JP2003041247A - Plasma display apparatus - Google Patents

Plasma display apparatus

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JP2003041247A
JP2003041247A JP2001231462A JP2001231462A JP2003041247A JP 2003041247 A JP2003041247 A JP 2003041247A JP 2001231462 A JP2001231462 A JP 2001231462A JP 2001231462 A JP2001231462 A JP 2001231462A JP 2003041247 A JP2003041247 A JP 2003041247A
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JP
Japan
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phosphor
phosphor layer
plasma display
silicon compound
compound containing
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Pending
Application number
JP2001231462A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaki Aoki
正樹 青木
Mitsuhiro Otani
光弘 大谷
Hiroyuki Kawamura
浩幸 河村
Kazuhiko Sugimoto
和彦 杉本
Junichi Hibino
純一 日比野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display apparatus wherein brightness degradation of a phosphor layer of a panel is prevented. SOLUTION: In this plasma display apparatus, a phosphor layer is composed of a phosphor the surface of which is coated with a silicon compound comprising fluorine or nitrogen, so that a plasma display panel with a high brightness can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はテレビなどの画像表
示に用いられるプラズマディスプレイ装置に関し、特に
蛍光灯などの紫外線により励起されて発光する蛍光体層
を有するプラズマディスプレイ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display device used for displaying images in a television or the like, and more particularly to a plasma display device having a phosphor layer which emits light when excited by ultraviolet rays such as a fluorescent lamp.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータやテレビなどの画像
表示に用いられているカラー表示デバイスにおいて、プ
ラズマディスプレイパネル(以下「PDP」という)を
用いた表示装置は、大型で薄型軽量を実現することので
きるカラー表示デバイスとして注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in color display devices used for image display in computers, televisions, etc., a display device using a plasma display panel (hereinafter referred to as "PDP") has a large size, a thin shape and a light weight. It is attracting attention as a color display device that can.

【0003】このPDPは、いわゆる3原色(赤、緑、
青)を加法混色することにより、フルカラー表示を行っ
ている。このフルカラー表示を行うために、PDPには
3原色である赤(R)、緑(G)、青(B)の各色を発
光する蛍光体層が備えられ、この蛍光体層を構成する蛍
光体粒子はPDPの放電セル内で発生する紫外線により
励起され、各色の可視光を生成している。
This PDP has so-called three primary colors (red, green,
Full color display is performed by additively mixing (blue). In order to perform this full-color display, the PDP is provided with a phosphor layer that emits each of the three primary colors of red (R), green (G), and blue (B), and the phosphor that constitutes this phosphor layer The particles are excited by the ultraviolet rays generated in the discharge cell of the PDP to generate visible light of each color.

【0004】上記各色の蛍光体に用いられる化合物とし
ては、例えば、赤色を発光する(Y,Gd)BO3:E
3+,Y23:Eu3+、緑色を発光するZn2SiO4
Mn2 +、青色を発光するBaMgAl1017:Eu2+
知られている。これらの各蛍光体は、所定の原材料を混
ぜ合わせた後、1000℃以上の高温で焼成することに
より固相反応されて作製される(例えば、蛍光体ハンド
ブック P219,225 オーム社参照)。この焼成
により得られた蛍光体粒子は、粉砕してふるいわけ
(赤、緑の平均粒径:2μ〜5μm、青の平均粒径:3
μ〜10μm)を行ってから使用している。
Examples of compounds used for the phosphors of the respective colors include (Y, Gd) BO 3 : E which emits red light.
u 3+ , Y 2 O 3 : Eu 3+ , Zn 2 SiO 4 emitting green light:
Mn 2 +, BaMgAl 10 O 17 emits blue: Eu 2+ is known. Each of these phosphors is prepared by mixing predetermined raw materials and then firing at a high temperature of 1000 ° C. or higher to cause a solid phase reaction (for example, see Phosphor Handbook P219, 225 Ohm Co.). The phosphor particles obtained by this firing are crushed and sieved (average particle size of red and green: 2 μm to 5 μm, average particle size of blue: 3
μ to 10 μm) before use.

【0005】蛍光体粒子を粉砕、ふるいわけ(分級)す
る理由は、一般にPDPに蛍光体層を形成する場合にお
いて各色蛍光体粒子をペーストにしてスクリーン印刷す
る手法が用いられており、ペーストを塗布した際に蛍光
体の粒子径が小さく、均一である(粒度分布がそろって
いる)方がよりきれいな塗布面が得易いためである。つ
まり、蛍光体の粒子径が小さく、均一で形状が球状に近
いほど、塗布面がきれいになり、蛍光体層における蛍光
体粒子の充填密度が向上するとともに粒子の発光表面積
が増加し、アドレス駆動時の不安定性も改善される。理
論的にはPDP表示装置の輝度を上げることができると
考えられるからである。
The reason for crushing and sieving (classifying) the phosphor particles is generally the method of screen-printing the phosphor particles of each color into paste when forming the phosphor layer on the PDP. This is because it is easier to obtain a clean coated surface when the phosphor has a small particle size and is uniform (having a uniform particle size distribution). In other words, the smaller the particle size of the phosphor, the more uniform and the closer the shape is to the spherical shape, the cleaner the coated surface, the higher the packing density of the phosphor particles in the phosphor layer, and the larger the light emitting surface area of the particles. The instability of is also improved. This is because it is theoretically possible to increase the brightness of the PDP display device.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら蛍光体粒
子の粒径を小さくすることで蛍光体の表面積が増大した
り、蛍光体表面の欠陥が増大したりする。そのため、蛍
光体表面に多くの水や炭酸ガスあるいは、炭化水素系の
有機物が付着しやすくなる。特に水が蛍光体表面に多く
吸着していると、パネル製造工程でそれが大量にパネル
内に持ち込まれ放電中に蛍光体やMgOと反応して輝度
劣化や色度変化(色度変化による色ずれや画面の焼き付
け)あるいは駆動マージンの低下や放電電圧の上昇とい
った課題が発生する。
However, reducing the particle size of the phosphor particles increases the surface area of the phosphor and increases the defects on the surface of the phosphor. Therefore, a large amount of water, carbon dioxide gas, or a hydrocarbon-based organic substance is likely to adhere to the surface of the phosphor. In particular, if a large amount of water is adsorbed on the surface of the phosphor, a large amount of it is brought into the panel during the panel manufacturing process and reacts with the phosphor and MgO during discharge to cause luminance deterioration and chromaticity change (color due to chromaticity change). Problems such as misalignment and screen printing), a decrease in drive margin, and an increase in discharge voltage occur.

【0007】本発明は上記課題に鑑みなされたもので、
蛍光体表面への水の吸着を抑え、蛍光体の輝度劣化や色
度変化あるいは、放電特性の改善を行うことを目的とす
るものである。
The present invention has been made in view of the above problems,
The purpose of the present invention is to suppress the adsorption of water on the surface of the phosphor, and to improve the luminance and the chromaticity of the phosphor or to improve the discharge characteristics.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために本発明は、蛍光体の表面をフッ素または窒素を
含有する珪素化合物でコーティングを行うことにより、
蛍光体表面への水の吸着を抑え、蛍光体の輝度劣化や色
度変化あるいは、放電特性の改善を行うことができる。
In order to solve such a problem, the present invention provides a phosphor by coating the surface of the phosphor with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
It is possible to suppress the adsorption of water on the surface of the phosphor, improve the brightness of the phosphor, change the chromaticity, or improve the discharge characteristics.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】PDPなどに用いられている蛍光
体は、固相反応法や水溶液反応法等で作製されている
が、粒子径が小さくなると欠陥が発生しやすくなる。特
に固相反応では蛍光体を焼成後粉砕することで、多くの
欠陥が生成することが知られている。また、パネルを駆
動する時の放電によって生じる波長が147nmの紫外
線によっても、蛍光体に欠陥が発生するということも知
られている(例えば、電子情報通信学会 技術研究報
告,EID99−94 2000年1月27日)。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The phosphors used in PDPs and the like are produced by a solid phase reaction method, an aqueous solution reaction method or the like, but defects are likely to occur when the particle size is small. In particular, in the solid phase reaction, it is known that many defects are generated by crushing the phosphor after firing. Further, it is also known that a fluorescent substance also has a defect by ultraviolet rays having a wavelength of 147 nm generated by electric discharge when driving a panel (for example, IEICE Technical Research Report, EID99-94 2000 1 27th of a month).

【0010】特に青色蛍光体であるBaMgAl
1017:Euは、蛍光体自身に酸素欠陥(特にBa−O
層)を有していることも知られている(例えば、応用物
理,第70巻 第3号 2001年 PP310)。
Especially BaMgAl which is a blue phosphor
10 O 17 : Eu is an oxygen defect (especially Ba—O) in the phosphor itself.
It is also known to have layers) (for example, Applied Physics, Vol. 70, No. 3, 2001, PP310).

【0011】従来これらの欠陥が発生することそのもの
が、輝度劣化の原因であるとされてきた。すなわち、パ
ネル駆動時に発生するイオンによる蛍光体の衝撃によっ
て出来る欠陥や、波長147nmの紫外線によって出来
る欠陥が劣化の原因であるとされてきた。
Conventionally, it has been said that the occurrence of these defects is the cause of deterioration in brightness. That is, it has been said that the defects caused by the impact of the phosphors by the ions generated when the panel is driven and the defects caused by the ultraviolet rays having a wavelength of 147 nm are the causes of the deterioration.

【0012】本発明者らは、輝度劣化の原因の本質は欠
陥が存在することだけでおこるのではなく、欠陥に水や
炭酸ガスが吸着し、その吸着した状態に紫外線やイオン
が照射されることによって蛍光体が水と反応して輝度劣
化や色ずれがおこることを見出した。すなわち、蛍光体
が水や炭酸ガスを吸着することによって、種々の劣化が
おこるという知見を得た。この知見から蛍光体表面に水
の吸着を低減するフッ素または窒素を含有する珪素化合
物をコートすることによって水の吸着を抑制し、前記劣
化の防止を行った。
The present inventors have found that the cause of the deterioration in luminance is not only caused by the presence of defects, but water or carbon dioxide gas is adsorbed to the defects, and the adsorbed state is irradiated with ultraviolet rays or ions. As a result, it was found that the phosphor reacts with water to cause luminance deterioration and color shift. That is, it was found that various kinds of deterioration occur when the phosphor adsorbs water or carbon dioxide gas. From this knowledge, the adsorption of water was suppressed by coating the surface of the phosphor with a silicon compound containing fluorine or nitrogen that reduces the adsorption of water, and the above deterioration was prevented.

【0013】まず、本発明の蛍光体の製造方法について
説明する。
First, a method of manufacturing the phosphor of the present invention will be described.

【0014】ここで、蛍光体本体の製造方法としては、
従来のフラックスを用いた固相焼結法や、蛍光体原料が
含有された水溶液中でアルカリ等を加えて沈殿させる共
沈法を用いた。蛍光体の前駆体を熱処理して得られる方
法、あるいは、蛍光体原料が入った水溶液を加熱された
炉中に噴霧して作製する液体噴霧法等の蛍光体の製造方
法が考えられるが、いずれの方法で作製した蛍光体を用
いてもフッ素や窒素を含有する珪素化合物をコートする
ことで水の吸着を抑える効果があり、これらの蛍光体を
PDPに用いることで紫外線(波長147nm)やプラ
ズマ中のイオンや高速中性粒子の衝撃による蛍光体の各
種劣化を抑える効果があることが判明した。
Here, as a method of manufacturing the phosphor body,
A conventional solid-phase sintering method using a flux or a co-precipitation method in which an alkali or the like is added and precipitated in an aqueous solution containing a phosphor material is used. A method of obtaining a phosphor precursor by heat treatment, or a method of manufacturing a phosphor such as a liquid spraying method in which an aqueous solution containing a phosphor raw material is sprayed in a heated furnace can be considered. Even if the phosphor prepared by the method described above is used, it is effective in suppressing adsorption of water by coating a silicon compound containing fluorine or nitrogen. By using these phosphors in a PDP, ultraviolet rays (wavelength 147 nm) or plasma is used. It was found that it has the effect of suppressing various kinds of deterioration of the phosphor due to the impact of the ions inside and high-speed neutral particles.

