JP2003015163A

JP2003015163A - エレクトロクロミック素子

Info

Publication number: JP2003015163A
Application number: JP2001195035A
Authority: JP
Inventors: Takaya Kubo; 貴哉久保; Masaki Minami; 昌樹南; Yoshinori Nishikitani; 禎範錦谷
Original assignee: Nippon Oil Corp
Current assignee: Eneos Corp
Priority date: 2001-06-27
Filing date: 2001-06-27
Publication date: 2003-01-15
Also published as: WO2003003110A1

Abstract

(57)【要約】【課題】均一な電極間隔を有するセルを作製するため
にビーズなどのスペーサー材料のセル内への配置を必ず
しも必須としないエレクトロクロミック素子を提供す
る。【解決手段】２枚の透明導電性基板にイオン伝導層が
挟持されているエレクトロクロミック素子であって、前
記導電性基板の少なくとも一方にエレクトロクロミック
層を有し、前記イオン伝導層が、ポリフッ化ビニリデン
系高分子マトリックス中に、（ａ）支持電解質および溶
媒、（ｂ）常温溶融塩、および（ｃ）常温溶融塩および
溶媒、から選ばれる少なくとも1種以上のイオン伝導性
物質を含有してなるイオン伝導性シートであることを特
徴とするエレクトロクロミック素子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な構成のエレ
クトロクロミック素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、各種調光素子や表示素子等に
応用されるエレクトロクロミック素子としては、種々の
ものが提案されている。例えば、透明導電性基板（透明
導電膜付透明基板）、酸化発色型（または還元発色型）
エレクトロクロミック膜、電解質、対極基板が順次設け
らた構成の素子や、透明導電性基板、エレクトロクロミ
ック化合物を含有する電解質、対極基板が順次設けられ
ている素子などが代表的な構成として挙げられる。エレ
クトロクロミック素子を作製する場合は、特開昭６３−
１３９３２１号公報や特開平２−１５５１７３号公報な
どに開示されている公知の方法で作製することができ
る。つまり、２枚の電極を均一な間隔で保持したセルを
作製し、電解液を注入・硬化する工程が用いられてい
る。しかしながら、この方法では均一な電極間隔を有す
るセルを作製するためには、ビーズなどのスペーサー材
料をセル内に配置する必要があり、このスペーサー材料
が視覚的な快適さを低減させるという問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような実
状に鑑み成されたものであり、均一な電極間隔を有する
セルを作製するためにビーズなどのスペーサー材料のセ
ル内への配置を必ずしも必須としないエレクトロクロミ
ック素子を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記のよう
な従来の問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特
定のイオン伝導性シートを用いたエレクトロクロミック
素子が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完
成するに至った。すなわち、本発明は２枚の透明導電性
基板にイオン伝導層が挟持されているエレクトロクロミ
ック素子であって、前記導電性基板の少なくとも一方に
エレクトロクロミック層を有し、前記イオン伝導層が、
ポリフッ化ビニリデン系高分子マトリックス中に、
（ａ）支持電解質および溶媒、（ｂ）常温溶融塩、およ
び（ｃ）常温溶融塩および溶媒、から選ばれる少なくと
も１種以上のイオン伝導性物質を含有してなるイオン伝
導性シートであることを特徴とするエレクトロクロミッ
ク素子に関する。さらには、一方の導電性基板の導電面
上に導電性微粒子をバインダーで結着した部材が配置さ
れていることを特徴とする前記記載のエレクトロクロミ
ック素子に関する。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明のエレクトロクロミック素子は、２枚の透
明導電性基板にイオン伝導層が挟持されているエレクト
ロクロミック素子であって、前記導電性基板の少なくと
も一方にエレクトロクロミック層を有し、前記イオン伝
導層が、ポリフッ化ビニリデン系高分子マトリックス中
に、（ａ）支持電解質および溶媒、（ｂ）常温溶融塩、
および（ｃ）常温溶融塩および溶媒、から選ばれる少な
くとも１種以上のイオン伝導性物質を含有してなるイオ
ン伝導性シートであることを特徴とする。

【０００６】まず、本発明のイオン伝導性シートについ
て説明する。本発明のイオン伝導性シートは、特定の高
分子化合物からなる高分子マトリックス中に、（ａ）支
持電解質および溶媒、（ｂ）常温溶融塩、および（ｃ）
常温溶融塩および溶媒、から選ばれる少なくとも１種以
上のイオン伝導性物質を含有してなることを特徴とす
る。本発明のイオン伝導性シートにおいては、（ａ）支
持電解質と溶媒、（ｂ）常温溶融塩、（ｃ）常温溶融塩
と溶媒、から選ばれる少なくとも１種以上のイオン伝導
性物質、あるいはさらに所望により添加する他の成分
が、ポリフッ化ビニリデン系高分子化合物からなる高分
子マトリックス中に保持されることによって固体状態ま
たはゲル状態が形成される。

【０００７】本発明において高分子マトリックスとして
使用するポリフッ化ビニリデン系高分子化合物として
は、フッ化ビニリデンの単独重合体、あるいはフッ化ビ
ニリデンと他の重合性モノマー、好適にはラジカル重合
性モノマーとの共重合体を挙げることができる。フッ化
ビニリデンと共重合させる他の重合性モノマー（以下、
共重合性モノマーという。）としては、具体的には、ヘ
キサフロロプロピレン、テトラフロロエチレン、トリフ
ロロエチレン、エチレン、プロピレン、アクリロニトリ
ル、塩化ビニリデン、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、メチルメタクリレート、スチレンなどを例示
することができる。

