JP2003066375A - レーザビーム分岐装置及び分岐方法 - Google Patents
レーザビーム分岐装置及び分岐方法Info
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- JP2003066375A JP2003066375A JP2001253050A JP2001253050A JP2003066375A JP 2003066375 A JP2003066375 A JP 2003066375A JP 2001253050 A JP2001253050 A JP 2001253050A JP 2001253050 A JP2001253050 A JP 2001253050A JP 2003066375 A JP2003066375 A JP 2003066375A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分岐後の２本のレーザビームのパワーの比を
調整することが可能なレーザ分岐装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源から出射したレーザビームの
経路内に配置された分岐光学素子が、入射するレーザビ
ームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過させ
る。相互に直交する第１の偏光成分と第２の偏光成分と
の反射率が、相互に異なる。１／２波長板が、レーザ光
源と分岐光学素子との間のレーザビームの経路内に配置
されている。１／２波長板の速軸及び遅軸は、レーザビ
ームの進行方向に直交する。１／２波長板の速軸及び遅
軸がレーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心とし
て回転できるように、保持機構が１／２波長板を保持
し、かつ所望の位置で固定する。
調整することが可能なレーザ分岐装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源から出射したレーザビームの
経路内に配置された分岐光学素子が、入射するレーザビ
ームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過させ
る。相互に直交する第１の偏光成分と第２の偏光成分と
の反射率が、相互に異なる。１／２波長板が、レーザ光
源と分岐光学素子との間のレーザビームの経路内に配置
されている。１／２波長板の速軸及び遅軸は、レーザビ
ームの進行方向に直交する。１／２波長板の速軸及び遅
軸がレーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心とし
て回転できるように、保持機構が１／２波長板を保持
し、かつ所望の位置で固定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビーム分岐
装置及び分岐方法に関し、特に分岐後のレーザビームの
パワーを微調整することが可能なレーザビーム分岐装置
及び分岐方法に関する。
装置及び分岐方法に関し、特に分岐後のレーザビームの
パワーを微調整することが可能なレーザビーム分岐装置
及び分岐方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ加工機において、レーザ光源から
出射したレーザビームを２分岐させ、分岐した２本のレ
ーザビームを異なる加工対象物に入射させると、分岐さ
せない場合に比べて、実質的に２倍の加工速度を得るこ
とができる。このような、２軸同時レーザ加工機では、
半透過、半反射になるようなコーティングを施したいわ
ゆるハーフミラーを用いて、レーザビームを分岐させて
いた。
出射したレーザビームを２分岐させ、分岐した２本のレ
ーザビームを異なる加工対象物に入射させると、分岐さ
せない場合に比べて、実質的に２倍の加工速度を得るこ
とができる。このような、２軸同時レーザ加工機では、
半透過、半反射になるようなコーティングを施したいわ
ゆるハーフミラーを用いて、レーザビームを分岐させて
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術を用い
てレーザビームを分岐させる場合には、ハーフミラーの
コーティングの精度のばらつきのため、分岐後の２本の
レーザビームの各々のパワーを、高精度に、分岐前のレ
ーザビームのパワーの５０％にすることが困難であっ
た。分岐後の２本のレーザビームのパワーが不一致であ
る場合には、高パワーのレーザビームの経路内に減衰板
を挿入していた。この方法では、レーザビームのパワー
の不一致がどの程度になるか不明であるため、減衰量の
