機化合物Ｃｘとなるものを用いた場
合、例えば、レーザー光を所望のパターンを描画するよ
うに照射した後、未照射部を除去する工法など（すなわ
ち、熱重合を利用したパターニング法）を適用して、効
率よく高精度のパターンを形成することができるように
なり有意義である。

【００４１】また、請求項４の金属酸化物膜形成用塗布
液のように、有機化合物Ｄとして、光重合性を有し、光
重合によって有機金属Ａより高い温度で熱分解が終了す
る有機化合物Ｃｘとなるものを用いた場合、例えば、フ
ォトリソグラフィー法により、微細で高精度のパターン
を効率よく形成することができるようになり有意義であ
る。

【００４２】また、請求項５の金属酸化物膜形成用塗布
液のように、有機化合物Ｃ及び／又は有機化合物Ｃｘ
が、有機金属Ａより２０〜７０℃高い温度で熱分解が終
了するものである場合、有機金属Ａが熱分解する際に、
有機化合物Ｃ及び／又は有機化合物Ｃｘを確実に存在さ
せることが可能になり、クラックの発生を確実に防止し
て、均一な金属酸化物膜を形成することが可能になる。

【００４３】また、本願発明（請求項６）の金属酸化物
膜の形成方法は、請求項１〜５のいずれかに記載の金属
酸化物膜形成用塗布液を塗布した後、塗膜を３５０〜７
００℃で焼成するようにしているので、クラックがな
く、均一な金属酸化物膜を効率よく形成することができ
る。

【００４４】また、本願発明（請求項７）の金属酸化物
パターンの形成方法は、請求項３記載の金属酸化物膜形
成用塗布液を塗布することにより形成した塗膜の所定の
領域を熱重合させ、塗膜の未重合領域を水、水溶液、又
は有機溶剤を用いて現像した後、現像された塗膜を３５
０〜７００℃で焼成するようにしているので、クラック
がなく、均一な金属酸化物パターンを効率よく形成する
ことができる。

【００４５】また、本願発明（請求項８）の金属酸化物
パターンの形成方法は、請求項４記載の金属酸化物膜形
成用塗布液を塗布して形成した塗膜の所定の領域を露光
させて光重合させ、塗膜の未重合領域を水、水溶液、又
は有機溶剤を用いて現像した後、現像された塗膜を３５
０〜７００℃で焼成するようにしているので、クラック
がなく、均一な金属酸化物パターンを効率よく形成する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】(ａ)〜(ｅ)は本願発明の実施形態１にかかる金
属酸化物パターンの形成方法を示す図である。

【図２】(ａ)〜(ｅ)は本願発明の実施形態２にかかる金
属酸化物パターンの形成方法を示す図である。

【図３】(ａ)〜(ｃ)は本願発明の実施形態３にかかる金
属酸化物膜の形成方法を示す図である。

【符号の説明】

１，１１，２１金属酸化物膜形成用塗布液１ａ，１１ａ，２１ａ塗膜２基板（水晶基板）１２基板（ソーダライムガラス
基板）２２基板（ＢＬＣガラス基板）３フォトマスク４，１４ＺｎＯ膜（金属酸化物パタ
ーン）２４ＺｎＯ膜（金属酸化物膜）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4E351 AA06 AA07 AA13 BB01 BB31 CC11 CC22 CC31 DD08 DD31 GG01 GG02 4G047 AA02 AB02 AB04 AC03 AD02 4G048 AA03 AB02 AB05 AC04 AD02 AE08 4K022 AA03 BA15 BA25 BA33 DA06 DB24 5E339 AB05 AB06 BC05 BD07 BD11 BE05 CF16 CF17 DD02 EE05 FF03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】(ａ)熱分解可能な有機金属Ａ、 (ｂ)溶剤Ｂ、 (ｃ)有機金属Ａの熱分解温度よりも高い温度で熱分解が
終了する有機化合物Ｃ及び／又は成膜過程で有機金属Ａ
の熱分解温度より高い温度で熱分解が終了する有機化合
物Ｃｘになる有機化合物Ｄを含有することを特徴とする
金属酸化物膜形成用塗布液。
【請求項２】有機化合物Ｃ及び／又はＤが、有機金属Ａ
とは別の有機金属であることを特徴とする請求項１記載
の金属酸化物膜形成用塗布液。
【請求項３】有機化合物Ｄが熱重合性を有し、熱重合に
よって有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱分解が
終了する有機化合物Ｃｘとなるものであることを特徴と
する請求項１又は２記載の金属酸化物膜形成用塗布液。
【請求項４】有機化合物Ｄが光重合性を有し、光重合に
よって有機金属Ａの熱分解温度より高い温度で熱分解が
終了する有機化合物Ｃｘとなるものであることを特徴と
する請求項１又は２記載の金属酸化物膜形成用塗布液。
【請求項５】有機化合物Ｃ及び／又は有機化合物Ｃｘ
が、有機金属Ａより２０〜７０℃高い温度で熱分解が終
了するものであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れかに記載の金属酸化物膜形成用塗布液。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の金属酸化
物膜形成用塗布液を塗布する工程と、金属酸化物膜形成
用塗布液を塗布することにより形成された塗膜を３５０
〜７００℃で焼成する工程とを具備することを特徴とす
る金属酸化物膜の形成方法。
【請求項７】請求項３記載の金属酸化物膜形成用塗布液
を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜の所定の領域を熱重合させる工程と、前記塗膜の未重合領域を水、水溶液、又は有機溶剤を用
いて現像する工程と、現像された塗膜を３５０〜７００℃で焼成する工程とを
具備することを特徴とする金属酸化物パターンの形成方
法。
【請求項８】請求項４記載の金属酸化物膜形成用塗布液
を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜の所定の領域を露光させて光重合させる工程
と、前記塗膜の未重合領域を水、水溶液、又は有機溶剤を用
いて現像する工程と、現像された塗膜を３５０〜７００℃で焼成する工程とを
具備することを特徴とする金属酸化物パターンの形成方
法。