【０００８】これらの共重合性モノマーは、モノマー全
量に対して１〜５０ｍｏｌ％、好ましくは１〜２５ｍｏ
ｌ％の範囲で使用することができる。共重合性モノマー
としては、好適にはヘキサフロロプロピレンが用いられ
る。本発明においては、特にフッ化ビニリデンにヘキサ
フロロプロピレンを１〜２５ｍｏｌ％共重合させたフッ
化ビニリデン−ヘキサフロロプロピレン共重合体を高分
子マトリックスとするイオン伝導性フィルムとして好ま
しく用いることができる。また共重合比の異なる２種類
以上のフッ化ビニリデン−ヘキサフロロプロピレン共重
合体を混合して使用しても良い。

【０００９】また、これらの共重合性モノマーを２種類
以上用いてフッ化ビニリデンと共重合させることもでき
る。例えば、フッ化ビニリデン＋ヘキサフロロプロピレ
ン＋テトラフロロエチレン、フッ化ビニリデン＋テトラ
フロロエチレン＋エチレン、フッ化ビニリデン＋テトラ
フロロエチレン＋プロピレンなどの組み合わせで共重合
させて得られる共重合体を使用することもできる。

【００１０】さらに、本発明においては高分子マトリッ
クスとしてポリフッ化ビニリデン系高分子化合物に、ポ
リアクリレート系高分子化合物、ポリアクリロニトリル
系高分子化合物およびポリエーテル系高分子化合物から
選ばれる高分子化合物を１種類以上混合して使用するこ
ともできる。このときの混合割合は、ポリフッ化ビニリ
デン系高分子化合物１００質量部に対して、前記高分子
化合物を通常２００質量部以下混合することができる。

【００１１】本発明において用いられるポリフッ化ビニ
リデン系高分子化合物の数平均分子量は、通常１０，０
００〜２，０００，０００であり、好ましくは１００，
０００〜１，０００，０００の範囲のものが好適に使用
することができる。

【００１２】次に、イオン伝導性物質について説明す
る。本発明のイオン伝導性物質としては、（ａ）支持電
解質および溶媒、（ｂ）常温溶融塩、および（ｃ）常温
溶融塩および溶媒、から選ばれる少なくとも１種以上の
イオン伝導性物質が用いられる。本発明において用いら
れる支持電解質としては、電気化学の分野又は電池の分
野で通常使用される塩類、酸類、アルカリ類が使用でき
る。

【００１３】塩類としては、特に制限はなく、例えば、
アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン
塩；４級アンモニウム塩；環状４級アンモニウム塩；４
級ホスホニウム塩などが使用でき、特にＬｉ塩が好まし
い。塩類の具体例としては、ハロゲンイオン、ＳＣ
Ｎ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-、（ＣＦ₃ＳＯ₂）
₂Ｎ^-、（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＣＨ₃
ＣＯＯ^-、ＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₄）ＳＯ₃ ^-、および（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ
₂）₃Ｃ^-から選ばれる対アニオンを有するＬｉ塩、Ｎａ
塩、あるいはＫ塩が挙げられる。またハロゲンイオン、
ＳＣＮ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-、（ＣＦ₃Ｓ
Ｏ₂）₂Ｎ^-、（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、
ＣＨ₃ＣＯＯ^-、ＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₄）ＳＯ₃ ^-、および（Ｃ₂Ｆ
₅ＳＯ₂）₃Ｃ^-から選ばれる対アニオンを有する４級アン
モニウム塩、具体的には、（ＣＨ₃）₄ＮＢＦ₄、（Ｃ₂Ｈ
₅）₄ＮＢＦ₄、（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄ＮＢＦ₄、（Ｃ₂Ｈ₅）₄Ｎ
Ｂｒ、（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＣｌＯ₄、（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄ＮＣｌ
Ｏ₄、ＣＨ₃（Ｃ₂Ｈ₅）₃ＮＢＦ₄、（ＣＨ₃）₂（Ｃ₂Ｈ₅）
₂ＮＢＦ ₄、（ＣＨ₃）₄ＮＳＯ₃ＣＦ₃、（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＳ
Ｏ₃ＣＦ₃、（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄ＮＳＯ₃ＣＦ₃、さらには、

【００１４】

【化１】

【００１５】等が挙げられる。またハロゲンイオン、Ｓ
ＣＮ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ＣＦ₃ＳＯ ₃ ^-、（ＣＦ₃Ｓ
Ｏ₂）₂Ｎ^-、（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、
ＣＨ₃ＣＯＯ^-、ＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₄）ＳＯ₃ ^-、および（Ｃ₂Ｆ
₅ＳＯ₂）₃Ｃ^-から選ばれる対アニオンを有するホスホニ
ウム塩、具体的には、（ＣＨ₃）₄ＰＢＦ₄、（Ｃ₂Ｈ₅）₄
ＰＢＦ₄、（Ｃ₃Ｈ₇）₄ＰＢＦ₄、（Ｃ₄Ｈ₉）₄ＰＢＦ₄等
が挙げられる。また、これらの混合物も好適に用いるこ
とができる。

【００１６】酸類も特に限定されず、無機酸、有機酸な
どが使用でき、具体的には硫酸、塩酸、リン酸類、スル
ホン酸類、カルボン酸類などが使用できる。アルカリ類
も特に限定されず、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウムなどがいずれも使用可能である。

【００１７】支持電解質の使用量は任意であるが、一般
的には、支持電解質は溶媒中に上限としては２０Ｍ以
下、好ましくは１０Ｍ以下、さらに好ましくは５Ｍ以下
存在していることが望ましく、下限としては通常０．０
１Ｍ以上、好ましくは０．０５Ｍ以上、さらに好ましく
は０．１Ｍ以上存在していることが望ましい。またイオ
ン伝導性シート中に、上限値として２０質量％以下、好
ましくは１０質量％以下、下限値としては、０．０１質
量％以上、好ましくは０．１質量％以上含有することが
好ましい。

