JP2003062532A - Cleaning device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置に関し、
特に、トランスやコンデンサ等のＰＣＢ汚染機器類を洗
浄する場合に適用すると有効である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning device,
It is particularly effective when applied to cleaning PCB-contaminated equipment such as transformers and capacitors.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年では、ＰＣＢ（Polychlorinated bi
phenyl, ポリ塩化ビフェニル：ビフェニルの塩素化異性
体の総称）が強い毒性を有することから、その製造およ
び輸入が禁止されている。このＰＣＢは、１９５４年頃
から国内で製造開始されたものの、カネミ油症事件をき
っかけに生体・環境への悪影響が明らかになり、１９７
２年に行政指導により製造中止、回収の指示（保管の義
務）が出された経緯がある。2. Description of the Related Art In recent years, PCB (Polychlorinated bi
phenyl, polychlorinated biphenyl: a generic term for chlorinated isomers of biphenyl) is highly toxic and its manufacture and import are prohibited. Although this PCB was first manufactured in Japan around 1954, its adverse effects on the living body and environment became clear after the Kanemi Yusho incident.
In 2 years, there was a history of instructions to discontinue production and collection (duty of storage) by administrative guidance.
【０００３】ＰＣＢは、ビフェニル骨格に塩素が１〜１
０個置換したものであり、置換塩素の数や位置によって
理論的に２０９種類の異性体が存在し、現在、市販のＰ
ＣＢ製品において約１００種類以上の異性体が確認され
ている。また、この異性体間の物理・化学的性質や生体
内安定性および環境動体が多様であるため、ＰＣＢの化
学分析や環境汚染の様式を複雑にしているのが現状であ
る。さらに、ＰＣＢは、残留性有機汚染物質のひとつで
あって、環境中で分解されにくく、脂溶性で生物濃縮率
が高く、さらに半揮発性で大気経由の移動が可能である
という性質を持つ。また、水や生物など環境中に広く残
留することが報告されている。PCB has 1 to 1 chlorine in the biphenyl skeleton.
It has 0 substitutions, and theoretically there are 209 kinds of isomers depending on the number and position of the substituted chlorine.
About 100 or more isomers have been confirmed in CB products. In addition, the physical and chemical properties among these isomers, the in vivo stability, and the environmental dynamics are so diverse that the chemical analysis of PCB and the mode of environmental pollution are complicated at present. Further, PCB is one of the persistent organic pollutants, is not easily decomposed in the environment, is fat-soluble, has a high bioconcentration rate, and is semi-volatile, and is capable of being transferred through the atmosphere. In addition, it has been reported that it widely remains in the environment such as water and living things.
【０００４】このＰＣＢは平成４（1997）年に廃ＰＣ
Ｂ、ＰＣＢを含む廃油、ＰＣＢ汚染物が廃棄物の処理及
び清掃に関する法律に基づく特別管理廃棄物に指定さ
れ、さらに、平成９（1997）年にはＰＣＢ汚染物として
木くず、繊維くずが、追加指定された。This PCB was an abandoned PC in 1997.
B, waste oil containing PCB, and PCB pollutants are designated as specially controlled wastes based on the law on waste treatment and cleaning. In addition, wood chips and fiber scraps were added as PCB pollutants in 1997. Designated.
【０００５】ＰＣＢ処理物となる電気機器としては、高
圧トランス、高圧コンデンサ、低圧トランス・コンデン
サ、柱上トランスがあり、廃ＰＣＢ等としては、熱媒体
に用いたものは絶縁油として用いたもの、また、これら
の洗浄に用いた灯油等があり、廃感圧紙としては、ノー
カーボン紙に使用されたカプセルオイルがあり、さら
に、これらのＰＣＢの使用又は熱媒の交換、絶縁油の再
生、漏洩の浄化、ＰＣＢ含有物の処理等の際に用いられ
た活性炭や、廃白土、廃ウェス類、作業衣等のＰＣＢ汚
染物がある。現在これらは厳重に保管がなされている
が、早急なＰＣＢの処理が望まれている。There are high-voltage transformers, high-voltage capacitors, low-voltage transformers / capacitors, pole transformers as electric equipment to be treated with PCBs, and as waste PCBs, those used as a heat medium used as insulating oil, In addition, there are kerosene and the like used for cleaning these, and as the pressure-sensitive waste paper, there is capsule oil used for carbonless paper, and further, use of these PCBs or replacement of heat medium, regeneration of insulating oil, leakage. There are PCB pollutants such as activated carbon used in the purification of the above, the treatment of PCB-containing substances, waste white clay, waste waste, work clothes and the like. Currently, these are strictly stored, but urgent PCB treatment is desired.
【０００６】近年では、このようなトランス等に使用さ
れているＰＣＢを処理する技術が種々開発されており、
例えば特開平９−７９５３１号公報に記載の技術が知ら
れている。図１１に、上記提案にかかるＰＣＢの処理方
法のフローチャートを示す。In recent years, various techniques for processing PCBs used in such transformers have been developed.
For example, the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 9-79531 is known. FIG. 11 shows a flowchart of the PCB processing method according to the above proposal.
【０００７】図１１に示すように、まず、ＰＣＢが封入
されているトランスから油を抜き取り（Ｓ９０１）、さ
らに溶剤洗浄によって内部に付着しているＰＣＢを除去
し（Ｓ９０２）、回収する（Ｓ９０３）。洗浄後の溶剤
は、トランスから抜き出した油と共に分解処理され（Ｓ
９０４）、無害化される。As shown in FIG. 11, first, oil is drained from the transformer in which the PCB is enclosed (S901), and the PCB adhering to the inside is removed by solvent cleaning (S902), and then collected (S903). . The solvent after washing is decomposed with the oil extracted from the transformer (S
904), it is rendered harmless.
【０００８】つぎに、油抜きしたトランスを乾燥させて
ＰＣＢを無酸素下高温常圧加熱によって蒸発させ（Ｓ９
０５）、ＰＣＢの飛散を防止する。そして、乾燥後のト
ランスを解体し（Ｓ９０６）、ケースとトランスコアを
分離する。ケースは、電炉や転炉のスクラップ源に供さ
れる（Ｓ９０７）。一方、トランスコアは、モービルシ
ャー等によってその銅コイルを切断され、コイル線と鉄
心とに分離される（Ｓ９０８）。Next, the oil-removed transformer is dried, and the PCB is evaporated by heating at high temperature and normal pressure in the absence of oxygen (S9
05), prevent the PCB from scattering. Then, the dried transformer is disassembled (S906), and the case and the transformer core are separated. The case is provided as a scrap source for an electric furnace or a converter (S907). On the other hand, the transformer core has its copper coil cut by a mobile shear or the like to be separated into a coil wire and an iron core (S908).
【０００９】分離された鉄心は溶融炉にて溶融され、回
収される（Ｓ９０９）。また、分離した銅コイルおよび
これに付着した紙などの有機物は、誘導加熱炉にて溶融
される（Ｓ９１０）。そして、上記溶融した銅は回収さ
れ、各溶融炉で発生したＰＣＢガスは、１２００℃で高
温熱分解することにより無害化される（Ｓ９１１）。The separated iron core is melted in a melting furnace and recovered (S909). Further, the separated copper coil and the organic matter such as paper attached to the copper coil are melted in the induction heating furnace (S910). Then, the molten copper is recovered, and the PCB gas generated in each melting furnace is detoxified by high-temperature thermal decomposition at 1200 ° C. (S911).
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】前述したような従来の
ＰＣＢ処理方法では、金属製の各種部材（被処理物）を
溶融させてＰＣＢを分解処理しているため、設備が大規
模化してしまうだけでなく、多大な熱エネルギが必要と
なってしまい、イニシャルコストおよびランニングコス
トが高くなってしまっている。In the conventional PCB processing method as described above, the PCB is decomposed by melting various metallic members (objects to be processed), so that the equipment becomes large in scale. Not only that, but a large amount of heat energy is required, and the initial cost and running cost are high.
【００１１】このため、例えば、被処理物を金網製の箱
型の洗浄筐の内部に入れ、洗浄液を入れた洗浄槽の内部
に上記洗浄筐を浸漬して被処理物を洗浄することが考え
られている。しかしながら、このようにして洗浄を行う
と、ケースや容器等の比較的大きい被処理物は比較的簡
単に洗浄処理することが可能となるものの、裁断された
コイルや鉄芯等の比較的細かい被処理物は洗浄筐から取
り出しにくいだけでなく、洗浄筐の内部に入れたすべて
をムラなく洗浄するのに時間がかかってしまっていた。For this reason, for example, it is considered that the object to be processed is put in a box-shaped cleaning box made of wire mesh, and the cleaning box is immersed in a cleaning tank containing a cleaning liquid to wash the object to be processed. Has been. However, if cleaning is performed in this manner, a relatively large object such as a case or a container can be relatively easily cleaned, but a relatively small object such as a cut coil or iron core can be cleaned. Not only was it difficult to remove the processed items from the washing box, but it also took time to clean everything inside the washing box evenly.
【００１２】このようなことから、本発明は、比較的細
かい被処理物を効率よくムラなく洗浄処理することがで
きる洗浄装置を提供することを目的とする。In view of the above, an object of the present invention is to provide a cleaning apparatus capable of efficiently cleaning a relatively fine object to be processed uniformly.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ための、第一番目の発明による洗浄装置は、有害物質の
付着した細かい被処理物を洗浄液で洗浄する洗浄装置で
あって、供給口を上部に有すると共に、開閉可能な仕切
弁を備えた排出口を下部に有する洗浄槽と、前記洗浄槽
の内部に回動可能に支持されて、回動軸方向に沿って開
口部を形成された洗浄筐と、前記洗浄筐を回動させる洗
浄筐駆動手段とを備えていることを特徴とする。A cleaning device according to the first invention for solving the above-mentioned problems is a cleaning device for cleaning a fine object to which a harmful substance adheres with a cleaning liquid, and a supply port. And a cleaning tank having a discharge port at the lower portion, which has a sluice valve that can be opened and closed, and is rotatably supported inside the cleaning tank, and an opening is formed along the rotation axis direction. It is characterized in that it is provided with a cleaning case and a cleaning case drive means for rotating the cleaning case.
【００１４】第二番目の発明による洗浄装置は、第一番
目の発明において、前記洗浄筐が、前記洗浄槽の内部に
回動可能に支持されて、回動軸方向に沿って開口部を形
成された外筒筐と、前記外筒筐の内部に同軸をなして回
動可能に支持されて、回動軸方向に沿って開口部を形成
された内筒筐とを備えてなり、前記洗浄筐駆動手段が、
前記外筒筐および前記内筒筐をそれぞれ独立して回転さ
せることができると共に、同期して回転させることがで
きることを特徴とする。A cleaning apparatus according to a second aspect of the invention is the cleaning apparatus according to the first aspect, wherein the cleaning casing is rotatably supported inside the cleaning tank, and an opening is formed along a rotation axis direction. And an inner cylinder casing that is rotatably supported coaxially inside the outer cylinder casing and has an opening formed along the rotation axis direction. The case drive means
The outer casing and the inner casing can be rotated independently of each other and can be rotated in synchronization with each other.
