JP2003073894A - Continuous electroplating system and rotary holder used for the same - Google Patents
Continuous electroplating system and rotary holder used for the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、連続電気メッキ処
理システム及びこれに用いる旋回治具に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a continuous electroplating system and a turning jig used for the system.
【０００２】[0002]
【従来の技術】プリント基板等の板状の被メッキ品を電
気メッキするに際し、この被メッキ品を吊り下げ状態で
搬送しつつ、その搬送途中で、前処理、メッキ処理、後
処理をこの順番で施すようにする連続電気メッキが知ら
れている（例えば特開２０００−５４１９７号公報等参
照）。そして、この連続電気メッキでは、上記の処理工
程間にわたってそれらの上方を通過状に架設されたレー
ルと、このレールに吊り下げ状態とされたまま移動自在
に設けられる被メッキ品保持用の治具と、この治具の適
所に送り爪を係合させた状態でこの送り爪をレールに沿
って移動可能にした爪駆動装置とを有した爪送り搬送装
置を使用することがある（なお、治具については特公平
１１−３３５８９７号公報、特公開２０００−２９０７
９７号公報等参照）。2. Description of the Related Art When electroplating a plate-shaped article to be plated such as a printed circuit board, the article to be plated is transported in a suspended state, and pretreatment, plating, and post-treatment are performed in this order during transportation. Continuous electroplating is known (see, for example, JP 2000-54197 A). Further, in this continuous electroplating, a rail is provided so as to pass therethrough over the above-mentioned processing steps, and a jig for holding the object to be plated, which is movably provided while being suspended from the rail. In some cases, a claw feeding and conveying device having a claw driving device in which the claw is movable along the rail in a state where the claw is engaged with a proper position of the jig is used. Regarding the ingredients, Japanese Patent Publication No. 11-335897 and Japanese Patent Publication No. 2000-2907.
97, etc.).
【０００３】なお、レールは陰極電極を兼ねており、ま
た治具はその全体として導電性を有しているので、メッ
キ処理工程に設置されるメッキ槽内では、この槽内に設
けられた電極に対して印加される陽極電流と上記のレー
ルを介して被メッキ品に印加される陰極電流との間でメ
ッキ処理（被メッキ品に対するメッキ被膜の形成）が行
われるようになっている。このようなことから、メッキ
槽内にあって、陽極の電極は、槽内を移動する被メッキ
品に対してその左右両側に設けられたものとなってお
り、従って当然に、被メッキ品は、その両面が移動方向
の左右を向くように吊り下げられていることになる。そ
して、このような被メッキ品の吊り下げ向きに支配され
るかたちで、前処理工程に設置される前処理槽も、また
後処理工程に設置される後処理槽も、被メッキ品の移動
方向に沿って、当該被メッキ品をそのまま収納可能なよ
うに（即ち、槽の長手方向を被メッキ品の移動方向に向
けて）設けられている。Since the rail also serves as the cathode electrode and the jig as a whole has conductivity, in the plating bath installed in the plating process, the electrode provided in this bath is used. A plating process (formation of a plating film on the product to be plated) is performed between an anode current applied to the product and a cathode current applied to the product to be plated via the rail. Therefore, in the plating tank, the anode electrode is provided on both the left and right sides of the object to be plated that moves in the tank. Therefore, naturally, the object to be plated is , Both sides of which are suspended so as to face the left and right of the moving direction. The pretreatment tank installed in the pretreatment process and the posttreatment tank installed in the posttreatment process are controlled by the hanging direction of the product to be plated. Is provided so that the product to be plated can be stored as it is (that is, the longitudinal direction of the tank is directed to the moving direction of the product to be plated).
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従来の連続電気メッキ
では、上記のようにメッキ処理工程に設置されるメッキ
槽だけでなく、前処理工程に設置される前処理槽も後処
理工程に設置される後処理槽も、すべて槽の長手方向を
被メッキ品の移動方向に向けて設置されていたため、そ
の全工程を含めたライン長は長大なものとなっていた。
なお、このように長大なライン長の全工程をそのまま直
線的に配置すると、工場の建物としてもそれだけ長大な
ものが必要になる。そこで、これを回避するために工程
中途部を折り返えさせるようにしたＵターン配置を採用
することも一般に行われているが、このようなＵターン
配置にしたところでライン長が長大である点、及び全工
程の占有面積に広大な敷地が必要である点に何ら代わり
はない。In the conventional continuous electroplating, not only the plating bath installed in the plating process as described above, but also the pretreatment bath installed in the pretreatment process is installed in the posttreatment process. Since all of the post-treatment baths were installed with the longitudinal direction of the bath facing the movement direction of the product to be plated, the line length including all the processes was long.
In addition, if all the processes having such a long line length are arranged in a straight line as they are, a building of such a factory is required. Therefore, in order to avoid this, a U-turn arrangement in which the midway portion of the process is folded back is generally adopted. However, the line length is large when such a U-turn arrangement is adopted. There is no substitute for the fact that a vast site is required for the occupation area of all processes.
【０００５】また、ライン長が長大であることが原因し
て、メッキ処理効率を高めるうえで自ずと上限があっ
た。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであっ
て、ライン長の短縮化、及び占有面積の省スペース化を
可能とし、またこれらに伴ってメッキ処理効率の高効率
化が図れるようにした、連続電気メッキ処理システム及
びこれに用いる旋回治具を提供することを目的とする。In addition, due to the long line length, there is naturally an upper limit in improving the efficiency of the plating process. The present invention has been made in view of the above circumstances, and enables the shortening of the line length and the space saving of the occupied area, and accordingly, the plating processing efficiency can be improved. An object of the present invention is to provide a continuous electroplating system and a swivel jig used for the system.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は次の手段を講じた。即ち、本発明に係る連
続電気メッキ処理システムでは、前処理槽、メッキ槽、
後処理槽がこの順番で設けられ、且つこれら各槽上方間
にレールが架設されたメッキラインに対し、板状の被メ
ッキ品を保持した治具をレールに吊り下げ状態にして移
動させつつ各槽上で治具を下降及び上昇させることで被
メッキ品を各槽内へ順次浸漬させるものである。In order to achieve the above object, the present invention takes the following means. That is, in the continuous electroplating system according to the present invention, a pretreatment bath, a plating bath,
The post-treatment tanks are provided in this order, and the jig holding the plate-shaped product to be plated is suspended from the rails and moved while moving the rails above the respective tanks. The object to be plated is sequentially dipped in each tank by lowering and raising the jig on the tank.