【００１８】次に、本発明において用いる溶媒について
説明する。本発明において、（ａ）成分および（ｃ）成
分における溶媒としては、一般に電気化学セルや電池に
用いられる溶媒であればいずれも使用することができ
る。具体的には、無水酢酸、メタノール、エタノール、
テトラヒドロフラン、プロピレンカーボネート、ニトロ
メタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルホスホアミド、エチレ
ンカーボネート、ジメトキシエタン、γ−ブチロラクト
ン、γ−バレロラクトン、スルホラン、ジメトキシエタ
ン、プロピオンニトリル、グルタロニトリル、アジポニ
トリル、メトキシアセトニトリル、ジメチルアセトアミ
ド、メチルピロリジノン、ジメチルスルホキシド、ジオ
キソラン、スルホラン、リン酸トリメチル、リン酸トリ
エチル、リン酸トリプロピル、リン酸エチルジメチル、
リン酸トリブチル、リン酸トリペンチル、リン酸トリへ
キシル、リン酸トリヘプチル、リン酸トリオクチル、リ
ン酸トリノニル、リン酸トリデシル、リン酸トリス（ト
リフフロロメチル）、リン酸トリス（ペンタフロロエチ
ル）、リン酸トリフェニルポリエチレングリコール、及
びポリエチレングリコール等が使用可能である。特に、
プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ジメ
チルスルホキシド、ジメトキシエタン、アセトニトリ
ル、γ−ブチロラクトン、スルホラン、ジオキソラン、
ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、テトラヒド
ロフラン、アジポニトリル、メトキシアセトニトリル、
ジメチルアセトアミド、メチルピロリジノン、ジメチル
スルホキシド、ジオキソラン、スルホラン、リン酸トリ
メチル、リン酸トリエチルが好ましい。溶媒はその１種
を単独で使用しても良いし、また２種以上を混合して使
用しても良い。

【００１９】溶媒の使用量は特に制限はないが、通常、
イオン伝導性シート中に２０質量％以上、好ましくは５
０質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上であ
り、かつ９８質量％以下、好ましくは９５質量％以下、
さらに好ましくは９０質量％以下の量で含有させること
ができる。

【００２０】本発明に用られる常温溶融塩について説明
する。本発明において、（ｂ）成分および（ｃ）成分に
おける常温溶融塩とは、溶媒成分が含まれないイオン対
のみからなる常温において溶融している（即ち液状の）
イオン対からなる塩であり、通常、融点が２０℃以下で
あり、２０℃を越える温度で液状であるイオン対からな
る塩を示す。常温溶融塩はその１種を単独で使用するこ
とができ、また２種以上を混合しても使用することもで
きる。常温溶融塩の例としては、例えば、以下のものが
挙げられる。

【００２１】

【化２】

【００２２】（ここで、Ｒは炭素数２〜２０、好ましく
は２〜１０のアルキル基を示す。Ｘ^-はハロゲンイオ
ン、ＳＣＮ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、（ＣＦ₃ＳＯ₂）
₂Ｎ^-、（Ｃ₂Ｆ ₅ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＣＨ₃
ＣＯＯ^-、ＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₄）ＳＯ₃ ^-、および（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ
₂）₃Ｃ^-から選ばれる対アニオンを表す。）

【００２３】

【化３】

【００２４】（ここで、Ｒ１およびＲ２は各々炭素数１
〜１０のアルキル基（好ましくはメチル基またはエチル
基）、または炭素数７〜２０、好ましくは７〜１３のア
ラルキル基（好ましくはベンジル基）を示しており、互
いに同一でも異なっても良い。また、Ｘ^-は対アニオン
を示し、具体的にはハロゲンイオン、ＳＣＮ^-、ＣｌＯ₄
^-、ＢＦ₄ ^-、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-、（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）
₂Ｎ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＣＨ₃ＣＯＯ^-、ＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ
₄）ＳＯ₃ ^-、（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）₃Ｃ^-、Ｆ（ＨＦ）_2.3 ^-など
を示す。）

【００２５】

【化４】

【００２６】（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、各
々炭素数１以上、好ましくは炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数６〜１２のアリール基（フェニル基など）、
またはメトキシメチル基などを示し、互いに同一でも異
なってもよい。また、Ｘ^-は対アニオンを示し、具体的
にはハロゲンイオン、ＳＣＮ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、
（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-、（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＰＦ₆ ^-、
ＡｓＦ₆ ^-、ＣＨ₃ＣＯＯ^-、ＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₄）ＳＯ₃ ^-、
（Ｃ₂Ｆ₅ＳＯ₂）₃Ｃ^-、Ｆ（ＨＦ）_2.3 ^-など示す。）

【００２７】常温溶融塩の使用量は特に制限はないが、
通常、イオン伝導シート中に０．１質量％以上、好まし
くは１質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上で
あり、かつ７０質量％以下、好ましくは６０質量％以
下、さらに好ましくは５０質量％以下の量で含有させる
ことができる。

【００２８】本発明のイオン伝導性シートには、更に他
の成分を含有させることができる。含有させることがで
きる他の成分としては、紫外線吸収剤を挙げることがで
きる。用いることができる紫外線吸収剤としては、特に
限定されないが、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合
物、ベンゾフェノン骨格を有する化合物等の有機紫外線
吸収剤が代表的な物として挙げられる。

【００２９】ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物と
しては、例えば、下記の一般式（１）で表される化合物
が好適に挙げられる。

