JP2003086560A - Substrate treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板
等の基板へオゾンまたは次亜臭素酸や臭素酸といった酸
化剤を含む処理液を供給して基板を処理する基板処理装
置に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor wafer,
The present invention relates to a substrate processing apparatus that supplies a processing liquid containing ozone or an oxidizing agent such as hypobromic acid or bromic acid to a substrate such as a glass substrate for a flat panel display (FPD) to process the substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体デバイスやＦＰＤなどの製造プロ
セスにおいては、例えば、複数の搬送ローラによって基
板を水平姿勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送しなが
ら、純水中にオゾンを溶解させたオゾン水をノズルから
基板へ供給し、基板表面に付着した有機物を除去して洗
浄したり、基板表面に形成されたレジスト膜を剥離した
りする処理が行われる。このような処理を行う基板処理
装置において、オゾン水は、従来、純水供給源とノズル
とを流路接続する配管の途中に溶解膜モジュールを介挿
させ、その溶解膜モジュールに純水を流通させることに
より生成されていた。2. Description of the Related Art In the manufacturing process of semiconductor devices, FPDs, etc., for example, ozone water in which pure water is dissolved is carried while supporting a substrate in a horizontal posture or an inclined posture by a plurality of conveying rollers while conveying ozone water. A process of supplying to the substrate from a nozzle to remove organic substances adhering to the surface of the substrate for cleaning, or peeling the resist film formed on the surface of the substrate is performed. In a substrate processing apparatus that performs such processing, conventionally, ozone water has a dissolved film module inserted in the middle of a pipe that connects a pure water supply source and a nozzle, and pure water flows through the dissolved film module. It was generated by
【０００３】溶解膜モジュールは、２重管構造を有して
おり、液体を通さずに気体のみを透過させる材質で形成
された内管の一方の端部を純水供給源に流路接続し、内
管の他方の端部をノズルに流路接続する。また、外管と
内管との間に形成された空間内へオゾンガスを供給する
ために、オゾンガス供給源に接続された配管を外管に連
通接続させる。そして、内管内に純水を流すとともに、
内管と外管との間の空間内にオゾンガスを流すことによ
り、内管の外面側を流れるオゾンガスが、ガス分圧の差
で内管の壁面を通って内管の内面側へ浸透し、オゾンガ
スが内管内を流れる純水中に溶け込んでオゾン水が生成
される。The dissolution membrane module has a double tube structure, and one end of an inner tube made of a material that allows only gas to pass through without passing liquid is connected to a pure water supply source through a flow path. , The other end of the inner pipe is connected to the nozzle through a flow path. Further, in order to supply ozone gas into the space formed between the outer pipe and the inner pipe, the pipe connected to the ozone gas supply source is connected to the outer pipe. Then, while flowing pure water into the inner pipe,
By flowing the ozone gas in the space between the inner pipe and the outer pipe, the ozone gas flowing on the outer surface side of the inner pipe permeates to the inner surface side of the inner pipe through the wall surface of the inner pipe due to the difference in gas partial pressure, Ozone gas is dissolved in pure water flowing through the inner pipe to generate ozone water.
【０００４】上記したように溶解膜モジュールで生成さ
れたオゾン水は、ノズルへ送給され、ノズルから基板へ
供給されて、オゾン水により基板が処理される。そし
て、基板へ供給されたオゾン水は、回収され、中和処理
された後、排水される。このように、従来、オゾン水は
使い捨てにされていた。The ozone water generated by the dissolved film module as described above is sent to the nozzle and is supplied to the substrate from the nozzle, and the substrate is treated with the ozone water. The ozone water supplied to the substrate is collected, neutralized, and then drained. As described above, conventionally, ozone water has been disposable.
【０００５】また、溶解膜モジュールで生成されたオゾ
ン水に臭素または臭化ナトリウム等の臭化物を添加し
て、純水中に次亜臭素酸や臭素酸（以下、「臭素酸等」
という）を生成させ、この臭素酸等を含む処理液を基板
へ供給して、臭素酸等の強い酸化力により基板を処理す
る、といった基板処理装置も提案されている。Further, bromide such as bromine or sodium bromide is added to the ozone water generated in the dissolution membrane module, and hypobromite or bromic acid (hereinafter referred to as "bromic acid") is added to pure water.
Is generated and is supplied to the substrate with the treatment liquid containing bromic acid or the like, and the substrate is treated by a strong oxidizing power of bromic acid or the like, which is also proposed.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
は、基板へ供給されたオゾン水が使い捨てにされてい
た。このため、純水の使用量が増えるといった問題点が
ある。また、回収されたオゾン水を中和処理するために
多量の薬液が消費され、また、その中和処理のための操
作が難しい、といった問題点がある。As described above, conventionally, the ozone water supplied to the substrate has been thrown away. Therefore, there is a problem that the amount of pure water used increases. Further, there is a problem that a large amount of chemical liquid is consumed to neutralize the recovered ozone water, and the operation for the neutralization treatment is difficult.
【０００７】このような問題を解決するために、オゾン
水を使い捨てにせず、回収したオゾン水を、戻り配管を
通って溶解膜モジュールが介挿された送液配管へ戻し、
溶解膜モジュールを通した後にノズルへ送給して、送液
配管および戻り配管を介しオゾン水を循環させ、純水を
再使用する、といった方法を採用することが考えられ
る。しかしながら、回収されたオゾン水は、オゾンの分
解によって生成された酸素を多く含んでいる。このた
め、回収されたオゾン水を溶解膜モジュールに通したと
き、オゾン水が流れる内管内面側とオゾンガスが流れる
内管外面側とでのガス分圧の差が小さくなり、オゾンガ
スが内管の壁面を通って内管内へ浸透する量が少なくな
る。この結果、ノズルへ送給されるオゾン水のオゾン濃
度が低くなり、その濃度は、オゾン水を循環使用すれば
するほど低くなる。このため、オゾン水による基板の処
理効果が次第に低下する、といった問題が発生する。In order to solve such a problem, the ozone water is not thrown away, but the recovered ozone water is returned through the return pipe to the liquid delivery pipe in which the dissolution membrane module is inserted.
It is conceivable to adopt a method in which the solution is supplied to the nozzle after passing through the dissolution membrane module, ozone water is circulated through the liquid supply pipe and the return pipe, and pure water is reused. However, the recovered ozone water contains a large amount of oxygen produced by the decomposition of ozone. For this reason, when the recovered ozone water is passed through the dissolution membrane module, the difference in gas partial pressure between the inner surface of the inner tube through which the ozone water flows and the outer surface of the inner tube through which the ozone gas flows becomes small, and the ozone gas becomes The amount that penetrates into the inner pipe through the wall surface is reduced. As a result, the ozone concentration of the ozone water sent to the nozzle becomes low, and the concentration becomes lower as the ozone water is circulated and used. Therefore, there arises a problem that the effect of treating the substrate with the ozone water is gradually reduced.
