JP2003063165A

JP2003063165A - 平版印刷版用原板

Info

Publication number: JP2003063165A
Application number: JP2001256331A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Maemoto; 一夫前本; Hisashi Hotta; 久堀田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-08-27
Filing date: 2001-08-27
Publication date: 2003-03-05

Abstract

(57)【要約】【課題】デジタル信号に基づいた赤外線走査露光後、
処理を行うことなくそのまま印刷機に装着して印刷可能
な平版印刷版用原板であって、良好な機上現像性を有
し、高耐刷性を示し、しかもインキ払い性など印刷での
汚れ難さも良好な感熱性平版印刷版用原板を提供する。【解決手段】粗面化処理され、かつ親水膜を有するア
ルミニウム基板上に、熱により合体する疎水性ポリマー
微粒子、光熱変換剤、及び水に不溶で５０℃で流動性を
有する化合物を含有し、親水性バインダー樹脂を含まな
い親油性画像形成層を有し、さらにその上に水溶性樹脂
を含有するオーバーコート層を有することを特徴とする
平版印刷版用原板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ・ツ
ウ・プレート（ＣＴＰ）システム用の現像不要の平版印
刷版用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号に基
づいた赤外線走査露光による画像記録が可能であり、画
像記録したものは従来のような液体による現像工程を経
ることなしで、そのまま印刷機に装着して印刷すること
が可能な感熱性平版印刷版用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、平版印刷用印刷版の作製は、中間
材料であるリスフィルムを介して印刷版用原板に露光す
るシステムで行われてきた。しかし、近年の印刷分野に
おけるデジタル化の急速な進展とともに、この印刷版の
作製工程は、コンピュータに入力し編集されたデジタル
データを印刷版用原板に直接出力するＣＴＰシステムに
変わりつつある。その中で、一層の工程合理化を目指し
て、露光後、現像処理することなしにそのまま印刷機に
装着して印刷が行える現像不要の平版印刷版用原板も研
究、開発されている。例えば、日本印刷学会誌、３６巻
１４８〜１６３頁（１９９９）には現像不要ＣＴＰ刷版
として種々の方法が記載されている。

【０００３】処理工程をなくす方法の一つに、露光済み
の印刷版用原板を印刷機の版胴に装着し、版胴を回転し
ながら湿し水とインキを供給することによって、印刷版
用原板の画像形成層の未露光部を除去する機上現像とよ
ばれる方法がある。すなわち、印刷版用原板を露光後、
そのまま印刷機に装着し、通常の印刷開始操作の中で現
像処理が完了する方式である。このような機上現像に適
した平版印刷版用原板は、湿し水やインキ溶剤に可溶な
画像形成層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で
現像されても可視光によるカブリなどの問題が生じない
明室取り扱い適性を有することが必要とされる。

【０００４】例えば、日本特許２９３８３９７号には、
親水性樹脂中に熱可塑性疎水性重合体の微粒子を分散さ
せた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷版用原板
が記載されている。この公報には、該平版印刷版用原板
において、赤外線レーザー露光して熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を熱により合体（融着）させて画像形成した
後、印刷機の版胴上に版を取付け、湿し水及び／又はイ
ンキを供給することにより機上現像できることが記載さ
れている。この平版印刷版用原板は感光域が赤外線域で
あることにより、明室取り扱い適性も有している。しか
しながら、上記のような疎水性ポリマー微粒子を親水性
バインダー樹脂中に分散した画像形成層を有する平版印
刷版用原板においては、高エネルギーの赤外線レーザー
で露光ですると、微粒子の合体による画像形成のほか
に、画像形成層の部分的アブレーションが起こり、印刷
版としての品質を劣化させる問題があった。

【０００５】これに対して、ＥＰ８１６０７０号には、
親水性支持体上に疎水性熱可塑性ポリマー粒子と光熱変
換剤を親水性バインダー中に分散した画像形成層を設
け、さらにその上に親水性樹脂からなる水溶性又は水膨
潤性保護層を設けることによって、アブレーションを抑
制することが記載されている。

【０００６】また、ＷＯ９８／５１４９６号には、アブ
レーション防止法として、微粒子を水溶液溶解性又は膨
潤性のバインダーに分散した画像形成層を２層設け、上
層の露光波長における光学濃度を下層より低くするのが
有効であることが、露光後、アルカリ水溶液等で現像し
てから印刷機に装着するタイプの平版印刷用原板に関し
て記載されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
アブレーションを防止した平版印刷版においてもなお、
刷り込み時の着肉性不足による耐刷性の不足などの問題
があり、さらなる改良が必要とされた。

【０００８】従って本発明の目的は、このような先行技
術の欠点を克服した平版印刷版用原板を提供することで
ある。すなわち、デジタル信号に基づいた赤外線走査露
光後、処理を行うことなくそのまま印刷機に装着して印
刷可能な平版印刷版用原板であって、機上現像性が良好
で、印刷汚れし難く、しかも高耐刷な平版印刷版用原板
を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、熱により合
体する疎水性ポリマー微粒子及び光熱変換剤と共に、通
常用いられる親水性バインダー樹脂の代わりに水に不溶
で５０℃で流動性を有する化合物を含有する親油性画像
形成層を用いたところ、意外にも良好な機上現像性を示
し、汚れ難さも耐刷性も良好であることを見出し、本発
明に至った。親油性画像形成層であるにも拘わらず良好
な機上現像性を示すのは、機上現像にインキ溶剤が寄与
していると推定される。また、親水性バインダー樹脂を
含まない親油性画像形成層であるため、刷り込み時でも
着肉性が劣化しないことが高耐刷の原因と推定される。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。

【００１０】１．粗面化処理され、かつ親水膜を有する
アルミニウム基板上に、熱により合体する疎水性ポリマ
ー微粒子、光熱変換剤、及び水に不溶で５０℃で流動性
を有する化合物を含有し、親水性バインダー樹脂を含ま
ない親油性画像形成層を有し、さらにその上に水溶性樹
脂を含有するオーバーコート層を有することを特徴とす
る平版印刷版用原板。

【００１１】２．オーバーコート層が、熱により合体す
る疎水性ポリマー微粒子及びマイクロカプセルから選ば
れた少なくとも一つの微粒子を含有することを特徴とす
る前記１記載の平版印刷版用原版。

【００１２】３．オーバーコート層が光熱変換剤を含有
し、かつオーバーコート層の露光波長における光学濃度
が画像形成層の露光波長における光学濃度より低いこと
を特徴とする前記１又は前記２に記載の平版印刷版用原
版。

【００１３】４．基板が、塩酸を含有する水溶液中で電
気化学的粗面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５
Ｗ／ｍＫである親水膜を有する基板であることを特徴と
する前記１から前記３のいずれかに記載の平版印刷版用
原版。

【００１４】５．基板が、塩酸を含有する水溶液中で電
気化学的粗面化処理され、密度が１０００〜３２００ｋ
ｇ／ｍ³、又は空隙率が２０〜７０％である親水膜を有
する基板であることを特徴とする前記１から前記３のい
ずれかに記載の平版印刷版用原版。

【００１５】６．基板が、粗面化形状の小ピットの平均
開口径が０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均
開口径に対する比が０．１〜０．５であり、熱伝導率が
０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫである親水膜を有する基板で
あることを特徴とする前記１から前記３のいずれかに記
載の平版印刷版用原版。

【００１６】７．基板が、粗面化形状の小ピットの平均
開口径が０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均
開口径に対する比が０．１〜０．５であり、密度が１０
００〜３２００ｋｇ／ｍ³、又は空隙率が２０〜７０％
である親水膜を有する基板であることを特徴とする前記
１から前記３のいずれかに記載の平版印刷版用原版。

【００１７】８．基板の大きなうねりの平均開口径が３
〜２０μｍであることを特徴とする前記１から前記３の
いずれかに記載の平版印刷版用原板。

【００１８】９．親水膜が陽極酸化皮膜であることを特
徴とする前記１から前記８のいずれかに記載の平版印刷
版用原板。

【００１９】１０．陽極酸化皮膜量が３．２ｇ／ｍ²以
上であることを特徴とする前記９に記載の平版印刷版用
原板。

【００２０】１１．陽極酸化皮膜の表層のポア径が４０
ｎｍ以下であることを特徴とする前記９又は前記１０に
記載の平版印刷版用原板。

【００２１】１２．陽極酸化皮膜が封孔処理されている
ことを特徴とする前記９から前記１１のいずれかに記載
の平版印刷版用原板。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。ここで、％は特に断りのない限り質
量％を示す。

【００２３】［画像形成層］本発明の画像形成層は、熱
により合体する疎水性ポリマー微粒子、光熱変換剤、及
び水に不溶で５０℃で流動性を有する化合物を含有し、
親水性バインダー樹脂を含まない親油性画像形成層であ
ることを特徴とする。

【００２４】かかる疎水性ポリマー微粒子は、好適には
３５℃以上の、そしてより好適には５０℃以上の凝固温
度を有する熱可塑性疎水性ポリマー微粒子である。該熱
可塑性疎水性ポリマー微粒子の凝固温度には特別な上限
はないが、この温度はポリマー微粒子の分解点より十分
低くなくてはならない。該ポリマー微粒子を凝固温度よ
り上の温度に上げると、それらは溶融合体して画像形成
層中で疎水性集塊を生成する。そのためこれらの部分で
は水又は水性液体に不溶性となり、インキ受容性とな
る。

【００２５】本発明に用いられる疎水性ポリマー微粒子
を形成する疎水性ポリマーの具体例として、例えば、エ
チレン、スチレン、塩化ビニル、（メタ）アクリル酸メ
チル、（メタ）アクリル酸エチル、塩化ビニリデン、ア
クリロニトリル、ビニルカルバゾールなどのモノマーを
含有するホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの
混合物を挙げることができる。その中で特に好適なもの
として、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを挙げ
ることができる。

【００２６】本発明の疎水性ポリマー微粒子を構成する
ポリマーの重量平均分子量は５,０００〜１,０００,０
００が好ましく、微粒子の粒径は０．０１〜５０μｍが
好ましく、０．０５〜１０μｍがより好ましく、そして
０．０５〜２μｍが最も好ましい。

【００２７】本発明の疎水性ポリマー微粒子は熱反応性
官能基を有することができる。熱反応性官能基として
は、重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基な
ど）、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロッ
ク体及びその反応相手である活性水素原子を有する官能
基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基など）、同じく付加反応を行うエポキシ基及びその反
応相手であるアミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシ
ル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基
又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基
又はヒドロキシル基、熱分解してヒドロキシル基などと
反応するジアゾニウム基などを挙げることができる。し
かし、化学結合が形成されるならば、どのような反応を
行う官能基でも良い。

【００２８】本発明の画像形成層に用られる熱反応性官
能基を有するポリマー微粒子としては、アクリロイル
基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキ
シ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イ
ソシアネート基、酸無水物及びそれらを保護した基を有
するものを挙げることができる。これらの官能基のポリ
マー微粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合
後に高分子反応を利用して行ってもよい。

【００２９】重合時に導入する場合は、これらの熱反応
性官能基を有するモノマーを乳化重合又は懸濁重合する
ことが好ましい。必要に応じて、熱反応性官能基をもた
ないモノマーを共重合成分として加えてもかまわない。

【００３０】そのような官能基を有するモノマーの具体
例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレー
ト、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、２−
イソシアネートエチルメタクリレート又はそのアルコー
ルなどによるブロックイソシアネート、２−イソシアネ
ートエチルアクリレート又はそのアルコールなどによる
ブロックイソシアネート、２−アミノエチルメタクリレ
ート、２−アミノエチルアクリレート、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、２
官能アクリレート、２官能メタクリレートなどを挙げる
ことができるが、これらに限定されない。

【００３１】これらのモノマーと共重合可能な、熱反応
性官能基をもたないモノマーとしては、例えば、スチレ
ン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、
アクリロニトリル、酢酸ビニルなどを挙げることができ
るが、熱反応性官能基をもたないモノマーであれば、こ
れらに限定されない。

【００３２】熱反応性官能基の導入を重合後に行う場合
に用いる高分子反応としては、例えば、ＷＯ９６−３４
３１６号公報に記載されている高分子反応を挙げること
ができる。

【００３３】これらの熱反応性官能基を有するポリマー
微粒子の凝固温度は７０℃以上が好ましく、経時安定性
の観点から１００℃以上がさらに好ましい。

【００３４】上記の疎水性ポリマー微粒子の画像形成層
への添加量は、固形分換算で画像形成層固形分の５０％
以上が好ましく、６０％以上がさらに好ましい。この範
囲内で、良好な画像形成ができ、良好な耐刷性が得られ
る。

【００３５】本発明の画像形成層には、感度を高めるた
め、光を熱に変換する光熱変換剤を含有させることがで
きる。光熱変換剤としては、赤外線、中でも近赤外線
（波長７００〜２０００ｎｍ）を吸収する物質であれば
よく、種々の顔料、染料及び金属微粒子を用いることが
できる。

【００３６】例えば、特開２００１−１６２９６０号、
特開平１１−２３５８８３号、日本印刷学会誌、３８卷
３５〜４０頁（２００１）や特開２００１−２１３０６
２号に記載の顔料、染料及び金属微粒子が好適に用いら
れる。

【００３７】顔料としてはカーボンブラックが特に好ま
しい。金属微粒子としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、
Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｎ、Ｓｎ、
Ｗ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｒｅ、Ｓｂの単体又は合金、又
は、それらの酸化物もしくは硫化物の微粒子が挙げられ
る。中でも、Ｒｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｇ
ｅ、Ｐｂ及びＳｎがより好ましく、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、
Ｓｂ、Ｇｅ及びＰｂが特に好ましい。染料としては以下
に例示する染料が特に好ましい。しかし、これらに限定
されない。