【0015】ここで蛍光体作製方法の一例として、青色
蛍光体の固相反応法による製法について述べる。原料と
して、Ba(NO32,Mg(NO32.Al(N
32,Eu(NO32等の硝酸塩と、焼結促進剤とし
てのフラック(AlF3,BaCl2)を少量加えて14
00℃で2hr焼成後、これを粉砕及びふるい分けを行
い、次に1500℃で2時間還元性雰囲気(H25%,
2中)で焼成し、再び粉砕とふるい分けを行い蛍光体
とする。
Here, as an example of a method for producing a phosphor, a method for producing a blue phosphor by a solid-phase reaction method will be described. As a raw material, Ba (NO 3 ) 2 , Mg (NO 3 ) 2 . Al (N
O 3 ) 2 , Eu (NO 3 ) 2 and other nitrates, and a small amount of flacc (AlF 3 , BaCl 2 ) as a sintering accelerator were added to the mixture.
After firing at 00 ° C. for 2 hours, this was crushed and sieved, then at 1500 ° C. for 2 hours in a reducing atmosphere (H 2 5%,
Firing (in N 2 ), grinding and sieving again to obtain a phosphor.

【0016】水溶液から蛍光体を作製する場合は(液相
法)上記硝酸塩を水に溶解後、アルカリを投入して共沈
物(水和物)を作製し、それを水熱合成(オートクレー
ブ中で結晶化)や、空気中で焼成、あるいは高温炉中に
噴霧して得られた粉体を1500℃で2時間、還元性雰
囲気(H25%,N2中)で焼成して青色蛍光体とする。
When a phosphor is prepared from an aqueous solution (liquid phase method), the above nitrate is dissolved in water and then an alkali is added to prepare a coprecipitate (hydrate), which is hydrothermally synthesized (in an autoclave). And crystallized in air or sprayed in a high temperature furnace for 2 hours at 1500 ° C. in a reducing atmosphere (H 2 5%, N 2 ) for blue fluorescence. The body.

【0017】次に、上記の方法で得られた蛍光体粉末に
フッ素あるいは窒素を含有する珪素化合物のコートを行
う方法について述べる。撥水処理(撥水物質を蛍光体表
面にコーティングする処理)は、例えば撥水性を有する
フッ素や窒素を含有する珪素化合物として、臨界表面張
力(γe,dyn/cm)の値が21dyn/cm以下の物質をコー
ト原料として用いることが好ましい。
Next, a method of coating the phosphor powder obtained by the above method with a silicon compound containing fluorine or nitrogen will be described. The water repellent treatment (treatment of coating the phosphor surface with a water repellent substance) is, for example, a silicon compound containing fluorine or nitrogen having water repellency and a critical surface tension (γe, dyn / cm) value of 21 dyn / cm or less. It is preferable to use the above substance as a coating material.

【0018】例えば、パーフルオロアルキル官能性シラ
ン化学式として、CF3CH2CH2Si(OCH33
CF3(CF23CH2CH2Si(OCH33,CF
3(CF 27CH2CH2Si(OCH33,CF3(CF
27CH2CH2CH3Si(O・CH33,CF3(CF
26COO(CH23Si(OCH33,CF3(C
26COS(CH23Si(OCH33,CF3(C
26CONH(CH23Si(OC253,CF
3(CF27SO2NH(CH23Si(OC253
CF3(CF27CH2CH2SCH2CH2Si(OC
33,CF3(CF23CH 2CH2SCH2CH2Si
(OCH33等が有効である。
For example, a perfluoroalkyl functional sila
The chemical formula is CF3CH2CH2Si (OCH3)3
CF3(CF2)3CH2CH2Si (OCH3)3, CF
3(CF 2)7CH2CH2Si (OCH3)3, CF3(CF
2)7CH2CH2CH3Si (O ・ CH3)3, CF3(CF
2)6COO (CH2)3Si (OCH3)3, CF3(C
F2)6COS (CH2)3Si (OCH3)3, CF3(C
F2)6CONH (CH2)3Si (OC2HFive)3, CF
3(CF2)7SO2NH (CH2)3Si (OC2HFive)3
CF3(CF2)7CH2CH2SCH2CH2Si (OC
H3)3, CF3(CF2)3CH 2CH2SCH2CH2Si
(OCH3)3Etc. are effective.

【0019】また、シラン系以外にアセチルアセトン系
(β−ジケトン系)のフルオロアセチルアセトン金属塩
やフッ化水素塩(H2SiF6)シラザン等のフッ素や窒
素含有化合物が有効である。
Besides silane-based compounds, fluorine- and nitrogen-containing compounds such as acetylacetone-based (β-diketone-based) fluoroacetylacetone metal salts and hydrogen fluoride (H 2 SiF 6 ) silazane are effective.

【0020】これらの化合物とアルコールあるいは水と
の混合液と蛍光体をボールミルやジェットミル等で混合
後、アルコールや水を除去し、乾燥後200℃以上で焼
成して蛍光体表面を撥水化させる。すなわち200℃以
上で焼成することで蛍光体表面にフッ素(F),窒素
(N)の含有した金属酸化物〔Si(O・F)2Si
(O・N)2Si(O・F・N)2等〕の膜が形成される
ため、表面張力が下がり、水の吸着が少なくなる、すな
わち撥水化(水をはじく)されると考えられる。
A mixture of these compounds and alcohol or water and the phosphor are mixed by a ball mill, a jet mill or the like, alcohol and water are removed, dried and baked at 200 ° C. or higher to make the phosphor surface water repellent. Let That is, by baking at a temperature of 200 ° C. or higher, a metal oxide containing fluorine (F) and nitrogen (N) on the surface of the phosphor [Si (OF) 2 Si
(O ・ N) 2 Si (O ・ F ・ N) 2 etc.] is formed, so the surface tension is lowered and the adsorption of water is reduced, that is, it is considered to be water repellent (repelling water). To be

【0021】このように従来の蛍光体粉作製工程に珪素
の酸フッ化物、酸窒化物をコートする撥水処理工程を加
えることで、水に対して強い(蛍光体焼成工程や、パネ
ル封着工程、パネルエージング工程、あるいはパネル駆
動中に発生する水や炭酸ガスに耐久性を持つ)蛍光体が
得られる。
As described above, by adding the water repellent treatment step of coating silicon oxyfluoride and oxynitride to the conventional phosphor powder preparation step, it is resistant to water (phosphor firing step and panel sealing step). A phosphor that is durable to water and carbon dioxide gas generated during the process, panel aging process, or panel driving is obtained.

【0022】すなわち、本発明によるプラズマディスプ
レイ装置は、1色または複数色の放電セルが複数配列さ
れるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が配
設され、当該蛍光体層が紫外線により励起されて発光す
るPDPを備え、前記蛍光体層の中には、粒度分布のそ
ろった撥水性物質をコートした蛍光体粒子から構成され
ていることを特徴とする。
That is, in the plasma display device according to the present invention, a plurality of discharge cells of one color or a plurality of colors are arranged, and a phosphor layer of a color corresponding to each discharge cell is disposed, and the phosphor layer is an ultraviolet ray. It is characterized in that it is provided with a PDP that is excited by and emits light, and that the phosphor layer is composed of phosphor particles coated with a water-repellent substance having a uniform particle size distribution.

【0023】撥水性物質がコーティングされた蛍光体粒
子の粒径が0.05μm〜3μmと小さく、粒度分布も
良好である。また、蛍光体層を形成する蛍光体粒子の形
状が球状であればさらに充填密度が向上し、実質的に発
光に寄与する蛍光体粒子の発光面積が増加する。したが
って、PDPの輝度も向上すると共に、輝度劣化や色ず
れが抑制されて輝度特性に優れたプラズマディスプレイ
装置を得ることができる。
The particle size of the phosphor particles coated with the water-repellent substance is as small as 0.05 μm to 3 μm, and the particle size distribution is good. If the shape of the phosphor particles forming the phosphor layer is spherical, the packing density is further improved, and the light emitting area of the phosphor particles that substantially contributes to light emission is increased. Therefore, it is possible to obtain a plasma display device in which the luminance of the PDP is improved and luminance deterioration and color shift are suppressed and the luminance characteristics are excellent.

【0024】ここで、蛍光体粒子の平均粒径は、0.1
μm〜2.0μmの範囲がさらに好ましい。また粒度分
布は最大粒径が平均値の4倍以下で最小値が平均値の1
/4以上がさらに好ましい。蛍光体粒子において紫外線
が到達する領域は、粒子表面から数百nm程度と浅く、
ほとんど表面しか発光しない状態であり、こうした蛍光
体粒子の粒径が2.0μm以下になれば発光に寄与する
粒子の表面積が増加して蛍光体層の発光効率は高い状態
に保たれる。また3.0μm以上であると、蛍光体の厚
みが20μm以上必要となり放電空間が十分確保できな
い。0.1μm以下であると欠陥が生じやすく輝度が向
上しない。蛍光体にコーティングされるフッ素または窒
素を含有する珪素化合物層の厚みは、その効果が発揮さ
れる必要最小限にするのが望ましい。そのため蛍光体に
対して0.01〜1.0重量%の量が望ましい。
Here, the average particle diameter of the phosphor particles is 0.1.
The range of μm to 2.0 μm is more preferable. In the particle size distribution, the maximum particle size is 4 times the average value or less and the minimum value is 1 of the average value.
/ 4 or more is more preferable. The region where the ultraviolet rays reach in the phosphor particles is as shallow as several hundred nm from the particle surface,
It is in a state of emitting light only on the surface, and when the particle size of such phosphor particles becomes 2.0 μm or less, the surface area of the particles contributing to light emission increases and the luminous efficiency of the phosphor layer is kept high. If it is 3.0 μm or more, the thickness of the phosphor is required to be 20 μm or more, and the discharge space cannot be secured sufficiently. If the thickness is 0.1 μm or less, defects are likely to occur and the brightness is not improved. It is desirable that the thickness of the fluorine-containing or nitrogen-containing silicon compound layer coated on the phosphor is set to the minimum necessary to exert its effect. Therefore, the amount is preferably 0.01 to 1.0% by weight with respect to the phosphor.

【0025】また、蛍光体層の厚みを蛍光体粒子の平均
粒径の8〜25倍の範囲内にすれば、蛍光体層の発光効
率が高い状態を保ちつつ放電空間を十分に確保すること
ができるので、PDP表示装置における輝度を高くする
ことができる。特に蛍光体の平均粒径が3μm以下であ
るとその効果は大きい(映像情報メディア学会 IDY
2000−317.PP32)。
Further, if the thickness of the phosphor layer is set within the range of 8 to 25 times the average particle size of the phosphor particles, a sufficient discharge space can be ensured while maintaining a high luminous efficiency of the phosphor layer. Therefore, the brightness of the PDP display device can be increased. In particular, the effect is great when the average particle size of the phosphor is 3 μm or less.
2000-317. PP32).

【0026】ここで、PDPにおける青色蛍光体層に使
用する具体的な蛍光体粒子としては、Ba1-XMgAl
1017:EuX、もしくはBa1-x-ySryMgAl10
17:EuXで表される化合物を用いることができる。こ
こで、前記化合物におけるXの値は、0.03≦X≦
0.20,0.1≦Y≦0.5であれば、上記と同様の
理由から好ましい。
Here, as specific phosphor particles used for the blue phosphor layer in the PDP, Ba 1 -X MgAl is used.
10 O 17 : Eu X , or Ba 1-xy Sr y MgAl 10 O
A compound represented by 17 : Eu X can be used. Here, the value of X in the compound is 0.03 ≦ X ≦
It is preferable that 0.20 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.5 for the same reason as above.

【0027】PDPにおける赤色蛍光体層に使用する具
体的な蛍光体粒子としては、Y2X 3:EuX、もしくは
(Y,Gd)1-XBO3:EuXで表される化合物を用い
ることができる。
Tool used for red phosphor layer in PDP
As the physical phosphor particles, Y2XO 3: EuXOr
(Y, Gd)1-XBO3: EuXUsing the compound represented by
You can

【0028】ここで、赤色蛍光体の化合物におけるXの
値は、0.05≦X0.20であれば、輝度及び輝度劣
化に優れ好ましい。
Here, when the value of X in the compound of the red phosphor is 0.05 ≦ X0.20, it is preferable because it is excellent in luminance and luminance deterioration.

【0029】PDPにおける緑色蛍光体層に使用する具
体的な蛍光体粒子としては、Ba1- XAl1219:M
X、もしくはZn2-XSiO4:MnXで表される化合物
を用いることができる。
Specific phosphor particles used for the green phosphor layer in the PDP include Ba 1- x Al 12 O 19 : M.
A compound represented by n X or Zn 2-x SiO 4 : Mn x can be used.