【００１５】第三番目の発明による洗浄装置は、第一番
目または第二番目の発明において、前記洗浄筐の内面に
掻き上げフィンを立設したことを特徴とする。A cleaning device according to a third aspect of the invention is characterized in that, in the first or second aspect of the invention, a scraping fin is provided upright on the inner surface of the cleaning casing.
【００１６】第四番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第三番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄筐
の外面に攪拌翼を立設したことを特徴とする。A cleaning device according to a fourth invention is characterized in that, in any one of the first to third inventions, a stirring blade is provided upright on an outer surface of the cleaning casing.
【００１７】第五番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第四番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄筐
の内部に超音波発振手段を設けたことを特徴とする。A cleaning apparatus according to a fifth aspect of the invention is characterized in that, in any of the first to fourth aspects of the invention, an ultrasonic wave oscillating means is provided inside the cleaning casing.
【００１８】第六番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第五番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄筐
の内部の前記超音波発振手段と前記開口部との間に保護
板を設けたことを特徴とする。A cleaning apparatus according to a sixth invention is the cleaning apparatus according to any one of the first to fifth inventions, wherein a protective plate is provided between the ultrasonic wave oscillating means and the opening inside the cleaning casing. It is characterized by that.
【００１９】第七番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第六番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄槽
の内部の前記洗浄筐と前記排出口との間に前記被処理物
の落下衝撃緩衝手段を設けたことを特徴とする。A cleaning device according to a seventh aspect is the cleaning device according to any one of the first to sixth aspects, wherein the object to be processed falls between the cleaning casing and the discharge port inside the cleaning tank. It is characterized in that a shock absorbing means is provided.
【００２０】第八番目の発明による洗浄装置は、前記洗
浄槽の前記排出口と他の前記洗浄槽の前記供給口とを連
結するように第一番目から第七番目の発明のいずれかの
洗浄装置を上下方向に直列に複数配設したことを特徴と
する。The cleaning apparatus according to the eighth invention is the cleaning apparatus according to any one of the first to seventh inventions, so as to connect the discharge port of the cleaning tank and the supply port of the other cleaning tank. A plurality of devices are arranged in series in the vertical direction.
【００２１】第九番目の発明による洗浄装置は、第一番
目または第八番目の発明において、前記洗浄液を排出す
る排出管を前記洗浄槽の前記仕切弁の弁体に連結し、前
記洗浄液を供給する供給管を前記洗浄槽の上部寄りに連
結していることを特徴とする。A cleaning apparatus according to a ninth invention is the cleaning apparatus according to the first or eighth invention, wherein a discharge pipe for discharging the cleaning liquid is connected to a valve body of the gate valve of the cleaning tank to supply the cleaning liquid. Is connected to the upper part of the cleaning tank.
【００２２】第十番目の発明による洗浄装置は、第八番
目の発明において、下部に位置する前記洗浄槽内で使用
された洗浄液をその上部に位置する前記洗浄槽内に供給
して再利用すると共に、最上部に位置する前記洗浄槽で
使用された洗浄液を精製処理して任意の位置の前記洗浄
槽内に供給する洗浄液処理システムを設けたことを特徴
とする。In the cleaning apparatus according to the tenth invention, in the eighth invention, the cleaning liquid used in the cleaning tank located in the lower part is supplied to the cleaning tank located in the upper part for reuse. At the same time, a cleaning liquid processing system for refining the cleaning liquid used in the uppermost cleaning tank and supplying it to the cleaning tank at an arbitrary position is provided.
【００２３】第十一番目の発明による洗浄装置は、第一
番目から第十番目の発明のいずれかにおいて、前記有害
物質が、ＰＣＢ、廃棄塗料、廃棄燃料、有害薬品のうち
の少なくとも一種であることを特徴とする。In the cleaning apparatus according to the tenth invention, in any one of the first to tenth inventions, the harmful substance is at least one of PCB, waste paint, waste fuel and harmful chemicals. It is characterized by
【００２４】第十二番目の発明による洗浄装置は、第一
番目から第十一番目の発明のいずれかにおいて、前記被
処理物が、ＰＣＢを含有したトランスまたはコンデンサ
の無機物製の破砕された部材であることを特徴とする。A twelfth aspect of the cleaning apparatus according to any one of the first to tenth aspects of the invention is that the object to be treated is a crushed member made of an inorganic material of a transformer or capacitor containing PCB. Is characterized in that.
【００２５】[0025]
【発明の実施の形態】本発明による洗浄装置の実施の形
態を図面を用いて説明するが、本発明はこれらの実施の
形態に限定されるものではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these embodiments.
【００２６】［第一番目の実施の形態］本発明による洗
浄装置の第一番目の実施の形態を図１〜７を用いて説明
する。図１は、洗浄装置の概略構成図、図２は、図１の
洗浄装置の洗浄筐の支持部分の概略構造図、図３は、図
１の洗浄装置の作用説明図、図４は、図３に続く作用説
明図、図５は、トランスの概略構成図、図６は、コンデ
ンサの概略構成図、図７は、有害物質処理システムの全
体構成図である。[First Embodiment] The first embodiment of the cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 is a schematic configuration diagram of the cleaning device, FIG. 2 is a schematic structural diagram of a supporting portion of a cleaning casing of the cleaning device of FIG. 1, FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the cleaning device of FIG. 1, and FIG. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the transformer, FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the capacitor, and FIG. 7 is an overall configuration diagram of the harmful substance treatment system.
【００２７】［被処理物］本発明による洗浄装置で洗浄
処理可能な被処理物としては、例えば、絶縁油としてＰ
ＣＢを適用しているトランスやコンデンサ等が挙げられ
る。このようなトランスおよびコンデンサの概略構成を
図５，６を用いて説明する。[Processing object] As the processing object which can be cleaned by the cleaning apparatus according to the present invention, for example, P as insulating oil is used.
Examples include transformers and capacitors to which CB is applied. A schematic configuration of such a transformer and a capacitor will be described with reference to FIGS.
【００２８】図５に示すように、トランス１０は、鉄心
１１に対して銅製のコイル１２を巻いたコア１３を鉄製
の容器１４内に収納した構成であり、ＰＣＢ油１を絶縁
油として内部に封入したものである。また、コイル１２
は、銅線に絶縁紙を巻き付けた構成であり、鉄枠１７上
部には碍子１８が設けられている。また、容器１４の開
口部は蓋１９により密封されている。一般的なトランス
の容量範囲は、５〜１００ｋＶＡであり、本発明ではす
べての範囲において処理ができる。As shown in FIG. 5, the transformer 10 has a structure in which a core 13 in which a copper coil 12 is wound around an iron core 11 is housed in an iron container 14, and PCB oil 1 is used as insulating oil inside. It is enclosed. Also, the coil 12
Is a structure in which an insulating paper is wrapped around a copper wire, and an insulator 18 is provided on the upper portion of the iron frame 17. The opening of the container 14 is sealed by the lid 19. A typical transformer has a capacity range of 5 to 100 kVA, and the present invention can process in all ranges.
【００２９】また、図６に示すように、コンデンサ２０
は、複数の素子２１がプレスボード２２を介して固定バ
ンド２３で束ねてなるものを絶縁紙２４で覆った状態で
容器２５内に充填され、ＰＣＢ油１が封入口２５ａから
内部に封入され封止されてなるものである。なお、図６
中、２７は接地端子、２８は高圧端子、２９は碍子であ
る。上記素子２１は、アルミ箔、絶縁紙、樹脂フィルム
及びスペーサ等から構成されている。一般的なコンデン
サの容量範囲は、数〜５００ｋｖａｒであり、本発明で
はすべての範囲において処理ができる。Also, as shown in FIG.
Is filled in a container 25 in a state in which a plurality of elements 21 are bundled by a fixing band 23 via a press board 22 covered with insulating paper 24, and PCB oil 1 is sealed inside from a sealing port 25a. It has been stopped. Note that FIG.
Inside, 27 is a ground terminal, 28 is a high voltage terminal, and 29 is an insulator. The element 21 is composed of aluminum foil, insulating paper, resin film, spacers, and the like. A typical capacitor has a capacity range of several to 500 kvar, and the present invention can process in all ranges.
【００３０】［洗浄装置］次に、洗浄装置の概略構造を
図１，２を用いて説明する。図１，２に示すように、上
部に供給口１０１ａを有すると共に下部に排出口１０１
ｂを有する洗浄槽１０１の内部には、Ｕ字型の半円筒状
をなして開口部１０２ａを有する金網製の洗浄筐１０２
が回動可能に支持されている。この洗浄筐１０２の軸部
１０２ｂは、図示しない洗浄筐駆動手段に連結されてい
る。洗浄筐１０２の内部の回動中心には、超音波発振手
段の一例である棒型の超音波発振器１０３が当該洗浄筐
１０２の回動中心全長にわたって取り付けられている。
洗浄筐１０２の内部の超音波発振器１０３と上記開口部
１０２ａとの間には、保護板１０４が当該超音波発振器
１０３の全長にわたって取り付けられている。[Cleaning Device] Next, the schematic structure of the cleaning device will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 1 and 2, a supply port 101a is provided at the upper portion and a discharge port 101 is provided at the lower portion.
In the inside of the cleaning tank 101 having b, a U-shaped semi-cylindrical cleaning case 102 made of wire mesh and having an opening 102a is formed.
Is rotatably supported. The shaft portion 102b of the cleaning case 102 is connected to a cleaning case drive means (not shown). A rod-shaped ultrasonic oscillator 103, which is an example of ultrasonic oscillating means, is attached to the rotation center inside the cleaning casing 102 over the entire length of the rotation center of the cleaning casing 102.
A protective plate 104 is attached over the entire length of the ultrasonic oscillator 103 between the ultrasonic oscillator 103 inside the cleaning casing 102 and the opening 102a.
【００３１】洗浄筐１０２の前記回動中心を境にした前
記開口部１０２ａと対向する側の当該洗浄筐１０２の内
面には、当該洗浄筐１０２の回動中心に沿って長手方向
を向けた掻き混ぜフィン１０５が当該洗浄筐１０２の回
動方向にわたって所定の間隔で複数立設されている。ま
た、当該洗浄筐１０２の前記回動中心を境にした前記開
口部１０２ａと対向する側の当該洗浄筐１０２の外面に
は、当該洗浄筐１０２の回動中心に沿って長手方向を向
けた攪拌翼１０６が当該洗浄筐１０２の回動方向にわた
って所定の間隔で複数立設されている。The inner surface of the cleaning casing 102 on the side facing the opening 102a with the rotation center of the cleaning casing 102 as a boundary is scratched in the longitudinal direction along the rotation center of the cleaning casing 102. A plurality of mixing fins 105 are erected at predetermined intervals in the rotation direction of the cleaning casing 102. Further, on the outer surface of the cleaning casing 102 on the side facing the opening 102a with the rotation center of the cleaning casing 102 as a boundary, agitation in which the longitudinal direction is oriented along the rotation center of the cleaning casing 102. A plurality of blades 106 are provided upright at predetermined intervals in the rotation direction of the cleaning casing 102.