【０００８】また、オゾン水に臭素または臭化物を添加
して純水中に臭素酸等を生成させ、その臭素酸等を含む
処理液を基板へ供給して基板を処理する基板処理装置に
おいても、臭素等が添加されるオゾン水のオゾン濃度が
低くなると、純水中に生成される臭素酸等の濃度を高く
することができなくなる。このため、基板の処理を十分
に行うことができなくなる、といった問題が発生する。Further, in a substrate processing apparatus for processing a substrate by adding bromine or bromide to ozone water to generate bromic acid or the like in pure water and supplying a treatment liquid containing the bromic acid or the like to the substrate. When the ozone concentration of ozone water to which bromine or the like is added becomes low, it becomes impossible to increase the concentration of bromic acid or the like generated in pure water. Therefore, there arises a problem that the substrate cannot be sufficiently processed.
【０００９】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、酸化剤を含む処理液を基板へ供給し
て基板を処理する場合において、処理液を循環させて使
用することができるようにするとともに、処理液中の酸
化剤の濃度を高く保持することができる基板処理装置を
提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and when a processing liquid containing an oxidizing agent is supplied to a substrate to process the substrate, the processing liquid can be circulated and used. An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of maintaining the concentration of an oxidizing agent in a processing liquid at a high level.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
酸化剤を含む処理液を基板へ供給して基板の処理が行わ
れる処理部と、酸化剤を含む処理液を、送液路を通って
前記処理部へ送給する処理液供給手段と、を備えた基板
処理装置において、前記処理部において基板へ供給され
た処理液を回収する処理液回収手段と、この処理液回収
手段によって回収された処理液を、前記送液路を通して
循環させるための戻り液路と、前記送液路と前記戻り液
路とで形成される循環経路に介挿して設けられ、内部を
流れる処理液を噴流にしてオゾンガスを吸入し処理液中
にオゾンを溶解させるエゼクタ手段と、このエゼクタ手
段へオゾンガスを供給するオゾンガス供給手段と、をさ
らに備えたことを特徴とする。The invention according to claim 1 is
A processing unit that supplies a processing liquid containing an oxidant to the substrate to process the substrate; and a processing liquid supply unit that supplies the processing liquid containing the oxidant to the processing unit through a liquid supply path. In the provided substrate processing apparatus, a processing liquid collecting means for collecting the processing liquid supplied to the substrate in the processing section, and a return for circulating the processing liquid collected by the processing liquid collecting means through the liquid supply path. An ejector unit which is provided so as to be inserted in a circulation path formed by a liquid passage, the liquid feeding passage and the return liquid passage, and which inhales ozone gas by making the treatment liquid flowing inside into a jet flow to dissolve ozone in the treatment liquid. And ozone gas supply means for supplying ozone gas to the ejector means.
【００１１】請求項２に係る発明は、請求項１記載の基
板処理装置において、前記循環経路の、前記エゼクタ手
段の介挿位置の下流側に、内部を流れる処理液を撹拌さ
せるミキサー手段を介挿させて設けたことを特徴とす
る。According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect, a mixer means for agitating the processing liquid flowing through the circulation path is provided downstream of the insertion position of the ejector means. It is characterized by being installed.
【００１２】請求項３に係る発明は、オゾンガスが溶解
した処理液を基板へ供給して基板の処理が行われる処理
部と、酸化剤を含む処理液を貯留する貯液タンクと、こ
の貯液タンク内に貯留された処理液を、送液路を通って
前記処理部へ送給する処理液供給手段と、を備えた基板
処理装置において、前記処理部において基板へ供給され
た処理液を回収する処理液回収手段と、この処理液回収
手段によって回収された処理液を前記貯液タンク内へ戻
すための戻り液路と、前記貯液タンクの外部に配設され
貯液タンク内に貯留された処理液を貯液タンク内部との
間で循環させるタンク外循環経路と、このタンク外循環
経路に介挿して設けられ、内部を流れる処理液を噴流に
してオゾンガスを吸入し処理液中にオゾンを溶解させる
エゼクタ手段と、このエゼクタ手段へオゾンガスを供給
するオゾンガス供給手段と、をさらに備えたことを特徴
とする。According to a third aspect of the present invention, a processing section for supplying a processing liquid in which ozone gas is dissolved to a substrate to process the substrate, a liquid storage tank for storing the processing liquid containing an oxidant, and this liquid storage are provided. In a substrate processing apparatus including a processing liquid supply unit that supplies the processing liquid stored in a tank to the processing unit through a liquid supply path, the processing liquid supplied to the substrate in the processing unit is recovered. Processing liquid recovery means, a return liquid path for returning the processing liquid recovered by the processing liquid recovery means to the inside of the liquid storage tank, and a return liquid passage arranged outside the liquid storage tank and stored in the liquid storage tank. The tank outside circulation path for circulating the treated solution inside the storage tank and the tank outside circulation path are provided so as to interpose the processing solution flowing in the tank into a jet to suck in ozone gas and to discharge ozone into the processing solution. Ejector means for dissolving Ozone gas supply means for supplying ozone gas to the ejector means, and further comprising a.
【００１３】請求項４に係る発明は、請求項３記載の基
板処理装置において、前記タンク外循環経路の、前記エ
ゼクタ手段の介挿位置の下流側に、内部を流れる処理液
を撹拌させるミキサー手段を介挿させて設けたことを特
徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the third aspect, mixer means for agitating the processing liquid flowing inside the tank outside circulation path downstream of the insertion position of the ejector means. It is characterized by being provided by inserting.
【００１４】請求項５に係る発明は、請求項３または請
求項４記載の基板処理装置において、処理液中に臭素ま
たは臭化物を添加する臭素添加手段をさらに備えたこと
を特徴とする。The invention according to claim 5 is the substrate processing apparatus according to claim 3 or 4, further comprising bromine adding means for adding bromine or bromide to the processing liquid.
【００１５】請求項６に係る発明は、請求項３ないし請
求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
貯液タンクを密閉構造として、その貯液タンク内に貯留
された処理液の液面上方の空間を陽圧に保つ陽圧保持手
段を有することを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to any one of the third to fifth aspects, the liquid storage tank has a closed structure and the processing liquid stored in the liquid storage tank is It is characterized by having a positive pressure maintaining means for maintaining a positive pressure in the space above the liquid surface.
