JP2003081739A - 化粧料用基剤およびそれからなる化粧料 - Google Patents
化粧料用基剤およびそれからなる化粧料Info
- Publication number
- JP2003081739A JP2003081739A JP2001269197A JP2001269197A JP2003081739A JP 2003081739 A JP2003081739 A JP 2003081739A JP 2001269197 A JP2001269197 A JP 2001269197A JP 2001269197 A JP2001269197 A JP 2001269197A JP 2003081739 A JP2003081739 A JP 2003081739A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- weight
- cosmetic
- meth
- hydrogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Gとの相溶性にも優れる化粧料用基剤及びこれが配合さ
れた化粧料を提供すること。 【解決手段】 式(I): 【化1】 (R1はH又はCH3、R2はH、C1〜12のアルキル
又はC(CH3)2CH2COCH3、R3はH又はC1〜
12のアルキル)のモノマー(A)25〜70重量%、
式(II): 【化2】 (R4はC3又は5のアルキレン)のモノマー(B)5
〜60重量%、式(III): 【化3】 (R5はH又はCH3、R6はH又はCOOH、R7はH、
CH3又はCH2COOH)のモノマー(C)2〜20重
量%、式(IV): 【化4】 (R8はH又はCH3、R9はC1〜4のアルキレン、R
10及びR11はH又はC1〜8のアルキル、AはO又はN
H)のモノマー(D)3〜40重量%及び式(V): 【化5】 (R12及びR15はH又はCH3、R13及びR14はC2〜
4のアルキレン、m及びnは0〜50(m及びnは同時
に0でない))のモノマー(E)2〜30重量%を含有
したモノマー成分を重合させた重合体からなる化粧料用
基剤、並びに該化粧料用基剤が配合された化粧料。
Description
びそれからなる化粧料に関する。さらに詳しくは、耐湿
性および洗髪性にすぐれるだけでなく、液化石油ガス
(以下、LPGという)との相溶性にすぐれる化粧料用
基剤、およびとくに整髪用エアゾール型化粧料として好
適に使用し得る化粧料に関する。
−ビニルピロリドンを含有した基材が広く用いられてい
る。N−ビニルピロリドンを含有した基材の長所は、水
溶性にすぐれ、適度な硬さを有する光沢のある皮膜が得
られることである。これらは毛髪化粧品に好適な物性で
ある。
とした化粧料基材として、たとえばノニオン性化粧料基
材や(特開昭59−75911号公報)、カチオン性化
粧料基材(特公昭56−4533号公報)が知られてい
る。
れる重要な物性として、耐湿性と洗髪性とがあげられ
る。これらは一般的には相反する物性であり、高い次元
での両立は困難なものである。前記ノニオン性化粧料基
材やカチオン性化粧料基材は、洗髪性にはすぐれるが、
それゆえに耐湿性がきわめて低い。その結果、長時間の
セット保持力が小さいという欠点がある。
は、たとえばアクリル樹脂のアルカノールアミン液に代
表されるアニオン性化粧料基材が知られている(特公昭
44−31238号公報)。このアニオン性化粧料基材
は、前記ノニオン性化粧料基材およびカチオン性化粧料
基材とは逆に、耐湿性が高く、セット保持力にはすぐれ
るものの、水溶性が低いため、洗髪性にすぐれない。
粧料基材およびアニオン性化粧料基材の欠点を補うもの
として、両性化粧料基材が知られている(特開平7−1
33212号公報)。この両性化粧料基材は、これまで
困難とされていた耐湿性と洗髪性との両立を実現したも
のである。またこの両性化粧料基材は両性であるので、
他の樹脂との相溶性にすぐれるだけでなく、ベタツキが
少なく使用感がよいといった利点が多い基材である。
にLPGに対する溶解性が低い傾向があるため、通常ス
プレーに処方する際には、原液の組成でエタノールなど
の溶剤を増量して基材の含量を減らすか、噴射剤として
ジメチルエーテル(以下、DMEという)を併用するな
ど、処方面での制約が多くなる。そのため、スプレー剤
型での整髪剤としては好適でない。
有エチレン性不飽和単量体、アルキレングリコール系不
飽和単量体およびアミノ基含有エチレン性不飽和単量体
を必須単量体成分としてなる(メタ)アクリル系共重合
体と、ゲル基剤とを含み、塩基性化合物で中和された両
性整髪用樹脂組成物も提供されている(特開2000−
154124公報)。
は、含まれる(メタ)アクリル系共重合体とゲル基剤と
が良好に相溶しているので、たとえばゲル状の整髪料と
してはきわめて好適であるが、前記両性化粧料基材と同
様に、LPGに対する溶解性が低い傾向があるので、通
常スプレーに処方する際には処方面での制約が多くな
る。またかかる(メタ)アクリル系共重合体はそれ単独
での耐湿性は低い。そのため、この両性整髪用樹脂組成
物はスプレー剤型での整髪剤としては好適でない。
に鑑みてなされたものであり、耐湿性および洗髪性にす
ぐれるといった両性化粧料基材としての利点は維持した
まま、併せてLPGとの相溶性にもすぐれ、とくにエア
ゾール型化粧料に好適に使用し得る化粧料用基剤および
これが配合された化粧料を提供することを目的とする。
R2は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基または−
C(CH3)2CH2COCH3、R3は水素原子または炭
素数1〜12のアルキル基を示す)で表わされるモノマ
ー(A)25〜70重量%、(B)一般式(II):
レン基を示す)で表わされるモノマー(B)5〜60重
量%、(C)一般式(III):
R6は水素原子または−COOH、R7は水素原子、メチ
ル基または−CH2COOHを示す)で表わされるモノ
マー(C)2〜20重量%、(D)一般式(IV):
R9は炭素数1〜4のアルキレン基、R 10およびR11は
それぞれ独立して水素原子または炭素数1〜8のアルキ
ル基、Aは−O−または−NH−を示す)で表わされる
モノマー(D)3〜40重量%および(E)一般式
(V):
て水素原子またはメチル基、R13およびR14はそれぞれ
独立して炭素数2〜4のアルキレン基、mおよびnはそ
れぞれ独立して0または1〜50の整数(ただし、mお
よびnは同時に0ではない)を示す)で表わされるモノ
マー(E)2〜30重量%を含有したモノマー成分を重
合させて得られた重合体からなる化粧料用基剤、および 前記化粧料用基剤が配合されてなる化粧料に関する。
たように、(A)一般式(I):
R2は水素原子、炭素数1〜12、好ましくは1〜8の
アルキル基または−C(CH3)2CH2COCH3、R3
は水素原子または炭素数1〜12、好ましくは1〜8の
アルキル基を示す)で表わされるモノマー(A)25〜
70重量%、(B)一般式(II):