【００３２】前記洗浄槽１０１の前記供給口１０１ａに
は、図示しない洗浄液供給手段が連絡している。洗浄槽
１０１の排出口１０１ｂには、開閉可能な仕切弁１０７
を介して排出ダクト１１０が連結されている。この仕切
弁１０７には、その上面に窪１０７ａが形成されると共
に、当該窪１０７ａの内部と洗浄槽１０１の外側とを連
通する連通孔１０７ｂが形成されており、当該連通孔１
０７ｂに排出管１０９が連結している。洗浄槽１０１の
内部の洗浄筐１０２と前記排出口１０１ｂとの間には、
落下衝撃緩衝手段の一例である回転可能な羽根車１０８
が当該洗浄筐１０２の回動中心全長にわたって複数設け
られてる。なお、図１中、１１１はバルブである。A cleaning liquid supply means (not shown) is connected to the supply port 101a of the cleaning tank 101. A gate valve 107 that can be opened and closed is provided at the outlet 101 b of the cleaning tank 101.
The exhaust duct 110 is connected via. A recess 107a is formed on the upper surface of the gate valve 107, and a communication hole 107b that connects the inside of the recess 107a and the outside of the cleaning tank 101 is formed.
The discharge pipe 109 is connected to 07b. Between the cleaning casing 102 inside the cleaning tank 101 and the discharge port 101b,
A rotatable impeller 108, which is an example of a drop impact buffering means.
Are provided over the entire length of the rotation center of the cleaning casing 102. In FIG. 1, 111 is a valve.
【００３３】［洗浄方法］このような洗浄装置１００を
使用して、例えば、前記トランス１０の破砕された鉄心
１１やコイル１２や碍子１８等のような無機物の比較的
細かい被処理物１を洗浄する場合を図１〜４を用いて説
明する。[Washing Method] Using the washing apparatus 100 as described above, for example, the relatively fine object 1 to be treated such as the crushed iron core 11 of the transformer 10, the coil 12 and the insulator 18 is washed. The case will be described with reference to FIGS.
【００３４】被処理物１を洗浄槽１０１の供給口１０１
ａから洗浄筐１０２の開口部１０２ａを介して当該洗浄
筐１０２の内部に投入すると共に、前記洗浄液供給手段
から洗浄槽１０１の内部に洗浄液２を供給し、前記洗浄
筐駆動手段を作動して洗浄筐１０２を揺動させると共
に、超音波発振器１０３から超音波を発振すると、洗浄
筐１０２の揺動に伴って、掻き混ぜフィン１０５が被処
理物１を掻き混ぜると共に、攪拌翼１０６が洗浄液２を
攪拌するので、被処理物１は、洗浄液２とムラなく接触
しながら超音波をムラなく照射される（図３参照）。こ
のため、被処理物１は、隅々までまんべんなく洗浄液２
で洗浄される。The object to be treated 1 is supplied to the cleaning tank 101 through the supply port 101.
a into the cleaning casing 102 through the opening 102a of the cleaning casing 102, and the cleaning liquid 2 is supplied from the cleaning liquid supply means to the inside of the cleaning tank 101 to operate the cleaning casing drive means to perform cleaning. When the casing 102 is swung and an ultrasonic wave is oscillated from the ultrasonic oscillator 103, the stirring fins 105 stir the object 1 to be processed and the stirring blade 106 swirls the cleaning liquid 2 as the cleaning casing 102 swings. Since the stirring is performed, the object to be processed 1 is uniformly irradiated with ultrasonic waves while uniformly contacting the cleaning liquid 2 (see FIG. 3). For this reason, the object to be treated 1 is evenly distributed in the cleaning liquid 2 in every corner.
To be washed.
【００３５】このようにして被処理物１を所定時間洗浄
したら、前記洗浄筐駆動手段および超音波発振器１０３
の作動を停止し、バルブ１１１を開放して洗浄槽１０１
内の洗浄液２を排出した後、バルブ１１１を閉鎖して前
記洗浄液供給手段から洗浄槽１０１内に新たな洗浄液２
を供給し、前記洗浄筐駆動手段および超音波発振器１０
３を再び作動させることにより、被処理物１の洗浄を再
度行う。以上の工程を複数回繰り返すことにより（通常
３回程度）、被処理物１に付着している有害物質（ＰＣ
Ｂ）濃度を規定値（０．５μｇ／ｍ2 ）以下にまで洗浄
する。After the object to be processed 1 has been cleaned for a predetermined time in this way, the cleaning casing drive means and the ultrasonic oscillator 103.
Operation is stopped, the valve 111 is opened, and the cleaning tank 101 is opened.
After draining the cleaning liquid 2 inside, the valve 111 is closed and a new cleaning liquid 2 is supplied from the cleaning liquid supply means into the cleaning tank 101.
For supplying the cleaning casing and the ultrasonic oscillator 10
The object to be treated 1 is washed again by operating 3 again. By repeating the above process a plurality of times (usually about 3 times), the harmful substances (PC
B) The concentration is washed to a specified value (0.5 μg / m 2 ) or less.
【００３６】このような洗浄を終えて、前記洗浄筐駆動
手段および超音波発振器１０３の作動を停止して、バル
ブ１１１を開放して洗浄槽１０１内の洗浄液２を排出し
たら、仕切弁１０７を開放すると共に、前記洗浄筐駆動
手段を作動して洗浄筐１０２の開口部１０２ａを下方へ
向けるように当該洗浄筐１０２を回動させると、洗浄筐
１０２の内部の被処理物１が自重により開口部１０２ａ
から落下し、羽根車１０８に衝突して落下衝撃を緩衝さ
れながら洗浄槽１０１の排出口１０１ｂから排出ダクト
１１０を介して外部に排出され、図示しない回収容器等
に回収される。このため、洗浄された被処理物１を洗浄
筐１０２内から取り出して回収することが容易にでき
る。After such cleaning is completed, the operation of the cleaning casing drive means and the ultrasonic oscillator 103 is stopped, the valve 111 is opened and the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 101 is discharged, and then the sluice valve 107 is opened. At the same time, the cleaning casing driving means is operated to rotate the cleaning casing 102 so that the opening 102a of the cleaning casing 102 faces downward, and the object 1 to be processed inside the cleaning casing 102 is opened by its own weight. 102a
From the discharge port 101b of the cleaning tank 101 to the outside via the discharge duct 110 while being shocked by the impeller 108 and absorbing the shock of the drop, it is collected in a collection container or the like (not shown). Therefore, it is possible to easily take out and collect the cleaned object 1 from the cleaning casing 102.
【００３７】したがって、本実施の形態による洗浄装置
１００によれば、比較的細かい被処理物１であっても、
効率よくムラなく洗浄処理することができる。Therefore, according to the cleaning apparatus 100 of the present embodiment, even if the object 1 to be processed is relatively fine,
The cleaning process can be performed efficiently and evenly.
【００３８】［有害物質処理システム］このようにして
被処理物１の洗浄を行う洗浄装置１００は、以下のよう
な有害物質処理システムに組み込まれることにより、よ
り効果的に利用することができる。[Toxic Substance Processing System] The cleaning apparatus 100 for cleaning the object 1 to be processed in this manner can be used more effectively by being incorporated in the following harmful substance processing system.
【００３９】有害物質処理システムは、図７に示すよう
に、有害物質が付着又は含有又は保存されている被処理
物を無害化する有害物質処理システムであって、被処理
物（例えばトランス、コンデンサ等）1001である有害物
質( 例えばＰＣＢ等)1002 を保存する容器1003から当該
有害物質1002を分離する第１の分離手段1004と、被処理
物1001を構成する構成材1001ａ，ｂ，…を解体する解体
手段1005とのいずれか一方又は両方を有する前処理手段
1006と、前処理手段1006において処理された被処理物を
構成する構成材（コア、コンデンサ素子部等）1001ａ，
ｂ，…から紙・木・樹脂等の有機物1007と金属等の無機
物1008とに分離する第２の分離手段1009と、上記前処理
手段1006で分離された金属製の容器1003又は上記分離手
段1009で分離した金属等の無機物1008を洗浄液1010で洗
浄する洗浄手段1011と、洗浄後の洗浄廃液1012及び前処
理手段で分離した有害物質1001のいずれか一方又は両方
を分解処理する有害物質分解処理手段1013とを、具備し
てなるものである。As shown in FIG. 7, the harmful substance processing system is a harmful substance processing system for detoxifying an object to be processed to which harmful materials are attached, contained or stored, and is an object to be processed (for example, a transformer or a capacitor). Etc.) 1001 is a first separating means 1004 for separating the harmful substance 1002 from a container 1003 for storing the harmful substance (eg PCB) 1002 and the constituent materials 1001a, b, ... Pretreatment means having one or both of the disassembling means 1005
1006 and constituent materials (core, capacitor element portion, etc.) 1001a constituting the object processed by the pretreatment means 1006,
Second separation means 1009 for separating organic matter 1007 such as paper, wood, resin and the like and inorganic matter 1008 such as metal from b, ..., Metal container 1003 separated by the pretreatment means 1006 or the separation means 1009 The cleaning means 1011 for cleaning the inorganic substance 1008 such as the metal separated by the cleaning solution 1010, the cleaning waste liquid 1012 after cleaning, and the harmful substance 1001 separated by the pretreatment means. 1013 and are provided.
【００４０】このような有害物質処理システムにおいて
は、前記洗浄装置１００は上記洗浄手段1011の一部とし
て使用される。In such a harmful substance treatment system, the cleaning device 100 is used as a part of the cleaning means 1011.
【００４１】このような有害物質処理システムによれ
ば、トランス１０中のＰＣＢ濃度を、現在のＰＣＢの排
出基準値（３ｐｐｂ）以下の0.５ｐｐｂ以下にまで低減
することができ、ＰＣＢを含むトランス１０を安全かつ
確実に処理することができる。したがって、ＰＣＢ含有
物品の完全処理が可能となり、ＰＣＢの完全消滅が可能
となる。According to such a harmful substance treatment system, the PCB concentration in the transformer 10 can be reduced to 0.5 ppb or less, which is lower than the current PCB emission standard value (3 ppb), and the transformer containing PCB can be reduced. 10 can be processed safely and reliably. Therefore, the PCB-containing article can be completely processed, and the PCB can be completely extinguished.
【００４２】また、ＰＣＢ以外の有機化合物も処理する
ことができるので、ＰＣＢ中に含まれるダイオキシン
類、ＰＣＢに汚染された紙、木、布などの有機物、およ
びケースの洗浄に使用する洗浄剤も同様に分解処理する
ことができる。Since organic compounds other than PCB can be treated, dioxins contained in PCB, organic substances such as paper, wood and cloth contaminated by PCB, and a cleaning agent used for cleaning the case are also used. It can be decomposed similarly.
【００４３】なお、上記水熱分解方法は本願出願人によ
り既に開示されており、詳しくは特開平１１−６３９号
公報、特開平１１−２５３７９５号公報等を参照された
い。The above hydrothermal decomposition method has already been disclosed by the applicant of the present application, and for details, refer to JP-A-11-639, JP-A-11-253795 and the like.