【００３０】

【化５】

【００３１】一般式（１）において、Ｒ⁸¹は、水素原
子、ハロゲン原子または炭素数１〜１０、好ましくは１
〜６のアルキル基を示す。ハロゲン原子としてはフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。アルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロ
ヘキシル基等を挙げることができる。Ｒ⁸¹の置換位置
は、ベンゾトリアゾール骨格の４位または５位である
が、ハロゲン原子およびアルキル基は通常４位に位置す
る。Ｒ⁸²は、水素原子または炭素数１〜１０、好ましく
は１〜６のアルキル基を示す。アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等を挙
げることができる。Ｒ⁸³は、炭素数１〜１０、好ましく
は１〜３のアルキレン基またはアルキリデン基を示す。
アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン
基、トリメチレン基、プロピレン基等を挙げることがで
き、またアルキリデン基としては、例えば、エチリデン
基、プロピリデン基等が挙げられる。

【００３２】一般式（１）で示される化合物の具体例と
しては、３−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−
ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸、３−（２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエ
チル）−４−ヒドロキシ−ベンゼンエタン酸、３−（２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ
ベンゼンエタン酸、３−（５−メチル−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール−２−イル）−５−（１−メチルエチル）−
４−ヒドロキシベンゼンプロパン酸、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、３−（５−クロロ−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチ
ルエチル）−４−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オク
チルエステル等が挙げられる。

【００３３】ベンゾフェノン骨格を有する化合物として
は、例えば、下記の一般式（２）〜（４）で示される化
合物が好適に挙げられる。

【００３４】

【化６】

【００３５】上記一般式（２）〜（４）において、
Ｒ⁹²、Ｒ⁹³、Ｒ⁹⁵、Ｒ⁹⁶、Ｒ⁹⁸、及びＲ ⁹⁹は、互いに同
一もしくは異なる基であって、ヒドロキシル基、炭素数
１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基またはアルコ
キシ基を示す。アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル
基、ｔ−ブチル基、及びシクロヘキシル基を挙げること
ができる。またアルコキシ基としては、例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、
及びブトキシ基を挙げることができる。Ｒ⁹¹、Ｒ⁹⁴、及
びＲ⁹⁷は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキ
レン基またはアルキリデン基を示す。アルキレン基とし
ては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、及びプロピレン基を挙げることができる。アルキリ
デン基としては、例えば、エチリデン基、及びプロピリ
デン基が挙げられる。ｐ１、ｐ２、ｐ３、ｑ１、ｑ２、
及びｑ３は、それぞれ別個に０乃至３の整数を表す。

【００３６】上記一般式（２）〜（４）で表されるベン
ゾフェノン骨格を有する化合物の好ましい例としては、
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−カ
ルボン酸、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン−５−カルボン酸、４−（２−ヒドロキシベ
ンゾイル）−３−ヒドロキシベンゼンプロパン酸、２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾ
フェノン等が挙げられる。もちろん、これらを二種以上
組み合わせて使用することができる。

【００３７】紫外線吸収剤の使用は任意であり、また使
用する場合の使用量も特に制限されるものではないが、
使用する場合はイオン伝導性シート中に０．１質量％以
上、好ましくは１質量％以上であり、２０質量％以下、
好ましくは１０質量％以下の範囲の量で含有させること
が望ましい。

【００３８】次に本発明のイオン伝導性シートを製造す
る方法について説明する。本発明のイオン伝導性シート
は、前記のイオン伝導性物質、および所望により紫外線
吸収剤等の任意成分を高分子マトリックス成分中に配合
することにより得られる混合物を、公知の方法によりシ
ートに成形することにより得ることが出来る。この場合
の成形方法としては特に限定されず、押出し成型、キャ
スト法によるフィルム状態で得る方法などを挙げること
ができる。押出し成型については常法により行うことが
でき、高分子マトリックスと電解液を混合し、過熱溶融
した後、フィルム成型することが行われる。キャスト法
については、高分子マトリックスと電解液を混合し、さ
らに適当な希釈剤にて粘度調整を行い、キャスト法に用
いられる通常のコータにて塗布し、乾燥することで成膜
することができる。コータとしては、ドクタコータ、ブ
レードコータ、ロッドコータ、ナイフコータ、リバース
ロールコータ、グラビアコータ、スプレイコータ、カー
テンコータを用いることができ、粘度および膜厚により
使い分けることができる。

【００３９】本発明におけるイオン伝導性シートは、イ
オン伝導度が、通常室温で１×１０ ^-7Ｓ／ｃｍ以上、好
ましくは１×１０^-6Ｓ／ｃｍ以上、さらに好ましくは１
×１０^-5Ｓ／ｃｍ以上を示す。イオン伝導度は、複素イ
ンピーダンス法などの一般的な手法で求めることができ
る。イオン伝導性シートの厚さは、エレクトロクロミッ
ク素子の用途により適宜選択され、特に限定されない
が、下限としては、通常１μｍ以上、好ましくは１０μ
ｍ以上であり、上限としては通常３ｍｍ以下、好ましく
は１ｍｍ以下である。

【００４０】また、本発明のイオン伝導性シートは、自
立性を有していることが望ましい。その場合、通常、２
５℃におけるその引張弾性率が５×１０⁴Ｎ／ｍ²以上、
好ましくは１×１０⁵Ｎ／ｍ²以上、最も好ましくは５×
１０⁵Ｎ／ｍ²以上である特性を有することが望ましい。
なお、この引張弾性率は、通常用いられる引張り試験機
で、２ｃｍ×５ｃｍの短冊状サンプルによって測定を行
った場合の値である。