【００１６】請求項７に係る発明は、請求項３ないし請
求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
貯液タンク内に貯留された処理液を冷却する冷却手段を
有することを特徴とする。The invention according to claim 7 is the substrate processing apparatus according to any one of claims 3 to 6, further comprising cooling means for cooling the processing liquid stored in the liquid storage tank. And
【００１７】請求項１に係る発明の基板処理装置におい
ては、処理部において基板へ供給された処理液は、処理
液回収手段によって回収され、回収された処理液は、戻
り液路を通って送液路へ戻される。そして、送液路へ戻
された処理液あるいは戻り液路を通って送液路へ戻され
る途中の処理液は、送液路と戻り液路とで形成される循
環経路に介挿されたエゼクタ手段を通過するときに噴流
とされて、オゾンガス供給手段からエゼクタ手段へ供給
されるオゾンガスが液路内へ吸入され、処理液中にオゾ
ンが溶解させられる。このようにしてオゾン濃度が高く
された処理液が、処理液供給手段により送液路を通って
処理部へ送給され、循環使用される。In the substrate processing apparatus according to the first aspect of the present invention, the processing liquid supplied to the substrate in the processing section is recovered by the processing liquid recovery means, and the recovered processing liquid is sent through the return liquid passage. Returned to the liquid channel. Then, the processing liquid returned to the liquid supply path or the processing liquid being returned to the liquid supply path through the return liquid path is an ejector inserted in a circulation path formed by the liquid supply path and the return liquid path. The ozone gas supplied to the ejector means from the ozone gas supply means as a jet flow when passing through the means is sucked into the liquid passage, and ozone is dissolved in the processing liquid. The treatment liquid whose ozone concentration has been increased in this way is fed by the treatment liquid supply means to the treatment portion through the liquid feed passage and is circulated for use.
【００１８】請求項２に係る発明の基板処理装置では、
エゼクタ手段によって液路内に吸入され気泡で存在して
いるオゾンガスが、ミキサー手段によって処理液中に溶
解させられる。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 2,
The ozone gas sucked into the liquid passage by the ejector means and present as bubbles is dissolved in the treatment liquid by the mixer means.
【００１９】請求項３に係る発明の基板処理装置におい
ては、処理部において基板へ供給された処理液は、処理
液回収手段によって回収され、回収された処理液は、戻
り液路を通って貯液タンク内へ戻される。貯液タンク内
に貯留された処理液は、貯液タンク内部とタンク外循環
経路との間で循環させられており、タンク外循環経路に
介挿されたエゼクタ手段を処理液が通過するときに噴流
とされて、オゾンガス供給手段からエゼクタ手段へ供給
されるオゾンガスが循環経路内へ吸入され、処理液中に
オゾンが溶解させられる。したがって、貯液タンク内に
貯留された処理液中のオゾンの濃度は、高く保持される
ことになる。そして、貯液タンク内に貯留されたオゾン
濃度の高い処理液が、処理液供給手段により貯液タンク
から送液路を通って処理部へ送給される。このようにし
て、オゾン濃度を高く保持しつつ処理液が循環使用され
る。In the substrate processing apparatus of the third aspect of the present invention, the processing liquid supplied to the substrate in the processing section is recovered by the processing liquid recovery means, and the recovered processing liquid is stored through the return liquid passage. It is returned to the liquid tank. The processing liquid stored in the liquid storage tank is circulated between the inside of the liquid storage tank and the tank external circulation path, and when the processing liquid passes through the ejector means inserted in the tank external circulation path, The ozone gas, which is made into a jet flow and is supplied from the ozone gas supply means to the ejector means, is sucked into the circulation path, and the ozone is dissolved in the processing liquid. Therefore, the concentration of ozone in the treatment liquid stored in the liquid storage tank is kept high. Then, the processing liquid having a high ozone concentration stored in the liquid storage tank is fed from the liquid storage tank to the processing unit through the liquid feed path by the processing liquid supply means. In this way, the treatment liquid is circulated and used while keeping the ozone concentration high.
【００２０】請求項４に係る発明の基板処理装置では、
エゼクタ手段によって循環経路内に吸入され気泡で存在
しているオゾンガスが、ミキサー手段によって処理液中
に溶解させられる。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 4,
The ozone gas sucked into the circulation path by the ejector means and present as bubbles is dissolved in the treatment liquid by the mixer means.
【００２１】請求項５に係る発明の基板処理装置では、
臭素添加手段によって処理液中に臭素または臭化物が添
加されることにより、処理液中で臭素酸等が生成する。
そして、臭素酸等を含む処理液が基板へ供給されること
により、臭素酸等の酸化力によって基板が効率良く処理
される。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 5,
By adding bromine or bromide to the treatment liquid by the bromine addition means, bromic acid or the like is produced in the treatment liquid.
Then, by supplying the treatment liquid containing bromic acid or the like to the substrate, the substrate is efficiently treated by the oxidizing power of bromic acid or the like.
【００２２】請求項６に係る発明の基板処理装置では、
貯液タンク内に貯留された処理液の液面上方の空間が陽
圧保持手段によって陽圧に保たれることにより、貯液タ
ンク内での処理液中のオゾン溶解量が増える。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 6,
Since the space above the liquid surface of the treatment liquid stored in the liquid storage tank is kept at a positive pressure by the positive pressure holding means, the amount of ozone dissolved in the treatment liquid in the liquid storage tank increases.
【００２３】請求項７に係る発明の基板処理装置では、
貯液タンク内に貯留された処理液が冷却手段によって冷
却され処理液の温度が低くされることにより、純水に対
するオゾンガスの溶解度が大きくなる。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 7,
The treatment liquid stored in the liquid storage tank is cooled by the cooling means and the temperature of the treatment liquid is lowered, whereby the solubility of ozone gas in pure water increases.
【００２４】[0024]
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図面を参照しながら説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２５】図１は、この発明の実施形態の１例を示
し、基板処理装置の全体構成を模式的に示す概略図であ
る。この基板処理装置は、複数の搬送ローラ（図示せ
ず）によって基板Ｗを水平姿勢または傾斜姿勢で支持し
つつ搬送しながら基板Ｗの処理が行われる処理部１０を
備えている。FIG. 1 is a schematic view showing an example of the embodiment of the present invention and schematically showing the overall structure of a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes a processing unit 10 that processes the substrate W while transporting the substrate W while supporting the substrate W in a horizontal posture or an inclined posture by a plurality of transport rollers (not shown).
【００２６】処理部１０には、複数の搬送ローラによっ
て搬送される基板Ｗの上方に、基板Ｗの上面へ酸化剤を
含む処理液、例えば純水中にオゾンを溶解させたオゾン
水を噴射して供給するシャワーノズル１２が配設されて
いる。また、処理部１０の下部には、シャワーノズル１
２から基板Ｗへ供給されて基板Ｗ上から流下したオゾン
水を回収するための回収パン１４が配設されている。In the processing section 10, a processing liquid containing an oxidizer, such as ozone water in which pure water is dissolved in ozone, is sprayed onto the upper surface of the substrate W above the substrate W transported by a plurality of transport rollers. A shower nozzle 12 for supplying the water is provided. In addition, the shower nozzle 1 is provided below the processing unit 10.
A recovery pan 14 for recovering the ozone water supplied to the substrate W from 2 and flowing down from the substrate W is provided.