【００３８】

【化１】

【００３９】

【化２】

【００４０】

【化３】

【００４１】

【化４】

【００４２】顔料及び染料の光熱変換剤を画像形成層に
添加する場合の添加割合は、画像形成層固形分の０．１
〜５０％が好ましく、３〜２５％がさらに好ましい。金
属微粒子を光熱変換剤として用いる場合は、好ましくは
画像形成層固形分の５％以上であり、より好ましくは１
０％以上で用いられる。これらの範囲内で、良好な感度
が得られる。

【００４３】本発明の画像形成層に含有される水に不溶
であり、かつ５０℃において流動性を有する化合物とし
ては、例えば、酸と多価アルコール又は多塩基酸とアル
コールもしくはフェノールとのエステルを挙げることが
できる。好ましくは分子量１０００以下の化合物が好ま
しく、具体的化合物として、１，３−ブタンジオールジ
アクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリス（ア
クリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロール
エタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ネオ
ペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ビ
ス〔ｐ−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ
プロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−
（メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、エチレングリコールジイタコネート、プロピレ
ングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオール
ジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネー
ト、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタ
エリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライ
タコネート、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、
リン酸トリクレジル等を挙げることができる。

【００４４】疎水性ポリマー微粒子を熱で合体させる方
式の従来の画像形成層においては、親水性バインダー樹
脂、例えば、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉
誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウ
ム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、
酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレ
イン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの
塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエ
チルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒ
ドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリ
マー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマ
ー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートの
ホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタク
リレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブ
チルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリ
エチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー
類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少
なくとも６０％、好ましくは少なくとも８０％の加水分
解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルア
ミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミド
のホモポリマー及びコポリマー、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミドのホモポリマー及びコポリマー等がもちいられ
るが、本発明ではその代わりに、上記の水に不溶であ
り、かつ５０℃において流動性を有する化合物を用いる
ことによって、親油性の画像形成層を形成する。この親
油性画像形成層が刷り込み時においても良好な着肉性を
示すため高耐刷性が得られると推定される。また親油性
画像形成層は、オーバーコート層の塗布時に画像形成層
とオーバーコート層が混合して親油性を劣化させること
も防止している。

【００４５】上記の水不溶性、流動性化合物の添加量
は、画像形成層固形分の３〜３０％が好ましく、５〜２
０％がさらに好ましい。この範囲内で、良好な機上現像
性と耐刷性が得られる。

【００４６】本発明の画像形成層には、さらに必要に応
じて種々の化合物を添加することができる。例えば、画
像露光後、画像部と非画像部とを識別可能とするため、
熱によって酸又はラジカルを発生する化合物と酸又はラ
ジカルによって変色する染料とを含有させることができ
る。

【００４７】熱によって酸又はラジカルを発生する化合
物としては、例えば、米国特許３，７２９，３１３号、
同４，０５８，４００号、同４，０５８，４０１号、同
４，４６０，１５４号、同４，９２１，８２７号に記載
のジアリルヨードニウム塩、やトリアリルホスホニウム
塩、米国特許３，９８７，０３７号、同４，４７６，２
１５号、同４，８２６，７５３号、同４，６１９，９９
８号、同４，６９６，８８８号、同４，７７２，５３４
号、同４，１８９，３２３号、同４，８３７，１２８
号、同５，３６４，７３４号、同４，２１２，９７０号
等に記載のハロメチル−１−３−５−トリアジン化合物
やハロメチルオキサジアゾール化合物等が挙げられる。

【００４８】酸又はラジカルによって変色する染料とし
ては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン
系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンス
ラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等
の各種染料が有効に用いられる。

【００４９】具体例としては、ブリリアントグリーン、
エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイ
オレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２
Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエ
ロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブル
ー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレ
ッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナ
イルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレッ
ト、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピ
ュアブルーＢＯＨ［保土ケ谷化学（株）製］、オイルブ
ルー＃６０３［オリエント化学工業（株）製］、オイル
ピンク＃３１２［オリエント化学工業（株）製］、オイ
ルレッド５Ｂ［オリエント化学工業（株）製］、オイル
スカーレット＃３０８［オリエント化学工業（株）
製］、オイルレッドＯＧ［オリエント化学工業（株）
製］、オイルレッドＲＲ［オリエント化学工業（株）
製］、オイルグリーン＃５０２［オリエント化学工業
（株）製］、スピロンレッドＢＥＨスペシャル［保土ケ
谷化学工業（株）製］、ｍ−クレゾールパープル、クレ
ゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホ
ローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフ
ェニルイミノナフトキノン、２−カルボキシアニリノ−
４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、
２−カルボステアリルアミノ−４−ｐ−ジヒドロオキシ
エチルアミノ−フェニルイミノナフトキノン、１−フェ
ニル−３−メチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイ
ミノ−５−ピラゾロン、１−β−ナフチル−４−ｐ−ジ
エチルアミノフェニルイミノ−５−ピラゾロン等の染料
やｐ，ｐ′，ｐ″ヘキサメチルトリアミノトリフェニル
メタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Pergascrip
t Blue SRB［チバガイギー社製］等のロイコ染料が挙
げられる。

【００５０】酸又はラジカルを発生する化合物と酸又は
ラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それ
ぞれ、画像形成層固形分に対して０．０１〜１０％の割
合である。

【００５１】本発明の画像形成層には、画像形成層塗布
液の調製中又は保存中の不要な熱重合を阻止するため
に、少量の熱重合防止剤を添加することができる。適当
な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシ
フェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガ
ロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，
４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒド
ロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
〜５％が好ましい。

【００５２】また必要に応じて、酸素による重合阻害を
防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級
脂肪酸やその誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程
で画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸や
その誘導体の添加量は、画像形成層固形分の約０．１〜
約１０％が好ましい。

【００５３】本発明の画像形成層には無機微粒子を添加
してもよく、無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、
酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、ア
ルギン酸カルシウム又はこれらの混合物などが好適な例
として挙げられ、これらは光熱変換性でなくても皮膜の
強化や表面粗面化による界面接着性の強化などに用いる
ことができる。

【００５４】無機微粒子の平均粒径は５ｎｍ〜１０μｍ
のものが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１μｍで
ある。粒径がこの範囲内で、樹脂微粒子や光熱変換剤の
金属微粒子とも親水性バインダー樹脂内に安定に分散
し、画像形成層の膜強度を充分に保持し、印刷汚れを生
じにくい親水性に優れた非画像部を形成できる。

【００５５】このような無機微粒子は、コロイダルシリ
カ分散物などの市販品として容易に入手できる。無機微
粒子の画像形成層への含有量は、画像形成層の全固形分
の１．０〜７０％が好ましく、より好ましくは５．０〜
５０％である。

【００５６】本発明の画像形成層に、熱反応性基を有す
るポリマー微粒子を用いる場合は、必要に応じてこれら
の反応を開始又は促進する化合物を添加してもよい。反
応を開始又は促進する化合物としては、熱によりラジカ
ル又はカチオンを発生するような化合物を挙げることが
でき、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合
物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩又はジフェ
ニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホ
スフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。

【００５７】これらの化合物は、画像形成層固形分の１
〜２０％の範囲で添加することができる。好ましくは３
〜１０％の範囲である。この範囲内で、機上現像性を損
なわず、良好な反応開始又は促進効果が得られる。

【００５８】本発明の画像形成層は、必要な上記各成分
を溶剤に溶かして塗布液を調製し、画像形成層上に塗布
される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノー
ル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げること
ができるが、これに限定されるものではない。これらの
溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分
濃度は、好ましくは１〜５０％である。

【００５９】本発明の画像形成層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、画像形成
層全固形分の０．０１〜１％、さらに好ましくは０．０
５〜０．５％である。

【００６０】本発明の画像形成層乾燥塗布量は、用途に
よって異なるが、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好
ましい。この範囲より塗布量が少なくなると、見かけの
感度は大になるが、画像記録の機能を果たす画像形成層
の皮膜特性は低下する。塗布する方法としては、種々の
方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
を挙げられる。

【００６１】［オーバーコート層］本発明の平版印刷版
用原板は、画像形成層上に水溶性樹脂を含有するオーバ
ーコート層を有する。このオーバーコート層によって、
露光時の画像形成層のアブレーションが防止される。

【００６２】本発明のオーバーコート層に用いられる水
溶性樹脂としては、塗布乾燥によってできた皮膜がフィ
ルム形成能を有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニ
ル（但し加水分解率６５％以上のもの）、アクリル酸単
独重合体又は共重合体及びそのアルカリ金属塩又はアミ
ン塩、メタクリル酸単独重合体又は共重合体及びそのア
ルカリ金属塩又はアミン塩、アクリルアミド単独重合体
及び共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ
−ビニルピロリドン単独重合体及び共重合体、ポリビニ
ルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル／無水マレイ
ン酸共重合体、２−アクリルアミド−２−メチル−１−
プロパンスルホン酸の単独重合体又は共重合体及びその
アルカリ金属塩又はアミン塩、アラビアガム、繊維素誘
導体（例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキ
シエチルセルローズ、メチルセルローズ等）及びその変
性体、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エー
テル化デキストリン等を挙げることができる。また、目
的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いるこ
ともできる。

【００６３】上記オーバーコート層は、熱により合体す
る疎水性ポリマー微粒子及びマイクロカプセルから選ば
れた少なくとも一つの微粒子を含有することができる。
このような微粒子を含有させることによって、耐刷力を
さらに向上できる。

【００６４】本発明のオーバーコート層に用いる熱によ
り合体する疎水性ポリマー微粒子としては、画像形成層
に好適である前記の疎水性ポリマー微粒子が同様に好適
である。

【００６５】本発明のオーバーコート層に適したマイク
ロカプセルとしては、熱反応性官能基を有する化合物を
内包したマイクロカプセルが好ましい。好適な熱反応性
官能基としては、本発明の画像形成層用の疎水性ポリマ
ー微粒子に好適に用いうると前記した同じ熱反応性官能
基が挙げられる。

【００６６】上記熱反応性官能基を有する化合物として
は、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基、カルボキシラト基又は酸無水物、アミノ基、エポキ
シ基、及び、イソシアネート基又はそのブロック体から
選ばれた少なくとも一個の官能基を有する化合物を挙げ
ることができる。

【００６７】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも１
個、好ましくは２個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリ
ゴマー、それらの混合物、又はそれらの共重合体であ
る。

【００６８】例として、不飽和カルボン酸（例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など）、そのエステル及びア
ミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アルコールとのエステル及び不飽和カルボン酸と
脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。また、ヒド
ロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基
を有する不飽和カルボン酸エステル又は不飽和カルボン
酸アミドと、単官能もしくは多官能イソシアネート又は
エポキシドとの付加反応物、及び、単官能又は多官能の
カルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、イソシアネート基やエポキシ基などの親電子性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミドと、
単官能又は多官能のアルコール、アミン及びチオールと
の付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等
の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又は
アミドと、単官能又は多官能アルコール、アミン及びチ
オールとの置換反応物も好適である。また、別の好適な
例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン
酸又はクロロメチルスチレンに置き換えた化合物を挙げ
ることができる。

【００６９】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，
３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
等を挙げることができる。

【００７０】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。

【００７１】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。

【００７２】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。

【００７３】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、
特開昭５７−１９６２３１号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−
５２４１号、特開平２−２２６１４９号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。

【００７４】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報
記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることが
できる。

【００７５】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（Ｉ）で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。

【００７６】一般式（Ｉ) ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ¹）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ²）ＯＨ（ただし、Ｒ¹及びＲ²は、Ｈ又はＣＨ₃を示す。）

【００７７】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭５８−４
９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−
３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレン
オキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なもの
として挙げることができる。

【００７８】さらに、特開昭６３−２７７６５３号，特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。

【００７９】その他の好適なものの例としては、特開昭
４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公
報、同５２−３０４９０号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭４６−４３９４６号公報、
特公平１−４０３３７号公報、同１−４０３３６号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、２０巻７号、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介さ
れているものも好適に使用することができる。

【００８０】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類もしくはポリフェノール類又はそれらの水素添加
物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。

【００８１】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、又
は、それらをアルコールもしくはアミンでブロックした
化合物を挙げることができる。

【００８２】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。

【００８３】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトールなどの多価アルコー
ル、ビスフェノール、ポリフェノール類などを挙げるこ
とができる。

【００８４】好ましいカルボキシル基を有する化合物と
しては、ピロメリット酸、トリメリット酸、フタル酸な
どの芳香族多価カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多
価カルボン酸などが挙げられる。

【００８５】ヒドロキシル基やカルボキシル基を有する
好適な化合物としては、上記の外に、例えば特公昭５４
−１９７７３号、同５５−３４９２９号、同５７−４３
８９０号公報に記載の既存のＰＳ版のバインダーとして
知られている化合物を用いることもできる。

【００８６】好適な酸無水物としては、ピロメリット酸
無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが
挙げられる。

【００８７】エチレン性不飽和化合物の共重合体の好適
なものとして、アリルメタクリレートの共重合体を挙げ
ることができる。例えば、アリルメタクリレート／メタ
クリル酸共重合体、アリルメタクリレート／エチルメタ
クリレート共重合体、アリルメタクリレート／ブチルメ
タクリレート共重合体などを挙げることができる。

【００８８】ジアゾ樹脂としては、ジアゾジフェニルア
ミン・ホルマリン縮合樹脂の六フッ化リン酸塩や芳香族
スルホン酸塩などが好適である。

【００８９】マイクロカプセル化する方法としては、公
知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造
方法としては、米国特許２８００４５７号、同２８００
４５８号にみられるコアセルベーションを利用した方
法、英国特許９９０４４３号、米国特許３２８７１５４
号、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号、同
４２−７１１号にみられる界面重合法による方法、米国
特許３４１８２５０号、同３６６０３０４号にみられる
ポリマーの析出による方法、米国特許３７９６６６９号
に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方
法、米国特許３９１４５１１号に見られるイソシアネー
ト壁材料を用いる方法、米国特許４００１１４０号、同
４０８７３７６号、同４０８９８０２号にみられる尿素
―ホルムアルデヒド系又は尿素ホルムアルデヒド−レゾ
ルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許４０２
５４４５号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹
脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公
昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号にみられるモ
ノマー重合によるｉｎｓｉｔｕ法、英国特許９３０４
２２号米国特許３１１１４０７号にみられるスプレード
ライング法、英国特許９５２８０７号、同９６７０７４
号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限
定されるものではない。

【００９０】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性
質を有するものである。このような観点から、マイクロ
カプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの
混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタン
が好ましい。マイクロカプセル壁に熱反応性官能基を有
する化合物を導入しても良い。

【００９１】上記のマイクロカプセルの平均粒径は、
０．０１〜２０μmが好ましく、０．０５〜２．０μｍ
がさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好まし
い。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過
ぎると経時安定性が悪くなってしまう。

【００９２】このようなマイクロカプセルは、カプセル
同志が熱により合体してもよいし、合体しなくとも良
い。要は、マイクロカプセル内包物のうち、カプセル表
面、マイクロカプセル壁中又はマイクロカプセル外に滲
み出したものが、熱により化学反応を起こせば良い。添
加された水溶性樹脂、又は、添加された低分子化合物と
反応してもよい。また２種類以上のマイクロカプセル
に、それぞれ異なる官能基で互いに熱反応するような官
能基をもたせることによって、マイクロカプセル同士を
反応させてもよい。従って、熱によってマイクロカプセ
ル同志が、熱で溶融合体することは画像形成上好ましい
ことであるが、必須ではない。

【００９３】上記の疎水性ポリマー微粒子及び／又はマ
イクロカプセルのオーバーコート層への添加量は、耐刷
性を一層向上させる観点からはオーバーコート層固形分
の５０％以上が好ましく、６０％以上がさらに好まし
い。

【００９４】本発明のオーバーコート層は、光熱変換剤
を含有することができる。好適な光熱変換剤としては、
画像形成層に用いうる光熱変換剤を挙げることができ
る。中でも、水溶性基を有する染料がより好ましい。具
体例としては、前記の光熱変換剤ＩＲ−１〜ＩＲ−１１
が挙げられるが、これらに限定しない。

【００９５】本発明では、オーバーコート層の露光波長
における光学濃度は、画像形成層の同じ波長における光
学濃度より低いことが望ましい。この光学濃度条件で画
像形成層の良好な画像形成ができる。

【００９６】さらに、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、ポリオキ
シエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンドデシルエーテルなどの非イオン系界面活性剤を添加
することができる。

【００９７】オーバーコート層の乾燥塗布量は、０．１
〜２．０ｇ／ｍ²が好ましい。この範囲内で、機上現像
性を損なわず、良好なアブレーション防止ができる。

【００９８】［アルミニウム基板］本発明の平版印刷版
用原板には、粗面化処理され、かつ親水膜を有するアル
ミニウム基板を用いる。以下に、このようなアルミニウ
ム基板について詳細に説明する。

【００９９】本発明のアルミニウム基板の原料として用
いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウ
ムを主成分とする金属であり、アルミニウム又はアルミ
ニウム合金からなる。純アルミニウム板のほか、アルミ
ニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、アル
ミニウム又はアルミニウム合金がラミネートされ、又は
蒸着されたプラスチックフィルム又は紙を用いることも
できる。更に、特公昭４８−１８３２７号に記載されて
いるようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にア
ルミニウムシートが結合された複合体シートを用いるこ
ともできる。

【０１００】上記アルミニウム板の製造方法としては、
例えば、ＤＣ鋳造法、ＤＣ鋳造法から均熱処理及び／又
は焼鈍処理を省略した方法、及び連続鋳造法を挙げるこ
とができる。以下の説明において、上に挙げたアルミニ
ウム又はアルミニウム合金からなる基板をアルミニウム
基板と総称して用いる。

【０１０１】前記アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があり、合金
中の異元素の含有量は１０％以下である。本発明では純
アルミニウム板を用いるのが好適であるが、完全に純粋
なアルミニウムは精練技術上、製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものを用いてもよい。このよ
うに本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が
特定されるものではなく、アルミニウムハンドブック第
４版（軽金属協会（１９９０））に記載の従来より公知
公用の素材のもの、例えば、ＪＩＳＡ１０５０、Ｊ
ＩＳＡ１１００、ＪＩＳＡ３１０３、ＪＩＳ
Ａ３００５等を適宜利用することができる。

【０１０２】本発明に用いられるアルミニウム板の厚み
は、０.１〜０.６ｍｍ程度である。この厚みは印刷機の
大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜
変更することができる。アルミニウム板には、適宜、以
下で述べる表面処理が施される。

【０１０３】一般に、平版印刷版用アルミニウム基板
は、アルミニウム板に付着している圧延油を除く脱脂工
程、アルミニウム板の表面のスマットを溶解するデスマ
ット処理工程等の粗面化前処理、及びアルミニウム板の
表面を粗面化する粗面化処理工程を経て製造される。

【０１０４】本発明のアルミニウム板は、上記の処理に
次いでさらに、特定の熱伝導率の親水膜を設けられる。
さらに必要に応じて、酸、アルカリ処理工程、封孔処理
工程、親水化処理工程を経て、平版印刷版原板用の基板
を形成する。さらに必要に応じて、平版印刷版原板用基
板形成後、下塗り層を設けてもよい。

【０１０５】本発明の粗面化処理をはじめとする製造方
法は、連続法でも断続法でも良いが、工業的には連続法
を用いるのが好ましい。以下、各表面処理工程について
詳細に説明する。

【０１０６】＜粗面化前処理＞アルミニウム板は、強固
な汚れや自然酸化皮膜を除去する等のため、苛性ソーダ
等のアルカリ水溶液を用いて溶解処理が行われ、溶解処
理後の残留アルカリ成分を中和するため、リン酸、硝
酸、硫酸、塩酸、コロム酸等の酸又はそれらの混酸に浸
漬して中和処理が行われる。なお、必要により、上記ア
ルミニウム板表面の油脂、錆、ゴミなどを除去するた
め、トリクレン、シンナー等による溶剤脱脂、ケロシ
ン、トリエタノール等のエマルジョンを用いてエマルジ
ョン脱脂処理を行っても良い。中和処理に使用する酸の
種類及び組成は、次工程の電気化学的粗面化処理に使用
する酸のそれに合わせることが特に好ましい。

【０１０７】＜粗面化処理＞アルミニウム板表面の粗面
化処理は、種々の方法により行われる。例えば、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法、及びこれ
らの方法の組み合わせを挙げることができる。

【０１０８】機械的方法としては、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法
を用いることができる。化学的方法としては、特開昭５
４−３１１８７号に記載されているような鉱酸のアルミ
ニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。ま
た、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸等の酸
を含む電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭５４−６３９０２号に開示されているよう
に混合酸を用いた電解粗面化方法も利用することができ
る。これらの中でも特に塩酸を含有する水溶液を電解液
とする電気化学的な粗面化処理が好適である。

【０１０９】塩酸を主とする電解液を用いた電気化学的
粗面化処理の場合には、平均開口径が０．０１〜数μ
ｍ、深さと平均開口径の比が０．１〜０．５の小ピット
が形成されるのと同時に平均開口径が数μｍ〜数１０μ
ｍの大きなうねりの二重構造が形成されやすいので、汚
れ難さと耐刷性にとって望ましい粗面化形状が得られ
る。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミ
ン類、アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、シュウ酸等を加えることができるが、中でも特に酢
酸が好ましい。

【０１１０】電気化学的粗面化処理において、印可され
る電圧は１〜５０Ｖが好ましく、５〜３０Ｖがさらに好
ましい。電流密度（ピーク値）は５〜２００Ａ／ｄｍ²
が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄｍ²がさらに好まし
い。電気量は、全処理工程を合計して１０〜２０００Ｃ
／ｄｍ²が好ましく、２００〜１０００Ｃ／ｄｍ²がさら
に好ましい。温度は１０〜６０℃が好ましく、１５〜４
５℃がさらに好ましい。周波数は１０〜２００Ｈｚが好
ましく、４０〜１５０Ｈｚがさらに好ましい。

【０１１１】塩酸濃度は０．１〜５％が好ましく、電解
に使用する電流波形は、正弦波、矩形波、台形波、鋸歯
状歯等、求める粗面化形状により適宜選択されるが、特
に矩形波が好ましい。

【０１１２】電気化学的粗面化処理されたアルミニウム
板は、表面のスマット等を除去したり、粗面ピット形状
をコントロールする等のために、酸又はアルカリの水溶
液に浸漬して表面エッチング処理が行われる。上記酸と
しては、例えば硫酸、過硫酸、フッ酸、リン酸、硝酸、
塩酸などが含まれ、上記アルカリとしては、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これらの
中でも、アルカリ水溶液を用いるのが好ましく、該アル
カリの０．０５〜４０％水溶液を用いて、２０〜９０℃
の液温で５秒〜５分処理するのが良く、該アルカリ水溶
液で該アルカリ水溶液で表面エッチングした後に、リン
酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、又はそれらの混酸に
浸漬して中和処理が行われる。

【０１１３】上記粗面化処理工程で用いる電解装置とし
ては、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の電解装
置を用いることができるが、特開平５−１９５３００号
に記載のようなラジアル型電解装置が特に好ましい。

【０１１４】図１は、本発明で好適に用いられるラジア
ル型電解装置の概略図である。図１において、ラジアル
型電解装置は、アルミニウム板１１が主電解槽２１中に
配置されたラジアルドラムローラ１２に巻装され、搬送
過程で交流電源２０に接続された主極１３ａ及び１３ｂ
によって電解処理される。酸性水溶液１４は、溶液供給
口１５からスリット１６を通じてラジアルドラムローラ
１２と主極１３ａ及び１３ｂとの間にある溶液通路１７
に供給される。

【０１１５】ついで、主電解槽２１で処理されたアルミ
ニウム板１１は、補助陽極槽２２で電解処理される。こ
の補助陽極槽２２には補助陽極１８がアルミニウム板１
１と対向配置されており、酸性水溶液１４は、補助陽極
１８とアルミニウム板１１との間を流れるように供給さ
れる。なお、補助電極に流す電流は、サイリスタ１９ａ
及び１９ｂにより制御される。

【０１１６】主極１３ａ及び１３ｂは、カーボン、白
金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステンレス、燃料
電池用陰極に用いる電極等から選定することができる
が、カーボンが特に好ましい。カーボンとしては、一般
に市販されている化学装置用不浸透性黒鉛や、樹脂含芯
黒鉛等を用いることができる。補助陽極１８は、フェラ
イト、酸化イリジウム、白金、又は、白金をチタン、ニ
オブ、ジルコニウム等のバルブ金属にクラッド又はメッ
キしたもの等公知の酸素発生用電極から選定することが
できる。

【０１１７】主電解槽２１及び補助陽極槽２２内を通過
する塩酸含有水溶液の供給方向はアルミニウム板１１の
進行とパラレルでもカウンターでもよい。アルミニウム
板に対する塩酸含有水溶液の相対流速は、１０〜１００
０ｃｍ／ｓｅｃであるのが好ましい。

【０１１８】一つの電解装置には１個以上の交流電源を
接続することができる。また、２個以上の電解装置を使
用してもよく、各装置における電解条件は同一であって
もよいし異なっていてもよい。また、電解処理が終了し
た後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップ
ローラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが
好ましい。

【０１１９】さらに、上記粗面化処理においては、電解
装置中のアルミニウム板がアノード反応する塩酸含有水
溶液の通電量に比例して、例えば、（ｉ）塩酸含有水溶
液の導電率と（ｉｉ）超音波の伝搬速度と（ｉｉｉ）温
度とから求めた塩酸及びアルミニウムイオン濃度をもと
に、塩酸と水の添加量を調節しながら添加し、塩酸と水
の添加容積と同量の塩酸含有水溶液を逐次電解装置から
オーバーフローさせて排出することで、上記塩酸含有水
溶液の濃度を一定に保つのが好ましい。

【０１２０】さらに、本発明では該塩酸含有電解液中で
の電気化学的粗面化処理の過程で、０．２〜１０秒の休
止時間を設け、かつ１回の電気化学的粗面化処理の電気
量を１００Ｃ／ｄｍ²以下とすることを必須要件として
いる。上記のように電気化学的粗面化処理を複数回に分
けて行う場合は、上記休止時間０．２秒未満で、かつ電
気化学的粗面化処理の電気量が１００Ｃ／ｄｍ²を越え
ると、開口径が２０μｍより大きい粗大ピットの生成を
抑制することができず、また、上記休止時間が１０秒を
越えるとアルミニウム基板の製造に時間がかかり過ぎて
生産性が悪くなる。

