JP2003035876A - Multibeam scanner and image forming device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To correct a beam pitch without adversely affecting other beam characteristics in an image forming device for forming an image by an electrophotographic process by using a multibeam light source device and an optical write-in device using the light source device. SOLUTION: A light source device 1 is constituted by holding a 1st light source part 14 and a 2nd light source part 24 constituted by holding two semiconductor lasers and coupling lenses by base members 13 and 23 by a holder member 31 and holding a beam synthesizing prism 32 by a supporting member 5 in the image forming device, which is provided with a beam pitch detection means for detecting the beam pitch of respective beams on a surface to be scanned and a beam pitch correction means correcting the beam pitch by rotating or inclining any of the 1st light source part 14, the 2nd light source part 24 and the light source device 1 according to the detected result by the beam pitch detection means.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、複数のビームを
同時に出力するマルチビーム走査装置及びマルチビーム
による画像の書込みを行う画像形成装置おいて、被走査
面におけるビームピッチを検出し、その検出結果に基づ
いてビームピッチを補正する技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention detects a beam pitch on a surface to be scanned in a multi-beam scanning device for simultaneously outputting a plurality of beams and an image forming apparatus for writing an image by the multi-beam, and the detection result thereof. A technique for correcting the beam pitch based on the above.

【０００２】[0002]

【従来の技術】複写機、プリンタ、ファクシミリ装置な
ど電子写真方式を用いて画像を形成する画像形成装置に
は、書込み速度を向上させるため複数のレーザビームを
一度に射出させて複数ラインを同時に記録するマルチビ
ーム光源装置によって画像を形成するものがある。例え
ば、特開平９−８０３３１号公報には、マルチビーム光
源装置において、複数ビームの光路上に設けられたマル
チビームのいずれかのビームのみを透過又は反射する光
学素子あるいは線像結像素子を変位させることにより、
被走査面上の光スポットのビームピッチ（副走査方向間
隔）を補正する手段について記載されている。また、特
開平６−１１０２７３号公報には、走査光学装置におい
て、複数のレーザ光源とそれらから出力されるレーザビ
ームを合成するビーム合成手段とを有し、その少なくと
も１つのレーザ光源とビーム合成手段との間に設けた透
明平行平板を傾けてビームピッチを調整する手段につい
て記載されている。さらに、特開平１１−２３９８８号
公報には、複数の半導体レーザ、コリメートレンズ及び
両者を一体的に支持する支持部材を有する第１及び第２
の光源部とともに、第１、第２の光源部の光ビームを近
接させて出射するビーム合成手段をホルダーに納めて一
体的に構成したマルチビーム光源装置について記載され
ている。2. Description of the Related Art In an image forming apparatus such as a copying machine, a printer or a facsimile apparatus which forms an image by using an electrophotographic method, a plurality of laser beams are emitted at a time to simultaneously record a plurality of lines in order to improve a writing speed. Some multi-beam light source devices form an image. For example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-80331, in a multi-beam light source device, an optical element or a linear image forming element that is provided on the optical paths of a plurality of beams and that transmits or reflects only one of the multi-beams is displaced. By letting
A means for correcting the beam pitch (interval in the sub-scanning direction) of the light spot on the surface to be scanned is described. Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 6-110273, a scanning optical device has a plurality of laser light sources and a beam combining means for combining laser beams output from the laser light sources, and at least one laser light source and beam combining means. And a means for adjusting the beam pitch by inclining a transparent parallel plate provided between and. Furthermore, Japanese Patent Laid-Open No. 11-23988 discloses first and second semiconductor lasers, a collimating lens, and a supporting member that integrally supports both.
The multi-beam light source device in which the beam combining means for emitting the light beams of the first and second light source parts in close proximity to each other is housed in the holder and is integrally configured is described.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述した特開平１１−
２３９８８号公報のマルチビーム光源装置は、複数の部
材を一体的に構成しているため、各部材が異なる材質か
ら構成されていると、温度変化に伴う各部材の熱膨張差
が生じて射出されるレーザビームに相対的な光軸偏差が
発生し、感光体表面上の被走査面における走査線の間隔
（ビームピッチ）が変動するおそれがあった。このよう
な場合に上述した特開平９−８０３３１号公報記載の技
術や特開平６−１１０２７３号公報記載の技術を適用す
ることにより、ビームピッチを補正することは可能であ
る。しかし、前者の手段を適用すると他のビーム特性
(例えばビームスポット径)を劣化させるおそれがあると
いう問題があり、また後者の手段には物理的な配置の関
係で上述のマルチビーム光源装置に適用することができ
ないおそれがあった。この発明は、上記の問題点を解決
するためになされたものであり、第１及び第２の光源部
とともに、第１の光源部、第２の光源部の光ビームを近
接させて出射するビーム合成手段をホルダーに納めて一
体的に構成した従来のマルチビーム光源装置及びそれを
光書込装置に用いて電子写真プロセスにより画像形成を
行う画像形成装置において、他のビーム特性に支障を来
たすことなく、ビームピッチを補正できるようにするこ
とを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention
Since the multi-beam light source device of Japanese Patent No. 23988 has a plurality of members integrally configured, if each member is made of a different material, a difference in thermal expansion of each member due to a temperature change occurs and the member is ejected. There is a possibility that a relative optical axis deviation will occur in the laser beam generated by the laser beam, and the interval between the scanning lines (beam pitch) on the surface to be scanned on the surface of the photoconductor will change. In such a case, the beam pitch can be corrected by applying the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 9-80331 or the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 6-110273. However, if the former method is applied, other beam characteristics
There is a problem that (for example, the beam spot diameter) may be deteriorated, and the latter means may not be applicable to the above-mentioned multi-beam light source device due to the physical arrangement. The present invention has been made to solve the above problems, and a beam that emits light beams of a first light source unit and a second light source unit in close proximity to each other together with the first and second light source units. A conventional multi-beam light source device in which a synthesizing means is housed in a holder and an image forming apparatus for forming an image by an electrophotographic process using the multi-beam light source device as an optical writing device are disturbed for other beam characteristics. Instead, the purpose is to be able to correct the beam pitch.

【０００４】[0004]

【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するため、２つの半導体レーザとその出射ビーム
を各々カップリングする２つのカップリングレンズをベ
ース部材により保持して構成される第１及び第２の光源
部を有する光源装置と、該第１及び第２の光源部から射
出される４本のビームを偏向する偏向手段と、該偏向手
段により偏向されたビームのビームスポットにより被走
査面を走査する走査結像手段とを有するマルチビーム走
査装置において、上記被走査面における各ビームのビー
ムピッチを検出するビームピッチ検出手段と、該手段の
検出結果により、上記各ビーム間の副走査断面の相対光
軸偏差を発生させて上記ビームピッチを補正するビーム
ピッチ補正手段とを設けてマルチビーム走査装置を構成
したものである。このマルチビーム走査装置は、各ビー
ムスポットの配列の乱れによるビームピッチの変動を補
正することができ、その補正により、被走査面でのビー
ムピッチを所望の値に維持することができる。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention comprises a base member which holds two semiconductor lasers and two coupling lenses for coupling the emitted beams thereof. A light source device having first and second light source parts, a deflection means for deflecting four beams emitted from the first and second light source parts, and a beam spot of the beams deflected by the deflection means. In a multi-beam scanning device having a scanning image forming means for scanning a scanning surface, a beam pitch detecting means for detecting a beam pitch of each beam on the surface to be scanned, and a sub-interval between the beams depending on a detection result of the means. A multi-beam scanning device is constructed by providing a beam pitch correcting means for correcting the beam pitch by generating a relative optical axis deviation of a scanning section. This multi-beam scanning device can correct the fluctuation of the beam pitch due to the disorder of the arrangement of each beam spot, and the correction can maintain the beam pitch on the surface to be scanned at a desired value.

【０００５】上記マルチビーム走査装置は、ビームピッ
チ補正手段が、上記第１の光源部、第２の光源部及び上
記光源装置のいずれかまたはすべてを略光軸回りに回転
または傾斜させることにより、上記ビームピッチを補正
するように構成されているとよい。また、ビームピッチ
補正手段が、上記第１の光源部、第２の光源部のいずれ
か少なくとも１つを副走査断面内で回転または傾斜させ
ることにより、上記ビームピッチを補正するように構成
されていてもよい。上記いずれのマルチビーム走査装置
においても、ビームピッチ検出手段の検出結果に基づい
て上記ビームピッチ補正手段を制御する制御手段を設け
るとよい。In the multi-beam scanning device, the beam pitch correcting means rotates or tilts any or all of the first light source unit, the second light source unit, and the light source device about the optical axis. It may be configured to correct the beam pitch. The beam pitch correction means is configured to correct the beam pitch by rotating or tilting at least one of the first light source unit and the second light source unit within the sub-scan section. May be. In any of the above multi-beam scanning devices, it is preferable to provide control means for controlling the beam pitch correction means based on the detection result of the beam pitch detection means.

