JP2003015552A - 表示用パネルの製造方法 - Google Patents

表示用パネルの製造方法

Info

Publication number
JP2003015552A
JP2003015552A JP2001198921A JP2001198921A JP2003015552A JP 2003015552 A JP2003015552 A JP 2003015552A JP 2001198921 A JP2001198921 A JP 2001198921A JP 2001198921 A JP2001198921 A JP 2001198921A JP 2003015552 A JP2003015552 A JP 2003015552A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
adhesive
display panel
display
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001198921A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003015552A5 (ja
Inventor
Hideki Matsuoka
英樹 松岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2001198921A priority Critical patent/JP2003015552A/ja
Priority to TW091112759A priority patent/TW588566B/zh
Priority to US10/183,252 priority patent/US7106409B2/en
Priority to CNB021251649A priority patent/CN1184521C/zh
Priority to KR10-2002-0036798A priority patent/KR100521285B1/ko
Publication of JP2003015552A publication Critical patent/JP2003015552A/ja
Publication of JP2003015552A5 publication Critical patent/JP2003015552A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842Containers
    • H10K50/8426Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/87Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/871Self-supporting sealing arrangements
    • H10K59/8722Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】接着剤としてたとえ粘度の高いものが用いられ
る場合であれ、封止部材および接着剤による表示基板の
封止を迅速かつ的確に行うことのできる表示用パネルの
製造方法を提供する。 【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス(EL)素
子が形成された表示用パネルのガラス基板1を、あらか
じめ接着剤5を塗布しておいた封止用ガラス4に貼り合
わせて封止する。この際、チャンパ20内に充満させる
窒素ガスの温度を温度調節器26にて制御することによ
り、前記接着剤5の温度を制御してその粘度を調整す
る。同接着剤5の温度は、これを上記貼り合わせ面に印
加する圧力に応じて適切な粘度となるように設定する。
また、上記温度は前記EL素子が劣化しない範囲に設定
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、文字や画像などを
表示する表示装置に使用される表示用パネルの製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、エレクトロルミネッセンス(E
L)表示装置や液晶表示装置に用いられる表示用パネル
は、発光素子や液晶、あるいはそれらを駆動する駆動素
子などの表示用素子が設けられた表示基板を有して構成
される。また、この表示基板は通常、その機能や品質な
どを維持するために、適宜の封止部材によって封止され
ることが多い。こうした用途に使用される封止部材に
は、金属製のカン(メタルカン)やガラスなどがあり、
上記表示基板は接着剤によってそれらと貼り合わされて
封止される。そして、この表示用パネルにおける表示基
板の封止品質は、ひいては表示装置としての品質や寿命
を決定づける重要な要素となっている。
【0003】図8は、表示基板が封止部材によって封止
される態様を模式的に示した図である。図8(a)およ
び(b)に示すように、表示基板33の一構成であるガ
ラス基板31の一方面には、薄膜形成プロセスによって
表示領域となる素子層32が形成されている。なおこの
例では、複数の(12個の)表示用パネルを一括製造す
るために、1枚のガラス基板31に複数の(12個の)
素子層32を一括形成し、表示基板33についてもこれ
を同時に複数個(12個)生成する場合について示して
いる。上記ガラス基板31は、素子層32に対向して配
置されている封止部材である封止用ガラス34の位置合
わせマーク39を認識する画像処理装置などによって同
封止用ガラス34との相対位置が決められたのち、図8
(a)に示すZ方向に移動されて同ガラス34に貼り合
わされる。この封止用ガラス34には、表示基板33
(厳密にはその素子層32)を封止する形状に沿ってあ
らかじめ接着剤35が上記表示領域を囲繞する態様で塗
布されている。また、封止用ガラス34の表示基板33
との対向面は、上記素子層32の形状および配置に対応
してエッチング等によって掘削されている。この封止用
ガラス34の掘削部36は、封止される表示基板33の
特性を維持するための吸湿剤などを塗布するために設け
られている。なお、図8(b)においては、ガラス基板
31の図示を割愛した。
【0004】また、図9は、上記ガラス基板31が封止
用ガラス34と貼り合わされるときの断面状態を模式的
に示したものである。図9に示されるように、ガラス基
板31は支持部材37に真空吸着されており、この真空
吸着されたガラス基板31が、台(図示略)上に配置さ
れている封止用ガラス34上に降下して貼り合わせが行
われる。このとき、ガラス基板31と封止用ガラス34
とのギャップGが所定の値となるように、ガラス基板3
1が支持部材37によって適宜加圧される。こうしてギ
ャップGが所定の値とされたのちに接着剤35の硬化処
理が行われて、表示基板33が封止用ガラス34によっ
て封止される。なお、この封止に際して、ガラス基板3
1および封止用ガラス34が接着剤35と当接する幅、
すなわちシール線幅Wは、接着剤35の量と粘度、およ
びギャップGや上記加圧圧力、加圧時間などによって決
定される。また、接着剤35には所定の径を有するたと
えば円筒状もしくは球状のスペーサ38が混入されてお
り(図9中に模式的に図示)、このスペーサ38をスト
ッパとして上記加圧を行うことにより上記ギャップGと
して所定の値が得られるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記接着剤35として
は、通常、樹脂製の接着剤が使用される。そして、その
場合の樹脂の材質は、表示基板33の種類や封止の目的
などに合わせて適切なものが選定される。また、これら
樹脂の中には、粘度が調整できないものもある。
【0006】たとえば、EL表示装置の表示用パネルに
用いられる表示基板、すなわち上記素子層32にEL素
子が形成された表示基板33などにおいては、EL素子
の特性として耐熱性が低く、また水分による劣化が顕著
であるため、水分の透過性が低く、しかも硬化時に加熱
を要しない紫外線硬化性エポキシ樹脂が上記接着剤35
として使用される。この紫外線硬化性エポキシ樹脂は、
溶剤による希釈がなされないため一般に粘度が高く、し
たがって希釈によって使用しやすい粘度に調整すること
もできない。また、この紫外線硬化性エポキシ樹脂の成
分を変更してその粘度を調整すると、水分の透過性が低
いという同樹脂の特性を維持することが困難になる。
【0007】こうした粘度の高い樹脂を接着剤35とし
て使用する場合には、前述のようにガラス基板31を封
止用ガラス34に貼り合わせる際に、両者の貼り合わせ
面により大きな圧力を加えてギャップGを所望の値に到
達させ、かつシール線幅Wを確保する必要がある。しか
し、この加圧圧力を急激に増大させると、粘度の高い接
着剤35がその加圧圧力の変化に追従して形状変化する
ことができず、封止用ガラス34の平面図である図10
に破線部として示すような貼り合わせ不良が発生するこ
とがある。
【0008】すなわち、ギャップGが均一に所望の値に
到達しない場合、図10に付記したA〜Cに対応して、
(A)封止される内部空間に残留する気体が抜け出すた
めのシールパスができる、(B)安定したシール線幅W
が得られない、(C)接着剤35が所定の封止位置から
ずれる、などの不都合が発生することがある。これらの
貼り合わせ不良は、形状不良となるばかりでなく、場合
によっては封止不良を起こす、また加圧された気体が内
部に残留する、あるいは水分の透過性を上昇させるな
ど、EL表示装置の表示用パネルとして、その品質や寿
命に少なからず悪影響を及ぼすことになる。
【0009】なお、上記EL素子が形成された表示基板
に限らず、たとえば液晶表示基板やプラズマ表示基板な