【００４１】次に、透明導電性基板について説明する。
透明導電性基板は、通常、透明基板上に透明電極層を積
層させて製造される。透明基板としては、特に限定され
ず、材質、厚さ、寸法、形状等は目的に応じて適宜選択
することができ、例えば無色あるいは有色ガラス、網入
りガラス、ガラスブロック等が用いられる他、無色ある
いは有色の透明性を有する樹脂でも良い。具体的には、
ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリ
アミド、ポリスルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、
ポリカーボネート、ポリイミド、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリスチレン、トリ酢酸セルロース、ポリメチル
ペンテンなどが挙げられる。なお、本発明における透明
とは、１０〜１００％の透過率を有することであり、ま
た、本発明における基板とは、常温において平滑な面を
有するものであり、その面は平面あるいは曲面であって
もよく、また応力によって変形するものであってもよ
い。

【００４２】また、電極の導電層を形成する透明導電膜
としては、本発明の目的を果たすものである限り特に限
定されないが、例えば金、銀、クロム、銅、タングステ
ンなどの金属薄膜、金属酸化物からなる導電膜などが挙
げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化錫、酸化
亜鉛、酸化亜鉛や、これらに微量成分をドープしたIndi
um Tin Oxide（ＩＴＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃：Ｓｎ））、Fluorine
doped Tin Oxide（ＦＴＯ（ＳｎＯ₂：Ｆ））、Aluminu
m doped Zinc Oxide（ＡＺＯ（ＺｎＯ：Ａｌ））などが
好適なものとして用いられる。膜厚は通常、１００〜５
０００μｍ、好ましくは５００〜３０００μｍである。
また、表面抵抗（抵抗率）は、本発明の基板の用途によ
り適宜選択されるところであるが、通常、０．５〜５０
０Ω／ｓｑ、好ましくは２〜５０Ω／ｓｑである。

【００４３】透明電極膜の形成法としては、特に限定さ
れなく、導電層として用いる前述の金属や金属酸化物の
種類により適宜公知の方法が選択使用されるところであ
るが、通常、真空蒸着法、イオンプレーティング法、Ｃ
ＶＤあるいはスパッタリング法などが用いられる。いず
れの場合も基板温度２０〜７００℃の範囲内で形成され
るのが望ましい。

【００４４】本発明のエレクトロクロミック素子におい
ては、導電性基板の少なくとも一方にはエレクトロクロ
ミック層を有している。本発明におけるエレクトロクロ
ミック層を構成する材料としては、酸化発色型エレクト
ロクロミック性化合物、還元発色型エレクトロクロミッ
ク性化合物のいずれでもよく、金属酸化物の無機化合
物、各種有機エレクトロクロミック性化合物などが挙げ
られるが、特に限定されない。具体的には、酸化タング
ステン、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化イリジ
ウム、酸化チタンなどの遷移金属酸化物やこれらを任意
の割合で含む酸化膜が挙げられる。また、成膜方法はゾ
ルゲル法、電気化学的方法などの湿式法や蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法、パルスレーザ
ーディポジションなどの真空成膜方式を用いることがで
きる。また、有機エレクトロクロミック性化合物として
は、ポリチオフェン、オリゴチオフェン、ポリピロー
ル、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレン、ポリア
ニリンや、ビオロゲン、金属フタロシアニン、ピラゾリ
ン、フェニレンジアミン、フェナジン、フェノキサジ
ン、フェノチアジン、テトラチアフルバレン及びフェロ
セン、またはこれらの誘導体等のエレクトロクロミック
化合物を含有する高分子が挙げられる。もちろん、これ
らの化合物を二種以上組み合わせて使用することもで
き、また膜形成方法も公知の方法により製造することが
できる。

【００４５】本発明におけるエレクトロクロミック層の
厚さは、エレクトロクロミック化合物の種類やその他の
素子構成により適宜選択されるところであるが、通常
０．２μｍ〜２μｍ、好ましくは、０．３μｍ〜０．６
μｍ程度が望ましい。

【００４６】本発明のエレクトロクロミック素子におい
ては、透明導電性基板の少なくとも一方にエレクトロク
ロミック層を有するものであるが、エレクトロクロミッ
ク層を有する導電性基板と対向する導電性基板として
は、（ａ）導電性基板を用いる形態、（ｂ）他のエレク
トロクロミック層を有する導電性基板を用いる形態の
他、（ｃ）導電性基板の導電面上に導電性微粒子をバイ
ンダーで結着した部材が対向電極基板全体として、対向
電極全体として必要とされる光透過性（または光反射
性）が損なわれない程度に配置されている形態が挙げら
れる。上記（ｃ）の形態については、例えば、特開平６
―２８１９７０号公報、特開平１０―２３９７１６号公
報等に具体的に記載されている。

【００４７】なお、透明導電性基板の両方にエレクトロ
クロミック層を配置するケースにおいては、一方のエレ
クトロクロミック層が酸化性エレクトロクロミック層の
場合は、他方には還元性エレクトロクロミック層を、一
方のエレクトロクロミック層が還元性エレクトロクロミ
ック層の場合は、他方には酸化性エレクトロクロミック
層を用いることが好ましい。

【００４８】本発明のエレクトロクロミック素子におい
ては、エレクトロクロミック層を有する導電性基板と対
向する導電性基板の導電面上に導電性微粒子をバインダ
ーで結着した部材が配置されていることが好ましい。

【００４９】かかる導電性微粒子は、通常１０^-8Ｓ・ｃ
ｍ^-1以上、好ましくは１０^-5Ｓ・ｃｍ^-1以上、さらに好
ましくは１０^-2Ｓ・ｃｍ^-1以上の導電性を示す物質であ
ることが望ましい。また、これらの導電性微粒子は、通
常、１ファラッド／ｇ以上、好ましくは５ファラッド／
ｇ以上、さらに好ましくは１０ファラッド／ｇ以上の電
気容量を有するか、または１クローン／ｇ以上、好まし
くは５クーロン／ｇ以上、さらに好ましくは１０クロー
ン／ｇ以上の電荷量を蓄え得ることができるものが望ま
しい。このような微粒子を構成する材料物質としては、
具体的には例えば多孔質カーボン、インターカレション
材料、導電性高分子化合物又はこれらの混合物等が挙げ
られる。