レン基を示す)で表わされるモノマー(B)5〜60重
量%、(C)一般式(III):
R6は水素原子または−COOH、R7は水素原子、メチ
ル基または−CH2COOHを示す)で表わされるモノ
マー(C)2〜20重量%、(D)一般式(IV):
R9は炭素数1〜4、好ましくは2〜3のアルキレン
基、R10およびR11はそれぞれ独立して水素原子または
炭素数1〜8、好ましくは1〜4のアルキル基、Aは−
O−または−NH−を示す)で表わされるモノマー
(D)3〜40重量%および(E)一般式(V):
て水素原子またはメチル基、R13およびR14はそれぞれ
独立して炭素数2〜4のアルキレン基、mおよびnはそ
れぞれ独立して0または1〜50、好ましくは1〜20
の整数(ただし、mおよびnは同時に0ではない)を示
す)で表わされるモノマー(E)2〜30重量%を含有
したモノマー成分を重合させて得られた重合体からなる
ものである。
般式(I)で表わされるアミド系モノマーであり、得ら
れる化粧料用基剤のLPGとの相溶性を向上させ、フィ
ルムに適度な硬度と親水性とを与える成分である。
ばN−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、ダイアセト
ン(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド、
N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ
エチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メ
タ)アクリルアミド、N−t−オクチル(メタ)アクリ
ルアミドなどがあげられ、これらは単独でまたは2種以
上を同時に用いることができる。
〜」は「…アクリ〜」および「…メタクリ〜」を意味す
る。
い場合には、得られる化粧料用基剤のエアゾール適性、
すなわちLPGとの相溶性が低くなるので、モノマー成
分全量の25重量%以上、好ましくは28重量%以上、
さらに好ましくは30重量%以上である。またモノマー
(A)の使用量があまりにも多い場合には、得られる化
粧料用基剤の洗髪性が損なわれるので、モノマー成分全
量の70重量%以下、好ましくは65重量%以下、さら
に好ましくは60重量%以下である。
般式(II)で表わされるN−ビニルピロリドンおよび/
またはN−ビニルカプロラクタムであり、得られる化粧
料用基剤のLPGとの相溶性を向上させ、さらに洗髪性
や、フィルムに光沢、硬度を与える成分である。
い場合には、得られる化粧料用基剤のエアゾール適性、
すなわちLPGとの相溶性が低くなるほか、洗髪性やフ
ィルムの光沢が不足するので、モノマー成分全量の5重
量%以上、好ましくは8重量%以上、さらに好ましくは
10重量%以上である。またモノマー(B)の使用量が
あまりにも多い場合には、得られる化粧料用基剤の耐湿
性が低くなるので、モノマー成分全量の60重量%以
下、好ましくは55重量%以下、さらに好ましくは50
重量%以下である。
般式(III)で表わされるカルボキシル基含有酸性モノ
マーであり、たとえば後述するように、カルボキシル基
を塩基性化合物で中和することにより、得られる化粧料
用基剤にさらなる洗髪性を与える成分である。また後述
するモノマー(D)と分子間でイオン架橋することによ
り、得られる化粧料用基剤の耐湿性を向上させ、乾き際
のベタツキを低減する効果をもたらす成分である。
ば(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレ
イン酸などがあげられ、これらは単独でまたは2種以上
を同時に用いることができる。
い場合には、得られる化粧料用基剤の洗髪性が低下する
ばかりでなく、モノマー(D)とのイオン架橋による効
果が得られなくなるので、モノマー成分全量の2重量%
以上、好ましくは3重量%以上、さらに好ましくは5重
量%以上である。またモノマー(C)の使用量があまり
にも多い場合には、得られる化粧料用基剤の耐湿性が低
下し、LPGとの相溶性が悪化するので、モノマー成分
全量の20重量%以下、好ましくは18重量%以下、さ
らに好ましくは15重量%以下である。
般式(IV)で表わされるアミノ基含有モノマーであり、
たとえば後述するように、アミノ基を酸性化合物で中和
することにより、得られる化粧料用基剤に洗髪性を与
え、髪への親和力を与える成分である。また前記モノマ
ー(C)と分子間でイオン架橋することにより、得られ
る化粧料用基剤の耐湿性を向上させ、乾き際のベタツキ
を低減する効果をもたらす成分である。
ばN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルア
ミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリ
ルアミドなどがあげられ、これらは単独でまたは2種以
上を同時に用いることができる。
い場合には、得られる化粧料用基剤の洗髪性が低下し、
髪への親和力が低くなるため、皮膜が髪の表面より剥が
れ落ちる、いわゆるフレーキング現象が多くなり、前記
モノマー(C)とのイオン架橋による効果が乏しくなる
ので、モノマー成分全量の3重量%以上、好ましくは5
重量%以上、さらに好ましくは8重量%以上である。ま
たモノマー(D)の使用量があまりにも多い場合には、
得られる化粧料用基剤の耐湿性が低下し、乾き際のベタ
ツキが多くなるので、モノマー成分全量の40重量%以
下、好ましくは35重量%以下、さらに好ましくは30
重量%以下である。
般式(V)で表わされるヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレートまたはポリオキシアルキレン(メタ)アクリ
レートであり、得られる化粧料用基剤に柔軟性を付与す
る成分である。
ばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、ブトキシポリエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレートなどがあげられ、これ
らは単独でまたは2種以上を同時に用いることができ
る。
い場合には、得られる化粧料用基剤の柔軟性が低下する
ので、モノマー成分全量の2重量%以上、好ましくは3
重量%以上、さらに好ましくは5重量%以上である。ま
たモノマー(E)の使用量があまりにも多い場合には、
得られる化粧料用基剤の耐湿性が低下し、LPGとの相
溶性が低下するので、モノマー成分全量の30重量%以
下、好ましくは25重量%以下、さらに好ましくは20
重量%以下である。
が前記モノマー(A)、モノマー(B)、モノマー
(C)、モノマー(D)およびモノマー(E)であるモ
ノマー成分(モノマー(A)〜(E)の量が100重量
%であるモノマー成分)を重合させて得られたものであ
ってもよいが、たとえば得られる化粧料用基剤に水溶
性、油溶性、臭気、べたつき感抑制、すべり感、乾き
感、自然感、造膜性、粘性、透明感、ガス透過性、他の
添加剤との相溶性といった効果を付与することを考慮