【０１２１】上記の塩酸含有水溶液を電解液とする電気
化学的粗面化処理は、機械的粗面化処理や異なる条件の
電気化学的粗面化処理と組み合わせて用いることもでき
る。

【０１２２】機械的粗面化処理は電気化学的粗面化処理
の前、前記アルカリ水溶液を用いた溶解処理に先だって
行うのが好ましい。機械的粗面化処理の方法は特に限定
されないが、ブラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。
ブラシ研磨では、例えば毛径０．２〜１ｍｍのブラシ毛
を植毛した円筒状ブラシを回転し、研磨材を水に分散さ
せたスラリーを接触面に供給しながらアルミニウム板表
面に押しつけて粗面化処理を行う。ホーニング研磨で
は、研磨材を水に分散させたスラリーをノズルより圧力
をかけて射出し、アルミニウム板表面に斜めから衝突さ
せて粗面化処理を行う。さらに、予め粗面化処理された
シートをアルミニウム板表面に張り合わせ、圧力をかけ
て粗面パターンを転写することにより機械的粗面化処理
を行うこともできる。

【０１２３】なお、上記機械的粗面化処理を行う場合
は、前記の溶剤脱脂処理又はエマルジョン脱脂処理を省
略することができる。

【０１２４】異なる条件の電気化学的粗面化処理として
は、硝酸を主体とする電気化学的な粗面化処理を挙げる
ことができる。硝酸を主体とする酸性水溶液は、通常の
直流電流又は交流電流を用いた電気化学的粗面化処理に
用いられるものでよい。例えば、硝酸アルミニウム、硝
酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸化合物のうち
一つ以上を、０．０１ｇ／ｌから飽和に達するまでの濃
度で、硝酸濃度５〜１５ｇ／ｌの硝酸水溶液に添加して
使用することができる。硝酸を主体とする酸性水溶液中
には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシ
ウム、ケイ素等のアルミニウム合金中に含まれる金属等
が溶解されていてもよい。

【０１２５】硝酸を主体とする酸性水溶液としては、中
でも、硝酸と、アルミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、
かつ、アルミニウムイオンが１〜１５ｇ／ｌ、好ましく
は１〜１０ｇ／ｌ、アンモニウムイオンが１０〜３００
ｐｐｍとなるように、硝酸濃度５〜１５ｇ／ｌの硝酸水
溶液中に硝酸アルミニウム及び硝酸アンモニウムを添加
して得られたものを用いることが好ましい。なお、上記
アルミニウムイオン及びアンモニウムイオンは、電気化
学的粗面化処理を行っている間に自然発生的に増加して
いくものである。また、この際の液温は１０〜９５℃で
あるのが好ましく、４０〜８０℃であるのがより好まし
い。

【０１２６】上記の粗面化処理を施された本発明の平版
印刷版用原板は、粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍが好ましい。より好ましくは０．０５
〜２μｍで、特に好ましくは０．０５〜１．０μｍであ
る。０．０１μｍ未満では満足な印刷での汚れ難さや耐
刷性が確保できない。一方、３μｍを越えると耐刷性が
劣化する。

【０１２７】また、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比は、０．１〜０．５が好ましい。より好ましく
は０．１〜０．３、特に好ましくは０．１５〜０．２で
ある。０．１未満では印刷での汚れ難さや耐刷性が劣化
し、一方、０．５を越えると汚れ難さが劣化する問題が
生じる。

【０１２８】粗面化形状の大きなうねりの平均開口径は
３〜２０μｍが好ましい。より好ましくは３〜１７μｍ
で、特に好ましくは４〜１０μｍである。３μｍ未満で
は印刷での汚れ難さや耐刷性が劣化する。一方、２０μ
ｍを越えると汚れ性が劣化する問題が生じる。

【０１２９】＜親水膜の形成＞本発明のアルミニウム基
板は、上記のように粗面化処理され、必要に応じて他の
処理を施されたアルミニウム板に、熱伝導率が０．０５
〜０．５Ｗ／ｍＫの親水膜を設けることを特徴とする。

【０１３０】親水膜は、膜厚方向の熱伝導率が０．０５
Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であり、好ましくは０．０８Ｗ／
（ｍ・Ｋ）以上であり、また、０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以
下であり、好ましくは０．３Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であ
り、より好ましくは０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である。
膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）
とすると、レーザー光の露光により画像形成層に発生す
る熱が基板に拡散することを抑制することができる。そ
の結果、感度が高くなり、微粒子の熱融着の効率を高め
て画像強度を向上させて耐刷性を向上できる。

【０１３１】以下、本発明で規定する親水膜の膜厚方向
の熱伝導率について説明する。薄膜の熱伝導率測定方法
としては種々の方法がこれまでに報告されている。１９
８６年にはＯＮＯらがサーモグラフを用いて薄膜の平面
方向の熱伝導率を報告している。また、薄膜の熱物性の
測定に交流加熱方法を応用する試みも報告されている。
交流加熱法はその起源を１８６３年の報告にまでさかの
ぼることができるが、近年においては、レーザーによる
加熱方法の開発やフーリエ変換との組み合わせにより様
々な測定法が提案されている。レーザーオングストロー
ム法を用いた装置は実際に市販もされている。これらの
方法はいずれも薄膜の平面方向（面内方向）の熱伝導率
を求めるものである。

【０１３２】しかし、薄膜の熱伝導を考える際にはむし
ろ深さ方向への熱拡散が重要な因子である。種々報告さ
れているように薄膜の熱伝導率は等方的でないといわれ
ており、特に本発明のような場合には直接、膜厚方向の
熱伝導率を計測することが極めて重要である。このよう
な観点から薄膜の膜厚方向の熱物性を測定する試みとし
てサーモコンパレータを用いた方法がＬａｍｂｒｏｐｏ
ｕｌｏｓらの論文（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６６
（９）（１Ｎｏｖｅｍｂｅｒ１９８９））及びＨｅ
ｎａｇｅｒらの論文（ＡＰＰＬＩＥＤＯＰＴＩＣＳ，
Ｖｏｌ．３２, Ｎｏ．１（１Ｊａｎｕａｒｙ１９９
３））で報告されている。更に、近年、ポリマー薄膜の
熱拡散率をフーリエ解析を適用した温度波熱分析により
測定する方法が橋本らによって報告されている（Ｎｅｔ
ｓｕＳｏｋｕｔｅｉ，２７（３）（２０００））。

【０１３３】本発明で規定する親水膜の膜厚方向の熱伝
導率は、上記サーモコンパレータを用いる方法で測定さ
れる。以下、上記方法を具体的に説明するが、上記方法
の基本的な原理については、上述したＬａｍｂｒｏｐｏ
ｕｌｏｓらの論文及びＨｅｎａｇｅｒらの論文に詳細に
記載されている。また、上記方法に用いられる装置は、
以下の装置に限定されるものではない。

【０１３４】図２は、本発明の平版印刷版用原板の親水
膜の膜厚方向の熱伝導率の測定に用いることができるサ
ーモコンパレータ３０の概略図である。サーモコンパレ
ータを用いる方法では、薄膜との接触面積及び接触面の
状態（粗さ）の影響を大きく受ける。そのため、サーモ
コンパレータ３０が薄膜と接触する先端をできる限り微
小なものとすることが重要である。例えば、無酸素銅製
の半径ｒ₁＝０．２ｍｍの微小な先端を有するチップ
（線材）３１を用いる。

【０１３５】このチップ３１をコンスタンタン製のリザ
ーバ３２の中心に固定し、そのリザーバ３２の周囲に、
電熱ヒーター３３を有する無酸素銅製の加熱用ジャケッ
ト３４を固定する。この加熱用ジャケット３４を電熱ヒ
ーター３３で加熱し、リザーバ３２内部に取り付けた熱
電対３５の出力をフィードバックさせながらリザーバ３
を６０±１℃になるよう制御すると、チップ３１が６０
±１℃に加熱される。一方、半径１０ｃｍ、厚み１０ｍ
ｍの無酸素銅製のヒートシンク３６を用意し、測定対象
の皮膜３７を有する金属基体３８をヒートシンク３６上
に設置する。ヒートシンク３６の表面の温度は接触式温
度計３９を用いて測定する。

【０１３６】このようにサーモコンパレータ３０を設定
した後、皮膜３７の表面に加熱したチップ３１の先端を
密着するように接触させる。サーモコンパレータ３０
は、例えば、ダイナミック微小硬度計の先端に圧子の変
わりに取り付けて上下に駆動させるようにし、皮膜３７
の表面にチップ３１が当たって０．５ｍＮの負荷がかか
るまで押し付けることができるようにする。これにより
測定対象である皮膜３７とチップ３１の接触面積のバラ
ツキを最低限とすることができる。

【０１３７】加熱したチップ３１を皮膜３７に接触させ
るとチップ３１の先端温度は下がるが、ある一定温度で
定常状態に達する。これは電熱ヒーター３３から加熱用
ジャケット３４及びリザーバ３２を通じてチップ３１に
与えられる熱量と、チップ３１から金属基体３８を通じ
てヒートシンク３６へ拡散する熱量とが平衡するためで
ある。このときのチップ先端温度、ヒートシンク温度及
びリザーバ温度をそれぞれチップ先端温度記録計４０、
ヒートシンク温度記録計４１及びリザーバ温度記録計４
２を用いて記録する。

【０１３８】上記各温度と皮膜の熱伝導率の関係は、下
記式（１）のようになる。

【０１３９】

【数１】

【０１４０】ただし、上記式（１）中の符号は、以下の
通りである。Ｔ_t ：チップ先端温度、Ｔ_b ：ヒートシンク温度、Ｔ
_r ：リザーバ温度、Ｋ_{t f}：皮膜熱伝導率、Ｋ₁ ：リザーバ熱伝導率、Ｋ₂ ：チップ熱伝導率（無酸素銅の場合、４００Ｗ／
（ｍ・Ｋ））、Ｋ₄ ：（皮膜を設けない場合の）金属基体熱伝導率、ｒ₁ ：チップ先端曲率半径、Ａ₂ ：リザーバとチップとの接触面積、Ａ₃ ：チップと
皮膜との接触面積、ｔ：膜厚、ｔ₂ ：接触厚み（≒０）

【０１４１】膜厚（ｔ）を変化させて各温度（Ｔ_t 、Ｔ
_b 及びＴ_r ）を測定しプロットすることにより、上記式
（１）の傾きを求め、皮膜熱伝導率（Ｋ_{t f}）を求める
ことができる。即ち、この傾きは上記式（１）から明ら
かなように、リザーバ熱伝導率（Ｋ₁ ）、チップ先端の
曲率半径（ｒ₁ ）、皮膜熱伝導率（Ｋ_{t f}）及びチップ
と皮膜との接触面積（Ａ₃ ）によって決まる値であり、
Ｋ₁ 、ｒ₁ 及びＡ₃ は、既知の値であるから、傾きから
Ｋ_{t f}の値を求めることができる。

【０１４２】本発明者らは、上記の測定方法を用いてア
ルミニウム基板状に設けた陽極酸化皮膜（Ａｌ₂Ｏ₃）の
熱伝導率を求めた。膜厚を変えて温度を測定し、その結
果のグラフの傾きから求められたＡｌ₂Ｏ₃の熱伝導率
は、０．６９Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。これは、上述し
たＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文の結果とよい一致
を示している。そして、この結果は、薄膜の熱物性値が
バルクの熱物性値（バルクのＡｌ₂Ｏ₃の熱伝導率は、２
８Ｗ／（ｍ・Ｋ））とは異なることも示している。

【０１４３】本発明の平版印刷版用原板の親水膜の膜厚
方向の熱伝導率の測定に上記方法を用いると、チップ先
端を微小なものにし、かつ、押し付け荷重を一定に保つ
ことにより、平版印刷版用に粗面化された表面について
もバラツキのない結果を得ることができるので好まし
い。熱伝導率の値は、試料上の異なる複数の点、例え
ば、５点で測定し、その平均値として求めるのが好まし
い。

【０１４４】親水膜の膜厚は、傷付きにくさ及び耐刷性
の点で、０．１μｍ以上であるのが好ましく、０．３μ
ｍ以上であるのがより好ましく、０．６μｍ以上である
のが特に好ましく、また、製造コストの観点から、厚い
皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とするこ
とを鑑みると、５μｍ以下であるのが好ましく、３μｍ
以下であるのがより好ましく、２μｍ以下であるのが特
に好ましい。

【０１４５】本発明の親水膜は、断熱性への効果及び皮
膜強度、印刷での汚れ難さの観点から、密度が１０００
〜３２００ｋｇ／ｍ³であることが好ましい。

【０１４６】密度の測定法としては、例えば、メイソン
法（クロム酸／リン酸混合液溶解による陽極酸化皮膜重
量法）による重量測定と、断面をＳＥＭで観察して求め
た膜厚から、以下の式によって算出することができる。

【０１４７】密度（ｋｇ／ｍ³）＝（単位面積あたりの
親水膜重量／膜厚）

【０１４８】形成された親水膜密度が１０００ｋｇ／ｍ
³未満では皮膜強度が低くなり、画像形成性や耐刷性な
どに悪影響を及ぼす可能性があり、また、印刷での汚れ
にくさも劣化する。３２００ｋｇ／ｍ³を越えると充分
な断熱性が得られず、感度向上効果が低下する。

【０１４９】本発明においては、親水膜の空隙率が２０
〜７０％であるのが好ましく、３０〜６０％であるのが
より好ましく、４０〜５０％であるのが特に好ましい。
親水膜の空隙率が２０％未満では、アルミニウム基板へ
の熱拡散の抑制が十分には得られず、高感度化及び耐刷
向上の効果が不十分となる。空隙率が７０％を越える
と、非画像部に汚れが発生する問題が生じやすくなる。

