JP2003066375A - レーザビーム分岐装置及び分岐方法 - Google Patents
レーザビーム分岐装置及び分岐方法Info
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- JP2003066375A JP2003066375A JP2001253050A JP2001253050A JP2003066375A JP 2003066375 A JP2003066375 A JP 2003066375A JP 2001253050 A JP2001253050 A JP 2001253050A JP 2001253050 A JP2001253050 A JP 2001253050A JP 2003066375 A JP2003066375 A JP 2003066375A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分岐後の2本のレーザビームのパワーの比を
調整することが可能なレーザ分岐装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源から出射したレーザビームの
経路内に配置された分岐光学素子が、入射するレーザビ
ームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過させ
る。相互に直交する第1の偏光成分と第2の偏光成分と
の反射率が、相互に異なる。1/2波長板が、レーザ光
源と分岐光学素子との間のレーザビームの経路内に配置
されている。1/2波長板の速軸及び遅軸は、レーザビ
ームの進行方向に直交する。1/2波長板の速軸及び遅
軸がレーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心とし
て回転できるように、保持機構が1/2波長板を保持
し、かつ所望の位置で固定する。
調整することが可能なレーザ分岐装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源から出射したレーザビームの
経路内に配置された分岐光学素子が、入射するレーザビ
ームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過させ
る。相互に直交する第1の偏光成分と第2の偏光成分と
の反射率が、相互に異なる。1/2波長板が、レーザ光
源と分岐光学素子との間のレーザビームの経路内に配置
されている。1/2波長板の速軸及び遅軸は、レーザビ
ームの進行方向に直交する。1/2波長板の速軸及び遅
軸がレーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心とし
て回転できるように、保持機構が1/2波長板を保持
し、かつ所望の位置で固定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビーム分岐
装置及び分岐方法に関し、特に分岐後のレーザビームの
パワーを微調整することが可能なレーザビーム分岐装置
及び分岐方法に関する。
装置及び分岐方法に関し、特に分岐後のレーザビームの
パワーを微調整することが可能なレーザビーム分岐装置
及び分岐方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ加工機において、レーザ光源から
出射したレーザビームを2分岐させ、分岐した2本のレ
ーザビームを異なる加工対象物に入射させると、分岐さ
せない場合に比べて、実質的に2倍の加工速度を得るこ
とができる。このような、2軸同時レーザ加工機では、
半透過、半反射になるようなコーティングを施したいわ
ゆるハーフミラーを用いて、レーザビームを分岐させて
いた。
出射したレーザビームを2分岐させ、分岐した2本のレ
ーザビームを異なる加工対象物に入射させると、分岐さ
せない場合に比べて、実質的に2倍の加工速度を得るこ
とができる。このような、2軸同時レーザ加工機では、
半透過、半反射になるようなコーティングを施したいわ
ゆるハーフミラーを用いて、レーザビームを分岐させて
いた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術を用い
てレーザビームを分岐させる場合には、ハーフミラーの
コーティングの精度のばらつきのため、分岐後の2本の
レーザビームの各々のパワーを、高精度に、分岐前のレ
ーザビームのパワーの50%にすることが困難であっ
た。分岐後の2本のレーザビームのパワーが不一致であ
る場合には、高パワーのレーザビームの経路内に減衰板
を挿入していた。この方法では、レーザビームのパワー
の不一致がどの程度になるか不明であるため、減衰量の
異なる複数の減衰板を準備しておく必要がある。