し、これらモノマー(A)〜(E)と共重合可能なエチ
レン性不飽和モノマー(F)(以下、モノマー(F)と
いう)をモノマー成分に用いることができる。
ば(メタ)アクリル酸のアルカリ金属塩、(メタ)アク
リル酸のアンモニウム塩、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブ
チル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリ
ル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ネオペンチル、
(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル
酸ベンジル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)ア
クリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル、
(メタ)アクリル酸セチル、(メタ)アクリル酸テトラ
ヒドロフルフリル、(メタ)アクリル酸エチルカルビト
ール、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)ア
クリル酸メトキシブチル、(メタ)アクリロイルモルホ
リン、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレ
ートの3級塩およびその4級塩、N,N−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリルレートの3級塩およびその
4級塩、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリ
レートの3級塩およびその4級塩、N,N−ジエチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレートの3級塩およびその
4級塩、N−t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレ
ートの3級塩、N−t−ブチルアミノプロピル(メタ)
アクリレートの3級塩、N,N−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリルアミドの3級塩およびその4級塩、
N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミ
ドの3級塩およびその4級塩、N,N−ジエチルアミノ
エチル(メタ)アクリルアミドの3級塩およびその4級
塩、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリル
アミドの3級塩およびその4級塩、N−(メタ)アクリ
ロイルオキシメチル−N,N−ジメチルアンモニウム−
α−N−カルボキシベタイン、N−(メタ)アクリロイ
ルオキシエチル−N,N−ジメチルアンモニウム−α−
N−カルボキシベタイン、N−(メタ)アクリロイルオ
キシプロピル−N,N−ジメチルアンモニウム−α−N
−カルボキシベタイン、N−(メタ)アクリロイルオキ
シメチル−N,N−ジエチルアンモニウム−α−N−カ
ルボキシベタイン、N−(メタ)アクリロイルオキシエ
チル−N,N−ジエチルアンモニウム−α−N−カルボ
キシベタイン、N−(メタ)アクリロイルオキシプロピ
ル−N,N−ジエチルアンモニウム−α−N−カルボキ
シベタイン、スチレン、イタコン酸メチル、イタコン酸
エチル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの単官能
モノマー;1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、メチレンビスアクリルアミド、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどの多
官能モノマーがあげられ、これらは単独でまたは2種以
上を同時に用いることができる。
い場合には、かかるモノマー(F)を用いることによる
効果が充分に発現されにくくなるので、モノマー成分全
量の3重量%以上、好ましくは5重量%以上であること
が望ましい。またモノマー(F)の使用量があまりにも
多い場合には、前記モノマー(A)〜(E)の使用量が
相対的に少なくなり、これらモノマー(A)〜(E)に
よる効果が充分に発現されにくくなるので、モノマー成
分全量の30重量%以下、好ましくは25重量%以下で
あることが望ましい。
ー(A)〜(E)および必要に応じてモノマー(F)の
所望量を調整したモノマー成分を重合させることによっ
て得られる。
分を水溶液としたり、有機溶剤中にて行なうことができ
る。すなわち、所望組成のモノマー成分を精製水、イオ
ン交換水や有機溶剤に充分に溶解させ、これを必要に応
じて加熱撹拌しながら重合開始剤を添加し、不活性ガス
雰囲気下で重合を行なうなどすればよい。
えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコ
ールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族類;n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの
炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステ
ル類などの通常溶液重合に用いられる有機溶剤を使用す
ることができる。これらのなかでは、得られる化粧料用
基剤を化粧料に配合することを考慮すると、エチルアル
コール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類が
とくに好ましい。
う場合、モノマー成分の濃度が20〜60重量%程度と
なるように調整することが好ましい。なお、全モノマー
成分の濃度が50重量%を超える場合には、重合反応の
際に急激な発熱を発生する怖れがあるため、全モノマー
成分を分割して徐々に添加して重合を行なうことが好ま
しい。
とえばアゾイソブチロニトリル、アゾイソ酪酸メチル、
アゾビスジメチルバレロニトリル、ジメチルアゾビスメ
チルプロピオネートなどのアゾ系重合開始剤;過酸化ベ
ンゾイルなどの過酸化物系重合開始剤;過硫酸カリウ
ム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩系重合開始剤な
どを用いることができる。該重合開始剤の量は、通常モ
ノマー成分全量100重量部に対して0.01〜5重量
部程度であればよい。
開始剤の種類によっても異なるので一概には決定するこ
とができないが、通常重合開始剤の10時間半減期温度
付近とすることが好ましい。また重合を行なう際の重合
時間は、重合が不完全となって未反応のモノマー成分が
残存するおそれをなくすには、通常5〜20時間程度と
することが好ましい。
SDB法(二臭化硫酸ピリジン法)などの一般的な分析