【００２７】シャワーノズル１２には、送液配管１６が
連通接続されており、送液配管１６は、オゾン水１８が
貯留された貯液タンク２０に流路接続されている。送液
配管１６には、送液ポンプ２２およびフィルタ２３が介
挿して設けられている。また、回収パン１４には、戻り
配管２４が接続されており、戻り配管２４の先端部は、
貯液タンク２０内に挿入されている。戻り配管２４に
は、液回収ポンプ２６およびフィルタ２８がそれぞれ介
挿して設けられている。この戻り配管２４の内部には、
回収されたオゾン水が常に満たされた状態にする。ま
た、送液配管１６を通した送液流量と戻り配管２４を通
した回収液量とは、それらをほぼ同量にしておく。A liquid supply pipe 16 is connected to the shower nozzle 12, and the liquid supply pipe 16 is connected to a liquid storage tank 20 in which ozone water 18 is stored. A liquid feed pump 22 and a filter 23 are provided to be inserted in the liquid feed pipe 16. A return pipe 24 is connected to the recovery pan 14, and the tip of the return pipe 24 is
It is inserted in the liquid storage tank 20. The return pipe 24 is provided with a liquid recovery pump 26 and a filter 28, respectively. Inside the return pipe 24,
Keep the collected ozone water full. Further, the flow rate of the liquid fed through the liquid feed pipe 16 and the amount of the recovered liquid passed through the return pipe 24 are set to be substantially the same.
【００２８】貯液タンク２０は、密閉構造を有してお
り、その内部に貯留されたオゾン水１８の液面上方の空
間に連通するように、開閉弁３０が介挿されたオゾンガ
ス排気管３２が付設されている。貯液タンク２０内は、
オゾン水１８の液面上方の空間がオゾンガスで満たされ
て陽圧、例えば５８０Ｐａ〜９８０Ｐａの陽圧に保持さ
れるように開閉弁３０で排気調整される。このように、
貯液タンク２０内のオゾン水１８の液面上方の空間を陽
圧に保つことにより、オゾン水１８中からの脱オゾンを
抑制して、オゾンガスをオゾン水１８中に溶解させ易く
する。また、貯液タンク２０の内部には、オゾン水１８
を冷却、例えば１５℃〜２０℃の温度に冷却するため
に、例えば内部に冷却水が流される螺旋状のチラー配管
３４が、貯液タンク２０内のオゾン水１８中に浸漬する
ように設けられている。このようにオゾン水を冷却する
ことにより、純水に対するオゾンガスの溶解度が大きく
なる。The liquid storage tank 20 has a hermetically sealed structure, and an ozone gas exhaust pipe 32 having an opening / closing valve 30 inserted therein so as to communicate with the space above the liquid surface of the ozone water 18 stored therein. Is attached. Inside the liquid storage tank 20,
The open / close valve 30 performs exhaust adjustment so that the space above the liquid surface of the ozone water 18 is filled with ozone gas and is maintained at a positive pressure, for example, a positive pressure of 580 Pa to 980 Pa. in this way,
By maintaining the space above the liquid surface of the ozone water 18 in the liquid storage tank 20 at a positive pressure, deozone from the ozone water 18 is suppressed and ozone gas is easily dissolved in the ozone water 18. In addition, inside the liquid storage tank 20, ozone water 18
For cooling, for example, to a temperature of 15 ° C. to 20 ° C., for example, a spiral chiller pipe 34 through which cooling water flows is provided so as to be immersed in the ozone water 18 in the liquid storage tank 20. ing. By cooling the ozone water in this manner, the solubility of ozone gas in pure water increases.
【００２９】貯液タンク２０の外部には、貯液タンク２
０に形設された流出口および流入口に両端がそれぞれ連
通接続した液循環用配管３６が配設されている。液循環
用配管３６には、液循環ポンプ３８が介挿して設けられ
ており、この液循環ポンプ３８が作動することにより、
貯液タンク２０の内部とその外部の液循環用配管３６と
の間でオゾン水１８が循環するようになっている。Outside the liquid storage tank 20, the liquid storage tank 2 is provided.
A liquid circulation pipe 36 having both ends connected to the outflow port and the inflow port, which are formed at 0, is provided. A liquid circulation pump 38 is provided so as to be inserted in the liquid circulation pipe 36. By operating the liquid circulation pump 38,
The ozone water 18 circulates between the inside of the liquid storage tank 20 and the liquid circulation pipe 36 outside thereof.
【００３０】液循環用配管３６の、液循環ポンプ３８の
下流側には、エゼクタ４０が介挿して設けられている。
エゼクタ４０は、入口および出口が液循環用配管３６に
それぞれ連通接続され一部が狭隘に形成された液通路、
および、オゾンガス供給源に流路接続されたオゾンガス
供給配管４２に一端が連通接続され他端が液通路の狭隘
部分に連通したガス通路が形成された構造を有してい
る。液循環ポンプ３８で加圧されて液循環用配管３６か
らエゼクタ４０の液通路内に流入したオゾン水は、液通
路の狭隘部分を通過するときに流速を高められて噴流と
され、その噴流にガス通路内のオゾンガスが巻き込まれ
て液通路内へ吸入され、吸入されたオゾンガスがオゾン
水中に溶解する。このようにして、オゾン水がエゼクタ
４０を通過するときに、オゾン水の濃度が高められる。An ejector 40 is provided on the downstream side of the liquid circulation pump 38 in the liquid circulation pipe 36.
The ejector 40 has a liquid passage whose inlet and outlet are respectively connected to the liquid circulation pipe 36 and partially formed in a narrow space,
In addition, the ozone gas supply pipe 42, which is connected to the ozone gas supply source in a flow path, has a structure in which a gas passage is formed, one end of which is connected and the other end of which is connected to a narrow portion of the liquid passage. The ozone water, which is pressurized by the liquid circulation pump 38 and flows into the liquid passage of the ejector 40 from the liquid circulation pipe 36, is made into a jet stream by increasing the flow velocity when passing through the narrow portion of the liquid passage. The ozone gas in the gas passage is caught and sucked into the liquid passage, and the sucked ozone gas is dissolved in the ozone water. In this way, the concentration of ozone water is increased when the ozone water passes through the ejector 40.
【００３１】また、液循環用配管３６の、エゼクタ４０
の介挿位置の下流側には、ミキサー４４が介挿して設け
られている。このミキサー４４は、その内部を流れるオ
ゾン水を撹拌させ、エゼクタ４０によって液循環用配管
３６内に吸入され気泡で存在しているオゾンガスをオゾ
ン水中に溶解させて、オゾン水のオゾン濃度をより高め
るために設置されるが、特に必要が無ければ設けなくて
もよい。ミキサー４４として、例えば、その内部の流路
が螺旋状に形成され、この流路中を送液されるオゾン水
を撹拌させるものが用いられる。In addition, the ejector 40 of the liquid circulation pipe 36
A mixer 44 is provided on the downstream side of the insertion position of. The mixer 44 stirs the ozone water flowing therein, dissolves the ozone gas that is sucked into the liquid circulation pipe 36 by the ejector 40 and is present in the form of bubbles in the ozone water, and further increases the ozone concentration of the ozone water. It is installed for this purpose, but may be omitted if not particularly necessary. As the mixer 44, for example, a mixer is used, in which a flow path inside is formed in a spiral shape, and the ozone water sent through the flow path is stirred.
