JP2003080003A - 低圧蒸気による晶析装置 - Google Patents
低圧蒸気による晶析装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 蒸気の保有する大きな熱量で晶析を行うこと
によって、生産効率が向上し、且つ、結晶品質の向上を
図ることのできる、低圧蒸気による晶析装置を得るこ
と。 【解決手段】 蒸気供給管１５に圧力制御弁１９と温度
制御弁２３を介して晶析槽１のジャケット部６と接続す
る。ジャケット部６の下方に連通管２５を介して吸引手
段としてのエゼクタ式組み合わせポンプ１６を接続す
る。連通管２５には、スチームトラップ２７とバイバス
弁２８を取り付ける。エゼクタ式組み合わせポンプ１６
は、エゼクタ２６とタンク３１と循環ポンプ３２を循環
路１４で連通して構成する。エゼクタ式組み合わせポン
プ１６によって、ジャケット部６内は大気圧程度又は大
気圧以下の低圧状態に維持され、晶析槽１は１００度Ｃ
程度又は１００度Ｃ以下の温度の蒸気で加熱される。
によって、生産効率が向上し、且つ、結晶品質の向上を
図ることのできる、低圧蒸気による晶析装置を得るこ
と。 【解決手段】 蒸気供給管１５に圧力制御弁１９と温度
制御弁２３を介して晶析槽１のジャケット部６と接続す
る。ジャケット部６の下方に連通管２５を介して吸引手
段としてのエゼクタ式組み合わせポンプ１６を接続す
る。連通管２５には、スチームトラップ２７とバイバス
弁２８を取り付ける。エゼクタ式組み合わせポンプ１６
は、エゼクタ２６とタンク３１と循環ポンプ３２を循環
路１４で連通して構成する。エゼクタ式組み合わせポン
プ１６によって、ジャケット部６内は大気圧程度又は大
気圧以下の低圧状態に維持され、晶析槽１は１００度Ｃ
程度又は１００度Ｃ以下の温度の蒸気で加熱される。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食塩やショ糖など
の食品から肥料や医薬品、あるいは希土類等の結晶を分
離生成する晶析装置に関し、特に、加熱源として低圧の
蒸気を用いる晶析装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来の晶析装置は、例えば図２に示すも
のが用いられていた。図２において、晶析を行う晶析槽
１と、この晶析槽１に加熱用の温水を供給する温水タン
ク２と温水ポンプ３、温水ポンプ３の出口側に設けたイ
ンラインミキサー４と、インラインミキサー４に蒸気を
供給する蒸気供給管５からなり、インラインミキサー４
で温水と蒸気が混合されて所定温度の温水となって晶析
槽１の外周を覆うジャケット部６へ供給され、槽１内の
被晶析物を加熱して晶析を行うものである。 【０００３】ジャケット部６で加熱により熱を奪われた
温水は管路７とバルブ８を通って再び温水タンク２に至
り、ポンプ３でインラインミキサー４へ送られて循環す
る。温水タンク２には、循環水補給管９を接続すると共
に、インラインミキサー４とジャケット部６の間に温度
センサ１０を取り付けて蒸気供給管５のバルブ１１の開
閉度合を制御することによって、ジャケット部６へ供給
する温水の温度を所定温度にコントロールするものであ
る。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】上記従来の晶析装置で
は、加熱源として温水を使用しているために、装置の初
期の立ち上げに長時間を要する問題、並びに、晶析工程
中に何らかの外乱等によって被晶析物が温度変化を生じ
た場合に、元の設定温度に戻るのに比較的長い時間を要
してしまう問題があった。晶析工程において長時間を要
することは、生産効率の低下につながり、設定温度の不
安定性は結晶品質、例えば、粒径や粒径分布や純度等、
の低下につながるのである。 【０００５】温水は熱量として顕熱のみを保有してお
り、その保有熱量が小さいために、装置の初期の立ち上
げや一旦温度変化を生じた後に元の温度に戻るのに時間
を要するのである。一方、蒸気は熱量として潜熱を保有
するためにその保有熱量が温水と比較して格段に大きく
なる。 【０００６】本発明の課題は、蒸気の保有する大きな熱
量で晶析を行うことによって、生産効率が向上し、且
つ、結晶品質の向上を図ることのできる晶析装置を得る
ことである。 【０００７】 【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに講じた手段は、晶析槽に被晶析物を収容し、当該被
晶析物を加熱部から加熱して晶析を行うものにおいて、
加熱部に蒸気供給管を接続すると共に、加熱部に吸引手
段を接続して、当該吸引手段で加熱部内を大気圧程度又
は大気圧以下の低圧状態に維持することによって、被晶
析物を低圧蒸気で加熱するものである。 【０００８】 【発明の実施の形態】加熱部に蒸気供給管と吸引手段を
接続して、晶析槽内の被晶析物を低圧蒸気で加熱するこ
とができることによって、低圧蒸気、即ち、温水と同様
の温度で保有熱量の大きな蒸気で加熱することができ、
晶析生産効率の向上及び結晶品質の向上を図ることがで
きる。 【０００９】蒸気、より正確には飽和蒸気は、その圧力
と温度が一義的に定まる。通常大気圧での蒸気の温度は
１００度Ｃであり、大気圧以上の圧力では１００度Ｃを
越え、大気圧以下の真空圧力状態では１００度Ｃ以下の
温度となる。従って、吸引手段で大気圧以下の圧力状態
とすることによって、蒸気での加熱温度を１００度Ｃ以
下とすることができる。 【００１０】 【実施例】本実施例は図１に示すように、晶析槽１の外
周に且つ一体に加熱部としてのジャケット部６を設け
て、このジャケット部６へ蒸気供給管１５と吸引手段１
６を接続した例を示す。 【００１１】晶析槽１は円筒タンク状で内部に図示しな
い希土類元素等を含む被晶析物を収容する。晶析槽１の
上部には、槽１内の温度を検出する温度センサ１７を取
り付けると共に、槽１内へ沈殿剤を供給する沈殿剤タン
ク１８を接続する。また、晶析槽１の側方外周の全周を
覆うジャケット部６を一体に設ける。 【００１２】ジャケット部６の上方に蒸気供給管１５を
接続する。蒸気供給管１５には、圧力制御弁１９と復水
供給管２０と気液分離セパレータ２１と圧力センサ２
２、及び、温度制御弁２３とを順次に配置する。圧力制
御弁１９と平行にバイパス弁２４を取り付ける。圧力セ
ンサ２２は圧力制御弁１９と電気的に接続する。また、
晶析槽１の上部に取り付けた温度センサ１７は温度制御
弁２３と電気的に接続する。 【００１３】ジャケット部６の下方に連通管２５を介し
て、吸引手段１６のエゼクタ２６と接続する。連通管２
５には、蒸気の凝縮した復水だけを出口側に排出して蒸
気は排出することのないスチームトラップ２７と、その
バイパス弁２８を平行に取り付ける。連通管２５はその
下端がエゼクタ２６の吸引室２９と接続する。また、連
通管２５の下端部には、気液分離セパレータ２１から垂
下する復水管３０が合流する。 【００１４】吸引手段１６は本実施例ではエゼクタ２６
とタンク３１と循環ポンプ３２を組み合わせたエゼクタ
式組み合わせポンプとする。タンク３１内に循環流体、
通常は常温の水、を所定量溜め置き、この水を循環ホン
プ３２でエゼクタ２６からタンク３１へと循環させてエ
ゼクタ２６の吸引作用によって吸引室２９に吸引力を発
生して、晶析槽１のジャケット部６内を所定の圧力状
態、即ち、大気圧や大気圧以下の負圧状態、に維持する
ものである。 【００１５】タンク３１には循環流体補給管３３を、バ
ルブ３４を介して接続する。エゼクタ２６で生じる吸引
力は、エゼクタ２６内を流下する流体の温度に相当する
飽和圧力となることから、循環流体補給管３３から流体
を補給して流体温度を適宜調節することによって、エゼ
クタ２６の吸引力を任意に制御することができるもので
ある。 【００１６】例えば、ジャケット部６内に８０度Ｃの低
温蒸気を供給して、被晶析物を加熱する場合、エゼクタ
２６の吸引力が８０度Ｃより僅かに低い温度における蒸
気の飽和圧力に相当する圧力の吸引力となるように、循
環流体の温度を調節することにより、所定の温度状態を
維持することができる。循環流体の温度を下げて、エゼ
クタ２６の吸引圧力を低くすることにより、加熱蒸気温
度を更に低くすることもできる。 【００１７】吸引手段１６の循環路１４を分岐して余剰
流体排出管３５とバルブ３６を取り付ける。バルブ３６
を開弁することによって、タンク３１内の余剰流体を系
外に排出することができるものである。 【００１８】循環路１４を更に分岐して循環流体取り出
し管３７を接続する。循環流体取り出し管３７はバルブ
３８を介して復水供給管２０と連通することによって、
循環流体の一部即ち復水を復水供給管２０から蒸気供給
管１５内へ噴射して、蒸気供給管１５内の蒸気の温度を
飽和温度まで低下させる。 【００１９】蒸気供給管１５内の蒸気と復水の混合流体
は、気液分離セパレータ２１で蒸気と復水が分離され、
復水が復水管３０からエゼクタ２６に吸引され、一方、
復水の分離された飽和温度の蒸気は温度制御弁２３から
ジャケット部６へ供給される。 【００２０】晶析槽１内の被晶析物を加熱して晶析を行
う場合、まず、バイパス弁２８を開弁すると共に、エゼ
クタ式組み合わせポンプ１６を駆動してエゼクタ２６の
吸引力によってジャケット部６内を所定の低圧力状態と
する。更に圧力制御弁１９と温度制御弁２３から所定圧
力・温度の加熱用蒸気をジャケット部６内に供給するこ
とにより、ジャケット部６や晶析槽１が初期の立ち上げ
時で常温まで温度が低下していても蒸気の保有する大き
な熱量で加熱することにより、短時間で所定温度まで上
昇して、立ち上げ時間を短縮することができる。 【００２１】ジャケット部６が所定温度になると、晶析
槽１内で晶析が行われる。被晶析物を加熱して熱を奪わ
れた蒸気は凝縮して復水となり、連通管２５とスチーム
トラップ２７又はバイパス弁２８からエゼクタ２６に吸
引されタンク３１に至る。尚、バイパス弁２８は、晶析
を実施している間は全閉状態とすることも、あるいは、
微開状態とすることもできるものである。 【００２２】沈殿剤タンク１８から晶析槽１内へ沈殿剤
を供給して晶析を行う場合、沈殿剤は一般的に常温程度
と温度が低いために、槽１内へ沈殿剤が供給されると槽
１内の温度が設定温度から１度乃至数度Ｃ程度直ちに低
下してしまう。このように外乱によって設定温度が変化
しても、温度センサ１７でその温度変化を検出して温度
制御弁２３の開度を調節して供給蒸気量を制御すること
により、蒸気の保有する大きな熱量によって変化した温
度を極めて僅かな時間遅れでもって設定温度に戻すこと
ができる。 【００２３】本実施例のように希土類の晶析を行う場
合、従来の温水加熱に替えて蒸気加熱とすることによっ
て、設定温度の不安定性が無くなって結晶の粒度分布が
鋭くなり、即ち、結晶の粒径分布のバラツキが小さくな
って所定の粒径範囲に収まる結晶量が多くなり、製品と
して使用することのできる結晶をより多く生産すること
ができ、生産効率を格段に向上させることができる。 【００２４】 【発明の効果】本発明の低圧蒸気による晶析装置では、
晶析槽の加熱部に加熱用の蒸気供給管と吸引手段を接続
して、晶析槽内の被晶析物を低圧蒸気で加熱することに
よって、蒸気の大きな保有熱量で加熱することができ、
晶析生産効率の向上及び結晶品質の向上を図ることがで
きる。
の食品から肥料や医薬品、あるいは希土類等の結晶を分
離生成する晶析装置に関し、特に、加熱源として低圧の
蒸気を用いる晶析装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来の晶析装置は、例えば図２に示すも
のが用いられていた。図２において、晶析を行う晶析槽
１と、この晶析槽１に加熱用の温水を供給する温水タン
ク２と温水ポンプ３、温水ポンプ３の出口側に設けたイ
ンラインミキサー４と、インラインミキサー４に蒸気を
供給する蒸気供給管５からなり、インラインミキサー４
で温水と蒸気が混合されて所定温度の温水となって晶析
槽１の外周を覆うジャケット部６へ供給され、槽１内の
被晶析物を加熱して晶析を行うものである。 【０００３】ジャケット部６で加熱により熱を奪われた
温水は管路７とバルブ８を通って再び温水タンク２に至
り、ポンプ３でインラインミキサー４へ送られて循環す
る。温水タンク２には、循環水補給管９を接続すると共
に、インラインミキサー４とジャケット部６の間に温度
センサ１０を取り付けて蒸気供給管５のバルブ１１の開
閉度合を制御することによって、ジャケット部６へ供給
する温水の温度を所定温度にコントロールするものであ