方法により、二重結合が存在するか否かを測定して確認
することができる。
にはとくに限定がないが、化粧料用基剤の化粧料として
の用途を考慮すると、1000以上、好ましくは500
0以上であり、1000000以下、好ましくは200
000以下であることが望ましい。
媒の溶液のままであってもよく、水で希釈することで水
/有機溶媒の混合溶液としてもよく、または有機溶媒を
除去して水に置換し、水溶液としてもよい。
与するために、重合体中に含まれるカルボキシル基やア
ミノ基が中和されることが好ましい。すなわち、重合体
中、モノマー(C)由来のカルボキシル基が塩基性化合
物で中和されていることが好ましく、モノマー(D)由
来のアミノ基が酸性化合物で中和されていることが好ま
しい。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基性化
合物;モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、
モルホリン、アミノメチルプロパノール、アミノメチル
プロパンジオール、オクチルアミン、トリブチルアミ
ン、アニリンなどの有機塩基性化合物があげられ、これ
らは単独でまたは2種以上を同時に用いることができ
る。
酸、硫酸、リン酸などの無機酸性化合物;乳酸、クエン
酸、グリコール酸、イソステアリン酸、パルミチン酸な
どの有機酸性化合物があげられ、これらは単独でまたは
2種以上を同時に用いることができる。
とくに限定がなく、たとえば前記重合法にて調製された
重合体の溶液に、塩基性化合物や酸性化合物を投入する
方法などがあげられる。
(C)由来のカルボキシル基の中和率は、得られる化粧
料用基剤の水溶性がさらに向上し、よりすぐれた洗髪性
が付与されるように、10モル%以上、好ましくは30
モル%以上であることが望ましく、また化粧料として人
体に使用することを考慮し、過中和により過剰の塩基性
化合物が遊離しないように、95モル%以下、好ましく
は90モル%以下であることが望ましい。
由来のアミノ基の中和率は、得られる化粧料用基剤の水
溶性がさらに向上し、よりすぐれた洗髪性が付与される
ように、10モル%以上、好ましくは30モル%以上で
あることが望ましく、また化粧料として人体に使用する
ことを考慮し、過中和により過剰の酸性化合物が遊離し
ないように、95モル%以下、好ましくは90モル%以
下であることが望ましい。
髪性にすぐれるだけでなく、LPGとの相溶性にもすぐ
れるものであるので、たとえば整髪用エアゾール型化粧
料などの整髪用の化粧料に好適に使用することができ
る。
されてなるものである。
の量にはとくに限定がなく、後述するように処方によっ
ても異なり、該化粧料用基剤による効果が充分に発現さ
れる量であればよいが、通常の化粧料における有効成分
の含有量程度、たとえば0.1〜20重量%程度、好ま
しくは1〜10重量%程度であることが望ましい。
ては、たとえば整髪用スプレー、整髪用カラースプレー
などの整髪用エアゾール型化粧料、整髪用ジェル、整髪
用ミスト、整髪用フォーム、整髪用クリーム、整髪用ワ
ックス、整髪用カラーフォーム、マスカラ、シャンプ
ー、リンスなどの毛髪化粧料があげられる。また毛髪化
粧料以外の用途としては、たとえば皮膚化粧料としてハ
ンドクリーム、顔面パックの皮膜形成剤、マニキュアの
皮膜形成剤などに使用することができる。
整髪用エアゾール型化粧料を処方する場合には、樹脂濃
度が0.5〜15重量%、好ましくは2〜10重量%と
なるように、本発明の化粧料用基剤が原液中に含まれる
ことが望ましい。また用いられる溶媒は、主にエタノー
ルであることが好ましく、必要に応じてセタノール、デ
カノールなどの高級アルコール、ラノリン誘導体などの
可塑性を付与する成分を配合したり、シリコーン誘導体
などの光沢や感触を付与する成分を配合してもよい。さ
らには他の皮膜形成樹脂を用いてもよい。噴射剤として
は、たとえばLPG、DMEなどを単独でまたは同時に
用いることができる。原液と噴射剤との割合(原液/噴
射剤(重量比))は、10/90〜90/10、さらに
は30/70〜70/30であることが好ましい。
用ジェルを処方する場合には、樹脂濃度が0.5〜15
重量%、好ましくは1〜10重量%となるように、本発
明の化粧料用基剤が原液中に含まれることが望ましい。
また増粘剤としては、カルボキシルビニルポリマー(ポ
リアクリル酸の架橋物)などのアニオン性増粘剤、ビニ
ルピロリドン・ジメチルアミノエチルメタクリレート共
重合体などのカチオン性増粘剤、ヒドロキシエチルセル
ロース、メチルセルロースなどのノニオン性増粘剤など
を用いることができる。各増粘剤の使用量はジェル全体
量の0.1〜10重量%、好ましくは0.3〜5重量%
であることが望ましい。溶媒としては、たとえば精製水
やエタノールが用いられ、必要に応じてグリセリン、
1,3−ブチレングリコールなどの多価アルコール、界
面活性剤、キレート剤などを配合してもよい。
髪用フォームを処方する場合には、樹脂濃度が0.5〜
15重量%、好ましくは1〜10重量%となるように、
本発明の化粧料用基剤が原液中に含まれることが望まし
い。また用いられる溶媒は、精製水やエタノールである
ことが好ましい。そのほかにも、必要に応じてポリオキ
シエチレン硬化ヒマシ油などのノニオン性界面活性剤、
セタノールなどの高級アルコール、流動パラフィン、シ
リコン誘導体などを配合してもよい。
化粧料用基剤が配合されたものであるので、耐湿性およ
び洗髪性にすぐれるだけでなく、LPGとの相溶性にも
すぐれ、とくに整髪用エアゾール型化粧料として好適に
使用し得るものである。
らなる化粧料を実施例に基づいてさらに詳細に説明する
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
を備えた1L容の5口フラスコに、N−t−ブチルアク
リルアミド30重量部、ダイアセトンアクリルアミド1
5重量部、N−ビニル−2−ピロリドン30重量部、ア
クリル酸5重量部、N,N−ジメチルアミノプロピルア
クリルアミド10重量部、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート10重量部および無水エタノール150重量部
を仕込み、α,α´−アゾビスイソブチロニトリル(以
下、AIBNという)0.15重量部を加えて攪拌しな
がらチッ素ガス雰囲気下で70℃で加熱攪拌した。重合
開始5時間後にAIBN0.1重量部を加え、さらに1
0時間重合して重合反応を完結し、樹脂組成物を得た。
なるようにエタノールで希釈し、さらに2−アミノ−2
−メチルプロパノールの30%エタノール溶液(中和
剤)12.3重量部を加え(表2中には、2−アミノ−
2−メチルプロパノールのみの量(3.7重量部)を記
載)、樹脂組成物中のカルボキシル基の中和率を60モ
ル%として両性化粧料用基剤を得た。
子量を測定したところ、110000であった。
更したほかは、実施例1と同様にして樹脂組成物を調製
し、両性化粧料用基剤を得た。
和率、ならびに化粧料用基剤の粘度平均分子量を併せて
表2に示す。