どであっても、それら基板が適宜の封止部材および粘度
の高い樹脂接着剤によって封止される表示用パネルにあ
っては、それら封止に際しての上記実情もおおむね共通
したものとなっている。
【0010】本発明は、こうした実情に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、接着剤としてたとえ粘度の高
いものが用いられる場合であれ、封止部材および接着剤
による表示基板の封止を迅速かつ的確に行うことのでき
る表示用パネルの製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
表示領域に表示用素子が形成された表示基板の素子面と
該素子面に対向して配置した封止部材とを前記表示領域
を囲繞する態様で塗布した接着剤を介して貼り合わせた
のち、この貼り合わせ面に圧力を加えるとともに前記接
着剤を硬化させる表示用パネルの製造方法であって、前
記接着剤として紫外線硬化性樹脂を用い、該接着剤の硬
化を紫外線照射によって行うとともに、該紫外線照射以
前に前記接着剤に対する温度制御を行うことをその要旨
とする。
【0012】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の表示用パネルの製造方法において、前記温度制御と
して、少なくとも前記封止部材と表示基板との貼り合わ
せ面に対する圧力の印加前に、前記接着剤を所定の温度
に加熱する処理を行うことをその要旨とする。
【0013】また、請求項3記載の発明は、請求項1記
載の表示用パネルの製造方法において、前記温度制御と
して、前記接着剤を所定の温度に加熱しつつ、前記封止
部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加を
行うことをその要旨とする。
【0014】また、請求項4記載の発明は、請求項2ま
たは3記載の表示用パネルの製造方法において、前記表
示基板が、前記表示用素子としてエレクトロルミネッセ
ンス素子を有して形成され、前記所定の温度が、前記エ
レクトロルミネッセンス素子としての素子特性に影響を
及ぼさない温度に設定されることをその要旨とする。
【0015】また、請求項5記載の発明は、請求項1記
載の表示用パネルの製造方法において、前記温度制御と
して、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対す
る圧力の印加態様に応じて前記接着剤に付与する温度を
可変とする制御を行うことをその要旨とする。
【0016】また、請求項6記載の発明は、請求項5記
載の表示用パネルの製造方法において、前記表示基板
が、前記表示用素子としてエレクトロルミネッセンス素
子を有して形成され、前記可変とされる前記接着剤に付
与する温度が、前記エレクトロルミネッセンス素子とし
ての素子特性に影響を及ぼさない温度の範囲で設定され
ることをその要旨とする。
【0017】また、請求項7記載の発明は、請求項1〜
6のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法におい
て、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印加す
る圧力をそれら封止部材と表示基板とのギャップが前記
目標値に到達するまで段階的に変化させることをその要
旨とする。
【0018】また、請求項8記載の発明は、請求項7記
載の表示用パネルの製造方法において、前記封止部材と
表示基板との貼り合わせ面に印加する圧力の段階的な変
化が、同印加する圧力を連続的に変化せしめる圧力変更
期間と、この変化した圧力を一定に保持する圧力保持期
間との複数回の繰り返しとして行われることをその要旨
とする。
【0019】また、請求項9記載の発明は、請求項8記
載の表示用パネルの製造方法において、前記各圧力保持
期間は、相互に独立に設定されることをその要旨とす
る。また、請求項10記載の発明は、請求項8または9
記載の表示用パネルの製造方法において、前記圧力変更
期間での圧力変化量が、それら各圧力変更期間ごとに独
立に設定されることをその要旨とする。
【0020】また、請求項11記載の発明は、請求項1
0記載の表示用パネルの製造方法において、前記各圧力
変更期間での圧力変化量のうち、最後の圧力変更期間で
の圧力変化量を他の圧力変更期間での圧力変化量よりも
小とすることをその要旨とする。
【0021】また、請求項12記載の発明は、請求項8
〜11のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法にお
いて、前記圧力変更期間の少なくとも一期間において、
その圧力変化速度が可変とされることをその要旨とす
る。
【0022】そして、請求項13記載の発明は、請求項
8〜12のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法に
おいて、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印
加する圧力の段階的な変化が、前記圧力変更期間と前記
圧力保持期間との各3回の繰り返しとして行われること
をその要旨とする。
【0023】
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)以下、本発
明にかかる表示用パネルの製造方法を、前記表示用素子
として有機EL素子を有して構成される表示基板を備え
る表示用パネルの製造方法に適用した第1の実施の形態
について、図1および図2を使って説明する。なお、こ
の第1の実施の形態においても、基本的には先の図8お
よび図9に例示したように、ガラス基板上に素子層が形
成されてなる上記表示基板を封止用ガラスにて封止する
に、それら封止用ガラスと表示基板との貼り合わせ面に
同表示基板の表示領域を囲繞する態様であらかじめ接着
剤を塗布しておく。そして、それら封止用ガラスと表示
基板とを貼り合わせたのち、それら合わせ面に圧力を加
えて両者のギャップを目標値に到達させたうえで、上記
接着剤を硬化させる。
【0024】図1は、この第1の実施の形態にかかる製
造方法によって表示用パネルを製造する装置の構成例を
示す模式図である。図1に示すように、表示基板3の一
構成であるガラス基板1の一方面には、薄膜形成プロセ
スによって有機EL素子等からなる素子層2が形成され
ている。なおここでも、複数の表示用パネルを一括製造
するために、たとえば前述の図8に示したように1枚の
ガラス基板1に複数の素子層2を一括形成し、表示基板
3についてもこれを同時に複数個生成する。そして、上
記ガラス基板1は、素子層2に対向して配置されている
封止部材である封止用ガラス4に貼り合わされる。この
封止用ガラス4には、表示基板3を囲繞するかたちで、
すなわち上記素子層2を封止する形状に沿って接着剤5
が塗布されている。なお、この接着剤5は、粘度の高い
紫外線硬化性樹脂、たとえばカチオン系紫外線硬化性エ
ポキシ樹脂からなる。このカチオン系紫外線硬化性エポ
キシ樹脂は、硬化時の収縮率が小さく、かつ水分透過性
が低い特性を有しており、有機EL素子等を封止する用
途に適している。また、封止用ガラス4においてその表
示基板3との対向面は、同表示基板3(厳密にはその素
子層2)の形状および配置に対応してエッチング等によ
って掘削されている。この封止用ガラス4の掘削部6
は、封止される表示基板3の特性を維持する吸湿剤など
を塗布するために設けられている。
【0025】上記各部材はチャンバ20内に配設されて
おり、そのチャンバ20内部は外部につながったガス導
入口21aおよびガス排出口21bにより給排気される
窒素ガス(N2)で充満されている。この窒素ガスは、
有機EL素子が雰囲気中に存在する水分によって劣化し
ないようにその水分含有率を5ppm以下のものを使用
している。また、チャンバ20内に充満させる窒素ガス
の温度は、ガス導入口21aに設けた温度調節器26に
より制御することができる。この窒素ガスの温度制御に
より、接着剤5の温度も併せて制御することが可能とな
る。
【0026】上記チャンバ20内において、ガラス基板
1は、チャンバ20内部に設けられて位置制御される支
持部材7に真空吸着されている。なお図1において、こ
のガラス基板1を真空吸着するための装置の図示は割愛
してある。他方、封止用ガラス4は、チャンバ20の底
面に固定された石英ガラス11上に配置されている。そ
して、支持部材7を位置制御する装置24は、チャンバ
20内部に備えられたCCDカメラ22によって撮影さ
れる位置合わせマーク(図示略)などの画像に基づき支
持部材7ともどもガラス基板1をその水平方向に移動さ
せて、対向する封止用ガラス4との相対位置を決定す
る。この位置決めが完了すると、支持部材7を加圧する
装置(図示略)は、この支持部材7ともどもガラス基板
1を封止用ガラス4上に矢印方向に押圧し、両者の貼り
合わせ面に圧力を印加する。また、この図1に示す製造
装置において、符号23は、石英ガラス11および封止
用ガラス4を介して上記カチオン系紫外線硬化性エポキ
シ樹脂からなる接着剤5に紫外線を照射することにより
これを硬化させる紫外線光源である。
【0027】次に、このような装置を用いてEL表示装
置の表示用パネルを製造する本実施の形態の製造方法に
ついて詳述する。本実施の形態においては、上記封止を
上記窒素ガスの適切な温度制御のもとに行う。その設定
温度としては、高く設定しすぎると上記表示基板3に形
成されている有機EL素子の特性劣化を招くばかりでな
く、上記接着剤5の粘度が低くなりすぎてこれが貼り合
わせ面から流出してしまう懸念がある。このため、表示
基板3を所望の態様で封止するためには、前記印加する
圧力との関係を考慮して、チャンバ20内の温度、すな
わち窒素ガスの温度を適切な温度範囲に設定することが
望ましい。
【0028】図2は、本実施の形態に用いられるカチオ
ン系紫外線硬化性エポキシ樹脂からなる接着剤5の温度
と粘度との関係を示すグラフである。図2に示されるよ
うに、この接着剤5の粘度は温度の上昇とともに急激に
低下することが確認されている。通常この封止が行われ
るクリーンルームの標準的な温度は約25℃であり、そ
のときの接着剤の粘度は、同図2からも明らかなように
100000mPa・秒を超える高い値となっている。
そしてこのことが、前記表示基板の封止を迅速かつ的確
に行ううえでの障害の1つとなっている。
【0029】そこで、本実施の形態においては、接着剤
5への紫外線の照射に先立ってチャンバ20を充満して
いる窒素ガスの温度を35℃に設定する。この35℃に
おける接着剤5の粘度は図2に示されるように約340
00mPa・秒であり、上記クリーンルームの標準的温
度約25℃における粘度よりも1桁低いものとなってい
る。また、この35℃においては、表示基板に形成され
ている有機EL素子がその加熱によって特性劣化するこ
とはない。
【0030】こうして、上記接着剤5を35℃に維持し
つつ、CCDカメラ22により得られた画像をもとに位
置制御装置24を動作させ、ガラス基板1と封止用ガラ
ス4との水平位置を位置合わせする。この位置合わせの
のち、ガラス基板1を支持している支持部材7を封止用
ガラス4上に垂直降下させ、表示基板3と封止用ガラス
4との貼り合わせ面に圧力を印加する。この圧力を受け
て、上記温度に制御された接着剤5はその形状が好適に
変化され、上記貼り合わせ面のギャップGは容易に目標
値に到達される。そののちに、紫外線光源23を点灯さ
せて上記接着剤に紫外線を照射して硬化させ、表示基板
3を封止用ガラス4により封止する。
【0031】なお参考までに、上述の有機EL表示パネ
ルとして利用される表示基板3に形成される素子層2の
構成例を、以下に説明する。図11は、表示装置の表示
単位(画素)となるEL素子おのおのに対して、能動素
子である薄膜トランジスタ(TFT)を付加したアクテ
ィブマトリクス型のEL表示パネルの構成について、そ
の画素1つの周辺部を拡大して示す平面図である。
【0032】EL表示パネルは、EL素子が電界の印加
により発光する性質を利用した表示装置であり、表示基
板にはスイッチング用TFTを駆動するためのゲート信
号線と各画素を表示させるための信号線とが縦横のマト
リクス状に形成される。
【0033】図11に示したように、このEL表示パネ
ルにおいては、上記信号線としてゲート信号線51とド
レイン信号線52とが形成されている。そして、それら
の交差部に対応して画素となる有機EL素子60が形成
されている。なお、このEL表示パネルにおいては、フ
ルカラー表示を実現するために発光色の異なる3種の有
機EL素子60R、60G、および60Bが1つの繰り
返し単位として形成されている。そして、これら3つが
1組となって任意の色を発色するフルカラー表示装置と
しての1つの表示単位をなしている。
【0034】両信号線の交差部付近にはゲート信号線5
1によりスイッチングを行うTFT70が形成されてお
り、TFT70が「オン」になるとドレイン信号線52
の信号がソース71Sに接続されて容量電極55に印加
される。この容量電極55は、EL素子駆動用のTFT
80のゲート81に接続されている。また、TFT80
のソース83Sは有機EL素子60の陽極61に接続さ
れ、ドレイン83Dは有機EL素子60に電流を供給す
る電流源となる駆動電源線53に接続されている。
【0035】また、これらTFT70および80に対応
して、ゲート信号線51と平行に保持容量電極線54が
形成されている。この保持容量電極線54はクロム(C
r)等の金属からなり、絶縁膜を介して上記容量電極5
5との間で電荷を蓄積して容量素子を構成している。こ
の保持容量は、TFT80のゲート電極81に印加され
る電圧を保持するために設けられる。
【0036】図12は、図11に示した画素周辺の断面
を示すものであり、図12(a)はD−D線に沿った断
面図、図12(b)はE−E線に沿った断面図である。
図12に示したように、上記有機EL表示パネルにおけ
る表示基板の素子層は、ガラスや合成樹脂、または導体
あるいは半導体基板等の基板90上に、TFTおよび有
機EL素子60を順次積層して形成される。
【0037】まず、容量電極55の充電を制御するTF
T70の形成について説明する。図12(a)に示した
ように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁
性基板90上に、非晶質シリコン膜にレーザを照射して
多結晶化した多結晶シリコン膜からなる能動層73を形
成する。この能動層73にはいわゆるLDD(Lightly
Doped Drain )構造が設けられている。すなわち、チャ
ネルの両側に低濃度領域73LDとその外側に高濃度領
域のソース73Sおよびドレイン73Dが設けられてい
る。その上にゲート絶縁膜92、Cr、およびモリブデ
ン(Mo)などの高融点金属からなるゲート信号線51
の一部をなすゲート電極71を形成する。このとき同時
に、保持容量電極54を形成する。続いて、ゲート絶縁
膜92上の全面にシリコン酸化膜(SiO2膜)および
シリコン窒化膜(SiN膜)の順に積層された層間絶縁
膜95を設け、ドレイン73Dに対応して設けたコンタ
クトホールにアルミニウム(Al)等の金属を充填する
とともに、ドレイン信号線52とその一部であるドレイ
ン電極96を設ける。さらにこの膜面の上に、たとえば
有機樹脂からなり、表面を平坦にする平坦化絶縁膜97
を設ける。
【0038】次に、有機EL素子60を発光駆動するT
FT80の形成について説明する。図12(b)に示し
たように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶
縁性基板90上に、先のTFT70の能動層73の形成
と同時に、多結晶シリコン膜からなる能動層83を形成
する。その能動層83には、ゲート電極81下方に真性
または実質的に真性であるチャネル83Cと、このチャ
ネル83Cの両側にp型不純物のイオンドーピングを施
してソース83Sおよびドレイン83Dを設けて、p型
チャネルTFTを構成する。その能動層83の上にゲー
ト絶縁膜92、およびCr、Moなどの高融点金属から
なるゲート電極81を設ける。このゲート電極81は、
上述のようにTFT70のソース73Sに接続される。
そして、ゲート絶縁膜92およびゲート電極81上の全
面には、SiO2膜、SiN膜、およびSiO2膜の順に
積層された層間絶縁膜95を形成し、ドレイン83Dに
対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填
するとともに、駆動電源線53を形成する。さらにこの
膜面の上に、たとえば有機樹脂からなり、表面を平坦に
する平坦化絶縁膜97を形成する。そして、この平坦化
絶縁膜97にソース83Sと接続するためのコンタクト
ホールを形成し、このコンタクトホールを介してソース
83Sと接続される透明電極61を平坦化絶縁膜97上
に形成する。この透明電極61は、有機EL素子60の
陽極をなすものであり、この上に積層される有機EL素
子60から放出される光を基板90側へ透過させる。こ
の透明電極としては、インジウムとスズとの酸化物であ
る「ITO」(Indium TinOxide)などが用いられる。
【0039】有機EL素子60は、上記陽極61の上層
に発光素子層66とAlからなる陰極67とがこの順に
積層形成されて構成されている。そして、発光素子層6
6はさらに4層構造をなしており、各層は陽極61の上
層に、以下に示す順に積層形成されている。
【0040】(1)ホール輸送層62:「NPB」。 (2)発光層63:各発光色に対応して次の材料を使
用。 赤色…ホスト材料「Alq3」に「DCJTB」をドー
プしたもの。
【0041】緑色…ホスト材料「Alq3」に「Cou
marin 6」をドープしたもの。 青色…ホスト材料「BAlq」に「Perylene」
をドープしたもの。
【0042】(3)電子輸送層64:「Alq3」。 (4)電子注入層65:フッ化リチウム(LiF)。 ここで、上記に略称にて記載した材料の正式名称は以下
のとおりである。
【0043】・「NPB」…N,N'-Di(naphthalene-1-y
l)-N,N'-diphenyl-benzidine。 ・「Alq3」…Tris(8-hydroxyquinolinato)aluminu
m。 ・「DCJTB」…(2-(1,1-Dimethylethyl)-6-(2-(2,
3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H,5H-benzo[i
j]quinolizin-9-yl)ethenyl)-4H-pyran-4-ylidene)prop
anedinitrile。
【0044】・「Coumarin 6」…3-(2-Benzo
thiazolyl)-7-(diethylamino)coumarin。 ・「BAlq」…(1,1'-Bisphenyl-4-Olato)bis(2-meth
yl-8-quinolinplate-N1,08)Aluminum。
【0045】これらホール輸送層62、電子輸送層6
4、電子注入層65、および陰極67は、図11に示し
た各画素に対応する有機EL素子60に共通に形成され
ている。発光層63は、陽極61に対応して島状に形成
されている。また、陽極61の周辺には絶縁膜68(破
線で示す領域の外側)を形成する。これは、陽極61の
厚みによる段差に起因した発光層63の断切れによって
生じる陰極67と陽極61との短絡を防止するために設
けられる。
【0046】こうして形成された有機EL素子60の画
素は、上記TFT70および80により駆動されると、
陽極61から注入されたホールと陰極67から注入され
た電子とが発光層66の内部で再結合して発光する。
【0047】なお、有機EL素子60を構成する各層と
して上記材料を採用した場合、それら各層に特性劣化を
与えることなく素子層2に印加できる温度は95℃以下
とするのが望ましい。
【0048】以上説明したように、この第1の実施の形
態にかかる表示用パネルの製造方法によれば、以下のよ
うな効果を得ることができるようになる。 (1)ガラス基板1を封止用ガラス4にて封止する際
に、両者の貼り合わせ面に印加する圧力と接着剤5の粘
度との関係を考慮して、同接着剤5の粘度が適切な値と
なるようにその温度を制御している。このため、上記貼
り合わせ面への圧力印加に応じた接着剤5の形状変化が
速やかにかつ円滑に行われるようになる。
【0049】(2)これにより、上記貼り合わせ面のギ
ャップGを目標値に到達させるまでの時間を短縮するこ
とができるようになる。 (3)また、同貼り合わせ面におけるギャップGがより
均一に得られるため、シール線幅Wも安定したものとな
り、表示基板3を高品質に封止することができるように
なる。
【0050】(4)上記チャンバ20に充満させる窒素
ガスの温度を35℃に制御することにより、表示基板3
に形成されている有機EL素子の特性劣化を招くことが
ない。
【0051】(5)さらに、上記封止を水分含有率の低
い窒素ガス雰囲気中で行うことにより、上記封止空間内
部に残留する水分を最小限に抑制することができるよう
になる。
【0052】(第2の実施の形態)次に、本発明にかか
る表示用パネルの製造方法を、同じく有機EL素子を有
して構成される表示基板を備える表示用パネルの製造方
法に適用した第2の実施の形態について、上記第1の実
施の形態と異なる部分を中心に図3および図4を使って
説明する。
【0053】この第2の実施の形態においては、前記封
止に際して先の第1の実施の形態に用いた支持部材7を
加圧する装置が、さらにその加圧圧力をモニタする機能
も有している。そして、この加圧装置は、同圧力をモニ
タしつつその加圧圧力を任意に制御可能な加圧制御装置
25としてある(図3参照)。
【0054】そこでこの第2の実施の形態においては、
上記加圧制御装置25により前記ガラス基板1と前記封
止用ガラス4との貼り合わせ面に印加する圧力を段階的
に変化させて上記封止を行う。
【0055】図4は、上記支持部材7を加圧制御する装
置25による圧力の印加パターン例を示したタイムチャ
ートである。なお、この第2の実施の形態において、チ
ャンバ20内を充満させる窒素ガスの温度は、先の第1
の実施の形態における同温度の設定値と同じく35℃に
設定してある。
【0056】そして本実施の形態では、上記支持部材7
を位置制御する装置24を通じてガラス基板1と封止用
ガラス4との相対位置を決定したのち、この図4に示さ
れる圧力印加パターンにしたがって、それらガラス基板
1と封止用ガラス4との貼り合わせ面に圧力を印加す
る。
【0057】この圧力印加パターンでは、基本的に次の
(イ)〜(ハ)に示す態様での圧力印加が行われる。 (イ)一定の速さで圧力を変化(増大)させる圧力変更
期間(図4の期間T1、T3、およびT5)と、それら
変化(増大)させた圧力を一定の圧力に保持する圧力保
持期間(図4の期間T2、T4、およびT6)とを繰り
返して、目標とする圧力および目標とするギャップに到
達させる。
【0058】(ロ)上記各圧力保持期間T2、T4、お
よびT6は、すべて等しく設定される。すなわち、それ
ら期間T2、T4、およびT6には以下の関係が成立し
ている。 T2 = T4 = T6 (ハ)最後の圧力変更期間T5における圧力の変化量
(増大量)δP5は、それ以前の圧力変更期間T1およ
びT3におけるそれぞれの圧力の変化量(増大量)δP
1およびδP3よりも小さく設定される。すなわち、そ
れら圧力変化量δP1、δP3、およびδP5には以下
の関係が成立している。 δP1 > δP5 δP3 > δP5 こうして、ガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わ
せ面に所定のパターンの圧力が印加されることで、少な
くとも上記圧力保持期間T6には、接着剤5に混入され
ているスペーサ(図9参照)がストッパとなってギャッ
プGが目標値に到達する。このときのギャップGの値は
約5μmである。このギャップGの値は、封止部分にお
ける水分の透過を抑制するためにも5μm±1μmとす
ることが望ましい。さらに、5μm±0.3μmとする
ことがより望ましい。そして、その後の期間T7におい
てもその圧力を継続して印加しつつ、時刻t6に上記紫
外線光源23を点灯して紫外線を上記貼り合わせ面に照
射する。この紫外線の照射は、実際には図示しない赤外
線カットフィルタを通して、上記期間T7にわたって、
すなわち時刻t7まで行われる。
【0059】なお、上記塗布される接着剤5の吐出口の
断面形状が直径約300μmの半円状であり、またガラ
ス基板1の寸法が300mm×400mmであって、上
記封止後はそれを切断して9枚〜96枚の表示基板3を
得ようとする場合、上記圧力保持期間T2、T4、およ
びT6において貼り合わせ面に印加されている圧力は、
図4に示されるように、それぞれ0.2kgw/c
2、0.4kgw/cm2、および0.5kgw/cm
2である。また、上記圧力印加パターンの各期間は、期
間T1から期間T6まで順に5秒、5秒、10秒、5
秒、5秒、および5秒に設定されている。すなわち、圧
力保持期間T2、T4、およびT6の比は1:1:1に
設定されている。そして、接着剤5による封止部分のギ
ャップGと上記シール線幅W(図9参照)とを均一にし
てその封止品質を確保するためには、上記各圧力の値に
対しては±20%以内の範囲、また上記各期間に対して
は±50%以内の範囲でそれら各値を設定することが望
ましいことが発明者によって確認されている。また、紫
外線の照射期間T7については、たとえば紫外線照度約
100mW/cm2の場合、これを60秒に設定するこ
とで、接着剤5の十分な硬化が得られることが確認され
ている。
【0060】なお便宜上、上記各圧力についてはこれを
1cm2あたりに印加される力を重量kgで表した値、
すなわち[kgw/cm2]にて表記したが、これらは
各値に定数98066.5を乗じることによりSI単位
系に基づく圧力単位であるパスカル[Pa]に変換され
る。たとえば、0.2kgw/cm2は19.6kPa
に、0.4kgw/cm2は39.2kPaに、また
0.5kgw/cm2は49.0kPaに変換される。
【0061】この第2の実施の形態においてはこのよう
に、ガラス基板1および封止用ガラス4間に段階的に圧
力を印加したのち接着剤5を硬化させるため、同接着剤
5によるガラス基板1および封止用ガラス4の封止部分
において、より均一なギャップGおよびシール線幅Wが
得られるようになる。
【0062】ここで参考までに、上記封止部分において
こうした均一なギャップGおよびシール線幅Wが得られ
る理由を、図5を参照して説明する。図5は、封止部分
において接着剤5がガラス基板1および封止用ガラス4
により押圧される状況を模式的に示したものである。図
5に示されるように、塗布直後の断面形状が略半円状を
なす接着剤5は、初期の段階では当接する上方のガラス
面との接触面積が小さい。このため、ガラス基板1に印
加される圧力が小さくてもこの接着剤5を容易に変形さ
せることができる(図4の期間T1参照)。しかし、こ
の封止部分が押圧されるにつれてギャップGが小さくな
ると、上方のガラス面との接触面積が大きくなり、より
大きな圧力が必要とされるようになる(図4の期間T
3、T5参照)。他方、粘度が高く弾力性を有する接着
剤5は、上記印加される圧力に対して一定の時間遅れを
もってゆっくりと変形する。そこで、印加する圧力を増
大させたのちに、その増大させた圧力を所定期間保持す
ることによって、接着剤5がその圧力変化に応じて変形
する時間を確保することができるようになる(図4の期
間T2、T4参照)。そののちに、次の段階の圧力に増
大されるため、接着剤5の形状変化はきわめて円滑なも
のとなり、おのずとギャップGとシール線幅Wとが均一
になるようになる。
【0063】また通常、封止空間内部は気体が存在し、
これがギャップGの縮小にともなって加圧され、外部に
排出されようとする。そしてこのことが、先の図10に
例示した封止不良(A)を引き起こす要因ともなってい
る。しかし上記方法の場合、圧力保持期間(図4の期間
T2、T4、T6)を通じてこの内部に存在する気体が
外部に排出される時間が確保されるため、封止完了時に
は封止空間内部は加圧された気体が残留することがな
い。すなわち、上記封止不良(A)の発生等も好適に回
避される。
【0064】なお、図5においては、封止用ガラス4上
に塗布された接着剤5の断面形状が、塗布直後、略半円
状であるとしたが、この断面形状が円形など他の形状で
あっても、基本的には同様のことがいえる。
【0065】また、単に封止品質を確保するうえでは、
上記圧力保持期間をもつことなく、ゆっくりと連続的に
印加圧力を増大させて所定の圧力に到達させることも可
能ではあるが、この場合には表示用パネルの製造にきわ
めて長い時間を要することになる。
【0066】また、この第2の実施の形態においても、
先の第1の実施の形態において説明した構成の有機EL
素子層を表示基板に形成し、これにより有機EL表示パ
ネルを構成することができる。
【0067】以上説明したように、この第2の実施の形
態にかかる表示用パネルの製造方法によれば、先の第1
の実施の形態によって得られる効果に加えてさらに以下
の効果が得られるようになる。
【0068】(6)ガラス基板1と封止用ガラス4とを
接着剤5により貼り合わせる際に、温度制御による接着
剤5の粘度調整に加えて、両者の貼り合わせ面を押圧す
る圧力の印加パターンを、圧力変更期間とそれに続く圧
力保持期間との繰り返しパターンとして設定した。これ
により、粘度の高い接着剤5が押圧された圧力に追従し
て変形する時間をより好適に確保することができ、ひい
てはさらに短い時間でその封止部分のギャップGおよび
シール線幅Wを均一なものとすることができるようにな
る。
【0069】(7)また、上記貼り合わせ面の加圧に際
して、封止される空間内に存在する気体が外部に排出さ
れる時間を上記圧力保持期間に確保することができる。
このため、封止空間内部に加圧された気体が残留するこ
とがなくなる。
【0070】(8)こうして得られるギャップGおよび
シール線幅Wの均一な封止部分はよりいっそう信頼性の
高いものであり、表示用パネルとしての所定の特性を長
期にわたり維持することができるようにもなる。
【0071】(その他の実施の形態)なお、上記各実施
の形態は以下のように変更して実施してもよい。 ・上記各実施の形態においては、チャンバ20の内部に
充満させる気体として窒素ガスを用いる場合について例
示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。水
分の含有率が低く表示基板3に対して悪影響を及ぼすこ
とのない不活性の気体であれば、どのような気体をもこ
の窒素ガスに代わる気体として用いることができる。
【0072】・上記各実施の形態においては、有機EL
素子が形成された表示基板3を封止する場合について例
示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。発
光用素子として無機EL素子が形成された表示基板であ
ってもよいし、また、たとえば液晶表示基板やプラズマ
表示基板であっても、その封止に本発明を適用すること
はできる。また、表示用素子の形成面となる基板の材質
は、上記各実施の形態において例示したガラス基板1の
ように、ガラスに限らず、たとえば紫外線等を透過する
適宜の透明な樹脂基板であってもよい。
【0073】・また上記各実施の形態においては、表示
基板3を封止する封止部材として封止用ガラス4を用い
る場合について例示したが、必ずしもこれに限定される
ものではない。たとえば、金属のケース(メタルカン)
などで表示基板3を封止してもよい。その場合でも、そ
れら封止部材に合った適切な接着剤を選択するようにす
ればよい。
【0074】・さらに上記各実施の形態においては、表
示基板3と封止用ガラス4とを貼り合わせる紫外線硬化
性の接着剤としてエポキシ樹脂を使用した例について説
明したが、必ずしもこれに限定されるものではない。紫
外線の照射により硬化させることができ、表示基板3に
対して悪影響を及ぼすことのない紫外線硬化性の樹脂で
あれば、エポキシ樹脂に限らず、たとえばポリウレタン
樹脂やポリエステル樹脂、アクリル樹脂など、どのよう
な樹脂であっても上記接着剤として用いることができ
る。
【0075】・上記各実施の形態においては、表示基板
3に形成する素子層2の構成について例示したが、必ず
しもこの構成に限定されるものではなく、どのような構
成にて素子層を形成してもよい。
【0076】・上記第1の実施の形態においては、上記
封止を行う温度を35℃に設定する場合について例示し
たが、必ずしもこの温度に限定されるものではない。上
記封止を行う温度としては、表示基板3に形成されてい
る有機EL素子に特性劣化を与えず、かつ接着剤5が適
度な粘度となる27℃〜55℃の範囲に設定すればよ
く、また29℃〜40℃の範囲に設定するのがより好ま
しい。さらに、封止部分におけるギャップGおよびシー
ル線幅Wが均一にかつ安定的に得られ、またこの封止を
完了させる時間の短縮を図るためには、上記設定温度は
32℃〜38℃の範囲に設定するのがもっとも好まし
い。なお、上記第1の実施の形態にて示した物質を採用
して有機EL素子60を構成する場合には、それら各層
に特性劣化を与えることなく設定可能な上記封止温度は
最高で95℃である。
【0077】・さらに上記第1の実施の形態において
は、上記封止を行う温度を一定値に制御する場合につい
て例示したが、必ずしもこの制御方法に限定されるもの
ではない。同封止に用いられる接着剤5の粘度が、その
封止のために適したものとなるようにその温度を積極的
に変化させても、上記第1の実施の形態において得られ
る効果と同等の効果を得ることができるようになる。こ
の場合であれ、たとえばEL素子などの表示用素子の特
性に影響を及ぼさない範囲内で温度を制御することが望
ましい。
【0078】・上記第2の実施の形態において、接着剤
5の粘度を低くするための温度制御は、チャンバ20内
に充満させる窒素ガスの温度を制御することによって行
う例にて説明したが、必ずしもこれに限定されるもので
はない。たとえば、図6および図7にそれぞれ示すよう
に、ヒータや赤外線などを利用して接着剤5を局所的に
加熱するようにしてもよい。これにより、有機EL素子
を加熱することによる特性劣化を最小限に抑制すること
ができるようになる。ちなみに、図6の例においては、
封止用ガラス4上において接着剤5が塗布されている部
位下方の石英ガラス11a内にヒータ27を埋設するよ
うにしている。この場合、石英ガラス11a内部に埋設
するのは上記ヒータ27に代えてヒートパイプなど他の
熱源であってもよい。また、図7の例においては、赤外
線光源28から照射された赤外線が赤外線照射マスク2
9を通って接着剤5のみに照射されるようにしている。
こうした製造方法によれば、いずれも接着剤5を局所的
に加熱することができるため、有機EL素子の温度上昇
を最小限に抑制して有機EL表示装置としての品質を確
保しつつ、その表示用パネルの製造時間を短縮すること
ができるようになる。なお、図6または図7に示される
装置構成から加圧制御装置25を削除すれば、これらは
ともに第1の実施の形態の変形例を実施することのでき
る装置構成となる。
【0079】・上記第2の実施の形態においては、最後
の圧力保持期間T6をガラス基板1と封止用ガラス4と
の貼り合わせ面間のギャップGが所定の値(目標値)に
到達するまでの時間として設定したが、必ずしもこれに
限定されるものではない。たとえば、ギャップGを監視
するセンサ等をさらに備えて、そのセンサ等からのギャ
ップGのフィードバック値に基づいて接着剤5の硬化処
理を開始してもよい。これにより、ギャップGが目標値
になったのちにただちに接着剤5を硬化させることがで
きるため、上記封止にかかる時間をさらに短縮すること
ができるようになる。そしてさらには、接着剤5を硬化
させる処理は、必ずしもギャップGが目標値に到達した
のちでなくてもよく、硬化処理中にギャップGが目標値
に到達することを見越した設定としてもよい。
【0080】・上記第2の実施の形態においては、ガラ
ス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面に印加する
圧力の印加パターンについてそれぞれその一例を示した
が、必ずしもそれらパターンに限定されるものではな
い。たとえば、圧力保持期間を1:1:1などのように
独立に設定したり、あるいは上記圧力変更期間と圧力保
持期間とを2回、または4回以上繰り返すなどの圧力印
加パターンとしてもよい。また、最後の圧力変更期間で
の圧力変化量(増大量)についても、これを必ずしもそ
れ以前の圧力変更期間での圧力変化量(増大量)よりも
小さくする必要はない。また、上記圧力変更期間におけ
る圧力変化速度を一定にする必要もない。すなわち、圧
力変更期間の少なくとも一期間において、その圧力変化
速度を積極的に可変としてもよい。さらに、上記印加圧
力を目標値に到達させる際に、必ずしも同圧力を単調に
増大させる必要はなく、場合によっては同圧力を減少さ
せる期間が存在してもよい。要は、ガラス基板1と封止
用ガラス4との貼り合わせ面を押圧する圧力の段階的な
印加に基づいて同ガラス基板1と封止用ガラス4とのギ
ャップGおよびシール線幅Wが均一かつ安定的に得られ
さえすればよい。
【0081】・上記第2の実施の形態においては、圧力
保持期間を設けることで接着剤5が押圧圧力に追従して
変形する期間を確保したが、必ずしもこれに限定される
ものではない。接着剤5が変形する期間、ガラス基板1
(支持部材7)の移動を停止するようにしてもよい。
【0082】
【発明の効果】請求項1記載の表示用パネルの製造方法
によれば、前記接着剤として使用する紫外線硬化性樹
脂、たとえばカチオン重合により硬化する紫外線硬化性
樹脂の温度を制御することができる。このため、上記接
着剤が常温で粘度の高いものであっても、その温度を適
切に制御することによりその粘度を調整して、前記表示
基板と前記封止部材との貼り合わせ面への圧力の印加を
円滑に行うことができるようになる。また、上記接着剤
の硬化処理にあたってはこれを加熱する必要がなく、上
記表示基板に形成される表示用素子が耐熱性の低い特性
を有していたとしても、その表示用素子の特性劣化を招
くことなく同表示基板を好適に上記封止部材にて封止す
ることができるようになる。
【0083】また、請求項2記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記表示基板と封止部材との貼り合わせ
面への圧力の印加をより迅速かつ円滑に行うことができ
るようになる。
【0084】また、請求項3記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記表示基板と封止部材との貼り合わせ
面への圧力印加時に、両者を封止する接着剤の温度を適
切に制御するため、両者のギャップを確実に均一なもの
とすることができるようになる。
【0085】また、請求項4記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記表示用素子としてEL素子を有して
形成され、上記所定の温度が同EL素子としての素子特
性に影響を及ぼさない温度に設定される。このため、耐
熱性の低いEL素子を利用した表示用パネルにあって
も、上記表示基板の封止を高温にすることなく好適に行
うことができるようになる。
【0086】また、請求項5記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記貼り合わせ面に対する圧力の印加態
様に応じて上記接着剤に付与する温度を可変とするた
め、同接着剤の粘度を自由度高く調整することができる
ようになる。このため、上記表示基板の封止部材による
封止を迅速かつ円滑に行えるようになる。
【0087】また、請求項6記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記表示用素子としてEL素子を有して
形成され、上記所定の温度が同EL素子としての素子特
性に影響を及ぼさない温度に設定される。このため、耐
熱性の低いEL素子を利用した表示用パネルにあって
も、上記表示基板の封止を高温にすることなく好適に行
うことができるようになる。
【0088】また、請求項7記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記印加する圧力の段階的変化に応じて
上記ギャップに塗布される上記接着剤の形状も段階的に
変化するようになる。これにより、上記封止部材と表示
基板とにより封止される内部空間に存在する気体が排出
される期間が確保され、上記接着剤が粘度の高いもので
あっても上記圧力を円滑に印加することができるように
なる。したがって、上記ギャップ距離、ひいては上記貼
り合わせ面を封止する接着剤の当接幅を均一なものとす
ることができ、確実で信頼性の高い表示基板の封止を迅
速に行えるようになる。
【0089】また、請求項8記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記貼り合わせ面に印加する圧力の段階
的変化として、圧力を変化させる圧力変更期間とそれに
続いて一定の圧力を保持する圧力保持期間とが交互に繰
り返されるため、貼り合わせ面の加圧にともなって接着
剤がより円滑に追従して変形できるようになる。これに
より、上記表示基板の封止をより迅速かつ確実に行える
ようになる。
【0090】また、請求項9記載の表示用パネルの製造
方法によれば、上記各圧力保持期間が相互に独立に設定
されるため、上記印加される圧力が増大するにつれて上
記接着剤が追従して変形する期間を長くするなど、接着
剤の変形に適したかたちで自由度高く圧力の印加パター
ンを設定することができるようになる。
【0091】また、請求項10記載の表示用パネルの製
造方法によれば、上記圧力変更期間での圧力変化量がそ
れぞれ独立に設定されるため、より自由度の高い圧力の
印加パターンを設定することができ、用いられる接着剤
に応じてより的確な圧力を印加することができるように
なる。
【0092】また、請求項11記載の表示用パネルの製
造方法によれば、最後の圧力変更期間での圧力変化量を
他の圧力変更期間での圧力変化量よりも小さくするた
め、それに対応した接着剤の形状変化量も小さくするこ
とができる。したがって、貼り合わせ面への印加圧力が
目標値に到達したときには、そのギャップ距離は目標値
にきわめて近い値で安定したものとなる。
【0093】また、請求項12記載の表示用パネルの製
造方法によれば、上記圧力変更期間の少なくとも一期間
においてその圧力変化速度が可変とされるため、より自
由度の高い圧力の印加パターンを設定することができ、
用いられる接着剤に応じてより的確な圧力を印加するこ
とができるようになる。
【0094】そして、請求項13記載の表示用パネルの
製造方法によれば、上記圧力変更期間と圧力保持期間と
を交互に3回繰り返すことにより、貼り合わせ面に簡素
な圧力の印加パターンにより上記貼り合わせ面への印加
圧力を迅速に目標値に到達させることができ、同貼り合
わせに工程のタクトタイムを短縮化することができるよ
うになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる表示用パネルの製造方法の第1
の実施の形態についてこれを実施するための装置構成例
を示す説明図。
【図2】同第1の実施の形態について接着剤として用い
られるカチオン系紫外線硬化性エポキシ樹脂の粘度と温
度との関係を示すグラフ。
【図3】本発明にかかる表示用パネルの製造方法の第2
の実施の形態についてこれを実施するための装置構成例
を示す説明図。
【図4】同第2の実施の形態について表示基板と封止用
ガラスとの貼り合わせ面を押圧する圧力の印加パターン
例を示すタイムチャート。
【図5】接着剤の変形態様を説明するための略図断面
図。
【図6】同第2の実施の形態の変形例についてこれを実
施するための装置構成例を示す説明図。
【図7】同第2の実施の形態の変形例についてこれを実
施するための装置構成例を示す説明図。
【図8】一般の表示用パネルの製造方法としてガラス基
板上に形成された複数の表示基板の封止用ガラスによる
封止態様を示す説明図。
【図9】上記ガラス基板と封止用ガラスとを貼り合わせ
たときの断面状態を模式的に拡大して示す断面図。
【図10】従来の表示用パネルの製造方法による封止不
良の例を示す平面図。
【図11】有機EL表示用パネルの素子層の構成例を示
す平面図。
【図12】有機EL表示用パネルの素子層の構成例を示
す断面図。
【符号の説明】
1…ガラス基板、2…素子面、3…表示基板、4…封止
用ガラス、5…接着剤、6…掘削部、7…支持部材、1
1、11a…石英ガラス、20…チャンバ、21a…ガ
ス導入口、21b…ガス排出口、22…CCDカメラ、
23…紫外線光源、24…温度調節器、25…赤外線光
源、26…赤外線照射マスク、27…ヒータ、38…ス
ペーサ、39…位置合わせマーク。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】表示領域に表示用素子が形成された表示基
    板の素子面と該素子面に対向して配置した封止部材とを
    前記表示領域を囲繞する態様で塗布した接着剤を介して
    貼り合わせたのち、この貼り合わせ面に圧力を加えると
    ともに前記接着剤を硬化させる表示用パネルの製造方法
    であって、 前記接着剤として紫外線硬化性樹脂を用い、該接着剤の
    硬化を紫外線照射によって行うとともに、該紫外線照射
    以前に前記接着剤に対する温度制御を行うことを特徴と
    する表示用パネルの製造方法。
  2. 【請求項2】前記温度制御として、少なくとも前記封止
    部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加前
    に、前記接着剤を所定の温度に加熱する処理を行うこと
    を特徴とする請求項1記載の表示用パネルの製造方法。
  3. 【請求項3】前記温度制御として、前記接着剤を所定の
    温度に加熱しつつ、前記封止部材と表示基板との貼り合
    わせ面に対する圧力の印加を行うことを特徴とする請求
    項1記載の表示用パネルの製造方法。
  4. 【請求項4】前記表示基板が、前記表示用素子としてエ
    レクトロルミネッセンス素子を有して形成され、前記所
    定の温度が、前記エレクトロルミネッセンス素子として
    の素子特性に影響を及ぼさない温度に設定されることを
    特徴とする請求項2または3記載の表示用パネルの製造
    方法。
  5. 【請求項5】前記温度制御として、前記封止部材と表示
    基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加態様に応じて
    前記接着剤に付与する温度を可変とする制御を行うこと
    を特徴とする請求項1記載の表示用パネルの製造方法。
  6. 【請求項6】前記表示基板が、前記表示用素子としてエ
    レクトロルミネッセンス素子を有して形成され、前記可
    変とされる前記接着剤に付与する温度が、前記エレクト
    ロルミネッセンス素子としての素子特性に影響を及ぼさ
    ない温度の範囲で設定されることを特徴とする請求項5
    記載の表示用パネルの製造方法。
  7. 【請求項7】前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面
    に印加する圧力をそれら封止部材と表示基板とのギャッ
    プが前記目標値に到達するまで段階的に変化させること
    を特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の表示用パ
    ネルの製造方法。
  8. 【請求項8】前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面
    に印加する圧力の段階的な変化が、同印加する圧力を連
    続的に変化せしめる圧力変更期間と、この変化した圧力
    を一定に保持する圧力保持期間との複数回の繰り返しと
    して行われることを特徴とする請求項7記載の表示用パ
    ネルの製造方法。
  9. 【請求項9】前記各圧力保持期間は、相互に独立に設定
    されることを特徴とする請求項8記載の表示用パネルの
    製造方法。
  10. 【請求項10】前記圧力変更期間での圧力変化量が、そ
    れら各圧力変更期間ごとに独立に設定されることを特徴
    とする請求項8または9記載の表示用パネルの製造方
    法。
  11. 【請求項11】前記各圧力変更期間での圧力変化量のう
    ち、最後の圧力変更期間での圧力変化量を他の圧力変更
    期間での圧力変化量よりも小とすることを特徴とする請
    求項10記載の表示用パネルの製造方法。
  12. 【請求項12】前記圧力変更期間の少なくとも一期間に
    おいて、その圧力変化速度が可変とされることを特徴と
    する請求項8〜11のいずれかに記載の表示用パネルの
    製造方法。
  13. 【請求項13】前記封止部材と表示基板との貼り合わせ
    面に印加する圧力の段階的な変化が、前記圧力変更期間
    と前記圧力保持期間との各3回の繰り返しとして行われ
    ることを特徴とする請求項8〜12のいずれかに記載の
    表示用パネルの製造方法。
JP2001198921A 2001-06-29 2001-06-29 表示用パネルの製造方法 Withdrawn JP2003015552A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001198921A JP2003015552A (ja) 2001-06-29 2001-06-29 表示用パネルの製造方法
TW091112759A TW588566B (en) 2001-06-29 2002-06-12 Method for preparing display panel
US10/183,252 US7106409B2 (en) 2001-06-29 2002-06-27 Method for manufacturing display device
CNB021251649A CN1184521C (zh) 2001-06-29 2002-06-28 显示面板的制造方法
KR10-2002-0036798A KR100521285B1 (ko) 2001-06-29 2002-06-28 표시용 패널의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001198921A JP2003015552A (ja) 2001-06-29 2001-06-29 表示用パネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003015552A true JP2003015552A (ja) 2003-01-17
JP2003015552A5 JP2003015552A5 (ja) 2008-08-07

Family

ID=19036278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001198921A Withdrawn JP2003015552A (ja) 2001-06-29 2001-06-29 表示用パネルの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7106409B2 (ja)
JP (1) JP2003015552A (ja)
KR (1) KR100521285B1 (ja)
CN (1) CN1184521C (ja)
TW (1) TW588566B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004030415A1 (ja) * 2002-09-27 2004-04-08 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. El素子用封止板多面取り用マザーガラス基板、及びel素子用ガラス基板多面取り用マザーガラス基板
WO2004034747A1 (ja) * 2002-10-08 2004-04-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. ガラス板のアライメントマーク形成法、及び該形成法により形成されたアライメントマーク
KR20040070976A (ko) * 2003-02-05 2004-08-11 주식회사 엘리아테크 스티커형 봉지필름을 사용한 유기 전계발광 표시 패널 및그 제조방법

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4894987B2 (ja) * 2001-06-29 2012-03-14 三洋電機株式会社 表示用パネルの製造方法
JP4614588B2 (ja) 2001-06-29 2011-01-19 三洋電機株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
KR100477745B1 (ko) * 2002-05-23 2005-03-18 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계발광 소자의 봉지방법 및 이를 이용하는 유기전계발광 패널
KR100934153B1 (ko) * 2003-04-03 2009-12-29 주식회사 동진쎄미켐 유기 전기발광 소자의 캡 상의 접착제층 형성방법 및 이를적용한 유기 전기발광 소자의 제조방법
KR100688830B1 (ko) * 2005-09-20 2007-03-02 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시소자의 제조 방법 및 그 제조 장치
KR100839964B1 (ko) * 2006-11-01 2008-06-19 (주)유니젯 평판 디스플레이 장치
KR101362135B1 (ko) 2006-12-29 2014-02-12 엘지디스플레이 주식회사 발광 표시장치의 제조장치 및 제조방법
DE102007031428A1 (de) * 2007-07-05 2008-12-24 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Kavitäten für integrierte elektronische Schaltungen und verfahrensgemäß herstellbare Erzeugnisse
JP2010107935A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Samsung Mobile Display Co Ltd 平板表示装置及びその製造方法
JP5260395B2 (ja) * 2009-04-14 2013-08-14 常陽工学株式会社 封止装置
TW201114317A (en) * 2009-10-07 2011-04-16 Au Optronics Corp Organic electro-luminescent device and packaging process thereof
CN102478727B (zh) * 2010-11-28 2016-04-06 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控显示装置的制造方法与显示装置、触控显示装置
US20120201971A1 (en) * 2011-02-07 2012-08-09 Dmk Co., Ltd. Method of coalescing transparent substrate and display device and dam pattern forming apparatus
KR101441452B1 (ko) * 2013-05-21 2014-11-03 박웅기 전자부품용 패널의 접착 장치
CN104020614B (zh) 2014-05-29 2017-03-08 合肥鑫晟光电科技有限公司 液晶填充装置及应用其的液晶面板制造设备
CN104821377B (zh) * 2015-05-05 2017-07-21 合肥京东方光电科技有限公司 贴片封装装置及方法
CN106293170A (zh) * 2015-05-18 2017-01-04 中兴通讯股份有限公司 显示面板、电子设备及应用于电子设备的触控感应方法
TW202103940A (zh) * 2018-12-18 2021-02-01 德商馬克專利公司 包含可切換裝置的鑲嵌玻璃、積層結構及用於製造鑲嵌玻璃的方法

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640583A (en) 1983-07-22 1987-02-03 Kabushiki Kaisha Seiko Epson Display panel having an inner and an outer seal and process for the production thereof
JPH0734123B2 (ja) 1988-03-04 1995-04-12 富士電機株式会社 電子写真用感光体の製造方法
JPH03156888A (ja) 1989-08-28 1991-07-04 Toshiba Corp 分散型elパネル及びその製造方法
US5246789A (en) 1989-08-28 1993-09-21 Kabushiki Kaisha Toshiba AC powder type EL panel and method of manufacturing the same
US5239228A (en) 1990-07-02 1993-08-24 Sharp Kabushiki Kaisha Thin-film electroluminescence device for displaying multiple colors with groove for capturing adhesive