【０００７】そして、前処理槽からメッキ槽への移行
間、及びメッキ槽から後処理槽への移行間には、それぞ
れ、治具による被メッキ品の保持向きを変えさせる旋回
ステーションが設けられたものとしてある。従って、前
処理槽では、被メッキ品がその両面を移動方向の前後へ
向けた状態に保持され、メッキ槽内では、上記旋回ステ
ーションの作動を介することによって被メッキ品がその
両面を移動方向の左右へ向けた状態に保持され、更に後
処理槽では、上記旋回ステーションの作動を介すること
によって被メッキ品がその両面を移動方向の前後へ向け
た状態に保持されるようになっている。A swivel station for changing the holding direction of the article to be plated by the jig is provided between the transition from the pretreatment bath to the plating bath and the transition from the plating bath to the posttreatment bath. It is as a thing. Therefore, in the pretreatment tank, the product to be plated is held with its both surfaces facing forward and backward in the moving direction, and in the plating tank, the product to be plated moves on both sides in the moving direction by the operation of the swivel station. The product is held in a state of being directed to the left and right, and further, in the post-treatment tank, the product to be plated is held in a state of having both sides thereof directed forward and backward in the moving direction by the operation of the turning station.
【０００８】このような構成であれば、前処理槽や後処
理槽では、それらの槽の長手方向を被メッキ品の移動方
向に対して直交させた向きに設置することができる。そ
のため、全工程を含めたライン長としてその短縮化が図
れることになる。勿論、被メッキ品の移動距離もそれだ
け短くなるので、メッキ処理効率も従来に比して高くす
ることができる。なお、旋回ステーションの設置、及び
この施工ステーションによる作動（被メッキ品の向き変
え）は、前処理槽からメッキ槽への移行間、又はメッキ
槽から後処理槽への移行間のいずれか一方だけとしても
よい。With such a structure, in the pretreatment bath and the posttreatment bath, the longitudinal direction of these baths can be installed in a direction orthogonal to the moving direction of the product to be plated. Therefore, the line length including the entire process can be shortened. Of course, the movement distance of the product to be plated is shortened accordingly, so that the plating processing efficiency can be increased as compared with the conventional case. It should be noted that the installation of the turning station and the operation by this construction station (changing the direction of the object to be plated) are only during the transition from the pretreatment bath to the plating bath or during the transition from the plating bath to the posttreatment bath. May be
【０００９】ここにおいて、上記の治具（本発明に係る
旋回治具）は、レールへの引っ掛けが可能とされたハン
ガー部と、このハンガー部の下部に設けられて被メッキ
品を着脱可能な状態に保持するフレーム部とを有してい
たものとし、そのうえで、ハンガー部自体又はハンガー
部とフレーム部との上下間部分に、レールに対する被メ
ッキ品の向き変えを可能にする旋回継ぎ手部が設けられ
たものとする。このようにすれば、上記した旋回ステー
ションとしては、治具に対して旋回継ぎ手部より下側部
分へ９０°回動分の旋回駆動を与える旋回駆動装置を具
備した構成とすればよいものである。Here, the jig described above (the swiveling jig according to the present invention) is provided with a hanger portion that can be hooked on a rail, and is provided below the hanger portion so that a product to be plated can be attached and detached. It has a frame part for holding in a state, and on top of that, a swivel joint part is provided on the hanger part itself or between the hanger part and the frame part in the vertical direction so that the product to be plated can be turned with respect to the rail. It is assumed that According to this structure, the swivel station may be configured to include a swivel drive device that drives the jig to swivel 90 ° to a portion below the swivel joint portion. .
【００１０】なお、上記治具において、旋回継ぎ手部に
は、９０°の回動範囲をおいて被メッキ品の向き変え状
態を保持可能とした角度安定機構を設けておくのが好適
である。この角度安定機構の採用で、被メッキ品の移動
方向に対する向きを一定にでき、またこれを確実化でき
ることになる。In the above jig, it is preferable that the swivel joint portion is provided with an angle stabilizing mechanism capable of maintaining the state in which the article to be plated is turned in the turning range of 90 °. By adopting this angle stabilizing mechanism, it is possible to make the direction of the plated product constant with respect to the moving direction, and to ensure this.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づき説明する。図１乃至図３は、本発明に係る連
続電気メッキ処理システム１の一実施形態を示してい
る。この連続電気メッキ処理システム１が採用されたメ
ッキライン２は、前処理槽４の設置された前処理工程
５、メッキ槽６の設置されたメッキ処理工程７、そして
後処理槽８の設置された後処理工程９がこの順番で一直
線状又はＵターン状に接続されると共に、これら各槽
４，６，８の上方間にレール１０が架設されたものとな
っている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 3 show one embodiment of a continuous electroplating processing system 1 according to the present invention. The plating line 2 in which this continuous electroplating system 1 is adopted has a pretreatment step 5 in which a pretreatment tank 4 is installed, a plating treatment step 7 in which a plating tank 6 is installed, and an aftertreatment tank 8 is installed. The post-treatment process 9 is connected in this order in a straight line shape or a U-turn shape, and a rail 10 is installed above the tanks 4, 6 and 8.
【００１２】またレール１０には、プリント基板等の板
状を呈する被メッキ品Ｗを保持した治具１２が、複数連
なった状態で吊り下げられている。このレール１０に
は、所定間隔で配列された複数の送り爪１４をベルト駆
動手段（図示略）等によって当該レール１０に沿わせつ
つ連続的又は間欠的に移動可能にした爪駆動装置１５が
付設されており、各送り爪１４を各治具１２と個別に係
合させた状態でこの爪駆動装置１５を作動させること
で、個々の治具１２をレール１０に沿って順序よく移動
させることができるものである。Further, a jig 12 holding a product W to be plated in the form of a plate, such as a printed circuit board, is suspended from the rail 10 in a line. The rail 10 is provided with a pawl drive device 15 which is capable of moving continuously or intermittently along a plurality of feed pawls 14 arranged at predetermined intervals along a belt drive means (not shown) or the like. By operating the pawl driving device 15 in a state where the feed pawls 14 are individually engaged with the jigs 12, the jigs 12 can be moved in sequence along the rails 10. It is a thing.