はつぎのことを意味する。 TBAAm:N−t−ブチルアクリルアミド DAAm:ダイアセトンアクリルアミド OAAm:N−オクチルアクリルアミド DMAA:N,N−ジメチルアクリルアミド NVP:N−ビニル−2−ピロリドン NVC:N−ビニル−2−カプロラクタム AA:アクリル酸 MAA:メタクリル酸 IA:イタコン酸 DMMA:N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト DMAPMA:N,N−ジメチルアミノエチルメタクリ
ルアミド DMAPAA:N,N−ジメチルアミノプロピルアクリ
ルアミド HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート HPA:2−ヒドロキシプロピルアクリレート M−90G:メトキシポリエチレングリコールモノメタ
クリレート(n=9) MDGMA:メトキシジエチレングリコールメタクリレ
ート GLM:グリセロールモノメタクリレート HEA:2−ヒドロキシエチルアクリレート NMA:N−メチロールアクリルアミド BMA:n−ブチルメタクリレート LA:ラウリルアクリレート EMA:エチルメタクリレート TBA:t−ブチルアクリレート VA:酢酸ビニル MMA:メチルメタクリレート AMP:2−アミノ−2−メチルプロパノール(30%
エタノール溶液)(表2中には、AMPのみの量(重量
部)を記載) TEA:トリエタノールアミン(30%エタノール溶
液)(表2中には、TEAのみの量(重量部)を記載)
販売(株)製)をエタノールに溶解し、ポリマー含量が
30重量%となるように調整した。
A−6450、大阪有機化学工業(株)製、ポリマー含
量が50重量%のエタノール溶液)をエタノールで希釈
し、ポリマー含量が30重量%となるように調整した。
クリル酸ジエチル硫酸塩液(商品名:H.C.ポリマー
3A、大阪有機化学工業(株)製、ポリマー含量が50
重量%のエタノール溶液)をエタノールで希釈し、ポリ
マー含量が30重量%となるように調整した。
セットNF−1000、大阪有機化学工業(株)製、ポ
リマー含量が40重量%のエタノール溶液)をエタノー
ルで希釈し、ポリマー含量が30重量%となるように調
整した。
の操作を行なった。
ス導入管、仕込み管および攪拌装置を取り付けた500
mL容の5口フラスコに、MAA10重量部、AA8重
量部、HEMA10重量部、DMMA18重量部、EM
A28重量部、DAAm26重量部および無水エタノー
ル150重量部を入れ、これにAIBN0.2重量部を
加え、攪拌しながらチッ素ガス気流下に80℃で加熱還
流した。重合開始6時間後にAIBN0.2重量部を追
添し、さらに12時間重合して反応を完結させ、樹脂組
成物を得た。
なるようにエタノールで希釈し、さらにAMPの30%
エタノール溶液(中和剤)50.7重量部を添加し(表
2中には、AMPのみの量(15.2重量部)を記
載)、樹脂組成物中のカルボキシル基の中和率を75モ
ル%として整髪剤用基剤(30%ポリマーエタノール溶
液)を得た。
子量を測定したところ、113000であった。
の操作を行なった。
1、表2に示すように変更したほかは、比較例5と同様
にして樹脂組成物を調製し、整髪剤用基剤を得た。
和率、ならびに整髪剤用基剤の粘度平均分子量を併せて
表2に示す。
様の操作を行なった。
1、表2に示すように変更したほかは、比較例5と同様
にして樹脂組成物を調製し、整髪剤用基剤を得た。
和率、ならびに整髪剤用基剤の粘度平均分子量を併せて
表2に示す。
様の操作を行なった。
ト、チッ素ガス置換用ガラス管および攪拌装置を取り付
けた500mL容の4口フラスコに無水エタノール90
重量部を仕込み、滴下ロートにはMAA5重量部、MD
GMA19重量部、GLM20重量部、DMMA8重量
部、MMA10重量部およびNMA38重量部のモノマ
ー混合液を仕込んだ。撹拌装置で撹拌しながら、重合系
にチッ素ガスを30分間通して空気を置換しつつ昇温し
た。内温が70℃に達したのち、AIBN0.6gを添
加し、チッ素ガス気流、還流下で攪拌しながら、前記モ
ノマー混合液を2時間かけてフラスコ内に滴下した。滴
下終了後、さらに3時間還流下に重合させて反応を完結
させ、樹脂組成物を得た。
なるようにエタノールで希釈し、さらにAMPの30%
エタノール溶液(中和剤)6.67gを添加し(表2中
には、AMPのみの量(2重量部)を記載)、樹脂組成
物中のカルボキシル基の中和率を38.6モル%として
整髪剤用基剤(30%ポリマーエタノール溶液)を得
た。
子量を測定したところ、45000であった。
様の操作を行なった。
1、表2に示すように変更したほかは、比較例8と同様
にして樹脂組成物を調製し、整髪剤用基剤を得た。
和率、ならびに整髪剤用基剤の粘度平均分子量を併せて
表2に示す。
(整髪用エアゾール型化粧料) 実施例1〜12および比較例1〜9で得られた各化粧料
用基剤(ポリマー含量30重量%のエタノール溶液)
(処方例1〜12および比較処方例1〜9において、そ
れぞれ順に実施例1〜12および比較例1〜9の化粧料
用基剤を使用)20重量部と、無水エタノール80重量
部とを混合し、原液を調製した。この原液50重量部を
ガラス製スプレー用耐圧瓶(内容量:100mL)内に
充填したのち、バルブを設置して4.0kg/cm2の
LPG50重量部を充填し、整髪用エアゾール型化粧料
を得た。
量%のエタノール溶液)を用い、以下の処方にて整髪用
ジェルを調製した。
量%のエタノール溶液)を用い、以下の処方にて整髪用
フォームを調製した。
基剤を、ポリマー含量が10重量%となるようにエタノ
ールで希釈し、得られた溶液2.0gをガラス製耐圧瓶
(満注量:100mL)に仕込んだ。このガラス製耐圧
瓶にバルブを取り付け、4kg/cm2のLPGを溶液
に濁りが生じるまで加えた。このときのLPGの添加量
を用いて以下の式からLPG相溶率を算出し、つぎの評
価基準に基づいてLPGとの相溶性を評価した。その結
果を表3に示す。
用エアゾール型化粧料を−10℃の冷蔵庫内に24時間
放置したのち、溶液の状態を目視にて観察し、以下の評
価基準に基づいてエアゾールの安定性を評価した。その
結果を表4に示す。 (評価基準) ○:溶液が透明である。 △:溶液がわずかに濁る。 ×:溶液が二層に分離するか、または析出をおこす。
よび比較処方例1〜9で得られた整髪用エアゾール型化
粧料を20cmの距離から均一に噴射するか、処方例1
3で得られた整髪用ジェルまたは処方例14で得られた
整髪用フォームを均一に塗布したのち、この毛髪を外径
1.2cmのカーラーに巻き、40℃の温風で60分間
かけて乾燥した。こののち、カーラーから毛髪をはず
し、温度30℃、相対湿度90%の雰囲気中に垂直に吊
るした直後の長さ(L0)と3時間放置後の長さ(L1)
とを測定し、カールリテンション(%)を次式から算出
した。得られたカールリテンションから、つぎの評価基
準に基づいて耐湿性(セット保持力)を評価した。その
結果を表4に示す。 カールリテンション(%)={(25−L1)/(25