【０１５０】親水膜を設ける方法としては、特に限定さ
れず、陽極酸化法、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法、ス
パッタリング法、イオンプレーティング法、拡散法等を
適宜用いることができる。また、親水性樹脂又はゾルゲ
ル液に中空粒子を混合した溶液を塗布する方法を用いる
こともできる。

【０１５１】中でも、陽極酸化法により酸化物を作成す
る処理、即ち、陽極酸化処理を用いるのが最も好適であ
る。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で
行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム
酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
の単独の又は２種以上を組み合わせた水溶液又は非水溶
液の中で、アルミニウム板に直流又は交流を流すと、ア
ルミニウム板の表面に、親水膜である陽極酸化皮膜を形
成することができる。

【０１５２】陽極酸化処理の条件は、使用される電解液
によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一
般的には電解液濃度１〜８０％、液温５〜７０℃、電流
密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜２００Ｖ、電解
時間１〜１０００秒であるのが適当である。

【０１５３】これらの陽極酸化処理の中でも、英国特許
第１，４１２，７６８号に記載されている、硫酸電解液
中で高電流密度で陽極酸化処理する方法、及び、米国特
許第３，５１１，６６１号に記載されている、リン酸を
電解浴として陽極酸化処理する方法が好ましい。また、
硫酸中で陽極酸化処理し、更にリン酸中で陽極酸化処理
するなどの多段陽極酸化処理を施すこともできる。

【０１５４】本発明においては、陽極酸化皮膜は、感度
及び耐刷性の点で、３．２ｇ／ｍ²以上であるのが好ま
しく、４．０ｇ／ｍ²以上であるのがより好ましく、５
ｇ／ｍ²以上であるのが特に好ましく、また、厚い皮膜
を設けるためには多大なエネルギーを必要とすることを
鑑みると、５０ｇ／ｍ²以下であるのが好ましく、３０
ｇ／ｍ²以下であるのがより好ましく、２０ｇ／ｍ²以下
であるのが特に好ましい。

【０１５５】陽極酸化皮膜には、その表面にマイクロポ
アと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成されてい
る。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径密度は、
処理条件を適宜選択することによって調整することがで
きる。マイクロポアの径密度を高くすることにより、陽
極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ
／（ｍ・Ｋ）とすることができる。

【０１５６】また、陽極酸化皮膜のマイクロポア径密度
を高くすることにより、密度を１０００〜３２００ｋｇ
／ｍ³とすることができる。

【０１５７】本発明においては、熱伝導率や密度を下げ
たり空隙率を上げる目的で、陽極酸化処理の後、マイク
ロポアのポア径を拡げるポアワイド処理を行うことが好
ましい。このポアワイド処理は、陽極酸化皮膜が形成さ
れたアルミニウム基板を酸水溶液又はアルカリ水溶液に
浸漬することにより、陽極酸化皮膜を溶解し、マイクロ
ポアのポア径を拡大するものである。ポアワイド処理
は、陽極酸化皮膜の溶解量が、好ましくは０．０１〜２
０ｇ／ｍ²、より好ましくは０．１〜５ｇ／ｍ²、特に好
ましくは０．２〜４ｇ／ｍ²となる範囲で行われる。

【０１５８】マイクロポアのポア径は、印刷汚れ、機上
現像性の観点から、０〜４０ｎｍが好ましい。より好ま
しくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは７ｎｍ以下となる
ように行われる。この範囲内で、良好な印刷汚れと機上
現像性が得られる。また、感度と耐刷性の観点から、表
面から０．４μｍ下部の位置でのポア径は７〜２００ｎ
ｍが好ましい。より好ましくは１５〜１００ｎｍ、特に
好ましくは３０〜１００ｎｍである。この範囲内で良好
な断熱性が得られ、感度と耐刷性の向上効果が得られ
る。

【０１５９】ポアワイド処理に酸水溶液を用いる場合
は、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸又はこれらの
混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃
度は１０〜１０００ｇ／ｌであるのが好ましく、２０〜
５００ｇ／ｌであるのがより好ましい。酸水溶液の温度
は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０〜７０℃で
あるのがより好ましい。酸水溶液への浸漬時間は、１〜
３００秒であるのが好ましく、２〜１００秒であるのが
より好ましい。

【０１６０】一方、ポアワイド処理にアルカリ水溶液を
用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び
水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つ
のアルカリの水溶液を用いることが好ましい。アルカリ
水溶液のｐＨは、１０〜１３であるのが好ましく、１
１．５〜１３．０であるのがより好ましい。アルカリ水
溶液の温度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０
〜５０℃であるのがより好ましい。アルカリ水溶液への
浸漬時間は、１〜５００秒であるのが好ましく、２〜１
００秒であるのがより好ましい。

【０１６１】また、親水膜は、上述した陽極酸化皮膜の
ほかに、スパッタリング法、ＣＶＤ法等により設けられ
る無機皮膜であってもよい。無機皮膜を構成する化合物
としては、例えば、酸化物、チッ化物、ケイ化物、ホウ
化物、炭化物が挙げられる。また、無機皮膜は、化合物
の単体のみから構成されていてもよく、化合物の混合物
により構成されていてもよい。

【０１６２】無機皮膜を構成する化合物としては、具体
的には、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、
酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、
酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タン
グステン、酸化クロム；チッ化アルミニウム、チッ化ケ
イ素、チッ化チタン、チッ化ジルコニウム、チッ化ハフ
ニウム、チッ化バナジウム、チッ化ニオブ、チッ化タン
タル、チッ化モリブデン、チッ化タングステン、チッ化
クロム、チッ化ケイ素、チッ化ホウ素；ケイ化チタン、
ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフニウム、ケイ化バナジ
ウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タンタル、ケイ化モリブデ
ン、ケイ化タングステン、ケイ化クロム；ホウ化チタ
ン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化バ
ナジウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化モリ
ブデン、ホウ化タングステン、ホウ化クロム；炭化アル
ミニウム、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化ジルコニウ
ム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭
化タンタル、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化
クロムが挙げられる。

【０１６３】＜封孔処理＞本発明においては、上述した
ようにして親水膜を設けて得られた本発明の平版印刷版
用基板に、汚れ難さ及び機上現像性を向上させるため
に、封孔処理を行ってもよい。本発明に用いられる封孔
処理は、従来公知の方法を用いることができるが、感
度、耐刷性と汚れ難さ、機上現像性を両立させるために
は、封孔処理皮膜の微細孔の開口径が、表層で０〜４０
ｎｍ、表層から０．４μｍ下部の位置で７〜２００ｎｍ
にすることが好ましい。

【０１６４】本発明に用いられる封孔処理としては、特
開平４−１７６６９０号公報及び特願平１０−１０６８
１９号明細書（特開平１１−３０１１３５号公報）に記
載の加圧水蒸気や熱水による陽極酸化皮膜の封孔処理が
挙げられる。また、ケイ酸塩処理、重クロム酸塩水溶液
処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封
孔処理、トリエタノールアミン処理、炭酸バリウム塩処
理、極微量のリン酸塩を含む熱水処理等の公知の方法を
用いて行うこともできる。中でも特に好ましいのは、特
願２００１−９８７１号記載の平均粒径８〜８００ｎｍ
の粒子を用いた封孔処理が挙げられる。

【０１６５】粒子を用いた封孔処理は、平均粒径８〜８
００ｎｍ、好ましくは平均粒径１０〜５００ｎｍ、より
好ましくは平均粒径１０〜１５０ｎｍの粒子によって行
われる。この範囲内で、親水膜に存在するマイクロポア
の内部に粒子が入り込んでしまうおそれが少なく、高感
度化の効果が十分得られ、また、画像形成層との密着性
が十分となり、耐刷性が優れたものとなる。粒子層の厚
さは、８〜８００ｎｍであるのが好ましく、１０〜５０
０ｎｍであるのがより好ましい。

【０１６６】本発明に用いられる粒子は、熱伝導率が６
０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが好ましく、４０Ｗ／
（ｍ・Ｋ）以下であるのがより好ましく、０．３〜１０
Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが特に好ましい。熱伝導率
が６０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であると、アルミニウム基板
への熱拡散の抑制が十分となり、高感度化の効果が十分
に得られる。

【０１６７】粒子層を設ける方法としては、例えば、溶
液による浸漬処理、スプレー処理、コーティング処理、
電解処理、蒸着処理、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、溶射、鍍金等が挙げられるが、特に限定される
ものではない。

【０１６８】電解処理は、直流又は交流を用いることが
できる。上記電解処理に用いられる交流電流の波形とし
ては、サイン波、矩形波、三角波、台形波等が挙げられ
る。また、交流電流の周波数は、電源装置を製作するコ
ストの観点から、３０〜２００Ｈｚであるのが好まし
く、４０〜１２０Ｈｚであるのがより好ましい。交流電
流の波形として台形波を用いる場合、電流が０からピー
クに達するまでの時間ｔｐはそれぞれ０．１〜２ｍｓｅ
ｃであるのが好ましく、０．３〜１．５ｍｓｅｃである
のがより好ましい。上記ｔｐが０．１ｍｓｅｃ未満であ
ると、電源回路のインピーダンスが影響し、電流波形の
立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設
備コストが高くなる場合がある。

【０１６９】親水性粒子としては、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔｉ
Ｏ₂、ＳｉＯ₂及びＺｒＯ₂を単独で又は２種以上を組み
合わせて用いるのが好ましい。電解液は、例えば、前記
親水性粒子を含有量が全体の０．０１〜２０％となるよ
うに、水等に懸濁させて得られる。電解液は、電荷をプ
ラス又はマイナスに帯電させるために、例えば、硫酸を
添加するなどして、ｐＨを調整することもできる。電解
処理は、例えば、直流を用い、アルミニウム板を陰極と
して、上記電解液を用い、電圧１０〜２００Ｖで１〜６
００秒間の条件で行う。この方法によれば、容易に、陽
極酸化皮膜に存在するマイクロポアの内部に空隙を残し
つつ、その口をふさぐことができる。

【０１７０】別の封孔処理の方法として、カルボキシメ
チルセルロース；デキストリン；アラビアガム；２−ア
ミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸
類；置換基を有していてもよいフェニルホスホン酸、ナ
フチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホス
ホン酸、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸
等の有機ホスホン酸；置換基を有していてもよいフェニ
ルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸、グリセロ
リン酸等の有機リン酸エステル；置換基を有していても
よいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ア
ルキルホスフィン酸、グリセロホスフィン酸等の有機ホ
スフィン酸；グリシン、β−アラニン等のアミノ酸類；
トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシ基を有す
るアミンの塩酸塩等から選ばれる化合物の層を設ける方
法も挙げられる。

【０１７１】さらに封孔処理には、不飽和基を有するシ
ランカップリング剤を塗設処理してもよい。シランカッ
プリング剤としては、例えば、Ｎ−３−（アクリロキシ
−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）ジメチ
ルメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）メチ
ルジメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）ト
リメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピル
トリメトキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、３−
ブテニルトリエトキシシラン、２−（クロロメチル）ア
リルトリメトキシシラン、メタクリルアミドプロピルト
リエトキシシラン、Ｎ−（３−メタクリロキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、（メタクリロキシメチル）ジメチルエトキシシ
ラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタ
クリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシ
プロピルジメチルエトキシシラン、メタクリロキシプロ
ピルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシプロピル
メチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルト
リエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリ
メトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス（メト
キシエトキシ）シラン、メトキシジメチルビニルシラ
ン、１−メトキシ−３−（トリメチルシロキシ）ブタジ
エン、スチリルエチルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−
スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピル
トリメトキシシラン塩酸塩、ビニルジメチルエトキシシ
ラン、ビニルジフェニルエトキシシラン、ビニルメチル
ジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、Ｏ
−（ビニロキシエチル）−Ｎ−（トリエトキシシリルプ
ロピル）ウレタン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラ
ン、ビニルトリイソプロポキシシシラン、ビニルトリフ
ェノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキ
シ）シラン、ジアリルアミノプロピルメトキシシランが
挙げられる。中でも、不飽和基の反応性が速いメタクリ
ロイル基、アクリロイル基を有するシランカップリング
剤が好ましい。

【０１７２】その他にも、特開平５−５０７７９号公報
に記載されているゾルゲルコーティング処理、特開平５
−２４６１７１号公報に記載されているホスホン酸類の
コーティング処理、特開平６−２３４２８４号公報、特
開平６−１９１１７３号公報及び特開平６−２３０５６
３号公報に記載されているバックコート用素材をコーテ
ィングにより処理する方法、特開平６−２６２８７２号
公報に記載されているホスホン酸類の処理、特開平６−
２９７８７５号公報に記載されているコーティング処
理、特開平１０−１０９４８０号公報に記載されている
陽極酸化処理する方法、特願平１０−２５２０７８号明
細書（特開２０００−８１７０４号公報）及び特願平１
０−２５３４１１号明細書（特開２０００−８９４６６
号公報）に記載されている浸漬処理方法等が挙げられ、
いずれの方法を用いてもよい。

【０１７３】＜親水性表面処理＞本発明においては、上
述したようにして親水膜を設けて得られた本発明の平版
印刷版用基板を、更に１種以上の親水性化合物を含有す
る水溶液へ浸漬することにより、親水性表面処理を行う
ことが好ましい。