【００１３】そして、本発明に係る連続電気メッキ処理
システム１では、前処理槽４からメッキ槽６への移行間
に第１旋回ステーション１７が設けられ、メッキ槽６か
ら後処理槽８への移行間に第２旋回ステーション１８が
設けられており、更に上記各治具１２として、保持した
被メッキ品Ｗを旋回によって向き変え可能にしたもの
（以下、この治具１２を「旋回治具１２」と言う）が用
いられている。上記前処理槽４は例えば酸洗い槽であ
り、旋回治具１２に保持された被メッキ品Ｗを、その両
面が移動方向の前後へ向く横向きの状態のまま、浸漬で
きるように、槽の長手方向を左右方向へ沿わせたかたち
で設置されている。図例では、この前処理槽４は前後方
向に３つ並べられたものとしてある。In the continuous electroplating system 1 according to the present invention, the first swirl station 17 is provided during the transition from the pretreatment bath 4 to the plating bath 6, and the transition from the plating bath 6 to the posttreatment bath 8 is performed. A second swivel station 18 is provided between them, and as the jigs 12, the held workpiece W can be turned by swiveling (hereinafter, this jig 12 will be referred to as a "swivel jig 12"). Is used). The pretreatment tank 4 is, for example, a pickling tank, and the length of the tank is set so that the product W to be plated held by the swivel jig 12 can be immersed while the both sides of the object W are in a sideways direction facing forward and backward in the moving direction. It is installed so that the direction runs along the left-right direction. In the illustrated example, the three pretreatment tanks 4 are arranged in the front-rear direction.
【００１４】また上記後処理槽８は例えば中和槽や水洗
槽であり、この後処理槽８も、旋回治具１２に保持され
た被メッキ品Ｗを、その両面が移動方向の前後へ向く横
向きの状態のまま、浸漬できるように、槽の長手方向を
左右方向へ沿わせたかたちで設置されている。図例で
は、この後処理槽４についても前後方向に３つ並べられ
たものとしてある。なお、このメッキライン２において
は、例えば後処理工程９に乾燥帯（図示略）を設けるな
ど、種々の態様を含むものとする。The post-treatment bath 8 is, for example, a neutralization bath or a water washing bath. In this post-treatment bath 8 as well, both sides of the article W to be plated held by the swivel jig 12 face forward and backward in the moving direction. The tank is installed so that it can be immersed in the horizontal state, with the longitudinal direction of the tank running along the left-right direction. In the illustrated example, three post-treatment baths 4 are also arranged in the front-rear direction. It should be noted that the plating line 2 includes various aspects such as providing a dry zone (not shown) in the post-treatment step 9.
【００１５】上記レール１０は、全部の前処理槽４の上
方及びメッキ槽６の上流端上方に対応する第１レール部
１０Ａと、全部の後処理槽８の上方及びメッキ槽６の下
流端上方に対応する第３レール部１０Ｃと、これら両レ
ール部１０Ａ，１０Ｃに挟まれる位置付けとされてメッ
キ槽６の上方に対応する第２レール部１０Ｂとに分離し
ている。このうち、第１レール部１０Ａ及び第３レール
部１０Ｃは各別に昇降可能な構造になっており、第２レ
ール部１０Ｂは、ここに吊り下がる旋回治具１２により
保持された被メッキ品Ｗが、メッキ槽６内に浸漬可能と
なる高さで固定されている。The rail 10 includes a first rail portion 10A corresponding to above the entire pretreatment bath 4 and above the upstream end of the plating bath 6, and above all posttreatment baths 8 and above the downstream end of the plating bath 6. And a second rail portion 10B corresponding to above the plating tank 6, which is positioned between the rail portions 10A and 10C. Of these, the first rail portion 10A and the third rail portion 10C have a structure capable of moving up and down separately, and the second rail portion 10B has a product W to be plated held by a turning jig 12 suspended here. , Is fixed in the plating bath 6 at a height such that it can be immersed.
【００１６】またこれに合わせて爪駆動装置１５も３区
分に分離されており、第１レール部１０Ａ及び第３レー
ル部１０Ｃに対応する区分の爪駆動装置１５も、これら
と一体的位置関係を保持しつつ昇降可能な構造になって
いるものとする。これら第１レール部１０Ａ及び第３レ
ール部１０Ｃの各昇降動作や、これらに対応する爪駆動
装置１５の昇降及び送り駆動の詳細については後述す
る。図４に示すように、旋回治具１２は、レール１０に
対して吊り下げられるハンガー部２０と、被メッキ品Ｗ
を着脱自在な状態で取り付けるフレーム部２１とを有し
ている。In accordance with this, the claw driving device 15 is also divided into three sections, and the claw driving apparatuses 15 of the sections corresponding to the first rail portion 10A and the third rail portion 10C also have an integral positional relationship with them. The structure is such that it can be raised and lowered while holding it. The details of the lifting and lowering operations of the first rail portion 10A and the third rail portion 10C, and the lifting and lowering and feeding drive of the claw driving device 15 corresponding thereto will be described later. As shown in FIG. 4, the swivel jig 12 includes a hanger portion 20 suspended from the rail 10 and a product W to be plated.
And a frame portion 21 to which is attached detachably.
【００１７】これらハンガー部２０とフレーム部２１と
は、互いに着脱自在な構造としても不可分一体の構造と
してもよい。図５及び図６から明らかなように、本実施
形態ではハンガー部２０とフレーム部２１とが着脱自在
な構造としてあり、フレーム部２１には断面クサビ型を
した差込片２２を設け、ハンガー部２０にはこの差込片
２２をガタツキなく嵌め入れ可能としたＶカット状の受
入れ部２３を設けてある。ハンガー部２０にはその上部
に鉤型をしたフック２４が設けられており、このフック
２４の内側でレール１０に対してその上から引っ掛か
り、またフック２４の先端側と根本側とでレール１０を
その左右両側から挟持するようになっている。そのた
め、旋回治具１２は、レール１０に対して横揺れなどを
生じずに安定して吊り下げられ、且つレール１０に沿っ
て滑らかに移動できるようになっている。The hanger portion 20 and the frame portion 21 may have a detachable structure or an inseparable integral structure. As is clear from FIGS. 5 and 6, in the present embodiment, the hanger portion 20 and the frame portion 21 are detachable, and the frame portion 21 is provided with a wedge-shaped insertion piece 22 in cross section. 20 is provided with a V-cut receiving portion 23 into which the insertion piece 22 can be fitted without rattling. The hanger portion 20 is provided with a hook-shaped hook 24 on the upper part thereof. The hook 24 hooks the rail 10 from above on the inside of the hook 24, and the rail 10 is fixed between the tip side and the root side of the hook 24. It is designed to be clamped from both the left and right sides. Therefore, the turning jig 12 can be stably hung on the rail 10 without causing rolling, and can be smoothly moved along the rail 10.