−L0)}×100 (評価基準) ○:カールリテンションが75%以上である。 △:カールリテンションが60%以上、75%未満であ
る。 ×:カールリテンションが60%未満である。
よび比較処方例1〜9で得られた整髪用エアゾール型化
粧料を20cmの距離から均一に噴射するか、処方例1
3で得られた整髪用ジェルまたは処方例14で得られた
整髪用フォームを均一に塗布したのち、この毛髪を外形
1.2cmのカーラーに巻き、40℃の温風で60分間
かけて乾燥した。乾燥した毛髪を手指で触り、しなやか
さを以下の評価基準に基づいて評価した。その結果を表
4に示す。 (評価基準) ○:まったくごわつきがなく、自然な感触である。 △:ややごわつきがあるが、不自然な感触ではない。 ×:ごわつきがあり、不自然な感触である。
び比較処方例1〜9で得られた整髪用エアゾール型化粧
料を20cmの距離から均一に噴射するか、処方例13
で得られた整髪用ジェルまたは処方例14で得られた整
髪用フォームを均一に塗布し、さらにバーコーターにて
均一にしたのち、40℃の温風で60分間かけて乾燥し
た。乾燥したフィルムに水を1滴滴下させ、フィルムが
完全に溶解する時間を測定し、洗髪性を以下の評価基準
に基づいて評価した。その結果を表4に示す。 (評価基準) ○:1分未満でフィルムが溶解した。 △:1分以上、5分未満でフィルムが溶解した。 ×:5分以上経過しても、フィルムが溶解しない。
よび比較処方例1〜9で得られた整髪用エアゾール型化
粧料を20cmの距離から均一に噴射するか、処方例1
3で得られた整髪用ジェルまたは処方例14で得られた
整髪用フォームを均一に塗布したのち、この毛髪を外形
1.2cmのカーラーに巻き、40℃の温風で60分間
かけて乾燥した。この毛髪の中心から約1cmの間隔の
ところを指で挟み、上下に曲げる操作を10回繰り返し
てフィルムの変化を目視にて観察し、柔軟性(フレーキ
ング)を以下の評価基準に基づいて評価した。その結果
を表4に示す。 (評価基準) ○:フィルムに変化がない。 △:フィルムの剥離が若干認められる。 ×:曲げた箇所全面が白くなり、剥離がいちじるしい。
び比較処方例1〜9で得られた整髪用エアゾール型化粧
料を20cmの距離から均一に噴射するか、処方例13
で得られた整髪用ジェルまたは処方例14で得られた整
髪用フォームを均一に塗布し、さらにバーコーターにて
均一にしたのち、40℃の温風で60分間かけて乾燥し
た。乾燥したフィルムの感触を手指で調べ、平滑性を以
下の評価基準に基づいて評価した。その結果を表4に示
す。 (評価基準) ○:完全に滑らかである。 △:ややざらつきがある。 ×:かなりざらつきがある。
例1〜14で得られた整髪用エアゾール型化粧料、整髪
用ジェルおよび整髪用フォームは、いずれもカールリテ
ンションが高く耐湿性にすぐれ、また洗髪性にもすぐれ
るうえ、得られたフィルムがしなやかで、柔軟性および
平滑性にもすぐれていることがわかる。さらに実施例1
〜12で得られた化粧料用基剤はLPGとの相溶性にす
ぐれ、該化粧料用基剤が配合された処方例1〜12の整
髪用エアゾール型化粧料は、エアゾールの安定性にすぐ
れていることがわかる。このように、本発明の化粧料用
基剤が配合された化粧料は、前記種々の特性を具備する
ものである。
た化粧料は、いずれかの特性に劣るものであり、とくに
洗髪性にすぐれる比較処方例1〜3および5〜9の化粧
料は、耐湿性に劣っていたり(比較処方例1〜3および
8〜9)、エアゾールの安定性(LPGとの相溶性)に
劣っており(比較処方例5〜9)、また逆にエアゾール
の安定性および耐湿性にすぐれる比較処方例4の化粧料
は、洗髪性に劣っていることがわかる。このように、本
発明の化粧料用基剤が配合されなかった場合には、前記
種々の特性を具備することができない。
洗髪性にすぐれるだけでなく、LPGとの相溶性にもす
ぐれるものである。
発明の化粧料は、とくに整髪用エアゾール型化粧料とし
て好適に使用することができる。
Claims (6)
- 【請求項1】 (A)一般式(I): 【化1】 (式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は水素原
子、炭素数1〜12のアルキル基または−C(CH3)2
CH2COCH3、R3は水素原子または炭素数1〜12
のアルキル基を示す)で表わされるモノマー(A)25
〜70重量%、(B)一般式(II): 【化2】 (式中、R4は炭素数3または5のアルキレン基を示
す)で表わされるモノマー(B)5〜60重量%、
(C)一般式(III): 【化3】 (式中、R5は水素原子またはメチル基、R6は水素原子
または−COOH、R7は水素原子、メチル基または−
CH2COOHを示す)で表わされるモノマー(C)2
〜20重量%、(D)一般式(IV): 【化4】 (式中、R8は水素原子またはメチル基、R9は炭素数1
〜4のアルキレン基、R 10およびR11はそれぞれ独立し
て水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、Aは−O
−または−NH−を示す)で表わされるモノマー(D)
3〜40重量%および(E)一般式(V): 【化5】 (式中、R12およびR15はそれぞれ独立して水素原子ま
たはメチル基、R13およびR14はそれぞれ独立して炭素
数2〜4のアルキレン基、mおよびnはそれぞれ独立し
て0または1〜50の整数(ただし、mおよびnは同時
に0ではない)を示す)で表わされるモノマー(E)2
〜30重量%を含有したモノマー成分を重合させて得ら
れた重合体からなる化粧料用基剤。 - 【請求項2】 重合体が、モノマー(C)由来のカルボ
キシル基の10〜95モル%が塩基性化合物で中和され
たものである請求項1記載の化粧料用基剤。 - 【請求項3】 重合体が、モノマー(D)由来のアミノ
基の10〜95モル%が酸性化合物で中和されたもので
ある請求項1または2記載の化粧料用基剤。 - 【請求項4】 モノマー成分が、モノマー(A)、モノ
マー(B)、モノマー(C)、モノマー(D)およびモ
ノマー(E)と共重合可能なエチレン性不飽和モノマー
(F)0〜30重量%を含有したものである請求項1、
2または3記載の化粧料用基剤。 - 【請求項5】 請求項1、2、3または4記載の化粧料
用基剤が配合されてなる化粧料。 - 【請求項6】 整髪用エアゾール型化粧料である請求項
5記載の化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001269197A JP4684498B2 (ja) | 2001-09-05 | 2001-09-05 | 化粧料用基剤およびそれからなる化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001269197A JP4684498B2 (ja) | 2001-09-05 | 2001-09-05 | 化粧料用基剤およびそれからなる化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003081739A true JP2003081739A (ja) | 2003-03-19 |