【００５０】本発明の１ファラッド／ｇ以上の電気容量
を有する導電性微粒子としては、例えば表面積が１０ｍ
²／ｇ以上、好ましくは５０〜５０００ｍ²／ｇ、特に好
ましくは３００〜４０００ｍ²／ｇの範囲内の多孔質カ
ーボン等が挙げられ、特に活性炭等を好ましく挙げるこ
とができるがこれに限定されるものではない。このよう
な活性炭は、例えば、やしがら、石油ピッチ、フェノー
ル樹脂、レーヨン繊維、ポリアクリロニトリル繊維等を
炭化賦活処理する方法等により得ることができる。

【００５１】本発明の１クローン／ｇ以上の電荷量を蓄
え得る導電性微粒子としては、インターカレーション材
料、導電性高分子化合物等が挙げられるが、特に印加電
圧３Ｖ以内で前記電荷量を蓄え得ることができる材料が
好ましい。前記インターカレション材料としては、公知
のＴｉＳ₂、ＭｏＳ₂等の２硫化物；ＣｏＯ₂、ＮｉＯ₂等
の２酸化物；Ｗ₁₈Ｏ₄₉、Ｗ₂₀Ｏ₅₈等の酸化物等を挙げる
ことができる。一方前記導電性高分子化合物としては、
ポリアリニン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフ
ェニレンビニレン、ポリアセン等を主成分とし、ドーピ
ング等を行なって得られる導電性高分子化合物等を挙げ
ることができる。

【００５２】また、前記微粒子の粒径は、本発明の目的
を損なわない限り特に限定されないが、通常５００μｍ
〜０．１μｍ、好ましくは２００μｍ〜０．３μｍ、さ
らに好ましくは５０μｍ〜０．５μｍの範囲の平均粒径
が望ましい。

【００５３】本発明のエレクトロクロミック素子の例と
しては、例えば、図１に示す断面を有するエレクトロク
ロミック素子を好ましく挙げることができる。この素子
は、透明基板３１上に透明導電膜３２及び該透明導電膜
３２上に形成したエレクトロクロミック層３３を備えた
基板Ａと、対向電極基板として、透明基板４１上に透明
導電膜４２及び該透明導電膜４２上に形成したエレクト
ロクロミック層４３を備えた基板Ｂを有している。そし
て、両者の間隙はイオン伝導性シート５１が満たされ、
周辺がシール材６１で密封され、透明導電膜（３２，４
２）はリード線により電源に接続されている。本発明の
エレクトロクロミック素子を製造する方法は、特に限定
されないが、通常、基板Ａとイオン伝導性シートと基板
Ｂを積層し、周辺部を適宜シールすることにより容易に
製造することができる。

【００５４】

【発明の効果】本発明のエレクトロクロミック素子は、
イオン伝導性シートと電極との密着性が改善されている
とともに、高いイオン伝導性、機械強度、経時安定性を
有するなどの優れた特性を有する。また、本発明のエレ
クトロクロミック素子は、イオン伝導層中に必ずしもビ
ーズなどのスペーサー部材を必要としないことや、また
イオン伝導層がシート状であることから簡便に製造する
ことが可能となり、また、外観特性にも優れる。本発明
のエレクトロクロミック素子は各種用途に適用すること
ができ、例えば、窓、間仕切り、照明装置等の調光素子
や各種表示素子等に展開可能である。

【００５５】

【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらになんら制限されるものではな
い。

【００５６】[実施例１]ポリフッ化ビニリデン２ｇと１
ｍｏｌ／ＬのＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶
液を５ｇ添加し、アセトンにて希釈し加熱し均一溶液を
得た。このフィルムをテトラフロロエチレン基板上にド
クターブレード法で塗布し、加熱乾燥をし、５０μｍ厚
の均一なイオン伝導性シートを得た。シート抵抗値１０
Ω／ｓｑの３０ｃｍ角ＩＴＯガラス（ガラス基板上にＩ
ＴＯ膜を形成した透明導電性ガラス）を２枚用い、各基
板のＩＴＯ膜上へスパッタリング法でＷＯ₃およびＩｒ
Ｏ₂をそれぞれ成膜し、ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板を作製
した。ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板の間に２５ｃｍ角に切り
出した上記イオン伝導性シートを挟み、８０℃のオーブ
ンに１０分間圧着を行なった。対向する基板からリード
線を取り出し、セルの周囲をエポキシ接着剤（商品名
「ハイクイック」：セメダイン（株）製）を常温にて塗
布硬化することによりシールし、エレクトロクロミック
素子を作製した。次に、１．５Ｖの電圧をＷＯ₃側が負
極となるように基板間に印加すると速やかに着色をし
た。一方、ＷＯ₃側が正極となるように１．５Ｖを印加
すると初期の無色透明な状態へ戻り、繰り返し性の良好
なエレクトロクロミック特性を示した。なお、従来法で
は、電極基板を均一な間隔で保持させるためにビーズを
配置したセルに電解液を真空注入し、注入口を封じた後
に、光や熱などで電解液を硬化させ、エレクトロクロミ
ック素子を作製していたが、本発明の方法では、イオン
伝導性シートを用いるものであり、これ自体がビーズ的
な機能を有しているため、従来法のビーズに起因する光
の屈折などの問題も生ぜず、良好な外観を示した。