【００４４】また、洗浄液２としては、例えば、ヘキサ
ン、オクタン等の脂肪族系炭化水素や、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族系炭化水素や、メタノール、
エタノールプロパノール、ブタノール等のアルコール系
や、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩
素系や、アセトン等のケトン系等のような有機溶媒、代
替フロン、界面活性剤を添加した水等を挙げることがで
きる。Examples of the cleaning liquid 2 include aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and methanol,
Examples thereof include alcohol-based solvents such as ethanol propanol and butanol, chlorine-based solvents such as trichloroethylene and tetrachloroethylene, and ketone-based solvents such as acetone, CFC substitutes, and water containing a surfactant.
【００４５】［第二番目の実施の形態］本発明による洗
浄装置の第二番目の実施の形態を図８〜１１を用いて説
明する。図８は、洗浄装置の概略構成図、図９は、図８
の洗浄装置の洗浄筐の支持部分の概略構造図、図１０
は、図８の洗浄装置の作用説明図、図１１は、図１０に
続く作用説明図である。ただし、前述した第一番目の実
施の形態の場合と同様な部分については、前述した第一
番目の実施の形態の説明で使用した符号と同一の符号を
図面に付すことにより、その説明を省略する。[Second Embodiment] A second embodiment of the cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of the cleaning device, and FIG.
10 is a schematic structural diagram of a supporting portion of a cleaning casing of the cleaning device of FIG.
FIG. 11 is an operation explanatory view of the cleaning device of FIG. 8, and FIG. 11 is an operation explanatory view following FIG. 10. However, for the same parts as those in the above-described first embodiment, the same reference numerals as those used in the description of the above-described first embodiment are attached to the drawings, and the description thereof will be omitted. To do.
【００４６】図８，９に示すように、洗浄槽１０１の内
部には、周面に軸方向にわたって開口部１１３ａを有す
る円筒型の金網からなる外筒筐１１３が回動可能に支持
されている。外筒筐１１３の内部には、周面に軸方向に
わたって開口部１１４ａを有する円筒型の金網からなる
内筒筐１１４が回転可能に支持されている。上記筒筐１
１３，１１４は、その軸部１１３ｂ，１１４ｂが図示し
ない洗浄筐駆動手段にそれぞれ連結しており、独立して
回転することができると共に、同期して回転することが
できるようになっている。このような外筒筐１１３、内
筒筐１１４により、本実施の形態では洗浄筐１１２を構
成している。As shown in FIGS. 8 and 9, an outer cylinder casing 113 made of a cylindrical metal net having an opening 113a on the circumferential surface in the axial direction is rotatably supported inside the cleaning tank 101. . Inside the outer cylinder casing 113, an inner cylinder casing 114 made of a cylindrical wire mesh having an opening 114a on the circumferential surface in the axial direction is rotatably supported. The cylinder casing 1
Shafts 113b and 114b of the shafts 13 and 114 are respectively connected to a cleaning casing drive means (not shown) so that they can rotate independently of each other and can rotate in synchronization with each other. The outer casing 113 and the inner casing 114 thus configured constitute the cleaning casing 112 in the present embodiment.
【００４７】前記内筒筐１１４の前記軸部１１４ａを境
にした前記開口部１１４ａと対向する側の当該内筒筐１
１４の内面には、当該内筒筐１１４の軸心に沿って長手
方向を向けた掻き混ぜフィン１０５が当該内筒筐１１４
の周方向にわたって所定の間隔で複数立設されている。
また、前記外筒筐１１３の前記軸部１１３ａを境にした
前記開口部１１３ａと対向する側の当該外筒筐１１３の
外面には、当該外筒筐１１３の軸心に沿って長手方向を
向けた攪拌翼１０６が当該外筒筐１１３の周方向にわた
って所定の間隔で複数立設されている。The inner cylinder casing 1 on the side of the inner cylinder casing 114 facing the opening 114a with the shaft portion 114a as a boundary.
On the inner surface of the inner cylinder casing 114, there is a stirring fin 105 whose longitudinal direction is oriented along the axis of the inner cylinder casing 114.
A plurality of pieces are erected at predetermined intervals in the circumferential direction.
Further, the longitudinal direction is oriented along the axis of the outer cylinder casing 113 to the outer surface of the outer cylinder casing 113 on the side facing the opening 113a with the shaft portion 113a of the outer cylinder casing 113 as a boundary. A plurality of stirring blades 106 are provided upright at predetermined intervals along the circumferential direction of the outer casing 113.
【００４８】つまり、前述した第一番目の実施の形態で
は、Ｕ字型の半円筒状をなして開口部１０２ａを有する
洗浄筐１０２を用いたが、本実施の形態では、開口部１
１３ａ，１１４ａを有する円筒型の外筒筐１１３および
内筒筐１１４を備えてなる洗浄筐１１２を用いるように
したのである。In other words, in the above-described first embodiment, the cleaning casing 102 having a U-shaped semi-cylindrical shape and having the opening 102a is used, but in this embodiment, the opening 1
The cleaning casing 112 including the cylindrical outer casing 113 and the inner casing 114 having 13a and 114a is used.
【００４９】このような洗浄装置２００を使用して比較
的細かい被処理物１を洗浄する場合には、洗浄筐１１２
の前記筒筐１１３，１１４の開口部１１３ａ，１１４ａ
をそれぞれ上方へ向けるように前記洗浄筐駆動手段を作
動して当該筒筐１１３，１１４をそれぞれ回動させ、被
処理物１を洗浄槽１０１の供給口１０１ａから前記筒筐
１１３，１１４の前記開口部１１３ａ，１１４ａを介し
て内筒筐１１４の内部に投入した後、外筒筐１１３の開
口部１１３ａを下方へ向けるように前記洗浄筐駆動手段
を作動して外筒筐１１３を回動させると共に、前記洗浄
液供給手段から洗浄槽１０１の内部に洗浄液２を供給
し、前記洗浄筐駆動手段を作動して外筒筐１１３と内筒
筐１１４とを同期して同一方向へ同回転数で回転させる
と共に、超音波発振器１０３から超音波を発振すると、
前記洗浄筐１１２の回転に伴って、掻き混ぜフィン１０
５が被処理物１を掻き混ぜると共に、攪拌翼１０６が洗
浄液２を攪拌するので、被処理物１は、洗浄液２とムラ
なく接触しながら超音波をムラなく照射される（図１０
参照）。このため、被処理物１は、隅々までまんべんな
く洗浄液２で洗浄される。When the comparatively fine object 1 to be cleaned is cleaned by using the cleaning device 200 as described above, the cleaning casing 112 is used.
Openings 113a and 114a of the cylindrical casings 113 and 114
The cleaning casing drive means so as to direct each of them upward, and the respective cylindrical casings 113 and 114 are respectively rotated, so that the object to be processed 1 is supplied from the supply port 101a of the cleaning tank 101 to the openings of the cylindrical casings 113 and 114. After being inserted into the inner cylindrical casing 114 via the parts 113a and 114a, the cleaning casing driving means is operated so that the opening 113a of the outer cylindrical casing 113 faces downward, and the outer cylindrical casing 113 is rotated. The cleaning liquid 2 is supplied from the cleaning liquid supply means to the inside of the cleaning tank 101, and the cleaning housing driving means is operated to rotate the outer cylinder housing 113 and the inner cylinder housing 114 in the same direction at the same rotation speed. At the same time, when ultrasonic waves are oscillated from the ultrasonic oscillator 103,
As the cleaning casing 112 rotates, the stirring fins 10
5 stirs the object to be processed 1 and the stirring blade 106 stirs the cleaning liquid 2, so that the object to be processed 1 is uniformly contacted with the cleaning liquid 2 and is irradiated with ultrasonic waves evenly (FIG. 10).
reference). Therefore, the object to be treated 1 is evenly cleaned with the cleaning liquid 2 in every corner.
【００５０】このようにして被処理物１を所定時間洗浄
したら、前述した第一番目の実施の形態の場合と同様
に、前記洗浄筐駆動手段および超音波発振器１０３の作
動を停止し、バルブ１１１を開放して洗浄槽１０１内の
洗浄液２を排出した後、バルブ１１１を閉鎖して前記洗
浄液供給手段から洗浄槽１０１内に新たな洗浄液２を供
給し、前記洗浄筐駆動手段および超音波発振器１０３を
再び作動させることにより、被処理物１の洗浄を再度行
う。以上の工程を複数回繰り返すことにより（通常３回
程度）、被処理物１に付着している有害物質（ＰＣＢ）
濃度を規定値（０．５μｇ／ｍ2 ）以下にまで洗浄す
る。After the object to be processed 1 is cleaned for a predetermined time in this way, the operation of the cleaning casing drive means and the ultrasonic oscillator 103 is stopped and the valve 111 is used, as in the case of the first embodiment described above. Is opened to discharge the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 101, and then the valve 111 is closed to supply a new cleaning liquid 2 into the cleaning tank 101 from the cleaning liquid supply means, and the cleaning casing drive means and the ultrasonic oscillator 103. By again operating, the object to be processed 1 is washed again. By repeating the above process multiple times (usually about 3 times), harmful substances (PCB) attached to the object 1 to be processed
The concentration is washed to the specified value (0.5 μg / m 2 ) or less.
【００５１】このような洗浄を終えて、前記洗浄筐駆動
手段および超音波発振器１０３の作動を停止して、バル
ブ１１１を開放して洗浄槽１０１内の洗浄液２を排出し
たら、仕切弁１０７を開放すると共に、前記洗浄筐駆動
手段を作動して前記筒筐１１３，１１４の開口部１１３
ａ，１１４ａをそれぞれ下方へ向けるように前記洗浄筐
駆動手段を作動して当該筒筐１１３，１１４を回動させ
ると、内筒筐１１４の内部の被処理物１が自重により当
該筒筐１１３，１１４の開口部１１３ａ，１１４ａから
落下し、羽根車１０８に衝突して落下速度を緩和されな
がら洗浄槽１０１の排出口１０１ｂから排出ダクト１１
０を介して外部に排出され、図示しない回収容器等の内
部に回収される（図１１参照）。このため、洗浄された
被処理物１を洗浄筐１０２内から取り出して回収するこ
とが容易にできる。After such cleaning is completed, the operation of the cleaning casing drive means and the ultrasonic oscillator 103 is stopped, the valve 111 is opened and the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 101 is discharged, and then the sluice valve 107 is opened. In addition, the cleaning casing drive means is operated to open the opening portions 113 of the cylindrical casings 113 and 114.
When the cleaning casing drive means is actuated so that a and 114a are directed downward, respectively, and the cylindrical casings 113 and 114 are rotated, the object 1 to be processed inside the inner cylindrical casing 114 is struck by its own weight. From the openings 101a and 114a of the 114, the impeller 108 collides with the impeller 108 and the falling speed is moderated, and the discharge duct 101 is discharged from the discharge port 101b of the cleaning tank 101.
It is discharged to the outside via 0 and is collected inside a not-shown collecting container or the like (see FIG. 11). Therefore, it is possible to easily take out and collect the cleaned object 1 from the cleaning casing 102.
【００５２】したがって、本実施の形態の洗浄装置２０
０によれば、前述した第一番目の実施の形態の場合と同
様に、比較的細かい被処理物１であっても、効率よくム
ラなく洗浄処理することができるのはもちろんのこと、
洗浄筐１１２を回転させて被処理物１を洗浄処理するこ
とができるので、第一番目の実施の形態の場合よりも洗
浄効果をさらに高めることができる。Therefore, the cleaning device 20 of the present embodiment
According to 0, as in the case of the above-described first embodiment, it is needless to say that even a relatively fine object 1 can be efficiently and uniformly cleaned.