【0030】ここで、上記緑色蛍光体の化合物における
Xの値は、0.01≦X≦0.10であることが、輝
度、および輝度劣化に優れるため好ましい。
Here, it is preferable that the value of X in the compound of the above-mentioned green phosphor is 0.01 ≦ X ≦ 0.10 because the brightness and the deterioration of the brightness are excellent.

【0031】また、本発明に係るプラズマディスプレイ
パネルの製造方法は、第1のパネル基板上に表面にフッ
素または窒素を含有する珪素化合物がコーティングされ
た蛍光体粒子とバインダとからなるペーストを配設する
配設工程と、当該第1のパネル上に配設されたペースト
に含まれるバインダを焼失させる焼成工程と、焼成工程
により蛍光体粒子が基板上に配設された第1のパネルと
第2のパネルとを重ね合わせて封着する工程とを備える
ことを特徴とする。これにより、輝度、および輝度劣化
に優れたプラズマディスプレイ装置を得ることができ
る。
Further, in the method for manufacturing a plasma display panel according to the present invention, a paste comprising phosphor particles having a surface coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen and a binder is provided on the first panel substrate. An arranging step, a firing step of burning out the binder contained in the paste disposed on the first panel, a first panel in which the phosphor particles are disposed on the substrate by the firing step, and a second And a step of sealing the panel with the panel. As a result, it is possible to obtain a plasma display device having excellent brightness and brightness deterioration.

【0032】また、紫外線により励起されて可視光を発
光する蛍光体層を有する蛍光灯であって、本発明にかか
る蛍光体を用いた蛍光灯は、前記蛍光体層は、表面にフ
ッ素または窒素を含有する珪素化合物からなる撥水処理
を行った蛍光体粒子を含んで構成されるもので、このよ
うに構成することにより蛍光体粒子自体が発光特性に優
れ、輝度及び輝度劣化に優れた蛍光灯とすることができ
る。
A fluorescent lamp having a phosphor layer which emits visible light when excited by ultraviolet rays, and which uses the phosphor according to the present invention, the phosphor layer has fluorine or nitrogen on the surface. It is configured to include a water-repellent phosphor particle made of a silicon compound containing a phosphor, and by virtue of such a constitution, the phosphor particle itself has excellent emission characteristics and is excellent in brightness and brightness deterioration. It can be a light.

【0033】以下、本発明の一実施の形態によるプラズ
マディスプレイ装置について図面を参照しながら説明す
る。
A plasma display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】図1は、PDPにおける前面ガラス基板を
取り除いた概略平面図であり、図2は、PDPの画像表
示領域における部分断面斜視図である。なお、図1にお
いては表示電極群、表示スキャン電極群、アドレス電極
群の本数などについては分かり易くするため一部省略し
て図示している。図1、図2を参照しながらPDPの構
造について説明する。
FIG. 1 is a schematic plan view of the PDP with the front glass substrate removed, and FIG. 2 is a partial cross-sectional perspective view of the image display area of the PDP. In FIG. 1, the numbers of display electrode groups, display scan electrode groups, address electrode groups, etc. are omitted for clarity. The structure of the PDP will be described with reference to FIGS.

【0035】図1、図2に示すように、PDP100
は、前面ガラス基板101と、背面ガラス基板102
と、N本の表示電極103と、N本の表示スキャン電極
104(N本目を示す場合はその数字を付す)と、M本
のアドレス電極107(M本目を示す場合はその数字を
付す)と、斜線で示す気密シール層121などからな
り、各電極103,104,107による3電極構造の
電極マトリックスを有しており、表示スキャン電極10
4とアドレス電極107との交点にセルが形成されてい
る。
As shown in FIGS. 1 and 2, the PDP 100
Is a front glass substrate 101 and a rear glass substrate 102.
And N display electrodes 103, N display scan electrodes 104 (the number is attached when the Nth line is shown), and M address electrodes 107 (the number is attached when the Mth line is shown). , A hatched airtight sealing layer 121 and the like, and has an electrode matrix of a three-electrode structure with each electrode 103, 104, 107.
A cell is formed at the intersection of 4 and the address electrode 107.

【0036】このPDP100は、図2に示すように、
前面ガラス基板101の一主面上に表示電極103、表
示スキャン電極104、誘電体ガラス層105、MgO
保護層106が配された前面パネルと、背面ガラス基板
102の一主面上にアドレス電極107、誘電体ガラス
層108、隔壁109、および表面にフッ素または窒素
を含有する珪素化合物がコーティングされた蛍光体層1
10R,110G,110Bが配された背面パネルとが
張り合わされて、前面パネルと背面パネルとの間に形成
される放電空間122内に放電ガスが封入された構成で
ある。そして、図3に示すように、PDP駆動装置15
0に接続されてプラズマディスプレイ装置160が構成
されている。
This PDP 100 has, as shown in FIG.
The display electrode 103, the display scan electrode 104, the dielectric glass layer 105, and MgO are formed on one main surface of the front glass substrate 101.
Fluorescence in which a front panel provided with a protective layer 106, an address electrode 107, a dielectric glass layer 108, a partition 109 on one main surface of the back glass substrate 102, and a surface-coated silicon compound containing fluorine or nitrogen. Body layer 1
A rear panel on which 10R, 110G, and 110B are arranged is adhered to each other, and a discharge gas is enclosed in a discharge space 122 formed between the front panel and the rear panel. Then, as shown in FIG.
The plasma display device 160 is configured by being connected to 0.

【0037】プラズマディスプレイ装置160の駆動時
には、図3に示すように、PDP100に表示ドライバ
回路153、表示スキャンドライバ回路154、アドレ
スドライバ回路155を接続して、コントローラ152
の制御に従い、点灯させようとするセルにおいて表示ス
キャン電極104とアドレス電極107に印加すること
によりその間でアドレス放電を行った後に、表示電極1
03、表示スキャン電極104間にパルス電圧を印加し
て維持放電を行う。この維持放電により、当該セルにお
いて紫外線が発生し、この紫外線により励起された蛍光
体層が発光することでセルが点灯し、各色セルの点灯、
非点灯の組み合わせによって画像が表示される。
When the plasma display device 160 is driven, the display driver circuit 153, the display scan driver circuit 154, and the address driver circuit 155 are connected to the PDP 100 as shown in FIG.
According to the control of 1., in the cell to be lit, the display scan electrode 104 and the address electrode 107 are applied to perform the address discharge between them, and then the display electrode 1
03, a pulse voltage is applied between the display scan electrodes 104 to perform sustain discharge. Due to this sustain discharge, ultraviolet rays are generated in the cell, the phosphor layer excited by the ultraviolet rays emits light, and the cell is lit, and each color cell is lit,
The image is displayed by the combination of non-lighting.

【0038】次に、上述したPDP100について、そ
の製造方法を図1および図2を参照しながら説明する。
Next, the manufacturing method of the above-mentioned PDP 100 will be described with reference to FIGS.

【0039】前面パネルの作製 前面パネルは、前面ガラス基板101上に、まず各N本
の表示電極103および表示スキャン電極104(図2
においては各2本のみ表示している)を交互かつ平行に
ストライプ状に形成した後、その上を誘電体ガラス層1
05で被覆し、さらに誘電体ガラス層の表面にMgO保
護層106を形成することによって作製される。
Preparation of Front Panel A front panel is prepared by first displaying each of N display electrodes 103 and display scan electrodes 104 (FIG. 2) on a front glass substrate 101.
In the figure, only two of each is shown in FIG. 2), and the dielectric glass layer 1
No. 05, and then the MgO protective layer 106 is formed on the surface of the dielectric glass layer.

【0040】表示電極103および表示スキャン電極1
04は、銀からなる電極であって、電極用の銀ペースト
をスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによ
って形成される。
Display electrode 103 and display scan electrode 1
Reference numeral 04 denotes an electrode made of silver, which is formed by applying a silver paste for the electrode by screen printing and then baking the applied silver paste.

【0041】誘電体ガラス層105は、鉛系のガラス材
料を含むペーストをスクリーン印刷で塗布した後、所定
温度、所定時間(例えば560℃で20分)焼成するこ
とによって、所定の層の厚み(約20μm)となるよう
に形成する。上記鉛系のガラス材料を含むペーストとし
ては、例えば、PbO(70wt%)、B23(15w
t%)、SiO2(10wt%)、およびAl23(5
wt%)と有機バインダ(α−ターピネオールに10%
のエチルセルローズを溶解したもの)との混合物が使用
される。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶
解したものであり、エチルセルローズ以外に樹脂として
アクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカルビトールなど
も使用することができる。さらに、こうした有機バイン
ダに分散剤(例えば、グリセルトリオレエート)を混入
させてもよい。
The dielectric glass layer 105 is formed by applying a paste containing a lead-based glass material by screen printing and baking the paste at a predetermined temperature for a predetermined time (for example, 560 ° C. for 20 minutes) to obtain a predetermined layer thickness ( It is formed to have a thickness of about 20 μm. Examples of the paste containing the lead-based glass material include PbO (70 wt%), B 2 O 3 (15 w
t%), SiO 2 (10 wt%), and Al 2 O 3 (5
wt%) and organic binder (α-terpineol 10%
A solution of ethyl cellulose)) is used. Here, the organic binder is a resin dissolved in an organic solvent, and in addition to ethyl cellulose, an acrylic resin as a resin and butyl carbitol as an organic solvent can be used. Further, a dispersant (for example, glycertrioleate) may be mixed in such an organic binder.

【0042】MgO保護層106は、酸化マグネシウム
(MgO)から成るものであり、例えばスパッタリング
法やCVD法(化学蒸着法)によって層が所定の厚み
(約0.5μm)となるように形成される。
The MgO protective layer 106 is made of magnesium oxide (MgO), and is formed to have a predetermined thickness (about 0.5 μm) by, for example, a sputtering method or a CVD method (chemical vapor deposition method). .

【0043】背面パネルの作製 背面パネルは、まず背面ガラス基板102上に、電極用
の銀ペーストをスクリーン印刷し、その後、焼成するこ
とによってM本のアドレス電極107が列設された状態
に形成される。その上に鉛系のガラス材料を含むペース
トがスクリーン印刷法で塗布されて誘電体ガラス層10
8が形成され、同じく鉛系のガラス材料を含むペースト
をスクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布
した後焼成することによって隔壁109が形成される。
この隔壁109により、放電空間122はライン方向に
一つのセル(単位発光領域)毎に区画される。
Manufacture of Back Panel The back panel is first formed on the back glass substrate 102 by screen-printing a silver paste for electrodes and then firing it to form M address electrodes 107 in a row. It A paste containing a lead-based glass material is applied thereon by a screen printing method to form a dielectric glass layer 10
8 is formed, and the partition wall 109 is formed by repeatedly applying a paste containing a lead-based glass material at a predetermined pitch by a screen printing method and then baking the paste.
The discharge space 122 is partitioned by the partition wall 109 in the line direction for each cell (unit light emitting region).

【0044】図4は、PDP100の一部断面図であ
る。同図に示すように、隔壁109の間隙寸法Wが一定
値32インチ〜50インチのHD−TVに合わせて13
0μm〜240μm程度に規定される。
FIG. 4 is a partial sectional view of the PDP 100. As shown in FIG. 13, when the gap dimension W of the partition wall 109 is a constant value of 32 inches to 50 inches, it is 13 in accordance with the HD-TV.
It is regulated to about 0 μm to 240 μm.

【0045】そして、隔壁109と隔壁109の間の溝
には、フッ素または窒素を含有する珪素化合物がコート
された赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各蛍光体
粒子と有機バインダとからなるペースト状の蛍光体イン
キを塗布し、これを400〜590℃の温度で焼成して
有機バインダを焼失させることによって、各蛍光体粒子
が結着してなる蛍光体層110R,110G,110B
が形成される。この蛍光体層110R,110G,11
0Bのアドレス電極107上における積層方向の厚みL
は、各色蛍光体粒子の平均粒径のおよそ8〜25倍程度
に形成することが望ましい。
In the grooves between the partition walls 109, the red (R), green (G), and blue (B) phosphor particles coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen and the organic particles are formed. A phosphor layer 110R, 110G in which each phosphor particle is bound by applying a paste-form phosphor ink composed of a binder and firing the paste at a temperature of 400 to 590 ° C. to burn off the organic binder. , 110B
Is formed. This phosphor layer 110R, 110G, 11
Thickness L in the stacking direction on the 0B address electrode 107
Is preferably formed to be about 8 to 25 times the average particle size of the phosphor particles of each color.