【０１７４】米国特許第２，７１４，０６６号明細書及
び同第３，１８１，４６１号明細書に記載されているア
ルカリ金属シリケート（アルカリ金属ケイ酸塩）で処理
する方法、特公昭３６−２２０６３号公報に記載されて
いるフッ化ジルコニウム酸カリウムで処理する方法、米
国特許第４，１５３，４６１号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸で処理する方法、特開平９−２４
４２２７号公報に記載されているリン酸塩と無機フッ素
化合物とを含有する水溶液で処理する方法、特開平１０
−２５２０７８号公報及び特開平１０−２６３４１１号
公報に記載されているチタンとフッ素とを含有する水溶
液で処理する方法が挙げられる。中でも、アルカリ金属
ケイ酸塩で処理する方法、ポリビニルホスホン酸で処理
する方法が好ましい。

【０１７５】アルカリ金属ケイ酸塩で処理する方法に用
いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げ
られる。

【０１７６】アルカリ金属ケイ酸塩で処理する方法は、
例えば、アルカリ金属ケイ酸塩濃度が０．０１〜３０
％、好ましくは０．０１〜１０％、より好ましくは０．
０５〜３％で、２５℃でのｐＨが１０〜１３であるアル
カリ金属ケイ酸塩水溶液に、上記粒子層が設けられたア
ルミニウム基板を４〜８０℃で、好ましくは０．５〜１
２０秒間、より好ましくは２〜３０秒間浸漬する方法が
挙げられる。上記のアルカリ金属ケイ酸塩濃度、ｐＨ、
温度、処理時間等の処理条件は、適宜選択することがで
きる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨが１０より低
いと、液はゲル化しやすく、また、ｐＨが１３より高い
と粒子層及び陽極酸化皮膜が溶解されるおそれがあるの
で、この点に注意を要する。

【０１７７】上記親水化処理においては、必要に応じ、
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨを高く調整するため
に、水酸化物を配合することができる。水酸化物として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムが挙げられる。

【０１７８】また、必要に応じ、アルカリ金属ケイ酸塩
水溶液にアルカリ土類金属塩及び／又は４族（第ＩＶＡ
族）金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩とし
ては、例えば、アルカリ土類金属の硝酸塩（例えば、硝
酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウ
ム、硝酸バリウム）、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸
塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩等の水溶性の塩が挙げられ
る。４族（第ＩＶＡ族）金属塩としては、例えば、四塩
化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュ
ウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩
化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化
ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。アル
カリ土類金属塩及び４族（第ＩＶＡ族）金属塩は、単独
で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよ
い。これらの金属塩の使用量は、好ましくは０．０１〜
１０％であり、より好ましくは０．０５〜５．０％であ
る。

【０１７９】ポリビニルホスホン酸で処理する方法に用
いられる水溶液は、例えば、ポリビニルホスホン酸濃度
が０．０１〜１０％、好ましくは０．１〜５％、より好
ましくは０．２〜２．５％、温度が１０℃〜７０℃、好
ましくは３０℃〜６０℃である。親水化処理は、上記粒
子層が設けられたアルミニウム基板を上記水溶液に、例
えば、０．５秒〜１０分、好ましくは１秒〜３０秒浸漬
することにより行うことができる。

【０１８０】フッ化ジルコニウムカリウム水溶液処理
は、好ましくは濃度が０．１〜１０％、より好ましくは
０．５〜２％のフッ化ジルコニウムカリウムの水溶液
に、基板を、好ましくは３０〜８０℃で、好ましくは６
０〜１８０秒間浸漬することにより行う。

【０１８１】リン酸塩／無機フッ素化合物処理は、好ま
しくはリン酸塩化合物濃度が５〜２０％、無機フッ素化
合物濃度が０．０１〜１％であり、好ましくはｐＨが３
〜５の水溶液に、アルミニウム基板を、好ましくは２０
〜１００℃、より好ましくは４０〜８０℃で、好ましく
は２〜３００秒間、より好ましくは５〜３０秒間浸漬す
ることにより行う。

【０１８２】本発明に用いられるリン酸塩としては、例
えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン
酸塩が挙げられる。具体的には、例えば、リン酸亜鉛、
リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素
二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一
アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウ
ム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リ
ン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、
リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸
第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リ
ン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸
リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸ア
ンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリ
ブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム；
亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロ
リン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素
ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カ
リウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。

【０１８３】また、本発明に用いられる無機フッ素化合
物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。具体的
には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フ
ッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、ヘキサフルオロ
ジルコニウムナトリウム、ヘキサフルオロジルコニウム
カリウム、ヘキサフルオロチタン酸ナトリウム、ヘキサ
フルオロチタン酸カリウム、ヘキサフルオロジルコニウ
ム水素酸、ヘキサフルオロチタン水素酸、ヘキサフルオ
ロジルコニウムアンモニウム、ヘキサフルオロチタン酸
アンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケ
ル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウ
ムが挙げられる。

【０１８４】リン酸塩／無機フッ素化合物処理に用いら
れる水溶液は、リン酸塩及び無機フッ素化合物をそれぞ
れ１種又は２種以上含有することができる。

【０１８５】本発明では、上述のような水溶液の他に、
スルホン酸基を有する化合物、糖類化合物が好適なもの
として挙げられる。

【０１８６】スルホン酸基を有する化合物には、芳香族
スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それらの誘
導体、及びそれらの塩が含まれる。

【０１８７】芳香族スルホン酸としては、例えば、フェ
ノールスルホン酸、カテコールスルホン酸、レゾルシノ
ールスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、リグニンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ア
セナフテン−５−スルホン酸、フェナントレン−２−ス
ルホン酸、ベンズアルデヒド−２（又は３）−スルホン
酸、ベンズアルデヒド−２，４（又は３，５）−ジスル
ホン酸、オキシベンジルスルホン酸類、スルホ安息香
酸、スルファニル酸、ナフチオン酸、タウリンが挙げら
れる。中でも、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、リグニンスルホン酸が好ましい。また、ベンゼン
スルホン酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン
酸のホルムアルデヒド縮合物も好ましい。更に、これら
は、スルホン酸塩として使用してもよい。例えば、ナト
リウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マ
グネシウム塩が挙げられる。中でも、ナトリウム塩、カ
リウム塩が好ましい。

【０１８８】スルホン酸基を有する化合物を含有する水
溶液のｐＨは、４〜６．５であるのが好ましく、硫酸、
水酸化ナトリウム、アンモニア等を用いて上記ｐＨ範囲
に調整することができる。

【０１８９】糖類化合物には、単糖類及びその糖アルコ
ール、オリゴ糖類、多糖類、ならびに、配糖体が含まれ
る。

【０１９０】単糖類及びその糖アルコールとしては、例
えば、グリセロール等のトリオース類及びその糖アルコ
ール類；トレオース、エリトリトール等のテトロース及
びその糖アルコール類；アラビノース、アラビトール等
のペントース及びその糖アルコール類；グルコース、ソ
ルビトール等のヘキソース及びその糖アルコール類；Ｄ
−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトース、Ｄ−グリセロ−
Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプトース及びその糖ア
ルコール類；Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクトオクチトール
等のオクトース及びその糖アルコール類；Ｄ−エリトロ
−Ｌ−グルコ−ノヌロース等のノノース及びその糖アル
コール類が挙げられる。

【０１９１】オリゴ糖類としては、例えば、サッカロー
ス、トレハロース、ラクトース等の二糖類；ラフィノー
ス等の三糖類が挙げられる。

【０１９２】多糖類としては、例えば、アミロース、ア
ラビナン、シクロデキストリン、アルギン酸セルロース
が挙げられる。

【０１９３】本発明において、「配糖体」とは、糖部分
と非糖部分がエーテル結合等を介して結合している化合
物をいう。配糖体は非糖部分により分類することができ
る。例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、クマ
リン配糖体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド配糖
体、アントラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、ステ
ロイド配糖体、からし油配糖体が挙げられる。

【０１９４】糖部分としては、上述した単糖類及びその
糖アルコール；オリゴ糖類；多糖類が挙げられる。中で
も、単糖類、オリゴ糖類が好ましく、単糖類、二糖類が
より好ましい。

【０１９５】好ましい配糖体の例として、下記式（Ｉ）
で表される化合物が挙げられる。

【０１９６】

【化５】

【０１９７】上記式（Ｉ）中、Ｒは、炭素原子数１〜２
０の直鎖の又は分枝を有する、アルキル基、アルケニル
基又はアルキニル基を表す。

【０１９８】炭素原子数１〜２０のアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基が挙げられ、これらは直鎖であっ
ても、分枝を有していてもよく、また、環状アルキル基
であってもよい。

【０１９９】炭素原子数１〜２０のアルケニル基として
は、例えば、アリル基、２−ブテニル基が挙げられ、こ
れらは直鎖であっても、分枝を有していてもよく、ま
た、環状アルケニル基であってもよい。

【０２００】炭素原子数１〜２０のアルキニル基として
は、例えば、１−ペンチニル基が挙げられ、これらは直
鎖であっても、分枝を有していてもよく、また、環状ア
ルキニル基であってもよい。

【０２０１】上記式（Ｉ）で表される具体的な化合物と
しては、例えば、メチルグルコシド、エチルグルコシ
ド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブ
チルグルコシド、イソブチルグルコシド、ｎ−ヘキシル
グルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシ
ド、デシルグルコシド、２−エチルヘキシルグルコシ
ド、２−ペンチルノニルグルコシド、２−ヘキシルデシ
ルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコ
シド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシ
ド、２−ブチニルグルコシドが挙げられる。これらの化
合物は、配糖体の一種であるグルコシドで、ブドウ糖の
ヘミアセタールヒドロキシル基が他の化合物をエーテル
状に結合したものであり、例えば、グルコースとアルコ
ール類とを反応させる公知の方法により得ることができ
る。これらのアルキルグルコシドの一部は、ドイツＨｅ
ｎｋｅｌ社により商品名グルコポン（ＧＬＵＣＯＰＯ
Ｎ）として市販されており、本発明ではそれを用いるこ
とができる。

【０２０２】好ましい配糖体の別の例としては、サポニ
ン類、ルチントリハイドレート、ヘスペリジンメチルカ
ルコン、ヘスペリジン、ナリジンハイドレート、フェノ
ール−β−Ｄ−グルコピラノシド、サリシン、３´，
５，７−メトキシ−７−ルチノシドが挙げられる。

【０２０３】糖類化合物を含有する水溶液のｐＨは、８
〜１１であるのが好ましく、水酸化カリウム、硫酸、炭
酸、炭酸ナトリウム、リン酸、リン酸ナトリウム等を用
いて上記ｐＨ範囲に調整することができる。

【０２０４】スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、
濃度が０．０２〜０．２％であるのが好ましい。浸漬温
度は６０〜１００℃であるのが好ましい。浸漬時間は１
〜３００秒であるのが好ましく、１０〜１００秒である
のがより好ましい。

【０２０５】更に、糖類化合物の水溶液は、濃度が０．
５〜１０％であるのが好ましい。浸漬温度は４０〜７０
℃であるのが好ましい。浸漬時間は２〜３００秒である
のが好ましく、５〜３０秒であるのがより好ましい。

【０２０６】基板は、これらの親水性化合物を含有する
水溶液へ浸漬した後には、水等によって洗浄され、乾燥
される。

【０２０７】上述した親水性表面処理により、陽極酸化
処理後のポアワイド処理により向上した感度（ネガタイ
プの感光層の場合は耐刷性の向上）と引き替えに発生す
るインキ払い性劣化等の印刷汚れの問題が解消される。
即ち、ポア径が拡大したことにより、印刷時、特に印刷
機が停止し、平版印刷版が印刷機上で放置された後の印
刷再スタート時に、インキが取れにくくなる現象（イン
キ払い性劣化）が起こりやすくなる問題があるが、親水
性表面処理が施されていると、上記問題が軽減される。

【０２０８】＜下塗層＞本発明においては、このように
して得られた本発明の平版印刷版用基板上に、赤外線レ
ーザー露光により書き込み可能な画像形成層を設ける前
に、必要に応じて、例えば、ホウ酸亜鉛等の水溶性金属
塩や特開昭６２−１９４９４号公報に記載されているリ
ン酸塩のような無機下塗層や、下記の有機下塗層を設け
てもよい。

【０２０９】有機下塗り層としては、例えば、特開昭６
０−１４９４９１号公報に記載されている、少なくとも
１個のアミノ基と、カルボキシル基及びその塩の基なら
びにスルホ基及びその塩の基からなる群から選ばれた少
なくとも１個の基とを有する化合物からなる層、特開昭
６０−２３２９９８号公報に記載されている、少なくと
も１個のアミノ基と少なくとも１個のヒドロキシ基を有
する化合物及びその塩から選ばれた化合物からなる層、
特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されているスル
ホ基を有するモノマー単位の少なくとも１種を繰り返し
単位として分子中に有する高分子化合物からなる層等が
挙げられる。

【０２１０】有機下塗層に用いられる具体的な有機化合
物としては、例えば、グリシン、ｐ−ヒドロキシフェニ
ルグリシン、ジヒドロキシエチルグリシン、β−アラニ
ン、リジン、アスパラギン酸等のアミノ酸及びこれらの
ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等の塩、ス
ルファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等の脂肪
族アミノスルホン酸及びこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等の塩、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリプロ
パノールアミン等のヒドロキシル基を有するアミン及び
これらの塩酸塩、シュウ酸塩、リン酸塩等の塩、ｐ−ス
チレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホ
ン酸、エチレンスルホン酸もしくはこれらの塩をモノマ
ー単位として含有する重合体又は共重合体、さらには、
カルボキシメチルセルロース；デキストリン；アラビア
ガム；ポリアクリル酸；２−アミノエチルホスホン酸
等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有してい
てもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、ア
ルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホ
スホン酸、エチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸；
置換基を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸、グリセロリン酸等の有機リン
酸；置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸、グリセ
ロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸等を挙げることが
できる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混合
して用いてもよい。