【００１８】なお、このフック２４の上部には、爪送り
装置１５の送り爪１４との係合に用いられる受け爪２５
が設けられている。図７及び図８に示すように、この旋
回治具１２において、ハンガー部２０にはその上下方向
の略中間部に旋回継ぎ手部３０が設けられている。本実
施形態において、この旋回継ぎ手部３０は、ハンガー部
２０を上半体２０ａと下半体２０ｂとに分割した状態
で、上半体２０ａ側に旋回支持台３１を設け、この旋回
支持台３１に対して旋回軸３２を回動自在な状態で下方
突出状に保持させ、この旋回軸３２の下方突出部分に旋
回ギヤ３３と共に下半体２０ｂを固定したものである。A receiving claw 25 used for engaging with the feed claw 14 of the claw feeding device 15 is provided on the hook 24.
Is provided. As shown in FIGS. 7 and 8, in the swivel jig 12, the hanger portion 20 is provided with a swivel joint portion 30 at a substantially middle portion in the vertical direction. In the present embodiment, the swivel joint portion 30 is provided with a swivel support base 31 on the upper half body 20a side in a state where the hanger portion 20 is divided into an upper half body 20a and a lower half body 20b. On the other hand, the turning shaft 32 is rotatably held in a downwardly projecting state, and the lower half body 20b is fixed to the downwardly projecting portion of the turning shaft 32 together with the turning gear 33.
【００１９】従ってこの旋回継ぎ手部３０は、上半体２
０ａの旋回支持台３１に対する旋回軸３２の回動によっ
て下半体２０ｂの旋回が自在に行われるものであり、こ
の旋回動作に伴い、レール１０に対する被メッキ品Ｗの
向き変えを可能にする。なお、旋回支持台３１と旋回ギ
ヤ３３との上下間には角度安定機構３５が設けられてい
る。この角度安定機構３５は、例えば公知のボールプッ
シュ機構等を採用したものであり、詳細図は省略する
が、旋回ギヤ３３の上面に９０°の周角度をおいて半球
状の窪みが設けられ、これに対して旋回支持台３１に
は、上記半球状窪みに嵌るボール３６をバネで下向きに
押し込む構造が設けられたものである。Therefore, the swivel joint portion 30 includes the upper half 2
The lower half body 20b can be freely swung by the turning of the turning shaft 32 with respect to the turning support base 31 of 0a. With this turning operation, the workpiece W to be plated can be turned with respect to the rail 10. An angle stabilizing mechanism 35 is provided above and below the swivel support 31 and the swivel gear 33. The angle stabilizing mechanism 35 employs, for example, a well-known ball push mechanism or the like, and although detailed drawings are omitted, hemispherical depressions are provided on the upper surface of the turning gear 33 at a circumferential angle of 90 °. On the other hand, the swivel support base 31 is provided with a structure in which the ball 36 fitted in the hemispherical depression is pushed downward by a spring.
【００２０】従って、この旋回ハンガー２０において、
上半体２０ａ（旋回支持台３１）に対して下半体２０ｂ
（旋回ギヤ３３）が９０°の回動をするたびに、角度安
定機構３５の作用によってその都度、回動後の停止状態
が保持されるようになり、これに伴って被メッキ品Ｗの
保持状態も、向き変え前、及び向き変え後の双方で安定
することになる。上記した第１旋回ステーション１７
（前処理槽４からメッキ槽６への移行間に設けられてい
る）及び第２旋回ステーション１８（メッキ槽６から後
処理槽８への移行間に設けられている）は、同じもので
ある。そこで以下では、主として第１旋回ステーション
１７について説明する。Therefore, in this turning hanger 20,
Lower half 20b with respect to upper half 20a (swivel support 31)
Each time the (swivel gear 33) rotates 90 °, the stopped state after rotation is maintained by the action of the angle stabilizing mechanism 35, and accordingly, the object W to be plated is held. The state will be stable both before and after the change of direction. First turning station 17 described above
The second swirl station 18 (provided between the transition from the pretreatment bath 4 to the plating bath 6) and the second swirl station 18 (provided during the transition from the plating bath 6 to the posttreatment bath 8) are the same. . Therefore, the first turning station 17 will be mainly described below.
【００２１】図７に示すように、この第１旋回ステーシ
ョン１７には、旋回治具１２に対して旋回継ぎ手部３０
より下側部分（下半体２０ｂ側）へ９０°回動分の旋回
駆動を与える旋回駆動装置３８が設けられている。この
旋回駆動装置３８は、旋回治具１２の旋回継ぎ手部３０
に採用された構造に対応する構造を有したものとなって
いる。従って本実施形態では、旋回治具１２の旋回継ぎ
手部３０に用いられた旋回ギヤ３３に噛合可能なラック
歯体４０を、適宜進退駆動具４１によって進退させる構
造としてある（図８も併せて参照）。As shown in FIG. 7, in the first turning station 17, the turning joint portion 30 is connected to the turning jig 12.
A turning drive device 38 is provided to give a lower part (lower half 20b side) a turning drive for 90 ° turning. The swivel drive device 38 includes a swivel joint portion 30 of the swivel jig 12.
It has a structure corresponding to the structure adopted in. Therefore, in this embodiment, the rack tooth body 40 that can be meshed with the turning gear 33 used in the turning joint portion 30 of the turning jig 12 is moved forward / backward by the forward / backward drive tool 41 as appropriate (see also FIG. 8). ).
【００２２】ラック歯体４０は、第１旋回ステーション
１７で停止している旋回治具１２に対して、レール１０
に沿った移動方向の後側で左右進退するような位置付け
になっており、且つラック歯が前向きとなるように設け
られている。進退駆動具４１には流体圧シリンダや直線
型ソレノイド、或いはモータ駆動の送りネジ機構等を用
いることができる。また、旋回ギヤ３３に対してラック
歯体４０がうまく噛合しなかった場合の対処として、こ
のラック歯体４０側にショックアブソーバ４２を付設し
ておくのが好適である。The rack tooth body 40 moves the rail 10 against the turning jig 12 stopped at the first turning station 17.
The rack teeth are positioned so as to move forward and backward on the rear side in the moving direction along the rack teeth, and the rack teeth are provided so as to face forward. A fluid pressure cylinder, a linear solenoid, a motor-driven feed screw mechanism, or the like can be used as the advancing / retreating drive tool 41. Further, as a measure against the case where the rack tooth body 40 does not mesh well with the turning gear 33, it is preferable to attach a shock absorber 42 to the rack tooth body 40 side.