てレーザビームを分岐させる場合には、ハーフミラーの
コーティングの精度のばらつきのため、分岐後の2本の
レーザビームの各々のパワーを、高精度に、分岐前のレ
ーザビームのパワーの50%にすることが困難であっ
た。分岐後の2本のレーザビームのパワーが不一致であ
る場合には、高パワーのレーザビームの経路内に減衰板
を挿入していた。この方法では、レーザビームのパワー
の不一致がどの程度になるか不明であるため、減衰量の
異なる複数の減衰板を準備しておく必要がある。
【0004】本発明の目的は、分岐後の2本のレーザビ
ームのパワーの比を調整することが可能なレーザ分岐装
置及び分岐方法を提供することである。
ームのパワーの比を調整することが可能なレーザ分岐装
置及び分岐方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、レーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ
光源から出射したレーザビームの経路内に配置され、入
射するレーザビームの一部の成分を反射させ、残りの成
分を透過させる分岐光学素子であって、相互に直交する
第1の偏光成分と第2の偏光成分との反射率が、相互に
異なる前記分岐光学素子と、前記レーザ光源と前記分岐
光学素子との間のレーザビームの経路内に配置され、該
レーザビームの進行方向に直交する速軸と遅軸とを有す
る1/2波長板と、前記1/2波長板の速軸と遅軸とが
レーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心として回
転できるように、該1/2波長板を保持し、かつ所望の
位置で固定することができる保持機構とを有するレーザ
ビーム分岐装置が提供される。
と、レーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ
光源から出射したレーザビームの経路内に配置され、入
射するレーザビームの一部の成分を反射させ、残りの成
分を透過させる分岐光学素子であって、相互に直交する
第1の偏光成分と第2の偏光成分との反射率が、相互に
異なる前記分岐光学素子と、前記レーザ光源と前記分岐
光学素子との間のレーザビームの経路内に配置され、該
レーザビームの進行方向に直交する速軸と遅軸とを有す
る1/2波長板と、前記1/2波長板の速軸と遅軸とが
レーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心として回
転できるように、該1/2波長板を保持し、かつ所望の
位置で固定することができる保持機構とを有するレーザ
ビーム分岐装置が提供される。
【0006】1/2波長板の速軸と遅軸とを回転させる
と、第1の偏光成分のパワーと第2の偏光成分のパワー
との比を変化させることができる。これにより、分岐光
学素子によるレーザビームの反射率が変化する。従っ
て、1/2波長板の速軸と遅軸とを回転させることによ
り、分岐光学素子によるパワーの分配比を変えることが
できる。
と、第1の偏光成分のパワーと第2の偏光成分のパワー
との比を変化させることができる。これにより、分岐光
学素子によるレーザビームの反射率が変化する。従っ
て、1/2波長板の速軸と遅軸とを回転させることによ
り、分岐光学素子によるパワーの分配比を変えることが
できる。
【0007】本発明の他の観点によると、レーザビーム
を、1/2波長板に入射させる工程と、入射するレーザ
ビームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過さ
せ、相互に直交する第1の偏光成分と第2の偏光成分と
の反射率が相互に異なる分岐光学素子に、前記1/2波
長板を透過したレーザビームを入射させ、入射したレー
ザビームの一部を反射させ、残りを透過させる工程と、
前記分岐光学素子で反射したレーザビーム及び該分岐光
学素子を透過したレーザビームの少なくとも一方のパワ
ーを監視しながら、前記1/2波長板の速軸と遅軸と
を、前記レーザビームの中心軸に平行な軸を回転中心と
して回転させ、監視されているレーザビームのパワーが
所望の値になると回転を停止させ、その位置で該1/2
波長板を固定する工程とを有するレーザビームの分岐方
法が提供される。
を、1/2波長板に入射させる工程と、入射するレーザ
ビームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過さ
せ、相互に直交する第1の偏光成分と第2の偏光成分と
の反射率が相互に異なる分岐光学素子に、前記1/2波
長板を透過したレーザビームを入射させ、入射したレー
ザビームの一部を反射させ、残りを透過させる工程と、
前記分岐光学素子で反射したレーザビーム及び該分岐光
学素子を透過したレーザビームの少なくとも一方のパワ
ーを監視しながら、前記1/2波長板の速軸と遅軸と
を、前記レーザビームの中心軸に平行な軸を回転中心と
して回転させ、監視されているレーザビームのパワーが
所望の値になると回転を停止させ、その位置で該1/2
波長板を固定する工程とを有するレーザビームの分岐方
法が提供される。
【0008】1/2波長板の速軸と遅軸とを回転させる
だけで、容易に、分岐光学素子によるパワーの分配比を
変えることができる。
だけで、容易に、分岐光学素子によるパワーの分配比を
変えることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】図1に、本発明の実施例によるレ
ーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源1が、レーザ
ビームを出射する。レーザ光源1は、例えば炭酸ガスレ
ーザである。レーザ光源1から出射したレーザビーム
が、1/2波長板2に入射する。1/2波長板2は、例
えばCdSで形成することができる。
ーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源1が、レーザ
ビームを出射する。レーザ光源1は、例えば炭酸ガスレ
ーザである。レーザ光源1から出射したレーザビーム
が、1/2波長板2に入射する。1/2波長板2は、例
えばCdSで形成することができる。
【0010】1/2波長板2を透過したレーザビーム
が、偏光板4に入射角45°で入射する。偏光板4の法
線と入射光光軸とを含む仮想平面に垂直な偏光方向(図
1の紙面に垂直な方向)を有するS偏光成分は反射し、
それに直交する偏光方向(図1の縦方向)を有するP偏
光成分は透過する。偏光板4として、例えばGe、Zn
Se、KCl、NaCl等を用いることができる。
が、偏光板4に入射角45°で入射する。偏光板4の法
線と入射光光軸とを含む仮想平面に垂直な偏光方向(図
1の紙面に垂直な方向)を有するS偏光成分は反射し、
それに直交する偏光方向(図1の縦方向)を有するP偏
光成分は透過する。偏光板4として、例えばGe、Zn
Se、KCl、NaCl等を用いることができる。
【0011】偏光板4で反射したレーザビームは、レン
ズ6により収束され、XYステージ10の可動面上に載
置された加工対象物12に入射する。偏光板4を透過し
たレーザビームは、折返しミラー5で反射し、レンズ7
により収束され、XYステージ11の可動面上に載置さ
れた加工対象物13に入射する。加工対象物12及び1
3にレーザビームが入射することにより、穴あけ加工等
が行われる。
ズ6により収束され、XYステージ10の可動面上に載
置された加工対象物12に入射する。偏光板4を透過し
たレーザビームは、折返しミラー5で反射し、レンズ7
により収束され、XYステージ11の可動面上に載置さ
れた加工対象物13に入射する。加工対象物12及び1
3にレーザビームが入射することにより、穴あけ加工等
が行われる。
【0012】XYステージ10及び11の可動面上に、
それぞれパワーモニタ14および15が取り付けられて
いる。レーザビームがパワーモニタ14及び15に入射
するようにXYステージ10及び11を駆動することに
より、偏光板4で反射したレーザビーム及び偏光板4を
透過したレーザビームのパワーをモニタすることができ
る。
それぞれパワーモニタ14および15が取り付けられて
いる。レーザビームがパワーモニタ14及び15に入射
するようにXYステージ10及び11を駆動することに
より、偏光板4で反射したレーザビーム及び偏光板4を
透過したレーザビームのパワーをモニタすることができ
る。
【0013】1/2波長板2は、その速軸と遅軸とがレ
ーザビームの中心軸に対して直交するように、保持機構
3により保持されている。保持機構3は、レーザビーム
の進行方向に平行な軸を回転中心として、1/2波長板
を回転させ、所望の位置で固定することができる。な
お、回転の中心軸は、上述のようにレーザビームの進行
方向に平行であってもよいし、実質的に同等の効果が得
られる場合には、回転中心軸がレーザビームの進行方向
からやや傾いていてもよい。
ーザビームの中心軸に対して直交するように、保持機構
3により保持されている。保持機構3は、レーザビーム
の進行方向に平行な軸を回転中心として、1/2波長板
を回転させ、所望の位置で固定することができる。な
お、回転の中心軸は、上述のようにレーザビームの進行
方向に平行であってもよいし、実質的に同等の効果が得
られる場合には、回転中心軸がレーザビームの進行方向
からやや傾いていてもよい。
【0014】レーザ光源1から出射するレーザビームが
直線偏光である場合について説明する。1/2波長板2
の速軸と遅軸とが、入射するレーザビームの偏光方向に
一致する場合には、偏光方向が変化することなくそのま