JPH04199129A (ja) 1990-11-29 1992-07-20 Toshiba Corp 液晶表示器の製造方法
US5499127A (en) 1992-05-25 1996-03-12 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device having a larger gap between the substrates in the display area than in the sealant area
JP3225700B2 (ja) 1992-08-04 2001-11-05 松下電器産業株式会社 液晶パネルの製造方法および製造装置
JP3412873B2 (ja) 1993-08-24 2003-06-03 キヤノン株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2795207B2 (ja) 1994-03-31 1998-09-10 株式会社デンソー エレクトロルミネッセンス表示器及びその製造方法
TW378276B (en) * 1995-01-13 2000-01-01 Seiko Epson Corp Liquid crystal display device and its fabrication method
US5697825A (en) 1995-09-29 1997-12-16 Micron Display Technology, Inc. Method for evacuating and sealing field emission displays
TW439007B (en) * 1996-09-11 2001-06-07 Canon Kk Process and apparatus for producing electrode plate and process for producing liquid crystal device including the plate
US5959712A (en) 1997-07-11 1999-09-28 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing a liquid crystal display element having a decreased fluctuation of aperture ratio
US6268071B1 (en) 1997-08-29 2001-07-31 Tdk Corporation Organic electroluminescent device
JPH11121170A (ja) * 1997-10-15 1999-04-30 Tdk Corp 有機el素子およびその製造方法
JPH11264991A (ja) * 1998-01-13 1999-09-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP2000003783A (ja) 1998-06-12 2000-01-07 Tdk Corp 有機el表示装置
JP3196733B2 (ja) 1998-07-24 2001-08-06 日本電気株式会社 液晶表示素子セルのセルギャップ形成方法および装置
JP2000173766A (ja) 1998-09-30 2000-06-23 Sanyo Electric Co Ltd 表示装置
TWI235863B (en) 1998-11-30 2005-07-11 Toshiba Corp Manufacturing method of liquid crystal lattice
JP2001035654A (ja) 1999-07-15 2001-02-09 Sony Corp 表示パネル及びその製造方法
US6833668B1 (en) 1999-09-29 2004-12-21 Sanyo Electric Co., Ltd. Electroluminescence display device having a desiccant
US6624570B1 (en) 1999-09-29 2003-09-23 Sanyo Electric Co., Ltd. Electroluminescent display device and method for its fabrication
JP2001102167A (ja) 1999-09-29 2001-04-13 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2001155855A (ja) 1999-11-24 2001-06-08 Toyota Motor Corp 有機el素子の封止方法
TW452952B (en) 2000-03-30 2001-09-01 Delta Optoelectronics Inc Packaging method of electro-luminescent device
JP4112779B2 (ja) * 2000-05-31 2008-07-02 三星エスディアイ株式会社 有機el素子の製造方法
KR100759973B1 (ko) * 2001-02-06 2007-09-18 삼성전자주식회사 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100480819B1 (ko) * 2002-03-20 2005-04-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 합착기 챔버의 크리닝 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004030415A1 (ja) * 2002-09-27 2004-04-08 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. El素子用封止板多面取り用マザーガラス基板、及びel素子用ガラス基板多面取り用マザーガラス基板
WO2004034747A1 (ja) * 2002-10-08 2004-04-22 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. ガラス板のアライメントマーク形成法、及び該形成法により形成されたアライメントマーク
KR20040070976A (ko) * 2003-02-05 2004-08-11 주식회사 엘리아테크 스티커형 봉지필름을 사용한 유기 전계발광 표시 패널 및그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
TW588566B (en) 2004-05-21
KR100521285B1 (ko) 2005-10-17
US7106409B2 (en) 2006-09-12
KR20030003073A (ko) 2003-01-09
CN1184521C (zh) 2005-01-12
US20030011737A1 (en) 2003-01-16
CN1395134A (zh) 2003-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4894987B2 (ja) 表示用パネルの製造方法
JP2003015552A (ja) 表示用パネルの製造方法
JP2003017259A (ja) エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法
KR101089487B1 (ko) 자체 발광 패널의 제조 방법
KR100689199B1 (ko) 유기발광소자의 봉지방법 및 장치
KR101135538B1 (ko) 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
US20090066242A1 (en) Display device
KR100512505B1 (ko) 일렉트로 루미네센스 표시 장치의 제조 방법
JP2006253097A (ja) 自発光パネルおよび自発光パネルの製造方法
JP2013125718A (ja) 表示装置及びその製造方法
US20070155274A1 (en) Method of fabricating organic electroluminescent display device
KR102216675B1 (ko) 디스플레이 패널의 리페어 장치 및 디스플레이 패널의 리페어 방법
US9972781B2 (en) Method of manufacturing mask and method of manufacturing display device
JP2007250459A (ja) エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法
JP2008066026A (ja) 有機elディスプレイパネルの製造方法
KR100627298B1 (ko) 유기 발광 표시장치의 인캡 글라스 접합장치 및 접합 방법
KR102006689B1 (ko) 유기전계 발광소자의 제조 방법
KR20080086577A (ko) 유기발광다이오드 소자와 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20051226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080619

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080619

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100121