異なる複数の減衰板を準備しておく必要がある。
てレーザビームを分岐させる場合には、ハーフミラーの
コーティングの精度のばらつきのため、分岐後の２本の
レーザビームの各々のパワーを、高精度に、分岐前のレ
ーザビームのパワーの５０％にすることが困難であっ
た。分岐後の２本のレーザビームのパワーが不一致であ
る場合には、高パワーのレーザビームの経路内に減衰板
を挿入していた。この方法では、レーザビームのパワー
の不一致がどの程度になるか不明であるため、減衰量の
異なる複数の減衰板を準備しておく必要がある。
【０００４】本発明の目的は、分岐後の２本のレーザビ
ームのパワーの比を調整することが可能なレーザ分岐装
置及び分岐方法を提供することである。
ームのパワーの比を調整することが可能なレーザ分岐装
置及び分岐方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、レーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ
光源から出射したレーザビームの経路内に配置され、入
射するレーザビームの一部の成分を反射させ、残りの成
分を透過させる分岐光学素子であって、相互に直交する
第１の偏光成分と第２の偏光成分との反射率が、相互に
異なる前記分岐光学素子と、前記レーザ光源と前記分岐
光学素子との間のレーザビームの経路内に配置され、該
レーザビームの進行方向に直交する速軸と遅軸とを有す
る１／２波長板と、前記１／２波長板の速軸と遅軸とが
レーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心として回
転できるように、該１／２波長板を保持し、かつ所望の
位置で固定することができる保持機構とを有するレーザ
ビーム分岐装置が提供される。
と、レーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ
光源から出射したレーザビームの経路内に配置され、入
射するレーザビームの一部の成分を反射させ、残りの成
分を透過させる分岐光学素子であって、相互に直交する
第１の偏光成分と第２の偏光成分との反射率が、相互に
異なる前記分岐光学素子と、前記レーザ光源と前記分岐
光学素子との間のレーザビームの経路内に配置され、該
レーザビームの進行方向に直交する速軸と遅軸とを有す
る１／２波長板と、前記１／２波長板の速軸と遅軸とが
レーザビームの進行方向に平行な軸を回転中心として回
転できるように、該１／２波長板を保持し、かつ所望の
位置で固定することができる保持機構とを有するレーザ
ビーム分岐装置が提供される。
【０００６】１／２波長板の速軸と遅軸とを回転させる
と、第１の偏光成分のパワーと第２の偏光成分のパワー
との比を変化させることができる。これにより、分岐光
学素子によるレーザビームの反射率が変化する。従っ
て、１／２波長板の速軸と遅軸とを回転させることによ
り、分岐光学素子によるパワーの分配比を変えることが
できる。
と、第１の偏光成分のパワーと第２の偏光成分のパワー
との比を変化させることができる。これにより、分岐光
学素子によるレーザビームの反射率が変化する。従っ
て、１／２波長板の速軸と遅軸とを回転させることによ
り、分岐光学素子によるパワーの分配比を変えることが
できる。
【０００７】本発明の他の観点によると、レーザビーム
を、１／２波長板に入射させる工程と、入射するレーザ
ビームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過さ
せ、相互に直交する第１の偏光成分と第２の偏光成分と
の反射率が相互に異なる分岐光学素子に、前記１／２波
長板を透過したレーザビームを入射させ、入射したレー
ザビームの一部を反射させ、残りを透過させる工程と、
前記分岐光学素子で反射したレーザビーム及び該分岐光
学素子を透過したレーザビームの少なくとも一方のパワ
ーを監視しながら、前記１／２波長板の速軸と遅軸と
を、前記レーザビームの中心軸に平行な軸を回転中心と
して回転させ、監視されているレーザビームのパワーが
所望の値になると回転を停止させ、その位置で該１／２
波長板を固定する工程とを有するレーザビームの分岐方
法が提供される。
を、１／２波長板に入射させる工程と、入射するレーザ
ビームの一部の成分を反射させ、残りの成分を透過さ
せ、相互に直交する第１の偏光成分と第２の偏光成分と
の反射率が相互に異なる分岐光学素子に、前記１／２波
長板を透過したレーザビームを入射させ、入射したレー
ザビームの一部を反射させ、残りを透過させる工程と、
前記分岐光学素子で反射したレーザビーム及び該分岐光
学素子を透過したレーザビームの少なくとも一方のパワ