Since the cleaning casing 112 can be rotated to clean the object to be processed 1, the cleaning effect can be further enhanced as compared with the case of the first embodiment.
【００５３】［第三番目の実施の形態］本発明による洗
浄装置の第三番目の実施の形態を図１２，１３を用いて
説明する。図１２は、洗浄装置の概略構成図、図１３
は、洗浄液処理システムの概略構成図である。ただし、
前述した第一，二番目の実施の形態の場合と同様な部分
については、前述した第一，二番目の実施の形態の説明
で使用した符号と同一の符号を図面に付すことにより、
その説明を省略する。[Third Embodiment] A third embodiment of the cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a schematic configuration diagram of the cleaning device, and FIG.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a cleaning liquid processing system. However,
With respect to the same parts as those in the first and second embodiments described above, the same reference numerals as those used in the description of the first and second embodiments described above are attached to the drawings,
The description is omitted.
【００５４】図１２に示すように、本実施の形態による
洗浄装置３００は、第一の洗浄装置１００Ａの洗浄槽１
０１の排出口１０１ｂに仕切弁１０７を介して第二の洗
浄装置１００Ｂの洗浄槽１０１の供給口１０１ａを連結
し、この第二の洗浄装置１００Ｂの洗浄槽１０１の排出
口１０１ｂに仕切弁１０７を介して第三の洗浄装置１０
０Ｃの洗浄槽１０１の供給口１０１ａを連結した構造と
なっている。また、第二，三の洗浄装置１００Ａ，１０
０Ｂの洗浄槽１０１の上部寄りである供給口１０１ａ部
分には、洗浄液１を供給する供給管１１５がそれぞれ連
結している。As shown in FIG. 12, the cleaning apparatus 300 according to the present embodiment is the cleaning tank 1 of the first cleaning apparatus 100A.
01 is connected to the supply port 101a of the cleaning tank 101 of the second cleaning apparatus 100B via the gate valve 107, and the gate valve 107 is connected to the outlet 101b of the cleaning tank 101 of the second cleaning apparatus 100B. Through the third cleaning device 10
The structure is such that the supply port 101a of the 0 C cleaning tank 101 is connected. Also, the second and third cleaning devices 100A, 10
A supply pipe 115 for supplying the cleaning liquid 1 is connected to each of the supply ports 101a near the upper portion of the 0B cleaning tank 101.
【００５５】つまり、本実施の形態による洗浄装置３０
０は、前述した第一番目の実施の形態の洗浄装置１００
の洗浄槽１０１の排出口１０１ａと、前述した第一番目
の実施の形態の他の洗浄装置１００の洗浄槽１０１の供
給口１０１ｂとを連結するように、第一番目の実施の形
態の場合と同様な構造をなす第一〜三の洗浄装置１００
Ａ〜１００Ｃを上下方向に直列に複数（３つ）配設した
構造となっているのである。That is, the cleaning device 30 according to the present embodiment.
0 is the cleaning apparatus 100 of the first embodiment described above.
In the case of the first embodiment, the discharge port 101a of the cleaning tank 101 and the supply port 101b of the cleaning tank 101 of the other cleaning apparatus 100 of the first embodiment described above are connected. First to third cleaning devices 100 having the same structure
This is a structure in which a plurality (three) of A to 100C are arranged in series in the vertical direction.
【００５６】このような構造をなす洗浄装置３００を使
用して比較的細かい被処理物１を洗浄する場合には、被
処理物１を第一の洗浄装置１００Ａの洗浄槽１０１の供
給口１０１ａから洗浄筐１０２の開口部１０２ａを介し
て当該洗浄筐１０２の内部に投入すると共に、前記洗浄
液供給手段から洗浄槽１０１の内部に洗浄液２を供給
し、前述した第一番目の実施の形態の場合と同様にし
て、被処理物１を隅々までまんべんなく洗浄液２で洗浄
する。When the comparatively fine object 1 to be processed is cleaned using the cleaning apparatus 300 having such a structure, the object 1 to be processed is supplied from the supply port 101a of the cleaning tank 101 of the first cleaning apparatus 100A. The cleaning liquid is supplied into the cleaning casing 102 through the opening 102a of the cleaning casing 102, and the cleaning liquid 2 is supplied from the cleaning liquid supply means into the cleaning tank 101, which is the same as the case of the first embodiment described above. Similarly, the object to be treated 1 is evenly cleaned with the cleaning liquid 2 in every corner.
【００５７】第一の洗浄装置１００での洗浄処理を終え
たら、第一の洗浄装置１００Ａのバルブ１１１を開放し
て第一の洗浄装置１００Ａの洗浄槽１０１内の洗浄液２
を排出した後、第一の洗浄装置１００Ａの仕切弁１０７
を開放すると共に、第一の洗浄装置１００Ａの洗浄筐１
０２の開口部１０２ａを下方へ向けるように当該洗浄筐
１０２を回動させると、洗浄筐１０２の内部の被処理物
１が自重により開口部１０２ａから落下し、羽根車１０
８に衝突して落下速度を緩和されながら洗浄槽１０１の
排出口１０１ｂから第二の洗浄装置１００Ｂの洗浄槽１
０１の供給口１０１ａを介して第二の洗浄装置１００Ｂ
の洗浄筐１０２内に投入される。続いて、第二の洗浄装
置１００Ｂの前記供給管１１５から上記洗浄槽１０１内
に洗浄液２を供給し、第一の洗浄槽１００Ａの場合と同
様にすることにより、第二の洗浄装置１００Ｂで被処理
物１を隅々までまんべんなく洗浄液２で洗浄する。When the cleaning process in the first cleaning device 100 is completed, the valve 111 of the first cleaning device 100A is opened to clean the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 101 of the first cleaning device 100A.
After discharging the gas, the gate valve 107 of the first cleaning device 100A
And the cleaning casing 1 of the first cleaning device 100A.
When the cleaning casing 102 is rotated so that the opening 102a of No. 02 faces downward, the object to be processed 1 inside the cleaning casing 102 falls from the opening 102a by its own weight, and the impeller 10
8 to the cleaning tank 1 of the second cleaning device 100B from the outlet 101b of the cleaning tank 101 while reducing the falling speed.
No. 01 supply port 101a to the second cleaning device 100B
It is thrown into the cleaning casing 102. Subsequently, the cleaning liquid 2 is supplied from the supply pipe 115 of the second cleaning apparatus 100B into the cleaning tank 101, and the cleaning liquid 2 is supplied to the second cleaning apparatus 100B in the same manner as in the case of the first cleaning tank 100A. The processed material 1 is evenly washed with the cleaning liquid 2 in every corner.
【００５８】このようにして第二の洗浄装置１００Ｂで
の洗浄処理を終えたら、第一の洗浄槽１００Ａの場合と
同様にして、第二の洗浄装置１００Ｂのバルブ１１１を
開放して第二の洗浄装置１００Ｂの洗浄槽１０１内の洗
浄液２を排出した後、第二の洗浄装置１００Ｂの仕切弁
１０７を開放すると共に、第二の洗浄装置１００Ｂの洗
浄筐１０２の開口部１０２ａを下方へ向けるように当該
洗浄筐１０２を回動させることにより、第二の洗浄装置
１００Ｂの洗浄筐１０２の内部の被処理物１を第三の洗
浄装置１００Ｃの洗浄筐１０２内に投入した後、上述と
同様に、第三の洗浄装置１００Ｃの前記供給管１１５か
ら上記洗浄槽１０１内に洗浄液２を供給して、第三の洗
浄装置１００Ｃで被処理物１を隅々までまんべんなく洗
浄液２で洗浄する。When the cleaning process in the second cleaning device 100B is completed in this way, the valve 111 of the second cleaning device 100B is opened to open the second cleaning device 100B in the same manner as in the case of the first cleaning tank 100A. After discharging the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 101 of the cleaning device 100B, the sluice valve 107 of the second cleaning device 100B is opened and the opening 102a of the cleaning casing 102 of the second cleaning device 100B is directed downward. After rotating the cleaning casing 102 into the cleaning casing 102 of the third cleaning device 100C, the object to be processed 1 inside the cleaning casing 102 of the second cleaning device 100B is put into the cleaning casing 102 of the third cleaning device 100C, and then, as described above. The cleaning liquid 2 is supplied from the supply pipe 115 of the third cleaning device 100C into the cleaning tank 101, and the object 1 to be processed is uniformly cleaned with the cleaning liquid 2 in the third cleaning device 100C.
【００５９】このようにして第三の洗浄装置１００Ｃで
の洗浄処理を終えたら、第一，二の洗浄装置１００Ａ，
１００Ｂの場合と同様に、第三の洗浄装置１００Ｃのバ
ルブ１１１を開放して第三の洗浄装置１００Ｃの洗浄槽
１０１内の洗浄液２を排出した後、第三の洗浄装置１０
０Ｃの仕切弁１０７を開放すると共に、第三の洗浄装置
１００Ｃの洗浄筐１０２の開口部１０２ａを下方へ向け
るように当該洗浄筐１０２を回動させることにより、第
三の洗浄装置１００Ｃの洗浄筐１０２の内部の被処理物
１を洗浄槽１０１の排出口１０１ｂから排出ダクト１１
０を介して外部に排出し、図示しない回収容器等の内部
に回収する。When the cleaning process in the third cleaning device 100C is completed in this way, the first and second cleaning devices 100A,
As in the case of 100B, the valve 111 of the third cleaning device 100C is opened to discharge the cleaning liquid 2 in the cleaning tank 101 of the third cleaning device 100C, and then the third cleaning device 10
By opening the 0C sluice valve 107 and rotating the cleaning casing 102 such that the opening 102a of the cleaning casing 102 of the third cleaning device 100C faces downward, the cleaning casing of the third cleaning device 100C is rotated. The object 1 to be processed inside the cleaning tank 101 is discharged from the discharge port 101b of the cleaning tank 101 to the discharge duct 11
It is discharged to the outside via 0 and is collected inside a not-shown collecting container or the like.
【００６０】以上の操作を繰り返し行うことにより、被
処理物１を連続的に洗浄処理することができる。By repeating the above operation, the object 1 to be treated can be continuously washed.
【００６１】つまり、前述した第一番目の実施の形態の
洗浄装置１００においては、単一の洗浄槽１０１内で洗
浄液２を変えることにより、被処理物１を複数回洗浄処
理するようにしたが、本実施の形態の洗浄装置３００で
は、洗浄槽１０１を複数直列に連結することにより、被
処理物１を順次移しかえて複数回洗浄処理するようにし
たのである。That is, in the cleaning apparatus 100 of the above-described first embodiment, the cleaning liquid 2 is changed in the single cleaning tank 101 so that the object 1 to be processed is cleaned a plurality of times. In the cleaning device 300 of the present embodiment, a plurality of cleaning tanks 101 are connected in series so that the object 1 to be processed is sequentially transferred and cleaning processing is performed a plurality of times.