【０００６】また、この発明は、２つの半導体レーザと
その出射ビームを各々カップリングする２つのカップリ
ングレンズをベース部材により保持して構成される第１
及び第２の光源部を有する光源装置と、該第１及び第２
の光源部から射出される４本のビームを偏向する偏向手
段と、該偏向手段により偏向されたビームのビームスポ
ットにより被走査面を走査する走査結像手段とを有し、
上記被走査面における各ビームのビームピッチを検出す
るビームピッチ検出手段と、該手段の検出結果により、
上記各ビーム間の副走査断面の相対光軸偏差を発生させ
て上記ビームピッチを補正するビームピッチ補正手段と
を設けたマルチビーム走査装置を光書込装置に用いて電
子写真プロセスにより画像形成を行う画像形成装置も提
供する。Further, according to the first aspect of the present invention, two semiconductor lasers and two coupling lenses for respectively coupling the emitted beams thereof are held by a base member.
And a light source device having a second light source part, and the first and second light source devices.
A deflecting means for deflecting the four beams emitted from the light source section, and a scanning image forming means for scanning the surface to be scanned by the beam spot of the beam deflected by the deflecting means.
Beam pitch detecting means for detecting the beam pitch of each beam on the surface to be scanned, and the detection result of the means,
An image is formed by an electrophotographic process using a multi-beam scanning device provided with a beam pitch correcting means for correcting the beam pitch by generating a relative optical axis deviation of a sub-scanning section between the beams. An image forming apparatus is also provided.

【０００７】さらに、この発明は、半導体レーザとその
出射ビームを各々カップリングするカップリングレンズ
をベース部材により保持して構成される光源部を有する
光源装置を複数設け、該各光源装置から射出されるビー
ムを偏向手段により偏向してその偏向されたビームのビ
ームスポットにより被走査面を走査する光走査装置を光
書込装置に用いて電子写真プロセスにより画像形成を行
う画像形成装置であって、上記光源装置から射出される
ビームが互いに異なる感光体表面上を走査し、上記光源
装置の少なくとも１つが２つの半導体レーザとその出射
ビームを各々カップリングする２つのカップリングレン
ズをベース部材により保持して構成される第１及び第２
の光源部を有し、上記被走査面における各ビームのビー
ムピッチを検出するビームピッチ検出手段と、該手段の
検出結果により、上記各ビーム間の副走査断面の相対光
軸偏差を発生させて上記ビームピッチを補正するビーム
ピッチ補正手段とを設けた画像形成装置も提供する。Further, according to the present invention, a plurality of light source devices each having a light source portion constituted by holding a semiconductor laser and a coupling lens for coupling the emitted beam thereof with a base member are provided, and the light source device emits light. An image forming apparatus that forms an image by an electrophotographic process using an optical scanning device that deflects a beam to be scanned by a deflecting means and scans a surface to be scanned with a beam spot of the deflected beam, Beams emitted from the light source device scan different photosensitive member surfaces, and at least one of the light source devices holds two semiconductor lasers and two coupling lenses for coupling the emitted beams by a base member. First and second configured
Beam pitch detecting means for detecting the beam pitch of each beam on the surface to be scanned, and the relative optical axis deviation of the sub-scanning section between the beams is generated by the detection result of the means. An image forming apparatus provided with a beam pitch correcting means for correcting the beam pitch is also provided.

【０００８】上記いずれの画像形成装置においても、上
記ビームピッチ補正手段を手動で動作させるための評価
チャートを出力する手段を設けるとよい。In any of the above image forming apparatuses, it is preferable to provide a means for outputting an evaluation chart for manually operating the beam pitch correcting means.

【０００９】[0009]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。図２は、この発明による
画像形成装置の一例であるカラーレーザプリンタに設け
られた光走査装置１００の概略の構成を示す斜視図であ
る。この光走査装置１００は、光源装置１と、シリンド
リカルレンズ２０１と、ポリゴンミラー２０２と、Ｆθ
レンズ２０３と、反射ミラー２０４と、補正用レンズ２
０５と、感光体ドラム２０６と、ミラー２０７と、セン
サ基板２０８とを有している。そして、光走査装置１０
０は、光源装置１から４本のレーザビームを射出させて
シリンドリカルレンズ２０１によりそれぞれを細径で横
断面が所定形状のレーザビームに整形して所定の回転速
度で回転しているポリゴンミラー２０２に照射し、各レ
ーザビームを周期的に偏向させる。また、その偏向させ
たレーザビームをＦθレンズ２０３によって等角運動か
ら等速運動へと変換して主走査方向に長い線像を形成し
た上で、反射ミラー２０４により角度を変えてから補正
用レンズ２０５による面倒補正を行い、副走査方向に回
転している感光体ドラム２０６の表面に照射させる。こ
うして、４つの所定径ビームスポットにより感光体ドラ
ム２０６の表面を等速走査して画像を形成する。また、
各レーザビームは、走査始端側の非書込位置に設けられ
たビーム検出部７にも入射する。このビームピッチ検出
部７については後に詳しく説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of an optical scanning device 100 provided in a color laser printer which is an example of the image forming apparatus according to the present invention. This optical scanning device 100 includes a light source device 1, a cylindrical lens 201, a polygon mirror 202, and Fθ.
The lens 203, the reflection mirror 204, and the correction lens 2
05, a photosensitive drum 206, a mirror 207, and a sensor substrate 208. Then, the optical scanning device 10
Reference numeral 0 denotes a polygon mirror 202 that emits four laser beams from the light source device 1 and shapes each of them by a cylindrical lens 201 into a laser beam having a small diameter and a cross section of a predetermined shape and rotating at a predetermined rotation speed. Irradiate and periodically deflect each laser beam. Further, the deflected laser beam is converted by the Fθ lens 203 from uniform angular motion to uniform velocity motion to form a long line image in the main scanning direction, and then the angle is changed by the reflection mirror 204 before the correction lens. The trouble correction is performed by 205, and the surface of the photoconductor drum 206 rotating in the sub-scanning direction is irradiated. In this way, the surface of the photoconductor drum 206 is scanned at a constant speed by the beam spots having the four predetermined diameters to form an image. Also,
Each laser beam also enters the beam detection unit 7 provided at the non-writing position on the scanning start side. The beam pitch detector 7 will be described in detail later.

【００１０】光源装置１は、４ビームの光源装置であっ
て、図１に示すように第１の光源部１４と、第２の光源
部２４と、ホルダー部材３１と、ビーム合成プリズム３
２とから構成されている。その図１は、光源装置１の構
成を示す分解斜視図である。第１の光源部１４は、半導
体レーザ１１ａ，半導体レーザ１１ｂと、カップリング
レンズ１２ａ，カップリングレンズ１２ｂと、ベース部
材１３とから構成されている。半導体レーザ１１ａ，１
１ｂはいずれも半導体レーザ素子であり、カップリング
レンズ１２ａ，１２ｂはそれぞれ半導体レーザ１１ａ，
１１ｂの発散光束を平行光束とするレンズである。ベー
ス部材１３は、半導体レーザ１１ａ，１１ｂを納める取
付孔を背面に設け、正面にはカップリングレンズ１２
ａ，１２ｂを納める円柱状に突出したレンズ保持部１５
を設け、片側側面（図面では左側面）に突起部１６を有
している。The light source device 1 is a 4-beam light source device, and as shown in FIG. 1, the first light source portion 14, the second light source portion 24, the holder member 31, and the beam combining prism 3 are provided.
2 and. FIG. 1 is an exploded perspective view showing the configuration of the light source device 1. The first light source unit 14 includes a semiconductor laser 11a, a semiconductor laser 11b, a coupling lens 12a, a coupling lens 12b, and a base member 13. Semiconductor lasers 11a, 1
1b is a semiconductor laser device, and coupling lenses 12a and 12b are semiconductor lasers 11a and 11b, respectively.
It is a lens that makes the divergent light flux of 11b parallel light flux. The base member 13 has a mounting hole for housing the semiconductor lasers 11a and 11b on the back surface, and the coupling lens 12 on the front surface.
A cylindrical lens holding portion 15 for accommodating a and 12b
And has a protrusion 16 on one side surface (left side surface in the drawing).

【００１１】そして、半導体レーザ１１ａと，１１ｂ
は、ベース部材１３の取付孔に背面から圧入して保持さ
れており、カップリングレンズ１２ａと，カップリング
レンズ１２ｂは、ベース部材１３のレンズ保持部１５に
接着等の工法により固定されている。また、カップリン
グレンズ１２ａ，カップリングレンズ１２ｂは固定され
る際半導体レーザ１１ａ及び半導体レーザ１１ｂから出
射する光ビーム１９ａ，１９ｂの出射方向及びコリメー
ト率が以降の光学系の特性に応じて所定値になるように
調整されている。第２の光源部２４は、上述の第１の光
源部１４と同様の構成を有している。すなわち、第２の
光源部２４は、半導体レーザ２１ａ，半導体レーザ２１
ｂと、カップリングレンズ２２ａ，カップリングレンズ
２２ｂと、ベース部材２３とから構成されており、半導
体レーザ２１ａ，２１ｂが半導体レーザ１１ａ，１１ｂ
と同様の構成を有し、カップリングレンズ２２ａ，２２
ｂがカップリングレンズ１２ａ，１２ｂと同様の構成を
有し、ベース部材１３がベース部材２３と突起部２６の
位置が異なるだけで同様の構成を有している。Then, the semiconductor lasers 11a and 11b
Is press-fitted and held from the back into the mounting hole of the base member 13, and the coupling lens 12a and the coupling lens 12b are fixed to the lens holding portion 15 of the base member 13 by a method such as adhesion. Further, when the coupling lens 12a and the coupling lens 12b are fixed, the emission directions of the light beams 19a and 19b emitted from the semiconductor laser 11a and the semiconductor laser 11b and the collimation rate are set to predetermined values according to the characteristics of the optical system thereafter. Has been adjusted to The second light source unit 24 has the same configuration as the first light source unit 14 described above. That is, the second light source unit 24 includes the semiconductor laser 21a and the semiconductor laser 21.
b, a coupling lens 22a, a coupling lens 22b, and a base member 23. The semiconductor lasers 21a and 21b are semiconductor lasers 11a and 11b.
And the coupling lenses 22a, 22
b has the same structure as the coupling lenses 12a and 12b, and the base member 13 has the same structure except that the positions of the base member 23 and the protrusion 26 are different.