【０２１１】有機下塗層は、水又はメタノール、エタノ
ール、メチルエチルケトン等の有機溶媒、又はそれらの
混合溶剤に、上記有機化合物を溶解させた溶液をアルミ
ニウム板上に塗布し乾燥することにより設けられる。上
記有機化合物を溶解させた溶液の濃度は、０．００５〜
１０％であるのが好ましい。塗布の方法は、特に限定さ
れず、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カ
ーテン塗布等のいずれの方法も用いることができる。

【０２１２】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２０
０ｍｇ／ｍ²であるのが好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ²
であるのがより好ましい。上記範囲であると、耐刷性が
より良好になる。

【０２１３】＜バックコート層＞上述したようにして得
られるアルミニウム基板には、平版印刷版用原板とした
ときに、重ねても画像形成層が傷付かないように、裏面
（画像形成層が設けられない側の面）に、有機高分子化
合物からなる被覆層（以下「バックコート層」ともい
う。）を必要に応じて設けてもよい。

【０２１４】バックコート層の主成分としては、ガラス
転移点が２０℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、
フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビ
ニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくとも
１種の樹脂を用いるのが好ましい。

【０２１５】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボ
ン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル
酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロ
ルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、アゼ
ライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン
酸、マロン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等
の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。

【０２１６】バックコート層は、更に、着色のための染
料や顔料、基板との密着性を向上させるためのシランカ
ップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有
機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑り
剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂
肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化
合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を
適宜含有することができる。

【０２１７】バックコート層の厚さは、基本的には合紙
がなくても、後述する画像形成層を傷付けにくい程度で
あればよく、０．０１〜８μｍであるのが好ましい。厚
さが０．０１μｍ未満であると、平版印刷版用原板を重
ねて取り扱った場合の画像形成層の擦れ傷を防ぐことが
困難である。また、厚さが８μｍを超えると、印刷中、
平版印刷版周辺で用いられる薬品によってバックコート
層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を
劣化させることがある。

【０２１８】バックコート層をアルミニウム基板の裏面
に設ける方法としては、種々の方法を用いることができ
る。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に
溶解し溶液にして塗布し、又は、乳化分散液して塗布
し、乾燥する方法；あらかじめフィルム状に成形したも
のを接着剤や熱での基板に貼り合わせる方法；溶融押出
機で溶融被膜を形成し、基板に貼り合わせる方法が挙げ
られる。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいの
は、バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶液に
して塗布し、乾燥する方法である。この方法において
は、特開昭６２−２５１７３９号公報に記載されている
ような有機溶剤を単独で又は混合して、溶媒として用い
ることができる。

【０２１９】平版印刷版用原板の製造においては、裏面
のバックコート層と表面の画像形成層のどちらを先に基
板上に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよ
い。

【０２２０】［製版及び印刷］本発明の平版印刷版用原
板は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッ
ド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露
光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外
線ランプ露光などが用いられるが、波長７００〜１２０
０ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ
等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。

【０２２１】画像露光された本発明の平版印刷版用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷版用原板は、日本特許２９３８３
９８号に記載されているように、印刷機の版胴上に取り
つけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光
し、その後に湿し水及び／又はインクをつけて機上現像
することも可能である。また、これらの平版印刷版用原
板は、水又は適当な水溶液を現像液とする現像をした
後、印刷に用いることもできる。

【０２２２】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０２２３】アルミニウム基板の製造例厚さ０．２４ｍｍのＪＩＳ１０５０のアルミニウム板を
用い、前処理、粗面化処理、親水膜生成処理、必要に応
じて後処理をこの順に行って、実施例の平版印刷版用原
板に用いるアルミニウム基板を作製した。粗面化処理ま
では下記Ａ〜Ｉのいずれかで行い、親水膜生成処理及び
後処理は、各基板の製造例に記載した方法で行った。

【０２２４】＜粗面化処理Ａ，Ｂ及びＣ＞アルミニウム
板を５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸
漬して、溶解量が２ｇ／ｍ²になるように溶解処理を行
った。水洗後、次に行う電気化学的粗面化処理で使用す
る電解液と同組成の水溶液に１０秒間浸漬して中和処理
し、次いで水洗した。

【０２２５】次にこのアルミニウム基板材料を、電流密
度５０Ａ／ｄｍ²、正弦波交流を用い、休止時間を挟み
複数回に分けた電気化学的粗面化処理を行った。表１
に、電解液組成、１回当たりの処理電気量、電解処理回
数、休止時間を示した。該電気化学的粗面化処理後は、
５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て、溶解量が２ｇ／ｍ²になるようにアルカリ溶解処理
し、水洗した後、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中
に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで水洗した。

【０２２６】

【表１】

【０２２７】＜粗面化処理Ｄ＞アルミニウム板を５０℃
の１０％水酸化ナトリウム水溶液に２０秒間浸漬して、
脱脂及びエッチングした後、流水で水洗し、次いで２５
％硫酸水溶液で２０秒間中和処理し、水洗した。その
後、１％塩酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５％含
む）を用い、電流値が０からピークに達する間での時間
（ＴＰ）が２ｍｓｅｃの周波数６０Ｈｚ、ｄｕｔｙ比
１：１の台形の矩形波を用い、カーボン電極を対極とし
てアルミニウム陽極時平均電流密度２７Ａ／ｄｍ²（ア
ルミニウムの陽極時と陰極時の電流密度の比１：０．９
５）、アルミニウム陽極時平均電気量３５０Ｃ／ｄｍ²
となるように、２０℃で電解粗面化処理した。次いで、
水酸化ナトリウム２６％、アルミニウムイオン６．５％
水溶液を用い、液温４５℃でスマットを含む全エッチン
グ量が０．７ｇ／ｍ²となるようにスプレーによるエッ
チング処理を行った。続いて２５％硝酸水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．３％含む）で６０℃１０秒間スプレ
ー処理によるデスマット処理を行った。

【０２２８】＜粗面化処理Ｅ＞アルミニウム板表面を毛
径０．７２ｍｍ、毛長８０ｍｍのナイロンブラシと平均
粒径約１５〜３５μｍのパミストンの水懸濁液を用いて
粗面化した後、よく水で洗浄した。次に、１０％水酸化
ナトリウム水溶液に７０℃で３０秒間浸漬してエッチン
グし、流水で水洗後、さらに２０％硝酸水溶液で中和洗
浄し、水洗した。このように機械的に粗面化したアルミ
ニウム板に、さらに下記のような電気化学的粗面化を施
した。

【０２２９】塩酸濃度が７．５ｇ／ｌであり、アルミニ
ウムイオンの濃度が５ｇ／ｌになるように塩酸に塩化ア
ルミニウムを添加して調製した塩酸水溶液中で、液温３
５℃で前記の機械的粗面化をしたアルミニウム板に、図
１に示したラジアルセルを用いて、交流を印加して交流
電気分解を行った。交流としては、周波数が６０Ｈｚの
商用交流を、誘導電圧調整器及び変圧器を用いて電流・
電圧調整することにより発生させたサイン波を用いた。
アルミニウム板が陽極時の電気量の総和は５０Ｃ／ｄｍ
²であり、前記交流の１周期におけるＱｃ／Ｑａは０．
９５であった。

【０２３０】上記塩酸水溶液の塩酸及びアルミニウムイ
オンの濃度については、温度、導電率、及び超音波伝播
速度と、塩酸及びアルミニウムイオン濃度との関係を求
め、前記塩酸水溶液の温度、導電率、及び超音波伝播速
度が所定の値になるように、濃度３５％の濃塩酸と水と
を循環タンクから電解槽本体内部に添加し、余剰の塩酸
水溶液をオーバーフローさせることにより、一定に保持
した。次に、処理液として、水酸化ナトリウム及びアル
ミニウムイオンをそれぞれ５％及び０．５％含有し、液
温が４５℃のアルカリ溶液を用い、前記アルミニウム板
における粗面化面の溶解量が０．１ｇ／ｍ²であり、前
記面とは反対側の面の溶解量０．０５ｇ／ｍ²となるよ
うに、エッチング処理を施した。

【０２３１】エッチング処理を施したアルミニウム板の
両面に、硫酸及びアルミニウムイオンをそれぞれ３００
ｇ／ｌ及び５ｇ／ｌ含有する液温５０℃の硫酸水溶液を
噴霧してデスマット処理を行った。

【０２３２】＜粗面化処理Ｆ＞粗面化処理Ａの後、さら
に１％硝酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５％含
む）を用い、電流値が０からピークに達する間での時間
（ＴＰ）が２ｍｓｅｃの周波数６０Ｈｚ、ｄｕｔｙ比
１：１の台形の矩形波を用い、カーボン電極を対極とし
てアルミニウム陽極時平均電流密度２７Ａ／ｄｍ²（ア
ルミニウムの陽極時と陰極時の電流密度の比１：０．９
５）、アルミニウム陽極時平均電気量３５０Ｃ／ｄｍ²
となるように、５０℃で、図１に示したラジアルセルを
用いて電解粗面化処理した。次いで、水酸化ナトリウム
２６％、アルミニウムイオン６．５％水溶液を用い、液
温４５℃でスマットを含む全エッチング量が０．２ｇ／
ｍ²となるようにスプレーによるエッチング処理を行っ
た。続いて２５％硝酸水溶液（アルミニウムイオンを
０．３％含む）で６０℃１０秒間スプレー処理によるデ
スマット処理を行った。

【０２３３】基板１〜６の製造粗面化処理したＡ〜Ｆの基板をそれぞれ陽極酸化装置を
使って硫酸濃度１７０ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを
０．５％含む）、液温４０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ²
にて２０秒間陽極酸化処理を行い、水洗した。次に、液
温３０℃のｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に７０秒
間浸漬した後、水洗した。次に、コロイダルシリカ（日
産化学工業（株）製スノーテックスＳＴ−Ｎ、粒径約２
０ｎｍ）１％水溶液に７０℃で１４秒間浸漬してから水
洗を行った。次に、２．５％３号ケイ酸ナトリウムに７
０℃で１４秒間浸漬後、水洗し、基板１〜６を製造し
た。

【０２３４】基板７の製造粗面化処理Ｅを施したアルミニウム板を３０℃のシュウ
酸５０ｇ／ｌ溶液中で、電流密度１２Ａ／ｄｍ²で２分
間陽極酸化を行い、水洗することによって、４ｇ／ｍ²
の陽極酸化皮膜を作製した。次にｐＨ１３、液温５０℃
の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬してから、水洗
した。次に、２．５％３号珪酸ナトリウムに７０℃で１
４秒間浸漬後、水洗を行い、基板７を製造した。

【０２３５】基板８の製造粗面化処理Ｅを施したアルミニウム板を硫酸濃度１７０
ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを０．５％含む）、液温３
０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ²にて７０秒間陽極酸化処理
を行い、水洗した。次にｐＨ１３、液温３０℃の水酸化
ナトリウム水溶液に３０秒間浸漬してから、水洗した。
次に、製造例７と同様にケイ酸ナトリウム処理を行い水
洗して基板８を製造した。

【０２３６】基板９〜１３の製造粗面化処理Ｅを施した基板を用いた製造例５の陽極酸化
処理時間を、１２秒、１６秒、２４秒、４４秒、９０秒
にした以外は、製造例５と同様にして、それぞれ基板９
〜１３を製造した。

【０２３７】基板１４の製造コロイダルシリカ水溶液の浸漬処理を行わなかった以外
は基板５の製造例と同様にして基板１４を製造した。

【０２３８】基板１５の製造粗面化処理Ｅを施した基板に硫酸濃度１００ｇ／ｌ、ア
ルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温
５１℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ²で陽極酸化処理を行
い、水洗し、２ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作製した。次
に、硫酸濃度１７０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度５
ｇ／ｌの電解液を用いて、液温４０℃、電流密度３０Ａ
／ｄｍ²で陽極酸化を、合計の酸化皮膜量が４．０ｇ／
ｍ²になるように調整して行い、水洗して、陽極酸化皮
膜を作製した。次に、２．５％の３号ケイ酸ナトリウム
水溶液に、液温７０℃で１４秒間浸漬後、水洗して基板
１５を製造した。

【０２３９】基板１６の製造粗面化処理Ｅを施した基板に硫酸濃度１７０ｇ／ｌ、ア
ルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温
４３℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ²で陽極酸化処理を行
い、水洗し、２ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作製した。次
に、リン酸１２０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ
／ｌの電解液を用いて、液温４０℃、電流密度１８Ａ／
ｄｍ²で陽極酸化を行い、水洗した。次に、２．５％の
３号ケイ酸ナトリウム水溶液に、液温７０℃で１４秒間
浸漬後、水洗して基板１６を製造した。

【０２４０】上記製造例で得られたアルミニウム基板の
粗面化形状及び親水膜の物性値等を表２に示した。各物
性値の測定法は、以下の通りである。なお、密度の測定
法は前述の方法で行った。