ま透過する。1/2波長板2の速軸と遅軸とを、入射す
るレーザビームの偏光方向から角度θだけ傾けると、レ
ーザビームの偏光方向が角度2θだけ旋回する。1/2
波長板2の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、偏光板4に対するS偏光成分とP偏光成分とのパ
ワー比が50%ずつになるように制御することができ
る。
直線偏光である場合について説明する。1/2波長板2
の速軸と遅軸とが、入射するレーザビームの偏光方向に
一致する場合には、偏光方向が変化することなくそのま
ま透過する。1/2波長板2の速軸と遅軸とを、入射す
るレーザビームの偏光方向から角度θだけ傾けると、レ
ーザビームの偏光方向が角度2θだけ旋回する。1/2
波長板2の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、偏光板4に対するS偏光成分とP偏光成分とのパ
ワー比が50%ずつになるように制御することができ
る。
【0015】このとき、偏光板4で反射するレーザビー
ムのパワーと、偏光板4を透過するレーザビームのパワ
ーとが等しくなる。パワーモニタ14及び15でレーザ
ビームのパワーをモニタしながら、1/2波長板2の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、偏光板
4で分岐された2本のレーザビームのパワーを容易に等
しくすることができる。
ムのパワーと、偏光板4を透過するレーザビームのパワ
ーとが等しくなる。パワーモニタ14及び15でレーザ
ビームのパワーをモニタしながら、1/2波長板2の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、偏光板
4で分岐された2本のレーザビームのパワーを容易に等
しくすることができる。
【0016】次に、レーザ光源1から出射するレーザビ
ームがランダム偏光である場合について説明する。ラン
ダム偏光のレーザビームは、原理的にはS偏光成分とP
偏光成分とを同じ割合で含む。しかし、実際には光共振
器の構造や励起方式等によって、厳密には両者の割合が
等しくならない。このような場合、1/2波長板2の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、S偏光
成分とP偏光成分とのパワー比を50%ずつにすること
ができる。
ームがランダム偏光である場合について説明する。ラン
ダム偏光のレーザビームは、原理的にはS偏光成分とP
偏光成分とを同じ割合で含む。しかし、実際には光共振
器の構造や励起方式等によって、厳密には両者の割合が
等しくならない。このような場合、1/2波長板2の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、S偏光
成分とP偏光成分とのパワー比を50%ずつにすること
ができる。
【0017】上記実施例では、偏光板4でレーザビーム
を分岐させる場合について説明したが、偏光板4の代わ
りに部分反射鏡(ハーフミラー)を用いることもでき
る。ハーフミラーは、入射するレーザビームの一部を反
射させ、残りを透過させるが、部分反射鏡に対するS偏
光成分の反射率とP偏光成分の反射率とは、相互に異な
る。なお、ハーフミラーにおいては、表面コーティング
等により、入射レーザビームの透過率及び反射率を自在
に制御することが可能である。
を分岐させる場合について説明したが、偏光板4の代わ
りに部分反射鏡(ハーフミラー)を用いることもでき
る。ハーフミラーは、入射するレーザビームの一部を反
射させ、残りを透過させるが、部分反射鏡に対するS偏
光成分の反射率とP偏光成分の反射率とは、相互に異な
る。なお、ハーフミラーにおいては、表面コーティング
等により、入射レーザビームの透過率及び反射率を自在
に制御することが可能である。
【0018】ハーフミラーに入射するレーザビームのS
偏光成分のパワーの割合をSとすると、P偏光成分のパ
ワーの割合は1−Sになる。S偏光成分の反射率を
RS、P偏光成分の反射率をRPとすると、ハーフミラー
で反射するレーザビームのパワーの割合PRは、
偏光成分のパワーの割合をSとすると、P偏光成分のパ
ワーの割合は1−Sになる。S偏光成分の反射率を
RS、P偏光成分の反射率をRPとすると、ハーフミラー
で反射するレーザビームのパワーの割合PRは、
【0019】
【数2】
PR=S×RS+(1−S)×RP ・・・(2)
となる。レーザビームのパワーが、反射ビームと透過ビ
ームとに等分されるためには、
ームとに等分されるためには、
【0020】
【数3】PR=0.5 ・・・(3)
となればよい。
【0021】まず、レーザ光源1から出射するレーザビ
ームが直線偏光である場合について説明する。レーザビ
ームが直線偏光である場合には、1/2波長板2の速軸
または遅軸の傾き角θを調節することにより、S変更成
分のパワーの割合を0から1の範囲で任意に設定するこ
とができる。
ームが直線偏光である場合について説明する。レーザビ
ームが直線偏光である場合には、1/2波長板2の速軸
または遅軸の傾き角θを調節することにより、S変更成
分のパワーの割合を0から1の範囲で任意に設定するこ
とができる。
【0022】式(2)と(3)とをSについて解き、S
偏光成分のパワーの割合Sが0以上1以下であるという
条件を与えると、
偏光成分のパワーの割合Sが0以上1以下であるという
条件を与えると、
【0023】
【数4】RS≧0.5 かつ RP≦0.5 または、
RS≦0.5 かつ RP≧0.5 ・・・(4)
という条件が導き出される。式(4)の条件を満足する
ようなハーフミラーを用いることにより、レーザビーム
を、相互に等しいパワーの2本のレーザビームに分岐さ
せることができる。
ようなハーフミラーを用いることにより、レーザビーム
を、相互に等しいパワーの2本のレーザビームに分岐さ
せることができる。
【0024】次に、レーザ光源から出射するレーザビー
ムがランダム偏光である場合について説明する。レーザ
ビームがランダム偏光である場合には、1/2波長板2
の速軸または遅軸の傾き角θを調節しても、S偏光成分
のパワーの割合Sを0から1の全範囲内で変化させるこ
とはできず、そのとり得る範囲は狭くなる。S偏光成分
のパワーの割合Sのとり得る範囲の最小値をPmin、最
大値をPmaxとする。
ムがランダム偏光である場合について説明する。レーザ
ビームがランダム偏光である場合には、1/2波長板2
の速軸または遅軸の傾き角θを調節しても、S偏光成分
のパワーの割合Sを0から1の全範囲内で変化させるこ
とはできず、そのとり得る範囲は狭くなる。S偏光成分
のパワーの割合Sのとり得る範囲の最小値をPmin、最
大値をPmaxとする。
【0025】式(2)と(3)をSについて解き、P
min≦S≦Pmaxの条件を与えると、
min≦S≦Pmaxの条件を与えると、
【0026】
【数5】
Pmin<(0.5−RP)/(RS−RP)<Pmax ・・・(5)
が得られる。式(5)の条件を満足するハーフミラーを
用いることにより、ランダム偏光のレーザビームを、相
互に等しいパワーの2本のレーザビームに分岐させるこ
とができる。
用いることにより、ランダム偏光のレーザビームを、相
互に等しいパワーの2本のレーザビームに分岐させるこ
とができる。
【0027】上記実施例では、レーザビームのパワーの
分配比を1:1にする場合について説明したが、1/2
波長板2の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、分配比を連続的に変えることも可能である。パワ
ーモニタ14または15でパワーをモニタしながら、1
/2波長板2を回転させることにより、2本のレーザビ
ームへのパワーの配分比を変化させることができる。所
望の配分比になったところで1/2波長板2を固定する
と、その配分比でレーザ加工を行うことができる。ま
た、上記実施例では、従来のように減衰板を用いないた
め、レーザビームのパワー損失を少なくすることができ
る。
分配比を1:1にする場合について説明したが、1/2
波長板2の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、分配比を連続的に変えることも可能である。パワ
ーモニタ14または15でパワーをモニタしながら、1
/2波長板2を回転させることにより、2本のレーザビ
ームへのパワーの配分比を変化させることができる。所
望の配分比になったところで1/2波長板2を固定する
と、その配分比でレーザ加工を行うことができる。ま
た、上記実施例では、従来のように減衰板を用いないた
め、レーザビームのパワー損失を少なくすることができ
る。
【0028】上述の実施例によるレーザ分岐装置は、炭
酸ガスレーザ加工機に限らず、その他の固体レーザ(N
d:YAGレーザ、Nd:YLFレーザ、Nd:YVO
4レーザ、Ti:サファイアレーザ)、またはそれらの
高調波を用いた加工機にも適用可能である。
酸ガスレーザ加工機に限らず、その他の固体レーザ(N
d:YAGレーザ、Nd:YLFレーザ、Nd:YVO
4レーザ、Ti:サファイアレーザ)、またはそれらの
高調波を用いた加工機にも適用可能である。
【0029】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
1/2波長板を用いてレーザビームの偏光状態を変え、
偏光状態によって分岐特性が変動する分岐光学素子を用
いてレーザビームを分岐させることにより、レーザビー
ムのパワーの分配比を制御することができる。