【００３２】上記した構成を有する基板処理装置では、
貯液タンク２０内に貯留されたオゾン水１８は、貯液タ
ンク２０の内部と液循環用配管３６との間で循環させら
れ、液循環用配管３６に介挿されたエゼクタ４０をオゾ
ン水が通過するときにオゾン水中にオゾンが溶解させら
れる。したがって、貯液タンク２０内に貯留されたオゾ
ン水中のオゾンの濃度は、所定濃度に高く保持される。
このように所定の高濃度に保持されたオゾン水１８が、
貯液タンク２０内から送液配管１６を通って処理部１０
のシャワーノズル１２へ送給され、シャワーノズル１２
から基板Ｗへ供給される。したがって、オゾン水による
基板Ｗの洗浄等の処理が常に十分に行われることとな
る。シャワーノズル１２から基板Ｗへ供給され基板Ｗ上
から流下したオゾン水は、回収パン１４によって回収さ
れ、回収されたオゾン水は、戻り配管２４を通って貯液
タンク２０内へ戻される。貯液タンク２０内へ戻された
オゾン水１８は、上記したように、貯液タンク２０の内
部と液循環用配管３６との間で循環させられる間に、エ
ゼクタ４０によってオゾンが溶解させられて所定のオゾ
ン濃度とされる。In the substrate processing apparatus having the above structure,
The ozone water 18 stored in the liquid storage tank 20 is circulated between the inside of the liquid storage tank 20 and the liquid circulation pipe 36, and the ozone water is supplied to the ejector 40 inserted in the liquid circulation pipe 36. Ozone is dissolved in the ozone water as it passes. Therefore, the concentration of ozone in the ozone water stored in the liquid storage tank 20 is kept high at a predetermined concentration.
In this way, the ozone water 18 held at a predetermined high concentration is
From the liquid storage tank 20 through the liquid delivery pipe 16 to the processing unit 10
To the shower nozzle 12 of the
To the substrate W. Therefore, the processing such as cleaning the substrate W with ozone water is always sufficiently performed. The ozone water supplied to the substrate W from the shower nozzle 12 and flowing down from the substrate W is recovered by the recovery pan 14, and the recovered ozone water is returned to the liquid storage tank 20 through the return pipe 24. As described above, the ozone water 18 returned into the liquid storage tank 20 is dissolved in ozone by the ejector 40 while being circulated between the inside of the liquid storage tank 20 and the liquid circulation pipe 36. It has a predetermined ozone concentration.
【００３３】次に、図１に示した構成の装置によりオゾ
ン水を生成させた実験例について説明する。実験では、
貯液タンク２０内に４０Ｌの純水を貯留させ、液温を１
５℃〜１８℃に保ち、液循環用配管３６を通して循環さ
せるオゾン水の循環量を１７Ｌ／ｍｉｎとし、送液配管
１６を通して処理部１０へ送給するオゾン水の送液量を
６Ｌ／ｍｉｎ〜１５Ｌ／ｍｉｎとした。また、オゾン発
生器（図示せず）からエゼクタ４０へ送給されるオゾン
ガスのオゾン濃度は１６２ｇ／Ｎｍ３であり、オゾンガ
スの供給量は５Ｌ／ｍｉｎであった。したがって、エゼ
クタ４０へ供給されるオゾン量は、１６２ｇ／Ｎｍ３
×（５Ｌ／ｍｉｎ／１０００）＝０．８１ｇ／ｍｉｎで
あった。Next, an experimental example in which ozone water is produced by the apparatus having the configuration shown in FIG. 1 will be described. In the experiment,
40 L of pure water is stored in the liquid storage tank 20 and the liquid temperature is set to 1
Keeping the temperature at 5 ° C to 18 ° C, the circulation rate of ozone water circulating through the liquid circulation pipe 36 is 17 L / min, and the feeding rate of ozone water fed to the processing unit 10 through the feeding pipe 16 is 6 L / min. It was set to 15 L / min. Further, the ozone concentration of the ozone gas sent from the ozone generator (not shown) to the ejector 40 was 162 g / Nm 3 , and the supply amount of the ozone gas was 5 L / min. Therefore, the amount of ozone supplied to the ejector 40 is 162 g / Nm 3
× (5 L / min / 1000) = 0.81 g / min.
【００３４】最初は、処理部１０への送液を行わずに、
貯液タンク２０内の純水を液循環用配管３６を通して循
環させることによりオゾン水を生成させる。オゾン水の
オゾン濃度は、ある濃度、実験では４７ｐｐｍで飽和す
る。したがって、４０Ｌの純水をオゾン濃度４７ｐｐｍ
のオゾン水とするために必要なオゾン量は、４７ｍｇ／
Ｌ×４０Ｌ＝１．８８ｇである。純水中へのオゾンガス
の溶解効率が１００％であるとした場合、計算上でのオ
ゾンガス供給時間（オゾン水のオゾン飽和時間）は、
１．８８ｇ／（０．８１ｇ／ｍｉｎ）＝２．３２分とな
る。一方、実験でのオゾンガス供給時間は、約１８分
（純水量４０Ｌ、循環量１７Ｌ／ｍｉｎ）であったこと
から、純水中へのオゾンガスの溶解効率は、（２．３２
分／１８分）×（４０Ｌ／１７Ｌ）×１００％＝３０．
３％となる。また、循環比率（純水量／循環量）を変え
てオゾン水のオゾン飽和時間を実験により求め、その飽
和時間から溶解効率をそれぞれ算出した。その結果を表
１に示す。First, without feeding the liquid to the processing section 10,
Ozone water is generated by circulating pure water in the liquid storage tank 20 through the liquid circulation pipe 36. The ozone concentration of ozone water is saturated at a certain concentration, 47 ppm in the experiment. Therefore, 40 L of pure water has an ozone concentration of 47 ppm.
The amount of ozone required to make the ozone water is 47 mg /
L × 40L = 1.88 g. Assuming that the dissolution efficiency of ozone gas in pure water is 100%, the calculated ozone gas supply time (ozone saturation time of ozone water) is
1.88 g / (0.81 g / min) = 2.32 minutes. On the other hand, since the ozone gas supply time in the experiment was about 18 minutes (pure water amount 40 L, circulation amount 17 L / min), the dissolution efficiency of ozone gas in pure water was (2.32).
Min / 18 min) × (40 L / 17 L) × 100% = 30.