ーを監視しながら、前記１／２波長板の速軸と遅軸と
を、前記レーザビームの中心軸に平行な軸を回転中心と
して回転させ、監視されているレーザビームのパワーが
所望の値になると回転を停止させ、その位置で該１／２
波長板を固定する工程とを有するレーザビームの分岐方
法が提供される。
【０００８】１／２波長板の速軸と遅軸とを回転させる
だけで、容易に、分岐光学素子によるパワーの分配比を
変えることができる。
だけで、容易に、分岐光学素子によるパワーの分配比を
変えることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１に、本発明の実施例によるレ
ーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源１が、レーザ
ビームを出射する。レーザ光源１は、例えば炭酸ガスレ
ーザである。レーザ光源１から出射したレーザビーム
が、１／２波長板２に入射する。１／２波長板２は、例
えばＣｄＳで形成することができる。
ーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源１が、レーザ
ビームを出射する。レーザ光源１は、例えば炭酸ガスレ
ーザである。レーザ光源１から出射したレーザビーム
が、１／２波長板２に入射する。１／２波長板２は、例
えばＣｄＳで形成することができる。
【００１０】１／２波長板２を透過したレーザビーム
が、偏光板４に入射角４５°で入射する。偏光板４の法
線と入射光光軸とを含む仮想平面に垂直な偏光方向（図
１の紙面に垂直な方向）を有するＳ偏光成分は反射し、
それに直交する偏光方向（図１の縦方向）を有するＰ偏
光成分は透過する。偏光板４として、例えばＧｅ、Ｚｎ
Ｓｅ、ＫＣｌ、ＮａＣｌ等を用いることができる。
が、偏光板４に入射角４５°で入射する。偏光板４の法
線と入射光光軸とを含む仮想平面に垂直な偏光方向（図
１の紙面に垂直な方向）を有するＳ偏光成分は反射し、
それに直交する偏光方向（図１の縦方向）を有するＰ偏
光成分は透過する。偏光板４として、例えばＧｅ、Ｚｎ
Ｓｅ、ＫＣｌ、ＮａＣｌ等を用いることができる。
【００１１】偏光板４で反射したレーザビームは、レン
ズ６により収束され、ＸＹステージ１０の可動面上に載
置された加工対象物１２に入射する。偏光板４を透過し
たレーザビームは、折返しミラー５で反射し、レンズ７
により収束され、ＸＹステージ１１の可動面上に載置さ
れた加工対象物１３に入射する。加工対象物１２及び１
３にレーザビームが入射することにより、穴あけ加工等
が行われる。
ズ６により収束され、ＸＹステージ１０の可動面上に載
置された加工対象物１２に入射する。偏光板４を透過し
たレーザビームは、折返しミラー５で反射し、レンズ７
により収束され、ＸＹステージ１１の可動面上に載置さ
れた加工対象物１３に入射する。加工対象物１２及び１
３にレーザビームが入射することにより、穴あけ加工等
が行われる。
【００１２】ＸＹステージ１０及び１１の可動面上に、
それぞれパワーモニタ１４および１５が取り付けられて
いる。レーザビームがパワーモニタ１４及び１５に入射
するようにＸＹステージ１０及び１１を駆動することに
より、偏光板４で反射したレーザビーム及び偏光板４を
透過したレーザビームのパワーをモニタすることができ
る。
それぞれパワーモニタ１４および１５が取り付けられて
いる。レーザビームがパワーモニタ１４及び１５に入射
するようにＸＹステージ１０及び１１を駆動することに
より、偏光板４で反射したレーザビーム及び偏光板４を
透過したレーザビームのパワーをモニタすることができ
る。
【００１３】１／２波長板２は、その速軸と遅軸とがレ
ーザビームの中心軸に対して直交するように、保持機構
３により保持されている。保持機構３は、レーザビーム
の進行方向に平行な軸を回転中心として、１／２波長板
を回転させ、所望の位置で固定することができる。な
お、回転の中心軸は、上述のようにレーザビームの進行
方向に平行であってもよいし、実質的に同等の効果が得
られる場合には、回転中心軸がレーザビームの進行方向
からやや傾いていてもよい。
ーザビームの中心軸に対して直交するように、保持機構
３により保持されている。保持機構３は、レーザビーム
の進行方向に平行な軸を回転中心として、１／２波長板
を回転させ、所望の位置で固定することができる。な
お、回転の中心軸は、上述のようにレーザビームの進行
方向に平行であってもよいし、実質的に同等の効果が得
られる場合には、回転中心軸がレーザビームの進行方向
からやや傾いていてもよい。
【００１４】レーザ光源１から出射するレーザビームが
直線偏光である場合について説明する。１／２波長板２
の速軸と遅軸とが、入射するレーザビームの偏光方向に