【００６２】このため、前述した第一番目の実施の形態
では、先の段階の洗浄の際に洗浄槽１０１の内壁面に付
着したＰＣＢが次の段階の洗浄時に混入してしまう虞が
あるものの、本実施の形態では、先の段階の洗浄の際に
洗浄槽１０１の内壁面に付着したＰＣＢが次の段階の洗
浄時に混入してしまうことがない。Therefore, in the above-described first embodiment, there is a possibility that PCB adhering to the inner wall surface of the cleaning tank 101 during the cleaning in the previous step may be mixed in in the cleaning in the next step. In the present embodiment, the PCB adhering to the inner wall surface of the cleaning tank 101 during the cleaning in the previous step is not mixed in in the cleaning in the next step.
【００６３】したがって、本実施の形態の洗浄装置３０
０によれば、前述した第一番目の実施の形態の場合と同
様な効果を得ながらも、洗浄効果をさらに向上させるこ
とができる。Therefore, the cleaning device 30 of the present embodiment
According to 0, the cleaning effect can be further improved while obtaining the same effect as in the case of the first embodiment described above.
【００６４】なお、このように洗浄槽１０１を複数直列
に連結した洗浄装置３００においては、図１３に示すよ
うな洗浄液処理システム５００を備えるとよい。Incidentally, the cleaning apparatus 300 in which a plurality of cleaning tanks 101 are connected in series as described above is preferably equipped with a cleaning liquid processing system 500 as shown in FIG.
【００６５】図１３に示すように、第一の洗浄装置１０
０Ａは、前記排出管１０９が前記バルブ１１１を介して
回収タンク５０１Ａに連結している。回収タンク５０１
Ａは、送給ポンプ５０３Ａを介して精製器５０４Ａに連
結している。精製器５０４Ａは、送給ポンプ５０２Ａを
介して第一の洗浄装置１００Ａの前記供給口１０１ａお
よび第二，三の洗浄装置１００Ｂ，１００Ｃの前記供給
管１１５にそれぞれ連結している。第二の洗浄装置１０
０Ｂは、前記排出管１０９が前記バルブ１１１を介して
回収タンク５０１Ｂに連結している。回収タンク５０１
Ｂは、送給ポンプ５０２Ｂを介して第一の洗浄装置１０
０Ａの前記供給口１０１ａに連結している。第三の洗浄
装置１００は、前記排出管１０９が前記バルブ１１１を
介して回収タンク５０１Ｃに連結している。回収タンク
５０１Ｃは、送給ポンプ５０２Ｃを介して第二の洗浄装
置１００Ｂの前記供給管１１５に連結している。As shown in FIG. 13, the first cleaning device 10
In 0A, the discharge pipe 109 is connected to the recovery tank 501A via the valve 111. Collection tank 501
A is connected to a purifier 504A via a feed pump 503A. The purifier 504A is connected to the supply port 101a of the first cleaning device 100A and the supply pipes 115 of the second and third cleaning devices 100B and 100C via a feed pump 502A. Second cleaning device 10
In 0B, the discharge pipe 109 is connected to the recovery tank 501B via the valve 111. Collection tank 501
B is the first cleaning device 10 via the feed pump 502B.
It is connected to the supply port 101a of 0A. In the third cleaning device 100, the discharge pipe 109 is connected to the recovery tank 501C via the valve 111. The recovery tank 501C is connected to the supply pipe 115 of the second cleaning device 100B via a feed pump 502C.
【００６６】このような洗浄液処理システム５００にお
いて、第三の洗浄装置１００Ｃで使用された洗浄液２
（汚染程度が比較的小さいもの）は、回収タンク５０１
Ｃに回収された後、送給ポンプ５０２Ｃにより第二の洗
浄装置１００Ｂの洗浄槽１０１内に送給されて使用され
る。第二の洗浄槽１００Ｂで使用された洗浄液２（汚染
程度が中程度のもの）は、回収タンク５０１Ｂに回収さ
れた後、送給ポンプ５０２Ｂにより第一の洗浄装置１０
０Ａの洗浄槽１０１内に送給されて使用される。第一の
洗浄槽１００Ａで使用された洗浄液２（汚染程度が比較
的大きいもの）は、回収タンク５０１Ａに回収され、送
給ポンプ５０３Ａにより精製器５０４Ａに送給されて精
製処理された後、精製された洗浄液２が必要量に応じて
第一〜三の洗浄装置１００Ａ〜１００Ｃの洗浄槽１０１
内にそれぞれ分配される一方、濃縮残留分（ＰＣＢ濃度
が非常に高いもの）が水熱分解処理される。In the cleaning liquid processing system 500, the cleaning liquid 2 used in the third cleaning device 100C is used.
Recovery tank 501 (with a relatively small degree of pollution)
After being collected in C, it is fed by the feed pump 502C into the washing tank 101 of the second washing device 100B for use. The cleaning liquid 2 (having a medium degree of contamination) used in the second cleaning tank 100B is recovered in the recovery tank 501B, and then is fed by the feed pump 502B to the first cleaning device 10.
It is fed into the 0 A cleaning tank 101 for use. The cleaning liquid 2 (which has a relatively large degree of contamination) used in the first cleaning tank 100A is collected in a recovery tank 501A, fed to a purifier 504A by a feed pump 503A, and refined, and then refined. The cleaning tank 2 of the first to third cleaning devices 100 </ b> A to 100 </ b> C depending on the required amount of the cleaning liquid 2 thus prepared.
While each is distributed inside, the concentrated residue (which has a very high PCB concentration) is hydrothermally decomposed.
【００６７】つまり、下部に位置する洗浄槽１０１内で
使用された洗浄液２をその上部に位置する洗浄槽１０１
内に供給して再利用すると共に、最上部に位置する洗浄
槽１０１で使用された洗浄液２を精製処理して任意の位
置の洗浄槽内に適宜供給するのである。That is, the cleaning liquid 2 used in the cleaning tank 101 located in the lower part is replaced with the cleaning liquid 101 located in the upper part.
The cleaning liquid 2 used in the uppermost cleaning tank 101 is refined and supplied to the cleaning tank at an arbitrary position while being supplied and recycled.
【００６８】このため、上記洗浄液処理システム５００
を設ければ、洗浄液２を効率よく有効に利用することが
できるので、洗浄液２の使用量を抑制することができ、
処理コストの低減を図ることができる。Therefore, the cleaning liquid processing system 500 described above is used.
If the cleaning liquid 2 is provided, the cleaning liquid 2 can be used efficiently and effectively, so that the amount of the cleaning liquid 2 used can be suppressed,
The processing cost can be reduced.
【００６９】［第四番目の実施の形態］本発明による洗
浄装置の第四番目の実施の形態を図１４を用いて説明す
る。図１４は、洗浄装置の概略構成図である。ただし、
前述した第一〜三番目の実施の形態の場合と同様な部分
については、前述した第一〜三番目の実施の形態の説明
で使用した符号と同一の符号を図面に付すことにより、
その説明を省略する。[Fourth Embodiment] A cleaning device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a schematic configuration diagram of the cleaning device. However,
For the same parts as in the case of the first to third embodiments described above, by attaching the same reference numerals to the drawings used in the description of the first to third embodiments described above,
The description is omitted.
【００７０】図１４に示すように、本実施の形態による
洗浄装置４００は、第一の洗浄装置２００Ａの洗浄槽１
０１の排出口１０１ｂに仕切弁１０７を介して第二の洗
浄装置２００Ｂの洗浄槽１０１の供給口１０１ａを連結
し、この第二の洗浄装置２００Ｂの洗浄槽１０１の排出
口１０１ｂに仕切弁１０７を介して第三の洗浄装置２０
０Ｃの洗浄槽１０１の供給口１０１ａを連結した構造と
なっている。また、第二，三の洗浄装置２００Ｂ，２０
０Ｃの洗浄槽１０１の上部寄りである供給口１０１ａに
は、洗浄液１を供給する供給管１１５がそれぞれ連結し
ている。As shown in FIG. 14, the cleaning apparatus 400 according to the present embodiment is the cleaning tank 1 of the first cleaning apparatus 200A.
No. 01 discharge port 101b is connected to the supply port 101a of the cleaning tank 101 of the second cleaning device 200B via the sluice valve 107, and the sluice valve 107 is connected to the discharge port 101b of the cleaning tank 101 of the second cleaning device 200B. Through the third cleaning device 20
The structure is such that the supply port 101a of the 0 C cleaning tank 101 is connected. Also, the second and third cleaning devices 200B, 20
A supply pipe 115 for supplying the cleaning liquid 1 is connected to each of the supply ports 101a near the top of the 0 C cleaning tank 101.
【００７１】つまり、前述した第三番目の実施の形態で
は、前述した第一番目の実施の形態の洗浄装置１００を
上下方向に直列に複数（３つ）連結して洗浄装置３００
を構成したが、本実施の形態では、前述した第二番目の
実施の形態の洗浄装置２００を上下方向に直列に複数
（３つ）連結して洗浄装置４００を構成したのである。That is, in the third embodiment described above, a plurality (three) of the cleaning devices 100 of the first embodiment described above are connected in series in the vertical direction to form a cleaning device 300.
However, in the present embodiment, the cleaning device 400 is configured by connecting a plurality (three) of the cleaning devices 200 of the second embodiment described above in series in the vertical direction.
【００７２】このような洗浄装置４００においては、前
述した第二番目の実施の形態のようにして第一〜三の洗
浄装置２００Ａ〜２００Ｃで洗浄処理することを、前述
した第三番目の実施の形態のようにして連続処理するこ
とにより、被処理物１を洗浄処理するができる。In such a cleaning device 400, the cleaning process by the first to third cleaning devices 200A to 200C as in the second embodiment described above is performed in the third embodiment described above. The object 1 to be processed can be washed by performing continuous processing in the form.
【００７３】したがって、本実施の形態の洗浄装置４０
０によれば、前述した第二番目の実施の形態の場合と同
様な効果を得ながらも、洗浄効果をさらに向上させるこ
とができる。Therefore, the cleaning device 40 of the present embodiment
According to 0, the cleaning effect can be further improved while obtaining the same effect as in the case of the second embodiment described above.
【００７４】［他の実施の形態］
＜洗浄槽の数＞前述した第三，四番目の実施の形態で
は、洗浄槽１０１を上下方向に３つ直列に連結した洗浄
装置３００，４００の場合について説明したが、本発明
はこれに限らず、洗浄槽１０１を上下方向に２つ直列に
連結したり、４つ以上連結したりすることも可能であ
る。[Other Embodiments] <Number of Cleaning Tanks> In the third and fourth embodiments described above, the cleaning devices 300 and 400 in which three cleaning tanks 101 are vertically connected in series are described. Although described, the present invention is not limited to this, and it is also possible to connect two cleaning tanks 101 in series in the vertical direction or connect four or more cleaning tanks 101.