【0046】すなわち、蛍光体層に一定の紫外線を照射
したときの輝度(発光効率)を確保するために、蛍光体
層は、放電空間において発生した紫外線を透過させるこ
となく吸収するために蛍光体粒子が最低でも8層、好ま
しくは20層程度積層された厚みを保持することが望ま
しく、それ以上の厚みとなれば蛍光体層の発光効率はほ
とんどサチュレートしてしまうとともに、20層程度積
層された厚みを超えると放電空間122の大きさを十分
に確保できなくなるからである。また、水熱合成法等に
より得られた蛍光体粒子のように、その粒径が十分小さ
く、かつ球状であれば、球状でない粒子を使用する場合
と比べ積層段数が同じ場合であっても蛍光体層充填度が
高まるとともに蛍光体粒子の総表面積が増加するため、
蛍光体層における実際の発光に寄与する蛍光体粒子表面
積が増加しさらに発光効率が高まる。この蛍光体層11
0R,110G,110Bの合成方法、および蛍光体層
に用いる表面に撥水物質がコートされた蛍光体粒子につ
いては後述する。
That is, in order to secure the brightness (luminous efficiency) when the phosphor layer is irradiated with a certain amount of ultraviolet light, the phosphor layer absorbs the ultraviolet light generated in the discharge space without transmitting it, so that the phosphor is absorbed. It is desirable that the particles have a laminated thickness of at least 8 layers, preferably about 20 layers. When the particles have a thickness larger than that, the luminous efficiency of the phosphor layer is almost saturated, and about 20 layers are laminated. This is because if the thickness is exceeded, the size of the discharge space 122 cannot be secured sufficiently. Further, if the particle size is sufficiently small and spherical, such as phosphor particles obtained by a hydrothermal synthesis method, etc., even if the number of stacked layers is the same as when using non-spherical particles Since the total surface area of the phosphor particles increases as the body layer filling degree increases,
The surface area of the phosphor particles contributing to the actual light emission in the phosphor layer is increased, and the light emission efficiency is further increased. This phosphor layer 11
The method of synthesizing 0R, 110G, and 110B, and the phosphor particles having the surface used for the phosphor layer coated with a water-repellent substance will be described later.

【0047】パネル張り合わせによるPDPの作製 このようにして作製された前面パネルと背面パネルは、
前面パネルの各電極と背面パネルのアドレス電極とが直
交するように重ね合わせられるとともに、パネル周縁に
封着用ガラスを介挿させ、これを例えば450℃程度で
10〜20分間焼成して気密シール層121(図1)を
形成させることにより封着される。そして、一旦放電空
間122内を高真空(例えば、1.1×10-4Pa)に
排気したのち、放電ガス(例えば、He−Xe系、Ne
−Xe系の不活性ガス)を所定の圧力で封入することに
よってPDP100が作製される。
Production of PDP by Panel Bonding The front panel and the back panel thus produced are
The electrodes on the front panel and the address electrodes on the back panel are laminated so as to be orthogonal to each other, and a sealing glass is inserted around the panel periphery, which is baked at, for example, about 450 ° C. for 10 to 20 minutes to form an airtight seal layer. It is sealed by forming 121 (FIG. 1). Then, the discharge space 122 is once evacuated to a high vacuum (for example, 1.1 × 10 −4 Pa), and then the discharge gas (for example, He—Xe system, Ne).
The PDP 100 is manufactured by enclosing a -Xe-based inert gas) at a predetermined pressure.

【0048】蛍光体層の形成方法について 図5は、蛍光体層110R,110G,110Bを形成
する際に用いるインキ塗布装置200の概略構成図であ
る。
Regarding Method of Forming Phosphor Layer FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an ink coating device 200 used when forming the phosphor layers 110R, 110G and 110B.

【0049】図5に示すように、インキ塗布装置200
は、サーバ210、加圧ポンプ220、ヘッダ230な
どを備え、蛍光体インキを蓄えるサーバ210から供給
される蛍光体インキは、加圧ポンプ220によりヘッダ
230に加圧されて供給される。ヘッダ230にはイン
キ室230aおよびノズル240が設けられており、加
圧されてインキ室230aに供給された蛍光板インキ
は、ノズル240から連続的に吐出されるようになって
いる。このノズル240の口径Dは、ノズルの目詰まり
防止のため30μm以上、かつ塗布の際の隔壁からのは
み出し防止のため隔壁109間の間隔W(約130μm
〜200μm)以下にすることが望ましく、通常30μ
m〜130μmに設定される。
As shown in FIG. 5, an ink application device 200
Includes a server 210, a pressure pump 220, a header 230, and the like, and the phosphor ink supplied from the server 210 that stores the phosphor ink is pressurized and supplied to the header 230 by the pressure pump 220. The header 230 is provided with an ink chamber 230a and a nozzle 240, and the fluorescent plate ink pressurized and supplied to the ink chamber 230a is continuously discharged from the nozzle 240. The diameter D of the nozzle 240 is 30 μm or more in order to prevent clogging of the nozzle, and the distance W (approximately 130 μm) between the partition walls 109 in order to prevent protrusion from the partition walls during coating.
~ 200 μm) or less, usually 30 μm
It is set to m to 130 μm.

【0050】ヘッダ230は、図示しないヘッダ走査機
構によって直線的に駆動されるように構成されており、
ヘッダ230を走査させるとともにノズル240から蛍
光体インキ250を連続的に吐出することにより、背面
ガラス基板102上の隔壁109間の溝に蛍光体インキ
が均一に塗布される。ここで、使用される蛍光体インキ
の粘度は25℃において、1500〜30000CPの
範囲に保たれている。
The header 230 is configured to be linearly driven by a header scanning mechanism (not shown),
By scanning the header 230 and continuously discharging the phosphor ink 250 from the nozzle 240, the phosphor ink is uniformly applied to the grooves between the partition walls 109 on the rear glass substrate 102. Here, the viscosity of the phosphor ink used is kept in the range of 1500 to 30000 CP at 25 ° C.

【0051】なお、上記サーバ210には図示しない攪
拌装置が備えられており、その攪拌により蛍光体インキ
中の粒子の沈殿が防止される。またヘッダ230は、イ
ンキ室230aやノズル240の部分も含めて一体成形
されたものであり、金属材料を機器加工ならびに放電加
工することによって作製されたものである。
The server 210 is equipped with a stirrer (not shown), and the stirring prevents the precipitation of particles in the phosphor ink. The header 230 is integrally formed including the ink chamber 230a and the nozzle 240, and is manufactured by machine processing and electrical discharge machining of a metal material.

【0052】また、蛍光体層を形成する方法としては、
上記方法に限定されるものではなく、例えば、フォトリ
ソ法、スクリーン印刷法、および蛍光体粒子を混合させ
たフィルムを配設する方法など、種々の方法を利用する
ことができる。
As a method of forming the phosphor layer,
The method is not limited to the above, and various methods such as a photolithography method, a screen printing method, and a method of disposing a film in which phosphor particles are mixed can be used.

【0053】次に、蛍光体インキおよび蛍光体について
説明する。
Next, the phosphor ink and the phosphor will be described.

【0054】蛍光体インキは、各色蛍光体粒子、バイン
ダ、溶媒とが混合され、1500〜30000センチポ
アズ(CP)となるように調合されたものであり、必要
に応じて、界面活性剤、シリカ、分散剤(0.1〜5w
t%)等を添加してもよい。
The phosphor ink is prepared by mixing phosphor particles of each color, a binder, and a solvent so as to be 1500 to 30,000 centipoise (CP), and if necessary, a surfactant, silica, Dispersant (0.1-5w
t%) and the like may be added.

【0055】この蛍光体インキに調合される赤色蛍光体
としては、(Y,Gd)1-XBO3:EuX、またはY2-X
3:EuXで表される化合物が用いられる。これらは、
その母体材料を構成するY元素の一部がEuに置換され
た化合物である。ここで、Y元素に対するEu元素の置
換量Xは、0.05≦X≦0.20の範囲となることが
好ましい。これ以上の置換量とすると、輝度は高くなる
ものの輝度劣化が著しくなることから実用上使用できに
くくなると考えられる。一方、この置換量以下である場
合には、発光中心であるEuの組成比率が低下し、輝度
が低下して蛍光体として使用できなくなるためである。
The red phosphor compounded in this phosphor ink is (Y, Gd) 1-X BO 3 : Eu X , or Y 2-X.
A compound represented by O 3 : Eu X is used. They are,
It is a compound in which part of the Y element constituting the host material is replaced with Eu. Here, the substitution amount X of the Eu element for the Y element is preferably in the range of 0.05 ≦ X ≦ 0.20. When the amount of substitution is larger than this, it is considered that practical use becomes difficult because the luminance is increased but the luminance is significantly deteriorated. On the other hand, when the amount of substitution is not more than this amount, the composition ratio of Eu, which is the emission center, decreases and the brightness decreases, so that the phosphor cannot be used as a phosphor.

【0056】緑色蛍光体としては、Ba1-XAl
1219:MnX、またはZn2-XSiO4:MnXで表され
る化合物が用いられる。Ba1-XAl1219:MnXは、
その母体材料を構成するBa元素の一部がMnに置換さ
れた化合物であり、Zn2-XSiO4:MnXは、その母
体材料を構成するZn元素の一部がMnに置換された化
合物である。ここで、Ba元素およびZn元素に対する
Mn元素の置換量Xは、上記赤色蛍光体のところで説明
した理由と同様の理由により、0.01≦X≦0.10
の範囲となることが好ましい。
As the green phosphor, Ba 1-X Al is used.
A compound represented by 12 O 19 : Mn x or Zn 2−x SiO 4 : Mn x is used. Ba 1-X Al 12 O 19 : Mn X is
Zn 2−x SiO 4 : Mn x is a compound in which part of the Ba element constituting the host material is replaced with Mn, and Zn 2−x SiO 4 : Mn x is a compound in which part of the Zn element constituting the host material is replaced with Mn. Is. Here, the substitution amount X of the Mn element with respect to the Ba element and the Zn element is 0.01 ≦ X ≦ 0.10 for the same reason as described in the red phosphor.
The range is preferably

【0057】青色蛍光体としては、Ba1-XMgAl10
17:EuX、またはBa1-x-ySryMgAl1017
EuXで表される化合物が用いられる。Ba1-XMgAl
1017:EuX、Ba1-x-ySryMgAl1017:EuX
は、その母体材料を構成するBa元素の一部がEuある
いはSrに置換された化合物である。ここで、Ba元素
に対するEu元素の置換量Xは、上記と同様の理由によ
り、前者の青色蛍光体は0.03≦X≦0.20,0.
1≦Y≦0.5の範囲となることが好ましい。
As the blue phosphor, Ba 1-X MgAl 10
O 17 : Eu X or Ba 1-xy Sr y MgAl 10 O 17 :
A compound represented by Eu X is used. Ba 1-X MgAl
10 O 17: Eu X, Ba 1-xy Sr y MgAl 10 O 17: Eu X
Is a compound in which part of the Ba element constituting the host material is replaced with Eu or Sr. Here, the substitution amount X of the Eu element with respect to the Ba element is 0.03 ≦ X ≦ 0.20,0.
It is preferable that the range is 1 ≦ Y ≦ 0.5.

【0058】これらの各色蛍光体には、表面にフッ素ま
たは窒素を含有する珪素化合物をコ−トした蛍光体が用
いられる。この蛍光体の合成方法とコート法については
後述する。
For each of these color phosphors, a phosphor having a surface coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen is used. The method for synthesizing the phosphor and the coating method will be described later.

【0059】蛍光体インキに調合されるバインダとして
は、エチルセルローズやアクリル樹脂を用い(インキの
0.1〜10wt%を混合)、溶媒としては、α−ター
ピネオール、ブチルカルビトールを用いることができ
る。なお、バインダとして、PMAやPVAなどの高分
子を、溶媒として、ジエチレングリコール、メチルエー
テルなどの有機溶媒の水を用いることもできる。
Ethyl cellulose or acrylic resin can be used as the binder to be mixed in the phosphor ink (mixing 0.1 to 10 wt% of the ink), and α-terpineol or butyl carbitol can be used as the solvent. . It is also possible to use a polymer such as PMA or PVA as the binder and water as an organic solvent such as diethylene glycol or methyl ether as the solvent.