一致する場合には、偏光方向が変化することなくそのま
ま透過する。１／２波長板２の速軸と遅軸とを、入射す
るレーザビームの偏光方向から角度θだけ傾けると、レ
ーザビームの偏光方向が角度２θだけ旋回する。１／２
波長板２の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、偏光板４に対するＳ偏光成分とＰ偏光成分とのパ
ワー比が５０％ずつになるように制御することができ
る。
直線偏光である場合について説明する。１／２波長板２
の速軸と遅軸とが、入射するレーザビームの偏光方向に
一致する場合には、偏光方向が変化することなくそのま
ま透過する。１／２波長板２の速軸と遅軸とを、入射す
るレーザビームの偏光方向から角度θだけ傾けると、レ
ーザビームの偏光方向が角度２θだけ旋回する。１／２
波長板２の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、偏光板４に対するＳ偏光成分とＰ偏光成分とのパ
ワー比が５０％ずつになるように制御することができ
る。
【００１５】このとき、偏光板４で反射するレーザビー
ムのパワーと、偏光板４を透過するレーザビームのパワ
ーとが等しくなる。パワーモニタ１４及び１５でレーザ
ビームのパワーをモニタしながら、１／２波長板２の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、偏光板
４で分岐された２本のレーザビームのパワーを容易に等
しくすることができる。
ムのパワーと、偏光板４を透過するレーザビームのパワ
ーとが等しくなる。パワーモニタ１４及び１５でレーザ
ビームのパワーをモニタしながら、１／２波長板２の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、偏光板
４で分岐された２本のレーザビームのパワーを容易に等
しくすることができる。
【００１６】次に、レーザ光源１から出射するレーザビ
ームがランダム偏光である場合について説明する。ラン
ダム偏光のレーザビームは、原理的にはＳ偏光成分とＰ
偏光成分とを同じ割合で含む。しかし、実際には光共振
器の構造や励起方式等によって、厳密には両者の割合が
等しくならない。このような場合、１／２波長板２の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、Ｓ偏光
成分とＰ偏光成分とのパワー比を５０％ずつにすること
ができる。
ームがランダム偏光である場合について説明する。ラン
ダム偏光のレーザビームは、原理的にはＳ偏光成分とＰ
偏光成分とを同じ割合で含む。しかし、実際には光共振
器の構造や励起方式等によって、厳密には両者の割合が
等しくならない。このような場合、１／２波長板２の速
軸または遅軸の傾き角θを調節することにより、Ｓ偏光
成分とＰ偏光成分とのパワー比を５０％ずつにすること
ができる。
【００１７】上記実施例では、偏光板４でレーザビーム
を分岐させる場合について説明したが、偏光板４の代わ
りに部分反射鏡（ハーフミラー）を用いることもでき
る。ハーフミラーは、入射するレーザビームの一部を反
射させ、残りを透過させるが、部分反射鏡に対するＳ偏
光成分の反射率とＰ偏光成分の反射率とは、相互に異な
る。なお、ハーフミラーにおいては、表面コーティング
等により、入射レーザビームの透過率及び反射率を自在
に制御することが可能である。
を分岐させる場合について説明したが、偏光板４の代わ
りに部分反射鏡（ハーフミラー）を用いることもでき
る。ハーフミラーは、入射するレーザビームの一部を反
射させ、残りを透過させるが、部分反射鏡に対するＳ偏
光成分の反射率とＰ偏光成分の反射率とは、相互に異な
る。なお、ハーフミラーにおいては、表面コーティング
等により、入射レーザビームの透過率及び反射率を自在
に制御することが可能である。
【００１８】ハーフミラーに入射するレーザビームのＳ
偏光成分のパワーの割合をＳとすると、Ｐ偏光成分のパ
ワーの割合は１−Ｓになる。Ｓ偏光成分の反射率を
ＲS、Ｐ偏光成分の反射率をＲPとすると、ハーフミラー
で反射するレーザビームのパワーの割合ＰRは、
偏光成分のパワーの割合をＳとすると、Ｐ偏光成分のパ
ワーの割合は１−Ｓになる。Ｓ偏光成分の反射率を
ＲS、Ｐ偏光成分の反射率をＲPとすると、ハーフミラー
で反射するレーザビームのパワーの割合ＰRは、
【００１９】
【数２】
ＰR＝Ｓ×ＲS＋（１−Ｓ）×ＲP ・・・（２）
となる。レーザビームのパワーが、反射ビームと透過ビ
ームとに等分されるためには、
ームとに等分されるためには、
【００２０】
【数３】ＰR＝０．５ ・・・（３）
となればよい。
【００２１】まず、レーザ光源１から出射するレーザビ