【００５７】［実施例２］ポリ（フッ化ビニリデン−ヘ
キサフロロプロピレン）２ｇに１ｍｏｌ／ＬのＬｉＢＦ
₄のプロピレンカーボネート溶液を５ｇ添加し、アセト
ンにて希釈し加熱し均一溶液を得た。このフィルムをテ
トラフロロエチレン基板上にドクターブレード法で塗布
し、加熱乾燥をし、５０μｍ厚の均一なイオン伝導性シ
ートを得た。シート抵抗値１０Ω／ｓｑの３０ｃｍ角Ｉ
ＴＯガラスを２枚用い、各ガラス基板のＩＴＯ膜上へス
パッタリング法でＷＯ₃およびＩｒＯ₂をそれぞれ成膜
し、ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板を作製した。ＷＯ₃基板と
ＩｒＯ₂基板の間に２５ｃｍ角に切り出した上記イオン
伝導性シートを挟み、８０℃のオーブンに１０分間圧着
を行なった。対向する基板からリード線を取り出し、セ
ルの周囲を実施例１と同様にシールし、エレクトロクロ
ミック素子を作製した。次に、１．５Ｖの電圧をＷＯ₃
側が負極となるように基板間に印加すると速やかに着色
をした。一方、ＷＯ₃側が正極となるように１．５Ｖを
印加すると初期の無色透明な状態へ戻り、繰り返し性の
良好なエレクトロクロミック特性を示した。

【００５８】［実施例３］対向電極基板の作製活性炭粉末（商品名「ＹＰ１７」、クラレ社製、表面積
１５００ｍ²／ｇ、平均粒径は３０μｍ）８ｇ、グラフ
ァイト（（商品名「ＵＳＳＰ」、日本黒鉛商事社製）４
ｇとシリコンレジン（商品名「ＲＺ７７０３」、日本ユ
ニカー社製）３４．３ｇにブチルセロソルブ２４ｇ加え
混合し活性炭ペーストを調製した。次いでストライプ幅
３００μm、高さ１２０μmのストライプ部材が全面積の
１５％になるように等間隔に配置されたスクリーンを使
用し、１０Ω／ｓｑの３０ｃｍ角のＩＴＯガラスのＩＴ
Ｏ膜上に前記活性炭ペーストをストライプ部材として印
刷し、その後１８０℃で９０分熱硬化させ、対向電極基
板を作製した。イオン伝導性シートの成膜ポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフロロプロピレン）２
ｇに１ｍｏｌ／ＬのＬｉＢＦ₄のプロピレンカーボネー
ト溶液を５ｇ添加し、アセトンにて希釈し加熱し均一溶
液を得た。このフィルムをテトラフロロエチレン基板上
にドクターブレード法で塗布し、加熱乾燥をし、２５０
μｍ厚の均一なイオン伝導性シートを得た。実施例１と
同様に作製したＷＯ₃基板と、前記対向電極基板の間に
２５ｃｍ角に切り出した上記イオン伝導性シートを挟
み、１５０℃のオーブンに３０分間圧着を行なった。対
向する基板からリード線を取り出し、セルの周囲を実施
例１と同様にシールし、エレクトロクロミック素子を作
製した。次に、１．５Ｖの電圧をＷＯ₃側が負極となる
ように基板間に印加すると速やかに着色をした。一方、
ＷＯ₃側が正極となるように１．５Ｖを印加すると初期
の無色透明な状態へ戻り、繰り返し性の良好なエレクト
ロクロミック特性を示した。

【００５９】[比較例１]エレクトロクロミック素子の作製シート抵抗値１０Ω／ｓｑの３０ｃｍ角のＩＴＯガラス
を２枚用い、ガラス基板のＩＴＯ膜上へスパッタリング
法でＷＯ₃およびＩｒＯ₂をそれぞれ成膜し、ＷＯ₃基板
とＩｒＯ₂基板を作製した。ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板を
粒径が０．３ｍｍのビーズを用いて基板間隔が均一にな
るように対向させ、注入口部分を除き、周辺をエポキシ
樹脂（実施例１と同一のもの）により５ｍｍ幅でシール
し、内部に電解液であるＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカー
ボネート溶液（１Ｍ／リットル）を注入したのち、注入
口をエポキシ樹脂（実施例１と同一のもの）で封止し
た。次いで各基板のそれぞれにリード線を取り付け、エ
レクトロクロミック素子を作製した。１．５Ｖの電圧を
ＷＯ₃側が負極となるように基板間に印加すると速やか
に着色をした。一方、ＷＯ₃側が正極となるように１．
５Ｖを印加すると初期の無色透明な状態へ戻り、繰り返
し性の良好なエレクトロクロミック特性を示した。しか
し、特に消色状態においてこの素子の背景に白色光源を
配置し着消色面を観察したところ、ビーズに由来する点
状の欠陥が観測された。

【図面の簡単な説明】

【図１】エレクトロクロミック素子の断面を示す一例で
ある。

【符号の説明】

３１，４１透明基板３２，４２透明導電膜３３，４３エレクトロクロミック層５１イオン伝導性シート６１シール材

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１３年６月２８日（２００１．６．２
８）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５６】[実施例１]ポリフッ化ビニリデン２ｇと１
ｍｏｌ／ＬのＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶
液を５ｇ添加し、アセトンにて希釈し加熱し均一溶液を
得た。このフィルムをポリテトラフロロエチレン基板上
にドクターブレード法で塗布し、加熱乾燥をし、５０μ
ｍ厚の均一なイオン伝導性シートを得た。シート抵抗値
１０Ω／ｓｑの３０ｃｍ角ＩＴＯガラス（ガラス基板上
にＩＴＯ膜を形成した透明導電性ガラス）を２枚用い、
各基板のＩＴＯ膜上へスパッタリング法でＷＯ₃および
ＩｒＯ₂をそれぞれ成膜し、ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板を
作製した。ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板の間に２５ｃｍ角に
切り出した上記イオン伝導性シートを挟み、８０℃のオ
ーブンに１０分間圧着を行なった。対向する基板からリ
ード線を取り出し、セルの周囲をエポキシ接着剤（商品
名「ハイクイック」：セメダイン（株）製）を常温にて
塗布硬化することによりシールし、エレクトロクロミッ
ク素子を作製した。次に、１．５Ｖの電圧をＷＯ₃側が
負極となるように基板間に印加すると速やかに着色をし
た。一方、ＷＯ₃側が正極となるように１．５Ｖを印加
すると初期の無色透明な状態へ戻り、繰り返し性の良好
なエレクトロクロミック特性を示した。なお、従来法で
は、電極基板を均一な間隔で保持させるためにビーズを
配置したセルに電解液を真空注入し、注入口を封じた後
に、光や熱などで電解液を硬化させ、エレクトロクロミ
ック素子を作製していたが、本発明の方法では、イオン
伝導性シートを用いるものであり、これ自体がビーズ的
な機能を有しているため、従来法のビーズに起因する光
の屈折などの問題も生ぜず、良好な外観を示した。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５７】［実施例２］ポリ（フッ化ビニリデン−ヘ
キサフロロプロピレン）２ｇに１ｍｏｌ／ＬのＬｉＢＦ
₄のプロピレンカーボネート溶液を５ｇ添加し、アセト
ンにて希釈し加熱し均一溶液を得た。このフィルムをポ
リテトラフロロエチレン基板上にドクターブレード法で
塗布し、加熱乾燥をし、５０μｍ厚の均一なイオン伝導
性シートを得た。シート抵抗値１０Ω／ｓｑの３０ｃｍ
角ＩＴＯガラスを２枚用い、各ガラス基板のＩＴＯ膜上
へスパッタリング法でＷＯ₃およびＩｒＯ₂をそれぞれ成
膜し、ＷＯ₃基板とＩｒＯ₂基板を作製した。ＷＯ₃基板
とＩｒＯ₂基板の間に２５ｃｍ角に切り出した上記イオ
ン伝導性シートを挟み、８０℃のオーブンに１０分間圧
着を行なった。対向する基板からリード線を取り出し、
セルの周囲を実施例１と同様にシールし、エレクトロク
ロミック素子を作製した。次に、１．５Ｖの電圧をＷＯ
₃側が負極となるように基板間に印加すると速やかに着
色をした。一方、ＷＯ₃側が正極となるように１．５Ｖ
を印加すると初期の無色透明な状態へ戻り、繰り返し性
の良好なエレクトロクロミック特性を示した。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５８】［実施例３］対向電極基板の作製活性炭粉末（商品名「ＹＰ１７」、クラレ社製、表面積
１５００ｍ²／ｇ、平均粒径は３０μｍ）８ｇ、グラフ
ァイト（（商品名「ＵＳＳＰ」、日本黒鉛商事社製）４
ｇとシリコンレジン（商品名「ＲＺ７７０３」、日本ユ
ニカー社製）３４．３ｇにブチルセロソルブ２４ｇ加え
混合し活性炭ペーストを調製した。次いでストライプ幅
３００μm、高さ１２０μmのストライプ部材が全面積の
１５％になるように等間隔に配置されたスクリーンを使
用し、１０Ω／ｓｑの３０ｃｍ角のＩＴＯガラスのＩＴ
Ｏ膜上に前記活性炭ペーストをストライプ部材として印
刷し、その後１８０℃で９０分熱硬化させ、対向電極基
板を作製した。イオン伝導性シートの成膜ポリ（フッ化ビニリデン−ヘキサフロロプロピレン）２
ｇに１ｍｏｌ／ＬのＬｉＢＦ₄のプロピレンカーボネー
ト溶液を５ｇ添加し、アセトンにて希釈し加熱し均一溶
液を得た。このフィルムをポリテトラフロロエチレン基
板上にドクターブレード法で塗布し、加熱乾燥をし、２
５０μｍ厚の均一なイオン伝導性シートを得た。実施例
１と同様に作製したＷＯ₃基板と、前記対向電極基板の
間に２５ｃｍ角に切り出した上記イオン伝導性シートを
挟み、１５０℃のオーブンに３０分間圧着を行なった。
対向する基板からリード線を取り出し、セルの周囲を実
施例１と同様にシールし、エレクトロクロミック素子を
作製した。次に、１．５Ｖの電圧をＷＯ₃側が負極とな
るように基板間に印加すると速やかに着色をした。一
方、ＷＯ₃側が正極となるように１．５Ｖを印加すると
初期の無色透明な状態へ戻り、繰り返し性の良好なエレ
クトロクロミック特性を示した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者錦谷禎範神奈川県横浜市中区千鳥町８番地日石三菱株式会社中央技術研究所内Ｆターム(参考） 2K001 AA01 AA06 BB30 CA08 CA37 DA19

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２枚の透明導電性基板にイオン伝導層が
挟持されているエレクトロクロミック素子であって、前
記導電性基板の少なくとも一方にエレクトロクロミック
層を有し、前記イオン伝導層が、ポリフッ化ビニリデン
系高分子マトリックス中に、（ａ）支持電解質および溶
媒、（ｂ）常温溶融塩、および（ｃ）常温溶融塩および
溶媒、から選ばれる少なくとも１種以上のイオン伝導性
物質を含有してなるイオン伝導性シートであることを特
徴とするエレクトロクロミック素子。
【請求項２】一方の導電性基板の導電面上に導電性微
粒子をバインダーで結着した部材が配置されていること
を特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミック素
子。