1/2波長板を用いてレーザビームの偏光状態を変え、
偏光状態によって分岐特性が変動する分岐光学素子を用
いてレーザビームを分岐させることにより、レーザビー
ムのパワーの分配比を制御することができる。
【図1】本発明の実施例によるレーザビーム分岐装置の
概略図である。
概略図である。
1 レーザ光源
2 1/2波長板
3 保持機構
4 偏光板
5 折返しミラー
6、7 レンズ
10、11 XYステージ
12、13 加工対象物
14、15 パワーモニタ
Claims (4)
- 【請求項1】 レーザビームを出射するレーザ光源と、 前記レーザ光源から出射したレーザビームの経路内に配
置され、入射するレーザビームの一部の成分を反射さ
せ、残りの成分を透過させる分岐光学素子であって、相
互に直交する第1の偏光成分と第2の偏光成分との反射
率が、相互に異なる前記分岐光学素子と、 前記レーザ光源と前記分岐光学素子との間のレーザビー
ムの経路内に配置され、該レーザビームの進行方向に直
交する速軸及び遅軸を有する1/2波長板と、 前記1/2波長板の速軸と遅軸とがレーザビームの進行
方向にほぼ平行な軸を回転中心として回転できるよう
に、該1/2波長板を保持し、かつ所望の位置で固定す
ることができる保持機構とを有するレーザビーム分岐装
置。 - 【請求項2】 前記分岐光学素子が偏光板である請求項
1に記載のレーザビーム分岐装置。 - 【請求項3】 前記分岐光学素子が部分反射鏡であり、
該部分反射鏡の反射面の法線と入射光光軸とを含む仮想
平面に垂直な方向の第1の偏光成分の反射率をR1、該
仮想平面に平行な第2の偏光成分の反射率をR2、前記
1/2波長板を回転可能な範囲内で回転させたとき、該
1/2波長板を透過したレーザビームの全パワーに対す
る第1の偏光成分のパワーの割合の最大値をPmax、最
小値をPm inとすると、 【数1】 Pmin<(0.5−R2)/(R1−R2)<Pmax が成立する請求項1に記載のレーザビーム分岐装置。 - 【請求項4】 レーザビームを、1/2波長板に入射さ
せる工程と、 入射するレーザビームの一部の成分を反射させ、残りの
成分を透過させ、相互に直交する第1の偏光成分と第2
の偏光成分との反射率が相互に異なる分岐光学素子に、
前記1/2波長板を透過したレーザビームを入射させ、
入射したレーザビームの一部を反射させ、残りを透過さ
せる工程と、 前記分岐光学素子で反射したレーザビーム及び該分岐光
学素子を透過したレーザビームの少なくとも一方のパワ
ーを監視しながら、前記1/2波長板の速軸と遅軸と
を、前記レーザビームの中心軸に平行な軸を回転中心と
して回転させ、監視されているレーザビームのパワーが
所望の値になると回転を停止させ、その位置で該1/2
波長板を固定する工程とを有するレーザビームの分岐方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001253050A JP2003066375A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | レーザビーム分岐装置及び分岐方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001253050A JP2003066375A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | レーザビーム分岐装置及び分岐方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003066375A true JP2003066375A (ja) | 2003-03-05 |
Family
ID=19081434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001253050A Pending JP2003066375A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | レーザビーム分岐装置及び分岐方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003066375A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2001
- 2001-08-23 JP JP2001253050A patent/JP2003066375A/ja active Pending
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A02 | Decision of refusal |
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