【０２４１】＜大きなうねりの平均開口径、小ピットの
平均開口径及び小ピットの平均深さと小ピットの平均開
口径との比の測定法＞いずれの値もアルミニウム基板表
面のＳＥＭ写真を撮影して測定した。大きなうねりの平
均開口径ｄ₂（μｍ）については、１０００倍のＳＥＭ
写真を用い、輪郭が明確に判別できるうねり１個ずつの
長径と短径とを測定してその平均をうねりの開口径と
し、該ＳＥＭ写真中で測定した大きなうねりの開口径の
和を、測定した大きなうねり数５０ヶで割って求めた。
ＳＥＭは日本電子（株）製Ｔ−２０を用いた。

【０２４２】小ピットの平均開口径ｄ₁（μｍ）の測定
には、３００００倍のＳＥＭ写真を用い、大きなうねり
の開口径の場合と同様の手法で行った。この場合に用い
たＳＥＭは日立製作所製Ｓ−９００であった。

【０２４３】小ピットの平均深さｈ（μｍ）と小ピット
の平均開口径ｄ₁（μｍ）との比ｈ／ｄ₁には、断面の３
００００倍のＳＥＭ写真を用いて測定し、測定した５０
ヶ所の平均値を用いた。

【０２４４】＜親水膜の膜厚方向の熱伝導率の測定法＞
初めに、本発明のアルミニウム基板１〜１６ならびに比
較例用基板１〜５に加えて、これらと親水膜の膜厚のみ
が異なるアルミニウム基板を、それぞれ２種類ずつ作製
した。膜厚のみが異なるアルミニウム基板は、それぞれ
陽極酸化時間を０．５倍及び２倍にし、それ以外は製造
例で示したアルミニウム基板と同様の方法により作製し
た。

【０２４５】次に、膜厚のみが異なる３種類のアルミニ
ウム基板を、図２に示した装置による測定に供し、前記
数式（１）により親水膜の膜厚方向の熱伝導率を算出し
た。なお、測定は試料上の異なる５点で行い、その平均
値を用いた。

【０２４６】ここで親水膜の膜厚は、日本電子（株）製
ＳＥＭＴ−２０を用いて親水膜断面を観察し、５０ヶ
所の膜厚を実測し、その平均値を用いた。

【０２４７】＜陽極酸化皮膜マイクロポアのポア径の測
定方法＞陽極酸化皮膜マイクロポアのポア径は、表層の
ポア径と表層から深さ０．４μｍ地点のポア径について
測定した。表層ポア径の場合は陽極酸化皮膜表面を、そ
して表層から０．４μｍのポア径の場合は、陽極酸化処
理済みのアルミニウム基板を折り曲げて、折り曲げた際
に発生したひび割れ部分の側面（通常破断面）を、超高
分解能ＳＥＭ（日立Ｓ−９００）を使用して観察した。
観察は、１２Ｖという比較的低加速電圧で、導電性を付
与する蒸着処理などを施すことなしに、１５万倍の倍率
で行った。どちらのポア径も、５０個のポアを無作為抽
出し手得た測定値の平均値を使用した。標準偏差誤差
は、どちらも±１０％以下であった。

【０２４８】＜空隙率の測定法＞陽極酸化皮膜の空隙率
は次式より求めた。空隙率（％）＝｛１−（酸化皮膜密度／３．９８）｝ｘ
１００ここで、３．９８は化学便覧による酸化アルミニウムの
密度（ｇ／ｃｍ³）である。

【０２４９】

【表２】

【０２５０】微粒子の製造例＜高分子微粒子の製造＞１０００ｍｌの４つ口フラスコ
に撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却
器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水
３５０ｃｃを加えて内温が８０℃となるまで加熱した。
分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム３．０ｇを１．５
ｇ添加し、更に開始剤として過硫化アンモニウム０．４
５ｇを添加し、次いでグリシジルメタクリレート４５．
０ｇとスチレン４５．０ｇとの混合物を滴下ロートから
約１時間かけて滴下した。滴下終了後５時間そのまま反
応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。
その後冷却しアンモニア水でｐＨ６に調整し、最後に不
揮発分が１５％となるように純水を添加して高分子重合
体微粒子水分散液を得た。この高分子重合体微粒子の粒
径分布は、粒子径６０ｎｍに極大値を有していた。

【０２５１】ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電
子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で
５０００個測定し、得られた粒径測定値の最大値から０
の間を対数目盛で５０分割して各粒径の出現頻度をプロ
ットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒
子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径
とした。

【０２５２】＜マイクロカプセルの製造＞油相成分とし
てトリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアナー
トとの付加体（武田薬品工業製Ｄ−１１０Ｎ）３０ｇ、
エピコート１００１（油化シェルエポキシ（株）製）３
０ｇ、光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−２６）８ｇ、
クリスタルバイオレットラクトン０．５ｇ、アニオン系
界面活性剤パイオニンＡ４１Ｃ（竹本油脂製）０．５ｇ
を酢酸エチル９０ｇに溶解した。水相成分としてはＰＶ
Ａ２０５（クラレ製）の４％水溶液１８０ｇを調製し
た。油相成分及び水相成分をホモジナイザーを用いて１
００００ｒｐｍで乳化した。その後水を１２０ｇ添加
し、室温で３０分、さらに４０℃で３時間攪拌した。こ
のようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度
は１８％であり、平均粒径は２００nｍであった。

【０２５３】実施例１〜４及び比較例１〜４表２の基板Ｎｏ．１のアルミニウム基板上に、下記の画
像形成層塗布液１及び２を表３に示すように用いてバー
塗布した後、オーブンで７０℃、6０秒間乾燥し、乾燥
塗布量は０．６ｇ／ｍ²の画像形成層を作製した。

【０２５４】（画像形成層塗布液１）高分子微粒子（固形分として）５．０ｇ光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ―１１）１．０ｇペンタエリスリトールテトラアクリレート１．０ｇメタノール１６．０ｇ水２４．０ｇ

【０２５５】（画像形成層塗布液２）高分子微粒子（固形分として）５．０ｇ光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ―１１）１．０ｇペンタエリスリトールテトラアクリレート０．２ｇポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）０．８ｇメタノール１６．０ｇ水２４．０ｇ

【０２５６】さらにその上に下記オーバーコート層塗布
液１〜４を表３に示した組合せでバー塗布した後、オー
ブンで６０℃１２０秒の条件で乾燥し、オーバーコート
層の乾燥塗布量は０．３ｇ／ｍ²であった。

【０２５７】（オーバーコート層塗布液１）カルボキシメチルセルロース（重量平均分子量２万）５．０ｇ水５０．０ｇ

【０２５８】（オーバーコート層塗布液２）高分子微粒子（固形分として）４．０ｇポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）１．０ｇ光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ―１１）０．１ｇ水５０．０ｇ

【０２５９】（オーバーコート層塗布液３）マイクロカプセル（固形分として）４．０ｇポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）１．０ｇ光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ―１１）０．１ｇ水５０．０ｇ

【０２６０】（オーバーコート層塗布液４）マイクロカプセル（固形分として）４．０ｇポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）１．０ｇ光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ―１１）１．５ｇ水５０．０ｇ

【０２６１】このようにして得られた平版印刷版用原板
を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したクレオ
社製トレンドセッター３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、
外面ドラム回転数１０５ｒｐｍ、版面エネルギー２００
ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した
後、処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機ＳＯ
Ｒ−Ｍのシリンダーに取付け、湿し水を供給したのち、
インキを供給して印刷を行った。いづれの印刷版用原板
も機上現像性は良好であった。表３に露光後の版面観察
によるアブレーションの有無及び耐刷枚数を示した。

【０２６２】

【表３】

【０２６３】以上の結果から、親水性バインダー樹脂を
含有しない親油性画像形成層を用いた印刷版用原板の方
が親水性バインダー樹脂を含有する画像形成層を用いた
印刷版用原板より高耐刷であり、微粒子を含有したオー
バーコート層を用いると一層の高耐刷が得られることが
分かる。また、オーバーコート層がアブレーションの発
生を防止し、さらにアブレーションによる画像破壊の結
果と推定される耐刷低下も防止していることが分かる。

【０２６４】実施例５〜２０実施例１のアルミニウム基
板を表４に記載の基板に代えた以外は実施例１と同様に
して平版印刷版用原板を作製した。次いで実施例１と同
様に露光し、印刷したところ、いづれの印刷版用原板も
良好な機上現像性を示し、汚れのない良好な印刷物が得
られた。表４に機上現像枚数、耐刷枚数及び放置払い枚
数を示した。

【０２６５】ここで、機上現像枚数は、完全に機上現像
されるまでに要した印刷用紙の枚数であり、機上現像性
の難易を表す。放置払い枚数は、印刷機を停止し、印刷
版を版胴に付けたまま室温で１時間放置した後、印刷を
再開した時に、汚れのない良好な印刷物が得られるまで
に要した印刷用紙の枚数であり、印刷版の汚れ難さを表
す。

【０２６６】

【表４】

【０２６７】上記の結果から、本発明の平版印刷版用原
板が、良好な機上現像性、高い耐刷力及び良好な汚れ難
さを有することが分かった。なお、実施例５〜２０のす
べてにおいて、露光時のアブレーションの発生はなかっ
た。

【０２６８】

【発明の効果】本発明によれば、デジタル信号に基づい
た赤外線走査露光後、処理を行うことなくそのまま印刷
機に装着して印刷可能であり、良好な機上現像性を有
し、高耐刷性であり、しかもインキ払い性等、印刷での
汚れ難さも良好な感熱性の平版印刷版用原板を提供でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の平版印刷版用原板のアルミニウム基
板の製造に好適に用いられる電気化学的粗面化処理用ラ
ジアル型セルの一例を示す側面図である。

【図２】本発明の平版印刷版用原板の親水膜の膜厚方
向の熱伝導率の測定に用いることができるサーモコンパ
レータの概略図である。

【符号の説明】

１１アルミニウム板１２ラジアルドラムローラ１３ａ、１３ｂ主極１４酸性水溶液１５溶液供給口１６スリット１７溶液通路１８補助陽極１９ａ、１９ｂサイリスタ２０交流電源２１主電解槽２２補助陽極槽３０サーモコンパレータ３１チップ３２リザーバ３３電熱ヒーター３４加熱用ジャケット３５熱電対３６ヒートシンク３７皮膜３８金属基体３９接触式温度計４０チップ先端温度記録計４１ヒートシンク温度記録計４２リザーバ温度記録計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ２５Ｄ 11/18 ３０１Ｃ２５Ｄ 11/18 ３０１ＡＣ２５Ｆ 3/04 Ｃ２５Ｆ 3/04 ＡＧ０３Ｆ 7/00 ５０３Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/004 ５２１ 7/004 ５２１Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 CC11 DA03 DA18 DA31 2H084 AA13 AE05 AE06 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA01 CA03 EA04 2H114 AA04 AA10 AA11 AA14 AA22 AA24 AA27 AA30 BA01 BA10 DA04 DA43 DA46 DA47 DA49 DA52 DA74 EA01 EA02 FA06 FA07 FA10 FA16 GA08 GA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】粗面化処理され、かつ親水膜を有するア
ルミニウム基板上に、熱により合体する疎水性ポリマー
微粒子、光熱変換剤、及び水に不溶で５０℃で流動性を
有する化合物を含有し、親水性バインダー樹脂を含まな
い親油性画像形成層を有し、さらにその上に水溶性樹脂
を含有するオーバーコート層を有することを特徴とする
平版印刷版用原板。
【請求項２】オーバーコート層が、熱により合体する
疎水性ポリマー微粒子及びマイクロカプセルから選ばれ
た少なくとも一つの微粒子を含有することを特徴とする
請求項１記載の平版印刷版用原版。
【請求項３】オーバーコート層が光熱変換剤を含有
し、かつオーバーコート層の露光波長における光学濃度
が画像形成層の露光波長における光学濃度より低いこと
を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の平版印刷版
用原版。
【請求項４】基板が、塩酸を含有する水溶液中で電気
化学的粗面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ
／ｍＫである親水膜を有する基板であることを特徴とす
る請求項１から請求項３のいずれかに記載の平版印刷版
用原版。
【請求項５】基板が、塩酸を含有する水溶液中で電気
化学的粗面化処理され、密度が１０００〜３２００ｋｇ
／ｍ³、又は空隙率が２０〜７０％である親水膜を有す
る基板であることを特徴とする請求項１から請求項３の
いずれかに記載の平版印刷版用原版。
【請求項６】基板が、粗面化形状の小ピットの平均開
口径が０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開
口径に対する比が０．１〜０．５であり、熱伝導率が
０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫである親水膜を有する基板で
あることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか
に記載の平版印刷版用原版。
【請求項７】基板が、粗面化形状の小ピットの平均開
口径が０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開
口径に対する比が０．１〜０．５であり、密度が１００
０〜３２００ｋｇ／ｍ³、又は空隙率が２０〜７０％で
ある親水膜を有する基板であることを特徴とする請求項
１から請求項３のいずれかに記載の平版印刷版用原版。
【請求項８】基板の大きなうねりの平均開口径が３〜
２０μｍであることを特徴とする請求項１から請求項３
のいずれかに記載の平版印刷版用原板。
【請求項９】親水膜が陽極酸化皮膜であることを特徴
とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の平版印
刷版用原板。
【請求項１０】陽極酸化皮膜量が３．２ｇ／ｍ²以上
であることを特徴とする請求項９に記載の平版印刷版用
原板。
【請求項１１】陽極酸化皮膜の表層のポア径が４０ｎ
ｍ以下であることを特徴とする請求項９又は請求項１０
に記載の平版印刷版用原板。
【請求項１２】陽極酸化皮膜が封孔処理されているこ
とを特徴とする請求項９から請求項１１のいずれかに記
載の平版印刷版用原板。