【0060】本実施の形態においては、フッ素または窒
素を含有する珪素化合物をコーティングした蛍光体粒子
には、固相焼成法,水溶液法,水熱合成法により製造さ
れたものが用いられる。次にその製造方法について説明
する。
In the present embodiment, the phosphor particles coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen are those manufactured by a solid phase firing method, an aqueous solution method or a hydrothermal synthesis method. Next, the manufacturing method will be described.

【0061】青色蛍光体 (Ba1-XMgAl1017:EuXについて)まず、混合
液作製工程において、原料となる、硝酸バリウムBa
(No32、硝酸マグネシウムMg(NO32、硝酸ア
ルミニウムAl(NO33、硝酸ユーロピウムEu(N
32をモル比が1−X:1:10:X(0.03≦X
≦0.25)となるように混合し、これを水性媒体に溶
解して混合液を作製する。この水性媒体にはイオン交換
水、純水が不純物を含まない点で好ましいが、これらに
非水溶媒(メタノール、エタノールなど)が含まれてい
ても使用することができる。
Blue Phosphor (Ba 1-X MgAl 10 O 17 : Eu X ) First, barium nitrate Ba, which is a raw material in the mixed liquid preparation step, is used.
(No 3 ) 2 , magnesium nitrate Mg (NO 3 ) 2 , aluminum nitrate Al (NO 3 ) 3 , europium nitrate Eu (N
The molar ratio of O 3 ) 2 is 1-X: 1: 10: X (0.03 ≦ X
≦ 0.25), and this is dissolved in an aqueous medium to prepare a mixed solution. The aqueous medium is preferably ion-exchanged water or pure water in that it does not contain impurities, but it may be used even if it contains a non-aqueous solvent (methanol, ethanol, etc.).

【0062】次に、水和混合液を金あるいは白金などの
耐食性、耐熱性を持つものからなる容器に入れて、例え
ばオートクレーブなどの加圧しながら加熱することがで
きる装置を用い、高圧容器中で所定温度(100〜30
0℃)、所定圧力(0.2MPa〜10MPa)の下で
水熱合成(12〜20時間)を行う。
Next, the hydrated mixed solution is placed in a container made of a material having corrosion resistance and heat resistance such as gold or platinum and heated in a high-pressure container using, for example, an autoclave capable of heating under pressure. Predetermined temperature (100-30
Hydrothermal synthesis (12 to 20 hours) is performed under a predetermined pressure (0.2 MPa to 10 MPa) at 0 ° C.

【0063】次に、この粉体を還元雰囲気下(例えば水
素を5%、窒素を95%含む雰囲気)で、所定温度,所
定時間(例えば、1350℃で2時間)焼成し次にこれ
を分級することにより所望の青色蛍光体Ba1-XMgA
1017:EuXを得ることができる。
Next, the powder is fired in a reducing atmosphere (for example, an atmosphere containing 5% of hydrogen and 95% of nitrogen) at a predetermined temperature for a predetermined time (for example, 2 hours at 1350 ° C.) and then classified. To obtain the desired blue phosphor Ba 1-X MgA
It is possible to obtain l 10 O 17 : Eu X.

【0064】水熱合成を行うことにより得られる蛍光体
粒子は、形状が球状となり、かつ粒径が従来の固相反応
から作製されるものと比べて小さく(平均粒径:0.0
5μm〜2.0μm程度)形成される。なお、ここでい
う「球状」とは、ほとんどの蛍光粒子の軸径比(短軸径
/長軸径)が、例えば、0.9以上1.0以下となるよ
うに定義されるものであるが、必ずしも蛍光体粒子の全
てがこの範囲に入る必要はない。
The phosphor particles obtained by performing hydrothermal synthesis have a spherical shape and a smaller particle size than those prepared by a conventional solid phase reaction (average particle size: 0.0
5 μm to 2.0 μm) is formed. The term "spherical" as used herein is defined so that the axial diameter ratio (minor axis diameter / major axis diameter) of most fluorescent particles is, for example, 0.9 or more and 1.0 or less. However, not all of the phosphor particles have to fall within this range.

【0065】次に、この蛍光体粉にフッ素または窒素を
含有する珪素化合物をコ−ティングする工程であるが、
先ずパーフロロアルキルシランとして、CF3(CF2
3CH2・CH2Si(OCH33と、アルコール(C2
5・OH)と必要に応じて少量の水や塩酸との混合溶液
を作製し、次に前記青色蛍光体をこの混合溶液に投入し
て、ボールミル等を用いて十分に混合(混合時間は20
分〜2時間)し、次に、水やアルコールを除去後100
℃で乾燥し、この乾燥粉末を焼成する(焼成温度と時間
は300℃〜600℃で20分〜2時間である)。な
お、焼成後蛍光体に付着する。Si(O・F)2の量
は、0.01〜1.0重量%になるように混合液と蛍光
体の量を調整する。
Next is a step of coating the phosphor powder with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
First, as perfluoroalkylsilane, CF 3 (CF 2 )
3 CH 2 · CH 2 Si (OCH 3 ) 3 and alcohol (C 2 H
( 5.OH) and a small amount of water or hydrochloric acid as required, to prepare a mixed solution, and then the above blue phosphor is put into this mixed solution and thoroughly mixed using a ball mill or the like (mixing time is 20 minutes).
Minutes to 2 hours), then 100 after removing water and alcohol
Dry at 0 ° C. and calcinate the dried powder (calcining temperature and time are 300 ° C. to 600 ° C. for 20 minutes to 2 hours). In addition, it adheres to the phosphor after firing. The amounts of the mixed solution and the phosphor are adjusted so that the amount of Si (O · F) 2 is 0.01 to 1.0% by weight.

【0066】(Ba1-x-ySryMgAl1017:EuX
について)この蛍光体は、上述したBa1-XMgAl10
17:EuXと原料が異なるのみで固相反応法で作製す
る。以下、その使用する原料について説明する。
(Ba 1-xy Sr y MgAl 10 O 17 : Eu X
This phosphor is based on Ba 1-X MgAl 10 described above.
O 17 : Eu X is prepared by the solid-phase reaction method except that the raw material is different from Eu X. The raw materials used will be described below.

【0067】原料として、水酸化バリウムBa(OH)
2、水酸化ストロンチウムSr(OH)2、水酸化マグネ
シウムMg(OH)2、水酸化アルミニウムAl(O
H)3、水酸化ユーロピウムEu(OH)2を必要に応じ
たモル比となるようにフラックスとしてAlF3とを混
合し、所定の温度(1300℃〜1400℃)焼成(1
2〜20時間)を経ることにより、Ba1-x-ySryMg
Al1017:EuXを得ることができる。本方法で得ら
れる蛍光体粒子の平均粒径は、0.1μm〜3.0μm
程度のものが得られる。
As a raw material, barium hydroxide Ba (OH)
2 , strontium hydroxide Sr (OH) 2 , magnesium hydroxide Mg (OH) 2 , aluminum hydroxide Al (O
H) 3 and europium hydroxide Eu (OH) 2 are mixed with AlF 3 as a flux so that the molar ratio is as required, and the mixture is baked at a predetermined temperature (1300 ° C to 1400 ° C) (1
Through the 2-20 hours), Ba 1-xy Sr y Mg
Al 10 O 17 : Eu X can be obtained. The average particle size of the phosphor particles obtained by this method is 0.1 μm to 3.0 μm.
You can get something.

【0068】次にこれを還元雰囲気下、例えば水素を5
%、窒素を95%の雰囲気で所定温度(1000℃から
1600℃で2時間)焼成後、空気分級機によって分級
して蛍光体粉を作製する。
Next, this is put in a reducing atmosphere, for example, hydrogen is added to 5
%, Nitrogen in an atmosphere of 95% at a predetermined temperature (1000 ° C. to 1600 ° C. for 2 hours), and then classified by an air classifier to produce phosphor powder.

【0069】次に、この蛍光体を窒素を含有する珪素化
合物でコーティング処理を行う。コート処理材料は、窒
素含有シランカップリング剤として、ヘキサメチルジシ
ラザンを用いこれと、アルコール(エチルアルコール)
との混合溶液を作製する。次に、これを蛍光体と共にボ
ールミル等でよく混合し、アルコールを除去後100℃
で乾燥し、この乾燥粉末を焼成する(焼成温度と時間は
300℃〜600℃で20分〜2時間である。)。なお
付着するSi(O・N)2の量は蛍光体に対して0.0
1〜1.0重量%になるように混合液と蛍光体の比を調
整する。
Next, this phosphor is coated with a silicon compound containing nitrogen. The coating material used was hexamethyldisilazane as a nitrogen-containing silane coupling agent and alcohol (ethyl alcohol).
A mixed solution with is prepared. Next, this is mixed well with the phosphor in a ball mill etc., and the alcohol is removed at 100 ° C.
Then, the dried powder is fired (the firing temperature and time are 300 ° C. to 600 ° C. and 20 minutes to 2 hours). The amount of Si (O.N) 2 attached was 0.0 with respect to the phosphor.
The ratio of the mixed liquid and the phosphor is adjusted so that the amount becomes 1 to 1.0% by weight.

【0070】緑色蛍光体 (Zn2-XSiO4:MnXについて)まず、混合液作製
工程において、原料である、硝酸亜鉛Zn(NO3)、
硝酸珪素Si(NO32、硝酸マンガンMn(NO32
をモル比で2−X:1:X(0.01≦X≦0.10)
となるように混合し、次にこの混合溶液をノズルから超
音波を印加しながら1500℃に加熱した後に噴霧して
緑色蛍光体を作製する。
Green Phosphor (Zn 2−x SiO 4 : Mn x ) First, in the mixed liquid preparation step, zinc nitrate Zn (NO 3 )
Silicon nitrate Si (NO 3 ) 2 , manganese nitrate Mn (NO 3 ) 2
In a molar ratio of 2-X: 1: X (0.01 ≦ X ≦ 0.10)
Then, the mixed solution is heated to 1500 ° C. while applying ultrasonic waves from a nozzle and then sprayed to produce a green phosphor.

【0071】次に、この蛍光体上にフッ素を含有する珪
素化合物のコーティングを行う。コーティング処理材と
しては、シランカップリング剤を用いるシランカップリ
ング剤としては、パーフロロアルキルシランCF3CH2
CH2Si(OCH33を用い、これと水またはアルコ
ールとの混合溶液を作製する。次にこれを蛍光体と共に
ボールミル等でよく混合し、水やアルコールを除去後1
00℃で乾燥し、この乾燥粉末を焼成する(焼成温度と
時間は300℃〜600℃で20分〜2時間である)。
なお、付着するSi(O・F)2の量は、蛍光体に対し
て0.01〜1.0重量%になるように混合液と蛍光体
の比を調整する。
Next, the phosphor is coated with a silicon compound containing fluorine. A silane coupling agent is used as the coating material, and a perfluoroalkylsilane CF 3 CH 2 is used as the silane coupling agent.
CH 2 Si (OCH 3 ) 3 is used, and a mixed solution of this and water or alcohol is prepared. Next, this is mixed well with the phosphor in a ball mill etc. to remove water and alcohol, and then 1
It is dried at 00 ° C. and the dried powder is fired (the firing temperature and time are 300 ° C. to 600 ° C. and 20 minutes to 2 hours).
The ratio of the mixed liquid to the phosphor is adjusted so that the amount of Si (O · F) 2 attached is 0.01 to 1.0% by weight with respect to the phosphor.

【0072】(Ba1-XAl1219:MnXについて)ま
ず、混合液作製工程において、原料である、硝酸バリウ
ムBa(NO32、硝酸アルミニウムAl(NO32
硝酸マンガンMn(NO32がモル比で1−X:12:
X(0.01≦X≦0.10)となるように混合し、こ
れをイオン交換水に溶解して混合液を作製する。
(Regarding Ba 1-X Al 12 O 19 : Mn X ) First, in the mixed liquid preparation step, raw materials barium nitrate Ba (NO 3 ) 2 , aluminum nitrate Al (NO 3 ) 2 ,
Manganese nitrate Mn (NO 3 ) 2 in a molar ratio of 1-X: 12:
X (0.01 ≦ X ≦ 0.10) is mixed, and this is dissolved in ion-exchanged water to prepare a mixed solution.

【0073】次に、水和工程においてこの混合液に塩基
性水溶液(たとえばアンモニア水溶液)を滴下すること
により、水和物を形成させる。その後、水熱合成工程に
おいて、この水和物とイオン交換水を白金や金などの耐
食性、耐熱性を持つものからなるカプセル中に入れて、
例えばオートクレーブを用いて高圧容器中で所定温度、
所定圧力(例えば、温度100〜300℃、圧力0.2
M〜10MPa)の条件下、所定時間(例えば、2〜2
0時間)水熱合成を行う。
Next, in the hydration step, a basic aqueous solution (eg, aqueous ammonia solution) is added dropwise to this mixed solution to form a hydrate. After that, in the hydrothermal synthesis step, the hydrate and ion-exchanged water are put into a capsule made of platinum or gold having corrosion resistance and heat resistance,
For example, using an autoclave at a predetermined temperature in a high-pressure container,
Predetermined pressure (for example, temperature 100 to 300 ° C., pressure 0.2
Under a condition of M to 10 MPa, a predetermined time (for example, 2 to 2)
Hydrothermal synthesis is performed for 0 hours.

【0074】その後、乾燥することにより、所望のBa
1-XAl1219:MnXが得られる。この水熱合成工程に
より、得られる蛍光体は粒径が0.1μ〜2.0μm程
度となり、その形状が球状となる。次にこの粉体を空気
中で800℃〜1100℃でアニール後分級して、緑色
の蛍光体とする。
Then, by drying, the desired Ba
1-X Al 12 O 19 : Mn X is obtained. Through this hydrothermal synthesis step, the resulting phosphor has a particle size of about 0.1 μm to 2.0 μm and a spherical shape. Next, this powder is annealed in air at 800 ° C. to 1100 ° C. and then classified to obtain a green phosphor.

【0075】次に、この蛍光体上にフッ素を含有する珪
素化合物のコーティングを行う。撥水性の材料として
は、ヘキサフルオロアセチルアセトン珪素を用い、これ
をイソプロピルアルコールに溶解し、この混合液中に蛍
光体を投入してボールミル等でよく混合し、アルコール
を除去後乾燥する。次にこの乾燥粉末を焼成する(焼成
温度と時間は300℃〜600℃で20分〜2時間であ
る)。付着するSi(O・F)3の量は、蛍光体に対し
て0.01〜1.0重量%になるように混合液と蛍光体
の量を調整する。
Next, the phosphor is coated with a silicon compound containing fluorine. Hexafluoroacetylacetone silicon is used as the water-repellent material, which is dissolved in isopropyl alcohol, and the phosphor is added to this mixed solution and mixed well with a ball mill or the like, and the alcohol is removed and dried. Next, the dry powder is fired (the firing temperature and time are 300 ° C. to 600 ° C. and 20 minutes to 2 hours). The amounts of the mixed liquid and the phosphor are adjusted so that the amount of Si (O · F) 3 attached is 0.01 to 1.0% by weight with respect to the phosphor.

【0076】赤色蛍光体 (Y,Gd)1-XBO3:EuXについて)混合液作製工
程において、原料である、硝酸イットリウムY2(N
33と水硝酸ガドリミウムGd2(NO33とホウ酸
3BO3と硝酸ユーロピウムEu2(NO33を混合
し、モル比が1−X:2:X(0.05≦X≦0.2
0)(YとGdの比は65対35)となるように混合
し、次にこれを空気中で1200℃〜1350℃で2時
間熱処理後、分級して赤色蛍光体を得る。
Red phosphor (Y, Gd) 1-X BO 3 : Eu X ) In the mixed liquid preparation process, the raw material, yttrium nitrate Y 2 (N
O 3 ) 3 , water gadolinium nitrate Gd 2 (NO 3 ) 3 , boric acid H 3 BO 3 and europium nitrate Eu 2 (NO 3 ) 3 were mixed, and the molar ratio was 1-X: 2: X (0.05. ≤ X ≤ 0.2
0) (the ratio of Y and Gd is 65:35), and the mixture is heat treated in air at 1200 ° C to 1350 ° C for 2 hours and then classified to obtain a red phosphor.

【0077】次に、この蛍光体上に撥水性のコーティン
グを行う。撥水性の材料としては、ヘキサフロロアセチ
ルアセトン珪素を用い、これをイソプロピルアルコール
に溶解し、この混合液中に水と蛍光体を投入し、ボール
ミル等でよく混合し、アルコールと水を除去後乾燥す
る。次にこの乾燥粉末を焼成する(焼成温度と時間は、
300℃〜600℃で20分〜2時間)。付着するSi
(O・F)3の量は、蛍光体に対して0.01〜1.0
重量%になるように混合液と蛍光体の量を調整する。
Next, a water-repellent coating is applied on this phosphor. Hexafluoroacetylacetone silicon is used as a water-repellent material, which is dissolved in isopropyl alcohol, water and a phosphor are added to this mixed solution, mixed well by a ball mill or the like, and dried after removing alcohol and water. . Next, the dry powder is fired (the firing temperature and time are
20 minutes to 2 hours at 300 ° C to 600 ° C). Si attached
The amount of (O · F) 3 is 0.01 to 1.0 with respect to the phosphor.
The amounts of the mixed solution and the phosphor are adjusted so that the weight% is obtained.

【0078】(Y2-X3:EuXについて)混合液作製
工程において、原料である、硝酸イットリウムY2(N
32と硝酸ユーロピウムEu(NO32を混合し、モ
ル比が2−X:X(0.05≦X≦0.30)となるよ
うにイオン交換水に溶解して混合液を作製する。
(Regarding Y 2−X O 3 : Eu X ) In the mixed liquid preparing step, yttrium nitrate Y 2 (N
O 3 ) 2 and europium nitrate Eu (NO 3 ) 2 were mixed and dissolved in ion-exchanged water so that the molar ratio was 2-X: X (0.05 ≦ X ≦ 0.30), and the mixed solution was prepared. Create.

【0079】次に、水和工程において、この水溶液に対
して塩基性水溶液(例えば、アンモニア水溶液)を添加
し、水和物を形成させる。
Next, in the hydration step, a basic aqueous solution (for example, an aqueous ammonia solution) is added to this aqueous solution to form a hydrate.

【0080】その後、水熱合成工程において、この水和
物とイオン交換水を白金や金などの耐食性、耐熱性を持
つものからなる容器中に入れ、例えばオートクレーブを
用いて高圧容器中で温度100〜300℃、圧力0.2
M〜10MPaの条件下、3〜12時間水熱合成を行
う。その後、得られた化合物の乾燥を行い、所望のY2-
X3:EuXが得られる。次にこの蛍光体を空気中で1
300℃〜1400℃2時間アニール後分級して赤色蛍
光体とする。この水熱合成工程により、得られる蛍光体
は粒径が0.1μ〜2.0μm程度となり、かつその形
状が球状となる。この粒径、形状は発光特性の優れた蛍
光体層を形成するのに適している。
Then, in the hydrothermal synthesis step, the hydrate and ion-exchanged water are placed in a container made of platinum, gold or the like having corrosion resistance and heat resistance, and the temperature is set to 100 in a high pressure container using, for example, an autoclave. ~ 300 ° C, pressure 0.2
Hydrothermal synthesis is performed for 3 to 12 hours under the condition of M to 10 MPa. Then, the obtained compound is dried to obtain the desired Y 2−
X O 3: Eu X is obtained. Then add this phosphor in air 1
After annealing at 300 ° C. to 1400 ° C. for 2 hours, classification is performed to obtain a red phosphor. Through this hydrothermal synthesis step, the resulting phosphor has a particle size of about 0.1 μm to 2.0 μm and a spherical shape. This particle size and shape are suitable for forming a phosphor layer having excellent emission characteristics.

【0081】次に、この蛍光体上に窒素を含有する珪素
化合物のコーティングを行う。コ−ティングの材料とし
ては、ヘキサメチルジシラザンを用い、これをイソプロ
ピルアルコールに溶解し、この混合液中に蛍光体を投入
しボールミル等でよく混合し、アルコールを除去後乾燥
する。次にこの乾燥粉末を焼成する(焼成温度と時間
は、300℃〜600℃で20分〜2時間)。なお蛍光
体に付着するSi(O・N)2の量は、蛍光体に対して
0.01〜1.0重量%になるように混合液と蛍光体の
量を調整する。
Next, the phosphor is coated with a silicon compound containing nitrogen. Hexamethyldisilazane is used as a coating material, and this is dissolved in isopropyl alcohol. The phosphor is added to this mixed solution and mixed well with a ball mill or the like to remove alcohol and then dried. Next, the dry powder is fired (the firing temperature and time are 300 ° C. to 600 ° C. for 20 minutes to 2 hours). The amounts of the mixed liquid and the phosphor are adjusted so that the amount of Si (O.N) 2 attached to the phosphor is 0.01 to 1.0 wt% with respect to the phosphor.

【0082】なお、上述したPDP100の蛍光体層1
10R,110G,110Bには、全ての蛍光体表面に
窒素を含有する珪素化合物で処理された蛍光体粒子を使
用したが、3色のうち特に青色蛍光体表面のみに窒素を
含有する珪素化合物で処理した蛍光体粒子が使用されて
いれば、その色の輝度が向上してPDPの輝度は向上す
ると考えられる。特に、従来の青色蛍光体は、他の蛍光
体と比べて輝度が低く、各工程中の劣化が大きいため3
色同時に発光した場合の白色の色温度は低下する傾向が
あった。
The phosphor layer 1 of the PDP 100 described above is used.
For 10R, 110G, and 110B, phosphor particles treated with a silicon compound containing nitrogen on all phosphor surfaces were used. However, among the three colors, a silicon compound containing nitrogen only on the surface of the blue phosphor was used. When the treated phosphor particles are used, it is considered that the brightness of the color is improved and the brightness of the PDP is improved. In particular, the conventional blue phosphor has lower brightness than other phosphors and has a large deterioration during each process.
The color temperature of white tends to decrease when light is emitted at the same time.

【0083】そのため、プラズマディスプレイ装置にお
いては、回路的に青色以外の蛍光体(赤、緑)のセルの
輝度を下げることにより白表示の色温度を改善していた
が、本発明にかかる製造方法により製造された青色蛍光
体を使用すれば、青色セルの輝度が高まり、他の色のセ
ルの輝度を意図的に下げることが不要となる。すなわ
ち、全ての色のセルの輝度を意図的に下げることが不要
となり、全ての色のセルの輝度をフルに使用することが
できるので、白表示の色温度が高い状態を保ちつつ、プ
ラズマディスプレイ装置の輝度を上げることができる。
勿論、全色にコーティングを行うことでさらにPDPの
特性を改善できる。
Therefore, in the plasma display device, the color temperature of white display is improved by reducing the brightness of cells of phosphors (red, green) other than blue in a circuit manner. By using the blue phosphor manufactured by, the brightness of the blue cell is increased, and it becomes unnecessary to intentionally reduce the brightness of the cells of other colors. In other words, it is not necessary to intentionally reduce the brightness of cells of all colors, and the brightness of cells of all colors can be fully used. Therefore, while maintaining a high color temperature for white display, the plasma display The brightness of the device can be increased.
Of course, the characteristics of the PDP can be further improved by coating all colors.

【0084】また、本発明による蛍光体は、同じ紫外線
により励起、発光する蛍光灯にも応用することができ
る。その場合には、蛍光管内壁に塗布されている従来の
蛍光体層を窒素またはフッ素を含有した珪素化合物で撥
水処理を行なった蛍光体からなる蛍光体層に置換すれば
よい。このように本発明を蛍光灯に適用すれば、従来の
蛍光灯より輝度及び輝度劣化に優れたものが得られる。
Further, the phosphor according to the present invention can be applied to a fluorescent lamp which is excited and emits light by the same ultraviolet ray. In that case, the conventional phosphor layer coated on the inner wall of the fluorescent tube may be replaced with a phosphor layer made of a phosphor that has been subjected to a water repellent treatment with a silicon compound containing nitrogen or fluorine. As described above, when the present invention is applied to a fluorescent lamp, it is possible to obtain a fluorescent lamp that is superior to the conventional fluorescent lamp in brightness and luminance deterioration.