【００７５】＜有害物質分解手段＞前述した第一番目の
実施の形態では、有害物質処理システムにおいて、水熱
分解手段によりＰＣＢ等の有害物質を分解処理したが、
他の実施の形態としては、例えば、高圧ポンプにより臨
界圧力以上に水を加圧し、この中にＰＣＢを含む有機物
や洗浄廃液を投入し、酸化剤によってＰＣＢ等の有害物
質を酸化分解する超臨界水酸化手段を使用することが可
能である。このような超臨界水酸化手段においては、極
めて短時間で高い反応効率が得られると共に、水熱分解
法と同様に、ダイオキシン類等の有害物質を発生させな
いという利点がある。なお、界面活性剤を添加した水を
洗浄液２に利用すれば、水熱分解等での後処理がしやす
くなる。<Hazardous Substance Decomposing Means> In the first embodiment described above, in the harmful substance treating system, the harmful substance such as PCB is decomposed by the hydrothermal decomposing means.
In another embodiment, for example, water is pressurized to a pressure higher than the critical pressure by a high-pressure pump, an organic substance containing PCB or a cleaning waste liquid is charged therein, and a supercritical substance that oxidizes and decomposes harmful substances such as PCB by an oxidizing agent is used. It is possible to use hydroxylation means. Such a supercritical water oxidation means has an advantage that a high reaction efficiency can be obtained in an extremely short time and, like the hydrothermal decomposition method, no harmful substances such as dioxins are generated. If water containing a surfactant is used for the cleaning liquid 2, post-treatment such as hydrothermal decomposition becomes easy.
【００７６】＜被処理物＞前述した第一〜四番目の実施
の形態では、低濃度（数ｐｐｍ〜１００ｐｐｍ）ＰＣＢ
で汚染されているトランス１０を処理する場合について
説明したが、高濃度ＰＣＢ（６０〜１００％）で汚染さ
れたコンデンサ２０を処理する場合においても、前述し
た第一〜四番目の実施の形態の場合と同様に適用するこ
とができる。<Object to be processed> In the first to fourth embodiments described above, the low concentration PCB (several ppm to 100 ppm) is used.
Although the case of processing the transformer 10 contaminated with the above is described, even in the case of processing the capacitor 20 contaminated with high-concentration PCB (60 to 100%), the above-described first to fourth embodiments are not applicable. It can be applied as in the case.
【００７７】さらに、上記トランス１０や上記コンデン
サ２０以外に本発明に適用可能な被処理物としては、有
害物質である廃棄塗料や廃棄燃料や有害薬品等を保存し
ている保存容器、火薬・爆薬類が充填された爆弾等が挙
げられる。しかしながら、本発明は、これらに限定され
ることはなく、種々の有害物質を内蔵しているようなも
のであれば、前述した第一〜四番目の実施の形態の場合
と同様にして洗浄することができる。Further, in addition to the transformer 10 and the capacitor 20, the object to be processed applicable to the present invention is a storage container for storing waste paint, waste fuel, harmful chemicals, etc., which are harmful substances, explosives and explosives. Bombs filled with kinds are listed. However, the present invention is not limited to these, and as long as it contains various harmful substances, it is washed in the same manner as in the case of the first to fourth embodiments described above. be able to.
【００７８】＜有害物質＞また、本発明で処理可能な有
害物質としては、上記ＰＣＢ以外に、例えば、廃棄塗
料、廃棄燃料、有害薬品、未処理爆薬類等が挙げられ
る。しかしながら、本発明は、これらに限定されること
はなく、環境汚染に起因する環境ホルモン等のような有
害物質であれば、前述した第一〜四番目の実施の形態の
場合と同様にして処理することができる。<Toxic Substances> In addition to the above PCBs, examples of the harmful substances that can be treated in the present invention include waste paint, waste fuel, harmful chemicals, and untreated explosives. However, the present invention is not limited to these, and if harmful substances such as environmental hormones resulting from environmental pollution are treated in the same manner as in the case of the above-mentioned first to fourth embodiments. can do.
【００７９】[0079]
【発明の効果】第一番目の発明による洗浄装置は、有害
物質の付着した細かい被処理物を洗浄液で洗浄する洗浄
装置であって、供給口を上部に有すると共に、開閉可能
な仕切弁を備えた排出口を下部に有する洗浄槽と、前記
洗浄槽の内部に回動可能に支持されて、回動軸方向に沿
って開口部を形成された洗浄筐と、前記洗浄筐を回動さ
せる洗浄筐駆動手段とを備えていることから、有害物質
の付着した細かい被処理物であっても、効率よくムラな
く洗浄処理することができる。The cleaning device according to the first aspect of the present invention is a cleaning device for cleaning a fine object to which harmful substances are attached with a cleaning liquid, and has a supply port at the top and a gate valve that can be opened and closed. A cleaning tank having a discharge port at the bottom, a cleaning casing that is rotatably supported inside the cleaning tank and has an opening formed along the rotation axis direction, and a cleaning that rotates the cleaning casing. Since the housing drive means is provided, even a fine object to which a harmful substance is attached can be efficiently and uniformly cleaned.
【００８０】第二番目の発明による洗浄装置は、第一番
目の発明において、前記洗浄筐が、前記洗浄槽の内部に
回動可能に支持されて、回動軸方向に沿って開口部を形
成された外筒筐と、前記外筒筐の内部に同軸をなして回
動可能に支持されて、回動軸方向に沿って開口部を形成
された内筒筐とを備えてなり、前記洗浄筐駆動手段が、
前記外筒筐および前記内筒筐をそれぞれ独立して回転さ
せることができると共に、同期して回転させることがで
きることから、洗浄筐を回転させて被処理物を洗浄処理
することができるので、洗浄効果をさらに高めることが
できる。The cleaning apparatus according to the second invention is the cleaning apparatus according to the first invention, wherein the cleaning casing is rotatably supported inside the cleaning tank and forms an opening along the rotation axis direction. And an inner cylinder casing that is rotatably supported coaxially inside the outer cylinder casing and has an opening formed along the rotation axis direction. The case drive means
Since the outer casing and the inner casing can be rotated independently of each other and can be rotated in synchronization with each other, the cleaning casing can be rotated to clean the object to be treated. The effect can be further enhanced.
【００８１】第三番目の発明による洗浄装置は、第一番
目または第二番目の発明において、前記洗浄筐の内面に
掻き上げフィンを立設したので、洗浄効果をさらに高め
ることができる。In the cleaning apparatus according to the third aspect of the invention, in the first or second aspect of the invention, since the scraping fins are provided upright on the inner surface of the cleaning casing, the cleaning effect can be further enhanced.
【００８２】第四番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第三番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄筐
の外面に攪拌翼を立設したので、洗浄効果をさらに高め
ることができる。In the cleaning apparatus according to the fourth aspect of the invention, in any one of the first to third aspects of the invention, the stirring blade is provided upright on the outer surface of the cleaning casing, so that the cleaning effect can be further enhanced.
【００８３】第五番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第四番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄筐
の内部に超音波発振手段を設けたので、洗浄効果をさら
に高めることができる。In the cleaning apparatus according to the fifth aspect of the invention, in any one of the first to fourth aspects of the invention, since the ultrasonic wave oscillating means is provided inside the cleaning casing, the cleaning effect can be further enhanced. .
【００８４】第六番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第五番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄筐
の内部の前記超音波発振手段と前記開口部との間に保護
板を設けたので、被処理物を洗浄筐の開口部から内部に
投入する際に被処理物が超音波発振手段に衝突して超音
波発振手段を損傷させてしまうことを防止することがで
きる。The cleaning apparatus according to the sixth invention is the cleaning apparatus according to any one of the first to fifth inventions, wherein a protective plate is provided between the ultrasonic wave oscillating means and the opening inside the cleaning casing. Therefore, it is possible to prevent the object to be processed from colliding with the ultrasonic wave oscillating means and damaging the ultrasonic wave oscillating means when the object to be processed is put into the inside of the cleaning casing through the opening.
【００８５】第七番目の発明による洗浄装置は、第一番
目から第六番目の発明のいずれかにおいて、前記洗浄槽
の内部の前記洗浄筐と前記排出口との間に前記被処理物
の落下衝撃緩衝手段を設けたので、被処理物を排出する
際の衝撃を緩衝することができる。A cleaning apparatus according to a seventh invention is the cleaning apparatus according to any one of the first to sixth inventions, wherein the object to be processed falls between the cleaning casing and the discharge port inside the cleaning tank. Since the shock absorbing means is provided, the shock at the time of discharging the object to be processed can be buffered.
【００８６】第八番目の発明による洗浄装置は、前記洗
浄槽の前記排出口と他の前記洗浄槽の前記供給口とを連
結するように第一番目から第七番目の発明のいずれかの
洗浄装置を上下方向に直列に複数配設したので、被処理
物を連続的に洗浄処理することが容易にできると共に、
先の段階の洗浄の際に洗浄槽の内壁面に付着した有害物
質が次の段階の洗浄時に混入してしまうことを防止する
ことができ、洗浄効果をさらに向上させることができ
る。The cleaning apparatus according to the eighth invention is the cleaning apparatus according to any one of the first to seventh inventions so as to connect the discharge port of the cleaning tank and the supply port of the other cleaning tank. Since a plurality of devices are arranged in series in the vertical direction, it is possible to easily continuously wash the object to be treated,
It is possible to prevent harmful substances adhering to the inner wall surface of the cleaning tank during the cleaning in the previous step from being mixed in in the cleaning in the next step, and it is possible to further improve the cleaning effect.
【００８７】第九番目の発明による洗浄装置は、第一番
目または第八番目の発明において、前記洗浄液を排出す
る排出管を前記洗浄槽の前記仕切弁の弁体に連結し、前
記洗浄液を供給する供給管を前記洗浄槽の上部寄りに連
結しているので、他の洗浄槽の状態に関係なく洗浄液の
供給および排出を行うことができ、洗浄効率の向上を図
ることができる。The cleaning apparatus according to the ninth invention is the cleaning apparatus according to the first or eighth invention, wherein a discharge pipe for discharging the cleaning liquid is connected to a valve body of the gate valve of the cleaning tank to supply the cleaning liquid. Since the supply pipe is connected to the upper part of the cleaning tank, the cleaning liquid can be supplied and discharged regardless of the state of other cleaning tanks, and the cleaning efficiency can be improved.
【００８８】第十番目の発明による洗浄装置は、第八番
目の発明において、下部に位置する前記洗浄槽内で使用
された洗浄液をその上部に位置する前記洗浄槽内に供給
して再利用すると共に、最上部に位置する前記洗浄槽で
使用された洗浄液を精製処理して任意の位置の前記洗浄
槽内に供給する洗浄液処理システムを設けたことから、
洗浄液を効率よく有効に利用することができるので、洗
浄液の使用量を抑制することができ、処理コストの低減
を図ることができる。In the cleaning apparatus according to the tenth invention, in the eighth invention, the cleaning liquid used in the cleaning tank located in the lower part is supplied to the cleaning tank located in the upper part and reused. Together with the provision of a cleaning liquid processing system for purifying the cleaning liquid used in the cleaning tank located at the top and supplying it into the cleaning tank at any position,
Since the cleaning liquid can be used efficiently and effectively, the amount of the cleaning liquid used can be suppressed and the processing cost can be reduced.
【００８９】第十一番目の発明による洗浄装置は、第一
番目から第十番目の発明のいずれかにおいて、前記有害
物質が、ＰＣＢ、廃棄塗料、廃棄燃料、有害薬品のうち
の少なくとも一種であるので、被処理物から有害物質を
除去することが確実にできる。In the cleaning apparatus according to the tenth invention, in any one of the first to tenth inventions, the harmful substance is at least one of PCB, waste paint, waste fuel and harmful chemicals. Therefore, it is possible to reliably remove harmful substances from the object to be processed.