JP4684498B2 JP4684498B2 (ja) | 2011-05-18 |
Family
ID=19095059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001269197A Expired - Lifetime JP4684498B2 (ja) | 2001-09-05 | 2001-09-05 | 化粧料用基剤およびそれからなる化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4684498B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006028509A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | L'oreal Sa | 新規なエチレン系コポリマー、それらを含む組成物およびトリートメント方法 |
JP2006512433A (ja) * | 2002-12-30 | 2006-04-13 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 両性共重合体およびそれらの使用 |
JP2008504426A (ja) * | 2004-07-02 | 2008-02-14 | ロレアル | 新規エチレン性コポリマー、該コポリマーを含む組成物及び処理方法 |
JP2010503744A (ja) * | 2006-09-15 | 2010-02-04 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 四級化窒素含有モノマーを基礎とする両性コポリマー |
WO2011126059A1 (ja) * | 2010-04-07 | 2011-10-13 | 株式会社日本触媒 | ポリ(メタ)アクリル酸系重合体水溶液およびその製造方法 |
JP2011219584A (ja) * | 2010-04-07 | 2011-11-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 泡改質用共重合体 |
JP2013528672A (ja) * | 2010-04-05 | 2013-07-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | アミノアルキル(メタ)アクリロイル溶媒モノマーを有する架橋性シロップコポリマー |
US8691199B2 (en) | 2004-07-13 | 2014-04-08 | L'oreal | Ethylenic copolymers, compositions and methods of the same |
JP2015040252A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 互応化学工業株式会社 | 樹脂及び化粧料用基材 |
JP2015120922A (ja) * | 2007-08-15 | 2015-07-02 | アイエスピー インヴェストメンツ インコーポレイテッドIsp Investments Inc. | 重合可能な官能基を含むポリビニルアミドポリマー |
KR20150092217A (ko) * | 2012-11-30 | 2015-08-12 | 바스프 에스이 | 양이온화된 유동학적 개질 및 세팅 수단, 이의 조성물 및 상기 모두의 제조 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4914647A (ja) * | 1972-04-14 | 1974-02-08 | ||
JPH07133212A (ja) * | 1993-03-15 | 1995-05-23 | Osaka Organic Chem Ind Ltd | 整髪剤用基剤 |
JP2000154124A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-06-06 | Goo Chemical Co Ltd | 整髪料用樹脂組成物及びゲル状整髪料 |
-
2001
- 2001-09-05 JP JP2001269197A patent/JP4684498B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4914647A (ja) * | 1972-04-14 | 1974-02-08 | ||
JPH07133212A (ja) * | 1993-03-15 | 1995-05-23 | Osaka Organic Chem Ind Ltd | 整髪剤用基剤 |
JP2000154124A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-06-06 | Goo Chemical Co Ltd | 整髪料用樹脂組成物及びゲル状整髪料 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006512433A (ja) * | 2002-12-30 | 2006-04-13 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 両性共重合体およびそれらの使用 |
JP2008504426A (ja) * | 2004-07-02 | 2008-02-14 | ロレアル | 新規エチレン性コポリマー、該コポリマーを含む組成物及び処理方法 |
JP2008505242A (ja) * | 2004-07-02 | 2008-02-21 | ロレアル | 新規のエチレン性コポリマー、該コポリマーを含有する組成物、調製及び処理方法 |
US9359461B2 (en) | 2004-07-02 | 2016-06-07 | L'oreal | Ethylene copolymers, compositions comprising same and preparation and treatment methods |
US8691199B2 (en) | 2004-07-13 | 2014-04-08 | L'oreal | Ethylenic copolymers, compositions and methods of the same |
JP2006028509A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | L'oreal Sa | 新規なエチレン系コポリマー、それらを含む組成物およびトリートメント方法 |
US8722028B2 (en) | 2004-07-13 | 2014-05-13 | L'oreal | Ethylenic copolymers, compositions and methods of the same |