【００１２】ホルダー部材３１は、第１の光源部１４と
第２の光源部２４を保持する部材であって、図示のよう
に、ベース部材１３のレンズ保持部１５とベース部材２
３のレンズ保持部２５の外形に対応した形状の取付孔３
１ａ，３１ｂが形成され、片側側面に突起部３６が形成
されていて、背面からその取付孔３１ａ，３１ｂにレン
ズ保持部１５，２５が圧入されてベース部材１３とベー
ス部材２３を保持している。ビーム合成プリズム３２
は、ホルダー部材３１の正面に配置され、少なくとも２
つの光ビームを近接させて合成して射出するための部材
である。そして、上述の第１の光源部１４と、第２の光
源部２４と、ホルダー部材３１と、ビーム合成プリズム
３２とは図６に示すように支持部材５により一体的に保
持されており、こうして光源装置１が構成されている。The holder member 31 is a member for holding the first light source unit 14 and the second light source unit 24, and as shown in the drawing, the lens holding unit 15 of the base member 13 and the base member 2.
3 has a mounting hole 3 having a shape corresponding to the outer shape of the lens holding portion 25.
1a and 31b are formed, a protrusion 36 is formed on one side surface, and the lens holding portions 15 and 25 are press-fitted into the mounting holes 31a and 31b from the back side to hold the base member 13 and the base member 23. . Beam combining prism 32
Is arranged in front of the holder member 31 and has at least 2
It is a member for making two light beams close to each other and combining and emitting them. The first light source unit 14, the second light source unit 24, the holder member 31, and the beam synthesizing prism 32 are integrally held by the support member 5 as shown in FIG. The light source device 1 is configured.

【００１３】図５は、光源装置１の主走査方向に対応す
る面からみた平面図であり、図６は、副走査方向に対応
する面で切断したときの断面図（６−６線断面図）であ
る。図５及び図６に示すように、第１の光源部１４にお
いては、半導体レーザ１１ｂから出射する光ビーム１９
ｂがビーム合成プリズム３２の作用により内部で２回反
射されて、半導体レーザ１１ａから出射する光ビーム１
９ａ（ビーム合成プリズム３２の内部を透過して直進す
る）に近接して合成された後で出力されている。この点
は第２の光源部２４においても同様である。そして、図
２及び図３に示すように、各半導体レーザ１１ａ，１１
ｂ，１２ａ，１２ｂから出射する４つの光ビーム１９
ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂを主走査方向に対応する断
面（主走査対応断面）においてポリゴンミラー２０２の
偏向反射面の近傍で交差させて、被走査面となる感光体
ドラム２０６における４つのビームスポットの特性の偏
差を低減している。従って、４本の光ビームは主走査対
応断面内で互いに平行にはなっていない。FIG. 5 is a plan view of the light source device 1 as viewed from a surface corresponding to the main scanning direction, and FIG. 6 is a sectional view taken along a surface corresponding to the sub scanning direction (a sectional view taken along line 6-6). ). As shown in FIGS. 5 and 6, in the first light source unit 14, the light beam 19 emitted from the semiconductor laser 11b is emitted.
b is reflected twice inside by the action of the beam combining prism 32, and the light beam 1 emitted from the semiconductor laser 11a
9a (which passes through the inside of the beam synthesizing prism 32 and goes straight) is synthesized and then output. This also applies to the second light source unit 24. Then, as shown in FIGS. 2 and 3, each of the semiconductor lasers 11a and 11a
b, 12a, 12b, four light beams 19 are emitted.
Four beam spots on the photosensitive drum 206, which are the surface to be scanned, are formed by intersecting a, 19b, 29a, and 29b in the cross section corresponding to the main scanning direction (cross section corresponding to the main scanning) in the vicinity of the deflection reflection surface of the polygon mirror 202. The deviation of the characteristics of is reduced. Therefore, the four light beams are not parallel to each other in the cross section corresponding to the main scanning.

【００１４】図７は、４つの光ビーム１９ａ，１９ｂ，
２９ａ，２９ｂによって、感光体ドラム２０６の表面に
形成されるビームスポットの配列を模式的に図示したも
のである。各光ビーム１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂ
によって感光体ドラム２０６の表面にビームスポット１
７ａ、１７ｂ、２７ａ、２７ｂが形成されるが、図７に
示すように、そのビームスポット１７ａと１７ｂの仮想
の中間位置をセンタＣ１とし、ビームスポット２７ａと
２７ｂの仮想の中間位置をセンタＣ２とすると、センタ
Ｃ１及びＣ２は、それぞれ第１の光源部１４、第２の光
源部２４の射出光軸が感光体ドラム２０６に到達する位
置とほぼ一致している。ここで、射出光軸とは、光ビー
ムの仮想の光軸であって、図４に示すように、第１の光
源部１４と、第２の光源部２４のそれぞれから射出され
る仮想の光ビームの光軸１８，２８をいう。FIG. 7 shows four light beams 19a, 19b,
29a and 29b schematically show the arrangement of beam spots formed on the surface of the photosensitive drum 206. Each light beam 19a, 19b, 29a, 29b
By the beam spot 1 on the surface of the photoconductor drum 206
7a, 17b, 27a, and 27b are formed. As shown in FIG. 7, the virtual intermediate position between the beam spots 17a and 17b is the center C1 and the virtual intermediate position between the beam spots 27a and 27b is the center C2. Then, the centers C1 and C2 substantially coincide with the positions where the emission optical axes of the first light source unit 14 and the second light source unit 24 reach the photoconductor drum 206, respectively. Here, the emission optical axis is a virtual optical axis of a light beam, and as shown in FIG. 4, virtual light emitted from each of the first light source unit 14 and the second light source unit 24. The optical axes 18 and 28 of the beam.

【００１５】ところで、以上のように構成された光走査
装置１００は、温度や湿度等の環境の変化や経時的な変
化により、ベース部材１３，ベース部材２３及びホルダ
ー部材３１が変形したりして、各半導体レーザ１１ａ，
１１ｂ，２１ａ，２１ｂとカップリングレンズ１２ａ，
１２ｂ，２２ａ，２２ｂの相対的な位置関係(調整値)が
微妙に変動したり、第１の光源部１４または第２の光源
部２４自体が変形したり、あるいは各半導体レーザ１１
ａ，１１ｂ，２１ａ，２１ｂ等の取付姿勢が変化したり
する場合がある。こうなると、感光体ドラム２０６の表
面における各ビームスポット１７ａ、１７ｂ、２７ａ、
２７ｂについて、上述した図７に示すような配列が乱れ
てしまい、各ビームスポット１７ａ、１７ｂ、２７ａ、
２７ｂの間隔が変化してしまう。しかし、感光体ドラム
２０６の表面における各ビームスポット１７ａ、１７
ｂ、２７ａ、２７ｂの位置を特定するための情報から、
それぞれの走査線間隔(ビームピッチ)を検出するビーム
ピッチ検出手段と、各ビームスポットの配列の誤差を補
正するビームピッチ補正手段を設ければ、各ビームスポ
ットの配列の乱れによるビームピッチの変動を補正する
ことが可能となる。ビームピッチの変動を補正すれば、
被走査面でのビームピッチを所望の値に維持することが
できる。In the optical scanning device 100 configured as described above, the base member 13, the base member 23, and the holder member 31 may be deformed due to environmental changes such as temperature and humidity and changes with time. , Each semiconductor laser 11a,
11b, 21a, 21b and coupling lens 12a,
The relative positional relationship (adjustment value) of 12b, 22a, 22b slightly changes, the first light source unit 14 or the second light source unit 24 itself deforms, or each semiconductor laser 11
The mounting postures of a, 11b, 21a, 21b, etc. may change. Then, the beam spots 17a, 17b, 27a on the surface of the photosensitive drum 206,
Regarding 27b, the arrangement as shown in FIG. 7 described above is disturbed, and each beam spot 17a, 17b, 27a,
The distance of 27b changes. However, the beam spots 17a, 17a on the surface of the photosensitive drum 206 are
From the information for specifying the position of b, 27a, 27b,
By providing a beam pitch detecting means for detecting the respective scanning line intervals (beam pitch) and a beam pitch correcting means for correcting the error in the arrangement of each beam spot, the fluctuation of the beam pitch due to the disturbance of the arrangement of each beam spot can be prevented. It becomes possible to correct. If you correct the fluctuation of the beam pitch,
The beam pitch on the surface to be scanned can be maintained at a desired value.

【００１６】そのビームピッチ補正手段は、ビームピッ
チ検出手段による出力信号等の検出結果に従い手動によ
り駆動することができ、それによって、ビームピッチの
変動を補正することができる。あるいは、ビームピッチ
補正手段は、ビームピッチ検出手段による検出結果に基
づき制御する制御手段により動作させてもよく、こうす
れば、ビームピッチ補正手段を駆動するオペレータがい
なくても、ビームピッチを自動的に補正することが可能
となる。この点については後に詳しく説明する。そのビ
ームピッチ検出手段は、例えば上述のビーム検出部７が
考えられ、制御手段には制御部５７が考えられる。この
ビーム検出部７は、図１１に示すようにセンサアレイ７
１と遮光マスク７２とを有していて、センサアレイ７１
は複数のフォトセンサＰＤ１〜ＰＤｎが主走査方向にそ
って配置されたもので、遮光マスク７２は先端エッジ部
が主走査方向に対して一定角度αだけ傾けて配置され、
フォトセンサＰＤ１〜ＰＤｎの開口を走査開始側よりも
徐々に狭めるように覆っている。センサアレイ７１を構
成するフォトセンサＰＤ１〜ＰＤｎは、それぞれ主走査
方向の大きさが例えば０．１５ｍｍ、副走査方向の大き
さが０．８ｍｍに形成され、０．２ｍｍ間隔で１２個配
列され、約８０μｍのスポット径のレーザビームの光量
が１００％入射されたときに、副走査方向の走査位置に
変動があっても入射したレーザビームのスポット径が外
れないようになっている。The beam pitch correcting means can be manually driven according to the detection result of the output signal or the like by the beam pitch detecting means, whereby the fluctuation of the beam pitch can be corrected. Alternatively, the beam pitch correction means may be operated by a control means that controls based on the detection result of the beam pitch detection means, and in this way, the beam pitch is automatically adjusted without an operator driving the beam pitch correction means. Can be corrected to. This point will be described later in detail. The beam pitch detecting means may be, for example, the beam detecting section 7 described above, and the control means may be the control section 57. This beam detection unit 7 has a sensor array 7 as shown in FIG.
1 and a light shielding mask 72, and the sensor array 71
Is a plurality of photosensors PD1 to PDn arranged along the main scanning direction, and the light-shielding mask 72 is arranged such that the leading edge portion is inclined at a constant angle α with respect to the main scanning direction.
The openings of the photosensors PD1 to PDn are covered so as to be gradually narrowed from the scanning start side. Each of the photosensors PD1 to PDn forming the sensor array 71 is formed to have a size in the main scanning direction of, for example, 0.15 mm and a size in the sub scanning direction of 0.8 mm, and 12 photosensors PD1 to PDn are arranged at intervals of 0.2 mm. When 100% of the light quantity of the laser beam having a spot diameter of about 80 μm is incident, the spot diameter of the incident laser beam does not deviate even if the scanning position in the sub-scanning direction changes.

【００１７】制御部５７は、このビーム検出部７から出
力されるビーム検出信号により副走査方向の走査線ピッ
チを検出して制御する制御手段であって、図１３に示す
ような構成を有している。この制御部５７は、基準クロ
ック信号を発生する基準クロック発生部５８と、位相同
期部５９と、パルス幅検出部６０と、副走査ピッチ演算
部６１と、副走査ピッチ制御部６２と、半導体レーザ制
御部６３とを有している。その位相同期部５９は、走査
始端側にあるフォトセンサＰＤ１から入力するビーム検
出信号に同期したクロック信号を出力する。パルス幅検
出部６０は、ビームスポット１７ａ，１７ｂがビーム検
出部７を通過するときに遮光マスク７２で被覆されない
フォトセンサＰＤ１が出力するビーム検出信号のパルス
幅と、ピッチ間隔などを検出する。副走査ピッチ演算部
６１は、パルス幅検出部６０で検出したパルス幅と、ビ
ーム検出信号のピッチ間隔及び遮光マスク７２の先端エ
ッジがあるフォトセンサＰＤ２，ＰＤ３の出力するビー
ム検出信号のパルス幅からレーザビームの副走査方向の
ピッチを演算する。副走査ピッチ制御部６２は、副走査
ピッチ演算部６１で演算した副走査方向のピッチが画素
密度に応じた基準走査ピッチになるように副走査ピッチ
可変モータ６４を制御する。半導体レーザ制御部６３
は、位相同期部５９で発生するクロック信号により画像
記録タイミングを制御する。The control section 57 is a control means for detecting and controlling the scanning line pitch in the sub-scanning direction by the beam detection signal output from the beam detection section 7, and has a structure as shown in FIG. ing. The controller 57 includes a reference clock generator 58 that generates a reference clock signal, a phase synchronizer 59, a pulse width detector 60, a sub-scanning pitch calculator 61, a sub-scanning pitch controller 62, and a semiconductor laser. And a control unit 63. The phase synchronization unit 59 outputs a clock signal synchronized with the beam detection signal input from the photo sensor PD1 on the scanning start side. The pulse width detection unit 60 detects the pulse width of the beam detection signal output from the photosensor PD1 that is not covered with the light shielding mask 72 when the beam spots 17a and 17b pass through the beam detection unit 7 and the pitch interval. The sub-scanning pitch calculation unit 61 uses the pulse width detected by the pulse width detection unit 60, the pitch interval of the beam detection signal, and the pulse width of the beam detection signal output from the photosensors PD2 and PD3 having the leading edge of the light shielding mask 72. The pitch of the laser beam in the sub-scanning direction is calculated. The sub-scanning pitch controller 62 controls the sub-scanning pitch variable motor 64 so that the pitch in the sub-scanning direction calculated by the sub-scanning pitch calculator 61 becomes the reference scanning pitch according to the pixel density. Semiconductor laser control unit 63
Controls the image recording timing by the clock signal generated by the phase synchronization unit 59.

【００１８】ビームピッチ補正手段は、光源装置１を構
成する部材の取付姿勢を変化させることによって、光源
装置１を出射する光ビームの副走査断面（主走査方向に
直交する方向の断面）の出射方向を変化させて相対光軸
偏差を発生させる手段であって、被走査面である感光体
ドラム２０６の表面上の各ビームスポットの副走査方向
の走査位置を変化させてビームピッチを補正する手段で
ある。ここで、被走査面における各ビームスポットの走
査位置のずれΔＺは次のように表される。ΔＺ＝ｆｃｏ
ｌ×ｔａｎφ×ｍｆｃｏｌ：カップリングレンズの焦点
距離φ：光源装置１を出射する光ビームの副走査断面の
出射方向ｍ：走査光学系全系の副走査倍率従って、ビー
ムピッチ補正手段は、４つの光ビームの副走査断面の出
射方向(上記φに相当する)を調整して各光ビーム間の相
対的な光軸偏差（相対光軸偏差）を適宜調整する手段と
すればよく、このビームピッチ補正手段によって、感光
体ドラム２０６の表面における走査線間隔を補正するこ
とが可能となる。そのための具体的な手段には以下のも
のがある。すなわち、ビームピッチ補正手段は、第１の
光源部１４、第２の光源部２４及び光源装置１のいずれ
かまたはすべてを略光軸回りに回転または傾斜させる手
段とすることができる。これであれば、ビームピッチ補
正手段は簡単な構成で実現することができる。The beam pitch correction means emits a sub-scanning cross section (a cross section in a direction orthogonal to the main scanning direction) of the light beam emitted from the light source device 1 by changing the mounting posture of the members constituting the light source device 1. A means for changing the direction to generate a relative optical axis deviation, and a means for correcting the beam pitch by changing the scanning position of each beam spot on the surface of the photosensitive drum 206, which is the surface to be scanned, in the sub-scanning direction. Is. Here, the deviation ΔZ of the scanning position of each beam spot on the surface to be scanned is expressed as follows. ΔZ = fco
1 × tan φ × mfcol: focal length of coupling lens φ: emission direction of sub-scanning cross section of light beam emitted from light source device m: sub-scanning magnification of entire scanning optical system Therefore, the beam pitch correcting means has four The beam pitch may be adjusted by adjusting the emission direction (corresponding to φ) of the sub-scanning section of the light beam to appropriately adjust the relative optical axis deviation (relative optical axis deviation) between the light beams. The correction unit can correct the scanning line interval on the surface of the photosensitive drum 206. The specific means for this are as follows. That is, the beam pitch correcting means may be means for rotating or tilting any or all of the first light source unit 14, the second light source unit 24, and the light source device 1 about the optical axis. In this case, the beam pitch correcting means can be realized with a simple structure.

【００１９】第１の光源部１４は、半導体レーザ１１
ａ，１１ｂを納めるベース部材１３がホルダー部材３１
に押込んで保持させるための円柱状のレンズ保持部１５
を取付孔３１ａに押込むことによって保持されており、
第２の光源部２４も同様にそのレンズ保持部２５を取付
孔３１ｂに押込んで保持されている。また、ベース部材
１３、ベース部材２３はそれぞれ突起部１６，２６を有
しており、ホルダー部材３１も突起部３６を有してい
る。したがって、ステッピングモータ等の押圧手段を用
いて突起部１６か突起部２６を押圧することにより、レ
ンズ保持部１５，２５を軸にして第１の光源部１４か第
２の光源部２４を回転させることができ、突起部３６を
押圧すれば、第１の光源部１４、第２の光源部２４とと
もにホルダー部材３１を回転または傾斜させることがで
きる。第１の光源部１４には、光ビームを射出する半導
体レーザ１１ａ、１１ｂが固定されているので、上述の
ようにして回転させると、第１の光源部１４が光軸１８
に略平行な回転軸回りに回転する。すると、両者による
ビームスポット１７ａ、１７ｂが仮想のセンタＣ１を中
心に回転するため、ビームスポット１７ａ、１７ｂの副
走査方向の間隔を変化させてビームピッチを補正及び調
整することができる。第２の光源部２４の場合も同様
に、光ビームを射出する半導体レーザ２１ａ、２１ｂが
固定されているので、上述のようにして回転させると、
第２の光源部２４が光軸２８に略平行な回転軸回りに回
転して、両者によるビームスポット２７ａ、２７ｂが仮
想のセンタＣ２を中心に回転し、ビームピッチを補正及
び調整することができる。The first light source section 14 includes the semiconductor laser 11
The base member 13 for accommodating a and 11b is the holder member 31.
Cylindrical lens holding portion 15 for pushing and holding the lens
Is held by pushing in the mounting hole 31a,
Similarly, the second light source section 24 is also held by pushing the lens holding section 25 into the mounting hole 31b. Further, the base member 13 and the base member 23 have protrusions 16 and 26, respectively, and the holder member 31 also has a protrusion 36. Therefore, by pressing the protrusion 16 or the protrusion 26 using a pressing means such as a stepping motor, the first light source unit 14 or the second light source unit 24 is rotated about the lens holding units 15 and 25. By pressing the protrusion 36, the holder member 31 can be rotated or tilted together with the first light source unit 14 and the second light source unit 24. Since the semiconductor lasers 11a and 11b that emit a light beam are fixed to the first light source unit 14, when the semiconductor lasers 11a and 11b are rotated as described above, the first light source unit 14 is moved to the optical axis 18.
It rotates about the axis of rotation substantially parallel to. Then, the beam spots 17a and 17b formed by the two rotate around the virtual center C1. Therefore, it is possible to correct and adjust the beam pitch by changing the interval between the beam spots 17a and 17b in the sub-scanning direction. Similarly, in the case of the second light source unit 24, since the semiconductor lasers 21a and 21b for emitting the light beam are fixed, when the semiconductor lasers 21a and 21b are rotated as described above,
The second light source unit 24 rotates about a rotation axis that is substantially parallel to the optical axis 28, and the beam spots 27a and 27b formed by both rotate around the virtual center C2, and the beam pitch can be corrected and adjusted. .

【００２０】また、光源装置１には第１の光源部１４、
第２の光源部２４の両者が固定されているので、ホルダ
ー部材３１を上述の要領で回転させれば、光源装置１が
光軸１８及び/又は光軸２８に略平行な回転軸回りに回
転してセンタＣ１、Ｃ２の位置が変化するためビームピ
ッチを補正及び調整することができる。この場合、光源
装置１の材質や組付け方法等の構成要件や、環境変動の
状況に応じて、感光体ドラム２０６でのビームスポット
の配列の変動内容が異なることがあり、場合によって
は、第１の光源部１４、第２の光源部２４及び光源装置
１はいずれか少なくとも１つのみ回転させ、その他の１
つあるいは２つの回転を省略してもよい。一方、図３及
び図４に示すように、光源装置１の構成からみて、第１
の光源部１４の半導体レーザ１１ａ，１１ｂから射出さ
れる２つの光ビームがポリゴンミラー２０２の偏向反射
面近傍で交差する角度θ１と、第２の光源部２４の半導
体レーザ２２ａ，２２ｂから射出される２つの光ビーム
が交差するθ２とがほぼ等しい（θ１≒θ２）のに比較
して、光軸１８，２８のなす角θ３は十分大きな値であ
る。このようなことから、ビームピッチの補正は、図９
に示すフローチャートに示す手順に従って行うのがよ
い。なお、図９においてＳはステップを略記したもので
ある。In the light source device 1, the first light source section 14,
Since both of the second light source units 24 are fixed, if the holder member 31 is rotated in the above-described manner, the light source device 1 rotates about the rotation axis substantially parallel to the optical axis 18 and / or the optical axis 28. Then, since the positions of the centers C1 and C2 change, the beam pitch can be corrected and adjusted. In this case, the variation of the arrangement of the beam spots on the photoconductor drum 206 may be different depending on the structural requirements such as the material of the light source device 1 and the assembling method, and the situation of environmental variation. Only one of the light source unit 14, the second light source unit 24, and the light source device 1 is rotated, and the other one is rotated.
One or two rotations may be omitted. On the other hand, as shown in FIG. 3 and FIG.
Of the two light beams emitted from the semiconductor lasers 11a and 11b of the light source unit 14 of the polygon mirror 202 intersects with each other in the vicinity of the deflective reflection surface of the polygon mirror 202, and is emitted from the semiconductor lasers 22a and 22b of the second light source unit 24. The angle θ3 formed by the optical axes 18 and 28 is a sufficiently large value as compared with the case where θ2 at which two light beams intersect is substantially equal (θ1≈θ2). Therefore, the beam pitch correction is performed as shown in FIG.
It is preferable to follow the procedure shown in the flowchart in FIG. In FIG. 9, S is an abbreviation of step.

【００２１】この処理がスタートするとステップ１に進
み、ビームピッチ検出部７から４つのビームスポット１
７ａ，１７ｂ，２７ａ，２７ｂの位置を特定するための
情報を制御部５７に入力してステップ２に進み、制御部
５７によりビームスポット１７ａ，１７ｂの間隔と、ビ
ームスポット２７ａ，２７ｂの間隔と、センタＣ１，Ｃ
２の間隔とを算出する。続いてステップ３に進み、ステ
ップ２で求めた値からビームピッチの誤差が仕様から求
められる値（仕様値）以内にあるか否かを判断し、仕様
値以内であれば処理を終了し、そうでなければステップ
４に進む。ステップ４では、上述したビームピッチ補正
手段を動作させることによって第１の光源部１４を回転
させてビームスポット１７ａ，１７ｂの間隔を調整し、
続くステップ５では上述した第２の光源部２４を回転さ
せることによってビームスポット２７ａ，２７ｂの間隔
を調整し、さらに続くステップ６では上述した光源装置
１を回転させることによってセンタＣ１，Ｃ２の間隔を
調整する。その後、ステップ１に戻ってステップ１から
ステップ３までの処理を繰り返す。When this process is started, the process proceeds to step 1, where the four beam spots 1 from the beam pitch detector 7 are detected.
Information for identifying the positions of 7a, 17b, 27a, 27b is input to the control unit 57 and the process proceeds to step 2. The control unit 57 causes the spacing between the beam spots 17a and 17b and the spacing between the beam spots 27a and 27b, Centers C1 and C
And an interval of 2 is calculated. Subsequently, the process proceeds to step 3, and it is determined from the value obtained in step 2 whether the error of the beam pitch is within a value (specification value) obtained from the specification. If it is within the specification value, the process is terminated. If not, proceed to step 4. In step 4, by operating the above-mentioned beam pitch correction means, the first light source unit 14 is rotated to adjust the distance between the beam spots 17a and 17b,
In the following step 5, the distance between the beam spots 27a and 27b is adjusted by rotating the above-mentioned second light source unit 24, and in the following step 6, the distance between the centers C1 and C2 is adjusted by rotating the above-mentioned light source device 1. adjust. Then, the process returns to step 1 and the processes from step 1 to step 3 are repeated.

【００２２】ところで、感光体ドラム２０６の表面にお
ける２つのビームピッチの変動量Δｐは次のようにして
求められる。Δｐ＝２×ｆｃｏｌ×ｔａｎ(θ/２)×ｓ
ｉｎγ×ｍγ：ビームピッチを調整するために必要な、
第１の光源部１４、第２の光源部２４，光源装置１のそ
れぞれの回転角度上述のとおり、光軸１８，２８のなす
角θ３は光ビームが交差するθ１，θ２に比べて十分大
きいので、回転角度γに対する変化率（感度）をみる
と、センタＣ１，Ｃ２の間隔の変化率は、ビームスポッ
ト１７ａ，１７ｂの間隔やビームスポット２７ａ，２７
ｂの間隔の変化率よりも高くなる。従って、ビームスポ
ット１７ａ，１７ｂの間隔の調整やビームスポット２７
ａ，２７ｂの間隔の調整をした後に、センタＣ１，Ｃ２
の調整(すなわち、上述した光源装置１の回転調整)を行
うことによって、４つのビームピッチの調整が容易かつ
短時間で行える。By the way, the fluctuation amount Δp of the two beam pitches on the surface of the photosensitive drum 206 is obtained as follows. Δp = 2 × fcol × tan (θ / 2) × s
inγ × mγ: necessary for adjusting the beam pitch,
Rotation angles of the first light source unit 14, the second light source unit 24, and the light source device 1 As described above, the angle θ3 formed by the optical axes 18 and 28 is sufficiently larger than θ1 and θ2 at which the light beams intersect. Looking at the rate of change (sensitivity) with respect to the rotation angle γ, the rate of change in the distance between the centers C1 and C2 is determined by the distance between the beam spots 17a and 17b and the beam spots 27a and 27.
It becomes higher than the change rate of the interval of b. Therefore, the adjustment of the interval between the beam spots 17a and 17b and the beam spot 27
After adjusting the distance between a and 27b, the centers C1 and C2 are
Adjustment (that is, the rotation adjustment of the light source device 1 described above), the four beam pitches can be adjusted easily and in a short time.

【００２３】一般に、ポリゴンミラー２０２の偏向反射
面の近傍で２つの光ビームが交差する角度が大きくなる
と、その偏向反射面におけるサグ(反射点位置ずれ)が双
方の光ビームに及ぼす影響の差異が大きくなってしま
い、感光体ドラム２０６の表面におけるビーム特性(ビ
ームスポット径、主走査倍率等)の偏差が大きくなる。
上述の構成では、Ｆθレンズ２０３等の特性に対して、
光軸１８，２８のなす角θ３が大きくなりすぎる場合が
ある。このような場合、光源装置１のように、第１の光
源部１４からの２本の光ビームをビーム合成プリズム３
２の作用により第２の光源部２４からの光ビームに近接
して合成した後で出力する構成とすればよい。こうする
と、角度θ１，θ２に比較して角度θ３が十分小さい値
となる。この場合、４つのビームピッチの変動を補正す
るには、図１０に示すフローチャートに従うのがよい。
図１０においても、Ｓはステップを略記したものであ
る。この処理がスタートするとステップ１，ステップ
２，ステップ３を上記同様にして実行した後にステップ
６に進んで上記同様の処理を実行し、その後、ステップ
４、ステップ５を実行する。すなわち、図１０における
処理は、図９における処理と比較して、ステップ４、ス
テップ５、ステップ６の実行の順序が異なっている。Generally, when the angle at which two light beams intersect in the vicinity of the deflecting / reflecting surface of the polygon mirror 202 becomes large, there is a difference in the influence of sag (deviation of the reflection point position) on the deflecting / reflecting surface on both the light beams. Therefore, the deviation of the beam characteristics (beam spot diameter, main scanning magnification, etc.) on the surface of the photosensitive drum 206 becomes large.
In the above configuration, with respect to the characteristics of the Fθ lens 203 and the like,
The angle θ3 formed by the optical axes 18 and 28 may become too large. In such a case, as in the light source device 1, the two light beams from the first light source unit 14 are combined into the beam combining prism 3.
Due to the action of 2, the light beam from the second light source unit 24 may be close to the light beam and be combined and then output. In this case, the angle θ3 has a sufficiently small value as compared with the angles θ1 and θ2. In this case, in order to correct the fluctuations of the four beam pitches, it is preferable to follow the flowchart shown in FIG.
Also in FIG. 10, S is an abbreviation of a step. When this process starts, step 1, step 2, and step 3 are executed in the same manner as described above, and then the process proceeds to step 6 to execute the same process as described above, and thereafter, step 4 and step 5 are executed. That is, the processing in FIG. 10 is different from the processing in FIG. 9 in the order of execution of step 4, step 5, and step 6.

【００２４】次に、光走査装置１００は、ビームピッチ
補正手段として、第１の光源部１４又第２の光源部２４
の少なくとも一方を副走査断面内で回転させるか傾ける
手段を採用しても良く、こうすれば光走査装置の設計の
自由度を拡大することができる。例えば、図８に示すよ
うに姿勢変化部３５を第１の光源部１４または第２の光
源部２４に設けてもよい。この姿勢変化部３５は、図に
示すように、ホルダー部材３１に設けられたテーパ付き
の位置調節ねじ３４と、この位置調節ねじ３４により前
後方向ａに移動可能なボール３３とからなっていて、位
置調節ねじ３４をねじ込みしたり緩めたりしてホルダー
部材３１に対して上下に移動させることにより、これに
接触するボール３３を前後方向ａに移動させることがで
きるように構成されている。このボール３３が前後方向
ａに移動すると、これに接触するベース部材１３がそれ
に応じて前後方向ａに移動するため、第１の光源部１４
又第２の光源部２４の姿勢を変化させることができる。
これにより、第１の光源部１４又第２の光源部２４のい
ずれか少なくとも一方を副走査断面内にて傾斜させるこ
とができる。Next, the optical scanning device 100 serves as a beam pitch correction means, and the first light source section 14 or the second light source section 24.
A means for rotating or inclining at least one of them in the sub-scanning section may be adopted, which can increase the degree of freedom in designing the optical scanning device. For example, as shown in FIG. 8, the attitude changing unit 35 may be provided in the first light source unit 14 or the second light source unit 24. As shown in the drawing, the posture changing portion 35 includes a tapered position adjusting screw 34 provided on the holder member 31 and a ball 33 which is movable in the front-rear direction a by the position adjusting screw 34. By moving the position adjusting screw 34 up and down with respect to the holder member 31 by screwing it in or loosening it, the ball 33 that comes into contact therewith can be moved in the front-back direction a. When the ball 33 moves in the front-rear direction a, the base member 13 that comes into contact with the ball 33 moves in the front-rear direction a accordingly, so that the first light source unit 14
Further, the posture of the second light source unit 24 can be changed.
Thereby, at least one of the first light source unit 14 and the second light source unit 24 can be tilted within the sub-scan section.

【００２５】そして、位置調節ねじ３４は、オペレータ
の手動によりねじ込みまたは開放して動かせばよく、あ
るいは図示しないステッピングモータにて回転させても
よい。いずれによっても、ビームピッチ補正手段である
姿勢変化部３５を動作させることによって、ビームピッ
チの変動を補正することが可能となるが、後者によれば
ビームピッチの変動の補正をオペレータの手を介するこ
となく自動的に行える。また、ビームピッチ補正手段
は、上述の姿勢変化部３５のほか、ピエゾ素子等によっ
て第１の光源部１４または第２の光源部２４を直接押圧
する押圧手段としてもよい。以上のようなビームピッチ
補正手段により第１の光源部１４を副走査断面内で回転
または傾斜させることにより、その光軸１８の、光軸２
８に対する相対的な光軸偏差を発生させることができる
から、感光体ドラム２０６の表面におけるセンタＣ１，
Ｃ２の副走査方向の間隔を調整することができる。この
場合、第１の光源部１４又は第２の光源部２４からの光
軸１８，２８を直接的に変化させるため、上述のように
第１の光源部１４，第２の光源部２４の突起部１６，２
６を押圧するなどして略光軸の回りに回転させることに
よって補正するときよりも、単位角度あたりの補正量
（感度）が高くなる。従って、ビームピッチの調整作業
は図９に示すフローと同様の手順で行えばよい。The position adjusting screw 34 may be screwed or opened manually by an operator to move it, or may be rotated by a stepping motor (not shown). In either case, it is possible to correct the beam pitch fluctuation by operating the attitude changing unit 35 which is the beam pitch correcting means. According to the latter, the correction of the beam pitch fluctuation is performed by the operator. Can be done automatically without Further, the beam pitch correcting means may be a pressing means for directly pressing the first light source section 14 or the second light source section 24 by a piezo element or the like, in addition to the posture changing section 35 described above. By rotating or tilting the first light source unit 14 in the sub-scan section by the beam pitch correcting means as described above, the optical axis 2 of the optical axis 18
Since a relative optical axis deviation with respect to 8 can be generated, the center C1 on the surface of the photosensitive drum 206 is
The interval of C2 in the sub-scanning direction can be adjusted. In this case, since the optical axes 18 and 28 from the first light source unit 14 or the second light source unit 24 are directly changed, the projections of the first light source unit 14 and the second light source unit 24 as described above. Parts 16, 2
The correction amount (sensitivity) per unit angle is higher than that when the correction is performed by pressing 6 and rotating it about the optical axis. Therefore, the beam pitch adjustment work may be performed in the same procedure as the flow shown in FIG.

【００２６】ところで、電子写真プロセスにより静電潜
像が形成される感光体と、静電潜像をトナーで顕像化す
る現像器と、顕像化されたトナー像を記録紙に転写及び
定着する転写装置とを少なくとも有している画像形成装
置においては、一般に各工程(装置)で熱や振動が発生し
て、その影響が光走査装置にも及ぶおそれがある。この
点は、上述した構成を有する光走査装置１００について
も同様である。光走査装置１００では上述したビームピ
ッチ補正手段と、ビームピッチ検出手段とを設けている
ため、この光走査装置１００を電子写真プロセスにより
画像形成を行う画像形成装置の光書込装置に用いること
により、その画像形成装置内の温度上昇や振動等の環境
の変化あるいは経時変化に伴う感光体ドラム２０６での
ビームピッチの変動を効果的に補正することができる。
そのような画像形成装置では、補正が可能であることの
結果として高品位の出力画像を得ることが可能となる。By the way, a photosensitive member on which an electrostatic latent image is formed by an electrophotographic process, a developing device for developing the electrostatic latent image with toner, and the visualized toner image are transferred and fixed on a recording paper. In an image forming apparatus including at least a transfer device, heat or vibration is generally generated in each process (apparatus), and the influence thereof may reach the optical scanning device. This also applies to the optical scanning device 100 having the above-described configuration. Since the optical scanning device 100 is provided with the beam pitch correction means and the beam pitch detection means described above, by using the optical scanning device 100 in an optical writing device of an image forming apparatus for forming an image by an electrophotographic process. Therefore, it is possible to effectively correct the fluctuation of the beam pitch on the photoconductor drum 206 due to environmental changes such as temperature rise and vibration in the image forming apparatus or temporal changes.
In such an image forming apparatus, it is possible to obtain a high-quality output image as a result of being capable of correction.

【００２７】また、電子写真方式を用いて画像を形成す
る画像形成装置には、カラー（多色）画像を形成するこ
とができるものがある。そのような画像形成装置は、カ
ラー画像を形成するため、画像形成プロセスを色毎に繰
り返してカラーのトナー画像を形成するように構成さ
れ、Ｂｌａｃｋ（Ｋ），Ｙｅｌｌｏｗ（Ｙ），Ｃｙａｎ
（Ｃ），Ｍａｇｅｎｔａ（Ｍ）の各色ごとに個別の現像
ユニットを有していて、各色に対応する感光体ドラム等
の感光手段を用紙の搬送方向に直列に配列したタンデム
方式が採用されることが多い。一方、図１４（ａ）に示
すように、各色に対応する光走査装置は、１０Ｋ、１０
Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙから構成して別体としてもよく、同
図（ｂ）に示すように光走査装置１０Ａとして共通体と
したり、（ｃ），（ｄ）に示すように光走査装置１０Ａ
１及び１０Ａ２，１０Ｂ１及び１０Ｂ２の二体化した構
成としてもよい。いずれの構成によるも、１つの感光体
ドラム型の画像形成装置の場合(４色に対応して４回の
書込みが必要)と比較して、４倍の出力画像を得ること
が可能となる。Some image forming apparatuses for forming an image by using an electrophotographic system can form a color (multicolor) image. In order to form a color image, such an image forming apparatus is configured to repeat the image forming process for each color to form a color toner image. Black (K), Yellow (Y), Cyan
(C), having a separate developing unit for each color of Magenta (M), and adopting a tandem system in which photosensitive means such as a photoconductor drum corresponding to each color are arranged in series in the paper transport direction. There are many. On the other hand, as shown in FIG. 14A, the optical scanning devices corresponding to the respective colors are 10K and 10K.
It may be composed of C, 10M, and 10Y to be a separate body, and it may be a common body as the optical scanning device 10A as shown in FIG. 7B, or the optical scanning device 10A as shown in FIGS.
It is also possible to adopt a configuration in which 1 and 10A2, 10B1 and 10B2 are integrated. With either configuration, it is possible to obtain four times as many output images as compared with the case of one photosensitive drum type image forming apparatus (writing is required four times corresponding to four colors).

【００２８】そして、各色に対応する光源装置を１Ｋ、
１Ｃ、１Ｍ、１Ｙとすると、すべての光源装置１Ｋ、１
Ｃ、１Ｍ、１Ｙから射出されるビームの本数が各々１本
の場合には、各光源装置を適用した画像形成装置により
フルカラー(４色)画像を得ることができる。これに対
し、４つの光源装置の少なくとも一つ(例えば、Ｂｌａ
ｃｋ（Ｋ）の光源装置１Ｋ)を上述した構成の４ビーム
の光源装置１とし、この光源装置１のみで書込みを行え
ば、フルカラー画像を形成する場合と比較してビームの
本数が４倍になるため、書込み密度を４倍に高密度化し
かつ高速化することが可能となる。また用紙の搬送速度
(及びプロセス速度)を４倍に変更しても、画像が形成さ
れる用紙の枚数を４倍に増加することが可能となる。フ
ルカラー画像を形成する画像形成装置でも、文字画像は
Ｂｌａｃｋ（Ｋ）で書込みして画像の形成を行う場合が
多く、しかも高解像度も要求されることが多いので、上
述の４ビームの光源装置１Ｋに付加して（光源装置１Ｋ
とともに）、他の光源装置(１Ｃ、１Ｍ、１Ｙ；１ビー
ム)も同時に書込みを行うようにすれば、文字/写真/線
画イメージ等が混在した画像においてもより高品位な出
力画像を得ることが可能となる。Then, the light source device corresponding to each color is set to 1K,
1C, 1M, 1Y, all light source devices 1K, 1
When the number of beams emitted from each of C, 1M, and 1Y is one, a full-color (four-color) image can be obtained by the image forming apparatus to which each light source device is applied. On the other hand, at least one of the four light source devices (for example, Bla
If the ck (K) light source device 1K) is the four-beam light source device 1 having the above-mentioned configuration and writing is performed only by this light source device 1, the number of beams is four times as compared with the case of forming a full-color image. Therefore, the writing density can be increased four times and the speed can be increased. Also, the paper transport speed
Even if the (and the process speed) is changed to 4 times, the number of sheets on which an image is formed can be increased to 4 times. Even in an image forming apparatus that forms a full-color image, a character image is often written in Black (K) to form an image, and high resolution is often required. Therefore, the four-beam light source device 1K described above is used. In addition to (light source device 1K
In addition, if the other light source devices (1C, 1M, 1Y; 1 beam) are also written at the same time, a higher-quality output image can be obtained even in an image in which characters / photographs / line drawings are mixed. It will be possible.

【００２９】一方、画像形成装置の図示しない液晶表示
パネルなどの操作パネルからオペレータ(サービスマ
ン、ユーザ等)が操作入力を行うことによって、ビーム
ピッチを評価し得る画像（評価チャート）を出力可能な
構成にすることによって、本体を移動させることなくそ
れが設置されているユーザ先での対応が可能となる。つ
まり、その出力された画像（評価チャート）に基づきオ
ペレータが手動で上述したビームピッチ補正手段を動作
させることによってビームピッチを補正することが可能
となるので、ユーザ先での対応が容易になるということ
である。この場合、出力画像のパターン(評価チャート)
としては、例えば、図１２に示すように、画像パターン
ａ１，ａ２，・・・ａｎからなる画像パターン群Ａ１を
複数個それぞれ副走査方向に隣接して並設したものとす
ることができる。その画像パターン群Ａ１は、第１の光
ビームと第２の光ビームとで感光体上に主走査方向へそ
れぞれ形成される２ドットラインが光源装置からの光ビ
ームの数の整数倍の周期で副走査方向に繰り返す画像パ
ターンａ１と、光源装置からの第２ビームと第３ビーム
とで感光体上に主走査方向へそれぞれ形成される２ドッ
トラインが光源装置からの光ビームの数の整数倍の周期
で副走査方向に繰り返す画像パターンａ２と、光源部か
らの第ｎビームと第１ビームとで感光体上に主走査方向
へそれぞれ形成される２ドットラインが光源装置からの
光ビームの数ｎの整数倍の周期で副走査方向に繰り返す
画像パターンａｎとからなっている。On the other hand, when an operator (serviceman, user, etc.) inputs an operation from an operation panel such as a liquid crystal display panel (not shown) of the image forming apparatus, an image (evaluation chart) capable of evaluating the beam pitch can be output. With the configuration, it is possible to deal with the user who installed the main body without moving the main body. That is, since the operator can manually correct the beam pitch based on the output image (evaluation chart) to operate the above-described beam pitch correcting means, it is easy for the user to take action. That is. In this case, the pattern of the output image (evaluation chart)
For example, as shown in FIG. 12, a plurality of image pattern groups A1 including image patterns a1, a2, ... An can be arranged side by side in the sub-scanning direction. In the image pattern group A1, the two-dot lines formed in the main scanning direction on the photoconductor by the first light beam and the second light beam have a cycle of an integer multiple of the number of light beams from the light source device. The image pattern a1 that repeats in the sub-scanning direction and the two-dot lines formed in the main scanning direction on the photoconductor by the second beam and the third beam from the light source device respectively are an integral multiple of the number of light beams from the light source device. The image pattern a2 that repeats in the sub-scanning direction at a period of 2 and two dot lines formed in the main scanning direction on the photoconductor by the n-th beam and the first beam from the light source unit are the number of light beams from the light source device. The image pattern an is repeated in the sub-scanning direction at a cycle that is an integral multiple of n.

【００３０】また、このようにオペレータが評価チャー
トによりその画像品質を確認することができるような構
成とすることで、光走査装置１００におけるビームピッ
チの変動が出力画像に及ぼす影響のみならず、現像、転
写、定着などの画像を形成するための各工程が出力画像
に及ぼす影響を含めて、出力画像の劣化を補正すること
が可能となる。さらにオペレータが評価チャート像によ
りその画像品質を確認することによって、ビームピッチ
の変動をチェックすることができるので、ビームピッチ
検出手段又は制御手段の一方あるいは両方を省略するこ
とも可能となる。こうなると、光走査装置の低コスト化
を図ることができる。Further, by adopting such a structure that the operator can confirm the image quality by the evaluation chart, not only the influence of the beam pitch variation in the optical scanning device 100 on the output image but also the development It is possible to correct the deterioration of the output image, including the influence of each process such as transfer and fixing for forming the image on the output image. Further, since the operator can check the fluctuation of the beam pitch by confirming the image quality by the evaluation chart image, it is possible to omit one or both of the beam pitch detection means and the control means. In this case, the cost of the optical scanning device can be reduced.

【００３１】[0031]

【発明の効果】以上説明してきたように、この発明によ
るマルチビーム走査装置及び画像形成装置は、第１及び
第２の光源部とともに、第１の光源部１４、第２の光源
部２４の光ビームを近接させて出射するビーム合成手段
をホルダーに納めて一体的に構成した従来のマルチビー
ム光源装置において、他のビーム特性に支障を来たすこ
となく、ビームピッチを補正して所望の値に維持でき、
簡単な構成の装置が実現されるようになる。As described above, in the multi-beam scanning device and the image forming apparatus according to the present invention, the light of the first light source unit 14 and the light of the second light source unit 24 are provided together with the first and second light source units. In a conventional multi-beam light source device in which a beam synthesizing means for emitting beams in close proximity is housed in a holder and integrated, the beam pitch is corrected and maintained at a desired value without affecting other beam characteristics. You can
A device having a simple structure can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】この発明によるマルチビーム光源装置の構成を
示す分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of a multi-beam light source device according to the present invention.

【図２】この発明による画像形成装置の一例であるカラ
ーレーザプリンタに設けられた光走査装置の概略の構成
を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of an optical scanning device provided in a color laser printer which is an example of an image forming apparatus according to the present invention.

【図３】この発明によるマルチビーム光源装置と、出射
するレーザビームを模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a multi-beam light source device according to the present invention and an emitted laser beam.

【図４】第１の光源部及び第２の光源部と、それぞれか
ら出射するレーザビームを模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a first light source unit and a second light source unit, and a laser beam emitted from each.

【図５】図１に示すマルチビーム光源装置の主走査方向
に対応する面からみた平面図である。5 is a plan view of the multi-beam light source device shown in FIG. 1 viewed from a surface corresponding to a main scanning direction.

【図６】図１に示すマルチビーム光源装置の組立てた状
態の副走査方向に対応する面で切断したときの６−６線
断面図である。6 is a cross-sectional view taken along line 6-6 of the multi-beam light source device shown in FIG. 1 taken along a plane corresponding to the sub-scanning direction.

【図７】４つの光ビームによって、感光体の表面に形成
されるビームスポットの配列を模式的に示す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing an array of beam spots formed on the surface of a photoconductor by four light beams.

【図８】姿勢変化部を設けたマルチビーム光源装置の副
走査方向に対応する面で切断したときの断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the multi-beam light source device provided with an attitude changing unit, taken along a plane corresponding to the sub-scanning direction.

【図９】ビームピッチ補正手段によりビームピッチを補
正する手順の一例を示すフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart showing an example of a procedure for correcting a beam pitch by a beam pitch correcting means.

【図１０】ビームピッチ補正手段によりビームピッチを
補正する手順の他の例を示すフローチャートである。FIG. 10 is a flowchart showing another example of the procedure for correcting the beam pitch by the beam pitch correcting means.

【図１１】ビーム検出部の構成を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a beam detector.

【図１２】この発明による画像形成装置から出力される
評価チャートを示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing an evaluation chart output from the image forming apparatus according to the present invention.

【図１３】制御部の内部構成の一例を示すブロック図で
ある。FIG. 13 is a block diagram showing an example of an internal configuration of a control unit.

【図１４】カラー画像を形成する画像形成装置の光走査
装置の構成を示すブロック図で、（ａ）は光走査装置を
各色に対応して別体としたもの、（ｂ）は光走査装置を
各色の共通体としたもの、（ｃ）は光走査装置を二体化
したもの、（ｄ）は光走査装置を（ｃ）とは異なる構成
で二体化したものである。FIG. 14 is a block diagram showing a configuration of an optical scanning device of an image forming apparatus for forming a color image, in which (a) is a separate optical scanning device corresponding to each color, and (b) is an optical scanning device. Is a common body for each color, (c) is a dualized optical scanning device, and (d) is a dualized optical scanning device with a configuration different from that of (c).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１：光源装置 ７：ビーム検出部 １１ａ，１１ｂ，２１ａ，２１ｂ：半導体レーザ １２ａ，１２ｂ：カップリングレンズ ２２ａ，２２ｂ：カップリングレンズ １３，２３：ベース部材 １４：第１の光源部 ２４：第２の光源部 １５，２５：レンズ保持部 １６，２６：突起部 １７ａ，１７ｂ：ビームスポット １９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂ：光ビーム ２７ａ，２７ｂ：ビームスポット １８，２８：光軸 ３１：ホルダー部材 ３２：ビーム合成プリズム ３３：ボール ３４：位置調節ねじ ３５：姿勢変化部 ３６：突起部 ５７：制御部 １００：光走査装置 ２０２：ポリゴンミラー ２０６：感光体ドラム 1: Light source device 7: Beam detector 11a, 11b, 21a, 21b: Semiconductor laser 12a, 12b: Coupling lens 22a, 22b: Coupling lens 13, 23: Base member 14: 1st light source part 24: 2nd light source part 15, 25: Lens holding part 16, 26: Projection part 17a, 17b: beam spot 19a, 19b, 29a, 29b: light beam 27a, 27b: beam spot 18, 28: Optical axis 31: Holder member 32: Beam combining prism 33: Ball 34: Position adjustment screw 35: Posture change part 36: Projection part 57: control part 100: optical scanning device 202: Polygon mirror 206: Photosensitive drum

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 7/00 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA10 AA48 BA48 BA71 2H043 AB04 AB05 AB10 AB11 AB14 AB37 2H045 AA01 BA22 BA33 CA88 DA02 5C072 AA03 BA20 HA02 HA06 HA13 HB06 HB08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification code FI theme code (reference) G02B 7/00 B41J 3/00 D H04N 1/113 H04N 1/04 104A F term (reference) 2C362 AA07 AA10 AA48 BA48 BA71 2H043 AB04 AB05 AB10 AB11 AB14 AB37 2H045 AA01 BA22 BA33 CA88 DA02 5C072 AA03 BA20 HA02 HA06 HA13 HB06 HB08

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 ２つの半導体レーザとその出射ビームを
各々カップリングする２つのカップリングレンズをベー
ス部材により保持して構成される第１及び第２の光源部
を有する光源装置と、該第１及び第２の光源部から射出
される４本のビームを偏向する偏向手段と、該偏向手段
により偏向されたビームのビームスポットにより被走査
面を走査する走査結像手段とを有するマルチビーム走査
装置において、前記被走査面における各ビームのビーム
ピッチを検出するビームピッチ検出手段と、該手段の検
出結果により、前記各ビーム間の副走査断面の相対光軸
偏差を発生させて前記ビームピッチを補正するビームピ
ッチ補正手段とを設けたことを特徴とするマルチビーム
走査装置。1. A light source device having a first and a second light source unit, which is constituted by holding two semiconductor lasers and two coupling lenses respectively coupling the emitted beams thereof by a base member, and the first light source device. And a multi-beam scanning device having deflection means for deflecting the four beams emitted from the second light source part, and scanning imaging means for scanning the surface to be scanned with the beam spot of the beams deflected by the deflection means. In, a beam pitch detecting means for detecting a beam pitch of each beam on the surface to be scanned, and a relative optical axis deviation of a sub-scan section between the beams is generated by the detection result of the means to correct the beam pitch. A multi-beam scanning device, comprising: 【請求項２】 前記ビームピッチ補正手段が、前記第１
の光源部、第２の光源部及び前記光源装置のいずれかま
たはすべてを略光軸回りに回転または傾斜させることに
より、前記ビームピッチを補正するように構成されてい
ることを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装
置。2. The beam pitch correcting means includes the first
7. The beam pitch is corrected by rotating or inclining any or all of the light source unit, the second light source unit, and the light source device about the optical axis. 1. The multi-beam scanning device according to 1. 【請求項３】 前記ビームピッチ補正手段が、前記第１
の光源部、第２の光源部のいずれか少なくとも１つを副
走査断面内で回転または傾斜させることにより、前記ビ
ームピッチを補正するように構成されていることを特徴
とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。3. The beam pitch correcting means includes the first
2. The beam pitch is corrected by rotating or inclining at least one of the light source unit and the second light source unit in the sub-scan section. Multi-beam scanning device. 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれか一項に記載の
マルチビーム走査装置において、前記ビームピッチ検出
手段の検出結果に基づいて前記ビームピッチ補正手段を
制御する制御手段を設けたことを特徴とするマルチビー
ム走査装置。4. The multi-beam scanning device according to claim 1, further comprising control means for controlling the beam pitch correction means based on a detection result of the beam pitch detection means. Characteristic multi-beam scanning device. 【請求項５】 ２つの半導体レーザとその出射ビームを
各々カップリングする２つのカップリングレンズをベー
ス部材により保持して構成される第１及び第２の光源部
を有する光源装置と、該第１及び第２の光源部から射出
される４本のビームを偏向する偏向手段と、該偏向手段
により偏向されたビームのビームスポットにより被走査
面を走査する走査結像手段とを有し、前記被走査面にお
ける各ビームのビームピッチを検出するビームピッチ検
出手段と、該手段の検出結果により、前記各ビーム間の
副走査断面の相対光軸偏差を発生させて前記ビームピッ
チを補正するビームピッチ補正手段とを設けたマルチビ
ーム走査装置を光書込装置に用いて電子写真プロセスに
より画像形成を行うことを特徴とする画像形成装置。5. A light source device having a first and a second light source part, which is constituted by holding two semiconductor lasers and two coupling lenses for coupling the respective emitted beams thereof by a base member, and the first light source device. And deflecting means for deflecting the four beams emitted from the second light source section, and scanning and imaging means for scanning the surface to be scanned by the beam spot of the beam deflected by the deflecting means. Beam pitch detection means for detecting the beam pitch of each beam on the scanning surface, and beam pitch correction for correcting the beam pitch by generating a relative optical axis deviation of the sub-scanning cross section between the beams based on the detection result of the means. An image forming apparatus for forming an image by an electrophotographic process using a multi-beam scanning device provided with a means as an optical writing device. 【請求項６】 半導体レーザとその出射ビームを各々カ
ップリングするカップリングレンズをベース部材により
保持して構成される光源部を有する光源装置を複数設
け、該各光源装置から射出されるビームを偏向手段によ
り偏向してその偏向されたビームのビームスポットによ
り被走査面を走査する光走査装置を光書込装置に用いて
電子写真プロセスにより画像形成を行う画像形成装置で
あって、前記光源装置から射出されるビームが互いに異
なる感光体表面上を走査し、前記光源装置の少なくとも
１つが２つの半導体レーザとその出射ビームを各々カッ
プリングする２つのカップリングレンズをベース部材に
より保持して構成される第１及び第２の光源部を有し、
前記被走査面における各ビームのビームピッチを検出す
るビームピッチ検出手段と、該手段の検出結果により、
前記各ビーム間の副走査断面の相対光軸偏差を発生させ
て前記ビームピッチを補正するビームピッチ補正手段と
を設けたことを特徴とする画像形成装置。6. A plurality of light source devices having a light source section configured to hold a semiconductor laser and a coupling lens for coupling the emitted beam respectively by a base member are provided, and the beam emitted from each light source device is deflected. An image forming apparatus for forming an image by an electrophotographic process using an optical scanning device for scanning a surface to be scanned by a beam spot of the beam deflected by the means, the light source device comprising: The emitted beams scan different photoreceptor surfaces, and at least one of the light source devices is constituted by holding two semiconductor lasers and two coupling lenses for coupling the emitted beams by a base member. Having first and second light source units,
Beam pitch detecting means for detecting the beam pitch of each beam on the surface to be scanned, and the detection result of the means,
An image forming apparatus, comprising: a beam pitch correcting unit that corrects the beam pitch by generating a relative optical axis deviation of a sub-scanning section between the beams. 【請求項７】 請求項５または６に記載の画像形成装置
において、前記ビームピッチ補正手段を手動で動作させ
るための評価チャートを出力する手段を設けたことを特
徴とする画像形成装置。7. The image forming apparatus according to claim 5, further comprising means for outputting an evaluation chart for manually operating the beam pitch correcting means.