【0085】〔評価実験1〕以下、本発明のPDP表示
装置の性能を評価するために、上記実施の形態に基づく
サンプルを作製し、そのサンプルについて性能評価実験
を行い、実験結果を検討する。
[Evaluation Experiment 1] In order to evaluate the performance of the PDP display device of the present invention, a sample based on the above-described embodiment is prepared, a performance evaluation experiment is conducted on the sample, and the experimental result is examined.

【0086】作製した各プラズマディスプレイ装置は、
42インチの大きさを持ち(リブピッチ150μmのH
D−TV仕様)誘電体ガラス層の厚みは20μm、Mg
O保護層の厚みは0.5μm、表示電極と表示スキャン
電極の間の距離は0.08mmとなるように作製した。
また、放電空間に封入される放電ガスは、ネオンを主体
にキセノンガスを5%混合したガスであり、所定の放電
ガス圧で封入されている。
Each produced plasma display device is
It has a size of 42 inches (H with a rib pitch of 150 μm
D-TV specification) The thickness of the dielectric glass layer is 20 μm, Mg
The O protective layer had a thickness of 0.5 μm, and the distance between the display electrode and the display scan electrode was 0.08 mm.
Further, the discharge gas sealed in the discharge space is a gas mainly containing neon and mixed with 5% xenon gas, and is sealed at a predetermined discharge gas pressure.

【0087】[0087]

【実施例】サンプル1〜8のPDP表示装置に用いる各
蛍光体粒子には全て表面にフッ素または窒素を含有する
珪素化合物で表面処理した蛍光体を用い、それぞれの合
成条件を表1に示す。
EXAMPLES All phosphor particles used in the PDP display devices of Samples 1 to 8 were phosphors whose surfaces were surface-treated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen, and the respective synthesis conditions are shown in Table 1.

【0088】[0088]

【表1】 [Table 1]

【0089】サンプル1〜4は、赤色蛍光体に(Y,G
d)1-XBO3:EuX、緑色蛍光体に(Zn2-XSi
4:MnX)、青色蛍光体に(Ba1-XMgAl
1017:EuX)を用いた組み合わせのものであり、蛍
光体の合成の方法、発光中心となるEu、Mnの置換比
率、すなわちY,Ba元素に対するEuの置換比率、お
よびZn元素に対するMnの置換比率および撥水処理材
を表1のように変化させたものである。
Samples 1 to 4 are red phosphors (Y, G
d) 1-X BO 3 : Eu X , a green phosphor (Zn 2-X Si
O 4 : Mn X ), as a blue phosphor (Ba 1-X MgAl
10 O 17 : Eu x ), which is a combination of phosphors, a method of synthesizing a phosphor, a substitution ratio of Eu and Mn serving as emission centers, that is, a substitution ratio of Eu to Y and Ba elements, and Mn to Zn element. The replacement ratio and the water repellent material are changed as shown in Table 1.

【0090】サンプル5〜8は、赤色蛍光体に(Y2-X
3:EuX)、緑色蛍光体に(Ba1 -XAl1219:M
X)、青色蛍光体に(Ba1-x-ySryMgAl
1017:EuX)を用いた組み合わせのものであり、上
記と同様、蛍光体合成方法、撥水処理方法の条件および
発光中心の置換比率を表1のように変化させたものであ
る。
Samples 5 to 8 are red phosphors (Y2 -X
O 3 : Eu X ), a green phosphor (Ba 1 -X Al 12 O 19 : M
n X ), as a blue phosphor (Ba 1-xy Sr y MgAl
10 O 17 : Eu x ), which is similar to the above, except that the conditions of the phosphor synthesis method, the water repellent treatment method, and the substitution ratio of the emission center are changed as shown in Table 1.

【0091】また、蛍光体層の形成に使用した蛍光体イ
ンキは、表1に示す各蛍光体粒子を使用して蛍光体、樹
脂、溶剤、分散剤を混合して作製した。
The phosphor ink used for forming the phosphor layer was prepared by mixing the phosphor, resin, solvent and dispersant using each phosphor particle shown in Table 1.

【0092】そのときの蛍光体インキの粘度(25℃)
について測定した結果を、いずれも粘度が1500〜3
0000CPの範囲に保たれている。形成された蛍光体
層を観察したところ、いずれも隔壁壁面に均一に蛍光体
インキが塗布されていた。
Viscosity of the phosphor ink at that time (25 ° C.)
The results of measurement of
It is kept in the range of 0000 CP. When the formed phosphor layer was observed, the phosphor ink was uniformly applied to the wall surfaces of the partition walls in all cases.

【0093】また、各色における蛍光体層に使用される
蛍光体粒子については、平均粒径0.1〜3.0μm、
最大粒径8μm以下の粒径のものが各サンプルに使用さ
れている。
The phosphor particles used in the phosphor layer of each color have an average particle diameter of 0.1 to 3.0 μm,
The maximum particle size of 8 μm or less is used for each sample.

【0094】また、比較サンプル9,10の各色蛍光粒
子には、蛍光体粒子に撥水処理を行なっていない蛍光体
を用いた。
Further, as the respective color fluorescent particles of Comparative Samples 9 and 10, the fluorescent particles which were not subjected to the water repellent treatment were used.

【0095】(実験1)作製されたサンプル1〜8およ
び比較サンプル9,10について、背面パネル製造工程
における蛍光体焼成工程(520℃,20分)におい
て、各色の輝度がどう変化するかをモデル実験(各色の
焼成前後の変化率,焼成前は粉体の焼成後はペーストを
塗布、焼成後の輝度を測定)で行い輝度変化率を測定し
た。
(Experiment 1) With respect to the produced samples 1 to 8 and comparative samples 9 and 10, a model was taken of how the brightness of each color changes in the phosphor firing step (520 ° C., 20 minutes) in the back panel manufacturing step. The luminance change rate was measured by an experiment (change rate before and after firing of each color, before firing, applying powder after firing powder, and measuring brightness after firing).

【0096】(実験2)パネル製造工程におけるパネル
張り合せ工程(封着工程450℃,20分)前後の各蛍
光体の輝度変化(劣化)率を測定した。
(Experiment 2) The luminance change (deterioration) rate of each phosphor was measured before and after the panel bonding step (sealing step 450 ° C., 20 minutes) in the panel manufacturing step.

【0097】(実験3)パネルの輝度劣化変化率の測定
は、PDP表示装置に電圧200V、周波数100kH
zの放電維持パルスを100時間連続して印加し、その
前後におけるパネル輝度を測定し、そこから輝度劣化変
化率(<〔印加後の輝度−印加前の輝度〕/印加前の輝
度>*100)を求めた。
(Experiment 3) The rate of change in luminance deterioration of the panel was measured with a PDP display device at a voltage of 200 V and a frequency of 100 kHz.
The discharge sustaining pulse of z was continuously applied for 100 hours, and the panel luminance before and after that was measured, and from this, the rate of change in luminance deterioration (<[luminance after application−luminance before application] / luminance before application] * 100 ) Was asked.

【0098】また、アドレス放電時のアドレスミスにつ
いては画像を見てちらつきがあるかないかで判断し、1
ヶ所でもあればありとしている。また、パネルの輝度分
布については白表示時の輝度を輝度計で測定して、その
全面の分布を示した。
Further, regarding the address mistake at the time of address discharge, it is judged by seeing the image whether or not there is a flicker.
If there are some places, it is possible. Regarding the luminance distribution of the panel, the luminance during white display was measured with a luminance meter, and the distribution of the entire surface was shown.

【0099】これら実験1〜3の輝度および輝度劣化変
化率についての結果を表2に示す。
Table 2 shows the results of the brightness and the change rate of brightness deterioration in Experiments 1 to 3.

【0100】[0100]

【表2】 [Table 2]

【0101】表2に示すように比較サンプル9,10に
おいて、蛍光体に撥水処理をほどこしていないサンプル
では、各工程における輝度劣化率が大きい、特に青色は
蛍光体焼成工程で5.5〜6.0%,封着工程で21.
5〜22.3%、200V,100kHzの加速寿命テ
ストで34.1〜35%の輝度低下が見られるのに対
し、サンプル1〜8については青色の変化率が全て5%
以下の値となっており、しかもアドレスミスもない。ま
た、赤色,緑色の変化も比較例9,10と比べて変化が
少なく優れた特性を示す。
As shown in Table 2, among the comparative samples 9 and 10, in the sample in which the phosphor was not subjected to the water repellent treatment, the luminance deterioration rate in each step was large, and particularly blue was 5.5 to 5.5 in the phosphor baking step. 6.0%, 21 in the sealing process.
In the accelerated life test of 5 to 22.3%, 200 V, 100 kHz, the luminance decrease of 34.1 to 35% is seen, whereas in the samples 1 to 8, the change rate of blue is all 5%.
The values are as follows, and there are no address mistakes. Further, the changes in red and green are smaller than those in Comparative Examples 9 and 10 and show excellent characteristics.

【0102】これは、蛍光体表面にフッ素または窒素を
含有する珪素化合物がコーティングされたことにより、
蛍光体焼成時のまわりの雰囲気による水あるいは、封着
時のMgOの隔壁,封着フリット材および蛍光体から出
た水が蛍光体の表面の欠陥に吸着しなくなったためであ
る。
This is because the phosphor surface is coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
This is because the water due to the atmosphere around the phosphor firing, or the MgO partition wall at the time of sealing, the sealing frit material, and the water emitted from the phosphor are not adsorbed on the surface defects of the phosphor.

【0103】(実験4)(撥水処理の効果) モデル実験として、フッ素または窒素を含有する珪素化
合物で処理した蛍光体と処理しない蛍光体を60℃90
%の相対湿度中に10分間放置した後、100℃で乾燥
しその後これらの蛍光体のTDS分析(昇温脱離ガス質
量分析)を行った結果、水の物理吸着(100℃付近)
及び化学吸着(300℃〜500℃)のピーク処理をし
たサンプル(サンプルNo.1〜8)は、比較サンプル
処理しないサンプル(サンプルNo.9,10)と比較
して水の脱ガス量が1/10と大巾に少なかった。
(Experiment 4) (Effect of Water Repellent Treatment) As a model experiment, a phosphor treated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen and a phosphor not treated were treated at 60 ° C.
% Relative Humidity for 10 minutes, dried at 100 ° C, and then subjected to TDS analysis (temperature programmed desorption gas mass spectrometry) of these phosphors. As a result, physical adsorption of water (around 100 ° C)
The samples subjected to the peak treatment of chemical adsorption (300 ° C. to 500 ° C.) (Sample Nos. 1 to 8) had a degassing amount of water of 1 as compared with the samples not treated with the comparative samples (Samples Nos. 9 and 10). It was very small, / 10.

【0104】〔評価実験5〕上記評価実験1において
は、本発明に係る蛍光体をPDP表示装置に用いていた
が、同じく紫外線により励起されることにより発光する
蛍光灯に本発明に係る蛍光体製造方法を適用したフッ素
あるいは窒素を含有する珪素化合物で表面処理した蛍光
体を用いた蛍光灯サンプルを作製した。
[Evaluation Experiment 5] In the above-mentioned Evaluation Experiment 1, the phosphor according to the present invention was used for the PDP display device, but the phosphor according to the present invention is also used for a fluorescent lamp that emits light when excited by ultraviolet rays. A fluorescent lamp sample was prepared using a phosphor that had been surface-treated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen to which the manufacturing method was applied.

【0105】公知の蛍光灯において、ガラス管内壁に形
成される蛍光体層に、上記表1に示すサンプル7の条件
下で作製した各色の蛍光体を混合したものを塗布するこ
とによって得られる蛍光体層を形成した蛍光灯サンプル
11を作製した。比較例として、従来の固相反応で作製
し、表面処理していないサンプル10(表1)の条件下
で作製した各色蛍光体を混合したものを塗布した比較蛍
光灯サンプル12も同様に作製した。その結果を表3に
示す。
In a known fluorescent lamp, a fluorescent substance obtained by applying a mixture of the fluorescent substance of each color produced under the condition of Sample 7 shown in Table 1 above to the fluorescent substance layer formed on the inner wall of the glass tube. A fluorescent lamp sample 11 having a body layer was prepared. As a comparative example, a comparative fluorescent lamp sample 12 prepared by the conventional solid-phase reaction and coated with a mixture of phosphors of respective colors prepared under the condition of the sample 10 (Table 1) without surface treatment was also prepared in the same manner. . The results are shown in Table 3.