る。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】上記従来の晶析装置で
は、加熱源として温水を使用しているために、装置の初
期の立ち上げに長時間を要する問題、並びに、晶析工程
中に何らかの外乱等によって被晶析物が温度変化を生じ
た場合に、元の設定温度に戻るのに比較的長い時間を要
してしまう問題があった。晶析工程において長時間を要
することは、生産効率の低下につながり、設定温度の不
安定性は結晶品質、例えば、粒径や粒径分布や純度等、
の低下につながるのである。 【０００５】温水は熱量として顕熱のみを保有してお
り、その保有熱量が小さいために、装置の初期の立ち上
げや一旦温度変化を生じた後に元の温度に戻るのに時間
を要するのである。一方、蒸気は熱量として潜熱を保有
するためにその保有熱量が温水と比較して格段に大きく
なる。 【０００６】本発明の課題は、蒸気の保有する大きな熱
量で晶析を行うことによって、生産効率が向上し、且
つ、結晶品質の向上を図ることのできる晶析装置を得る
ことである。 【０００７】 【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに講じた手段は、晶析槽に被晶析物を収容し、当該被
晶析物を加熱部から加熱して晶析を行うものにおいて、
加熱部に蒸気供給管を接続すると共に、加熱部に吸引手
段を接続して、当該吸引手段で加熱部内を大気圧程度又
は大気圧以下の低圧状態に維持することによって、被晶
析物を低圧蒸気で加熱するものである。 【０００８】 【発明の実施の形態】加熱部に蒸気供給管と吸引手段を
接続して、晶析槽内の被晶析物を低圧蒸気で加熱するこ
とができることによって、低圧蒸気、即ち、温水と同様
の温度で保有熱量の大きな蒸気で加熱することができ、
晶析生産効率の向上及び結晶品質の向上を図ることがで
きる。 【０００９】蒸気、より正確には飽和蒸気は、その圧力
と温度が一義的に定まる。通常大気圧での蒸気の温度は
１００度Ｃであり、大気圧以上の圧力では１００度Ｃを
越え、大気圧以下の真空圧力状態では１００度Ｃ以下の
温度となる。従って、吸引手段で大気圧以下の圧力状態
とすることによって、蒸気での加熱温度を１００度Ｃ以
下とすることができる。 【００１０】 【実施例】本実施例は図１に示すように、晶析槽１の外
周に且つ一体に加熱部としてのジャケット部６を設け
て、このジャケット部６へ蒸気供給管１５と吸引手段１
６を接続した例を示す。 【００１１】晶析槽１は円筒タンク状で内部に図示しな
い希土類元素等を含む被晶析物を収容する。晶析槽１の
上部には、槽１内の温度を検出する温度センサ１７を取
り付けると共に、槽１内へ沈殿剤を供給する沈殿剤タン
ク１８を接続する。また、晶析槽１の側方外周の全周を
覆うジャケット部６を一体に設ける。 【００１２】ジャケット部６の上方に蒸気供給管１５を
接続する。蒸気供給管１５には、圧力制御弁１９と復水
供給管２０と気液分離セパレータ２１と圧力センサ２
２、及び、温度制御弁２３とを順次に配置する。圧力制
御弁１９と平行にバイパス弁２４を取り付ける。圧力セ
ンサ２２は圧力制御弁１９と電気的に接続する。また、
晶析槽１の上部に取り付けた温度センサ１７は温度制御
弁２３と電気的に接続する。 【００１３】ジャケット部６の下方に連通管２５を介し
て、吸引手段１６のエゼクタ２６と接続する。連通管２
５には、蒸気の凝縮した復水だけを出口側に排出して蒸
気は排出することのないスチームトラップ２７と、その
バイパス弁２８を平行に取り付ける。連通管２５はその
下端がエゼクタ２６の吸引室２９と接続する。また、連
通管２５の下端部には、気液分離セパレータ２１から垂
下する復水管３０が合流する。 【００１４】吸引手段１６は本実施例ではエゼクタ２６
とタンク３１と循環ポンプ３２を組み合わせたエゼクタ
式組み合わせポンプとする。タンク３１内に循環流体、
通常は常温の水、を所定量溜め置き、この水を循環ホン
プ３２でエゼクタ２６からタンク３１へと循環させてエ
ゼクタ２６の吸引作用によって吸引室２９に吸引力を発
生して、晶析槽１のジャケット部６内を所定の圧力状
態、即ち、大気圧や大気圧以下の負圧状態、に維持する