It becomes 3%. Further, the ozone saturation time of ozone water was experimentally obtained by changing the circulation ratio (amount of pure water / circulation amount), and the dissolution efficiency was calculated from the saturation time. The results are shown in Table 1.
【００３５】[0035]
【表１】 [Table 1]
【００３６】表１に示した結果より、実験で使用したエ
ゼクタ４０でのオゾンガスの溶解効率は、約３０％であ
ることが分かる。なお、循環比率が１であるときの飽和
時間は、約７．７分であった。From the results shown in Table 1, it can be seen that the dissolution efficiency of ozone gas in the ejector 40 used in the experiment is about 30%. The saturation time when the circulation ratio was 1 was about 7.7 minutes.
【００３７】以上の実験により、オゾン水を生成させる
のに際してオゾン水中のオゾンが飽和濃度に達するまで
の時間を短縮させるためには、循環比率は、出来るだけ
小さくする方が良い。但し、循環比率を小さくし過ぎる
と、貯液タンク２０内に貯留されているオゾン水が、液
循環用配管３６を通って貯液タンク２０内へ戻ってくる
オゾン水により激しく撹拌されて、オゾン水中に多量の
気泡が発生することになり、この気泡により液循環ポン
プ３８や送液ポンプ２２の動作に悪影響が出る恐れがあ
る。これらのことを考慮すると、循環量を純水量の約１
／２（循環比率：２）とするのが適当である。From the above experiment, in order to shorten the time required for ozone in the ozone water to reach the saturated concentration when ozone water is generated, it is better to make the circulation ratio as small as possible. However, if the circulation ratio is made too small, the ozone water stored in the liquid storage tank 20 is vigorously stirred by the ozone water returning to the liquid storage tank 20 through the liquid circulation pipe 36, and the ozone water is discharged. A large amount of bubbles are generated in the water, and the bubbles may adversely affect the operations of the liquid circulation pump 38 and the liquid feed pump 22. Considering these points, the circulation amount is about 1 of the pure water amount.
/ 2 (circulation ratio: 2) is suitable.
【００３８】また、上記したようにして生成されたオゾ
ン水を、貯液タンク２０内から送液配管１６を通って処
理部１０へ送給し、処理部１０で回収されたオゾン水
を、戻り配管２４を通って貯液タンク２０内へ戻して、
貯液タンク２０と処理部１０との間でオゾン水を循環さ
せながら、処理部１０でオゾン水による基板Ｗの処理を
行うと、貯液タンク２０内のオゾン水１８のオゾン濃度
は、初期濃度（４７ｐｐｍ）より低下するが、ある濃度
で安定する。実験では、送液量が６Ｌ／ｍｉｎであると
きに２７ｐｐｍの濃度で、送液量が１５Ｌ／ｍｉｎであ
るときに１５ｐｐｍの濃度で安定する。オゾン濃度の安
定したオゾン水は、基板Ｗの処理を連続して１時間行っ
ても、オゾン濃度が変化しなかった。Further, the ozone water generated as described above is fed from the inside of the liquid storage tank 20 to the processing section 10 through the liquid feeding pipe 16, and the ozone water collected by the processing section 10 is returned. Return to the liquid storage tank 20 through the pipe 24,
When the processing unit 10 processes the substrate W with the ozone water while circulating the ozone water between the liquid storage tank 20 and the processing unit 10, the ozone concentration of the ozone water 18 in the liquid storage tank 20 becomes the initial concentration. Although it is lower than (47 ppm), it stabilizes at a certain concentration. In the experiment, the concentration is 27 ppm when the liquid transfer rate is 6 L / min, and the concentration is 15 ppm when the liquid transfer rate is 15 L / min. With ozone water having a stable ozone concentration, the ozone concentration did not change even after the substrate W was continuously treated for 1 hour.
【００３９】また、図１に示した構成の基板処理装置に
おいて、臭素または臭化ナトリウム、臭化カリウム等の
臭化物を貯液タンク２０内のオゾン水１８中に添加する
臭素添加装置４６（図中に二点鎖線で示す）を配設する
ようにしてもよい。このような構成としたときは、例え
ば臭化ナトリウムがオゾン水中に添加されることによ
り、臭素酸等が生成され、臭素酸等を含む（臭化ナトリ
ウムの添加量によってはオゾンも含む）処理液が送液配
管１６を通って処理部１０へ送給され、臭素酸等を含む
処理液によって基板Ｗが処理される。そして、臭素酸等
の強い酸化力により、例えば、基板Ｗの表面に付着した
有機物が分解して除去され、高い洗浄効果が得られる。
また、臭素酸等の分解速度は、オゾンの分解速度よりも
遅く、臭素酸等を含む処理液の寿命は３日間ほどあるの
で、オゾン水よりも長持ちする。Further, in the substrate processing apparatus having the configuration shown in FIG. 1, a bromine addition device 46 (in the drawing) for adding bromine or bromide such as sodium bromide or potassium bromide to the ozone water 18 in the storage tank 20. (Indicated by a chain double-dashed line) may be provided. When such a configuration is adopted, for example, a treatment liquid containing bromic acid, etc. (for example, ozone is also included depending on the amount of sodium bromide added), which produces bromic acid, etc., when sodium bromide is added to ozone water. Is supplied to the processing unit 10 through the liquid supply pipe 16, and the substrate W is processed by the processing liquid containing bromic acid or the like. Then, due to strong oxidizing power such as bromic acid, for example, organic substances attached to the surface of the substrate W are decomposed and removed, and a high cleaning effect is obtained.
Further, the decomposition rate of bromic acid or the like is slower than the decomposition rate of ozone, and since the treatment liquid containing bromic acid or the like has a life of about 3 days, it lasts longer than ozone water.
【００４０】次に、図２に示した基板処理装置は、液循
環用配管を備えていない実施形態に係るものである。図
２において、図１で使用した符号と同一符号を付したも
のは、図１に関して説明したものと同一機能を有する同
一の部材や要素であり、ここでは、それらについての説
明を省略する。Next, the substrate processing apparatus shown in FIG. 2 relates to an embodiment which is not provided with a liquid circulation pipe. In FIG. 2, the same reference numerals as those used in FIG. 1 denote the same members and elements having the same functions as those described with reference to FIG. 1, and description thereof will be omitted here.