JP2010503744A (ja) * | 2006-09-15 | 2010-02-04 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 四級化窒素含有モノマーを基礎とする両性コポリマー |
US8303943B2 (en) | 2006-09-15 | 2012-11-06 | Basf Se | Ampholytic copolymer based on quaternized nitrogen-containing monomers |
JP2015120922A (ja) * | 2007-08-15 | 2015-07-02 | アイエスピー インヴェストメンツ インコーポレイテッドIsp Investments Inc. | 重合可能な官能基を含むポリビニルアミドポリマー |
JP2013528672A (ja) * | 2010-04-05 | 2013-07-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | アミノアルキル(メタ)アクリロイル溶媒モノマーを有する架橋性シロップコポリマー |
JP2011219584A (ja) * | 2010-04-07 | 2011-11-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 泡改質用共重合体 |
JP5873009B2 (ja) * | 2010-04-07 | 2016-03-01 | 株式会社日本触媒 | ポリ(メタ)アクリル酸系重合体水溶液およびその製造方法 |
WO2011126059A1 (ja) * | 2010-04-07 | 2011-10-13 | 株式会社日本触媒 | ポリ(メタ)アクリル酸系重合体水溶液およびその製造方法 |
JP2016117906A (ja) * | 2010-04-07 | 2016-06-30 | 株式会社日本触媒 | ポリ(メタ)アクリル酸系重合体水溶液およびその製造方法 |
KR20150092217A (ko) * | 2012-11-30 | 2015-08-12 | 바스프 에스이 | 양이온화된 유동학적 개질 및 세팅 수단, 이의 조성물 및 상기 모두의 제조 방법 |
JP2016501295A (ja) * | 2012-11-30 | 2016-01-18 | ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエアBasf Se | カチオン化可能なレオロジー改質および硬化手段、その組成物、およびその両方の製造方法 |
KR102121178B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2020-06-10 | 바스프 에스이 | 양이온화된 유동학적 개질 및 세팅 수단, 이의 조성물 및 상기 모두의 제조 방법 |
JP2015040252A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 互応化学工業株式会社 | 樹脂及び化粧料用基材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4684498B2 (ja) | 2011-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0670104B2 (ja) | 被膜形成樹脂及びそれを含有する毛髪化粧料 | |
WO2003061615A1 (en) | Hair setting compositions, polymers and methods | |
JP2000178323A (ja) | ポリビニルラクタムをベ―スとする水溶性又は水に分散可能なグラフトコポリマ―、その製造方法及びその使用 | |
JPH04360812A (ja) | 新規共重合体及びこれを含有する化粧料 | |
JPH04359913A (ja) | 新規共重合体及びこれを含有する化粧料 | |
WO2015128204A1 (en) | A polymer suitable for use in hair styling | |
JP2003081739A (ja) | 化粧料用基剤およびそれからなる化粧料 | |
JP2003055164A (ja) | 毛髪用樹脂組成物およびそれからなる毛髪用化粧料 | |
JP2009256212A (ja) | 毛髪化粧料用基剤及び毛髪化粧料 | |
JP2011026250A (ja) | 毛髪化粧料用基剤及び毛髪化粧料 | |
JPH04359914A (ja) | 新規共重合体及びこれを含有する化粧料 | |
JP4129940B2 (ja) | 毛髪化粧料用基剤を用いた毛髪化粧料 | |
JP4711458B2 (ja) | 毛髪化粧料用基剤及びそれを用いた毛髪化粧料 | |
JP3414493B2 (ja) | 整髪剤用基剤 | |
JP4090155B2 (ja) | 整髪剤用基剤 | |
JP4711457B2 (ja) | 毛髪化粧料用基剤及びそれを用いた毛髪化粧料 | |
JP2002167316A (ja) | 毛髪化粧料組成物 | |
JPH07133212A (ja) | 整髪剤用基剤 | |
JP2001039834A (ja) | 毛髪化粧料用基剤及びそれを用いた毛髪化粧料 | |
JP2004203761A (ja) | 毛髪用樹脂組成物 | |
JP3431356B2 (ja) | ゲル状整髪料 | |
JP3101517B2 (ja) | エアゾール整髪剤用基剤 | |
JP3081740B2 (ja) | 整髪剤用基剤 | |
JP3534924B2 (ja) | 両性整髪用樹脂組成物 | |
JP6705082B2 (ja) | 毛髪化粧料用基剤、毛髪化粧料、整髪料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070711 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081002 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100713 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100903 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100903 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101026 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110209 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4684498 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |