JP2003040873A - 新規キノキサリン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
新規キノキサリン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子Info
- Publication number
- JP2003040873A JP2003040873A JP2001223867A JP2001223867A JP2003040873A JP 2003040873 A JP2003040873 A JP 2003040873A JP 2001223867 A JP2001223867 A JP 2001223867A JP 2001223867 A JP2001223867 A JP 2001223867A JP 2003040873 A JP2003040873 A JP 2003040873A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- organic
- quinoxaline derivative
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical class N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 title claims abstract 10
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 79
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 51
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 51
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 7
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004738 (C1-C6) alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004739 (C1-C6) alkylsulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract 1
- -1 pyrazine compound Chemical class 0.000 description 92
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 91
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 150000003252 quinoxalines Chemical class 0.000 description 20
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 12
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 10
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 8
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 7
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 5
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000006216 methylsulfinyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)=O 0.000 description 5
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 125000006700 (C1-C6) alkylthio group Chemical group 0.000 description 3
- WATVCMJLZPTSSS-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-bromophenyl)quinoxaline Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N=C1C1=CC=C(Br)C=C1 WATVCMJLZPTSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSZYBMMYQCYIPC-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyl-1,2-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=C(N)C=C1C XSZYBMMYQCYIPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- HUMMCEUVDBVXTQ-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylboronic acid Chemical compound C1=CC=C2C(B(O)O)=CC=CC2=C1 HUMMCEUVDBVXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 1,2-bis[(e)-2-phenylethenyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRUBKGBBJQSCEM-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-phenylbenzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KRUBKGBBJQSCEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXKHHGHKEKEKGV-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-triphenylquinoline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 XXKHHGHKEKEKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKUBIWMYPQIWPF-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-naphthalen-1-ylphenyl)quinoxaline Chemical compound C1=CC=C2C(C3=CC=C(C=C3)C3=NC4=CC=CC=C4N=C3C3=CC=C(C=C3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 WKUBIWMYPQIWPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSNQVABHABAKEZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylquinoxaline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N=C1C1=CC=CC=C1 RSNQVABHABAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TTXGKCVKGXHPRI-UHFFFAOYSA-N 4,5-dibromobenzene-1,2-diamine Chemical compound NC1=CC(Br)=C(Br)C=C1N TTXGKCVKGXHPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKIJILZFXPFTO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-[4-[1-[4-(4-methyl-n-(4-methylphenyl)anilino)phenyl]cyclohexyl]phenyl]-n-(4-methylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C1(CCCCC1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(C)=CC=1)C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 ZOKIJILZFXPFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUSWRTUHJVJVRY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-[4-[2-[4-(4-methyl-n-(4-methylphenyl)anilino)phenyl]propan-2-yl]phenyl]-n-(4-methylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C(C)(C)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(C)=CC=1)C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 DUSWRTUHJVJVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVIXNQZIMMIGEL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-[4-[4-(4-methyl-n-(4-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-(4-methylphenyl)aniline Chemical group C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(C)=CC=1)C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 MVIXNQZIMMIGEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100049140 Arabidopsis thaliana VDE1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100107120 Arabidopsis thaliana ZEP gene Proteins 0.000 description 1
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HOMPLTUCLYEFCT-UHFFFAOYSA-N C1=C(C=CC(=C1)C1=NC2=C(N=C1C1=CC=C(C3=CC=C4C=CC=CC4=C3)C=C1)C=CC=C2)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound C1=C(C=CC(=C1)C1=NC2=C(N=C1C1=CC=C(C3=CC=C4C=CC=CC4=C3)C=C1)C=CC=C2)C1=CC2=CC=CC=C2C=C1 HOMPLTUCLYEFCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Natural products C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006081 fluorescent whitening agent Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000001989 lithium alloy Substances 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- KPTRDYONBVUWPD-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-ylboronic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(B(O)O)=CC=C21 KPTRDYONBVUWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTBLDMQMUSHDEN-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diamine Chemical compound C1=CC=C2C=C(N)C(N)=CC2=C1 XTBLDMQMUSHDEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- 238000001275 scanning Auger electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機エレクトロルミネッセンス素子の高輝度
化、高発光効率化及び電極の付着改善による長寿命化が
可能な新規なキノキサリン誘導体及びそれを利用した有
機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 【解決手段】 特定の構造を有する新規なキノキサリン
誘導体、並びに一対の電極間に有機発光層又は有機発光
層を含む複数層からなる有機化合物層を有する有機エレ
クロルミネッセンス素子であって、該有機化合物層の少
なくとも一層が前記特定の構造を有する新規なキノキサ
リン誘導体を含有する有機エレクトロルミネッセンス素
子である。
化、高発光効率化及び電極の付着改善による長寿命化が
可能な新規なキノキサリン誘導体及びそれを利用した有
機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 【解決手段】 特定の構造を有する新規なキノキサリン
誘導体、並びに一対の電極間に有機発光層又は有機発光
層を含む複数層からなる有機化合物層を有する有機エレ
クロルミネッセンス素子であって、該有機化合物層の少
なくとも一層が前記特定の構造を有する新規なキノキサ
リン誘導体を含有する有機エレクトロルミネッセンス素
子である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なキノキサリン
誘導及びそれを利用する有機エレクトロルミネッセンス
素子に関し、特に高輝度化、高発光効率化及び電極の付
着改善による長期安定化を達成できる新規なキノキサリ
ン誘導及びそれを利用する有機エレクトロルミネッセン
ス素子に関するものである。
誘導及びそれを利用する有機エレクトロルミネッセンス
素子に関し、特に高輝度化、高発光効率化及び電極の付
着改善による長期安定化を達成できる新規なキノキサリ
ン誘導及びそれを利用する有機エレクトロルミネッセン
ス素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、有機エレクトロルミネッセンス素
子（以下、有機ＥＬ素子）に電子注入層を設けて発光効
率を高める試みがなされてきた。しかし、エキサイプレ
ックスの形成が見られたり、高輝度の発光は得られるも
のの発光寿命が短いという欠点があった。また、長時間
の通電により金属電極と有機層の剥離が発生したり、有
機層と電極が結晶化し白濁化して発光輝度が低下するた
め、このような現象を防ぐ必要があった。これを解決す
るてめの試みとして、米国特許第５０７７１４２号明細
書に、有機ＥＬ素子の構成成分としてピラジン化合物，
キノリン化合物，キノキサリン化合物、例えば、２，
３，５，６−テトラフェニルピラジン、２，３，４−ト
リフェニルキノリン及び２，３−ジフェニルキノキサリ
ンを用いることが記載されている。しかしながら、これ
らの化合物は融点が低いため、有機ＥＬ素子のアモルフ
ァス薄膜層として使用しても結晶化がすぐに起こり、ほ
とんど発光しなくなるという問題があった。また、通電
により金属電極と有機層の剥離が発生し、有機ＥＬ素子
の寿命が短くなるという問題があった。
子（以下、有機ＥＬ素子）に電子注入層を設けて発光効
率を高める試みがなされてきた。しかし、エキサイプレ
ックスの形成が見られたり、高輝度の発光は得られるも
のの発光寿命が短いという欠点があった。また、長時間
の通電により金属電極と有機層の剥離が発生したり、有
機層と電極が結晶化し白濁化して発光輝度が低下するた
め、このような現象を防ぐ必要があった。これを解決す
るてめの試みとして、米国特許第５０７７１４２号明細
書に、有機ＥＬ素子の構成成分としてピラジン化合物，
キノリン化合物，キノキサリン化合物、例えば、２，
３，５，６−テトラフェニルピラジン、２，３，４−ト
リフェニルキノリン及び２，３−ジフェニルキノキサリ
ンを用いることが記載されている。しかしながら、これ
らの化合物は融点が低いため、有機ＥＬ素子のアモルフ
ァス薄膜層として使用しても結晶化がすぐに起こり、ほ
とんど発光しなくなるという問題があった。また、通電
により金属電極と有機層の剥離が発生し、有機ＥＬ素子
の寿命が短くなるという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の課題
を解決するためになされたもので、有機ＥＬ素子の高輝
度化、高発光効率化及び電極の付着改善による長寿命化
が可能な新規なキノキサリン誘導体及びそれを利用した
有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
を解決するためになされたもので、有機ＥＬ素子の高輝
度化、高発光効率化及び電極の付着改善による長寿命化
が可能な新規なキノキサリン誘導体及びそれを利用した
有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を
有する新規なキノキサリン誘導体を、有機化合物層の少
なくとも一層、特に、電子注入層に用いることにより、
高輝度化、高発光効率化及び電極の付着改善による長期
安定化が達成された有機ＥＬ素子が得られることを見出
した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもので
ある。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を
有する新規なキノキサリン誘導体を、有機化合物層の少
なくとも一層、特に、電子注入層に用いることにより、
高輝度化、高発光効率化及び電極の付着改善による長期
安定化が達成された有機ＥＬ素子が得られることを見出
した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもので
ある。
【０００５】すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で
示される新規なキノキサリン誘導体を提供するものであ
る。
示される新規なキノキサリン誘導体を提供するものであ
る。
【化２】
（式中、Ｒ1〜Ｒ6 は、それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６
のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、
炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数６〜４０のアリ
ールチオ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭
素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜４０
のアリールスルホニル基、炭素数６〜４０のアリールス
ルフィニル基、シアノ基、置換もしくは無置換の炭素数
６〜４０のアリール基、又は置換もしくは無置換の炭素
数６〜４０のヘテロアリール基を表す。Ｒ1〜Ｒ4 は、
隣同士で互いに結合して環を形成していてもよく、置換
されていてもよい。Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数６〜４０のア
リールオキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素
数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜６のアルキル
スルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル
基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル基、炭素数６
〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ基を有してい
てもよい炭素数６〜４０のアリール基、又は置換もしく
は無置換の炭素数６〜４０のヘテロアリール基を表す。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表し、ｍ
及びｎは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。ただ
し、Ｒ2及びＲ3 が同時に水素原子、フェニル基又はア
ルキル基置換フェニル基であり、かつｍ＝ｎ＝０である
場合を除く。）
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６
のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、
炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数６〜４０のアリ
ールチオ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭
素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜４０
のアリールスルホニル基、炭素数６〜４０のアリールス
ルフィニル基、シアノ基、置換もしくは無置換の炭素数
６〜４０のアリール基、又は置換もしくは無置換の炭素
数６〜４０のヘテロアリール基を表す。Ｒ1〜Ｒ4 は、
隣同士で互いに結合して環を形成していてもよく、置換
されていてもよい。Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数６〜４０のア
リールオキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素
数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜６のアルキル
スルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル
基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル基、炭素数６
〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ基を有してい
てもよい炭素数６〜４０のアリール基、又は置換もしく
は無置換の炭素数６〜４０のヘテロアリール基を表す。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表し、ｍ
及びｎは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。ただ
し、Ｒ2及びＲ3 が同時に水素原子、フェニル基又はア
ルキル基置換フェニル基であり、かつｍ＝ｎ＝０である
場合を除く。）
【０００６】また、本発明は、一対の電極間に有機発光
層又は有機発光層を含む複数層からなる有機化合物層を
有する有機ＥＬ素子であって、該有機化合物層の少なく
とも一層が前記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン誘
導体を含有する有機ＥＬ素子を提供するものである。
層又は有機発光層を含む複数層からなる有機化合物層を
有する有機ＥＬ素子であって、該有機化合物層の少なく
とも一層が前記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン誘
導体を含有する有機ＥＬ素子を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の前記一般式（Ｉ）で表さ
れる新規キノキサリン誘導体において、Ｒ1 〜Ｒ6 は、
それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数
６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜６のアルキル
チオ基、炭素数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜
６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルス
ルフィニル基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル
基、炭素数６〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ
基、置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のアリール
基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のヘテロ
アリール基を表す。前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1〜
Ｒ4 は、隣同士で互いに結合して環を形成していてもよ
く、置換されていてもよい。
れる新規キノキサリン誘導体において、Ｒ1 〜Ｒ6 は、
それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数
６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜６のアルキル
チオ基、炭素数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜
６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルス
ルフィニル基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル
基、炭素数６〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ
基、置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のアリール
基、又は置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のヘテロ
アリール基を表す。前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1〜
Ｒ4 は、隣同士で互いに結合して環を形成していてもよ
く、置換されていてもよい。
【０００８】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。炭素数１〜６のアルキル基と
しては、例えば、メチル基，エチル基，プロピル基，ブ
チル基，ペンチル基，ヘキシル基などが挙げられ、炭素
数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するもの
でもよい。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ
基，ペンチルオキシ基，ヘキシルオキシ基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数６〜４０のアリールオキシ基
としては、例えば、フェノキシ基，ビフェニルオキシ基
などが挙げられる。炭素数１〜６のアルキルチオ基とし
ては、例えば、メチルチオ基，エチルチオ基，プロピル
チオ基，ブチルチオ基，ペンチルチオ基，ヘキシルチオ
基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環
状又は分岐を有するものでもよい。
素、ヨウ素が挙げられる。炭素数１〜６のアルキル基と
しては、例えば、メチル基，エチル基，プロピル基，ブ
チル基，ペンチル基，ヘキシル基などが挙げられ、炭素
数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するもの
でもよい。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ
基，ペンチルオキシ基，ヘキシルオキシ基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数６〜４０のアリールオキシ基
としては、例えば、フェノキシ基，ビフェニルオキシ基
などが挙げられる。炭素数１〜６のアルキルチオ基とし
ては、例えば、メチルチオ基，エチルチオ基，プロピル
チオ基，ブチルチオ基，ペンチルチオ基，ヘキシルチオ
基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環
状又は分岐を有するものでもよい。
【０００９】炭素数６〜４０のアリールチオ基として
は、例えば、フェニルチオ基，ビフェニルチオ基などが
挙げられる。炭素数１〜６のアルキルスルホニル基とし
ては、例えば、メチルスルホニル基，エチルスルホニル
基，プロピルスルホニル基，ブチルスルホニル基，ペン
チルスルホニル基，ヘキシルスルホニル基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数１〜６のアルキルスルフィニ
ル基としては、例えば、メチルスルフィニル基，エチル
スルフィニル基，プロピルスルフィニル基，ブチルスル
フィニル基，ペンチルスルフィニル基，ヘキシルスルフ
ィニル基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖
状、環状又は分岐を有するものでもよい。炭素数６〜４
０のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニ
ル基，ビフェニルスルホニル基などが挙げられる。炭素
数６〜４０のアリールスルフィニル基としては、フェニ
ルスルフィニル基，ビフェニルスルフィニル基などが挙
げられる。
は、例えば、フェニルチオ基，ビフェニルチオ基などが
挙げられる。炭素数１〜６のアルキルスルホニル基とし
ては、例えば、メチルスルホニル基，エチルスルホニル
基，プロピルスルホニル基，ブチルスルホニル基，ペン
チルスルホニル基，ヘキシルスルホニル基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数１〜６のアルキルスルフィニ
ル基としては、例えば、メチルスルフィニル基，エチル
スルフィニル基，プロピルスルフィニル基，ブチルスル
フィニル基，ペンチルスルフィニル基，ヘキシルスルフ
ィニル基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖
状、環状又は分岐を有するものでもよい。炭素数６〜４
０のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニ
ル基，ビフェニルスルホニル基などが挙げられる。炭素
数６〜４０のアリールスルフィニル基としては、フェニ
ルスルフィニル基，ビフェニルスルフィニル基などが挙
げられる。
【００１０】置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のア
リール基としては、例えば、フェニル基，ビフェニル
基、ナフチル基、フルオランテニル基、ピレニル基など
が挙げられ、置換基としては、Ｒ1 〜Ｒ6 として例示し
たものと同じものを挙げることができ、メトキシ基，エ
トキシ基，プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブト
キシ基，イソブトキシ基，ｔ−ブトキシ基，ｓｅｃ−ブ
トキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基、フッ素，
塩素，臭素，ヨウ素などのハロゲン原子、ニトロ基，シ
アノ基，水酸基，カルボキシル基，メチルチオ基，エチ
ルチオ基，プロピルチオ基，ブチルチオ基，ペンチルチ
オ基，ヘキシルチオ基などの炭素数１〜６のアルキルチ
オ基、メチルスルフィニル基，エチルスルフィニル基，
プロピルスルフィニル基，ブチルスルフィニル基，ペン
チルスルフィニル基，ヘキシルスルフィニル基などの炭
素数１〜６のアルキルスルフィニル基、メチルスルホニ
ル基，エチルスルホニル基，プロピルスルホニル基，ブ
チルスルホニル基，ペンチルスルホニル基，ヘキシルス
ルホニル基などの炭素数１〜６のアルキルスルホニル基
などが挙げられる。
リール基としては、例えば、フェニル基，ビフェニル
基、ナフチル基、フルオランテニル基、ピレニル基など
が挙げられ、置換基としては、Ｒ1 〜Ｒ6 として例示し
たものと同じものを挙げることができ、メトキシ基，エ
トキシ基，プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブト
キシ基，イソブトキシ基，ｔ−ブトキシ基，ｓｅｃ−ブ
トキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基、フッ素，
塩素，臭素，ヨウ素などのハロゲン原子、ニトロ基，シ
アノ基，水酸基，カルボキシル基，メチルチオ基，エチ
ルチオ基，プロピルチオ基，ブチルチオ基，ペンチルチ
オ基，ヘキシルチオ基などの炭素数１〜６のアルキルチ
オ基、メチルスルフィニル基，エチルスルフィニル基，
プロピルスルフィニル基，ブチルスルフィニル基，ペン
チルスルフィニル基，ヘキシルスルフィニル基などの炭
素数１〜６のアルキルスルフィニル基、メチルスルホニ
ル基，エチルスルホニル基，プロピルスルホニル基，ブ
チルスルホニル基，ペンチルスルホニル基，ヘキシルス
ルホニル基などの炭素数１〜６のアルキルスルホニル基
などが挙げられる。
【００１１】置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のヘ
テロアリール基としては、例えば、、酸素原子を含むフ
リル基、硫黄原子を含むチエニル基、又は上記アリール
基の一部の炭素原子を窒素に置き換えたもの、ピリジル
基、キノリル基などが挙げられる。また、Ｒ1〜Ｒ
6 は、アミノ基を有してはならない。これは、電子輸送
性を阻害するからである。
テロアリール基としては、例えば、、酸素原子を含むフ
リル基、硫黄原子を含むチエニル基、又は上記アリール
基の一部の炭素原子を窒素に置き換えたもの、ピリジル
基、キノリル基などが挙げられる。また、Ｒ1〜Ｒ
6 は、アミノ基を有してはならない。これは、電子輸送
性を阻害するからである。
【００１２】本発明の前記一般式（Ｉ）で表される新規
キノキサリン誘導体において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それ
ぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６の
アルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数６〜
４０のアリールオキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ
基、炭素数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜６の
アルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフ
ィニル基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル基、炭
素数６〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ基を有
していてもよい炭素数６〜４０のアリール基、又は置換
もしくは無置換の炭素数６〜４０のヘテロアリール基を
表す。
キノキサリン誘導体において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それ
ぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６の
アルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数６〜
４０のアリールオキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ
基、炭素数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜６の
アルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフ
ィニル基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル基、炭
素数６〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ基を有
していてもよい炭素数６〜４０のアリール基、又は置換
もしくは無置換の炭素数６〜４０のヘテロアリール基を
表す。
【００１３】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。炭素数１〜６のアルキル基と
しては、例えば、メチル基，エチル基，プロピル基，ブ
チル基，ペンチル基，ヘキシル基などが挙げられ、炭素
数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するもの
でもよい。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ
基，ペンチルオキシ基，ヘキシルオキシ基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数６〜４０のアリールオキシ基
としては、例えば、フェノキシ基，ビフェニルオキシ基
などが挙げられる。
素、ヨウ素が挙げられる。炭素数１〜６のアルキル基と
しては、例えば、メチル基，エチル基，プロピル基，ブ
チル基，ペンチル基，ヘキシル基などが挙げられ、炭素
数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するもの
でもよい。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ
基，ペンチルオキシ基，ヘキシルオキシ基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数６〜４０のアリールオキシ基
としては、例えば、フェノキシ基，ビフェニルオキシ基
などが挙げられる。
【００１４】炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、
例えば、メチルチオ基，エチルチオ基，プロピルチオ
基，ブチルチオ基，ペンチルチオ基，ヘキシルチオ基な
どが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又
は分岐を有するものでもよい。炭素数６〜４０のアリー
ルチオ基としては、例えば、フェニルチオ基，ビフェニ
ルチオ基などが挙げられる。炭素数１〜６のアルキルス
ルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基，エ
チルスルホニル基，プロピルスルホニル基，ブチルスル
ホニル基，ペンチルスルホニル基，ヘキシルスルホニル
基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環
状又は分岐を有するものでもよい。炭素数１〜６のアル
キルスルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィ
ニル基，エチルスルフィニル基，プロピルスルフィニル
基，ブチルスルフィニル基，ペンチルスルフィニル基，
ヘキシルスルフィニル基などが挙げられ、炭素数が３以
上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するものでもよ
い。
例えば、メチルチオ基，エチルチオ基，プロピルチオ
基，ブチルチオ基，ペンチルチオ基，ヘキシルチオ基な
どが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又
は分岐を有するものでもよい。炭素数６〜４０のアリー
ルチオ基としては、例えば、フェニルチオ基，ビフェニ
ルチオ基などが挙げられる。炭素数１〜６のアルキルス
ルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基，エ
チルスルホニル基，プロピルスルホニル基，ブチルスル
ホニル基，ペンチルスルホニル基，ヘキシルスルホニル
基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環
状又は分岐を有するものでもよい。炭素数１〜６のアル
キルスルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィ
ニル基，エチルスルフィニル基，プロピルスルフィニル
基，ブチルスルフィニル基，ペンチルスルフィニル基，
ヘキシルスルフィニル基などが挙げられ、炭素数が３以
上のものは直鎖状、環状又は分岐を有するものでもよ
い。
【００１５】炭素数１〜６のアルキルスルホニル基とし
ては、例えば、メチルスルホニル基，エチルスルホニル
基，プロピルスルホニル基，ブチルスルホニル基，ペン
チルスルホニル基，ヘキシルスルホニル基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数１〜６のアルキルスルフィニ
ル基としては、例えば、メチルスルフィニル基，エチル
スルフィニル基，プロピルスルフィニル基，ブチルスル
フィニル基，ペンチルスルフィニル基，ヘキシルスルフ
ィニル基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖
状、環状又は分岐を有するものでもよい。炭素数６〜４
０のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニ
ル基，ビフェニルスルホニル基などが挙げられる。炭素
数６〜４０のアリールスルフィニル基としては、フェニ
ルスルフィニル基，ビフェニルスルフィニル基などが挙
げられる。
ては、例えば、メチルスルホニル基，エチルスルホニル
基，プロピルスルホニル基，ブチルスルホニル基，ペン
チルスルホニル基，ヘキシルスルホニル基などが挙げら
れ、炭素数が３以上のものは直鎖状、環状又は分岐を有
するものでもよい。炭素数１〜６のアルキルスルフィニ
ル基としては、例えば、メチルスルフィニル基，エチル
スルフィニル基，プロピルスルフィニル基，ブチルスル
フィニル基，ペンチルスルフィニル基，ヘキシルスルフ
ィニル基などが挙げられ、炭素数が３以上のものは直鎖
状、環状又は分岐を有するものでもよい。炭素数６〜４
０のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニ
ル基，ビフェニルスルホニル基などが挙げられる。炭素
数６〜４０のアリールスルフィニル基としては、フェニ
ルスルフィニル基，ビフェニルスルフィニル基などが挙
げられる。
【００１６】シアノ基を有していてもよい炭素数６〜４
０のアリール基としては、例えば、フェニル基，ビフェ
ニル基、ナフチル基、フルオランテニル基、ピレニル基
などが挙げられ、置換基としては、Ｒ1 〜Ｒ6 として例
示したものと同じものを挙げることができ、メトキシ
基，エトキシ基，プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ
−ブトキシ基，イソブトキシ基，ｔ−ブトキシ基，ｓｅ
ｃ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基、フ
ッ素，塩素，臭素，ヨウ素などのハロゲン原子、ニトロ
基，シアノ基，水酸基，カルボキシル基，メチルチオ
基，エチルチオ基，プロピルチオ基，ブチルチオ基，ペ
ンチルチオ基，ヘキシルチオ基などの炭素数１〜６のア
ルキルチオ基、メチルスルフィニル基，エチルスルフィ
ニル基，プロピルスルフィニル基，ブチルスルフィニル
基，ペンチルスルフィニル基，ヘキシルスルフィニル基
などの炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、メチル
スルホニル基，エチルスルホニル基，プロピルスルホニ
ル基，ブチルスルホニル基，ペンチルスルホニル基，ヘ
キシルスルホニル基などの炭素数１〜６のアルキルスル
ホニル基などが挙げられる。
０のアリール基としては、例えば、フェニル基，ビフェ
ニル基、ナフチル基、フルオランテニル基、ピレニル基
などが挙げられ、置換基としては、Ｒ1 〜Ｒ6 として例
示したものと同じものを挙げることができ、メトキシ
基，エトキシ基，プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ
−ブトキシ基，イソブトキシ基，ｔ−ブトキシ基，ｓｅ
ｃ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基、フ
ッ素，塩素，臭素，ヨウ素などのハロゲン原子、ニトロ
基，シアノ基，水酸基，カルボキシル基，メチルチオ
基，エチルチオ基，プロピルチオ基，ブチルチオ基，ペ
ンチルチオ基，ヘキシルチオ基などの炭素数１〜６のア
ルキルチオ基、メチルスルフィニル基，エチルスルフィ
ニル基，プロピルスルフィニル基，ブチルスルフィニル
基，ペンチルスルフィニル基，ヘキシルスルフィニル基
などの炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、メチル
スルホニル基，エチルスルホニル基，プロピルスルホニ
ル基，ブチルスルホニル基，ペンチルスルホニル基，ヘ
キシルスルホニル基などの炭素数１〜６のアルキルスル
ホニル基などが挙げられる。
【００１７】置換もしくは無置換の炭素数６〜４０のヘ
テロアリール基としては、例えば、、酸素原子を含むフ
リル基、硫黄原子を含むチエニル基、又は上記アリール
基の一部の炭素原子を窒素に置き換えたもの、ピリジル
基、キノリル基などが挙げられる。前記一般式（Ｉ）に
おいて、ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜２の整数を
表し、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表
す。また、前記一般式（Ｉ）において、Ｒ2及びＲ3 が
同時に水素原子、フェニル基又はアルキル基置換フェニ
ル基であり、かつｍ＝ｎ＝０である場合を除く。
テロアリール基としては、例えば、、酸素原子を含むフ
リル基、硫黄原子を含むチエニル基、又は上記アリール
基の一部の炭素原子を窒素に置き換えたもの、ピリジル
基、キノリル基などが挙げられる。前記一般式（Ｉ）に
おいて、ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜２の整数を
表し、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表
す。また、前記一般式（Ｉ）において、Ｒ2及びＲ3 が
同時に水素原子、フェニル基又はアルキル基置換フェニ
ル基であり、かつｍ＝ｎ＝０である場合を除く。
【００１８】本発明の有機ＥＬ素子は、有機発光層又は
有機発光層を含む複数層からなる有機化合物層の少なく
とも一層が、上記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン
誘導体を含有するものであって、その素子構成として
は、陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極、陽
極／発光層／電子注入層／陰極、陽極／正孔注入層／発
光層／陰極、陽極／発光層／陰極型などが挙げられる。
本発明の有機ＥＬ素子は、本発明のキノキサリン誘導体
を、主として発光帯域に含有させると好ましく、有機発
光層に含有させるとさらに好ましい。また、電子注入層
が前記キノキサリン誘導体からなると特に好ましい。本
発明の有機ＥＬ素子の素子構成においては、正孔注入層
や電子注入層は必要ではないが、これらの層を有する素
子は発光性能が向上する利点がある。また、一対の電極
間に上記正孔注入層，発光層，電子注入層を混合させた
形で挟持させてもよい。さらに、各成分を安定に存在さ
せるため、高分子化合物などのバインダーを用いて混合
層を作製してもよい。
有機発光層を含む複数層からなる有機化合物層の少なく
とも一層が、上記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン
誘導体を含有するものであって、その素子構成として
は、陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極、陽
極／発光層／電子注入層／陰極、陽極／正孔注入層／発
光層／陰極、陽極／発光層／陰極型などが挙げられる。
本発明の有機ＥＬ素子は、本発明のキノキサリン誘導体
を、主として発光帯域に含有させると好ましく、有機発
光層に含有させるとさらに好ましい。また、電子注入層
が前記キノキサリン誘導体からなると特に好ましい。本
発明の有機ＥＬ素子の素子構成においては、正孔注入層
や電子注入層は必要ではないが、これらの層を有する素
子は発光性能が向上する利点がある。また、一対の電極
間に上記正孔注入層，発光層，電子注入層を混合させた
形で挟持させてもよい。さらに、各成分を安定に存在さ
せるため、高分子化合物などのバインダーを用いて混合
層を作製してもよい。
【００１９】ここで、本発明の有機ＥＬ素子として、陽
極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極型を例にし
て説明する。本発明の素子は、基板に支持されているこ
とが好ましい。この基板については、特に制限はなく、
従来の有機ＥＬ素子に慣用されているものであればよ
く、例えば、ガラス，透明プラスチック，石英などから
なるものを用いることができる。この有機ＥＬ素子の正
極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属，合
金，電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質と
するものが好ましく用いられる。このような電極物質の
具体例としては、Ａｕなどの金属，ＣｕＩ，ＩＴＯ，Ｓ
ｎＯ2 ，ＺｎＯなどの導電性透明材料が挙げられる。該
正極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなど
の方法により、薄膜を形成させることにより作製するこ
とができる。この電極より発光を取り出す場合には、透
過率を１０％より大きくすることが望ましく、また、電
極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。さ
らに膜厚は材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ、好
ましくは１０〜２００ｎｍである。
極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極型を例にし
て説明する。本発明の素子は、基板に支持されているこ
とが好ましい。この基板については、特に制限はなく、
従来の有機ＥＬ素子に慣用されているものであればよ
く、例えば、ガラス，透明プラスチック，石英などから
なるものを用いることができる。この有機ＥＬ素子の正
極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属，合
金，電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質と
するものが好ましく用いられる。このような電極物質の
具体例としては、Ａｕなどの金属，ＣｕＩ，ＩＴＯ，Ｓ
ｎＯ2 ，ＺｎＯなどの導電性透明材料が挙げられる。該
正極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなど
の方法により、薄膜を形成させることにより作製するこ
とができる。この電極より発光を取り出す場合には、透
過率を１０％より大きくすることが望ましく、また、電
極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。さ
らに膜厚は材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ、好
ましくは１０〜２００ｎｍである。
【００２０】一方、陰極としては、仕事関数の小さい
（４ｅＶ以下）金属，合金，電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが用いられる。このよ
うな電極物質の具体例としては、ナトリウム，ナトリウ
ム−カリウム合金，マグネシウム，マグネシウム−銀合
金，リチウム，マグネシウム／銅混合物，マグネシウム
−インジウム合金，Ａｌ／Ａｌ2 Ｏ3 ，インジウム，ア
ルミニウム−リチウム合金などが挙げられる。陰極は、
これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法に
より、薄膜を形成させることにより、作製することがで
きる。また、電極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下
が好ましく、膜厚は通常１０〜５００ｎｍ、好ましくは
５０〜２００ｎｍである。なお、発光を透過させるた
め、有機ＥＬ素子の陽極又は陰極のいずれか一方が、透
明又は半透明であれば発光効率が向上し好都合である。
（４ｅＶ以下）金属，合金，電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが用いられる。このよ
うな電極物質の具体例としては、ナトリウム，ナトリウ
ム−カリウム合金，マグネシウム，マグネシウム−銀合
金，リチウム，マグネシウム／銅混合物，マグネシウム
−インジウム合金，Ａｌ／Ａｌ2 Ｏ3 ，インジウム，ア
ルミニウム−リチウム合金などが挙げられる。陰極は、
これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法に
より、薄膜を形成させることにより、作製することがで
きる。また、電極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下
が好ましく、膜厚は通常１０〜５００ｎｍ、好ましくは
５０〜２００ｎｍである。なお、発光を透過させるた
め、有機ＥＬ素子の陽極又は陰極のいずれか一方が、透
明又は半透明であれば発光効率が向上し好都合である。
【００２１】本発明の素子における発光層の発光材料と
しては、本発明の一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン
誘導体が好ましい。発行材料が本発明のキノキサリン誘
導体である場合には、発光層の発光材料について、特に
制限されることはなく、従来公知の化合物の中から任意
のものを選択して用いることができる。この発光材料と
しては、例えば、多環縮合芳香族化合物、ベンゾオキサ
ゾール系，ベンゾチアゾール系，ベンゾイミダゾール系
などの蛍光増白剤、金属キレート化オキサノイド化合
物、ジスチリルベンゼン系化合物など薄膜形成性の良い
化合物を用いることができる。上記多環縮合芳香族化合
物としては、例えば、アントラセン，ナフタレン，フェ
ナントレン，ピレン，クリセン，ペリレン骨格を含む縮
合環発光物質や、約８個の縮合環を含む他の縮合環発光
物質などを挙げることができる。具体的には、１，１，
４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン又は４，
４’−（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルなどを
用いることができる。発光層は、これらの発光材料一種
又は二種以上からなる一層で構成されてもよく、前記発
光層とは別種の化合物からなる発光層を積層したもので
あってもよい。
しては、本発明の一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン
誘導体が好ましい。発行材料が本発明のキノキサリン誘
導体である場合には、発光層の発光材料について、特に
制限されることはなく、従来公知の化合物の中から任意
のものを選択して用いることができる。この発光材料と
しては、例えば、多環縮合芳香族化合物、ベンゾオキサ
ゾール系，ベンゾチアゾール系，ベンゾイミダゾール系
などの蛍光増白剤、金属キレート化オキサノイド化合
物、ジスチリルベンゼン系化合物など薄膜形成性の良い
化合物を用いることができる。上記多環縮合芳香族化合
物としては、例えば、アントラセン，ナフタレン，フェ
ナントレン，ピレン，クリセン，ペリレン骨格を含む縮
合環発光物質や、約８個の縮合環を含む他の縮合環発光
物質などを挙げることができる。具体的には、１，１，
４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン又は４，
４’−（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルなどを
用いることができる。発光層は、これらの発光材料一種
又は二種以上からなる一層で構成されてもよく、前記発
光層とは別種の化合物からなる発光層を積層したもので
あってもよい。
【００２２】本発明の有機ＥＬ素子の正孔注入層は、正
孔伝達化合物からなるものであって、陽極より注入され
た正孔を発光層に伝達する機能を有し、この正孔注入層
を陽極と発光層の間に介在させることにより、より低い
電界で多くの正孔が発光層に注入され、さらに、発光層
に陰極又は電子注入層より注入された電子は、発光層と
正孔注入層の界面に存在する電子の障壁により、発光層
内の界面に累積され発光効率が向上するなど発光性能の
優れた素子となる。このような正孔注入層に用いられる
正孔伝達化合物は、電界を与えられた２個の電極間に配
置されて陽極から正孔が注入された場合、正孔を適切に
発光層へ伝達しうるものであり、例えば１０４〜１０６
Ｖ／ｃｍの電界印加時に少なくとも１０-6ｃｍ2 ／Ｖ・
秒の正孔移動度を有するものが好適である。この正孔伝
達化合物は、前記の好ましい性質を有するものであれば
特に制限はなく、従来、光導伝材料において、正孔の電
荷注入輸送材料として慣用されているものや有機ＥＬ素
子の正孔注入層に使用される公知のものの中から任意の
ものを選択して用いることができる。
孔伝達化合物からなるものであって、陽極より注入され
た正孔を発光層に伝達する機能を有し、この正孔注入層
を陽極と発光層の間に介在させることにより、より低い
電界で多くの正孔が発光層に注入され、さらに、発光層
に陰極又は電子注入層より注入された電子は、発光層と
正孔注入層の界面に存在する電子の障壁により、発光層
内の界面に累積され発光効率が向上するなど発光性能の
優れた素子となる。このような正孔注入層に用いられる
正孔伝達化合物は、電界を与えられた２個の電極間に配
置されて陽極から正孔が注入された場合、正孔を適切に
発光層へ伝達しうるものであり、例えば１０４〜１０６
Ｖ／ｃｍの電界印加時に少なくとも１０-6ｃｍ2 ／Ｖ・
秒の正孔移動度を有するものが好適である。この正孔伝
達化合物は、前記の好ましい性質を有するものであれば
特に制限はなく、従来、光導伝材料において、正孔の電
荷注入輸送材料として慣用されているものや有機ＥＬ素
子の正孔注入層に使用される公知のものの中から任意の
ものを選択して用いることができる。
【００２３】前記正孔伝達化合物としては、例えば、銅
フタロシアニンや、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニ
ル−４，４’−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−４，４’−
ジアミノビフェニル（ＴＰＤＡ）、２，２−ビス（４−
ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン、１，１−ビ
ス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサ
ン及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，
４’−ジアミノビフェニルなどが挙げられ、Ｓｉ，Ｓｉ
Ｃ，ＣｄＳなどの無機物半導体の結晶，非晶材料も用い
ることができる。正孔注入層は、これらの正孔注入材料
一種又は二種以上からなる一層で構成されてもよく、前
記正孔注入層とは別種の化合物からなる正孔注入層を積
層したものであってもよい。
フタロシアニンや、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニ
ル−４，４’−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−４，４’−
ジアミノビフェニル（ＴＰＤＡ）、２，２−ビス（４−
ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン、１，１−ビ
ス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサ
ン及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，
４’−ジアミノビフェニルなどが挙げられ、Ｓｉ，Ｓｉ
Ｃ，ＣｄＳなどの無機物半導体の結晶，非晶材料も用い
ることができる。正孔注入層は、これらの正孔注入材料
一種又は二種以上からなる一層で構成されてもよく、前
記正孔注入層とは別種の化合物からなる正孔注入層を積
層したものであってもよい。
【００２４】本発明の有機ＥＬ素子の電子注入層は、電
子注入材料からなるものであって、陰極より注入された
電子を発光層に伝達する機能を有している。本発明にお
いては、電子注入材料として、本発明の一般式（Ｉ）で
表されるキノキサリン誘導体を用いていることが好まし
い。本発明の有機ＥＬ素子は、電子を輸送する領域また
は陰極と有機層の界面領域に、還元性ドーパントを含有
していてもよい。また、本発明の有機ＥＬ素子は、前記
一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン誘導体に加え還元
性ドーパントを含有すると好ましい。ここで、還元性ド
ーパントとは、電子輸送性化合物を還元ができる物質で
あり、一定の還元性を有するものであれば、様々なもの
が用いられ、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、希土類金属、アルカリ金属の酸化物、アルカリ金属
のハロゲン化物、アルカリ土類金属の酸化物、アルカリ
土類金属のハロゲン化物、希土類金属の酸化物又は希土
類金属のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体、アル
カリ土類金属の有機錯体、希土類金属の有機錯体からな
る群から選択される少なくとも一つの物質であると好ま
しい。
子注入材料からなるものであって、陰極より注入された
電子を発光層に伝達する機能を有している。本発明にお
いては、電子注入材料として、本発明の一般式（Ｉ）で
表されるキノキサリン誘導体を用いていることが好まし
い。本発明の有機ＥＬ素子は、電子を輸送する領域また
は陰極と有機層の界面領域に、還元性ドーパントを含有
していてもよい。また、本発明の有機ＥＬ素子は、前記
一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン誘導体に加え還元
性ドーパントを含有すると好ましい。ここで、還元性ド
ーパントとは、電子輸送性化合物を還元ができる物質で
あり、一定の還元性を有するものであれば、様々なもの
が用いられ、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、希土類金属、アルカリ金属の酸化物、アルカリ金属
のハロゲン化物、アルカリ土類金属の酸化物、アルカリ
土類金属のハロゲン化物、希土類金属の酸化物又は希土
類金属のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体、アル
カリ土類金属の有機錯体、希土類金属の有機錯体からな
る群から選択される少なくとも一つの物質であると好ま
しい。
【００２５】さらに具体的な好ましい還元性ドーパント
としては、例えば、Ｎａ（仕事関数：２．３６ｅＶ）、
Ｋ（仕事関数：２．２８ｅＶ）、Ｒｂ（仕事関数：２．
１６ｅＶ）及びＣｓ（仕事関数：１．９５ｅＶ）からな
る群から選択される少なくとも一つのアルカリ金属、又
はＣａ（仕事関数：２．９ｅＶ）、Ｓｒ（仕事関数：
２．０〜２．５ｅＶ）及びＢａ（仕事関数：２．５２ｅ
Ｖ）からなる群から選択される少なくとも一つのアルカ
リ土類金属が挙げられ、仕事関数が２．９ｅＶ以下のも
のが特に好ましい。これらのうち、より好ましい還元性
ドーパントは、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選択さ
れる少なくとも一つのアルカリ金属であり、さらに好ま
しくは、Ｒｂ又はＣｓであり、最も好ましのはＣｓであ
る。
としては、例えば、Ｎａ（仕事関数：２．３６ｅＶ）、
Ｋ（仕事関数：２．２８ｅＶ）、Ｒｂ（仕事関数：２．
１６ｅＶ）及びＣｓ（仕事関数：１．９５ｅＶ）からな
る群から選択される少なくとも一つのアルカリ金属、又
はＣａ（仕事関数：２．９ｅＶ）、Ｓｒ（仕事関数：
２．０〜２．５ｅＶ）及びＢａ（仕事関数：２．５２ｅ
Ｖ）からなる群から選択される少なくとも一つのアルカ
リ土類金属が挙げられ、仕事関数が２．９ｅＶ以下のも
のが特に好ましい。これらのうち、より好ましい還元性
ドーパントは、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選択さ
れる少なくとも一つのアルカリ金属であり、さらに好ま
しくは、Ｒｂ又はＣｓであり、最も好ましのはＣｓであ
る。
【００２６】これらのアルカリ金属は、特に還元能力が
高く、電子注入域への比較的少量の添加により、有機Ｅ
Ｌ素子における発光輝度の向上や長寿命化が図られる。
また、仕事関数が２．９ｅＶ以下の還元性ドーパントと
して、これら２種以上のアルカリ金属の組合わせも好ま
しく、特に、Ｃｓを含んだ組み合わせ、例えば、Ｃｓと
Ｎａ、ＣｓとＫ、ＣｓとＲｂあるいはＣｓとＮａとＫと
の組み合わせであることが好ましい。Ｃｓを組み合わせ
て含むことにより、還元能力を効率的に発揮することが
でき、電子注入域への添加により、有機ＥＬ素子におけ
る発光輝度の向上や長寿命化が図られる。またアルカリ
金属の他にアルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ土類
金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およ
びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から選択
される少なくとも一つの金属化合物を使用しても同様な
効果が得られ、アルカリ金属有機錯体、アルカリ土類金
属有機錯体を用いても同様な効果が得られる。
高く、電子注入域への比較的少量の添加により、有機Ｅ
Ｌ素子における発光輝度の向上や長寿命化が図られる。
また、仕事関数が２．９ｅＶ以下の還元性ドーパントと
して、これら２種以上のアルカリ金属の組合わせも好ま
しく、特に、Ｃｓを含んだ組み合わせ、例えば、Ｃｓと
Ｎａ、ＣｓとＫ、ＣｓとＲｂあるいはＣｓとＮａとＫと
の組み合わせであることが好ましい。Ｃｓを組み合わせ
て含むことにより、還元能力を効率的に発揮することが
でき、電子注入域への添加により、有機ＥＬ素子におけ
る発光輝度の向上や長寿命化が図られる。またアルカリ
金属の他にアルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ土類
金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およ
びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から選択
される少なくとも一つの金属化合物を使用しても同様な
効果が得られ、アルカリ金属有機錯体、アルカリ土類金
属有機錯体を用いても同様な効果が得られる。
【００２７】本発明の有機ＥＬ素子は、陰極と有機層の
間に絶縁体や半導体で構成される電子注入層をさらに設
けてもよい。これにより、電流のリークを有効に防止し
て、電子注入性を向上させることができる。このような
絶縁体としては、アルカリ金属カルコゲナイド、アルカ
リ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化
物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から
選択される少なくとも一つの金属化合物を使用するのが
好ましい。電子注入層がこれらのアルカリ金属カルコゲ
ナイド等で構成されていると、電子注入性をさらに向上
させることができる。アルカリ金属カルコゲナイドとし
ては、例えば、Ｌｉ2Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ2Ｓ、Ｎａ2Ｓｅ
およびＮａＯが挙げられ、アルカリ土類金属カルコゲナ
イドとしては、例えば、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、Ｂｅ
Ｏ、ＢａＳ及びＣａＳｅが挙げられ、アルカリ金属のハ
ロゲン化物としては、例えば、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、
ＬｉＣｌ、ＫＣｌ及びＮａＣｌ等が挙げられ、アルカリ
土類金属のハロゲン化物としては、例えば、ＣａＦ2 、
ＢａＦ2、ＳｒＦ2、ＭｇＦ2及びＢｅＦ2などのフッ化物
や、フッ化物以外のハロゲン化物が挙げられる。
間に絶縁体や半導体で構成される電子注入層をさらに設
けてもよい。これにより、電流のリークを有効に防止し
て、電子注入性を向上させることができる。このような
絶縁体としては、アルカリ金属カルコゲナイド、アルカ
リ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化
物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から
選択される少なくとも一つの金属化合物を使用するのが
好ましい。電子注入層がこれらのアルカリ金属カルコゲ
ナイド等で構成されていると、電子注入性をさらに向上
させることができる。アルカリ金属カルコゲナイドとし
ては、例えば、Ｌｉ2Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ2Ｓ、Ｎａ2Ｓｅ
およびＮａＯが挙げられ、アルカリ土類金属カルコゲナ
イドとしては、例えば、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、Ｂｅ
Ｏ、ＢａＳ及びＣａＳｅが挙げられ、アルカリ金属のハ
ロゲン化物としては、例えば、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、
ＬｉＣｌ、ＫＣｌ及びＮａＣｌ等が挙げられ、アルカリ
土類金属のハロゲン化物としては、例えば、ＣａＦ2 、
ＢａＦ2、ＳｒＦ2、ＭｇＦ2及びＢｅＦ2などのフッ化物
や、フッ化物以外のハロゲン化物が挙げられる。
【００２８】また、電子輸送層を構成する半導体として
は、例えば、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｙｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｃｄ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｓｂ及びＺ
ｎの少なくとも一つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸
化窒化物等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げ
られる。また、電子輸送層を構成する無機化合物が、微
結晶又は非晶質の絶縁性薄膜であることが好ましい。電
子輸送層がこれらの絶縁性薄膜で構成されていれば、よ
り均質な薄膜が形成されるため、ダークスポット等の画
素欠陥を減少させることができる。なお、このような無
機化合物としては、上述したアルカリ金属カルコゲナイ
ド、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属の
ハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等
が挙げられる。
は、例えば、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｙｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｃｄ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｓｂ及びＺ
ｎの少なくとも一つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸
化窒化物等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げ
られる。また、電子輸送層を構成する無機化合物が、微
結晶又は非晶質の絶縁性薄膜であることが好ましい。電
子輸送層がこれらの絶縁性薄膜で構成されていれば、よ
り均質な薄膜が形成されるため、ダークスポット等の画
素欠陥を減少させることができる。なお、このような無
機化合物としては、上述したアルカリ金属カルコゲナイ
ド、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属の
ハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等
が挙げられる。
【００２９】本発明の有機ＥＬ素子における電子注入層
は、該キノキサリン誘導体を、例えば、真空蒸着法，ス
ピンコート法，キャスト法，ＬＢ法などの公知の薄膜化
法により製膜して形成することができる。電子注入層と
しての膜厚は、特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μ
ｍである。電子注入層は、一種又は二種以上の電子注入
材料からなる一層で構成されてもよく、前記電子注入層
とは別種の化合物からなる電子注入層を積層したもので
あってもよい。さらに、無機物であるｐ型−Ｓｉ，ｐ型
−ＳｉＣの正孔注入材料、ｎ型α−Ｓｉ，ｎ型α−Ｓｉ
Ｃの電子注入材料を電子注入層に用いることができ、例
えば、国際公開ＷＯ９０／０５９９８に開示されている
無機半導体などが挙げられる。
は、該キノキサリン誘導体を、例えば、真空蒸着法，ス
ピンコート法，キャスト法，ＬＢ法などの公知の薄膜化
法により製膜して形成することができる。電子注入層と
しての膜厚は、特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μ
ｍである。電子注入層は、一種又は二種以上の電子注入
材料からなる一層で構成されてもよく、前記電子注入層
とは別種の化合物からなる電子注入層を積層したもので
あってもよい。さらに、無機物であるｐ型−Ｓｉ，ｐ型
−ＳｉＣの正孔注入材料、ｎ型α−Ｓｉ，ｎ型α−Ｓｉ
Ｃの電子注入材料を電子注入層に用いることができ、例
えば、国際公開ＷＯ９０／０５９９８に開示されている
無機半導体などが挙げられる。
【００３０】次に、本発明の有機ＥＬ素子を作製する好
適な例を説明する。例として、前記の陽極／正孔注入層
／発光層／電子注入層／陰極からなる有機ＥＬ素子の作
製法について説明すると、まず適当な基板上に、所望の
電極物質、例えば陽極用物質からなる薄膜を、１μｍ以
下、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるよ
うに、蒸着やスパッタリングなどの方法により形成さ
せ、陽極を作製する。次に、この上に素子材料である正
孔注入層，発光層，電子注入層の材料からなる薄膜を形
成させる。
適な例を説明する。例として、前記の陽極／正孔注入層
／発光層／電子注入層／陰極からなる有機ＥＬ素子の作
製法について説明すると、まず適当な基板上に、所望の
電極物質、例えば陽極用物質からなる薄膜を、１μｍ以
下、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるよ
うに、蒸着やスパッタリングなどの方法により形成さ
せ、陽極を作製する。次に、この上に素子材料である正
孔注入層，発光層，電子注入層の材料からなる薄膜を形
成させる。
【００３１】この薄膜化の方法としては、前記の如くス
ピンコート法，キャスト法，蒸着法などがあるが、均質
な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくいな
どの点から、真空蒸着法が好ましい。薄膜化に、真空蒸
着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の
種類，分子堆積膜の目的とする結晶構造，会合構造など
により異なるが、一般にボート加熱温度５０〜４００
℃，真空度１０-6〜１０ -3Ｐａ，蒸着速度０．０１〜５
０ｎｍ／秒、基板温度−５０〜３００℃、膜厚５ｎｍ〜
５μｍの範囲で適宜選ぶことが望ましい。これらの層の
形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を、１μｍ以
下好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるよう
に、例えば、蒸着やスパッタリングなどの方法により形
成させて陰極を設けることにより、所望の有機ＥＬ素子
が得られる。なお、この有機ＥＬ素子の作製において
は、作製順序を逆にして、陰極，電子注入層，発光層，
正孔注入輸送層，陽極の順に作製することも可能であ
る。
ピンコート法，キャスト法，蒸着法などがあるが、均質
な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくいな
どの点から、真空蒸着法が好ましい。薄膜化に、真空蒸
着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の
種類，分子堆積膜の目的とする結晶構造，会合構造など
により異なるが、一般にボート加熱温度５０〜４００
℃，真空度１０-6〜１０ -3Ｐａ，蒸着速度０．０１〜５
０ｎｍ／秒、基板温度−５０〜３００℃、膜厚５ｎｍ〜
５μｍの範囲で適宜選ぶことが望ましい。これらの層の
形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を、１μｍ以
下好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるよう
に、例えば、蒸着やスパッタリングなどの方法により形
成させて陰極を設けることにより、所望の有機ＥＬ素子
が得られる。なお、この有機ＥＬ素子の作製において
は、作製順序を逆にして、陰極，電子注入層，発光層，
正孔注入輸送層，陽極の順に作製することも可能であ
る。
【００３２】また、一対の電極間に正孔注入層，発光
層，電子注入層を混合させた形で挟持させた陽極／発光
層／陰極からなる素子の作製方法としては、例えば、適
当な基板の上に、陽極用物質からなる薄膜を形成し、正
孔注入材料，発光材料，電子注入材料，ポリビニルカル
バゾール，ポリカーボネート，ポリアリレート，ポリエ
ステル，ポリエーテルなどの結着剤などからなる溶液を
塗布するか、又はこの溶液から浸漬塗工法により薄膜を
形成させて発光層とし、その上に陰極用物質からなる薄
膜を形成させるものがある。ここで、作製した発光層上
に、さらに発光層や電子注入層の材料となる素子材料を
真空蒸着し、その上に陰極用物質からなる薄膜を形成さ
せてもよい。
層，電子注入層を混合させた形で挟持させた陽極／発光
層／陰極からなる素子の作製方法としては、例えば、適
当な基板の上に、陽極用物質からなる薄膜を形成し、正
孔注入材料，発光材料，電子注入材料，ポリビニルカル
バゾール，ポリカーボネート，ポリアリレート，ポリエ
ステル，ポリエーテルなどの結着剤などからなる溶液を
塗布するか、又はこの溶液から浸漬塗工法により薄膜を
形成させて発光層とし、その上に陰極用物質からなる薄
膜を形成させるものがある。ここで、作製した発光層上
に、さらに発光層や電子注入層の材料となる素子材料を
真空蒸着し、その上に陰極用物質からなる薄膜を形成さ
せてもよい。
【００３３】このようにして得られた有機ＥＬ素子に、
直流電圧を印加する場合には、陽極を＋、陰極を−の極
性として電圧３〜５０Ｖ程度を印加すると、発光が観測
できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れ
ずに発光は全く生じない。さらに、交流電圧を印加する
場合には、正極が＋、負極が−の状態になったときのみ
発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。本
発明の一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン誘導体の代
表例を以下に例示するが、本発明はこれらの例によって
なんら制限されるものではない。
直流電圧を印加する場合には、陽極を＋、陰極を−の極
性として電圧３〜５０Ｖ程度を印加すると、発光が観測
できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れ
ずに発光は全く生じない。さらに、交流電圧を印加する
場合には、正極が＋、負極が−の状態になったときのみ
発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。本
発明の一般式（Ｉ）で表されるキノキサリン誘導体の代
表例を以下に例示するが、本発明はこれらの例によって
なんら制限されるものではない。
【化３】
【００３４】
【化４】
【００３５】
【化５】
【００３６】
【化６】
【００３７】
【化７】
【００３８】
【実施例】次に、実施例を用いて本発明をさらに詳しく
説明する。 合成実施例１（化合物（１）） ・２，３−ビス（４’−ブロモフェニル）キノキサリン
の合成 ４，４’−ジブロモベンジル５．０ｇ (１４ｍｍｏｌ)
、１，２−フェニレンジアミン１．５ｇ (１４ｍｍｏ
ｌ) をアルゴンガス雰囲気下で、エタノール２０ミリリ
ットル中で、３．５時間加熱還流した。反応終了後、ろ
過し、得られた結晶をエタノールで洗浄し、２，３−ビ
ス（４’−ブロモフェニル）キノキサリン５．５ｇ (収
率９３％) を得た。 ・化合物（１）の合成 ２，３−ビス（４’−ブロモフェニル）キノキサリン
２．０ｇ (4.5 ｍｍｏｌ）、１−ナフタレンボロン酸
２．０ｇ (１２ｍｍｏｌ) 、テトラキス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム０．２１ｇをアルゴンガス雰囲
気下で、１，２−ジメトキシエタン５０ミリリットルに
溶かし、２．０Ｍ炭酸ナトリウム水溶液２０ミリリット
ル (４０ｍｍｏｌ) を加えて、７時間加熱還流した。反
応終了後、ろ過し、トルエン、水で洗浄し、黄白色粉末
を１．８ｇ (収率７５％) を得た。このものは、マスス
ペクトル（ＭＳ) 分析の結果、前記化合物（１）であ
り、分子量５３４．２１に対し、Ｍ／Ｓ＝５３４であっ
た。また、ＮＭＲ測定を行ったところ、以下の結果であ
った。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.3-7.6(m,12H),7.7-8.0(m,12H),8.
26(m,2H)
説明する。 合成実施例１（化合物（１）） ・２，３−ビス（４’−ブロモフェニル）キノキサリン
の合成 ４，４’−ジブロモベンジル５．０ｇ (１４ｍｍｏｌ)
、１，２−フェニレンジアミン１．５ｇ (１４ｍｍｏ
ｌ) をアルゴンガス雰囲気下で、エタノール２０ミリリ
ットル中で、３．５時間加熱還流した。反応終了後、ろ
過し、得られた結晶をエタノールで洗浄し、２，３−ビ
ス（４’−ブロモフェニル）キノキサリン５．５ｇ (収
率９３％) を得た。 ・化合物（１）の合成 ２，３−ビス（４’−ブロモフェニル）キノキサリン
２．０ｇ (4.5 ｍｍｏｌ）、１−ナフタレンボロン酸
２．０ｇ (１２ｍｍｏｌ) 、テトラキス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム０．２１ｇをアルゴンガス雰囲
気下で、１，２−ジメトキシエタン５０ミリリットルに
溶かし、２．０Ｍ炭酸ナトリウム水溶液２０ミリリット
ル (４０ｍｍｏｌ) を加えて、７時間加熱還流した。反
応終了後、ろ過し、トルエン、水で洗浄し、黄白色粉末
を１．８ｇ (収率７５％) を得た。このものは、マスス
ペクトル（ＭＳ) 分析の結果、前記化合物（１）であ
り、分子量５３４．２１に対し、Ｍ／Ｓ＝５３４であっ
た。また、ＮＭＲ測定を行ったところ、以下の結果であ
った。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.3-7.6(m,12H),7.7-8.0(m,12H),8.
26(m,2H)
【００３９】合成実施例２（化合物（８））
・化合物（８）の合成
合成実施例１において、１−ナフタレンボロン酸の代わ
りに２−ナフタレンボロン酸を用いた以外は同様にして
化合物（８）２．１ｇ (収率８７％) を得た。このもの
は、ＭＳ分析の結果、前記化合物（８）であり、分子量
５３４．２１に対し、Ｍ／Ｓ＝５３４であった。また、
ＮＭＲ測定を行ったところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.48(m,2H),7.6-7.9(m,22H),8.22
(m,2H)
りに２−ナフタレンボロン酸を用いた以外は同様にして
化合物（８）２．１ｇ (収率８７％) を得た。このもの
は、ＭＳ分析の結果、前記化合物（８）であり、分子量
５３４．２１に対し、Ｍ／Ｓ＝５３４であった。また、
ＮＭＲ測定を行ったところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.48(m,2H),7.6-7.9(m,22H),8.22
(m,2H)
【００４０】合成実施例３（化合物（２））
・１，２−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フェニ
ル）−エタン−１，２−ジオンの合成 ４，４’−ジブロモベンジル２．０ｇ (５．４ｍｍｏ
ｌ）、１−ナフタレンボロン酸２．４ｇ (１４ｍｍｏ
ｌ) 、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム０．２５ｇをアルゴンガス雰囲気下で、トルエン５０
ミリリットルに溶かし、２．０Ｍ炭酸ナトリウム水溶液
２０ミリリットルを加えた。そして、４時間加熱還流し
た。反応終了後、ろ過し、有機層を分取し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去した。得
られた結晶をエタノールで洗浄し、１，２−ビス−（４
−ナフタレン−１−イル−フェニル）−エタン−１，２
−ジオン２．５ｇ (収率９９％) を得た。 ・化合物（２）の合成 １，２−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フェニ
ル）−エタン−１，２−ジオン３．１ｇ (6.8 ｍｍｏ
ｌ）、４，５−ジメチル−１，２−フェニレンジアミン
０．９２ｇ (６．８ｍｍｏｌ) をエタノール３０ミリリ
ットル中で、６時間加熱還流した。反応終了後、ろ過
し、得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物（２）
２．７ｇ (収率７２％) を得た。このものは、ＭＳ分析
の結果、前記化合物（２）であり、分子量５６２．２４
に対し、Ｍ／Ｓ＝５６２であった。また、ＮＭＲ測定を
行ったところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),2.54(s,6H),7.3-8.0(m,24H)
ル）−エタン−１，２−ジオンの合成 ４，４’−ジブロモベンジル２．０ｇ (５．４ｍｍｏ
ｌ）、１−ナフタレンボロン酸２．４ｇ (１４ｍｍｏ
ｌ) 、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム０．２５ｇをアルゴンガス雰囲気下で、トルエン５０
ミリリットルに溶かし、２．０Ｍ炭酸ナトリウム水溶液
２０ミリリットルを加えた。そして、４時間加熱還流し
た。反応終了後、ろ過し、有機層を分取し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去した。得
られた結晶をエタノールで洗浄し、１，２−ビス−（４
−ナフタレン−１−イル−フェニル）−エタン−１，２
−ジオン２．５ｇ (収率９９％) を得た。 ・化合物（２）の合成 １，２−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フェニ
ル）−エタン−１，２−ジオン３．１ｇ (6.8 ｍｍｏ
ｌ）、４，５−ジメチル−１，２−フェニレンジアミン
０．９２ｇ (６．８ｍｍｏｌ) をエタノール３０ミリリ
ットル中で、６時間加熱還流した。反応終了後、ろ過
し、得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物（２）
２．７ｇ (収率７２％) を得た。このものは、ＭＳ分析
の結果、前記化合物（２）であり、分子量５６２．２４
に対し、Ｍ／Ｓ＝５６２であった。また、ＮＭＲ測定を
行ったところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),2.54(s,6H),7.3-8.0(m,24H)
【００４１】合成実施例４（化合物（４））
・化合物（４）の合成
合成実施例３において、４，５−ジメチル−１，２−フ
ェニレンジアミンの代わりに、２，３−ジアミノナフタ
レンを用いた以外は同様にして、化合物（４）３．４ｇ
(収率９５％) を得た。このものは、ＭＳ分析の結果、
前記化合物（４）であり、分子量６３４．２４に対し、
Ｍ／Ｓ＝６３４であった。また、ＮＭＲ測定を行ったと
ころ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.3-7.7(m,14H),7.8-8.0(m,10H),8.
15(m,2H),8.8(s,2H)
ェニレンジアミンの代わりに、２，３−ジアミノナフタ
レンを用いた以外は同様にして、化合物（４）３．４ｇ
(収率９５％) を得た。このものは、ＭＳ分析の結果、
前記化合物（４）であり、分子量６３４．２４に対し、
Ｍ／Ｓ＝６３４であった。また、ＮＭＲ測定を行ったと
ころ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.3-7.7(m,14H),7.8-8.0(m,10H),8.
15(m,2H),8.8(s,2H)
【００４２】合成実施例５（化合物（５））
・化合物（５）の合成
合成実施例３において、４，５−ジメチル−１，２−フ
ェニレンジアミンの代わりに、９，１０−ジアミノナフ
タレンを用いた以外は同様にして、化合物（５）３．５
ｇ (収率８２％) を得た。このものは、ＭＳ分析の結
果、前記化合物（５）であり、分子量６３４．２４に対
し、Ｍ／Ｓ＝６３４であった。また、ＮＭＲ測定を行っ
たところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.4-7.7(m,10H),7.8-8.1(m,18H),8.
75(m,2H)
ェニレンジアミンの代わりに、９，１０−ジアミノナフ
タレンを用いた以外は同様にして、化合物（５）３．５
ｇ (収率８２％) を得た。このものは、ＭＳ分析の結
果、前記化合物（５）であり、分子量６３４．２４に対
し、Ｍ／Ｓ＝６３４であった。また、ＮＭＲ測定を行っ
たところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.4-7.7(m,10H),7.8-8.1(m,18H),8.
75(m,2H)
【００４３】合成実施例６（化合物（３））
・６，７−ジブロモ−２，３−ビス−（４−ナフタレン
−１−イル−フェニル）キノキサリンの合成 １，２−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フェニ
ル）−エタン−１，２−ジオン２．０ｇ (２．９ｍｍｏ
ｌ）、４，５−ジブロモ−１，２−フェニレンジアミン
１．１ｇ (４．３ｍｍｏｌ) をエタノール２０ミリリッ
トル中で、２４時間加熱還流した。反応終了後、ろ過
し、得られた結晶をエタノールで洗浄し、６，７−ジブ
ロモ−２，３−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フ
ェニル）キノキサリン２．８ｇ (収率９９％) を得た。 ・化合物（３）の合成 ６，７−ジブロモ−２，３−ビス−（４−ナフタレン−
１−イル−フェニル）キノキサリン２．８ｇ (４０ｍｍ
ｏｌ) 、フェニルボロン酸１．３ｇ (１１ｍｍｏｌ) 、
ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
０．１３ｇをアルゴンガス雰囲気下で、１，２−ジメト
キシエタン３０ミリリットルに溶かし、２．０Ｍ炭酸ナ
トリウム水溶液１５ミリリットルを加えて、６時間加熱
還流した。反応終了後、ろ過し、有機層を分取し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物（３）
２．６ｇ (収率９４％) を得た。このものは、ＭＳ分析
の結果、化合物（３）であり、分子量６８６．２７に対
し、Ｍ／Ｓ＝６８６であった。また、ＮＭＲ測定を行っ
たところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.1-7.3(m,10H),7.3-7.6(m,10H),7.
7-8.0(m,12H),8.34(s,2H)
−１−イル−フェニル）キノキサリンの合成 １，２−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フェニ
ル）−エタン−１，２−ジオン２．０ｇ (２．９ｍｍｏ
ｌ）、４，５−ジブロモ−１，２−フェニレンジアミン
１．１ｇ (４．３ｍｍｏｌ) をエタノール２０ミリリッ
トル中で、２４時間加熱還流した。反応終了後、ろ過
し、得られた結晶をエタノールで洗浄し、６，７−ジブ
ロモ−２，３−ビス−（４−ナフタレン−１−イル−フ
ェニル）キノキサリン２．８ｇ (収率９９％) を得た。 ・化合物（３）の合成 ６，７−ジブロモ−２，３−ビス−（４−ナフタレン−
１−イル−フェニル）キノキサリン２．８ｇ (４０ｍｍ
ｏｌ) 、フェニルボロン酸１．３ｇ (１１ｍｍｏｌ) 、
ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
０．１３ｇをアルゴンガス雰囲気下で、１，２−ジメト
キシエタン３０ミリリットルに溶かし、２．０Ｍ炭酸ナ
トリウム水溶液１５ミリリットルを加えて、６時間加熱
還流した。反応終了後、ろ過し、有機層を分取し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物（３）
２．６ｇ (収率９４％) を得た。このものは、ＭＳ分析
の結果、化合物（３）であり、分子量６８６．２７に対
し、Ｍ／Ｓ＝６８６であった。また、ＮＭＲ測定を行っ
たところ、以下の結果であった。1 H-NMR(CDCl3,TMS),7.1-7.3(m,10H),7.3-7.6(m,10H),7.
7-8.0(m,12H),8.34(s,2H)
【００４４】応用実施例１
２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極付
きガラス基板（ジオマティック社製）をイソプロピルア
ルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾ
ン洗浄を３０分間行なった。洗浄後の透明電極ライン付
きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、
まず透明電極ラインが形成されている側の面上に前記透
明電極を覆うようにして膜厚６０ｎｍのＮ，Ｎ’−ビス
（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４−アミノフェニル）−Ｎ，
Ｎ−ジフェニル−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフ
ェニル膜（ＴＰＤ２３２膜）を成膜した。このＴＰＤ２
３２膜は、正孔注入層として機能する。次に、このＴＰ
Ｄ２３２膜上に膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−
（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル膜
（ＮＰＤ膜）を成膜した。このＮＰＤ膜は正孔輸送層と
して機能する。さらに、このＮＰＤ膜上に膜厚４０ｎｍ
の下記ホスト材料（Ｅ１）を蒸着し成膜した。同時に発
光分子として、スチリル基を有する下記アミン化合物
（Ｄ１）を（Ｅ１）に対し重量比３：４０で蒸着した。
この膜は、発光層として機能する。この膜上に膜厚１０
ｎｍの６，７−ジメチル−２，３−ビス（４−ナフタレ
ン−１−イル−フェニル）−キノキサリン（ＤＭＮＰ
Ｑ）を薄膜状に成膜した。ＤＭＮＰＱ膜は、電子注入層
として機能する。この後、還元性ドーパントであるＬｉ
（Ｌｉ源：サエスゲッター社製）とＤＭＮＰＱを二元蒸
着させ、電子注入層（陰極）としてＤＭＮＰＱ：Ｌｉ膜
（膜厚１０ｎｍ）を形成した。このＡｌｑ：Ｌｉ膜上に
金属Ａｌを蒸着させ金属陰極を形成し有機ＥＬ素子を製
造した。この素子は、直流電圧６．０Ｖで発光輝度１１
８ｃｄ／ｍ2 、発光効率９．９５ｃｄ／Ａの青色発光が
得られた。初期１０００ｃｄ／ｍ2 にて一定電流駆動を
行ったところ輝度が半減する時間（半減寿命）２０００
時間（初期５００ｃｄ／ｍ2 換算では４０００時間）で
あった。これらの結果を表１に示す。
きガラス基板（ジオマティック社製）をイソプロピルア
ルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾ
ン洗浄を３０分間行なった。洗浄後の透明電極ライン付
きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、
まず透明電極ラインが形成されている側の面上に前記透
明電極を覆うようにして膜厚６０ｎｍのＮ，Ｎ’−ビス
（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４−アミノフェニル）−Ｎ，
Ｎ−ジフェニル−４，４’−ジアミノ−１，１’−ビフ
ェニル膜（ＴＰＤ２３２膜）を成膜した。このＴＰＤ２
３２膜は、正孔注入層として機能する。次に、このＴＰ
Ｄ２３２膜上に膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−
（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル膜
（ＮＰＤ膜）を成膜した。このＮＰＤ膜は正孔輸送層と
して機能する。さらに、このＮＰＤ膜上に膜厚４０ｎｍ
の下記ホスト材料（Ｅ１）を蒸着し成膜した。同時に発
光分子として、スチリル基を有する下記アミン化合物
（Ｄ１）を（Ｅ１）に対し重量比３：４０で蒸着した。
この膜は、発光層として機能する。この膜上に膜厚１０
ｎｍの６，７−ジメチル−２，３−ビス（４−ナフタレ
ン−１−イル−フェニル）−キノキサリン（ＤＭＮＰ
Ｑ）を薄膜状に成膜した。ＤＭＮＰＱ膜は、電子注入層
として機能する。この後、還元性ドーパントであるＬｉ
（Ｌｉ源：サエスゲッター社製）とＤＭＮＰＱを二元蒸
着させ、電子注入層（陰極）としてＤＭＮＰＱ：Ｌｉ膜
（膜厚１０ｎｍ）を形成した。このＡｌｑ：Ｌｉ膜上に
金属Ａｌを蒸着させ金属陰極を形成し有機ＥＬ素子を製
造した。この素子は、直流電圧６．０Ｖで発光輝度１１
８ｃｄ／ｍ2 、発光効率９．９５ｃｄ／Ａの青色発光が
得られた。初期１０００ｃｄ／ｍ2 にて一定電流駆動を
行ったところ輝度が半減する時間（半減寿命）２０００
時間（初期５００ｃｄ／ｍ2 換算では４０００時間）で
あった。これらの結果を表１に示す。
【００４５】
【化８】
【００４６】応用実施例２
応用実施例１において、ＤＭＮＰＱの代わりに、２，３
−ビス（４−ナフタレン−１−イル−フェニル）−キノ
キサリン (ＮＰＱ１）を用いた以外は同様にして有機Ｅ
Ｌ素子を製造した。また、直流電圧７．５Ｖとした以外
は応用実施例１と同様にして、発光輝度、発光効率、半
減寿命を測定し、発光色を観察した結果を表１に示す。
−ビス（４−ナフタレン−１−イル−フェニル）−キノ
キサリン (ＮＰＱ１）を用いた以外は同様にして有機Ｅ
Ｌ素子を製造した。また、直流電圧７．５Ｖとした以外
は応用実施例１と同様にして、発光輝度、発光効率、半
減寿命を測定し、発光色を観察した結果を表１に示す。
【００４７】応用実施例３
応用実施例１において、ＤＭＮＰＱの代わりに、２，３
−ビス（４−ナフタレン−２−イル−フェニル）−キノ
キサリン (ＮＰＱ２）を用いた以外は同様にして有機Ｅ
Ｌ素子を製造した。また、直流電圧６．５Ｖとした以外
は応用実施例１と同様にして、発光輝度、発光効率、半
減寿命を測定し、発光色を観察した結果を表１に示す。
−ビス（４−ナフタレン−２−イル−フェニル）−キノ
キサリン (ＮＰＱ２）を用いた以外は同様にして有機Ｅ
Ｌ素子を製造した。また、直流電圧６．５Ｖとした以外
は応用実施例１と同様にして、発光輝度、発光効率、半
減寿命を測定し、発光色を観察した結果を表１に示す。
【００４８】比較例１
応用実施例１において、ＤＭＮＰＱの代わりに、２，
３，６，７−テトラフェニルキノキサリン（ＴＰＱ）を
用いた以外は同様にして有機ＥＬ素子を製造した。この
素子は、直流電圧１５．０Ｖで、発光最大波長は４７５
ｎｍ、発光輝度８８ｃｄ／ｍ2 、発光効率０．１ｃｄ／
Ａの青色発光が得られた。初期５００ｃｄ／ｍ2 にて一
定電流駆動を行ったところ通電後、２４時間で発光しな
くなり、短絡箇所が生じていた。これは、ＴＰＱが結晶
化したことによる。これらの結果を表１に示す。
３，６，７−テトラフェニルキノキサリン（ＴＰＱ）を
用いた以外は同様にして有機ＥＬ素子を製造した。この
素子は、直流電圧１５．０Ｖで、発光最大波長は４７５
ｎｍ、発光輝度８８ｃｄ／ｍ2 、発光効率０．１ｃｄ／
Ａの青色発光が得られた。初期５００ｃｄ／ｍ2 にて一
定電流駆動を行ったところ通電後、２４時間で発光しな
くなり、短絡箇所が生じていた。これは、ＴＰＱが結晶
化したことによる。これらの結果を表１に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の新
規キノキサリン誘導体は、有機ＥＬ素子の構成成分とし
て有用な新規な化合物である。このキノキサリン誘導体
を有機化合物層の少なくとも一層に用いることにより、
有機ＥＬ素子の高輝度化，高発光効率化及び電極の付着
改善による長期安定化が可能である。
規キノキサリン誘導体は、有機ＥＬ素子の構成成分とし
て有用な新規な化合物である。このキノキサリン誘導体
を有機化合物層の少なくとも一層に用いることにより、
有機ＥＬ素子の高輝度化，高発光効率化及び電極の付着
改善による長期安定化が可能である。
Claims (6)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で示される新規なキノ
キサリン誘導体。 【化１】 （式中、Ｒ1〜Ｒ6 は、それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６
のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、
炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数６〜４０のアリ
ールチオ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭
素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜４０
のアリールスルホニル基、炭素数６〜４０のアリールス
ルフィニル基、シアノ基、置換もしくは無置換の炭素数
６〜４０のアリール基、又は置換もしくは無置換の炭素
数６〜４０のヘテロアリール基を表す。Ｒ1〜Ｒ4 は、
隣同士で互いに結合して環を形成していてもよく、置換
されていてもよい。Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数６〜４０のア
リールオキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素
数６〜４０のアリールチオ基、炭素数１〜６のアルキル
スルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル
基、炭素数６〜４０のアリールスルホニル基、炭素数６
〜４０のアリールスルフィニル基、シアノ基を有してい
てもよい炭素数６〜４０のアリール基、又は置換もしく
は無置換の炭素数６〜４０のヘテロアリール基を表す。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表し、ｍ
及びｎは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。ただ
し、Ｒ2及びＲ3 が同時に水素原子、フェニル基又はア
ルキル基置換フェニル基であり、かつｍ＝ｎ＝０である
場合を除く。） - 【請求項２】 有機エレクトロルミネッセンス素子に含
有される前記一般式（Ｉ）で表される請求項１に記載の
新規なキノキサリン誘導体。 - 【請求項３】 一対の電極間に有機発光層又は有機発光
層を含む複数層からなる有機化合物層を有する有機エレ
クロルミネッセンス素子であって、該有機化合物層の少
なくとも一層が請求項１に記載の前記一般式（Ｉ）で表
されるキノキサリン誘導体を含有する有機エレクトロル
ミネッセンス素子。 - 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリ
ン誘導体を、主として発光帯域に含有させてなる請求項
３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 【請求項５】 前記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリ
ン誘導体を、有機発光層に含有させてなる請求項３又は
４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 【請求項６】 前記有機化合物層が電子注入層を有し、
該電子注入層が前記一般式（Ｉ）で表されるキノキサリ
ン誘導体からなる請求項３に記載の有機エレクトロルミ
ネッセンス素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001223867A JP2003040873A (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 新規キノキサリン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001223867A JP2003040873A (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 新規キノキサリン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003040873A true JP2003040873A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19057125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001223867A Withdrawn JP2003040873A (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 新規キノキサリン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003040873A (ja) |
Cited By (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004043937A1 (ja) * | 2002-11-13 | 2004-05-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | キノキサリン誘導体、有機半導体素子および電界発光素子 |
| WO2004094389A1 (ja) | 2003-04-18 | 2004-11-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. | キノキサリン誘導体，及びそれを用いた有機半導体素子、電界発光素子及び電子機器 |
| WO2005003095A1 (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 金属錯体化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| WO2005009979A1 (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | キノキサリン誘導体及びそれを用いた発光素子 |
| JP2005514739A (ja) * | 2001-12-31 | 2005-05-19 | キヤノン株式会社 | 有機発光デバイス |
| JP2006016384A (ja) * | 2004-06-03 | 2006-01-19 | Mitsui Chemicals Inc | アミン化合物、および該アミン化合物を含有する有機電界発光素子 |
| WO2006022193A1 (en) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element, light emitting device, and lighting system |
| JP2006073273A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Nissan Motor Co Ltd | 機能性薄膜素子、機能性薄膜素子の製造方法及び機能性薄膜素子を用いた物品 |
| JP2006073992A (ja) * | 2004-05-20 | 2006-03-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子および発光装置 |
| JP2006073272A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Nissan Motor Co Ltd | 機能性薄膜素子、機能性薄膜素子の製造方法及び機能性薄膜素子を用いた物品 |
| JP2006089728A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-04-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置および照明装置。 |
| WO2006062144A1 (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emittng device using the same |
| JP2006298965A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Showa Denko Kk | ジフェニルキノキサリン骨格を有する化合物を含む導電性組成物 |
| JP2007070361A (ja) * | 2002-11-13 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、有機半導体素子および電界発光素子 |
| WO2007032258A1 (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic appliance using the same |
| JP2007099766A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-04-19 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置、電子機器 |
| WO2007142216A1 (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用材料 |
| WO2008047589A1 (en) * | 2006-10-06 | 2008-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element and light-emitting device using quinoxaline derivative |
| JP2008094776A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Mitsui Chemicals Inc | アントラセン化合物および該化合物を含有する有機電界発光素子 |
| JP2008110968A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-05-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置 |
| EP2004616A1 (en) * | 2006-03-21 | 2008-12-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, electronic device using the quinoxaline derivative |
| KR20090056870A (ko) * | 2007-11-30 | 2009-06-03 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 퀴녹살린 유도체, 및 퀴녹살린 유도체를 사용한 발광 소자,발광 장치 및 전자 기기 |
| JP2009149632A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置並びに電子機器 |
| JP2009149629A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、並びにその誘導体を用いた発光素子、発光装置及び電子機器 |
| JP2009167180A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体及びそれを用いた発光素子、発光装置、電子機器 |
| JP2009298794A (ja) * | 2004-05-20 | 2009-12-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 有機金属錯体、発光装置、照明器具、および電子機器 |
| US7771844B2 (en) | 2004-12-03 | 2010-08-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Organic metal complex and photoelectronic device, light-emitting element and light-emitting device using the same |
| US7795429B2 (en) | 2004-12-03 | 2010-09-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emitting device using the organometallic complex |
| US7804238B2 (en) | 2004-08-31 | 2010-09-28 | Nissan Motor Co., Ltd. | Functional thin-film element, producing method thereof, and article using functional thin-film element |
| US7915409B2 (en) | 2003-12-02 | 2011-03-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometal complex and light-emitting element using the same |
| WO2011081431A2 (ko) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | 주식회사 두산 | 유기발광 화합물 및 이를 포함한 유기 전계 발광 소자 |
| US7993761B2 (en) | 2007-12-03 | 2011-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device using the same |
| US8178216B2 (en) | 2007-02-28 | 2012-05-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device including quinoxaline derivative |
| JP2012134509A (ja) * | 2005-03-28 | 2012-07-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置および電子機器 |
| US8283052B2 (en) | 2006-09-29 | 2012-10-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, light-emitting element, light-emitting device, and electronic appliance |
| KR20130027420A (ko) * | 2011-08-31 | 2013-03-15 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 복소환 화합물, 발광 소자, 발광 장치, 전자 기기, 조명 장치 및 유기 화합물 |
| JP2014005277A (ja) * | 2012-06-01 | 2014-01-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ピラジン誘導体の合成方法、発光素子、発光装置、電子機器、および照明装置 |
| US8703305B2 (en) | 2006-09-29 | 2014-04-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic device using the quinoxaline derivative |
| KR20150051119A (ko) * | 2013-10-29 | 2015-05-11 | 주식회사 엠비케이 | 신규한 전자주입 또는 수송층 화합물 및 이를 포함하는 유기전기발광소자 |
| US9978960B2 (en) | 2013-06-14 | 2018-05-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic iridium complex, light-emitting element, light-emitting device, and lighting device |
| US10270042B2 (en) | 2016-05-31 | 2019-04-23 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound for organic optoelectric device and organic optoelectric device and display device |
| US10446764B2 (en) | 2014-05-22 | 2019-10-15 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Organic compound, composition, organic optoelectric device, and display device |
| WO2019208991A1 (ko) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 |
-
2001
- 2001-07-25 JP JP2001223867A patent/JP2003040873A/ja not_active Withdrawn
Cited By (92)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005514739A (ja) * | 2001-12-31 | 2005-05-19 | キヤノン株式会社 | 有機発光デバイス |
| JP4574606B2 (ja) * | 2002-11-13 | 2010-11-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 電界発光素子 |
| WO2004043937A1 (ja) * | 2002-11-13 | 2004-05-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | キノキサリン誘導体、有機半導体素子および電界発光素子 |
| JP2007070361A (ja) * | 2002-11-13 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、有機半導体素子および電界発光素子 |
| US7355340B2 (en) | 2002-11-13 | 2008-04-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivatives, organic semiconductor device and electroluminescent device |
| US8758905B2 (en) | 2003-04-18 | 2014-06-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and organic semiconductor device, electric field light emitting device, and electronic device which have the same |
| US8231984B2 (en) | 2003-04-18 | 2012-07-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and organic semiconductor device, electric field light emitting device, and electronic device which have the same |
| US7601435B2 (en) | 2003-04-18 | 2009-10-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and organic semiconductor device, electric field light emitting device, and electronic device which have the same |
| WO2004094389A1 (ja) | 2003-04-18 | 2004-11-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. | キノキサリン誘導体，及びそれを用いた有機半導体素子、電界発光素子及び電子機器 |
| WO2005003095A1 (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 金属錯体化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| WO2005009979A1 (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | キノキサリン誘導体及びそれを用いた発光素子 |
| US9219236B2 (en) | 2003-12-02 | 2015-12-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometal complex and light-emitting element using the same |
| US8569486B2 (en) | 2003-12-02 | 2013-10-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometal complex and light-emitting element using the same |
| US7915409B2 (en) | 2003-12-02 | 2011-03-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometal complex and light-emitting element using the same |
| US8278444B2 (en) | 2003-12-02 | 2012-10-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometal complex and light-emitting element using the same |
| JP2009298794A (ja) * | 2004-05-20 | 2009-12-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 有機金属錯体、発光装置、照明器具、および電子機器 |
| JP2006073992A (ja) * | 2004-05-20 | 2006-03-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子および発光装置 |
| US7811677B2 (en) | 2004-05-20 | 2010-10-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element and light emitting device |
| US8637167B2 (en) | 2004-05-20 | 2014-01-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element and light emitting device |
| JP4637651B2 (ja) * | 2004-06-03 | 2011-02-23 | 三井化学株式会社 | アミン化合物、および該アミン化合物を含有する有機電界発光素子 |
| JP2006016384A (ja) * | 2004-06-03 | 2006-01-19 | Mitsui Chemicals Inc | アミン化合物、および該アミン化合物を含有する有機電界発光素子 |
| US7951470B2 (en) | 2004-08-23 | 2011-05-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element, light emitting device, and lighting system |
| JP2006089728A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-04-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置および照明装置。 |
| KR101163194B1 (ko) | 2004-08-23 | 2012-07-06 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광소자, 발광장치 및 조명 시스템 |
| WO2006022193A1 (en) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element, light emitting device, and lighting system |
| JP2006073272A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Nissan Motor Co Ltd | 機能性薄膜素子、機能性薄膜素子の製造方法及び機能性薄膜素子を用いた物品 |
| JP4534673B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-09-01 | 日産自動車株式会社 | 機能性薄膜素子、機能性薄膜素子の製造方法及び機能性薄膜素子を用いた物品 |
| JP4534674B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-09-01 | 日産自動車株式会社 | 機能性薄膜素子、機能性薄膜素子の製造方法及び機能性薄膜素子を用いた物品 |
| US7804238B2 (en) | 2004-08-31 | 2010-09-28 | Nissan Motor Co., Ltd. | Functional thin-film element, producing method thereof, and article using functional thin-film element |
| JP2006073273A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Nissan Motor Co Ltd | 機能性薄膜素子、機能性薄膜素子の製造方法及び機能性薄膜素子を用いた物品 |
| US8512880B2 (en) | 2004-12-03 | 2013-08-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emitting device using the organometallic complex |
| US7771844B2 (en) | 2004-12-03 | 2010-08-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Organic metal complex and photoelectronic device, light-emitting element and light-emitting device using the same |
| US7795429B2 (en) | 2004-12-03 | 2010-09-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emitting device using the organometallic complex |
| US7951471B2 (en) | 2004-12-07 | 2011-05-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emitting device using the same |
| US8227600B2 (en) | 2004-12-07 | 2012-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emitting device using the same |
| WO2006062144A1 (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, and light-emitting element and light-emittng device using the same |
| JP2012134509A (ja) * | 2005-03-28 | 2012-07-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置および電子機器 |
| JP2006298965A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Showa Denko Kk | ジフェニルキノキサリン骨格を有する化合物を含む導電性組成物 |
| JP2007099766A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-04-19 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置、電子機器 |
| US8623523B2 (en) | 2005-09-12 | 2014-01-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic appliance using the same |
| US7901792B2 (en) | 2005-09-12 | 2011-03-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic appliance using the same |
| WO2007032258A1 (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic appliance using the same |
| US20120211738A1 (en) * | 2005-09-12 | 2012-08-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline Derivative, and Light Emitting Element, Light Emitting Device, and Electronic Appliance Using the Same |
| US8173277B2 (en) | 2005-09-12 | 2012-05-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic appliance using the same |
| KR101540037B1 (ko) * | 2005-09-12 | 2015-07-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 퀴녹살린 유도체, 및 퀴녹살린 유도체를 사용한 발광소자, 발광장치, 전자 기기 |
| EP2004616A1 (en) * | 2006-03-21 | 2008-12-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, electronic device using the quinoxaline derivative |
| US8471017B2 (en) | 2006-03-21 | 2013-06-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, electronic device using the quinoxaline derivative |
| EP2004616A4 (en) * | 2006-03-21 | 2011-06-08 | Semiconductor Energy Lab | QUINOXALINE DERIVATIVES AND PHOTOGRAPHING ELEMENT, PHOTOEMETTER DEVICE, ELECTRONIC DEVICE USING THE QUINOXALIN DERIVATIVE |
| US8008489B2 (en) | 2006-03-21 | 2011-08-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, electronic device using the quinoxaline derivative |
| US7696348B2 (en) | 2006-03-21 | 2010-04-13 | Semiconductor Energy Laboratories Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, electronic device using the quinoxaline derivative |
| WO2007142216A1 (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用材料 |
| JP5213705B2 (ja) * | 2006-06-05 | 2013-06-19 | 出光興産株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用材料 |
| US9062036B2 (en) | 2006-09-29 | 2015-06-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic device using the quinoxaline derivative |
| US9328098B2 (en) | 2006-09-29 | 2016-05-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic device using the quinoxaline derivative |
| US8703305B2 (en) | 2006-09-29 | 2014-04-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light emitting element, light emitting device, and electronic device using the quinoxaline derivative |
| US8283052B2 (en) | 2006-09-29 | 2012-10-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, light-emitting element, light-emitting device, and electronic appliance |
| WO2008047589A1 (en) * | 2006-10-06 | 2008-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element and light-emitting device using quinoxaline derivative |
| US7612204B2 (en) | 2006-10-06 | 2009-11-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element and light-emitting device using quinoxaline derivative |
| JP2008110968A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-05-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置 |
| JP2008094776A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Mitsui Chemicals Inc | アントラセン化合物および該化合物を含有する有機電界発光素子 |
| US8178216B2 (en) | 2007-02-28 | 2012-05-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device including quinoxaline derivative |
| EP2065378A1 (en) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. | Quinoxaline derivate, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device using quinoxaline derivative |
| US7927720B2 (en) | 2007-11-30 | 2011-04-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device using quinoxaline derivative |
| US8314101B2 (en) | 2007-11-30 | 2012-11-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device using quinoxaline derivative |
| JP2016054305A (ja) * | 2007-11-30 | 2016-04-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光素子、発光装置、照明装置、電子機器 |
| US8119259B2 (en) | 2007-11-30 | 2012-02-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element and electronic device using the same |
| KR101600593B1 (ko) * | 2007-11-30 | 2016-03-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 퀴녹살린 유도체, 및 퀴녹살린 유도체를 사용한 발광 소자,발광 장치 및 전자 기기 |
| US8586740B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-11-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device using quinoxaline derivative |
| CN103396411B (zh) * | 2007-11-30 | 2016-01-20 | 株式会社半导体能源研究所 | 喹喔啉衍生物、以及使用其的发光元件和电子设备 |
| JP2009149632A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置並びに電子機器 |
| JP2009149631A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、およびキノキサリン誘導体を用いた発光素子、発光装置並びに電子機器 |
| JP2009149629A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体、並びにその誘導体を用いた発光素子、発光装置及び電子機器 |
| KR20090056870A (ko) * | 2007-11-30 | 2009-06-03 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 퀴녹살린 유도체, 및 퀴녹살린 유도체를 사용한 발광 소자,발광 장치 및 전자 기기 |
| JP2014139237A (ja) * | 2007-11-30 | 2014-07-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体 |
| US7993761B2 (en) | 2007-12-03 | 2011-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic device using the same |
| JP2009167180A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | キノキサリン誘導体及びそれを用いた発光素子、発光装置、電子機器 |
| US8815412B2 (en) | 2007-12-21 | 2014-08-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Quinoxaline derivative, and light-emitting element, light-emitting device, and electronic appliance using the quinoxaline derivative |
| WO2011081431A2 (ko) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | 주식회사 두산 | 유기발광 화합물 및 이를 포함한 유기 전계 발광 소자 |
| WO2011081431A3 (ko) * | 2009-12-30 | 2011-12-15 | 주식회사 두산 | 유기발광 화합물 및 이를 포함한 유기 전계 발광 소자 |
| KR101290011B1 (ko) * | 2009-12-30 | 2013-07-30 | 주식회사 두산 | 유기발광 화합물 및 이를 포함한 유기 전계 발광 소자 |
| KR102082373B1 (ko) | 2011-08-31 | 2020-02-27 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 복소환 화합물, 발광 소자, 발광 장치, 전자 기기, 조명 장치 및 유기 화합물 |
| JP2014028784A (ja) * | 2011-08-31 | 2014-02-13 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 複素環化合物、発光素子、発光装置、電子機器、照明装置及び有機化合物 |
| KR20130027420A (ko) * | 2011-08-31 | 2013-03-15 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 복소환 화합물, 발광 소자, 발광 장치, 전자 기기, 조명 장치 및 유기 화합물 |
| JP2014005277A (ja) * | 2012-06-01 | 2014-01-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ピラジン誘導体の合成方法、発光素子、発光装置、電子機器、および照明装置 |
| US9978960B2 (en) | 2013-06-14 | 2018-05-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic iridium complex, light-emitting element, light-emitting device, and lighting device |
| US10431752B2 (en) | 2013-06-14 | 2019-10-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic iridium complex, light-emitting element, light-emitting device, and lighting device |
| KR101636968B1 (ko) | 2013-10-29 | 2016-07-08 | 주식회사 엠비케이 | 신규한 전자주입 또는 수송층 화합물 및 이를 포함하는 유기전기발광소자 |
| KR20150051119A (ko) * | 2013-10-29 | 2015-05-11 | 주식회사 엠비케이 | 신규한 전자주입 또는 수송층 화합물 및 이를 포함하는 유기전기발광소자 |
| US10446764B2 (en) | 2014-05-22 | 2019-10-15 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Organic compound, composition, organic optoelectric device, and display device |
| US10270042B2 (en) | 2016-05-31 | 2019-04-23 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Compound for organic optoelectric device and organic optoelectric device and display device |
| WO2019208991A1 (ko) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 |
| CN111788192A (zh) * | 2018-04-24 | 2020-10-16 | 株式会社Lg化学 | 新型杂环化合物及利用其的有机发光器件 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003040873A (ja) | 新規キノキサリン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
| JP5274459B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
| EP2174933B1 (en) | Benzimidazole derivatives for use in organic electroluminescent devices | |
| JP4435990B2 (ja) | 有機金属錯体分子およびこれを用いる有機電子発光素子 | |
| JP5619853B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
| EP2371812B1 (en) | Indenofluorenedione derivative, material for organic electroluminescent element, and organic electroluminescent element | |
| TWI580666B (zh) | Aromatic amine derivatives, organic electroluminescent elements and electronic machines | |
| TWI436981B (zh) | 複合材料及使用此複合材料的發光元件和發光裝置 | |
| KR20150002072A (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| TW200803613A (en) | Material for organic electroluminescent device and organic electroluminescent device using the same | |
| KR20140099082A (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| KR20140145355A (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| JP2001335516A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
| JP2003026616A (ja) | 有機ｅｌ素子用化合物、有機ｅｌ素子 | |
| US9024304B2 (en) | Naphthalene derivative, organic material including the same, and organic electroluminescent device including the same | |
| JPWO2003050201A1 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子材料 | |
| KR20110054225A (ko) | 유기 전기 발광 조성물 및 이를 포함하는 유기 전기 발광 소자 | |
| KR20130069431A (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| KR20040060270A (ko) | 유기 전계 발광 소자용 적색 발광 화합물 및 이를 사용한유기 전계 발광 소자 | |
| KR20150037133A (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| KR20150025379A (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| KR101562882B1 (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| KR20130133518A (ko) | 유기 전기 발광 조성물 및 이를 포함하는 유기 전기 발광 소자 | |
| KR101502764B1 (ko) | 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자 | |
| JP2002313581A (ja) | ピリジン環を有するカルボン酸のアルカリ金属塩を用いた有機ｅｌ素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080703 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20081211 |