【００９０】第十二番目の発明による洗浄装置は、第一
番目から第十一番目の発明のいずれかにおいて、前記被
処理物が、ＰＣＢを含有したトランスまたはコンデンサ
の無機物製の破砕された部材であるので、被処理物から
有害物質をムラなく除去することが確実にできる。The cleaning apparatus according to the twelfth aspect of the invention is the crushed member according to any one of the first to tenth aspects of the invention, wherein the object to be treated is an inorganic material of a transformer or capacitor containing PCB. Therefore, it is possible to surely remove the harmful substance from the object to be treated uniformly.
【図１】本発明による洗浄装置の第一番目の実施の形態
の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a first embodiment of a cleaning device according to the present invention.
【図２】図１の洗浄装置の洗浄筐の支持部分の概略構造
図である。FIG. 2 is a schematic structural diagram of a supporting portion of a cleaning casing of the cleaning device of FIG.
【図３】図１の洗浄装置の作用説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of the operation of the cleaning device of FIG.
【図４】図３に続く作用説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory view subsequent to FIG. 3;
【図５】トランスの概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a transformer.
【図６】コンデンサの概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a capacitor.
【図７】本発明による洗浄装置を利用した有害物質処理
システムの第一番目の実施の形態の全体構成図である。FIG. 7 is an overall configuration diagram of a first embodiment of a harmful substance treatment system using a cleaning device according to the present invention.
【図８】本発明による洗浄装置の第二番目の実施の形態
の概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a second embodiment of a cleaning device according to the present invention.
【図９】図８の洗浄装置の洗浄筐の支持部分の概略構造
図である。9 is a schematic structural diagram of a supporting portion of a cleaning casing of the cleaning device of FIG.
【図１０】図８の洗浄装置の作用説明図である。10 is an explanatory view of the operation of the cleaning device of FIG.
【図１１】図１０に続く作用説明図である。FIG. 11 is an explanatory view of the operation following FIG.
【図１２】本発明による洗浄装置の第三番目の実施の形
態の概略構成図である。FIG. 12 is a schematic configuration diagram of a third embodiment of a cleaning device according to the present invention.
【図１３】図１２の洗浄装置の洗浄液処理システムの概
略構成図である。13 is a schematic configuration diagram of a cleaning liquid processing system of the cleaning apparatus of FIG.
【図１４】本発明による洗浄装置の第四番目の実施の形
態の概略構成図である。FIG. 14 is a schematic configuration diagram of a fourth embodiment of a cleaning device according to the present invention.
【図１５】従来の有害物質処理システムの説明図であ
る。FIG. 15 is an explanatory diagram of a conventional harmful substance processing system.
１ 被処理物 ２ 洗浄液 １０ トランス １１ 鉄心 １２ コイル １３ コア １４ 容器 １７ 鉄枠 １８ 碍子 １９ 蓋 ２０ コンデンサ １００，２００，３００，４００ 洗浄装置 １０１ 洗浄筐 １０１ａ 供給口 １０１ｂ 排出口 １０２ 洗浄筐 １０２ａ 開口部 １０２ｂ 軸部 １０３ 超音波発振器 １０４ 保護板 １０５ 掻き混ぜフィン １０６ 攪拌翼 １０７ 仕切り弁 １０７ａ 窪 １０７ｂ 連通孔 １０８ 羽根車 １０９ 排出管 １１０ 排出ダクト １１１ バルブ １１２ 洗浄筐 １１３ 外筒筐 １１３ａ 開口部 １１３ｂ 軸部 １１４ 内筒筐 １１４ａ 開口部 １１４ｂ 軸部 １１５ 供給管 ５００ 洗浄液処理システム ５０１Ａ〜５０１Ｃ 回収タンク ５０２Ａ〜５０２Ｃ 送給ポンプ ５０３Ａ 送給ポンプ ５０４Ａ 精製器 1001 被処理物 1002 有害物質（例えばＰＣＢ) 1003 容器 1004 分離手段 1005 解体手段 1006 前処理手段 1007 有機物 1008 無機物 1009 分離手段 1010 洗浄液 1011 洗浄手段 1012 洗浄廃液 1013 有害物質分解処理手段 1014 スラリー 1015 スラリー化手段 1 Object to be processed 2 cleaning liquid 10 transformers 11 iron core 12 coils 13 cores 14 containers 17 Iron frame 18 Insulator 19 lid 20 capacitors 100,200,300,400 Cleaning equipment 101 washing cabinet 101a supply port 101b outlet 102 cleaning cabinet 102a opening 102b shaft 103 Ultrasonic oscillator 104 protective plate 105 Stirring fin 106 Stirrer 107 Gate valve 107a hollow 107b communication hole 108 impeller 109 discharge pipe 110 exhaust duct 111 valve 112 washing cabinet 113 outer casing 113a opening 113b Shaft 114 inner casing 114a opening 114b shaft 115 supply pipe 500 cleaning liquid processing system 501A-501C recovery tank 502A to 502C feed pump 503A feeding pump 504A Purifier 1001 object 1002 Hazardous substances (eg PCB) 1003 containers 1004 Separation means 1005 Dismantling method 1006 Pretreatment means 1007 organic matter 1008 inorganic 1009 Separation means 1010 cleaning solution 1011 Cleaning means 1012 Wash waste liquid 1013 Hazardous substance decomposition processing means 1014 slurry 1015 Slurrying means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大浦 康二 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 Ｆターム(参考） 3B201 AA47 AB33 AB45 BB02 BB62 BB83 BB87 BB92 CB15 CD22 CD33 4D004 AA21 AB02 AB05 AB06 CA04 CA40 CB09 CB13 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Koji Oura 1-1 Satinoura Town, Nagasaki City, Nagasaki Prefecture Mitsubishi Heavy Industries Nagasaki Shipyard Co., Ltd. F term (reference) 3B201 AA47 AB33 AB45 BB02 BB62 BB83 BB87 BB92 CB15 CD22 CD33 4D004 AA21 AB02 AB05 AB06 CA04 CA40 CB09 CB13
Claims (12)
浄液で洗浄する洗浄装置であって、 供給口を上部に有すると共に、開閉可能な仕切弁を備え
た排出口を下部に有する洗浄槽と、 前記洗浄槽の内部に回動可能に支持されて、回動軸方向
に沿って開口部を形成された洗浄筐と、 前記洗浄筐を回動させる洗浄筐駆動手段とを備えている
ことを特徴とする洗浄装置。1. A cleaning device for cleaning a fine object to which harmful substances are adhered with a cleaning liquid, the cleaning tank having a supply port at an upper portion and an outlet having a sluice valve that can be opened and closed at a lower portion. A cleaning casing that is rotatably supported inside the cleaning tank and has an opening formed along the rotation axis direction; and a cleaning casing driving unit that rotates the cleaning casing. A characteristic cleaning device.
に沿って開口部を形成された外筒筐と、 前記外筒筐の内部に同軸をなして回動可能に支持され
て、回動軸方向に沿って開口部を形成された内筒筐とを
備えてなり、 前記洗浄筐駆動手段が、前記外筒筐および前記内筒筐を
それぞれ独立して回転させることができると共に、同期
して回転させることができることを特徴とする洗浄装
置。2. The outer casing as claimed in claim 1, wherein the cleaning casing is rotatably supported inside the cleaning tank and has an opening formed along a rotation axis direction. An inner cylinder casing rotatably supported coaxially inside the casing and having an opening formed along the rotation axis direction; A cleaning device, wherein the inner cylinder casings can be rotated independently of each other and can be rotated in synchronization with each other.
徴とする洗浄装置。3. The cleaning device according to claim 1, wherein a scraping fin is provided upright on an inner surface of the cleaning casing.
て、 前記洗浄筐の外面に攪拌翼を立設したことを特徴とする
洗浄装置。4. The cleaning device according to claim 1, wherein a stirring blade is provided upright on an outer surface of the cleaning casing.
て、 前記洗浄筐の内部に超音波発振手段を設けたことを特徴
とする洗浄装置。5. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising ultrasonic wave oscillating means provided inside the cleaning casing.
て、 前記洗浄筐の内部の前記超音波発振手段と前記開口部と
の間に保護板を設けたことを特徴とする洗浄装置。6. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a protective plate provided between the ultrasonic wave oscillating means and the opening inside the cleaning casing.
て、 前記洗浄槽の内部の前記洗浄筐と前記排出口との間に前
記被処理物の落下衝撃緩衝手段を設けたことを特徴とす
る洗浄装置。7. The drop impact buffering means according to claim 1, wherein a drop impact buffering means for the object to be processed is provided between the cleaning casing and the discharge port inside the cleaning tank. Cleaning equipment.
槽の前記供給口とを連結するように請求項１から請求項
７のいずれかの洗浄装置を直列に複数配設したことを特
徴とする洗浄装置。8. A plurality of cleaning devices according to any one of claims 1 to 7 are arranged in series so as to connect the discharge port of the cleaning tank and the supply port of another cleaning tank. A characteristic cleaning device.
の弁体に連結し、前記洗浄液を供給する供給管を前記洗
浄槽の上部寄りに連結していることを特徴とする洗浄装
置。9. The discharge pipe for discharging the cleaning liquid according to claim 1 or 8, wherein the drain pipe for discharging the cleaning liquid is connected to a valve body of the gate valve of the cleaning tank, and a supply pipe for supplying the cleaning liquid is located near an upper portion of the cleaning tank. A cleaning device characterized by being connected to.
上部に位置する前記洗浄槽内に供給して再利用すると共
に、最上部に位置する前記洗浄槽で使用された洗浄液を
精製処理して任意の位置の前記洗浄槽内に供給する洗浄
液処理システムを設けたことを特徴とする洗浄装置。10. The cleaning tank used in the lower cleaning tank is supplied to the upper cleaning tank to be reused and the uppermost cleaning tank is used. A cleaning apparatus comprising a cleaning solution processing system for purifying the cleaning solution used in 1. and supplying the cleaning solution into the cleaning tank at an arbitrary position.
おいて、 前記有害物質が、ＰＣＢ、廃棄塗料、廃棄燃料、有害薬
品のうちの少なくとも一種であることを特徴とする洗浄
装置。11. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the harmful substance is at least one of PCB, waste paint, waste fuel, and harmful chemicals.
おいて、 前記被処理物が、ＰＣＢを含有したトランスまたはコン
デンサの無機物製の破砕された部材であることを特徴と
する洗浄装置。12. The cleaning device according to claim 1, wherein the object to be processed is a crushed member made of an inorganic material of a transformer or a capacitor containing PCB.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001253820A JP2003062532A (en) | 2001-08-24 | 2001-08-24 | Cleaning device |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001253820A JP2003062532A (en) | 2001-08-24 | 2001-08-24 | Cleaning device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003062532A true JP2003062532A (en) | 2003-03-04 |
Family
ID=19082085
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001253820A Withdrawn JP2003062532A (en) | 2001-08-24 | 2001-08-24 | Cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003062532A (en) |
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