【００２３】このようなことから、レール１０に沿って
旋回治具１２がこの第１旋回ステーション１７に到達
し、停止すると、旋回駆動装置３８の進退駆動具４１が
ラック歯体４０を旋回治具１２へ向けて進出させ、この
ラック歯体４０を旋回治具１２の旋回ギヤ３３へその後
面側から噛合させる。そして更に進退駆動具４１は、こ
の噛合時点から旋回ギヤ３３が９０°回動するところま
でラック歯体４０の進出を続行させる。このようにして
旋回ギヤ３３の９０°回動（即ち、旋回治具１２におけ
る下半体２０ｂの９０°旋回）が完了しても、進退駆動
具４１はラック歯体４０を進出させた状態のまま、旋回
治具１２の次のピッチ送りを待つ。Therefore, when the turning jig 12 reaches the first turning station 17 along the rail 10 and stops, the advancing / retreating drive tool 41 of the turning drive device 38 moves the rack tooth body 40 to the turning jig. 12, the rack tooth body 40 is engaged with the turning gear 33 of the turning jig 12 from the rear surface side. Then, the advancing / retreating drive tool 41 continues advancing the rack tooth body 40 from the time of this meshing until the turning gear 33 rotates 90 °. In this way, even if the turning gear 33 is turned by 90 ° (that is, the lower half body 20b of the turning jig 12 is turned by 90 °), the advancing / retreating drive tool 41 keeps the rack tooth body 40 in the advanced state. Then, the next pitch feed of the turning jig 12 is waited for.
【００２４】そして、旋回治具１２がレール１０に沿っ
て前進を開始して、旋回ギヤ３３からラック歯体４０が
離れた直後、進退駆動具４１は素早くラック歯体４０を
元の待機位置まで後退させるようになる。なお、言うま
でもなく、このような旋回駆動装置３８の細部構造は、
旋回治具１２の旋回継ぎ手部３０に採用された構造との
組み合わせによって、適宜変更され得るものである。と
ころで、図４乃至図６に示したように、レール１０はそ
の上面が旋回治具１２用の摺動面とされており、この摺
動面にはその長手方向に沿った水路４５（図６にのみ示
す）が形成されている。Immediately after the turning jig 12 starts moving forward along the rail 10 and the rack tooth 40 is separated from the turning gear 33, the forward / backward drive tool 41 quickly moves the rack tooth 40 back to the original standby position. Will come to retreat. Needless to say, such a detailed structure of the swing drive device 38 is
It can be appropriately changed depending on the combination with the structure adopted for the turning joint portion 30 of the turning jig 12. By the way, as shown in FIGS. 4 to 6, the rail 10 has an upper surface serving as a sliding surface for the turning jig 12, and the sliding surface has a water channel 45 (see FIG. 6) along the longitudinal direction thereof. (Shown only in) are formed.
【００２５】そのため、この水路４５内へ水を満たして
おけば、レール１０と旋回治具１２におけるハンガー部
２０のフック２４との当接によって生ずる摩擦抵抗が軽
減し、またこれら両者が冷却されるという作用効果が得
られることはもとより、その他にも、このときの接触面
積が高密になり水路４５内の水を介してレール１０側か
ら旋回治具１２（即ち、被メッキ品Ｗ）側への陰極電流
の給電に高導電率が得られるという作用効果を得ること
ができるようになっている。この場合、レール１０の下
部に樋部４６を設けて、水路４５から漏洩する水がメッ
キ槽６等に混入するのを防止するのが好適である。Therefore, by filling the water passage 45 with water, the frictional resistance caused by the contact between the rail 10 and the hook 24 of the hanger portion 20 of the turning jig 12 is reduced, and both of them are cooled. In addition to that, the contact area at this time becomes higher and the contact area from the rail 10 side to the turning jig 12 (that is, the product W to be plated) side is increased through the water in the water channel 45. It is possible to obtain the effect that a high conductivity can be obtained for feeding the cathode current. In this case, it is preferable to provide a trough portion 46 at the bottom of the rail 10 to prevent water leaking from the water passage 45 from entering the plating tank 6 or the like.
【００２６】次に、図１乃至図３に基づいて上記構成を
具備した連続電気メッキ処理システム１の稼働状況を説
明する。まず、図２に示すように前処理工程５におい
て、第１レール１０Ａにはその下方の前処理槽４の数及
び配置に応じた複数の旋回治具１２が位置付けられ、停
止されているとする。このとき、各旋回治具１２では、
保持した被メッキ品Ｗがその両面を移動方向の前後へ向
けた状態に保持されている。また第１レール１０Ａに
は、隣接するメッキ処理工程７のメッキ槽６に対してそ
の上流端位置に対応するようにして、更に一つの旋回治
具１２が停止されている。この旋回治具１２は、第１旋
回ステーション１７を既に通過したか又は丁度、第１旋
回ステーション１７に対応した位置付けとなっている。
そして、この第１旋回ステーション１７で旋回駆動装置
３８の作動を受けて、保持した被メッキ品Ｗがその両面
を移動方向の左右へ向けた状態に向き変えされているも
のとする。Next, the operating condition of the continuous electroplating system 1 having the above-mentioned structure will be described with reference to FIGS. 1 to 3. First, as shown in FIG. 2, in the pretreatment step 5, a plurality of turning jigs 12 corresponding to the number and arrangement of the pretreatment tanks 4 below the first rail 10A are positioned and stopped. . At this time, in each turning jig 12,
The held object W to be plated is held in a state in which both sides of the object W to be plated are forward and backward in the moving direction. Further, one turning jig 12 is stopped on the first rail 10A so as to correspond to the upstream end position of the plating tank 6 of the adjacent plating treatment step 7. The turning jig 12 has already passed through the first turning station 17 or is positioned exactly corresponding to the first turning station 17.
Then, it is assumed that in response to the operation of the turning drive device 38 at the first turning station 17, the held article W to be plated has been turned to a state in which both surfaces thereof are directed to the left and right in the moving direction.
【００２７】そこで、この状態から第１レール部１０Ａ
が第２レール部１０Ｂと同一レベルまで下降するように
なっており、これによって各前処理槽４に対応した位置
付けの各旋回治具１２により保持された被メッキ品Ｗは
前処理槽４へと浸漬され、またメッキ槽６に対応した位
置付けの各旋回治具１２により保持された被メッキ品Ｗ
はメッキ槽６へと浸漬される。そして、各前処理槽４内
に浸漬される旋回治具１２は不動のままとされるが、メ
ッキ槽６内に浸漬された旋回治具１２だけは１ピッチ分
前進されて第２レール部１０Ｂに乗り移らされる。Therefore, from this state, the first rail portion 10A
Is lowered to the same level as that of the second rail portion 10B, whereby the object W to be plated held by each turning jig 12 positioned corresponding to each pretreatment tank 4 is transferred to the pretreatment tank 4. Product W to be plated which is dipped and held by each turning jig 12 positioned corresponding to the plating tank 6.