【0106】[0106]

【表3】 [Table 3]

【0107】[0107]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、表面がフ
ッ素または窒素を含有する珪素化合物処理された蛍光体
粒子で蛍光体層を構成することによって、蛍光体層の各
種工程での劣化を防止し、輝度および寿命並びに信頼性
の向上を実現することができる。
As described above, according to the present invention, by forming a phosphor layer from phosphor particles whose surface is treated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen, the phosphor layer is deteriorated in various steps. Can be prevented, and improvement in brightness, life, and reliability can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係るPDPの前面ガラ
ス基板を除いた平面図
FIG. 1 is a plan view of a PDP according to an embodiment of the present invention excluding a front glass substrate.

【図2】同PDPの画像表示領域の構造の一部を断面で
示す斜視図
FIG. 2 is a perspective view showing a part of a structure of an image display area of the PDP in a cross section.

【図3】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプ
レイ装置のブロック図
FIG. 3 is a block diagram of a plasma display device according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明のPDPの画像表示領域の構造を示す部
分断面図
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing the structure of the image display area of the PDP of the present invention.

【図5】同PDPにおいて、蛍光体層を形成する際に用
いるインキ塗布装置の概略構成図
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an ink coating device used when forming a phosphor layer in the PDP.

【符号の説明】 100 PDP 101 前面ガラス基板 103 表示電極 104 表示スキャン電極 105 誘電体ガラス層 106 MgO保護層 107 アドレス電極 108 誘電体ガラス層 109 隔壁 110R 蛍光体層(赤) 110G 蛍光体層(緑) 110B 蛍光体層(青) 122 放電空間[Explanation of symbols] 100 PDP 101 front glass substrate 103 display electrode 104 display scan electrodes 105 Dielectric glass layer 106 MgO protective layer 107 address electrode 108 Dielectric glass layer 109 partition 110R phosphor layer (red) 110G phosphor layer (green) 110B phosphor layer (blue) 122 discharge space

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09K 11/64 CPM C09K 11/64 CPM CPR CPR 11/78 11/78 H01J 11/02 H01J 11/02 B (72)発明者 河村 浩幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 杉本 和彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 日比野 純一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4H001 CA04 CA06 CC13 CF02 XA05 XA08 XA12 XA13 XA14 XA30 XA38 XA39 XA56 XA64 YA25 YA63 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GG08 KB09 MA10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C09K 11/64 CPM C09K 11/64 CPM CPR CPR 11/78 11/78 H01J 11/02 H01J 11/02 B (72) Inventor Hiroyuki Kawamura 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Kazuhiko Sugimoto 1006 Kadoma, Kadoma City Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Junichi Hibino Osaka 1006, Kadoma, Okadama, Fuchu, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 4H001 CA04 CA06 CC13 CF02 XA05 XA08 XA12 XA13 XA14 XA30 XA38 XA39 XA56 XA64 YA25 YA63 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GG08 KB09 MA10

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線により励起されて可視光を発光す
る蛍光体であって、フッ素または窒素を含有する珪素化
合物でコーティングされていることを特徴とする蛍光
体。
1. A phosphor which is excited by ultraviolet rays to emit visible light, and which is coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
【請求項2】 蛍光体の平均粒径が0.1μm〜3.0
μmでその最大粒径が平均粒径の4倍以内でかつ最小粒
径が平均粒径の0.25倍以上であることを特徴とする
請求項1記載の蛍光体。
2. The average particle diameter of the phosphor is 0.1 μm to 3.0.
The phosphor according to claim 1, wherein the maximum particle size is within 4 times the average particle size and the minimum particle size is at least 0.25 times the average particle size in μm.
【請求項3】 1色または複数色の放電セルが複数配列
されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が
配設され、当該蛍光体層が紫外線により励起されて発光
するプラズマディスプレイパネルを備え、前記蛍光体層
の中の少なくとも1色は、フッ素または窒素を含有する
珪素化合物でコーティングされた蛍光体粒子で構成した
ことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
3. A plasma display in which a plurality of discharge cells of one color or a plurality of colors are arranged, a phosphor layer of a color corresponding to each discharge cell is arranged, and the phosphor layer is excited by ultraviolet rays to emit light. A plasma display device comprising a panel, wherein at least one color in the phosphor layer is composed of phosphor particles coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
【請求項4】 1色または複数色の放電セルが複数配列
されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が
配設され、当該蛍光体層が紫外線により励起されて発光
するプラズマディスプレイパネルを備え、前記蛍光体層
は青色蛍光体層を有し、当該青色蛍光体層がフッ素また
は窒素を含有する珪素化合物でコーティングされたBa
1-XMgAl1017:EuX、もしくはBa(1-x-y)Sry
MgAl 1017:EuXで表される化合物からなる青色
蛍光体粒子で構成したことを特徴とするプラズマディス
プレイ装置。
4. A plurality of one-color or plural-color discharge cells are arranged.
And the phosphor layer of the color corresponding to each discharge cell
Disposed, the phosphor layer emits light when excited by ultraviolet rays.
The plasma display panel, and the phosphor layer
Has a blue phosphor layer, and the blue phosphor layer is fluorine or
Is Ba coated with a silicon compound containing nitrogen
1-XMgAlTenO17: EuX, Or Ba(1-xy)Sry
MgAl TenO17: EuXA blue color composed of a compound represented by
A plasma display characterized by being composed of phosphor particles
Play device.
【請求項5】 1色または複数色の放電セルが複数配列
されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が
配設され、当該蛍光体層が紫外線により励起されて発光
するプラズマディスプレイパネルを備え、前記蛍光体層
は赤色蛍光体層を有し、当該赤色蛍光体層がフッ素また
は窒素を含有する珪素化合物でコーティングされたY
2(1-x)3:EuX、もしくは(Y,Gd)1-XBO3:E
Xで表される化合物からなる赤色蛍光体粒子で構成し
たことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
5. A plasma display in which a plurality of discharge cells of one color or a plurality of colors are arranged, a phosphor layer of a color corresponding to each discharge cell is disposed, and the phosphor layer is excited by ultraviolet rays to emit light. A panel is provided, wherein the phosphor layer has a red phosphor layer, and the red phosphor layer is coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
2 (1-x) O 3 : Eu X, or (Y, Gd) 1-X BO 3: E
A plasma display device comprising red phosphor particles made of a compound represented by u x .
【請求項6】 1色または複数色の放電セルが複数配列
されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が
配設され、当該蛍光体層が紫外線により励起されて発光
するプラズマディスプレイパネルを備え、前記蛍光体層
は緑色蛍光体層を有し、当該緑色蛍光体層がフッ素また
は窒素を含有する珪素化合物でコーティングされたZn
2(1-X)SiO4:MnX、もしくはBa1-XAl1219
MnXで表される化合物からなる緑色蛍光体粒子で構成
したことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
6. A plasma display in which a plurality of discharge cells of one color or a plurality of colors are arranged, a phosphor layer of a color corresponding to each discharge cell is arranged, and the phosphor layer is excited by ultraviolet rays to emit light. A panel, the phosphor layer has a green phosphor layer, and the green phosphor layer is Zn coated with a silicon compound containing fluorine or nitrogen.
2 (1-X) SiO 4 : Mn X, or Ba 1-X Al 12 O 19 :
A plasma display device comprising green phosphor particles made of a compound represented by Mn x .
【請求項7】 蛍光体を構成する元素を含む金属塩、ま
たは有機金属塩と水性媒体を混合することにより混合液
を作製する混合液作製工程と、当該混合液を乾燥後焼成
して蛍光体を作製する工程と、当該蛍光体をフッ素また
は窒素を含有する珪素化合物で撥水処理する工程とを有
することを特徴とする蛍光体の製造方法。
7. A mixed solution preparation step of preparing a mixed solution by mixing a metal salt containing an element constituting a phosphor or an organic metal salt with an aqueous medium, and a phosphor by firing the mixed solution after drying. And a step of subjecting the phosphor to a water repellent treatment with a silicon compound containing fluorine or nitrogen, and a method for producing the phosphor.
【請求項8】 原料と水性媒体とを混合することにより
混合液を作製する混合液作製工程と、当該混合液と塩基
性水溶液とを混合することにより水和物を形成する蛍光
体前駆体作製工程と、当該前駆体をアルカリ水とが混合
された溶液に対して水熱合成時の温度が100℃〜35
0℃で圧力が0.2Mpa〜25Mpaの状態で水熱合
成反応を行う水熱合成工程と、1350℃〜1600℃
でアニールする工程と、分級する工程と、フッ素または
窒素を含有する珪素化合物をコーティングする工程とを
有することを特徴とする蛍光体の製造方法。
8. A mixed solution preparation step of preparing a mixed solution by mixing a raw material and an aqueous medium, and a phosphor precursor preparation of forming a hydrate by mixing the mixed solution with a basic aqueous solution. The temperature at the time of hydrothermal synthesis is 100 ° C. to 35 with respect to the process and the solution in which the precursor is mixed with alkaline water.
A hydrothermal synthesis step of performing a hydrothermal synthesis reaction at 0 ° C. and a pressure of 0.2 Mpa to 25 Mpa, and 1350 ° C. to 1600 ° C.
And a step of classifying, and a step of coating a silicon compound containing fluorine or nitrogen, the method for producing a phosphor.
【請求項9】 フッ素を含有する珪素化合物がパーフロ
ロアルキルシランであることを特徴とする請求項3〜請
求項6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ装置。
9. The plasma display device according to claim 3, wherein the silicon compound containing fluorine is perfluoroalkylsilane.
【請求項10】 パーフロロアルキルシランの分子式
が、CF3CH2CH2Si(OCH33,CF3(C
23CH2CH2Si(OCH33,CF3(CF27
CH2CH2Si(O・CH33,CF3(CF27CH2
CH2CH3Si(OCH32,CF3(CF26COO
(CH23Si(O・CH33,CF3(CF 26CO
NH(CH23Si(OC253,CF3(CF27
CH2CH2SiCH2CH2Si(OCH33のいずれか
一種以上であることを特徴とする請求項9に記載のプラ
ズマディスプレイ装置。
10. The molecular formula of perfluoroalkylsilane
But CF3CH2CH2Si (OCH3)3, CF3(C
F2)3CH2CH2Si (OCH3)3, CF3(CF2)7
CH2CH2Si (O ・ CH3)3, CF3(CF2)7CH2
CH2CH3Si (OCH3)2, CF3(CF2)6COO
(CH2)3Si (O ・ CH3)3, CF3(CF 2)6CO
NH (CH2)3Si (OC2HFive)3, CF3(CF2)7
CH2CH2SiCH2CH2Si (OCH3)3One of
The plastic according to claim 9, wherein the plastic is one or more.
Zuma display device.
【請求項11】 フッ素を含有する珪素化合物がフッ化
水素酸であることを特徴とする請求項3〜請求項6のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイ装置。
11. The plasma display device according to claim 3, wherein the silicon compound containing fluorine is hydrofluoric acid.
【請求項12】 フッ素を含有する珪素化合物がフルオ
ロアセチルアセトン珪素であることを特徴とする請求項
3〜請求項6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
装置。
12. The plasma display device according to claim 3, wherein the silicon compound containing fluorine is fluoroacetylacetone silicon.
【請求項13】 窒素を含有する珪素化合物が、シラン
カップリング剤であることを特徴とする請求項3〜請求
項6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ装置。
13. The plasma display device according to claim 3, wherein the silicon compound containing nitrogen is a silane coupling agent.
【請求項14】 窒素を含有するシランカップリング剤
がシラザンビストリメチルシリルアセトアミド、テトラ
キスジメチルアミノ珪素、ヘキサメチルジシラザンのう
ちのいずれか一種以上であることを特徴とする請求項1
3に記載のプラズマディスプレイ装置。
14. The nitrogen-containing silane coupling agent is one or more of silazane bistrimethylsilylacetamide, tetrakisdimethylaminosilicon, and hexamethyldisilazane.
3. The plasma display device according to item 3.
【請求項15】 フッ素または窒素を含有する珪素化合
物が蛍光体表面とSi(O・F)2,Si(O・N)2
Si(O・F・N)2の形で結合していることを特徴と
する請求項3〜請求項6のいずれかに記載のプラズマデ
ィスプレイ装置。
15. A silicon compound containing fluorine or nitrogen is used as the phosphor surface and Si (O.F) 2 , Si (O.N) 2 ,
7. The plasma display device according to claim 3, wherein the plasma display device is bonded in the form of Si (O.F.N) 2 .
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