【００４１】この基板処理装置では、送液ポンプ４８お
よびフィルタ２３が介挿して設けられ貯液タンク２０内
のオゾン水１８を処理部１０のシャワーノズル１２へ送
給するための送液配管５０に、オゾン水中にオゾンを溶
解させるエゼクタ４０およびミキサー４４がそれぞれ介
挿して設けられている。このような構成の装置でも、オ
ゾン水を貯液タンク２０と処理部１０との間で循環させ
ながら、オゾン水のオゾン濃度をある濃度に保持しつ
つ、そのオゾン水によって基板Ｗを十分に処理すること
ができる。In this substrate processing apparatus, a liquid feed pump 48 and a filter 23 are provided so as to be inserted in a liquid feed pipe 50 for feeding the ozone water 18 in the liquid storage tank 20 to the shower nozzle 12 of the processing section 10. An ejector 40 and a mixer 44 for dissolving ozone in ozone water are provided so as to be interposed therebetween. Even in the apparatus having such a configuration, while the ozone water is circulated between the liquid storage tank 20 and the processing unit 10, the ozone concentration of the ozone water is maintained at a certain concentration, and the substrate W is sufficiently processed by the ozone water. can do.
【００４２】図３に示した基板処理装置は、処理部にお
いて回収されたオゾン水を貯液タンク内へ戻さず直接に
送液配管へ戻すようにした実施形態に係るものである。
図３において、図１で使用した符号と同一符号を付した
ものは、図１に関して説明したものと同一機能を有する
同一の部材や要素であり、ここでは、それらについての
説明を省略する。The substrate processing apparatus shown in FIG. 3 relates to an embodiment in which the ozone water recovered in the processing section is directly returned to the liquid delivery pipe without being returned to the liquid storage tank.
In FIG. 3, the same reference numerals as those used in FIG. 1 denote the same members and elements having the same functions as those described with reference to FIG. 1, and the description thereof will be omitted here.
【００４３】この基板処理装置は、オゾン水１８が貯留
された貯液タンク５２と処理部１０のシャワーノズル１
２とを流路接続し送液ポンプ５４、フィルタ２３、エゼ
クタ４０およびミキサー４４がそれぞれ介挿して設けら
れた送液配管５６に、回収パン１４に接続された戻り配
管５８を、送液ポンプ５４の吸込み側で連通させた構成
を有している。送液配管５６の、貯液タンク５２と送液
ポンプ５４との間、および、戻り配管５８には、それぞ
れ開閉弁６０、６２が介挿されている。この基板処理装
置では、初期において、オゾン水１８が貯液タンク５２
内から送液配管５６を通って処理部１０のシャワーノズ
ル１２へ送給されるが、その後は、開閉弁６０が閉じら
れて、オゾン水は、送液配管５６に介挿されたエゼクタ
４０でオゾンを溶解させつつ、戻り配管５８と送液配管
５６とで形成される循環経路を循環し、処理部１０にお
いて基板Ｗの処理に使用される。このような構成の装置
でも、オゾン水のオゾン濃度をある濃度に保持しつつ、
そのオゾン水によって基板Ｗを十分に処理することが可
能である。In this substrate processing apparatus, the liquid storage tank 52 in which the ozone water 18 is stored and the shower nozzle 1 of the processing section 10 are provided.
2 and the liquid feed pump 54, the filter 23, the ejector 40, and the mixer 44, which are connected to each other through a flow path, and the return pipe 58 connected to the recovery pan 14, and the liquid feed pump 54. Has a structure in which it is communicated with the suction side. On-off valves 60 and 62 are inserted in the liquid supply pipe 56 between the liquid storage tank 52 and the liquid supply pump 54 and in the return pipe 58, respectively. In this substrate processing apparatus, the ozone water 18 is initially stored in the liquid storage tank 52.
Although it is supplied from the inside to the shower nozzle 12 of the processing unit 10 through the liquid supply pipe 56, the on-off valve 60 is closed thereafter, and the ozone water is ejected by the ejector 40 inserted in the liquid supply pipe 56. While dissolving ozone, it circulates in the circulation path formed by the return pipe 58 and the liquid sending pipe 56, and is used for processing the substrate W in the processing section 10. Even with a device having such a configuration, while maintaining the ozone concentration of ozone water at a certain concentration,
The substrate W can be sufficiently treated with the ozone water.
【００４４】なお、上記した実施形態では、この発明
を、搬送ローラによって基板を支持しつつ搬送しながら
基板を処理する基板処理装置に適用した例を示したが、
例えば、処理槽内に貯留された処理液中に基板を浸漬さ
せて処理するウェットステーションなどにも、この発明
は適用し得るものである。In the above embodiment, an example in which the present invention is applied to a substrate processing apparatus that processes a substrate while transporting it while supporting it by a transport roller has been shown.
For example, the present invention can be applied to a wet station in which a substrate is immersed in a treatment liquid stored in a treatment tank for treatment.
【００４５】[0045]
【発明の効果】請求項１および請求項３に係る各発明の
基板処理装置を使用すると、処理液中の酸化剤の濃度を
高く保持しつつ、処理液を循環させて使用することがで
き、このため、基板の処理を常に十分に行うことがで
き、また、純水の使用量を低減させ、廃棄される処理液
の中和処理量も少なくすることができる。When the substrate processing apparatus of each of the first and third aspects of the present invention is used, the processing liquid can be circulated and used while keeping the concentration of the oxidizing agent in the processing liquid high. For this reason, the substrate can be always processed sufficiently, the amount of pure water used can be reduced, and the amount of neutralization processing of the discarded processing liquid can be reduced.
【００４６】請求項２および請求項４に係る各発明の基
板処理装置では、処理液中の酸化剤の濃度をより高くす
ることができる。In the substrate processing apparatus according to each of the second and fourth aspects of the invention, the concentration of the oxidizing agent in the processing liquid can be increased.
【００４７】請求項５に係る発明の基板処理装置では、
基板の処理効果をより高めることができる。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 5,
The processing effect on the substrate can be further enhanced.
【００４８】請求項６に係る発明の基板処理装置では、
貯液タンク内に貯留された処理液中のオゾン溶解量を増
やして、処理液中の酸化剤の濃度をより高くすることが
できる。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 6,
By increasing the amount of ozone dissolved in the treatment liquid stored in the liquid storage tank, the concentration of the oxidizing agent in the treatment liquid can be increased.
【００４９】請求項７に係る発明の基板処理装置では、
純水に対するオゾンガスの溶解度を大きくして、貯液タ
ンク内に貯留された処理液中の酸化剤の濃度をより高く
することができる。In the substrate processing apparatus of the invention according to claim 7,
By increasing the solubility of ozone gas in pure water, the concentration of the oxidant in the treatment liquid stored in the liquid storage tank can be increased.
【図１】この発明の実施形態の１例を示し、基板処理装
置の全体構成を模式的に示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of an embodiment of the present invention and schematically showing an overall configuration of a substrate processing apparatus.
【図２】図１に示した基板処理装置に係る発明とは異な
る発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の全体構
成を模式的に示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of an embodiment of an invention different from the invention relating to the substrate processing apparatus shown in FIG. 1, and schematically showing the overall configuration of the substrate processing apparatus.
【図３】同じく異なる発明の別の実施形態を示し、基板
処理装置の全体構成を模式的に示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing another embodiment of a different invention and schematically showing an overall configuration of a substrate processing apparatus.