ものである。 【００１５】タンク３１には循環流体補給管３３を、バ
ルブ３４を介して接続する。エゼクタ２６で生じる吸引
力は、エゼクタ２６内を流下する流体の温度に相当する
飽和圧力となることから、循環流体補給管３３から流体
を補給して流体温度を適宜調節することによって、エゼ
クタ２６の吸引力を任意に制御することができるもので
ある。 【００１６】例えば、ジャケット部６内に８０度Ｃの低
温蒸気を供給して、被晶析物を加熱する場合、エゼクタ
２６の吸引力が８０度Ｃより僅かに低い温度における蒸
気の飽和圧力に相当する圧力の吸引力となるように、循
環流体の温度を調節することにより、所定の温度状態を
維持することができる。循環流体の温度を下げて、エゼ
クタ２６の吸引圧力を低くすることにより、加熱蒸気温
度を更に低くすることもできる。 【００１７】吸引手段１６の循環路１４を分岐して余剰
流体排出管３５とバルブ３６を取り付ける。バルブ３６
を開弁することによって、タンク３１内の余剰流体を系
外に排出することができるものである。 【００１８】循環路１４を更に分岐して循環流体取り出
し管３７を接続する。循環流体取り出し管３７はバルブ
３８を介して復水供給管２０と連通することによって、
循環流体の一部即ち復水を復水供給管２０から蒸気供給
管１５内へ噴射して、蒸気供給管１５内の蒸気の温度を
飽和温度まで低下させる。 【００１９】蒸気供給管１５内の蒸気と復水の混合流体
は、気液分離セパレータ２１で蒸気と復水が分離され、
復水が復水管３０からエゼクタ２６に吸引され、一方、
復水の分離された飽和温度の蒸気は温度制御弁２３から
ジャケット部６へ供給される。 【００２０】晶析槽１内の被晶析物を加熱して晶析を行
う場合、まず、バイパス弁２８を開弁すると共に、エゼ
クタ式組み合わせポンプ１６を駆動してエゼクタ２６の
吸引力によってジャケット部６内を所定の低圧力状態と
する。更に圧力制御弁１９と温度制御弁２３から所定圧
力・温度の加熱用蒸気をジャケット部６内に供給するこ
とにより、ジャケット部６や晶析槽１が初期の立ち上げ
時で常温まで温度が低下していても蒸気の保有する大き
な熱量で加熱することにより、短時間で所定温度まで上
昇して、立ち上げ時間を短縮することができる。 【００２１】ジャケット部６が所定温度になると、晶析
槽１内で晶析が行われる。被晶析物を加熱して熱を奪わ
れた蒸気は凝縮して復水となり、連通管２５とスチーム
トラップ２７又はバイパス弁２８からエゼクタ２６に吸
引されタンク３１に至る。尚、バイパス弁２８は、晶析
を実施している間は全閉状態とすることも、あるいは、
微開状態とすることもできるものである。 【００２２】沈殿剤タンク１８から晶析槽１内へ沈殿剤
を供給して晶析を行う場合、沈殿剤は一般的に常温程度
と温度が低いために、槽１内へ沈殿剤が供給されると槽
１内の温度が設定温度から１度乃至数度Ｃ程度直ちに低
下してしまう。このように外乱によって設定温度が変化
しても、温度センサ１７でその温度変化を検出して温度
制御弁２３の開度を調節して供給蒸気量を制御すること
により、蒸気の保有する大きな熱量によって変化した温
度を極めて僅かな時間遅れでもって設定温度に戻すこと
ができる。 【００２３】本実施例のように希土類の晶析を行う場
合、従来の温水加熱に替えて蒸気加熱とすることによっ
て、設定温度の不安定性が無くなって結晶の粒度分布が
鋭くなり、即ち、結晶の粒径分布のバラツキが小さくな
って所定の粒径範囲に収まる結晶量が多くなり、製品と
して使用することのできる結晶をより多く生産すること
ができ、生産効率を格段に向上させることができる。 【００２４】 【発明の効果】本発明の低圧蒸気による晶析装置では、
晶析槽の加熱部に加熱用の蒸気供給管と吸引手段を接続
して、晶析槽内の被晶析物を低圧蒸気で加熱することに
よって、蒸気の大きな保有熱量で加熱することができ、
晶析生産効率の向上及び結晶品質の向上を図ることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の低温蒸気による晶析装置の実施例を示