Is immersed in the plating bath 6. Then, the turning jigs 12 immersed in the respective pretreatment tanks 4 remain stationary, but only the turning jigs 12 immersed in the plating tank 6 are advanced by one pitch to move the second rail portion 10B. Be transferred to.
【００２８】そして、次に第１レール部１０Ａが元の高
さへと上昇し、その後、ここに吊り下がる各旋回治具１
２が１ピッチ分（前処理槽４の配置間隔に同じ）前進さ
れ、また同時にこの第１レール部１０Ａに対してその上
流側から一つの旋回治具１２が補充されるようになる。
前処理工程５では、再びこの第１レール部１０Ａが下降
して、以後、上記と同じ動きが繰り返されることにな
る。一方、メッキ処理工程７のメッキ槽６内では、上記
したように第２レール部１０Ｂに吊り下がる各旋回治具
１２が、保持した被メッキ品Ｗを その両面を移動方向
の左右へ向けた状態となっている。Then, the first rail portion 10A next rises to its original height, and thereafter, the turning jigs 1 are suspended there.
2 is advanced by one pitch (same as the arrangement interval of the pretreatment tank 4), and at the same time, one turning jig 12 is replenished from the upstream side of the first rail portion 10A.
In the pretreatment step 5, the first rail portion 10A descends again, and thereafter, the same movement as described above is repeated. On the other hand, in the plating tank 6 in the plating process 7, as described above, the turning jigs 12 suspended on the second rail portion 10B have the workpiece W held, with both surfaces thereof facing left and right in the moving direction. Has become.
【００２９】そこで、このメッキ槽６内に設けられた陽
極電極５０（図１参照）と、第２レール１０Ｂ側から水
路４５（図６参照）内の水を介して旋回治具１２（被メ
ッキ品Ｗ）に給電される陰極電流との間でメッキ処理
（被メッキ品Ｗに対するメッキ被膜の形成）が行われ
る。このようにして、この第２レール部１０Ｂでは、第
１レール部１０Ａから次々と送り込まれる旋回治具１２
が爪駆動装置１５による駆動を受けてピッチ送りされる
ことになる。Therefore, the swiveling jig 12 (to be plated) is passed through the anode electrode 50 (see FIG. 1) provided in the plating tank 6 and the water in the water passage 45 (see FIG. 6) from the second rail 10B side. A plating process (formation of a plated coating on the product W to be plated) is performed with the cathode current supplied to the product W). In this way, in the second rail portion 10B, the turning jig 12 fed one after another from the first rail portion 10A.
Will be pitch-fed by being driven by the claw driving device 15.
【００３０】図３に示すように、これによってメッキ槽
６の下流端位置まで旋回治具１２が到達すると、第３レ
ール部１０Ｃが第２レール部１０Ｂと同一レベルまで下
降して、一つの旋回治具１２が第２レール部１０Ｂから
第３レール部１０Ｂに乗り移らされる。そこで、この状
態になるのを待って第３レール部１０Ｃは元の高さへと
上昇する。このとき、第３レール１０Ｃにはメッキ槽６
の下流端位置に対応する一つの旋回治具１２だけでな
く、それより前方でその下方の後処理槽８の数及び配置
に応じて位置付けられた複数の旋回治具１２が停止して
いる状態にある。As shown in FIG. 3, when the turning jig 12 reaches the downstream end position of the plating tank 6 as a result, the third rail portion 10C descends to the same level as the second rail portion 10B, and one turning operation is performed. The jig 12 is transferred from the second rail portion 10B to the third rail portion 10B. Therefore, waiting for this state, the third rail portion 10C rises to the original height. At this time, the plating tank 6 is installed on the third rail 10C.
Not only one swivel jig 12 corresponding to the downstream end position of the swivel jig 12 but also a plurality of swivel jigs 12 positioned in accordance with the number and arrangement of the post-treatment baths 8 below the swivel jig 12 are stopped. It is in.
【００３１】そして、メッキ槽６の下流端位置に対応す
る一つの旋回治具１２については、第２旋回ステーショ
ン１８を既に通過したか又は丁度、第２旋回ステーショ
ン１８に対応した位置付けとなっている。そして、この
第２旋回ステーション１８で旋回駆動装置３８の作動を
受けて、保持した被メッキ品Ｗがその両面を移動方向の
前後へ向けた状態に向き変えされるものとする。このよ
うにして被メッキ品Ｗの向き変えが行われた状態の旋回
治具１２は、この後、第３レール部１０Ｃに沿って一斉
に１ピッチ分（後処理槽８の配置間隔に同じ）前進され
る。そのため、この第３レール部１０Ｃからその下流側
へ向けて一つの旋回治具１２が送り出されることにな
る。Then, one turning jig 12 corresponding to the downstream end position of the plating tank 6 has already passed through the second turning station 18, or is positioned exactly corresponding to the second turning station 18. . Then, in response to the operation of the turning drive device 38 at the second turning station 18, the held object W to be plated is turned to a state in which both sides of the object W to be plated are oriented forward and backward in the moving direction. The turning jig 12 in the state in which the workpiece W has been turned in this way is then one pitch at a time along the third rail portion 10C (same as the arrangement interval of the post-treatment bath 8). Be advanced. Therefore, one turning jig 12 is sent out from the third rail portion 10C toward the downstream side thereof.
【００３２】そして、この状態で、この第３レール部１
０Ｃは再び下降するようになって、この第３レール部１
０Ｃに吊り下がる各旋回治具１２により保持された被メ
ッキ品Ｗが、それぞれ後処理槽８へと浸漬されるように
なる。後処理工程９では、以後、上記と同じ動きが繰り
返されることになる。なお、上記したメッキ処理工程７
において、第２レール部１０Ｂに沿った爪駆動装置１５
の動作は、各旋回治具１２に対して複数ピッチ分の送り
をかけた後、これとは逆向き（戻り方向）へいくらかの
戻り駆動を行わせ、また複数ピッチ分を送るといった動
作状況とさせることができる。Then, in this state, the third rail portion 1
0C starts descending again, and the third rail portion 1
The to-be-plated products W held by the respective swivel jigs 12 suspended at 0C are immersed in the post-treatment bath 8. In the post-processing step 9, the same movement as described above will be repeated thereafter. In addition, the plating process 7 described above
At the claw drive device 15 along the second rail portion 10B
The operation state is such that after feeding a plurality of pitches to each turning jig 12, some return driving is performed in the opposite direction (return direction), and a plurality of pitches are fed. Can be made.
【００３３】例えば、前向きに３ピッチ分の送りをかけ
た後、後向きに２ピッチ分戻し、また３ピッチ分の前向
き送りをかけるといったことを繰り返すパターンや、前
向きに２ピッチ分送り、後向きに１ピッチ分戻し、前向
きに１ピッチ分送り、もう一度後向きに１ピッチ分戻し
てから、新たに前向きに２ピッチ分の送りをかけるとい
ったことを繰り返すパターンを採用することができる。
このようにすると、メッキ槽６内での被メッキ品Ｗの浸
漬時間を長引かせることができるため、メッキ槽６を比
較的短く形成できることになり、このメッキラインの全
長を更に一層、短くすること（省スペース化）ができる
ものとなる。また、被メッキ品Ｗに対してメッキ被膜を
均一化させることができるという利点もある。For example, a pattern is repeated in which a forward feed of 3 pitches is performed, then a backward feed of 2 pitches is performed, and a forward feed of 3 pitches is repeated, or a forward feed of 2 pitches and a backward feed of 1 pitch is performed. It is possible to employ a pattern in which the pitch is returned by one pitch, the pitch is fed forward by one pitch, the pitch is returned by one pitch backward again, and then the pitch is fed forward again by two pitches.
By doing so, the immersion time of the product W to be plated in the plating tank 6 can be lengthened, so that the plating tank 6 can be formed relatively short, and the total length of the plating line can be further shortened. (Space saving). There is also an advantage that the plating film can be made uniform with respect to the product W to be plated.
【００３４】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく、細部の構成、部材形状、材質などに関しては
実施の形態に応じて適宜変更可能である。例えば、旋回
治具１２において、旋回継ぎ手部３０は、ハンガー部２
０とフレーム部２１との上下間部分に設けることもでき
る。前処理槽４や後処理槽８に対して旋回治具１２（被
メッキ品Ｗ）を浸漬させる構造として、レール１０自体
を昇降させるのではなく、レール１０から旋回治具１２
を全部又は一部だけ取り外して、この取り外した部分だ
けを昇降させるような構造とすることもできる。The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the detailed configuration, member shape, material and the like can be appropriately changed according to the embodiment. For example, in the swivel jig 12, the swivel joint portion 30 may be the hanger portion 2
It can also be provided in the upper and lower portions between 0 and the frame portion 21. As a structure in which the swivel jig 12 (product W to be plated) is immersed in the pretreatment bath 4 and the posttreatment bath 8, the swivel jig 12 is moved from the rail 10 instead of moving the rail 10 itself up and down.
It is also possible to remove all or only part of the above and raise and lower only this removed part.
【００３５】[0035]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る連続電気メッキ処理システム及びこれに用いる旋
回治具では、メッキ槽内では被メッキ品をその両面が左
右へ向けた状態に保持するが、このメッキ槽より上流側
に設置される前処理槽や、メッキ槽よりも下流側に設置
される後処理槽では、被メッキ品をその両面が移動方向
の前後へ向けた状態に保持させるようにしている。その
ため、前処理槽や後処理槽では、それらの槽の長手方向
を被メッキ品の移動方向に対して直交させた向きに設置
することができることになり、ライン長の短縮化、及び
占有面積の省スペース化を可能とし、またこれらに伴っ
てメッキ処理効率の高効率化が図れるものである。As is apparent from the above description, in the continuous electroplating system and the swivel jig used for the same according to the present invention, the object to be plated is held in the plating tank with both sides thereof facing left and right. However, in the pre-treatment tank installed upstream of this plating tank and the post-treatment tank installed downstream of this plating tank, hold the product to be plated with both sides facing forward and backward in the moving direction. I am trying to let you. Therefore, in the pre-treatment tank and the post-treatment tank, the longitudinal direction of these tanks can be installed in the direction orthogonal to the moving direction of the product to be plated, which shortens the line length and reduces the occupied area. It is possible to save space, and the plating processing efficiency can be improved accordingly.
【図１】本発明に係る連続電気メッキ処理システムの一
実施形態を概略的に示した平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing an embodiment of a continuous electroplating processing system according to the present invention.
【図２】図１のＡ−Ａ線矢視拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view taken along the line AA of FIG.
【図３】図１のＢ−Ｂ線矢視拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view taken along the line BB of FIG.
【図４】旋回治具によって被メッキ品を保持した状態を
拡大して示した正面図である。FIG. 4 is an enlarged front view showing a state in which an object to be plated is held by a turning jig.
【図５】図４中の一部（旋回治具のハンガー部）を更に
拡大して示した正面図である。FIG. 5 is a front view showing a part of FIG. 4 (a hanger portion of a turning jig) in a further enlarged manner.
【図６】図５のＣ−Ｃ線断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.
【図７】図１のＤ−Ｄ線線拡大矢視図である。FIG. 7 is an enlarged arrow view taken along the line DD of FIG.
【図８】旋回治具のハンガー部を示す拡大斜視図であ
る。FIG. 8 is an enlarged perspective view showing a hanger portion of the turning jig.
１ 連続電気メッキ処理システム ２ メッキライン ４ 前処理槽 ６ メッキ槽 １０ レール １２ 旋回治具 １７ 旋回ステーション（第１旋回ステーション） １８ 旋回ステーション（第２旋回ステーション） ２０ ハンガー部 ２１ フレーム部 ３０ 旋回継ぎ手部 ３５ 角度安定機構 ３８ 旋回駆動装置 Ｗ 被メッキ品 1 Continuous electroplating system 2 plating line 4 Pretreatment tank 6 plating tank 10 rails 12 Turning jig 17 Turning station (1st turning station) 18 Turning station (2nd turning station) 20 Hanger part 21 frame part 30 Swivel joint 35 Angle stabilization mechanism 38 Turning drive W Plated product
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２５Ｄ 19/00 Ｃ２５Ｄ 19/00 Ａ Ｈ０５Ｋ 3/18 Ｈ０５Ｋ 3/18 Ｎ (72)発明者 木田 貴文 大阪府羽曳野市駒ケ谷５番地の34 木田精 工株式会社内 Ｆターム(参考） 4K024 BB11 CB02 CB03 DA03 DA04 DB10 5E343 AA02 AA11 BB22 BB71 DD43 FF16 FF20 GG20 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C25D 19/00 C25D 19/00 A H05K 3/18 H05K 3/18 N (72) Inventor Takafumi Kida Osaka Prefecture F term in Kida Seiko Co., Ltd. 34, 5-5 Komagaya, Habikino City (reference) 4K024 BB11 CB02 CB03 DA03 DA04 DB10 5E343 AA02 AA11 BB22 BB71 DD43 FF16 FF20 GG20
Claims (5)
が設けられ且つこれら各槽（４，６）上方間にレール
（１０）が架設されたメッキライン（２）に対し、板状
の被メッキ品（Ｗ）を保持した治具（１２）をレール
（１０）に吊り下げ状態にして移動させつつ各槽（４，
６）上で治具（１２）を下降及び上昇させることで被メ
ッキ品（Ｗ）を各槽（４，６）内へ順次浸漬させる連続
電気メッキ処理システムであって、 前処理槽（４）からメッキ槽（６）への移行間には、治
具（１２）による被メッキ品（Ｗ）の保持向きを変えさ
せる旋回ステーション（１７）が設けられており、前処
理槽（４）では被メッキ品（Ｗ）がその両面を移動方向
の前後へ向けた状態に保持され、メッキ槽（６）内では
上記旋回ステーション（１７）の作動を介することによ
って被メッキ品（Ｗ）がその両面を移動方向の左右へ向
けた状態に保持されることを特徴とする連続電気メッキ
処理システム。1. A plating bath (6) following the pretreatment bath (4)
The jig (12) holding the plate-shaped product (W) is railed to the plating line (2) in which the rail (10) is installed above each tank (4, 6). Each tank (4,
6) A continuous electroplating system in which the jig (12) is lowered and raised to sequentially immerse the article to be plated (W) into each tank (4, 6), which is a pretreatment tank (4). A swirl station (17) for changing the holding direction of the object to be plated (W) by the jig (12) is provided between the transition from the pretreatment tank (4) to the plating tank (6). The plated product (W) is held in a state in which both sides thereof are oriented forward and backward in the moving direction, and in the plating tank (6), the plated product (W) has both sides thereof moved by the operation of the swiveling station (17). A continuous electroplating system characterized by being held in a state of being directed to the left and right of the moving direction.