ームが直線偏光である場合について説明する。レーザビ
ームが直線偏光である場合には、１／２波長板２の速軸
または遅軸の傾き角θを調節することにより、Ｓ変更成
分のパワーの割合を０から１の範囲で任意に設定するこ
とができる。
ームが直線偏光である場合について説明する。レーザビ
ームが直線偏光である場合には、１／２波長板２の速軸
または遅軸の傾き角θを調節することにより、Ｓ変更成
分のパワーの割合を０から１の範囲で任意に設定するこ
とができる。
【００２２】式（２）と（３）とをＳについて解き、Ｓ
偏光成分のパワーの割合Ｓが０以上１以下であるという
条件を与えると、
偏光成分のパワーの割合Ｓが０以上１以下であるという
条件を与えると、
【００２３】
【数４】ＲS≧０．５ かつ ＲP≦０．５ または、
ＲS≦０．５ かつ ＲP≧０．５ ・・・（４）
という条件が導き出される。式（４）の条件を満足する
ようなハーフミラーを用いることにより、レーザビーム
を、相互に等しいパワーの２本のレーザビームに分岐さ
せることができる。
ようなハーフミラーを用いることにより、レーザビーム
を、相互に等しいパワーの２本のレーザビームに分岐さ
せることができる。
【００２４】次に、レーザ光源から出射するレーザビー
ムがランダム偏光である場合について説明する。レーザ
ビームがランダム偏光である場合には、１／２波長板２
の速軸または遅軸の傾き角θを調節しても、Ｓ偏光成分
のパワーの割合Ｓを０から１の全範囲内で変化させるこ
とはできず、そのとり得る範囲は狭くなる。Ｓ偏光成分
のパワーの割合Ｓのとり得る範囲の最小値をＰmin、最
大値をＰmaxとする。
ムがランダム偏光である場合について説明する。レーザ
ビームがランダム偏光である場合には、１／２波長板２
の速軸または遅軸の傾き角θを調節しても、Ｓ偏光成分
のパワーの割合Ｓを０から１の全範囲内で変化させるこ
とはできず、そのとり得る範囲は狭くなる。Ｓ偏光成分
のパワーの割合Ｓのとり得る範囲の最小値をＰmin、最
大値をＰmaxとする。
【００２５】式（２）と（３）をＳについて解き、Ｐ
min≦Ｓ≦Ｐmaxの条件を与えると、
min≦Ｓ≦Ｐmaxの条件を与えると、
【００２６】
【数５】
Ｐmin＜（０．５−ＲP）／（ＲS−ＲP）＜Ｐmax ・・・（５）
が得られる。式（５）の条件を満足するハーフミラーを
用いることにより、ランダム偏光のレーザビームを、相
互に等しいパワーの２本のレーザビームに分岐させるこ
とができる。
用いることにより、ランダム偏光のレーザビームを、相
互に等しいパワーの２本のレーザビームに分岐させるこ
とができる。
【００２７】上記実施例では、レーザビームのパワーの
分配比を１：１にする場合について説明したが、１／２
波長板２の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、分配比を連続的に変えることも可能である。パワ
ーモニタ１４または１５でパワーをモニタしながら、１
／２波長板２を回転させることにより、２本のレーザビ
ームへのパワーの配分比を変化させることができる。所
望の配分比になったところで１／２波長板２を固定する
と、その配分比でレーザ加工を行うことができる。ま
た、上記実施例では、従来のように減衰板を用いないた
め、レーザビームのパワー損失を少なくすることができ
る。
分配比を１：１にする場合について説明したが、１／２
波長板２の速軸または遅軸の傾き角θを調節することに
より、分配比を連続的に変えることも可能である。パワ
ーモニタ１４または１５でパワーをモニタしながら、１
／２波長板２を回転させることにより、２本のレーザビ
ームへのパワーの配分比を変化させることができる。所
望の配分比になったところで１／２波長板２を固定する
と、その配分比でレーザ加工を行うことができる。ま
た、上記実施例では、従来のように減衰板を用いないた
め、レーザビームのパワー損失を少なくすることができ
る。
【００２８】上述の実施例によるレーザ分岐装置は、炭
酸ガスレーザ加工機に限らず、その他の固体レーザ（Ｎ
ｄ：ＹＡＧレーザ、Ｎｄ：ＹＬＦレーザ、Ｎｄ：ＹＶＯ
4レーザ、Ｔｉ：サファイアレーザ）、またはそれらの
高調波を用いた加工機にも適用可能である。
酸ガスレーザ加工機に限らず、その他の固体レーザ（Ｎ
ｄ：ＹＡＧレーザ、Ｎｄ：ＹＬＦレーザ、Ｎｄ：ＹＶＯ
4レーザ、Ｔｉ：サファイアレーザ）、またはそれらの
高調波を用いた加工機にも適用可能である。
【００２９】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
１／２波長板を用いてレーザビームの偏光状態を変え、
偏光状態によって分岐特性が変動する分岐光学素子を用