す構成図。 【図２】従来例の晶析装置を示す構成図。 【符号の説明】 １ 晶析槽 ６ ジャケット部 １５ 蒸気供給管 １６ 吸引手段 １７ 温度センサ １９ 圧力制御弁 ２１ 気液分離セパレータ ２３ 温度制御弁 ２６ エゼクタ ３１ タンク ３２ 循環ポンプ
す構成図。 【図２】従来例の晶析装置を示す構成図。 【符号の説明】 １ 晶析槽 ６ ジャケット部 １５ 蒸気供給管 １６ 吸引手段 １７ 温度センサ １９ 圧力制御弁 ２１ 気液分離セパレータ ２３ 温度制御弁 ２６ エゼクタ ３１ タンク ３２ 循環ポンプ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 晶析槽に被晶析物を収容し、当該被晶析
物を加熱部から加熱して晶析を行うものにおいて、加熱
部に蒸気供給管を接続すると共に、加熱部に吸引手段を
接続して、当該吸引手段で加熱部内を大気圧程度又は大
気圧以下の低圧状態に維持することによって、被晶析物
を低圧蒸気で加熱することを特徴とする低圧蒸気による
晶析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001278686A JP2003080003A (ja) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | 低圧蒸気による晶析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001278686A JP2003080003A (ja) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | 低圧蒸気による晶析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003080003A true JP2003080003A (ja) | 2003-03-18 |
Family
ID=19103015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001278686A Pending JP2003080003A (ja) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | 低圧蒸気による晶析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003080003A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101810937A (zh) * | 2010-04-08 | 2010-08-25 | 葫芦岛辉宏有色金属有限公司 | 防止盐类结晶器排料口结晶堵塞装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0979513A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Tlv Co Ltd | 熱媒体による低圧蒸気加熱装置 |
| JP2000072436A (ja) * | 1998-09-04 | 2000-03-07 | Mitsubishi Chemicals Corp | 粗大硫安結晶の製造方法 |
| JP2001136909A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-05-22 | Tlv Co Ltd | 食品の蒸気加熱装置 |
-
2001
- 2001-09-13 JP JP2001278686A patent/JP2003080003A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101810937A (zh) * | 2010-04-08 | 2010-08-25 | 葫芦岛辉宏有色金属有限公司 | 防止盐类结晶器排料口结晶堵塞装置 |
| CN101810937B (zh) * | 2010-04-08 | 2012-11-28 | 葫芦岛辉宏有色金属有限公司 | 防止盐类结晶器排料口结晶堵塞装置 |
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