が設けられ且つこれら各槽（６，８）上方間にレール
（１０）が架設されたメッキライン（２）に対し、板状
の被メッキ品（Ｗ）を保持した治具（１２）をレール
（１０）に吊り下げ状態にして移動させつつ各槽（６，
８）上で治具（１２）を下降及び上昇させることで被メ
ッキ品（Ｗ）を各槽（６，８）内へ順次浸漬させる連続
電気メッキ処理システムであって、 メッキ槽（６）から後処理槽（８）への移行間には、治
具（１２）による被メッキ品（Ｗ）の保持向きを変えさ
せる旋回ステーション（１８）が設けられており、メッ
キ槽（６）内では被メッキ品（Ｗ）がその両面を移動方
向の左右へ向けた状態に保持され、後処理槽（８）では
上記旋回ステーション（１８）の作動を介することによ
って被メッキ品（Ｗ）がその両面を移動方向の前後へ向
けた状態に保持されることを特徴とする連続電気メッキ
処理システム。2. A plating bath (6) followed by a post-treatment bath (8)
The jig (12) holding the plate-shaped product (W) is railed to the plating line (2) in which the rail (10) is installed above each tank (6, 8). Each tank (6, 6
8) A continuous electroplating treatment system in which a jig (12) is lowered and raised to successively immerse a product to be plated (W) into each bath (6, 8). A swirl station (18) for changing the holding direction of the article to be plated (W) by the jig (12) is provided during the transition to the post-treatment tank (8). The plated product (W) is held in a state in which both sides thereof are directed to the left and right in the moving direction, and in the post-treatment tank (8), the plated product (W) has both sides thereof moved by the operation of the swirling station (18). A continuous electroplating system characterized in that it is held in a state of facing forward and backward in the moving direction.
０）への引っ掛けが可能とされたハンガー部（２０）
と、該ハンガー部（２０）の下部に設けられて被メッキ
品（Ｗ）を着脱可能な状態に保持するフレーム部（２
１）とを有していると共に、ハンガー部（２０）自体又
はハンガー部（２０）とフレーム部（２１）との上下間
部分にはレール（１０）に対する被メッキ品（Ｗ）の向
き変えを可能にする旋回継ぎ手部（３０）が設けられて
おり、前記旋回ステーション（１７）（１８）には治具
（１２）における上記旋回継ぎ手部（３０）より下側部
分へ９０°回動分の旋回駆動を与える旋回駆動装置（３
８）が設けられていることを特徴とする請求項１又は請
求項２記載の連続電気メッキ処理システム。3. The jig (12) includes the rail (1).
Hanger part (20) that can be hooked on (0)
And a frame part (2) provided below the hanger part (20) for holding the article (W) to be plated in a detachable state.
1) and the hanger portion (20) itself or the upper and lower portion between the hanger portion (20) and the frame portion (21) should be turned around with respect to the rail (10). A swivel joint part (30) for enabling the swivel joint part (30) is provided, and the swivel stations (17) and (18) are rotated by 90 ° to a lower portion of the jig (12) from the swivel joint part (30). A swivel drive device that gives swivel drive (3
8) is provided, The continuous electroplating processing system of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned.
キするメッキライン（２）で該メッキライン（２）の上
方に架設されたレール（１０）に対して移動自在に吊り
下げ保持される被メッキ品（Ｗ）保持用の治具であっ
て、 上記レール（１０）への引っ掛けが可能とされたハンガ
ー部（２０）と、該ハンガー部（２０）の下部に設けら
れて被メッキ品（Ｗ）を着脱可能な状態に保持するフレ
ーム部（２１）とを有しており、ハンガー部（２０）自
体又はハンガー部（２０）とフレーム部（２１）との上
下間部分には、上記レール（１０）に対する被メッキ品
（Ｗ）の向き変えを可能にする旋回継ぎ手部（３０）が
設けられていることを特徴とする連続電気メッキに用い
る旋回治具。4. A plating line (2) for continuously electroplating a plate-shaped object (W) to be suspended and held movably with respect to a rail (10) installed above the plating line (2). A jig for holding an article to be plated (W), which is capable of being hooked on the rail (10), and a jig provided below the hanger section (20). It has a frame part (21) for holding the plated product (W) in a detachable state, and the hanger part (20) itself or the upper and lower parts between the hanger part (20) and the frame part (21). A swivel jig used for continuous electroplating, which is provided with a swivel joint portion (30) capable of changing the direction of the article (W) to be plated with respect to the rail (10).
の回動範囲をおいて被メッキ品（Ｗ）の向き変え状態を
保持可能とした角度安定機構（３５）が設けられている
ことを特徴とする請求項４記載の連続電気メッキに用い
る旋回治具。5. The swivel joint (30) has a 90 ° angle.
5. The swivel jig used for continuous electroplating according to claim 4, further comprising an angle stabilizing mechanism (35) capable of holding the changed state of the article to be plated (W) in the rotation range of the angle. Ingredient
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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