いてレーザビームを分岐させることにより、レーザビー
ムのパワーの分配比を制御することができる。
１／２波長板を用いてレーザビームの偏光状態を変え、
偏光状態によって分岐特性が変動する分岐光学素子を用
いてレーザビームを分岐させることにより、レーザビー
ムのパワーの分配比を制御することができる。
【図１】本発明の実施例によるレーザビーム分岐装置の
概略図である。
概略図である。
１ レーザ光源
２ １／２波長板
３ 保持機構
４ 偏光板
５ 折返しミラー
６、７ レンズ
１０、１１ ＸＹステージ
１２、１３ 加工対象物
１４、１５ パワーモニタ
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザビームを出射するレーザ光源と、 前記レーザ光源から出射したレーザビームの経路内に配
置され、入射するレーザビームの一部の成分を反射さ
せ、残りの成分を透過させる分岐光学素子であって、相
互に直交する第１の偏光成分と第２の偏光成分との反射
率が、相互に異なる前記分岐光学素子と、 前記レーザ光源と前記分岐光学素子との間のレーザビー
ムの経路内に配置され、該レーザビームの進行方向に直
交する速軸及び遅軸を有する１／２波長板と、 前記１／２波長板の速軸と遅軸とがレーザビームの進行
方向にほぼ平行な軸を回転中心として回転できるよう
に、該１／２波長板を保持し、かつ所望の位置で固定す
ることができる保持機構とを有するレーザビーム分岐装
置。 - 【請求項２】 前記分岐光学素子が偏光板である請求項
１に記載のレーザビーム分岐装置。 - 【請求項３】 前記分岐光学素子が部分反射鏡であり、
該部分反射鏡の反射面の法線と入射光光軸とを含む仮想
平面に垂直な方向の第１の偏光成分の反射率をＲ1、該
仮想平面に平行な第２の偏光成分の反射率をＲ2、前記
１／２波長板を回転可能な範囲内で回転させたとき、該
１／２波長板を透過したレーザビームの全パワーに対す
る第１の偏光成分のパワーの割合の最大値をＰmax、最
小値をＰm inとすると、 【数１】 Ｐmin＜（０．５−Ｒ2）／（Ｒ1−Ｒ2）＜Ｐmax が成立する請求項１に記載のレーザビーム分岐装置。 - 【請求項４】 レーザビームを、１／２波長板に入射さ
せる工程と、 入射するレーザビームの一部の成分を反射させ、残りの
成分を透過させ、相互に直交する第１の偏光成分と第２
の偏光成分との反射率が相互に異なる分岐光学素子に、
前記１／２波長板を透過したレーザビームを入射させ、
入射したレーザビームの一部を反射させ、残りを透過さ
せる工程と、 前記分岐光学素子で反射したレーザビーム及び該分岐光
学素子を透過したレーザビームの少なくとも一方のパワ
ーを監視しながら、前記１／２波長板の速軸と遅軸と
を、前記レーザビームの中心軸に平行な軸を回転中心と
して回転させ、監視されているレーザビームのパワーが
所望の値になると回転を停止させ、その位置で該１／２
波長板を固定する工程とを有するレーザビームの分岐方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001253050A JP2003066375A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | レーザビーム分岐装置及び分岐方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001253050A JP2003066375A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | レーザビーム分岐装置及び分岐方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003066375A true JP2003066375A (ja) | 2003-03-05 |
Family
ID=19081434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001253050A Pending JP2003066375A (ja) | 2001-08-23 | 2001-08-23 | レーザビーム分岐装置及び分岐方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003066375A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-08-23 JP JP2001253050A patent/JP2003066375A/ja active Pending
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