Ｗ 基板 １０ 処理部 １２ シャワーノズル １４ 回収パン １６、５０、５６ 送液配管 １８ オゾン水 ２０、５２ 貯液タンク ２２、４８、５４ 送液ポンプ ２３、２８ フィルタ ２４、５８ 戻り配管 ２６ 液回収ポンプ ３０、６０、６２ 開閉弁 ３２ オゾンガス排気管 ３４ チラー配管 ３６ 液循環用配管 ３８ 液循環ポンプ ４０ エゼクタ ４２ オゾンガス供給配管 ４４ ミキサー ４６ 臭素添加装置 W board 10 Processing unit 12 shower nozzle 14 Collection pan 16, 50, 56 Liquid supply piping 18 Ozone water 20, 52 Storage tank 22, 48, 54 Liquid feed pump 23, 28 filters 24, 58 Return piping 26 Liquid Recovery Pump 30, 60, 62 Open / close valve 32 Ozone gas exhaust pipe 34 Chiller piping 36 Liquid circulation piping 38 Liquid circulation pump 40 ejector 42 Ozone gas supply pipe 44 mixer 46 Bromine addition device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０８Ｂ 3/10 Ｂ０８Ｂ 3/10 Ｚ Ｃ０２Ｆ 1/78 Ｃ０２Ｆ 1/78 Ｆターム(参考） 3B201 AB14 BB22 BB33 BB82 BB89 BB93 BB98 CD22 4D050 AA08 BB02 BD03 CA09 CA15 4G035 AA02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B08B 3/10 B08B 3/10 Z C02F 1/78 C02F 1/78 F term (reference) 3B201 AB14 BB22 BB33 BB82 BB89 BB93 BB98 CD22 4D050 AA08 BB02 BD03 CA09 CA15 4G035 AA02
Claims (7)
板の処理が行われる処理部と、 酸化剤を含む処理液を、送液路を通って前記処理部へ送
給する処理液供給手段と、を備えた基板処理装置におい
て、 前記処理部において基板へ供給された処理液を回収する
処理液回収手段と、 この処理液回収手段によって回収された処理液を、前記
送液路を通して循環させるための戻り液路と、 前記送液路と前記戻り液路とで形成される循環経路に介
挿して設けられ、内部を流れる処理液を噴流にしてオゾ
ンガスを吸入し処理液中にオゾンを溶解させるエゼクタ
手段と、 このエゼクタ手段へオゾンガスを供給するオゾンガス供
給手段と、をさらに備えたことを特徴とする基板処理装
置。1. A processing unit for supplying a processing liquid containing an oxidant to a substrate to process the substrate, and a processing liquid for supplying the processing liquid containing an oxidant to the processing unit through a liquid supply path. In a substrate processing apparatus including a supply unit, a processing liquid recovery unit that recovers the processing liquid supplied to the substrate in the processing unit, and the processing liquid recovered by the processing liquid recovery unit, through the liquid supply path. A return liquid passage for circulation, and a circulation passage formed by the liquid feed passage and the return liquid passage are provided so as to interpose the treatment liquid flowing inside to make ozone gas and suck ozone gas into the treatment liquid. A substrate processing apparatus further comprising: an ejector means for melting the gas and an ozone gas supply means for supplying ozone gas to the ejector means.
に、内部を流れる処理液を撹拌させるミキサー手段が介
挿して設けられたことを特徴とする基板処理装置。2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein mixer means for agitating the processing liquid flowing therein is provided downstream of the position where the ejector means is inserted in the circulation path. And a substrate processing apparatus.
給して基板の処理が行われる処理部と、 酸化剤を含む処理液を貯留する貯液タンクと、 この貯液タンク内に貯留された処理液を、送液路を通っ
て前記処理部へ送給する処理液供給手段と、を備えた基
板処理装置において、 前記処理部において基板へ供給された処理液を回収する
処理液回収手段と、 この処理液回収手段によって回収された処理液を前記貯
液タンク内へ戻すための戻り液路と、 前記貯液タンクの外部に配設され貯液タンク内に貯留さ
れた処理液を貯液タンク内部との間で循環させるタンク
外循環経路と、 このタンク外循環経路に介挿して設けられ、内部を流れ
る処理液を噴流にしてオゾンガスを吸入し処理液中にオ
ゾンを溶解させるエゼクタ手段と、 このエゼクタ手段へオゾンガスを供給するオゾンガス供
給手段と、をさらに備えたことを特徴とする基板処理装
置。3. A processing section for supplying a processing liquid in which ozone gas is dissolved to a substrate to process the substrate, a storage tank for storing the processing liquid containing an oxidant, and a storage tank for storing the processing liquid in the storage tank. In a substrate processing apparatus including a processing liquid supply unit that supplies the processing liquid to the processing unit through a liquid supply path, a processing liquid recovery unit that recovers the processing liquid supplied to the substrate in the processing unit. A return liquid path for returning the processing liquid recovered by the processing liquid recovery means into the storage tank, and a processing liquid stored outside the storage tank and stored in the storage tank. An external tank circulation path for circulating the inside of the tank; and an ejector means provided so as to be inserted in the external tank circulation path for injecting ozone gas into the processing solution as a jet stream to dissolve ozone in the processing solution. , This ejector means The substrate processing apparatus characterized by further comprising a ozone gas supply means for supplying ozone gas, a.
の下流側に、内部を流れる処理液を撹拌させるミキサー
手段が介挿して設けられたことを特徴とする基板処理装
置。4. The substrate processing apparatus according to claim 3, wherein mixer means for stirring the processing liquid flowing therein is provided on the downstream side of the insertion position of the ejector means in the tank external circulation path. A substrate processing apparatus characterized by the above.
装置において、 処理液中に臭素または臭化物を添加する臭素添加手段を
さらに備えたことを特徴とする基板処理装置。5. The substrate processing apparatus according to claim 3 or 4, further comprising bromine addition means for adding bromine or bromide to the processing liquid.
載の基板処理装置において、 前記貯液タンクを密閉構造として、その貯液タンク内に
貯留された処理液の液面上方の空間を陽圧に保つ陽圧保
持手段を有することを特徴とする基板処理装置。6. The substrate processing apparatus according to claim 3, wherein the liquid storage tank has a closed structure, and a space above the liquid surface of the processing liquid stored in the liquid storage tank is formed. A substrate processing apparatus having a positive pressure maintaining means for maintaining a positive pressure.
載の基板処理装置において、 前記貯液タンク内に貯留された処理液を冷却する冷却手
段を有することを特徴とする基板処理装置。7. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising a cooling unit that cools the processing liquid stored in the liquid storage tank.
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008153605A (en) * | 2006-03-20 | 2008-07-03 | Eiji Matsumura | Substrate cleaning method, and substrate cleaning apparatus |
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-
2001
- 2001-09-12 JP JP2001277313A patent/JP2003086560A/en active Pending
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